JP2000229371A

JP2000229371A - 透明積層体およびそれを用いたプラズマデイスプレイパネル用フイルタ

Info

Publication number: JP2000229371A
Application number: JP11351094A
Authority: JP
Inventors: Toshitaka Nakamura; 年孝中村; Kazuaki Sasa; 和明佐々; Yoshihiro Hieda; 嘉弘稗田; Kazuhiko Miyauchi; 和彦宮内
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 1998-12-11
Filing date: 1999-12-10
Publication date: 2000-08-22

Abstract

(57)【要約】【課題】プラズマデイスプレイパネル用フイルタの光
学的基本部材として好適に使用される透明積層体で、上
記フイルタに要求される電磁波シ―ルド性、近赤外線カ
ツト性、可視光透過性、可視光低反射性、低表面抵抗
値、表面耐擦傷性などの諸特性を満足する透明積層体を
提供する。【解決手段】透明基体１の表面に、低屈折率透明薄膜
２Ａが形成され、その面上に高屈折率透明薄膜３Ａと銀
系透明導電体膜４Ａを１単位としてｎ単位（３≦ｎ≦
５）が順次積層され、その面上に高屈折率透明薄膜３Ｄ
が形成され、さらにその面上に低屈折率透明薄膜２Ｂが
形成されている積層体であつて、上記低屈折率透明薄膜
はその屈折率ｎ_Lが１．３〜１．６の範囲で光学的透明
性を有する膜であり、上記高屈折率透明薄膜はその屈折
率ｎ_Hが１．９〜２．５の範囲で光学的透明性を有する
膜であることを特徴とする透明積層体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明積層体および
それを用いたプラズマデイスプレイパネル（以下、ＰＤ
Ｐという）用フイルタに関し、さらに詳しくはＰＤＰの
前面に配置して、ＰＤＰから原理的に発生する電磁波と
近赤外線を同時にカツトする基本機能に加え、可視光透
過性、可視光低反射性および表面耐擦傷性にすぐれたＰ
ＤＰ用フイルタに関するものである。また、本発明は、
上記のＰＤＰ用フイルタを貼り合わせてなるＰＤＰ表示
装置およびＰＤＰ用前面板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】金属薄膜層を透明誘電体膜層で挟んだ構
成の透明積層体は、真空蒸着法やスパツタリング法に代
表される薄膜形成技術の進歩に伴い検討されてきた。こ
れらの透明積層体は、金属薄膜層の有する導電性と赤外
線反射特性を利用し、かつ透明誘電体膜層にて金属表面
における可視光の反射を防止する機能を付与することが
できる。たとえば、可視光線は透過し熱線は反射するた
めの太陽電池用の透明断熱材、農業用のグリ―ンハウ
ス、建築用の窓材、食品用のシヨウケ―スなどに利用さ
れている。また、これらの積層体は、透明かつ高い導電
性を示すため、液晶デイスプレイ用電極、電場発光体用
電極、電磁波シ―ルド膜、帯電防止膜などに好適に利用
されている。これら透明積層体の構成は、たとえば特開
昭５５−１１８０４号公報、特開平９−１７６８３７号
公報などに記載されている。

【０００３】デイスプレイ技術については、薄型、軽量
かつ大画面化の要望に応えるべく、大画面用デイスプレ
イとして、ＰＤＰの開発が進展している。ＰＤＰはパネ
ル内に封入された希ガス、とくにネオンを主体としたガ
ス中で放電を発生させ、その際に発生する真空紫外線に
より、パネルのセルに塗られたＲ、Ｇ、Ｂの蛍光体を発
光させる。この発光過程において、ＰＤＰの作動には不
必要な電磁波と近赤外線が同時に放出される。とくに電
磁波は周辺機器への誤動作を引き起こすばかりか、人体
へ悪影響を及ぼすため、カツトする必要がある。また、
放出される近赤外線は、波長が８５０〜１，２００ｎｍ
であり、家電製品、カラオケ、音響映像機器などのリモ
―トコントロ―ラの受光感度が７００〜１，３００ｎｍ
のため、上記近赤外線がリモ―トコントロ―ラを誤動作
させる問題がある。したがつて、ＰＤＰから原理的に発
生する強度の近赤外線をカツトする必要がある。

【０００４】このため、従来より、ＰＤＰから発生する
電磁波と近赤外線を同時にカツトするためのフイルタが
種々検討されてきた。たとえば、金属メツシユまたはエ
ツチングメツシユを埋め込んだアクリル板と近赤外線を
吸収する染料系の材料を混入させたアクリル板とを貼り
合わせまたは熱融着させた板などが用いられてきた。ま
た、これらメツシユタイプのものとは異なるフイルタと
して、前記したような透明積層体をＰＤＰ用フイルタに
応用する検討もなされている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
メツシユタイプのものは、低表面抵抗値は得られやすい
が、画素ピツチと導電メツシユとの間で生じるモアレ現
象による画像のかすみや、近赤外線吸収材料の耐久性な
どに問題があり、また近赤外線カツト率を高めるには近
赤外線吸収材料の添加量を多くする必要があり、それに
伴い可視光透過率の低下と色目の発生という問題があつ
た。また、前記したような透明積層体では、電磁波シ―
ルド性、近赤外線カツト性、可視光線透過性や低反射
性、低表面抵抗値などの諸特性を十分に満足するものは
得られなかつた。

【０００６】本発明は、このような事情に照らし、ＰＤ
Ｐ用フイルタの光学的基本部材としてとくに好適に使用
される透明積層体、およびＰＤＰ用フイルタとして要求
される電磁波シ―ルド性、近赤外線カツト性、可視光透
過性、可視光低反射性、低表面抵抗値、表面耐擦傷性な
どの諸特性を満足させるととともに、視認性が良く、軽
量、薄型であるＰＤＰ用フイルタを提供することを課題
とする。また、本発明のさらなる課題としては、このＰ
ＤＰ用フイルタを備えたＰＤＰ表示装置とＰＤＰ用前面
板を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、鋭意検討を重ねた結果、透明基体の
表面に、低屈折率透明薄膜が形成され、その面上に高屈
折率透明薄膜と銀系透明導電体膜を１単位としてｎ単位
（３≦ｎ≦５）が順次積層され、その面上に高屈折率透
明薄膜が形成され、さらにその面上に低屈折率透明薄膜
が形成されている積層体であつて、低屈折率透明薄膜は
その屈折率ｎ_lが１．３〜１．６の範囲で光学的透明性
を有する膜であり、高屈折率透明薄膜はその屈折率ｎ_H
が１．９〜２．５の範囲で光学的透明性を有する膜であ
ることを特徴とする透明積層体の発明に至つたものであ
る。

【０００８】上記の光学的条件において、光学中心波長
をλ＝５５０ｎｍとしたとき、透明基体の表面上の低屈
折率透明薄膜の厚さが１×（λ／４ｎ_L）、最外層の低
屈折率透明薄膜の厚さが２×（λ／４ｎ_L）であり、低
屈折率透明薄膜に隣接した高屈折率透明薄膜の厚さが
（１／２）×（λ／４ｎ_H）、銀系透明導電体膜で挟ま
れた高屈折率透明薄膜の厚さが１×（λ／４ｎ_H）であ
り、銀系透明導電体膜の厚さが（１／５）×（λ／４ｎ
_H）×（ｎ_H−１）である条件を満たすことは、さらに
好ましく、この条件における低屈折率透明薄膜、高屈折
率透明薄膜および銀系透明導電体膜は、それぞれの厚さ
変化が±２０％の範囲内であることができる。また、上
記構成の透明積層体において、最外層の低屈折率透明薄
膜を形成する代わりに、透明基体から最も離れた高屈折
率透明薄膜の面上に、透明粘着剤層を介して反射防止フ
イルム、映り込み防止フイルムまたは低反射映り込み防
止フイルムを貼り合わせたものも好適に使用できる。

【０００９】本発明において、高屈折率透明薄膜として
は、酸化インジウム、酸化錫、二酸化チタン、酸化セリ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、五
酸化ニオブ、硫化亜鉛よりなる群から選ばれる１または
２以上の化合物からなる薄膜であるのが好ましい。ま
た、銀系透明導電体膜としては、９０重量％以上の銀
と、金、銅、パラジウム、白金、マンガン、カドミウム
から選択された１つまたは２つ以上の元素により構成さ
れた薄膜であるのが好ましい。

【００１０】本発明の透明積層体は、透明薄膜および銀
系透明導電体膜の厚さ、構成層数、材料、屈折率、形成
方法などの因子を検討し、好適な設計により得られたも
のであり、可視光透過率が５０％以上、可視光反射率が
５％以下、表面抵抗が３Ω／□以下、８００ｎｍより長
波長域の近赤外線カツト率が８０％以上であることが好
ましい。また、透明積層体の最外層の低屈折率透明薄膜
の表面に、厚さ１０ｎｍ以下の防汚染層が形成されてい
るのが好ましい。

【００１１】本発明の他の態様は、これらの透明積層体
を用いたＰＤＰ用フイルタに関するものであり、透明積
層体の裏面に、厚さ１０〜５００μｍの透明粘着剤層が
形成されているのが好ましい。本発明においては、上記
透明粘着剤層の形成により、ＰＤＰの前面表示ガラス部
に、ＰＤＰフイルタを透明粘着剤層を介して直接貼り合
わせてなるＰＤＰ表示装置を提供することができる。ま
た、ＰＤＰの前面側に、空気層を介して設置される透明
成形体のＰＤＰ側と逆の面に、ＰＤＰフイルタを透明粘
着剤層を介して貼り合わせてなるＰＤＰ用前面板とする
ことができる。この場合、空気層を介して設置される透
明成形体のＰＤＰ側に、アンチグレア層もしくはアンチ
ニユ―トンリング層を直接形成、もしくは透明フイルム
上に形成し透明粘着剤層を介して貼り合わせてもよい。
これらのＰＤＰ用前面板は、ＰＤＰの前面に設置してＰ
ＤＰ表示装置とされる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図１、図２および図３を使
用して、本発明の透明積層体およびＰＤＰ用フイルタの
例を具体的に説明する。

【００１３】図１は、透明基体１の表面に、低屈折率透
明薄膜２Ａが形成され、その面上に高屈折率透明薄膜お
よび銀系透明導電体膜を１単位（図１は３単位の例を示
す）として、高屈折率透明薄膜（３Ａ、３Ｂ、３Ｃ）お
よび銀系透明導電体膜（４Ａ、４Ｂ、４Ｃ）が順次繰り
返し積層され、その銀系透明導電体膜４Ｃの面上に高屈
折率透明薄膜３Ｄが積層され、さらにその面上に低屈折
率透明薄膜２Ｂが形成された透明積層体の断面図の概要
を示している。ここで、上記の低屈折率透明薄膜（２
Ａ、２Ｂ）は、その屈折率ｎ_Lが１．３〜１．６の範囲
の光学的透明性を有する膜であり、高屈折率透明薄膜
（３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ）は、その屈折率ｎ_Hが１．
８〜２．５の範囲の光学的透明性を有する膜である。

【００１４】各層の厚さは、光学中心波長をλ＝５５０
ｎｍとしたとき、透明基体の表面上の低屈折率透明薄膜
２Ａは１×（λ／４ｎ_L）の厚さに、最外層の低屈折率
透明薄膜２Ｂは２×（λ／４ｎ_L）の厚さに、低屈折率
透明薄膜２Ａまたは低屈折率透明薄膜２Ｂに隣接する高
屈折率透明薄膜３Ａと高屈折率透明薄膜３Ｄは（１／
２）×（λ／４ｎ_H）の厚さに、銀系透明導電体膜（４
Ａ、４Ｂ）で挟まれた高屈折率透明薄膜３Ｂおよび銀系
透明導電体膜（４Ｂ、４Ｃ）で挟まれた高屈折率透明薄
膜３Ｃは１×（λ／４ｎ_H）の厚さに、銀系透明導電体
膜（４Ａ、４Ｂ、４Ｃ）は（１×５）×（λ／４ｎ_H）
×（ｎ_H−１）の厚さになるように設計されている。ま
た、上記の低屈折率透明薄膜、高屈折率透明薄膜および
銀系透明導電体膜は、上記の厚さを中心に±２０％の範
囲内であれば好適に使用できる。

【００１５】図２は、上記の図１に示される透明積層体
を用いたＰＤＰ用フイルタの一例を示す断面図であり、
ここでは、最外層の低屈折率透明薄膜２Ｂの表面に防汚
染層５が形成されており、また透明積層体の裏面、すな
わち透明基体１の裏面には、貼着用の透明粘着剤層６が
形成されている。

【００１６】上記の図１〜２の説明において、たとえ
ば、低屈折率透明薄膜材料および高屈折率透明薄膜材料
としてｎ_L＝１．４、ｎ_H＝２．０の透明材料を選定し
たときには、各膜の厚さは、つぎのように決定される。低屈折率透明薄膜２Ａ：９８．２ｎｍ±１９．６ｎｍ高屈折率透明薄膜３Ａ、３Ｄ：３４．４ｎｍ±６．９ｎｍ高屈折率透明薄膜３Ｂ、３Ｃ：６８．８ｎｍ±１３．８ｎｍ銀系透明導電体膜４Ａ、４Ｂ、４Ｃ：１３．１ｎｍ±２．６ｎｍ低屈折率透明薄膜２Ｂ：１９６．４ｎｍ±３９．３ｎｍ

【００１７】本発明において使用する透明基体１として
は、可視光領域における透明性を有するものであつて、
ある程度表面が平滑なものであれば使用できる。たとえ
ば、ポリエチレンテレフタレ―ト、トリアセチルセルロ
―ス、ポリエチレンナフタレ―ト、ポリエ―テルスルホ
ン、ポリカ―ボネ―ト、ポリアクリレ―ト、ポリエ―テ
ルエ―テルケトンなどが好ましい。その厚さは、ドライ
プロセスで熱ジワなどの問題が発生しなければ、とくに
制限はないが、通常は１０〜２５０μｍであるのがよ
い。また、上記のような高分子フイルムそのもののほ
か、その片面または両面にハ―ドコ―ト処理を行つたも
のでもよい。ＵＶ硬化タイプでも熱硬化タイプでもよ
く、厚さは１〜１０μｍが適当である。

【００１８】本発明において、低屈折率透明薄膜２Ａと
低屈折率透明薄膜２Ｂは、同じ材料であつても、異なる
材料であつてもよく、異なる材料を用いた場合は、その
材料の屈折率を用いて、本発明の法則にしたがい、膜厚
を決定すればよい。低屈折率透明薄膜の材料としては、
低屈折率の光学膜材料で、可視光域で透明であれば使用
できるが、薄膜の屈折率が１．３〜１．６の範囲がよ
い。この薄膜は、スパツタリング法、真空蒸着法、イオ
ンプレ―テイング法などのドライプロセスで形成して
も、グラビア塗工法、マイクログラビア塗工法、リバ―
スコ―ト法、デイツプコ―ト法などのウエツトプロセス
で形成してもよい。

【００１９】低屈折率透明薄膜２Ａに使用される材料
は、透明基体１と高屈折率透明薄膜３Ａとの密着性のよ
いものが好ましく、また透明基体１の表面にプライマ―
層を設けるなどして易接着処理を行つてもよい。好適な
材料には、フツ化マグネシウム、二酸化珪素、酸化珪
素、フツ素含有酸化珪素や熱硬化型もしくは紫外線硬化
型のフツ素系高分子、シリコ―ン系高分子材料などが挙
げられる。

【００２０】低屈折率透明薄膜２Ｂに使用される材料
は、最表面のオ―バ―コ―ト層の役割をも果たすため、
耐擦傷性にすぐれた材料であるのが望ましい。そのた
め、少しでも厚い方が好ましく、本発明にしたがつた場
合、屈折率が低いほど膜を厚くできるので、屈折率のよ
り低い材料であるのが望ましい。低屈折率透明薄膜２Ｂ
自体が防汚染性を持ち合わせた材料であればなおよい。
好適な材料には、フツ化マグネシウム、二酸化珪素、酸
化珪素、フツ素含有酸化珪素、熱硬化型もしくは紫外線
硬化型のフツ素系高分子、シリコ―ン系高分子材料など
が挙げられる。

【００２１】低屈折率透明薄膜２Ｂの表面上に厚さ１０
ｎｍ以下の防汚染層を形成してもよい。１０ｎｍ以下で
あれば、可視光領域な波長に対して十分薄いため、透明
積層体の光学特性を変化させることなく、防汚染性を付
与できる。防汚染層５の材料としては、有機ポリシロキ
サン系重合体またはパ―フルオロアルキル含有重合体か
らなる硬化物、パ―フルオロアルキル基を有するアルコ
キシシラン化合物、パ―フルオロポリエ―テル基と反応
性のシリル基を有する化合物、パ―フルオロアルキル基
を含むモノおよびジシラン化合物などが挙げられる。

【００２２】なお、透明基体１の面上に低屈折率透明薄
膜２Ａを形成すると、これを形成せず、高屈折率透明薄
膜（３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ）と銀系透明導電体膜（４
Ａ、４Ｂ、４Ｃ）を透明基体１の面上に直接交互に積層
する場合に比べ、可視光線反射率の波長依存性を低減す
る効果があり、また特定波長では可視光線反射率が増加
するが、可視光域全体でみると平均反射率を低減する効
果もある。

【００２３】また、最外層の低屈折率透明薄膜２Ｂは、
好ましくは光学的厚さがλ／２になるように選択され
る。光学薄膜においてλ／２の整数倍の厚さの層は、波
長λにおいて、光学的特性をなんら変化させることなく
挿入したり、取り去ることができるので、「存在しない
層」と呼ばれている。しかし、たとえばλ＝５５０ｎｍ
（光学的中心波長）であるとすると、透明基体１から最
も離れた高屈折率透明薄膜３Ｄの面上に適当な屈折率を
有する透明薄膜をλ／２の光学的厚さで形成した場合、
確かに５５０ｎｍでの光学的性質は全く変わらないが、
その他の波長域における可視光反射率が増大してしまう
など光学的性質は大きく変化する。しかるに、本発明者
らは、最外層の低屈折率透明薄膜２Ｂの屈折率ｎ_Lを
１．３〜１．６の範囲に選ぶと、最外層の低屈折率透明
薄膜２Ｂを形成しても、可視光域における光学的特性の
変化が最小限に抑えられることを見い出した。

【００２４】また、本発明者らは、透明基体１の面上に
低屈折率透明薄膜２Ａを形成しておくことにより、透明
基体１から最も離れた高屈折率透明薄膜３Ｄの面上に、
透明粘着剤層を介して反射防止フイルム、映り込み防止
フイルムまたは低反射映り込み防止フイルムを貼り合わ
せた場合においても、可視光線反射率、可視光線透過率
などの光学的性質を大きく損なうことはないことを見い
出した。

【００２５】図３は、上記の例として、図１に示す透明
積層体において、最外層の低屈折率透明薄膜２Ｂを形成
する代わりに、透明基体１から最も離れた高屈折率透明
薄膜３Ｄの面上に、透明粘着剤層７を介して反射防止フ
イルム８を貼り合わせた構成を示したものであり、この
場合も、ＰＤＰ用フイルタとして適用するため、透明基
体１の裏面に貼着用の透明粘着剤層６が形成されてい
る。

【００２６】上記の反射防止フイルム８は、透明基体１
と同様のポリエチレンテレフタレ―トやトリアセチルセ
ルロ―スなどのフイルム上に、従来技術を用いて単層も
しくは多層の反射防止膜を形成したものがそのまま適用
できる。この反射防止フイルム８を透明粘着剤層７を介
して高屈折率透明薄膜３Ｄの面上に貼り合わせること
で、銀系透明導電体薄膜（４Ａ、４Ｂ、４Ｃ）への水分
や硫化物の進入を容易に阻止でき、耐久性向上に大きな
効果があり、さらに表面耐擦傷性や防汚染性などの特性
面でも好ましい結果を得ることができる。この反射防止
フイルム８を貼り合わせるための透明粘着剤層７として
は、後述する透明粘着剤層６と同様のものを使用できる
が、厚さは５μｍ以上、通常は１０〜２００μｍである
のがよい。また、上記の反射防止フイルム８に代えて、
前記した透明基体１と同様のフイルム上に従来公知の映
り込み防止層または低反射映り込み防止層を設けてなる
映り込み防止フイルムまたは低反射映り込み防止フイル
ムを使用してもよく、これらによつても上記とほぼ同様
の効果を奏することができる。

【００２７】高屈折率透明薄膜（３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３
Ｄ）の材料としては、高屈折率の光学膜材料ならある程
度使用できるが、薄膜の屈折率が１．９〜２．５の範囲
がよい。また、本発明にしたがえば、高屈折率透明薄膜
の屈折率が大きいほど、可視光透過率を損なわずに銀系
透明導電体膜を厚くできるため、表面抵抗率を低減する
意味で好ましい。また、単一の高屈折率透明材料であつ
ても、複数の高屈折率透明材料を焼結したものであつて
もよい。さらに銀系透明導電体膜のマイグレ―シヨン防
止効果や水、酸素のバリア効果がある材料ならさらによ
い。

【００２８】上記好適な材料としては、酸化インジウム
を主成分とし二酸化チタンや、酸化錫、酸化セリウムを
少量含有させたもの、二酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、硫化亜鉛、酸化ビスマス、五酸化ニオブなどが挙げ
られる。これらの薄膜は、スパツタリング、真空蒸着、
イオンプレ―テイング、その他の真空ドライプロセスで
設けることができる。また、一般的に、酸化インジウム
を主成分とする材料は、光の吸収があり、消衰係数が零
でない場合があるが、本発明の透明薄膜の屈折率と各膜
厚との関係を適応するにおいて、消衰係数の大小は関係
なく、屈折率のみを考慮すればよい。言い換えれば、複
素屈折率として取り扱わず、単に実数部分である屈折率
の値をｎ_Hとすれば、上記の関係は満足される。ただ
し、高い可視光透過率を得るためには、消衰係数は小さ
いほど望ましい。

【００２９】銀系透明導電体膜（４Ａ、４Ｂ、４Ｃ）の
材料としては、９０重量％以上の銀と、金、銅、パラジ
ウム、白金、マンガン、カドミウムから選択された１つ
または２つ以上の元素により構成されるが、９０〜９９
重量％の銀と上記金属１〜１０重量％を固溶させた材料
であるのが好ましい。とくに銀中に１〜１０重量％の金
を固溶させたものは、銀の劣化防止の観点から好まし
い。金を１０重量％超えて混入すると、比抵抗が上昇し
低抵抗値が得られがたく、また１重量％未満では銀の劣
化が起こりやすい。銀系透明導電体膜を形成する手段と
しては、スパツタ法などの真空ドライプロセスが用いら
れる。

【００３０】ＰＤＰ用フイルタの透明基体１の裏面に
は、図２，図３のように、透明粘着剤層６が形成されて
おり、ＰＤＰの前面表示ガラス部に、透明粘着剤層６を
介して直接貼り合わせると、ガラスの飛散防止、ＰＤＰ
自体の軽量化、薄型化、低コスト化が実現されるばかり
か、別途ＰＤＰ本体に前面板を設置する場合に比較し
て、屈折率の低い空気層がなくなるため、余分な界面反
射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題が解
決され、ＰＤＰの視認性が著しく向上する。

【００３１】本発明に用いられる透明粘着剤層として
は、弾性係数が１×１０Ｅ⁵〜１×１０Ｅ⁷dyn ／cm²
が好ましく、厚さは１０〜５００μｍ、さらに好ましく
は２５〜３００μｍである。その材料としては、アクリ
ル系、ゴム系、ポリエステル系などがあり、とくにアク
リル系粘着剤を用いるのが好ましい。アクリル系粘着剤
は、粘着剤として適度の濡れ性、柔軟性を付与するため
の主単量体として、ポリマ―化した際のガラス転移点が
−１０℃以下の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを
１種もしくは２種以上と、必要によりアクリル酸、メタ
クリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレ―トなどの官
能基含有単量体およびその他の共重合性単量体とを、適
宜の重合触媒を用いて溶液重合法、乳化重合法、塊状重
合法（とくに紫外線による重合法）、懸濁重合法などの
方法で重合して得られるアクリル系ポリマ―に、架橋剤
などの各種添加剤を添加したものが用いられる。熱架橋
タイプ、光（紫外線、電子線）架橋タイプなどであつて
もよい。

【００３２】上記の特性からなる透明粘着剤層を使用す
ると、ＰＤＰ前面表示ガラス部に直接貼り合わせた際
に、ＰＤＰガラス表面のウネリを吸収し、貼りあわせが
良好となる。また、貼り合わせたのち、外部から異物が
衝突しても、この範囲であると、粘着剤層のクツシヨン
効果により、フイルム表面に傷が付きにくいばかりか、
糊厚が瞬間的には薄くなるが、すぐに自己回復して、な
にもなかつたのように元どおりの平滑面になるという特
性が得られる。

【００３３】また、ＰＤＰの製造工程、前面表示ガラス
の強度が十分でない点を考慮すると、透明粘着剤層を介
してＰＤＰ用フイルタを透明成形体の表面に貼り合わせ
て得られたＰＤＰ用前面板を、ＰＤＰの前面側に、空気
層を介して設置して用いてもよい。この場合、上記の透
明成形体としては、ガラス板、アクリル板、ポリカ―ボ
ネ―ト板などが好適に用いられるが、とくに制限される
ものではない。また、透明成形体のＰＤＰ側の表面に２
重反射、ニユ―トンリングの発生を抑制するため、アン
チグレア層やアンチニユ―トンリング層を直接形成、も
しくは透明フイルム上に形成し透明粘着剤層を介して貼
り合わせてもよい。上記のアンチグレア層やアンチニユ
―トンリング層は、０．１〜１０μｍ程度の微小な凹凸
の表面状態を有し、可視光線に対し透明な層を意味す
る。このようなアンチグレア層、アンチニユ―トンリン
グ層については、公知の技術を応用できる。

【００３４】本発明のＰＤＰ用フイルタおよびＰＤＰ用
前面板において、透過色の色調を調整するための色素な
どを、たとえば透明基体や透明成形体、透明粘着剤に添
加して用いたり、バインダ樹脂中に分散させて適当な層
を設けて形成してもよい。また、電磁波シ―ルド効果の
向上と、吸収した電磁波により誘起する電荷が再度電磁
波を発生することにより起こる電磁波シ―ルド効果の低
下を防ぐため、透明積層体の導電性を有する表面の周縁
部との間に電気的接続をとる必要がある。通常、高屈折
率透明薄膜（図２，３の３Ｄ）は十分薄いため、この表
面上にたとえば導電ペ―ストなどを形成してやることで
電気的接続を得ることができる。したがつて、最外層の
低屈折率透明薄膜（図２の２Ｂ）を、ドライプロセスや
ウエツトプロセスにより塗工したりして成膜する際、開
口部のみにそれらを形成し、透明積層体の周縁部から電
気的接続を取るようにしておくのがよい。

【００３５】周縁部の電極形成には、たとえば、市販の
導電ペ―ストを印刷や塗工で形成する方法、導電性テ―
プをラミネ―トする方法、真空蒸着法やスパツタリング
法などにより銀、銅、金、白金、ニツケル、アルミニウ
ム、クロム、亜鉛などの単体や２種以上からなる合金を
成膜する方法などを用いることができるが、これらの方
法になんら制限されるものではない。

【００３６】

【実施例】つぎに、本発明を実施例により、さらに具体
的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定され
るものではない。

【００３７】実施例１厚さ１２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレ―ト（Ｐ
ＥＴ）フイルムの片面に、低屈折率透明薄膜として反応
性パルスＤＣスパツタリング法によりＳｉＯ₂を形成
し、その面上にＤＣマグネトロンスパツタ法により高屈
折率透明薄膜および銀系透明導電体膜を１単位として３
〜５単位を順次形成し、その面上に高屈折率透明薄膜を
形成し、さらに反応性パルスＤＣスパツタリング法によ
りＳｉＯ₂を形成する手法により、サンプル（１）〜
（３）の透明積層体を作製した。ここで、低屈折率透明
薄膜を形成するタ―ゲツト材料には、Ｓｉを使用し、高
屈折率透明薄膜を形成するタ―ゲツト材料には、Ｉｎ₂
Ｏ₃−１２．６重量％ＴｉＯ₂（以下、ＩＴと略記）を
使用し、銀系透明導電体膜を形成するタ―ゲツト材料に
は、Ａｇ−５重量％Ａｕ（以下、Ａｇと略記）を使用し
た。

【００３８】上記のサンプル（１）〜（３）の透明積層
体において、ＳｉＯ₂の屈折率ｎ_LとＩＴの屈折率ｎ_H
の波長５５０ｎｍにおける屈折率を、分光エリプソメ―
タで測定したところ、つぎのとおりであつた。ｎ_L＝１．４６（消衰係数＝０）ｎ_H＝２．０２（消衰係数＝０．０１０２）この結果をもとに、上記のサンプル（１）〜（３）の透
明積層体について、本発明にしたがつて、各膜の厚さを
算出したところ、下記の（）内に示されるとおりであ
つた。数値の単位は、ｎｍである。サンプル（１）：PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(14)/IT(68)/
Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/SiO₂(188) サンプル（２）：PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(14)/IT(68)/
Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/SiO₂(18
8) サンプル（３）：PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(14)/IT(68)/
Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/I
T(34)/SiO₂(188)

【００３９】実施例２実施例１と同様の手法で、ＰＥＴフイルム上にＳｉＯ₂
を形成し、その面上にＩＴとＡｇを１単位として３単位
を順次積層し、その面上にＩＴを形成し、さらにその面
上に市販の反射防止フイルム（日本油脂社製の商品名
「リアルツク２２０１」）を透明粘着剤層を介してロ―
ルラミネ―タにより直接貼り合わせて、サンプル（４）
の透明積層体を作製した。この透明積層体は、最外層の
ＳｉＯ₂に代えて反射防止フイルムを貼り合わせる構成
とした以外は、実施例１のサンプル（１）の透明積層体
と同じ構成である。各膜の厚さは、下記の（）内に示
されるとおり（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（４）：PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(14)/IT(68)/
Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/透明粘着剤層／反射防止
フイルム

【００４０】比較例１実施例１と同様の手法で、ＰＥＴフイルム上にＳｉＯ₂
を形成し、その面上にＩＴとＡｇを１単位として３単位
を順次積層し、その面上にＩＴを形成し、さらにその面
上にＳｉＯ₂を形成して、サンプル（５）の透明積層体
を作製した。この透明積層体は、Ａｇ層の厚さが本発明
の範囲から外れている。各膜の厚さは、下記の（）内
に示されるとおり（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（５）：PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(10)/IT(68)/
Ag(15)/IT(68)/Ag(10)/IT(34)/SiO₂(188)

【００４１】比較例２実施例１と同様の手法で、ＰＥＴフイルム上にＳｉＯ₂
を形成し、その面上にＩＴとＡｇを１単位として３単位
を順次積層し、その面上にＩＴを形成し、さらにその面
上にＳｉＯ₂を形成して、サンプル（６）の透明積層体
を作製した。この透明積層体は、ＩＴ層の厚さが本発明
の範囲から外れている。各膜の厚さは、下記の（）内
に示されるとおり（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（６）：PET/SiO₂(94)/IT(68)/Ag(14)/IT(68)/
Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(68)/SiO₂(188)

【００４２】比較例３実施例１と同様の手法で、ＰＥＴフイルム上にＳｉＯ₂
を形成し、その面上にＩＴとＡｇを１単位として３単位
を順次積層し、その面上にＩＴを形成し、さらにその面
上にＳｉＯ₂を形成して、サンプル（７）の透明積層体
を作製した。このサンプル（７）の透明積層体は、ＰＥ
Ｔフイルムに隣接するＳｉＯ₂層の厚さが本発明の範囲
から外れている。各膜の厚さは、下記の（）内に示さ
れるとおり（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（７）：PET/SiO₂(188)/IT(68)/Ag(14)/IT(68)
/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(68)/SiO₂(188)

【００４３】比較例４実施例１と同様の手法で、ＰＥＴフイルム上にＳｉＯ₂
を形成し、その面上にＩＴとＡｇを１単位として３単位
を順次積層し、その面上にＩＴを形成して、サンプル
（８）の透明積層体を作製した。このサンプル（８）の
透明積層体は、最外層のＳｉＯ₂層が形成されていない
以外は、実施例１のサンプル（１）の透明積層体と同じ
構成である。各膜の厚さは、下記の（）内に示される
とおり（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（８）：PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(14)/IT(68)/
Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)

【００４４】比較例５実施例１と同様の手法で、ＰＥＴフイルム上にＩＴとＡ
ｇを１単位として３単位を順次積層し、その面上にＩＴ
を形成し、さらにその面上にＳｉＯ₂を形成して、サン
プル（９）の透明積層体を作製した。このサンプル
（９）の透明積層体は、ＰＥＴフイルムに隣接するＳｉ
Ｏ₂層が形成されていない以外は、実施例１のサンプル
（１）の透明積層体と同じ構成である。各膜の厚さは、
下記の（）内に示されるとおり（数値の単位はｎｍ）
であつた。サンプル（９）：PET/IT((34)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/I
T(68)/Ag(14)/IT(34)/SiO₂(188)

【００４５】上記のサンプル（１）の透明積層体につい
て、光学特性を表わす可視光透過スペクトルと可視光反
射スペクトルを調べ、これを図４に示した。この図４か
ら明らかなように、上記の透明積層体は、可視光の波長
領域に透過性を有し、波長８００ｎｍ以上の近赤外線
（ＩＲ）はカツトする特性が得られており、人間の目に
おいて最も視感度が強い波長５５０ｎｍ付近の可視光反
射率が最も低くなるように設計されていることがわか
る。

【００４６】つぎに、上記のサンプル（１）〜（９）の
透明積層体について、ＰＤＰ用フイルタとしての特性を
調べ、これを表１に示した。表１中、表面抵抗値は、最
表面のＳｉＯ₂を成膜していない状態で三菱油化製（Ｌ
ｏｒｅｓｔｅｒＳＰ）を用いて測定した。また、光学特
性は、日立製作所製の「Ｕ−３４１０」を用いて測定
し、とくに反射率の測定は、薄膜が形成されていない面
を黒色塗装して行つた。得られた透過および反射スペク
トルから、ＪＩＳＲ−３０１６にしたがつて、可視光
透過率と可視光反射率を算出した。さらに、ＩＲカツト
率（％）は、波長８００〜１，２００ｎｍの近赤外線の
カツト率を示した。また、耐擦傷性試験は、＃００００
スチ―ルウ―ルを２５０ｇ／cm²の荷重で１０回擦り、
表面の傷の程度を目視により観察して、傷なしを〇、傷
ありを×として、評価した。

【００４７】

【００４８】上記の表１の結果から明らかなように、本
発明にしたがつて作製した実施例１のサンプル（１）〜
（３）の各透明積層体ならびに実施例２のサンプル
（４）の透明積層体は、いずれも、ＰＤＰ用フイルタと
して一般的に要求される電磁波シ―ルド性、ＩＲカツト
性、可視光透過性、可視光低反射性および表面耐擦傷性
を同時に満足するものであることがわかる。

【００４９】なお、実施例１のサンプル（１）〜（３）
の透明積層体において、銀系透明導電体膜の層数が４層
または５層となるサンプル（２），（３）の方が、上記
層数が３層となるサンプル（１）に比べて、表面抵抗が
低くなり、好適であるが、同時に可視光透過率が低下し
ている。製造工程やコストの点からすると、一般的にＰ
ＤＰ用フイルタの電磁波シ―ルドに要求される表面抵抗
（３Ω／□以下）を満足できるサンプル（１）の方がよ
り好ましい。また、実施例２のサンプル（４）の透明積
層体は、可視光反射率が２．８％とやや大きくなつてい
るが、これは、使用した反射防止フイルムが単層タイプ
のものであつて、それ自体の可視光反射率が１．３％で
あることに起因する。よつて、多層タイプの低反射防止
フイルムを使用すれば、さらなる低反射化が可能であ
る。

【００５０】これに対し、比較例１のサンプル（５）の
透明積層体は、表面抵抗が高くＩＲカツト率が低く、Ｐ
ＤＰ用フイルタに要求される特性を満足しないばかり
か、可視光反射率が高くなつた。また、比較例２のサン
プル（６）の透明積層体は、可視光透過率、とくに４８
０ｎｍ付近の透過率が大きく低下し、しかも可視光反射
率が１９．１％とあまりに大きく、ＰＤＰ用フイルタと
して応用できるものではなかつた。さらに、比較例３の
サンプル（７）の透明積層体は、可視光反射率が４．６
％と高く、満足できるものではなかつた。

【００５１】また、比較例４のサンプル（８）の透明積
層体は、サンプル（１）の透明積層体と同等の表面抵抗
を示し、可視光透過率や可視光反射率もすぐれている
が、耐擦傷性に乏しかつた。このサンプル（８）の透明
積層体は、耐擦傷性に乏しい銀系透明導電体膜の面上に
僅か３４ｎｍのＩＴ膜が形成されているだけであるた
め、耐擦傷性試験後に著しい傷がフイルタ表面に認めら
れた。したがつて、このフイルタが最表面になるような
構成では使用できるものではなかつた。さらに、比較例
５のサンプル（９）の透明積層体は、耐擦傷性は満足す
るが、可視光反射率が高く、ＰＤＰ用フイルタとして適
したものではなかつた。

【００５２】実施例３厚さ１２５μｍのＰＥＴフイルム上に、低屈折率透明薄
膜材料として屈折率が１．３６のフツ素系熱硬化型高分
子材料（日産化学社製の商品名「ＬＲ−２０１」）をグ
ラビア塗工し、その面上にＩＴとＡｇを１単位として３
単位を順次積層し、その面上にＩＴを形成し、さらにそ
の面上に反応性パルスＤＣスパツタリング法でＳｉＯ₂
を形成して、サンプル（１０）の透明積層体を作製し
た。各膜の厚さは、下記の（）内に示されるとおり
（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（１０）： PET/LR-201(101)/IT(34)/Ag(14)/I
T(68)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/SiO₂(188)

【００５３】実施例４厚さ１２５μｍのＰＥＴフイルム上に、反応性パルスＤ
Ｃスパツタリング法でＳｉＯ₂を形成し、その面上にＩ
ＴとＡｇを１単位として３単位を順次積層し、その面上
にＩＴを形成し、さらにその面上に屈折率１．５０のア
クリル系紫外線硬化型ハ―ドコ―ト材料（ＪＳＲ社製の
商品名「Ｚ７５０１」）をグラビア塗工して、サンプル
（１１）の透明積層体を作製した。各膜の厚さは、下記
の（）内に示されるとおり（数値の単位はｎｍ）であ
つた。サンプル（１１）： PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(14)/IT(6
8)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/Z7501(183)

【００５４】比較例６厚さ１２５μｍのＰＥＴフイルム上に、真空蒸着法によ
り屈折率２．３６のＴｉＯ₂を形成し、その面上にＩＴ
とＡｇを１単位として３単位を順次積層し、その面上に
ＩＴを形成し、さらにその面上に反応性パルスＤＣスパ
ツタリング法でＳｉＯ₂を形成して、サンプル（１２）
の透明積層体を作製した。各膜の厚さは、下記の（）
内に示されるとおり（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（１２）： PET/TiO₂(58)/IT(34)/Ag(14)/IT(6
8)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/SiO₂(188)

【００５５】比較例７厚さ１２５μｍのＰＥＴフイルム上に、反応性パルスＤ
Ｃスパツタリング法でＳｉＯ₂を形成し、その面上にＩ
ＴとＡｇを１単位として３単位を順次積層し、その面上
にＩＴを形成し、さらにその面上に真空蒸着法により屈
折率２．３６のＴｉＯ₂を形成して、サンプル（１３）
の透明積層体を作製した。各膜の厚さは、下記の（）
内に示されるとおり（数値の単位はｎｍ）であつた。サンプル（１３）： PET/SiO₂(94)/IT(34)/Ag(14)/IT(6
8)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/TiO₂(115)

【００５６】比較例８厚さ１２５μｍのＰＥＴフイルム上に、真空蒸着法にて
屈折率２．３６のＴｉＯ₂を形成し、その面上にＩＴと
Ａｇを１単位として３単位を順次積層し、その面上にＩ
Ｔを形成し、さらにその面上にＴｉＯ₂を形成して、サ
ンプル（１４）の透明積層体を作製した。各膜の厚さ
は、下記の（）内に示されるとおり（数値の単位はｎ
ｍ）であつた。サンプル（１４）： PET/TiO₂(58)/IT(34)/Ag(14)/IT(6
8)/Ag(14)/IT(68)/Ag(14)/IT(34)/TiO₂(115)

【００５７】上記のサンプル（１０）〜（１４）の透明
積層体について、前記の場合と同様にして、ＰＤＰ用フ
イルタとしての特性を調べた。これらの結果は、下記の
表２に示されるとおりであつた。

【００５８】

【００５９】上記の実施例３のサンプル（１０）および
実施例４のサンプル（１１）の両透明積層体は、ＰＥＴ
面に隣接する低屈折率透明薄膜または最外層の低屈折率
透明薄膜の種類、形成法を変更したものであるが、その
屈折率が本発明の範囲内であるため、本発明にしたがつ
て各膜の厚さを決定することにより、表２に示されると
おり、一般的にＰＤＰ用フイルタに要求される特性を満
足するフイルタが得られるものであることがわかる。ま
た、この結果から、屈折率が本発明の範囲内であれば、
たとえば、基材フイルムとの密着性のよい材料や、表面
耐擦傷性と防汚染性を兼ね備えた材料なども好適に使用
できることがわかる。

【００６０】これに対し、比較例６のサンプル（１２）
および比較例７のサンプル（１３）の両透明積層体は、
ＰＥＴ面に隣接する低屈折率透明薄膜または最外層の低
屈折率透明薄膜を、本発明の範囲から外れた高屈折率透
明薄膜であるＴｉＯ₂膜に置き換えたものであるが、そ
の場合、表２に示されるとおり、可視光透過率の低下と
可視光反射率の著しい増加がみられ、ＰＤＰ用フイルタ
としてもはや応用できるものではなかつた。また、比較
例８のサンプル（１４）の透明積層体は、ＰＥＴ面に隣
接する低屈折率透明薄膜および最外層の低屈折率透明薄
膜の両方を高屈折率透明薄膜であるＴｉＯ₂膜に置き換
えた場合であるが、屈折率が本発明の範囲から外れてい
るため、表２に示されるとおり、可視光透過率の低下と
可視光反射率の著しい増加が認められた。

【００６１】実施例５実施例１のサンプル（１）の透明積層体において、最外
層のＳｉＯ₂膜表面に、防汚染材料としてパ―フルオロ
アルキル基を有するシランカツプリング剤（信越化学社
製の商品名「ＫＰ８０１Ｍ」）を用いて、グラビア塗工
法により厚さが約８ｎｍの防汚染層を形成して、サンプ
ル（１５）の透明積層体を作製した。この透明積層体の
表面は、水に対して１１５°の接触角を有する撥水性に
すぐれたものであり、表面に付着した指紋や汚れを容易
に拭き取ることができた。また、この防汚染層を形成し
た透明積層体の光学特性は、サンプル（１）の透明積層
体と全く同じ透過および反射スペクトルを示し、防汚染
層の形成による光学特性の変化がないことも確認され
た。

【００６２】実施例６実施例５のサンプル（１５）の透明積層体において、Ｐ
ＥＴフイルムの裏面に、固形分２０重量％のアクリル系
の粘着剤溶液を塗布し、１５０℃で５分間乾燥して、厚
さ１００μｍ、弾性率１．０×１０⁶dyn ／cm²の透明
粘着剤層を形成した。ただし、この例では、サンプル
（１５）の透明積層体を作製する際に、最外層のＳｉＯ
₂は、電磁波シ―ルド効果をあげるためのア―ス電極を
形成するため、周縁部にマスクをしてＳｉＯ₂が形成さ
れないようにした。また、ア―ス電極は、市販の導電ペ
―スト（三井化学社製の「ＭＳＰ−６００Ｆ」）を塗布
する方式により形成し、ＰＤＰ用フイルタを作製した。
このＰＤＰ用フイルタを、ロ―ルラミネ―タにて、ＰＤ
Ｐ前面表示ガラス部に直接貼り合わせて、ＰＤＰ表示装
置を作製した。このＰＤＰ表示装置は、ＰＤＰの特徴で
ある薄型、軽量という長所を損なうことなく、しかも外
光の映り込み、二重映りなどが十分に抑制されており、
視認性にすぐれたものであつた。また、電磁波シ―ル
ド、近赤外線カツト、表面耐擦傷性なども、サンプル
（１５）の透明積層体の特性がそのまま反映された、良
好なものであつた。

【００６３】実施例７実施例６で作製した透明粘着剤層およびア―ス電極を有
するＰＤＰ用フイルタを、ロ―ルラミネ―タにて、厚さ
３mmのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン社製の商品名「アクリ
ライト」）の一方の主面上に貼り合わせた。さらに、そ
の逆の面に市販のアンチグレアフイルム（きもと社製の
「ＫＢ−Ｎ０５Ｓ」）を厚さ２５μｍの透明粘着剤層
（粘着剤は実施例６で使用したものと同じ）を介して貼
り合わせ、アンチグレアフイルムがＰＤＰ表示装置の前
面側に相対するように設置されるＰＤＰ用前面板を作製
した。これにより、サンプル（１）の透明積層体の特性
がそのまま反映された、またアンチグレア層により二重
映りが抑制されたＰＤＰ用前面板が得られた。ただし、
アンチグレア層のため、ヘイズが上昇した。

【００６４】

【発明の効果】本発明の透明積層体によれば、低屈折率
透明薄膜、高屈折率透明薄膜および銀系透明導電体膜を
積層する際に、特定の光学的設計を行うことにより、と
くにＰＤＰが必要とする電磁波シ―ルド特性、近赤外線
カツト特性、可視光透過特性、可視光低反射特性に加え
て、表面擦傷性をも同時に満足するＰＤＰ用フイルタを
提供することができる。また、本発明においては、この
ＰＤＰ用フイルタをＰＤＰ表示装置の前面ガラス板に直
接貼り合わせて用いても、また前面板として透明成形体
に貼り合わせて用いても、好適に使用でき、いずれの場
合も、光学特性にすぐれたＰＤＰ表示装置を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の透明積層体の一例を示す断面図であ
る。

【図２】本発明のプラズマデイスプレイパネル用フイル
タの一例を示す断面図である。

【図３】上記プラズマデイスプレイパネル用フイルタの
別の例を示す断面図である。

【図４】実施例１のサンプル（１）の透明積層体の光学
特性を示す特性図である。

【符合の説明】

１透明基体２Ａ，２Ｂ低屈折率透明薄膜３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ高屈折率透明薄膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃ銀系透明導電体膜５防汚染層６，７透明粘着剤層８反射防止フイルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者稗田嘉弘大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内 (72)発明者宮内和彦大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基体の表面に、低屈折率透明薄膜が
形成され、その面上に高屈折率透明薄膜と銀系透明導電
体膜を１単位としてｎ単位（３≦ｎ≦５）が順次積層さ
れ、その面上に高屈折率透明薄膜が形成され、さらにそ
の面上に低屈折率透明薄膜が形成されている積層体であ
つて、低屈折率透明薄膜はその屈折率ｎ_lが１．３〜
１．６の範囲で光学的透明性を有する膜であり、高屈折
率透明薄膜はその屈折率ｎ_Hが１．９〜２．５の範囲で
光学的透明性を有する膜であることを特徴とする透明積
層体。
【請求項２】光学中心波長をλ＝５５０ｎｍとしたと
き、透明基体の表面上の低屈折率透明薄膜の厚さが１×
（λ／４ｎ_L）、最外層の低屈折率透明薄膜の厚さが２
×（λ／４ｎ_L）であり、低屈折率透明薄膜に隣接する
高屈折率透明薄膜の厚さが（１／２）×（λ／４
ｎ_H）、銀系透明導電体膜で挟まれた高屈折率透明薄膜
の厚さが１×（λ／４ｎ_H）であり、銀系透明導電体膜
の厚さが（１／５）×（λ／４ｎ_H）×（ｎ_H−１）で
ある請求項１に記載の透明積層体。
【請求項３】低屈折率透明薄膜、高屈折率透明薄膜、
銀系透明導電体膜それぞれの厚さ変化が±２０％の範囲
内である請求項２に記載の透明積層体。
【請求項４】最外層の低屈折率透明薄膜を形成する代
わりに、透明基体から最も離れた高屈折率透明薄膜の面
上に、透明粘着剤層を介して反射防止フイルム、映り込
み防止フイルムまたは低反射映り込み防止フイルムを貼
り合わせてなる請求項１〜３のいずれかに記載の透明積
層体。
【請求項５】高屈折率透明薄膜が、酸化インジウム、
酸化錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化亜鉛、酸化タンタル、五酸化ニオブ、硫化亜鉛
よりなる群から選ばれる１または２以上の化合物からな
る薄膜である請求項１〜３のいずれかに記載の透明積層
体。
【請求項６】銀系透明導電体膜が９０重量％以上の銀
と、金、銅、パラジウム、白金、マンガン、カドミウム
から選択された１つまたは２つ以上の元素により構成さ
れた薄膜である請求項１〜３のいずれかに記載の透明積
層体。
【請求項７】可視光透過率が５０％以上、可視光反射
率が５％以下、表面抵抗が３Ω／□以下、８００ｎｍよ
り長波長域の近赤外線カツト率が８０％以上である請求
項１〜６のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項８】最外層の低屈折率透明薄膜の表面に、厚
さ１０ｎｍ以下の防汚染層が形成されている請求項１〜
３のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項９】請求項１〜８のいずれかに記載の透明積
層体を用いたプラズマデイスプレイパネル用フイルタ。
【請求項１０】透明積層体の裏面に、厚さ１０〜５０
０μｍの透明粘着剤層が形成されている請求項９に記載
のプラズマデイスプレイパネル用フイルタ。
【請求項１１】プラズマデイスプレイパネルの前面表
示ガラス部に、請求項１０に記載のフイルタを透明粘着
剤層を介して直接貼り合わせてなるプラズマデイスプレ
イパネル表示装置。
【請求項１２】プラズマデイスプレイパネルの前面側
に、空気層を介して設置される透明成形体のプラズマデ
イスプレイパネル側と逆の面に、請求項１０に記載のフ
イルタを透明粘着剤層を介して貼り合わせてなるプラズ
マデイスプレイパネル用前面板。
【請求項１３】プラズマデイスプレイパネルの前面側
に、空気層を介して設置される透明成形体のプラズマデ
イスプレイパネル側に、アンチグレア層もしくはアンチ
ニユ―トンリング層を直接形成、もしくは透明フイルム
上に形成し、透明粘着剤層を介して貼り合わせてなる請
求項１２に記載のプラズマデイスプレイパネル用前面
板。