KR100502183B1 - 다층박막 구조를 갖는 피디피 필터 - Google Patents

다층박막 구조를 갖는 피디피 필터 Download PDF

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Abstract

본 발명은 PDP 필터에 있어서 면저항 특성 및 광 투과율을 향상시킬 수 있는 새로운 형태의 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터에 관한 것으로, 투명 기판 위에 고굴절 투명박막과 금속박막이 적층된 구조를 가지며 고굴절 투명박막은 Nb2O5로 형성되고 금속박막은 은(Ag) 또는 은을 주성분으로 하는 합금으로 형성되는 다층박막과, 다층박막 위에 저반사 특성 및 색보정 기능을 갖는 기능성 필름이 접착된 것을 특징으로 하는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터를 제공한다.
이러한 본 발명에 따르면, PDP 필터의 면저항 및 광 투과율 특성을 향상시킬 수 있다.

Description

다층박막 구조를 갖는 피디피 필터{PDP FILTER HAVING STRUCTURE OF MULTI-LAYER THIN FILM}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, 이하 PDP라 함)의 전면 필터(Filter)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 면저항 특성 및 광 투과율을 향상시킬 수 있는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터에 관한 것이다.
잘 알려진 바와 같이, PDP는 기존의 디스플레이장치를 대표하는 CRT에 비해 대형화 및 박형화를 동시에 만족할 수 있어 차세대 디스플레이 장치로서 각광받고 있다.
그러나, 이러한 PDP에서는 그 구동 특성상 강한 근적외선광을 방출하게 되는데, 이 근적외선광은 무선 전화기나 리모콘 등의 작동에 영향을 미쳐 오동작을 유발할 수도 있다. 그리고, PDP는 강한 전자파를 발생하며, 이러한 전자파 또한 인체나 다른 전자기기에 영향을 주기 때문에 이를 소정치 이하로 억제하는 것이 요구되고 있다. 이를 위해, PDP에서는 이러한 근적외선 및 전자파를 차폐하는 동시에 외부 조명에 의한 반사광을 감소시킬 수 있는 전면 필터가 구비되며, 이 전면 필터는 PDP의 전면부에 장착되는 관계로 투명성도 동시에 만족해야 한다.
한편, 이러한 각각의 특성을 만족하기 위해 개발된 종래의 일반적인 PDP 필터는 금속 메시(Mesh) 타입과 투명도전막 타입으로 구분할 수 있다. 먼저, 메시 타입의 PDP 필터는 전자파를 차폐하는 데는 튀어난 특성을 나타내지만 상대적으로 투명성이 저하되거나 화면의 왜곡이 발생할 수 있는 문제점이 있으며, 메시 자체가 고가이기 때문에 전반적인 제품의 단가가 상승되는 문제점이 있다.
따라서, 이를 대체하기 위한 방법으로서 ITO로 대표되는 투명도전막을 이용한 다층박막 형태의 PDP 필터가 널리 사용되고 있다. 그리고, 이러한 다층박막은 통상적으로 금속박막과 고굴절 투명박막이 교번적으로 코팅되는 형태를 띄고 있으며, 이때 금속박막으로는 은(Ag) 또는 은을 주성분으로 하는 합금이 주로 이용된다.
대한민국 특허공개번호 1997-73950호에서는 고굴절 투명박막으로서 ITO를 사용하는 구조, 즉 ITO/Ag 적층 구조가 반복 적층된 구조의 PDP 필터를 제공하고 있다. 특히, 고굴절 투명박막의 재료로 인듐, 티탄, 지르코늄, 주석, 아연, 안티몬, 탄탈, 세륨, 네오듐, 란탄, 토륨, 마그네슘, 칼륨 등의 산화물 또는 이들 산화물의 혼합물이나, 황화아연을 언급하고 있으나, 각각의 물질에 대한 구체적인 적용의 예를 볼 수 없다.
도 1에서는 종래의 일반적인 PDP 필터의 구조를 예시적으로 도시하였다.
동도면을 참조하여 설명하면, 먼저 종래의 일반적인 PDP 필터는 저반사 필름 (13), 투명 기판(15) 및 코팅층(17)으로 이루어지는데, 통상적으로 저반사 필름 (13)은 그 일면에 저반사 코팅처리가 되어 있으며, 다른 일면에는 접착물질이 도포되어 투명 기판(15)과 접착이 용이하도록 구성되어 있다. 따라서, 동도면에서 각 저반사 필름(13)의 외측에는 저반사 코팅 처리가 되어 있으며, 투명 기판(15)을 향한 내측에는 접착물질이 도포되어 있다. 그리고, 필요에 따라 저반사 필름(13)의 각 일면에는 색상 보정을 위한 색소가 첨가될 수도 있다.
투명 기판(15)은 광 투과율이 소정치 이상이 되는 기판으로서, 통상적으로 투명 유리를 사용하며 이 투명 기판(15)의 일면, 즉 PDP 모듈의 전면부에 대향하는 일면에는 동도면에 도시된 바와 같이 코팅층(17)이 형성된다. 이 코팅층(17)은 전술한 바와 같이 PDP 필터에서 요구되는 전자파 차폐와 광 투과율을 동시에 만족시킬 수 있도록 하는 다층박막 형태로 이루어진다. 따라서, 이 코팅층(17)을 형성하는 다층박막의 구조 및 물질에 따라 PDP 필터의 전반적인 특성이 좌우된다고 할 수 있다.
한편, 일반적으로 PDP 필터는 면저항이 1.5Ω 이하가 요구되는 제품군과 2.5Ω 이하가 요구되는 제품군으로 크게 분류할 수 있는데, 이는 최근에 각 국가별로 요구되고 있는 안전규격에 의한 것으로서, 통상적으로 면저항 2.5Ω 이하의 제품군을 클래스 A, 면저항 1.5Ω 이하의 제품군을 클래스 B라 구분한다. 그리고, 각 제품군에 따라 박막을 구성하는 물질 및 형성되는 박막의 층수가 달라지며, 통상적으로 면저항이 1.5Ω 이하인 제품군은 면저항이 2.5Ω 이하인 제품군에 비해 광 투과율은 떨어지나 반사율은 높은 특성을 갖는다.
이와 관련하여 현재 가장 널리 사용되는 PDP 필터에 있어서 1.5Ω 이하의 면저항을 갖는 PDP 필터의 경우에는 통상적으로 Ag층이 4회 삽입된 4-Ag구조를 가지며, 2.5Ω 이하의 면저항을 갖는 PDP 필터의 경우에는 통상적으로 Ag층이 3회 삽입된 3-Ag구조를 갖는다.
이에 대해 상세히 설명하면, 먼저 도 2는 3-Ag 구조의 다층박막을 도시한 도면으로서, 동도면에 도시된 바와 같이 투명 기판(15) 위에 고굴절 투명박막층(21)과 금속박막층(22)을 3회 반복 적층하여 각각의 고굴절 투명박막층(23, 25)과 금속박막층(24, 26)을 형성한 다음, 최종적으로 고굴절 투명박막층(27)을 한번 더 적층한 구조를 갖는다.
여기서, 고굴절 투명박막층(21, 23, 25, 27)을 형성하는 물질로서는 ITO를 사용하며, 금속박막층(22, 24, 26)을 형성하는 물질로서는 은(Ag) 또는 은이 함유된 합금을 사용한다. 그리고, 두 번째 금속박막층(24)을 첫 번째 및 세 번째 금속박막층(22, 26) 보다 두껍게 형성하는 특징을 갖고 있다.
결국, 이와 같은 다층박막 구조를 갖는 종래의 PDP 필터의 경우에는 2.5Ω 이하의 면저항과 50% 이상의 가시광선 투과율을 갖는 동시에 근적외선의 투과율을 최소화할 수 있는 특성을 갖기 때문에 클래스 A 규격에 적합한 PDP 필터의 다층박막 구조이다.
이와는 달리, 1.5Ω 이하의 면저항을 갖는 클래스 B 규격에 적합한 PDP 필터의 다층박막 구조에서는 도 2b에 도시한 바와 같이 산화아연 및 산화주석을 이용하여 고굴절 투명박막을 형성하고 은 또는 은이 함유된 합금을 이용하여 금속박막층을 형성함으로써, Ag층이 4회 삽입된 4-Ag 구조를 갖는다.
또한 금속박막의 내환경성이나 금속박막과 고굴절 투명박막과의 밀착성 등을 향상시키기 위하여 금속박막과 고굴절 투명박막의 사이에 무기물질을 형성하기도 한다.
이와 같은 각각의 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터에 있어서는 면저항이 낮고 광 투과율이 높을수록 우수한 특성을 갖는 PDP 필터라 할 수 있다. 따라서, PDP 필터를 제작하는 산업현장에서는 각 규격 내에서 면저항은 낮추고 광 투과율은 향상시키기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 점에 근거하여 안출한 것으로서 PDP 필터의 면저항 특성 및 광 투과율을 보다 향상시킬 수 있는 새로운 형태의 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면,
투명 기판 위에 고굴절 투명박막과 금속박막이 반복 적층된 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터에 있어서, 상기 고굴절 투명박막은 Nb2O5로 형성되고 상기 금속박막은 은(Ag) 또는 은을 주성분으로 하는 합금으로 형성되는 다층박막을 가지며, 제 1 Nb2O5층은 25∼40㎚, 제 1 Ag층은 10∼20㎚, 제 2 Nb2O5층은 50∼80㎚, 제 2 Ag층은 10∼20㎚, 제 3 Nb2O5층은 50∼80㎚, 제 3 Ag층은 10∼20㎚, 제 4 Nb2O5층은 25∼40㎚의 두께를 가지며, 상기 다층박막은, 적어도 1.7Ω 미만의 면저항과 70% 이상의 광 투과율을 갖는 것을 특징으로 하는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터를 제공한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.
먼저, 본 발명에서는 PDP 필터의 다층박막을 형성함에 있어서 클래스 A와 클래스 B의 규격을 만족하는 범위 내에서 면저항 특성 및 광 투과율이 개선된 다층박막 구조를 제시하며, 이하에서 설명되는 본 발명의 바람직한 실시예에서는 이러한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 수회에 걸친 실험에 의해서 산출된 최적의 PDP 필터용 다층박막 구조를 제시한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터의 다층박막 구조를 도시한 도면으로서, 투명 기판(유리 기판)(15) 위에 제 1 Nb2O5층(31-1), 제 1 ITO층(32-1), 제 1 Ag층(33-1), 제 2 ITO층(32-2), 제 2 Nb2O5층(31-2), 제 3 ITO층(32-3), 제 2 Ag층(33-2), 제 4 ITO층(32-4), 제 3 Nb2O5층(31-3), 제 5 ITO층(32-5), 제 3 Ag층 (33-3), 제 6 ITO층(32-6) 및 제 4 Nb2O5층(31-4)을 순차 적층한 구조를 도시하였다. 즉, 본 실시예에서는 Nb2O5를 사용하여 각각의 고굴절 투명박막층(31-1, …, 31-4)을 형성하고 Ag를 사용하여 각각의 금속박막층(33-1, 33-2, 33-3)을 형성함으로써, 전체적으로 Ag층이 3회 적층된 3-Ag구조의 다층박막을 도시하였다.
여기서, 각각의 Ag층(33-1, 33-2, 33-3)은 은(Ag) 타켓을 사용하고 스퍼터링 가스로 아르곤(진공도 0.3㎩)을 사용하여 형성하며, 이때 사용되는 아르곤의 양은 약 150sccm 정도로 한다. 그리고, 각 Nb2O5층(31-1, …, 31-4)을 형성함에 있어서 스퍼터링 가스로는 아르곤을 사용하고 반응 가스로는 산소를 사용하며, 이때 사용되는 아르곤 및 산소의 양은 각각 약 200sccm과 120sccm으로 한다. 또한, 각 Ag층(33-1, 33-2, 33-3)은 DC 스퍼터링을 실시하며, 각 Nb2O5층(31-1, …, 31-4)은 MF(Mid-Frequency) 스퍼터링을 실시한다.
한편, 각 ITO층(32-1, …, 32-6)은 산소 플라즈마로 인한 각 Ag층(33-1, 33-2, 33-3)의 산화를 방지하기 위한 베리어(barrier)층으로 사용하기 위해 적층된다. 즉, 상술한 바와 같은 다층박막을 형성하기 위한 공정조건이 아르곤과 산소가 공전하는 상태인 경우에 Ag층위에 직접 Nb2O5층을 적층하게 되면 Ag층이 산화되기 때문에, 이를 방지하기 위하여 ITO층을 먼저 적층하고 그 다음에 Nb2O5층을 적층하한다.
이러한 각각의 공정을 사용하여 적층되는 각 박막의 두께는, 제 1 Nb2O5층(31-1)과 제 1 ITO층(32-1)의 합이 25∼40㎚, 제 1 Ag층(33-1)이 10∼20㎚, 제 2 Nb2O5층(31-2)과 제 2 ITO층(32-2)과 제 3 ITO층(32-3)의 합이 50∼80㎚, 제 2 Ag층(33-2)이 10∼20㎚, 제 3 Nb2O5층(31-3)과 제 4 ITO층(32-4)과 제 5 ITO층(32-5)의 합이 50∼80㎚, 제 3 Ag층(33-3)이 10∼20㎚, 제 4 Nb2O5층(31-4)과 제 6 ITO층(32-6)의 합이 25∼40㎚가 되도록 한다. 더욱 바람직하게는, 제 1 Nb2O5층(31-1)이 약 33㎚, 제 1 Ag층(33-1)이 약 13㎚, 제 2 Nb2O5층(31-2)이 약 66㎚, 제 2 Ag층(33-2)이 약 16㎚, 제 3 Nb2O5층(31-3)이 약 66㎚, 제 3 Ag층(33-3)이 약 13㎚, 제 4 Nb2O5층(31-4)이 약 33㎚가 되도록 하는 것이 바람직하다. 그리고, 각 ITO층의 두께는 1~10nm가 되도록 하며, 보다 바람직하게는 약 3㎚ 정도가 되도록 하는 것이 바람직하다.
결과적으로, 도 3에 도시된 실시예에서는 Nb2O5를 사용하여 고굴절 투명박막층을 형성하고, Ag를 사용하여 금속박막층을 형성한 3-Ag 구조를 가지며, 베리어 박막층으로서 ITO를 사용한 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터를 제공한다. 특히, 본 실시예에 따르면 최하위 고굴절 투명박막층과 최상위 고굴절 투명박막층의 두께는 나머지 다른 고굴절 투명박막층의 두께에 비해 약 1/2이 되는 구조를 갖는다. 즉, 제 2 Nb2O5층(31-2)과 제 3 Nb2O5층(31-3)은 제 1 Nb2 O5층(31-1)과 제 4 Nb2O5층(31-4)에 비해 약 2배의 두께가 되는 특징을 갖는다.
이러한 도 3에 도시된 바와 같은 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터는 1.64Ω의 면저항을 가지며, 약 88%의 광 투과율을 갖게 된다. 따라서, Class B 규격에 해당하는 종래의 일반적인 PDP 필터가 갖는 면저항(2.5Ω)과 광 투과율(50%)을 대폭 개선할 수 있게 된다.
한편, 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 PDP 필터의 다층박막 구조를 도시한 도면으로서, 전술한 도 3의 실시예에서와 같이 Nb2O5를 사용하여 각각의 고굴절 투명박막층을 형성하고 Ag를 사용하여 각각의 금속박막층을 적층하였으나, 전술한 실시예에서와 달리 Ag층이 4회 적층된 4-Ag구조의 다층박막을 제시한다. 즉, 도 3의 실시예와 비교하여 제 4 Ag층(43-4)과 제 5 Nb2O5층(41-5)이 추가 형성되는 4-Ag 구조를 갖는다.
그리고, 마찬가지로 각 Ag층(43-1, …, 43-4)은 은(Ag) 타켓을 이용하고 스퍼터링 가스로는 아르곤(진공도 0.3㎩)을 이용하며, 이때 아르곤의 양은 약 150sccm 정도로 한다. 또한, 각 Nb2O5층(41-1, …, 41-5)을 형성함에 있어서 스퍼터링 가스로는 아르곤을 사용하고 반응 가스로는 산소를 사용하며, 이때 사용되는 아르곤 및 산소의 양은 각각 약 200sccm과 120sccm으로 한다. 그리고, 각 Ag층(43-1, …, 43-4)은 DC 스퍼터링을 실시하며, 각 Nb2O5층(41-1, …, 41-5)은 MF(Mid-Frequency) 스퍼터링을 실시한다.
이러한 방법을 사용하여 적층되는 각 박막의 두께는, 제 1 Nb2O5층(41-1) 과 제 1 ITO층(42-1)의 합이 25∼40㎚, 제 1 Ag층(43-1)이 7∼13㎚, 제 2 Nb2O5층(41-2)과 제 2 ITO층(42-2)과 제 3 ITO층(42-3)의 합이 50∼80㎚, 제 2 Ag층(43-2)이 10∼20㎚, 제 3 Nb2O5층(41-3)과 제 4 ITO층(42-4)과 제 5 ITO층(42-5)의 합이 50∼80㎚, 제 3 Ag층(43-3)이 10∼20㎚, 제 4 Nb2O5층(41-4)과 제 6 ITO층(42-6)과 제 7 ITO층(42-7)의 합이 50∼80㎚, 제 4 Ag층(43-4)이 7∼13㎚, 제 5 Nb2O5층(41-5)과 제 8 ITO층(42-8)의 합이 25∼40㎚가 되도록 한다. 더욱 바람직하게는, 제 1 Nb2O5층(41-1)이 약 33㎚, 제 1 Ag층(43-1)이 약 10㎚, 제 2 Nb2O5 층(41-2)이 약 66㎚, 제 2 Ag층(43-2)이 약 14㎚, 제 3 Nb2O5층(41-3)이 약 66㎚, 제 3 Ag층(43-3)이 약 14㎚, 제 4 Nb2O5층(41-4)이 약 66㎚, 제 4 Ag층(43-4)이 10㎚, 제 5 Nb2O 5층(41-5)이 33㎚가 되도록 하는 것이 바람직하다.
그리고, 동도면에 도시된 바와 같이 각 Nb2O5층(41-1, …, 41-5)과 각 Ag층(43-1, 43-4) 사이에는 베리어박막으로서 각각의 ITO층(42-1, …, 42-8)층을 형성하며, 이때 각 ITO층(42-1, …, 42-8)의 두께는 1∼10㎚가 되도록 하며, 보다 바람직하게는 약 3㎚ 정도가 되도록 하는 것이 바람직하다.
결국, 도 4에 도시된 실시예에서도 전술한 도 3에서와 마찬가지로 Nb2O5를 사용하여 고굴절 투명박막층을 형성하고 Ag를 사용하여 금속박막층을 형성하며, 다만 Ag층이 4회 삽입된 4-Ag 구조를 갖게 된다. 그리고, 이때 최하위 고굴절 투명박막층(41-1)과 최상위 고굴절 투명박막층(41-5)의 두께는 나머지 다른 고굴절 투명박막층(41-2, 41-3, 41-4)의 두께에 비해 약 1/2이 되는 구조를 갖는다. 또한, 각 금속 박막층(43-1, …, 43-4) 중에서 최하위 금속박막층(43-1)과 최상위 금속박막층(43-4)은 상술한 두께 범위 내에서 나머지 다른 금속박막층(43-2, 43-3)보다 더 얇은 두께를 갖는다.
이러한 도 4에 도시된 바와 같은 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터에 대한 특성 측정 결과, 1.1Ω의 면저항을 가지며 약 85%의 광 투과율을 갖는 것으로 나타났다. 따라서, Class A 규격에 해당하는 종래의 일반적인 PDP 필터가 갖는 면저항(1.5Ω)과 광 투과율(50%)을 대폭 개선할 수 있게 된다.
한편, 상술한 각각의 실시예에서는 산소 플라즈마로 인한 금속박막층의 산화를 방지하기 위해 각 금속박막층과 각 고굴절 투명박막층 사이에 ITO로 이루어진 베리어박막을 형성하였으나, 공정조건에 있어서 Nb2O5 타겟을 사용하여 산소 분압을 조절하는 경우에는 금속박막(Ag)층 위에 고굴절 투명박막(Nb2O5)층의 직접적인 적층이 가능하다.
도 5 및 도 6은 이러한 공정을 이용하는 경우에 따른 다층박막 구조를 도시한 도면이다.
즉, 도 5는 전술한 도 3에 도시된 3-Ag 구조의 다층박막에 있어서 베리어층을 갖지 않은 다층박막 구조를 도시한 도면이며, 이때 각 층의 두께는 전술한 도 3에서의 두께와 동일하게 형성한다.
마찬가지로, 도 6은 전술한 도 4에 도시된 4-Ag 구조의 다층박막에 있어서 베리어층을 갖지 않은 다층박막 구조를 도시한 도면이며, 이때 각 층의 두께 또한 전술한 도 4에서의 두께와 동일하게 형성한다.
그리고, 이와 같이 베리어막을 형성하지 않은 각각의 다층박막 구조에 대한 광 투과율 및 면저항을 특정한 결과, 도 5에 도시한 3-Ag 구조에서는 약 70%의 광 투과율과 1.64Ω의 면저항을 갖는 것으로 나타났다. 그리고, 도 6에 도시한 4-Ag 구조에서는 약 65%의 광 투과율과 1.1Ω의 면저항을 갖는 것으로 나타났다.
따라서, 전술한 도 3 및 도 4에 도시한 실시예에서와 마찬가지로 Class B 규격(도 5의 경우) 및 Class A의 규격(도 6의 경우)을 만족하는 PDP 필터의 다층 박막을 구현할 수 있다.
결과적으로, 전술한 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같은 3-Ag 구조의 다층박막을 사용하는 경우에는 Class B의 규격을 만족하는 범위 내에서 면저항 및 광 투과율이 향상된 PDP 필터를 구현할 수 있으며, 도 4 및 도 6에 도시된 바와 같은 4-Ag 구조의 다층박막을 사용하는 경우에는 Class A의 규격을 만족하는 범위 내에서 면저항 및 광 투과율이 향상된 PDP 필터를 구현할 수 있다.
또한, 종래의 일반적인 PDP 필터에 있어서는 Class A 규격에 대응하는 PDP 필터인지 Class B 규격에 대응하는 PDP 필터인지에 따라 고굴절 투명박막을 형성하는 물질이 각기 달라지게 지만, 본 발명에 따른 다층박막 구조에서는 규격에 관계없이 동일한 물질(Nb2O5)을 사용하여 고굴절 투명박막을 형성할 수 있기 때문에 동일한 공정 및 공정라인을 이용하여 Class A 및 Class B 규격에 대응하는 PDP 필터를 모두 제작할 수 있다.
즉, 상술한 바와 같이 도 3의 다층박막 구조는 Class B 규격에 대응하는 특성을 가지며, 도 4의 다층박막 구조는 Class A 규격에 대응하는 특성을 갖는데, 여기서 각 다층박막 구조에서의 고굴절 투명박막층은 모두 Nb2O5를 사용하여 형성되며 그 공정 조건(주입 가수의 종류 및 양) 또한 동일하다. 따라서, 동일한 공정 및 공정라인을 사용하여 박막을 적층하는 횟수만을 조절함으로써 Class A 및 Class B의 규격에 해당하는 PDP 필터를 제작할 수 있게 된다.
이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, PDP 필터의 면저항 및 광 투과율 특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있으며 동일한 공정 및 공정라인을 사용하여 고굴절 투명박막층과 금속박막층의 적층 횟수만을 조절함으로써 클래스 A 및 클래스 B 규격에 해당하는 PDP 필터를 제조할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 일반적인 PDP 필터에 대한 전반적인 구조를 도시한 도면.
도 2a 및 2b는 종래의 PDP 필터에서 구비되는 다층박막의 구조를 예시적으로 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터의 다층박막 구조를 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 PDP 필터의 다층박막 구조를 도시한 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
15 : 투명 기판
31, 33, 35, 37, 41, 43, 45, 47, 49 : 고굴절 투명박막
32, 34, 36, 42, 44, 46, 48 : 금속박막

Claims (9)

  1. 투명 기판 위에 고굴절 투명박막과 금속박막이 반복 적층된 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터에 있어서,
    상기 고굴절 투명박막은 Nb2O5로 형성되고 상기 금속박막은 은(Ag) 또는 은을 주성분으로 하는 합금으로 형성되는 다층박막을 가지며,
    제 1 Nb2O5층은 25∼40㎚, 제 1 Ag층은 10∼20㎚, 제 2 Nb2O5층은 50∼80㎚, 제 2 Ag층은 10∼20㎚, 제 3 Nb2O5층은 50∼80㎚, 제 3 Ag층은 10∼20㎚, 제 4 Nb2O5층은 25∼40㎚의 두께를 가지며,
    상기 다층박막은, 적어도 1.7Ω 미만의 면저항과 70% 이상의 광 투과율을 갖는 것을 특징으로 하는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 Nb2O5층은 25∼40㎚, 상기 제 1 Ag층은 7∼13㎚, 상기 제 2 Nb2O5층은 50∼80㎚, 상기 제 2 Ag층은 10∼20㎚, 상기 제 3 Nb2O5층은 50∼80㎚, 상기 제 3 Ag층은 10∼20㎚, 상기 제 4 Nb2O5층은 50∼80㎚, 상기 제 4 Ag층은 7∼13㎚, 상기 제 5 Nb2O5층은 25∼40㎚의 두께를 가지며, 적어도 1.2 미만의 면저항과 65% 이상의 광 투과율을 갖는 것을 특징으로 하는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 4 Nb2O5층은 상기 제 2 및 제 3 Nb2O5층 보다 더 얇은 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 5 Nb2O5층은 상기 제 2 내지 제 4 Nb2O5층 보다 더 얇은 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 각 Nb2O5층과 상기 각 Ag층 사이에 ITO로 이루어진 베리어(barrier)층이 각각 추가 형성되는 것을 특징으로 하는 다층박막 구조를 갖는 PDP 필터.
  9. 삭제
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