JP2001353802A - 透明積層体とプラズマデイスプレイパネル用フイルタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 比較的簡潔な構成で、電磁波シ―ルド性、近
赤外線カツト牲、可視光透過性、可視光低反射性、密着
性を満足する透明積層体を提供する。 【解決手段】 透明基体１０の表面に、銀系透明導電体
薄膜と高屈折率透明薄膜とを１単位として、４単位（１
Ａ，１Ｂ），（２Ａ，２Ｂ），（３Ａ，３Ｂ），（４
Ａ，４Ｂ）が繰り返し積層された透明層状ブロツク２０
０を接合し、透明基体１０に隣接する銀系透明導電体薄
膜１Ａの厚さのみを９ｎｍ以下に設定して、透明積層体
１００を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明積層体と、こ
の透明積層体を使用したプラズマデイスプレイパネル
（以下、ＰＤＰという）用フイルタと、さらにこのフイ
ルタを使用したＰＤＰ表示装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、従来の冷陰極管を使用したテレビ
やデイスプレイなどの表示装置に代わる、薄型で軽量か
つ大画面化のデイスプレイとして、ＰＤＰの開発が進め
られている。ＰＤＰは、パネル内に封入された希ガス、
とくにネオンを主体としたガス中で放電を発生させ、そ
の際に発生する真空紫外線により、パネル内部のセルに
設けられたＲ、Ｇ、Ｂの蛍光体を発生させる。この発光
過程において、ＰＤＰの作動には不必要な電磁波および
近赤外線が同時に放出される。

【０００３】電磁波は、ＶＣＣｌやＦＣＣなどにより放
射電磁波が規制されており、また近年人体への悪影響が
懸念されており、カツトする必要がある。近赤外線は、
波長が８００〜１，２００ｎｍであり、家庭用電化製
品、カラオケ用器材、音響映像機器などのリモ―トコン
トロ―ル装置に使用されている赤外線センサの受光素子
が約７００〜１，３００ｎｍに受光感度のピ―クを持つ
ものが多いため、このコントロ―ル装置を誤動作させる
問題があり、やはりカツトする必要がある。

【０００４】このような背景から、ＰＤＰから発生する
電磁波および近赤外線をカツトするフイルタが種々検討
され、従来では、たとえば、金属メツシユを埋め込んだ
ものまたはエツチングメツシユ加工を行つたアクリル板
と、アクリル板に近赤外線を吸収する色素を添加した電
磁波・近赤外線カツト成形板などが用いられてきた。し
かしながら、これらのメツシユタイプでは、低表面抵抗
値は得られやすいが、画素ピツチと導電メツシユとの間
で生じるモアレ現象による画像のかすみや、近赤外線吸
収色素の耐熱性や耐光性に問題があつた。また、近赤外
線カツト率を高めるには、近赤外線吸収色素の添加量を
多くする必要があるが、それに伴い可視光透過率の低下
と着色という欠点をさけられなかつた。

【０００５】電磁波および近赤外線をカツトする他の手
法として、透明基体上に銀を主成分とする銀系透明導電
体薄膜と高屈折率透明薄膜を組み合わせて透明層状ブロ
ツクを接合した構成の透明積層体が検討されている。こ
の透明積層体は、銀系透明導電体薄膜の有する赤外線反
射特性を利用でき、また高屈折率透明薄膜により銀系透
明導電体薄膜における可視光の反射を防止する機能を付
与できる。

【０００６】このような透明積層体の中でも、銀系透明
導電体薄膜を高屈折率透明薄膜で挟み込んだ構成の透明
積層体が最もよく知られている。これには、上記構成を
１単位として、１単位だけの構成（透明基体側から、高
屈折率透明薄膜／銀系透明導電体薄膜／高屈折率透明薄
膜）、２単位の構成（透明基体側から、高屈折率透明薄
膜／銀系透明導電体薄膜／高屈折率透明薄膜／銀系透明
導電体薄膜／高屈折率透明薄膜）、３単位の構成（透明
基体側から、高屈折率透明薄膜／銀系透明導電体薄膜／
高屈折率透明薄膜／銀系透明導電体薄膜／高屈折率透明
薄膜／銀系透明導電体薄膜／高屈折率透明薄膜）、４単
位の構成（透明基体側から、高屈折率透明薄膜／銀系透
明導電体薄膜／高屈折率透明薄膜／銀系透明導電体薄膜
／高屈折率透明薄膜／銀系透明導電体薄膜／高屈折率透
明薄膜／銀系透明導電体薄膜／高屈折率透明薄膜）、さ
らに５単位以上の構成などがある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記した銀
系透明導電体薄膜を高屈折率透明薄膜で挟み込んだ構成
の透明積層体を、ＰＤＰ用フイルタとして利用する場
合、上記２単位以下の構成のものでは、各薄膜の厚み、
材料の光学定数をいかに選択して光学設計しても、上記
フイルタに要求される低表面抵抗や高近赤外線カツト率
を満足させにくく、可視光低反射率の面でも好結果が得
られない。また、上記３単位の構成のものでは、低表面
抵抗や高近赤外線カツト率の改善効果は認められるが、
なお十分とはいえず、さらに、上記４単位以上の構成の
ものでは、上記の両特性を満足させることができる反
面、可視光透過率が大きく低下する。

【０００８】このように、上記した従来構成の透明積層
体では、ＰＤＰ用フイルタとして、電磁波シ―ルド性、
近赤外線カツト性および視認性（可視光透過性、可視光
低反射性）をすべて満足するものは得られていない。し
かも、上記従来構成の透明積層体は、透明基体側に高屈
折率透明薄膜が隣接しているため、これと透明基体との
密着性が良くなく、曲げなどの外部応力により上記薄膜
を含む透明層状ブロツクにクラツクや剥離などの不具合
を生じる問題もあつた。

【０００９】また、ＰＤＰ用フイルタには、上記の光学
的特性や密着性のほかに、表面耐擦傷性および耐湿熱保
存性が要求されるが、上記の透明積層体では、これらの
諸特性を十分満足するものが得られていないのが現状で
ある。

【００１０】本発明は、このような事情に照らし、比較
的簡潔な構成でもつて、電磁波シ―ルド性、近赤外線カ
ツト牲、可視光透過性、可視光低反射性および密着性を
満足する透明積層体と、これを用いた視認性が良く、軽
量で薄型であり、また表面耐擦傷性および耐湿熱保存性
を満足するＰＤＰ用フイルタと、さらにこれを用いたＰ
ＤＰ表示装置を提供することを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため、鋭意検討した結果、透明基体上に銀
系透明導電体薄膜と高屈折率透明薄膜とを１単位として
４単位が繰り返し積層された構成の透明層状ブロツクを
設ける、つまり、この構成は、前記従来の３単位の構成
の透明積層体における透明基体とこれに隣接する高屈折
率透明薄膜との間に新たに銀系透明導電体薄膜を１層介
装した構成に相当し、この介装した銀系透明導電体薄膜
（つまりは、透明基体側に隣接する銀系透明導電体薄
膜）のみを特定値以下の薄い層で構成すると、前記従来
の３単位の構成の透明積層体に比べて、低表面抵抗およ
び高近赤外線カツト率が得られ、可視光透過率や可視光
低反射率の面でも満足でき、しかも透明基体に対する透
明層状ブロツクの密着性の面でも好結果が得られること
を知り、本発明を完成した。

【００１２】すなわち、本発明は、透明基体と、銀系透
明導電体薄膜と高屈折率透明薄膜を１単位として４単位
が繰り返し積層されて、上記透明基体の表面に接合され
た透明層状ブロツクとを備えてなり、かつ透明基体に隣
接する銀系透明導電体薄膜のみが９ｎｍ以下の厚さであ
り、導電面の表面抵抗が２．５Ω／□以下、可視光透過
率が５５％以上、８００〜１，２００ｎｍの波長範囲の
光線透過率が１０％以下であることを特徴とする透明積
層体に係るものである。

【００１３】また、本発明は、上記構成の透明積層体に
おける透明基体の裏面に反射防止層および／または映り
込み防止層を設け、かつ透明層状ブロツクの表面周辺部
に電極を形成し、この電極を避けて透明層状ブロツクの
表面に透明接着剤層を設けることにより、あるいは、上
記構成の透明積層体における透明基体の裏面に透明接着
剤層を設け、かつ透明層状ブロツクの表面周辺部に電極
を形成し、この電極を避けて透明層状ブロツクの表面に
反射防止層および／または映り込み防止層かこれ以外の
透明保護層を設けることにより、電磁波シ―ルド性、近
赤外線カツト性、可視光透過性、可視光低反射性および
密着性に加えて、表面耐擦傷性や耐湿熱保存性などを満
足するＰＤＰ用フイルタを提供できるものである。

【００１４】さらに、本発明は、上記構成のＰＤＰ用フ
イルタを、ＰＤＰの前面表示ガラス部に、その透明接着
剤層を介して接合することにより、反射などがなくなつ
て、視認性が向上し、しかも薄型で軽量というＰＤＰ本
来の特徴を生かした、直貼りタイプのＰＤＰ表示装置を
提供できるものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面に基づいて、説明する。図１は、本発明の透明積層体
の一例を示す断面図である。図中、透明積層体１００
は、透明基体１０とこの透明基体１０の表面に接合され
た透明層状ブロツク２００とからなり、この透明層状ブ
ロツク２００は、銀系透明導電体薄膜と高屈折率透明薄
膜を１単位として、４単位が繰り返し積層されてなる。

【００１６】すなわち、透明基体１０側から、銀系透明
導電体薄膜１Ａ／高屈折率透明薄膜１Ｂ／銀系透明導電
体薄膜２Ａ／高屈折率透明薄膜２Ｂ／銀系透明導電体薄
膜３Ａ／高屈折率透明薄膜３Ｂ／銀系透明導電体薄膜４
Ａ／高屈折率透明薄膜４Ｂが、順次積層されている。さ
らに、このような透明層状ブロツク２００において、透
明基体１０に隣接する銀系透明導電体薄膜１Ａのみが９
ｎｍ以下、好ましくは７ｎｍ以下（通常、２ｎｍまで）
の厚さに設定されている。

【００１７】この透明積層体１００は、前記従来の３単
位の構成の透明積層体に比べると、透明基体とこれに隣
接する高屈折率透明薄膜との間に銀系透明導電体薄膜１
Ａが１層介装された構成であり、上記薄膜１Ａが９ｎｍ
以下と薄いと、表面抵抗値の低減効果はある程度抑えら
れるが、電磁波シ―ルド性の点からみると、反射界面が
多いほど有効なため、電磁波シ―ルド性は表面抵抗値の
低減以上にその効果を期待でき、近赤外線カツト性も同
様の効果を期待できる。さらに可視光反射率について
も、層数の増加により光学設計の自由度が増し、低反射
率化をはかりやすい。その一方で、上記薄膜１Ａが９ｎ
ｍ以下と薄いため、可視光透過率の減少は最小限に留め
ることができる。つまり、上記の構成によれば、可視光
透過性を維持しながら、ＰＤＰ用フイルタに要求される
電磁波シ―ルド性、近赤外線カツト性および可視光低反
射性を向上させることが可能となる。

【００１８】また、前記従来の透明積層体では、透明基
体と高屈折率透明薄膜とが隣接し、両者間の密着性が十
分でない場合が多く、曲げなどの外部応力により透明層
状ブロツクにクラツクや剥離などが多発した。これに対
し、本発明の上記構成では、透明基体１０と高屈折率透
明薄膜１Ｂとの間に銀系透明導電体薄膜１Ａが介装され
ているため、透明基体１０と透明層状ブロツク２００と
の密着性が高められ、外部応力により上記のようなクラ
ツクや剥離などを起こす心配がない。さらに、銀系透明
導電体薄膜１Ａは、他の銀系透明導電体薄膜２Ａ，３
Ａ，４Ａと同様に内部応力が極めて小さく、高屈折率透
明薄膜の応力緩和層として機能し、透明層状ブロツク２
００全体の内部応力を低減させる働きもある。

【００１９】このように、透明積層体１００は、上記特
異な構成に基づき、上記のような性能を発揮するが、と
くにその表面抵抗値、可視光透過性および近赤外線カツ
ト性を数値的に示すと、導電面の表面抵抗が２．５Ω／
□以下、好ましくは２．０Ω／□以下、可視光透過率が
５５％以上、好ましくは６０％以上、８００〜１，２０
０ｎｍの波長範囲の光線透過率が１０％以下、好ましく
は８％以下（近赤外線カツト率が９０％以上、好ましく
は９２％以上）となるものである。

【００２０】なお、上記の透明積層体１００は、上述の
とおり、透明基体とこれに隣接する高屈折率透明薄膜と
の間に銀系透明導電体薄膜１Ａを１層介装することを大
きな特徴としたものであるが、このような介装により、
透明積層体としての生産性が低下するという心配はとく
にない。これは、透明層状ブロツク２００の形成には膜
厚の制御や均一性の点より、スパツタリング法が最適で
あるが、一般的に、銀系透明導電体薄膜は、高屈折率透
明薄膜に比べて、その成膜速度が速く、しかも９ｎｍ以
下と薄いため、生産性の低下は極めて小さい。

【００２１】本発明における透明基体１０としては、可
視光領域における透明性を有して、表面がある程度平滑
なものであればよい。たとえば、ポリエチレンテレフタ
レ―ト、トリアセチルセルロ―ス、ポリエチレンナフタ
レ―ト、ポリエ―テルスルホン、ポリカ―ボネ―ト、ポ
リアクリレ―ト、ポリエ―テルエ―テルケトン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、ポリイミドなどの高分子フイ
ルムが好ましいが、これらに限定されない。厚さは、ド
ライプロセスで熱じわなどの問題がなければ、とくに制
限はないが、通常は１０〜２５０μｍであるのがよい。

【００２２】また、透明基体１０の片面もしくは両面に
はハ―ドコ―ト層を設けてもよい。ハ―ドコ―ト材は、
紫外線硬化タイプでも熱硬化タイプでもよい。紫外線硬
化タイプには、エステル系、アクリル系、ウレタン系、
アミド系、シリコ―ン系、エポキシ系、アクリル・ウレ
タン系、アクリル・エポキシ系などのモノマ―やオリゴ
マ―に光重合開始剤を配合したものなどが挙げられる。
熱硬化タイプには、フエノ―ル系、尿素系、メラミン
系、不飽和ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ
系などの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、重
合促進剤、溶剤、粘度調整剤などを配合したものなどが
挙げられる。ハ―ドコ―ト層の厚さは、１〜１０μｍが
適当であり、２〜７μｍがより好ましい。

【００２３】透明基体１０は、その表面にスバツタリン
グ処理、コロナ処理などのエツチング処理を施したり、
透明層状ブロツク２００と透明基体１０との密着性を向
上させるような易接着層を形成したものであつてもよ
い。

【００２４】本発明における銀系透明導電体薄膜（１
Ａ，２Ａ，３Ａ，４Ａ）の材料には、８０重量％以上の
銀と、金、銅、バラジウム、白金、マンガン、カドニウ
ムの中から選択される少なくとも１種の元素とで構成さ
れる合金が、好ましく用いられる。光学的な透明性、電
気伝導性、耐劣化性の点より、９０〜９９重量％の銀と
上記金属１〜１０重量％を固溶させた材料が好ましい。
とくに、銀中に１〜１０重量％の金を固溶させたもの
は、銀の劣化防止の点より、好ましいものである。金を
１０重量％を超えて混入すると、着色のため透明性が損
なわれやすく、また１重量％未満では、銀の劣化が起こ
りやすい。

【００２５】銀系透明導電体薄膜（１Ａ，２Ａ，３Ａ，
４Ａ）を形成する手段としては、スパツタリング法、真
空蒸着法、イオンプレ―テイング法などの真空ドライプ
ロセスが用いられる。とくに、スパツタリング法は、膜
厚制御が容易であるばかりか、幅方向の均一性も得られ
やすいので、好適に使用できる。透明基体１０に隣接す
る銀系透明導電体膜１Ａの厚さは、既述のとおり、９ｎ
ｍ以下とする必要があるが、その他の銀系透明導電体薄
膜２Ａ，３Ａ，４Ａの各厚さは、低表面抵抗化の点よ
り、１０〜１８ｎｍとするのが好ましい。各層の厚さ
は、均一である必要はなく、光学設計により計算された
厚さに設定すればよい。

【００２６】本発明における高屈折率透明薄膜（１Ｂ，
２Ｂ，３Ｂ，４Ｂ）の材料には、光学的な透明性を有
し、屈折率が１．８〜２．５のものであれば広く使用で
きる。各層の材料や成膜方法、屈折率がそれぞれ異なつ
ていてもよい。単一の材料でも複数材料を焼結した材料
を用いてもよい。また、銀系透明導電体薄膜（１Ａ，２
Ａ，３Ａ，４Ａ）に対するマイグレ―シヨン防止効果や
水、酸素のバリア効果がある材料ならより好ましい。こ
の高屈折率透明薄膜（１Ｂ，２Ｂ，３Ｂ，４Ｂ）の厚さ
は、通常１０〜１００ｎｍの範囲とするのがよい。各層
の厚さは、均一である必要はなく、光学設計により計算
された厚さに設定すればよい。

【００２７】好適な材料としては、酸化インジウム、酸
化錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化亜鉛、酸化タンタル、五酸化ニオブ、二酸化珪
素、窒化珪素、酸化アルミニウム、フツ化マグネシウ
ム、酸化マグネシウムよりなる群から選ばれる少なくと
も１種の化合物が挙げられる。とくに、酸化インジウム
を主成分とし二酸化チタンや酸化錫、酸化セリウムを少
量含有させたものは、銀系透明導電体薄膜の劣化防止効
果があるばかりか、電気導電性を有するため、銀系透明
導電体薄膜との間の電気的導通が取りやすいという点
で、好ましい。これらの高屈折率透明薄膜は、スパツタ
リング法、真空蒸着法、イオンプレ―テイング法などの
真空ドライプロセスや湿式法などを用いて形成できる
が、膜厚の制御や均一性の点より、とくにスパツタリン
グ法が好ましい。

【００２８】本発明において、上記の透明積層体をＰＤ
Ｐ用フイルタとして使用する場合、外部からの湿気や指
紋などに含まれる塩分などにより銀系透明導電体薄膜が
劣化するおそれがあるため、透明積層体を直接むき出し
で用いるのは好ましくない。また、外光の映り込みを防
止し、視認性のよいＰＤＰ用フイルタとするには、最外
層に反射防止層および／または映り込み防止層を設ける
のがよい。さらに、電磁波シ―ルド性の向上のため、透
明積層体の導電面とＰＤＰの筐体とを電気的に接続する
ための電極を非表示部である表面周辺部に設けておくの
がよい。

【００２９】図２は、図１に示す透明積層体１００を、
ＰＤＰ用フイルタとして、好適に使用できる実施形態を
示したものである。すなわち、このＰＤＰ用フイルタ３
００は、透明基体１０の裏面（透明層状ブロツク２００
が形成されていない側の面）に、反射防止層および／ま
たは映り込み防止層２０を設け、かつ透明層状ブロツク
２００の表面周辺部、たとえば４辺に電極３０を形成
し、この電極３０を避けて、つまりこの電極３０を被覆
しないように、透明層状ブロツク２００の表面に透明接
着剤層４０を設けるようにしたものである。

【００３０】反射防止層２０は、透明基体１０の面反射
を低減するためのもので、上記面の反射率が２％以下、
好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下とな
る性能を示すものがよい。透明基体１０の屈折率の平方
根に近い値を有する材料を１／４波長に相当する光学膜
厚による１層構造のもの、屈折率の異なる薄膜を複数積
層したものなどがある。１層構造のものは構成が簡素で
製造が容易であるが、複数積層したものに比べて反射防
止性能は劣る。反射防止層２０の材料には、金属酸化
物、フツ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物、ホウ化物、
炭化物などの無機化合物、シリコン系樹脂、アクリル樹
脂、フツ素系樹脂などの有機化合物が用いられる。この
反射防止層２０は、スパツタリング法、真空蒸着法、イ
オンプレ―テイング法、湿式塗工法などにより形成でき
る。反射防止層２０の構成、材料、作製方法は、とくに
限定されず、透明基体１０の反射率を低減できるもので
あれば、公知の技術を採用して形成することができる。

【００３１】また、反射防止層２０が最表面になる構成
では、反射防止層２０が表面耐擦傷性および防汚染性を
有しているのが望ましい。透明基体１０の反射防止層２
０を形成する面に、前記したハ―ドコ―ト層を形成して
おくと、表面耐擦傷性や鉛筆硬度が向上する。また、反
射防止層２０の表面に汚染防止層を形成してもよい。汚
染防止層の材料としては、有機ポリシロキサン系重合
体、パ―フルオロアルキル含有重合体からなる硬化物、
パ―フルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合
物、パ―フロポリエ―テル基と反応性のシリル基を有す
る化合物、ポリフルオロアルキル基を含むモノおよびジ
シラン化合物などが挙げられる。汚染防止層の厚さは、
０．００１〜０．５μｍが好ましく、とくに好ましくは
０．００２〜０．１μｍとするのがよい。汚染防止層
は、湿式塗工により形成しても、真空蒸着などのドライ
プロセスで形成してもよい。

【００３２】映り込み防止層２０としては、０．１〜１
０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に
対して透明性を有する層であり、アンチグレア性を有し
ているものであれば好適に使用できる。具体的には、ア
クリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレ
タン系樹脂などの熱硬化型または紫外線硬化型樹脂にシ
リカ、メラミン、アクリルなどの無機化合物や有機化合
物の粒子を分散させたものを、塗布し硬化させるなどし
て、形成することができる。

【００３３】なお、反射防止層および／または映り込み
防止層２０は、上記のように、透明基体１０上に直接形
成できるほか、透明フイルム基材上に上記と同様の反射
防止層および／または映り込み防止層２０を形成してな
る機能性フイルムを使用し、これを透明接着剤層を介し
て透明基体１０上に貼り合わせるようにしてもよい。前
者のように透明基体１０上に直接形成する方法は、後者
の機能性フイルムを使用する方法に比べて、上記フイル
ムの作製および貼り合わせ工程が不要であり、製造コス
トの低減化と歩留りの向上につながり、より好ましい。

【００３４】このように構成されるＰＤＰ用フイルタ３
００は、透明基体１０とその裏面に設けた反射防止層お
よび／または映り込み防止層２０が透明層状ブロツク２
００の保護層の役割も果たし、銀系透明導電体薄膜（１
Ａ，２Ａ，３Ａ，４Ａ）の劣化を防止する効果を発揮す
る。このようなＰＤＰ用フイルタ３００の作製にあたつ
ては、透明基体１０の裏面に反射防止層および／または
映り込み防止層２０を形成したのち、透明基体１０の表
面に透明層状ブロツク２００を形成するか、またはこれ
とは逆の順序で形成することができる。反射防止層およ
び／または映り込み防止層２０を湿式塗工法で直接形成
する場合などでは、製造速度は速いが、一般に歩留まり
が悪いため、前者の順序で形成するのがより望ましい。

【００３５】透明接着剤層４０としては、アクリル系ポ
リマ―、シリコ―ン系ポリマ―、ポリエステル、ポリウ
レタン、ポリエ―テル、合成ゴム、ポリアミド、ポリオ
レフイン、エチレン−酢酸ビニル共重合体などをベ―ス
ポリマ―とした透明な粘着剤が好ましく用いられる。こ
の粘着剤のほかに、ホツトメルト接着剤などの適宜の接
着剤を使用することもできる。要は、透明性や耐久性な
どにすぐれるものであればよい。透明接着剤層４０の厚
さは、適宜に決定してよいが、２〜２００μｍが好まし
く、より好ましくは５〜１００μｍである。

【００３６】電極３０に用いる材料には、導電性があ
り、かつ耐腐食性、耐湿熱保存性が良好であり、透明層
状ブロツク２００に対する密着性の良いものであれば、
とくに制限はない。具体的には、銀ペ―ストのほか、
金、銀、銅、白金、バラジウムなどのうちの１種の金属
または２種以上の合金、有機系コ―ト剤に上記同様の金
属または合金を混合したもの、銅メツシユに粘着剤を含
浸するなどの方法で作製される導電両面テ―プなどを挙
げることができる。電極３０の形成方法としては、導電
両面テ―プの場合、透明層状ブロツク２００の表面周辺
部の４辺に直接貼り合せればよく、また銀ペ―ストや各
種合金材料、合金混合材料などの場合は、スクリ―ン印
刷やマイクログラビア塗工法などで形成するウエツトプ
ロセス法、真空蒸着法、スパツタリング法などのドライ
ブロセス法、メツキ法などの公知の方法を使用すること
ができる。電極３０の厚さは、とくに限定されないが、
通常は１０〜１００μｍとするのが望ましい。

【００３７】図３は、図１に示す透明積層体１００を、
ＰＤＰ用フイルタとして、好適に使用できる別の実施形
態を示したものである。このＰＤＰ用フイルタ３００
は、透明基体１０の裏面に透明接着剤層４０を設け、か
つ透明層状ブロツク２００の表面周辺部、たとえば４辺
に電極３０を形成し、この電極を避けて透明層状ブロツ
ク２００の表面に、透明フイルム基材上に反射防止層お
よび／または映り込み防止層かこれ以外の透明保護層を
形成してなる機能性フイルム２０ａを透明接着剤層４０
を介して貼り合わせるようにしたものである。

【００３８】上記の電極３０や透明接着剤層４０は、図
２で説明したのと同様のものが用いられる。機能性フイ
ルム２０ａは、透明フイルム基材としてポリエチレンテ
レフタレ―トなどの光学的に透明性を有するものを用
い、この基材上に図２で説明したのと同様の反射防止層
および／または映り込み防止層を形成したものである。
これらの層は、反射防止や映り込み防止という本来の機
能のほか、透明層状ブロツク２００の保護層としての機
能を有する。この保護層としての機能のみを付与する目
的で、上記のフイルム基材上に反射防止層や映り込み防
止層以外の透明保護層を形成したものを用いてもよい。
なおまた、上記機能性フイルムに代えて、反射防止層お
よび／または映り込み防止層かこれ以外の透明保護層
を、塗工法などにより透明層状ブロツク２００の表面に
直接設けることもできる。

【００３９】本発明においては、上記の図２または図３
に示すＰＤＰ用フイルタ３００を、ＰＤＰの前面表示ガ
ラス部にその透明粘着剤層４０により接合することによ
り、直貼りタイプのＰＤＰ表示装置を得ることができ
る。その際、図２に示すＰＤＰ用フイルタ３００では、
電極３０側がＰＤＰ側に位置することになり、図３に示
すＰＤＰ用フイルタ３００では、透明基体１０側がＰＤ
Ｐ側に位置して電極３０側が最表面に露出することにな
る。このようなＰＤＰ表示装置は、ガラスの飛散防止、
ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化などに寄与さ
せることができ、またＰＤＰ用前面板を空気層を介して
配設する従来方法に比べて、屈折率に低い空気層をなく
せるので、余分な界面反射による可視光反射率の増加、
二重反射などの問題を解決でき、視認性をより向上させ
ることができる。

【００４０】なお、上記直貼りタイプのＰＤＰ表示装置
では、ＰＤＰの前面表示ガラス部の強度不足が問題とな
ることがあり、これを回避するため、透明接着剤層４０
を可及的に厚くするのが望ましい。また、同様の目的
で、衝撃吸収フイルムや成形体などを前面表示ガラス部
とＰＤＰ用フイルタ３００との間に衝撃保護層として介
装してもよい。これらの衝撃保護層としては、光学的に
透明性を有し、衝撃を吸収、緩和する効果があるもので
あれば、広く使用できる。

【００４１】また、本発明においては、たとえば、図３
に示すＰＤＰ用フイルタ３００を、ガラスや硬質樹脂な
どからなる透明成形体の表面に、透明基体１０の裏面に
設けた透明接着剤層４０により接合して、ＰＤＰ用前面
板とし、これをＰＤＰの前面側に適当間隔の空気層を介
して配設することにより、ＰＤＰ表示装置を得ることも
できる。上記の配設にあたり、透明成形体側がＰＤＰ側
に位置するようにしてもよいし、逆にＰＤＰ用フイルタ
３００側、つまり最表面である機能性フイルム２０ａ側
がＰＤＰ側に位置するようにしてもよい。その際、上記
の透明成形体におけるＰＤＰ用フイルタ３００の接合面
とは反対側の面に、前記と同様の反射防止層および／ま
たは映り込み防止層を直接形成したり、上記層を有する
機能性フイルムを貼り合わせて、視認性を高めるように
してもよい。

【００４２】さらに、直貼りタイプのＰＤＰ表示装置
や、ＰＤＰ用前面板を空気層を介して配設するタイプの
ＰＤＰ表示装置などでは、透明層状ブロツク２００の表
面周辺部に形成した電極３０とＰＤＰの筐体との間を電
気的に接続し、ア―スを取ることにより、ＰＤＰ表示装
置の電磁波シ―ルド効果を高めることができる。

【００４３】

【実施例】つぎに、本発明を実施例により、さらに具体
的に説明する。本発明は、以下の実施例にのみ限定され
るものではない。なお、以下において、膜厚は、同じ成
膜条件にて長時間厚膜に成膜したサンプルを表面粗さ計
（ＤＥＫＴＡＫＡ）により測定し、その検量線から所定
の厚さになるように制御した値（質量膜厚）である。

【００４４】実施例１ 透明基体として、厚さが１４２μｍの両面ハ―ドコ―ト
層付き透明ポリエチレンテレフタレ―ト（以下、ＨＣＰ
ＥＴいう）フイルム（きもと社製の商品名「ＧＯ１ＳＢ
２」）を使用し、この透明基体の片面に、ＤＣマグネト
ロンスパツタ法により、銀系透明導電体薄膜と高屈折率
透明薄膜の組み合わせを１単位として、この順で４単位
を繰り返し積層して、透明層状ブロツクを形成し、透明
積層体を作製した。高屈折率透明薄膜を形成するタ―ゲ
ツト材料には、ｌｎ₂ Ｏ₃ −１０重量％ＳｎＯ₂ を使用
し、銀系透明導電体薄膜を形成するタ―ゲツト材料に
は、Ａｇ−１重量％Ａｕを使用した。

【００４５】なお、この透明積層体の作製に際し、あら
かじめ、高屈折率透明薄膜と銀系透明導電体薄膜をガラ
ス基板上にそれぞれ厚さ１００ｎｍ、２５ｎｍで成膜し
たサンプルを作製し、分光エリプソメ―タ（日本分光株
式会社製の「Ｍ−２２０」）により、光学定数（屈折
率、吸光率）の波長依存性を測定した。この測定デ―タ
をもとに、透明基体（前記ＨＣＰＥＴフイルム）の表面
に、銀系透明導電体薄膜と高屈折率透明薄膜の組み合わ
せを１単位としこの順で４単位を順次繰り返して積層す
る構成を仮定し、上記透明基体の表面に形成される銀系
透明導電体薄膜の厚さのみを４ｎｍに固定して、波長４
５０〜６５０ｎｍの透過率が６０％以上、反射率が０
％、波長８００ｎｍ以上の透過率が０％になるような設
計目標値に最も近い光学特性が得られる各層の膜厚の最
適値を、マトリツクス法を基本として作製した光学設計
プログラムにより、計算した。

【００４６】この計算結果を用いて、透明基体側から、
透明基体（ＨＣＰＥＴフイルム）／銀系透明導電体薄膜
（４ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（５９ｎｍ）／銀系透明
導電体薄膜（１２ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７４ｎ
ｍ）／銀系透明導電体薄膜（１５ｎｍ）／高屈折率透明
薄膜（７６ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜（１５ｎｍ）／
高屈折率透明薄膜（３６ｎｍ）の構成からなる、薄膜層
が８層の透明層状ブロツクを形成し、透明積層体を作製
したものである。なお、上記（ ）内の数値は、各薄膜
の厚さを示したものである。

【００４７】実施例２ 実施例１と同様の方法により、透明基体の表面に形成さ
れる銀系透明導電体薄膜の厚さのみを６ｎｍに固定し、
各層の厚さの最適値を計算して、透明基体側から、透明
基体（ＨＣＰＥＴフイルム）／銀系透明導電体薄膜（６
ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（５８ｎｍ）／銀系透明導電
体薄膜（１２ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７１ｎｍ）／
銀系透明導電体薄膜（１５ｎｍ）／高屈折率透明薄膜
（７７ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜（１６ｎｍ）／高屈
折率透明薄膜（４０ｎｍ）の構成からなる、薄膜層が８
層の透明層状ブロツクを形成し、透明積層体を作製し
た。なお、上記（ ）内の数値は、各薄膜の厚さを示し
たものである。

【００４８】比較例１ 実施例１と同様にして、透明基体の表面に形成される銀
系透明導電体薄膜の厚さのみを１２ｎｍに固定し、各層
の厚さの最適値を計算して、透明基体側から、透明基体
（ＨＣＰＥＴフイルム）／銀系透明導電体薄膜（１２ｎ
ｍ）／高屈折率透明薄膜（６９ｎｍ）／銀系透明導電体
薄膜（１５ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７２ｎｍ）／銀
系透明導電体薄膜（１５ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７
３ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜（１４ｎｍ）／高屈折率
透明薄膜（３８ｎｍ）の構成からなる、薄膜層が８層の
透明層状ブロツクを形成し、透明積層体を作製した。な
お、上記（ ）内の数値は、各薄膜の厚さを示したもの
である。

【００４９】比較例２ 実施例１と同様の方法により、全層の厚さの最適値を計
算して、透明基体側から、透明基体（ＨＣＰＥＴフイル
ム）／高屈折率透明薄膜（３７ｎｍ）／銀系透明導電体
薄膜（１１ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７４ｎｍ）／銀
系透明導電体薄膜（１４ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７
６ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜（１６ｎｍ）／高屈折率
透明薄膜（３８ｎｍ）の構成からなる、薄膜層が７層の
透明層状ブロツクを形成し、透明積層体を作製した。な
お、上記（ ）内の数値は、各薄膜の厚さを示したもの
である。

【００５０】比較例３ 実施例１と同様の方法により、全層の厚さの最適値を計
算して、透明基体側から、透明基体（ＨＣＰＥＴフイル
ム）／高屈折率透明薄膜（３１ｎｍ）／銀系透明導電体
薄膜（８ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（６６ｎｍ）／銀系
透明導電体薄膜（１３ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７１
ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜（１５ｎｍ）／高屈折率透
明薄膜（７６ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜（１６ｎｍ）
／高屈折率透明薄膜（３９ｎｍ）の構成からなる、薄膜
層が９層の透明層状ブロツクを形成し、透明積層体を作
製した。なお、上記（ ）内の数値は、各薄膜の厚さを
示したものである。

【００５１】比較例４ 実施例１と同様の方法により、全層の厚さの最適値を計
算して、透明基体側から、透明基体（ＨＣＰＥＴフイル
ム）／高屈折率透明薄膜（３７ｎｍ）／銀系透明導電体
薄膜（１２ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７８ｎｍ）／銀
系透明導電体薄膜（１６ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（３
７ｎｍ）の構成からなる、薄膜層が５層の透明層状ブロ
ツクを形成し、透明積層体を作製した。なお、上記
（ ）内の数値は、各薄膜の厚さを示したものである。

【００５２】上記の実施例１，２および比較例１〜４の
各透明積層体について、下記の方法により、表面抵抗、
可視光透過率、可視光反射率、近赤外線カツト率および
密着性を調べた。これらの結果を、表１および表２に示
した。

【００５３】＜表面抵抗＞三菱油化製の「Ｌｏｒｅｓｔ
ｅｒ ＳＰ」を用いて、四端針法（ＪＩＳ Ｋ７１９
４）により、表面抵抗値（Ω／□）を測定した。

【００５４】＜可視光透過率と可視光反射率＞大塚電子
製の瞬間マルチ測光器「ＭＣＰＤ−３０００」により、
０°入射透過および反射スペクトルを測定し、得られた
透過および反射スペクトルから、ＪＩＳ Ｒ−３０１６
に準じ、可視光透過率および可視光反射率を算出した。
反射率の測定の際には、透明積層体の薄膜が形成されて
いない裏面を黒塗りした。

【００５５】＜近赤外線カツト率＞日立製作所製の「Ｕ
−３４１０」を用いて、波長８００〜１，２００ｎｍの
範囲の光線のカツト率を測定した。また同様にして、と
くに波長８５０ｎｍの光線だけのカツト率についても測
定した。

【００５６】＜密着性＞ＪＩＳ Ｋ ５４００にしたが
い、クロスカツタにより透明積層体の薄膜面に１０個×
１０個の碁盤目を形成し、テ―プ剥離により剥離した割
合を観察した。同じ条件で５個のサンプルにつき、試験
を行い、平均値をとつた。

【００５７】

【００５８】

【００５９】上記の表１および表２から明らかなよう
に、実施例１，２の透明積層体は、ＰＤＰ用フイルタに
要求される、低表面抵抗、近赤外線カツト性、可視光透
過性、可視光低反射性をすべて満足し、また碁盤目試験
でも、透明基体に対する透明層状ブロツクの密着性が向
上していることがわかる。この結果からも、本発明の透
明積層体の構成により、ＰＤＰ用フイルタに要求される
特性を最小限の層数でバランス良く満足せうるものであ
ることが明らかである。

【００６０】これに対して、比較例１の透明積層体は、
透明基体に隣接する銀系透明導電体薄膜の厚さが本発明
の範囲外のため、その他の薄膜層の厚さを加減しても、
可視光線反射率を低く抑えることができず、また可視光
透過率も低くなる。また、比較例２の透明積層体は、実
施例１，２の透明積層体に比べて、銀系透明導電体薄膜
の数が１層少ない構成であるが、この場合、表面抵抗、
近赤外線カツト性が平凡な特性しか得られておらず、Ｐ
ＤＰ用フイルタとして用いる場合、特性的な余裕を持た
せることが難しい。しかも、この比較例２の透明積層体
は、透明基体に対する透明層状ブロツクの密着性にも劣
つている。

【００６１】さらに、比較例３の透明積層体は、上記の
比較例２の透明積層体に比べて、銀系透明導電体薄膜と
高屈折率透明薄膜の積層数を１単位増やしたものである
が、この場合、表面抵抗や近赤外線カツト性はすぐれて
いるものの、可視光透過率が５５％以下と低くなる。ま
た、比較例４の透明積層体は、逆に、上記の比較例２の
透明積層体に比べて、銀系透明導電体薄膜と高屈折率透
明薄膜の積層数を１単位減らしたものであるが、この場
合、表面抵抗、近赤外線カツト性および可視光反射率の
面で著しく悪くなり、満足する特性が得られない。さら
に、これら比較例３，４の透明積層体は、前記の比較例
２の透明積層体の場合と同様に、透明基体に対する透明
層状ブロツクの密着性に劣つている。

【００６２】実施例３ 実施例１と同様の方法により、透明基体（ＨＣＰＥＴフ
イルム）の表面に銀系透明導電体薄膜と高屈折率透明薄
膜の組み合わせを１単位とし、この順で４単位を順次繰
り返し積層する構成を仮定し、またこの透明基体の裏面
に、ＴｉＯ₂ とＳｉＯ₂ の２層構造の反射防止層を形成
する構成を仮定し、透明基体の表面に形成される銀系透
明導電体薄膜の厚さのみを４ｎｍに固定し、波長４５０
〜６５０ｎｍの透過率が６０％以上、反射率が０％、波
長８００ｎｍ以上の透過率が０％となるような設計目標
値に最も近い光学特性が得られる各層の膜厚の最適値
を、マトリツクス法を基本として作製した光学設計プロ
グラムにより、計算した。

【００６３】なお、ＴｉＯ₂ はタ―ゲツトにＴｉを、Ｓ
ｉＯ₂ はタ―ゲツトにＳｉを用い、アルゴンガスと酸素
ガスの混合ガス中にてパルスＤＣ電源を用いた反応性ス
パツタリング法によりそれぞれ形成した。また、ＴｉＯ
₂ とＳｉＯ₂ の光学定数は、ガラス基板表面に、それぞ
れ厚さ１００ｎｍに成膜したサンプルを使用し、分光エ
リプソメ―タにより測定した値を採用した。

【００６４】この結果に基づいて、ＳｉＯ₂ （１１０ｎ
ｍ）／ＴｉＯ₂ （１０ｎｍ）／透明基体（ＨＣＰＥＴフ
イルム）／銀系透明導電体薄膜（４ｎｍ）／高屈折率透
明薄膜（５８ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜（１２ｎｍ）
／高屈折率透明薄膜（７１ｎｍ）／銀系透明導電体薄膜
（１４ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（７５ｎｍ）／銀系透
明導電体薄膜（１２ｎｍ）／高屈折率透明薄膜（３８ｎ
ｍ）の構成からなる、透明層状ブロツクが８層の薄膜層
からなる透明積層体を作製した。

【００６５】つぎに、この透明積層体における透明層状
ブロックの表面周辺部（４辺）に、銀ペ―スト〔藤倉化
成（株）製の「ド―タイトＦＡ−３０１ＣＡ」〕をスク
リ―ン印刷し、１００℃で２０分で硬化させて、厚さが
２５μｍの電極を形成した。さらに、この透明層状ブロ
ツクの表面に、あらかじめポリエチレンテレフタレ―ト
（以下、ＰＥＴという）セパレ―タ上に塗工して形成し
た厚さが２５μｍのアクリル系粘着剤層を、上記電極を
被覆しないように額縁状に貼り合わせ、ＰＤＰ用フイル
タを作製した。

【００６６】実施例４ 透明基体として厚さが５０ｎｍのＰＥＴフイルムを使用
し、その片面に銀系透明導電体薄膜と高屈折率透明薄膜
を１単位として４単位が順次積層されてなる、実施例３
と同じ構成および同じ厚さの透明層状ブロツクを形成し
て、透明積層体とした。この透明積層体における透明層
状ブロツクの表面周辺部（４辺）に、銀ペ―スト〔藤倉
化成（株）製の「ド―タイトＦＡ−３０１ＣＡ」〕をス
クリ―ン印刷し、１００℃で２０分で硬化させて、厚さ
が２５μｍの電極を形成した。さらに、この透明層状ブ
ロツクの表面に、市販の反射防止フイルム（日本油脂製
の商品名「リアルツク２２００」）を、実施例３と同様
に形成したアクリル系粘着剤層を介して、上記電極を被
覆しないように額縁状に貼り合せた。この透明積層体に
おける透明基体の裏面に、実施例３と同様に形成した厚
さが２５μｍのアクリル系粘着剤層を貼り合せて、ＰＤ
Ｐ用フイルタを作製した。

【００６７】上記の実施例３，４のＰＤＰ用フイルタ
を、そのアクリル系粘着剤層を介してスライドガラスに
貼り合わせて、試験サンプルを作製し、前記と同様にし
て、可視光透過率、可視光反射率および近赤外線カツト
率（波長８５０ｎｍ）を測定した。なお、可視光反射率
の測定は、スライドガラスのＰＤＰ用フイルタを貼り合
せた面と反対の面を黒色に塗装して行つた。また、上記
の試験サンプルにつき、下記の方法により、耐湿熱性試
験および表面耐擦傷性試験を行つた。これらの結果は、
表３に示されるとおりであつた。

【００６８】＜耐湿熱性試験＞試験サンプルを６０℃、
相対湿度９０％の恒温恒湿器に１，０００時間入れ、外
観劣化および光学性能の変化を観察した。上記変化がほ
とんど認められないものを○、認められるものを×、と
評価した。

【００６９】＜表面耐擦傷性試験＞試験サンプルの表面
に、＃００００スチ―ルウ―ルを２．４５Ｎ／cm² の荷
重にて１０往復させ、上記サンプルの傷の有無を目視で
観察した。上記傷がほとんど認められないものを○、認
められるものを×、と評価した。

【００７０】

【００７１】上記の表３の結果から明らかなように、実
施例３，４のＰＤＰ用フイルタは、光学特性（可視光透
過率、可視光反射率および近赤外線カツト率）にすぐれ
ているだけでなく、耐湿熱性試験において外観劣化や光
学特性変化などの変質が全くみられず、また表面耐擦傷
性試験において著しい傷は認められなかつた。この結果
からも、本発明の透明積層体に対して、実施例３，４の
ような加工を施すことにより、ＰＤＰ用フイルタに要求
される電磁波シ―ルド性、近赤外線カツト性、低反射
性、透明性という特徴を阻害することなく、耐湿熱性お
よび表面耐擦傷性を付与することができ、要求される特
性・機能を１枚のフイルタに集約したＰＤＰ用フイルタ
が得られるものであることがわかる。

【００７２】なお、参考のため、実施例１の透明積層体
における透明基体の裏面側に前記同様のアクリル系粘着
剤層を形成しただけのＰＤＰ用フイルタについて、上記
同様に試験サンプルを作製し上記同様の耐湿熱性試験と
表面耐擦傷性試験を行つた。その結果、耐湿熱性試験で
は試験開始後１００時間程度で白色の斑点状の劣化が発
生しはじめ、表面耐擦傷性試験でも傷の発生が認められ
た。

【００７３】実施例５ 市販のＰＤＰ表示装置（富士通ゼネラル社製の「４２型
ワイドプラズマデイスプレイＰＤＳ−４２２１−Ｊ−
Ｈ」）に従来から取り付けられているＰＤＰ用前面板を
取り外し、実施例３のＰＤＰ用フイルタを、アクリル系
粘着剤層を介して、ＰＤＰの前面ガラス表示部に直接貼
り合わせるようにした。また、ＰＤＰの筐体と十分導通
が取れるように、アルミニユウム製の固定治具を形成
し、ＰＤＰ逆側の４辺の電極全面が上記筐体と完全に接
触するように、固定治具で固定して、ＰＤＰ表示装置を
作製した。

【００７４】実施例６ 実施例５と同様の方法により、実施例４のＰＤＰ用フイ
ルタを、アクリル系粘着剤層を介して、ＰＤＰの前面ガ
ラス表示部に直接貼り合わせるようにした。また、ＰＤ
Ｐの筐体と十分導通が取れるように、アルミニウム製の
固定治具を形成し、ＰＤＰ逆側の４辺の電極全面が上記
筐体と完全に接触するように、固定治具で固定して、Ｐ
ＤＰ表示装置を作製した。

【００７５】上記の実施例５，６のＰＤＰ表示装置を用
い、電波暗室において、電磁波シ―ルド効果を測定し
た。本発明のＰＤＰ用フイルタを設置しないで測定した
場合、周波数３０〜２００ＭＨｚの範囲において、ＶＣ
Ｃ１クラスＡの規格を超える強度の電磁波が検出され
た。これに対して、上記実施例５，６のように、本発明
のＰＤＰ用フイルタを設置することにより、十分な電磁
波シ―ルド効果が得られ、ＶＣＣ１クラスＡの規格を十
分にクリアできる妨害電磁波放射レベルまで電磁波をシ
―ルドする効果があることが確認された。また、実施例
５，６のＰＤＰ表示装置は、従来より設置されているＰ
ＤＰ用前面板に比べて、ＰＤＰ用フイルタが直接、前面
ガラスに貼り付けられているので、空気層による外光の
二重映りがなく、視認性にすぐれたものであることも確
認された。

【００７６】

【発明の効果】以上のように、本発明は、透明基体の表
面に銀系透明導電体薄膜と高屈折透明薄膜を１単位とし
て４単位を繰り返し積層してなる透明層状ブロツクを接
合し、透明基体に隣接する銀系透明導電体薄膜のみを９
ｎｍ以下の厚さに設定したことにより、比較的簡潔な構
成でもつて、電磁波シ―ルド性、近赤外線カツト牲、可
視光透過性、可視光低反射性、密着性を満足する透明積
層体と、これを使用した視認性が良く、軽量で薄型であ
り、また表面耐擦傷性や耐湿熱保存性を満足するＰＤＰ
用フイルタと、これを使用したＰＤＰ表示装置を提供で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の透明積層体の一例を示す断面図であ
る。

【図２】本発明のＰＤＰ用フイルタの一例を示す断面図
である。

【図３】本発明のＰＤＰ用フイルタの他の例を示す断面
図である。

【符号の説明】

１Ａ，２Ａ，３Ａ，４Ａ 銀系透明導電体薄膜 １Ｂ，２Ｂ，３Ｂ，４Ｂ 高屈折率透明薄膜 １０ 透明基体 ２０ 反射防止層および／または映り込み防止層 ２０ａ 機能性フイルム ３０ 電極 ４０ 透明接着剤層 １００ 透明積層体 ２００ 透明層状ブロツク ３００ ＰＤＰ用フイルタ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ (72)発明者 宮内 和彦 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 安積 由起子 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA03 AA15 BB13 BB24 CC03 CC06 CC24 CC26 CC33 CC34 CC35 CC42 DD02 DD03 DD04 DD07 EE03 4F100 AB24B AB24D AK42A AR00E AT00A AT00E BA05 BA07 BA10A BA10E BA13 EH66B EH66C EH66D GB41 JA20B JA20D JG01B JG01D JG04 JG04B JG04D JM02B JM02C JM02D JM02E JN01A JN01B JN01C JN01D JN01E JN06E JN18C JN18E JN30 YY00 YY00B 5C040 FA01 FA04 GH10 MA04 MA08 5G435 AA16 BB06 DD11 FF01 GG33 HH12

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基体と、銀系透明導電体薄膜と高屈
   折率透明薄膜を１単位として４単位が繰り返し積層され
   て、上記透明基体の表面に接合された透明層状ブロツク
   とを備えてなり、かつ透明基体に隣接する銀系透明導電
   体薄膜のみが９ｎｍ以下の厚さであり、導電面の表面抵
   抗が２．５Ω／□以下、可視光透過率が５５％以上、８
   ００〜１，２００ｎｍの波長範囲の光線透過率が１０％
   以下であることを特徴とする透明積層体。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の透明積層体における透
   明基体の裏面に反射防止層および／または映り込み防止
   層を設け、かつ透明層状ブロツクの表面周辺部に電極を
   形成し、この電極を避けて透明層状ブロツクの表面に透
   明接着剤層を設けたことを特徴とするプラズマデイスプ
   レイパネル用フイルタ。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の透明積層体における透
   明基体の裏面に透明接着剤層を設け、かつ透明層状ブロ
   ツクの表面周辺部に電極を形成し、この電極を避けて透
   明層状ブロツクの表面に反射防止層および／または映り
   込み防止層かこれ以外の透明保護層を設けたことを特徴
   とするプラズマデイスプレイパネル用フイルタ。
4. 【請求項４】 プラズマデイスプレイパネルの前面表示
   ガラス部に、請求項２または３に記載のプラズマデイス
   プレイパネル用フイルタを、その透明接着剤層により接
   合したことを特徴とするプラズマデイスプレイパネル表
   示装置。