JPH1173119A - 電磁波シールド効果を有する反射防止コート及び反射防止コートを有する光学部材 - Google Patents
電磁波シールド効果を有する反射防止コート及び反射防止コートを有する光学部材Info
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- JPH1173119A JPH1173119A JP9269204A JP26920497A JPH1173119A JP H1173119 A JPH1173119 A JP H1173119A JP 9269204 A JP9269204 A JP 9269204A JP 26920497 A JP26920497 A JP 26920497A JP H1173119 A JPH1173119 A JP H1173119A
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オフィスオートメーション機器、テレビのブ
ラウン管や他の機器などから発生する電磁波を有効に遮
蔽することができ、視界を妨げることがなく、目の疲労
を少なくすることができる電磁波低減反射防止コート及
び該電磁波低減反射防止コート付光学部材を提供するこ
と。 【解決手段】 透光性金属薄膜層を含む３層以上の透光
性薄膜層で構成されているか、あるいは、１０００Å以
上の膜厚または１００Ω／□以下のシート抵抗率を有す
る透明導電性層と２層以上の他の透光性薄膜層で構成さ
れている電磁波低減反射防止コート及び該電磁波低減反
射防止コートを有する光学製品。
ラウン管や他の機器などから発生する電磁波を有効に遮
蔽することができ、視界を妨げることがなく、目の疲労
を少なくすることができる電磁波低減反射防止コート及
び該電磁波低減反射防止コート付光学部材を提供するこ
と。 【解決手段】 透光性金属薄膜層を含む３層以上の透光
性薄膜層で構成されているか、あるいは、１０００Å以
上の膜厚または１００Ω／□以下のシート抵抗率を有す
る透明導電性層と２層以上の他の透光性薄膜層で構成さ
れている電磁波低減反射防止コート及び該電磁波低減反
射防止コートを有する光学製品。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電磁波シールド効果を
有する反射防止コ一ト及び反射防止コ一ト付光学部材に
関する。
有する反射防止コ一ト及び反射防止コ一ト付光学部材に
関する。
【０００２】
【発明の背景】近年、オフィスオートメーション機器、
テレビのブラウン管やその他の機器などから放射される
電磁波の身体に及ぼす悪影響、他の機器への障害が問題
となっている。
テレビのブラウン管やその他の機器などから放射される
電磁波の身体に及ぼす悪影響、他の機器への障害が問題
となっている。
【０００３】これら電磁波による影響を避けるために従
来行われていた方法は、金網などの向こう側が見える導
電物で覆うことであった。
来行われていた方法は、金網などの向こう側が見える導
電物で覆うことであった。
【０００４】しかしながら、オフィスオートメーション
機器、テレビのブラウン管をこれら導電物で覆った場
合、金網などを構成する細線でブラウン管画面が見にく
くなり、使用者の目が疲れるという問題があった。ま
た、住宅、自動車の窓に用いた場合は、金網などを構成
する細線で視界がさえぎられるという問題があった。
機器、テレビのブラウン管をこれら導電物で覆った場
合、金網などを構成する細線でブラウン管画面が見にく
くなり、使用者の目が疲れるという問題があった。ま
た、住宅、自動車の窓に用いた場合は、金網などを構成
する細線で視界がさえぎられるという問題があった。
【０００５】
【発明の目的】従って、本発明の目的は、オフィスオー
トメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器など
から発生する電磁波を有効に遮蔽することができ、視界
を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることができ
る電磁波低減反射防止コート及び電磁波低減反射防止コ
ート付光学部材を提供することにある。
トメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器など
から発生する電磁波を有効に遮蔽することができ、視界
を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることができ
る電磁波低減反射防止コート及び電磁波低減反射防止コ
ート付光学部材を提供することにある。
【０００６】
【発明の構成】上記本発明の目的は、 （１）基板上に形成される反射防止コートであって、少
なくとも１層の透光性金属薄膜層を含む３層以上の透光
性薄膜層で構成されていることを特徴とする電磁波低減
反射防止コート。 （２）基板と基板に最も近い透光性金属薄膜層との間、
および、基板からみて基板から最も離れた位置にある透
光性金属薄膜層よりも更に離れた位置に反射防止コート
を構成する層が少なくとも１層あることを特徴とする上
記（１）に記載の電磁波低減反射防止コート。 （３）透光性金属薄膜層が複数の層で構成されているこ
とを特徴とする上記（１）または（２）に記載の電磁波
低減反射防止コート。 （４）透光性金属薄膜層が、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｏ、
Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｕから選ばれた少なくとも１つの金属で
構成されていることを特徴とする上記（１）〜（３）の
いずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （５）透光性金属薄膜層の、基板からみて遠い側に、高
屈折率の透光性薄膜層が形成されていることを特徴とす
る上記（１）〜（４）のいずれかに記載の電磁波低減反
射防止コート。 （６）高屈折率の透光性薄膜層に挟まれて透光性金属薄
膜層が設けられていることを特徴とする上記（１）〜
（５）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （７）透光性金属薄膜層に接して少なくとも１層の透明
導電性層が設けられていることを特徴とする上記（１）
〜（６）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コー
ト。 （８）透光性金属薄膜層のシート抵抗率が１００Ω／□
以下であることを特徴とする上記（１）〜（７）のいず
れかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （９）透光性金属薄膜層の膜厚が３００Å以下であるこ
とを特徴とする上記（８）に記載の電磁波低減反射防止
コート。 （１０）透光性金属薄膜層の膜厚が２００Å以下である
ことを特徴とする上記（８）または（９）に記載の電磁
波低減反射防止コート。 （１１）基板上に形成される反射防止コートであって、
反射防止コートが少なくとも１層の膜厚１０００Å以上
の透明導電性層と２層以上の他の透光性薄膜層で構成さ
れていることを特徴とする電磁波低減反射防止コート。 （１２）基板上に形成される反射防止コートであって、
反射防止コートが少なくとも１層のシート抵抗率が１０
０Ω／□以下である透明導電性層と２層以上の他の透光
性薄膜層で構成されていることを特徴とする電磁波低減
反射防止コート。 （１３）透明導電性層の両側に、それぞれ、少なくとも
１層の反射防止コートを構成する層が設けられているこ
とを特徴とする上記（１１）または（１２）に記載の電
磁波低減反射防止コート。 （１４）透明導電性層の基板から見て遠い側に、透明導
電性層の屈折率よりも低い屈折率の透光性薄膜層が形成
されていることを特徴とする上記（１１）〜（１３）の
いずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （１５）透明導電性層の基板側に、透明導電性層の屈折
率と、基板から見て遠い側に設けられた透明導電性層の
屈折率よりも低い屈折率の透光性薄膜層の屈折率との間
の屈折率を有する透光性薄膜層が形成されていることを
特徴とする上記（１４）に記載の電磁波低減反射防止コ
ート。 （１６）透明導電性層の両側に、それぞれ、該層の屈折
率よりも低い屈折率の透光性薄膜層が形成されているこ
とを特徴とする上記（１１）〜（１３）のいずれかに記
載の電磁波低減反射防止コート。 （１７）透明導電性層が酸化インジュウムとスズを含む
層であることを特徴とする上記（１１）〜（１６）のい
ずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （１８）基板上に、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率
の透光性薄膜層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率層
の透光性薄膜層が順次形成される反射防止コートであっ
て、高屈折率の透光性薄膜層の少なくとも１層が、膜厚
１０００Å以上の透明導電性層で構成されていることを
特徴とする電磁波低減反射防止コート。 （１９）基板上に、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率
の透光性薄膜層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率層
の透光性薄膜層が順次形成される反射防止コートであっ
て、高屈折率の透光性薄膜層の少なくとも１層が、シー
ト抵抗率が１００Ω／□以下の透明導電性層であること
を特徴とする電磁波低減反射防止コート。 （２０）基板上に、低屈折率層の透光性薄膜層、高屈折
率の透光性薄膜層、低屈折率の透光性薄膜層、高屈折率
の透光性薄膜層、低屈折率層の透光性薄膜層が順次形成
される反射防止コートであって、高屈折率の透光性薄膜
層の少なくとも１層が、膜厚１０００Å以上の透明導電
性層で構成されていることを特徴とする電磁波低減反射
防止コート。 （２１）基板上に、低屈折率層の透光性薄膜層、高屈折
率の透光性薄膜層、低屈折率の透光性薄膜層、高屈折率
の透光性薄膜層、低屈折率層の透光性薄膜層が順次形成
される反射防止コートであって、高屈折率の透光性薄膜
層の少なくとも１層が、シート抵抗率が１００Ω／□以
下の透明導電性層であることを特徴とする電磁波低減反
射防止コート。 （２２）プラスチックよりなる光学部材上に、上記
（１）〜（２１）のいずれかに記載の電磁波低減反射防
止コートを形成したことを特徴とする光学部材。 （２３）プラスチックよりなる光学部材が、７０℃以上
の耐熱性を有する材料により構成されていることを特徴
とする上記（２２）に記載の光学部材。 （２４）ガラスよりなる光学部材上に、上記（１）〜
（２１）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート
を形成したことを特徴とする光学部材。 （２５）フィルム状光学部材上に、上記（１）〜（２
１）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コートを形
成したことを特徴とする光学部材。 （２６）フィルム状光学部材が偏光機能を有しているこ
とを特徴とする上記（２５）に記載の光学部材。 （２７）光学部材と電磁波低減反射防止コートとの間に
ハードコート層が設けられていることを特徴とする上記
（２２）〜（２５）のいずれかに記載の光学部材。 （２８）電磁波低減反射防止コート上に、ハードコート
層を設けたことを特徴とする上記（２２）〜（２７）の
いずれかに記載の光学部材。 （２９）上記（２２）〜（２８）のいずれかに記載の光
学部材を他の光学部材と接合してなることを特徴とする
光学部材。 （３０）他の光学部材と接合して使用される光学部材で
あって、他の光学部材と接合される側の光学面に導電性
層を含む電磁波低減反射防止コートが形成されているこ
とを特徴とする光学部材。 （３１）導電性層が膜厚１０００Å以上の透明導電性層
であり、電磁波低減反射防止コートが形成されている光
学部材側の第１層は、屈折率が、光学部材の屈折率＜第
１層の屈折率＜透明導電性層の屈折率の条件を満足する
透光性薄膜層であることを特徴とする上記（３０）に記
載の光学部材。 （３２）導電性層が膜厚１０００Å以上の透明導電性層
であり、光学部材から最も離れた層の屈折率が、最も離
れた層に接する他の光学部材側の材料の屈折率＜最も離
れた層の屈折率＜透明導電性層の屈折率の条件を満足す
る透光性薄膜層であることを特徴とする上記（３０）に
記載の光学部材。 （３３）導電性層が、少なくとも酸化インジウムを含む
透明層であることを特徴とする上記（３１）または（３
２）に記載の光学部材。 （３４）導電性層が、少なくとも酸化インジウムとスズ
を含む透明層であることを特徴とする上記（３１）また
は（３２）に記載の光学部材。 （３５）導電性層が透光性金属薄膜層であり、電磁波低
減反射防止コートが形成されている光学部材側の第１層
は、屈折率が、光学部材の屈折率＜第１層の屈折率の条
件を満足する透光性薄膜層であることを特徴とする上記
（３０）に記載の光学部材。 （３６）導電性層が透光性金属薄膜層であり、光学部材
から最も離れた層は、屈折率が、最も離れた層に接する
他の光学部材側の材料の屈折率＜最も離れた層の屈折率
の条件を満足する透光性薄膜層であることを特徴とする
上記（３０）に記載の光学部材。 （３７）透光性金属薄膜層が少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃ
ｕ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｃｏ、Ａｌのいずれかの金属を含む層
であることを特徴とする上記（３５）または（３６）に
記載の光学部材。 （３８）導電性層のシート抵抗が１００Ω／□以下であ
ることを特徴とする上記（３０）〜（３７）のいずれか
に記載の光学部材。 （３９）光学部材がフィルムで構成されていることを特
徴とする上記（３０）〜（３８）のいずれかに記載の光
学部材。 （４０）フィルムが偏光機能を有していることを特徴と
する上記（３９）記載の光学部材。 （４１）光学部材または他の光学部材の少なくとも一方
がポリカーボネートで構成されていることを特徴とする
上記（２９）〜（４０）のいずれかに記載の光学部材。 （４２）上記（３９）または（４０）の光学部材を光学
レンズの間に挟みこんでなる光学レンズ。 によって達成される。
なくとも１層の透光性金属薄膜層を含む３層以上の透光
性薄膜層で構成されていることを特徴とする電磁波低減
反射防止コート。 （２）基板と基板に最も近い透光性金属薄膜層との間、
および、基板からみて基板から最も離れた位置にある透
光性金属薄膜層よりも更に離れた位置に反射防止コート
を構成する層が少なくとも１層あることを特徴とする上
記（１）に記載の電磁波低減反射防止コート。 （３）透光性金属薄膜層が複数の層で構成されているこ
とを特徴とする上記（１）または（２）に記載の電磁波
低減反射防止コート。 （４）透光性金属薄膜層が、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｏ、
Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｕから選ばれた少なくとも１つの金属で
構成されていることを特徴とする上記（１）〜（３）の
いずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （５）透光性金属薄膜層の、基板からみて遠い側に、高
屈折率の透光性薄膜層が形成されていることを特徴とす
る上記（１）〜（４）のいずれかに記載の電磁波低減反
射防止コート。 （６）高屈折率の透光性薄膜層に挟まれて透光性金属薄
膜層が設けられていることを特徴とする上記（１）〜
（５）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （７）透光性金属薄膜層に接して少なくとも１層の透明
導電性層が設けられていることを特徴とする上記（１）
〜（６）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コー
ト。 （８）透光性金属薄膜層のシート抵抗率が１００Ω／□
以下であることを特徴とする上記（１）〜（７）のいず
れかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （９）透光性金属薄膜層の膜厚が３００Å以下であるこ
とを特徴とする上記（８）に記載の電磁波低減反射防止
コート。 （１０）透光性金属薄膜層の膜厚が２００Å以下である
ことを特徴とする上記（８）または（９）に記載の電磁
波低減反射防止コート。 （１１）基板上に形成される反射防止コートであって、
反射防止コートが少なくとも１層の膜厚１０００Å以上
の透明導電性層と２層以上の他の透光性薄膜層で構成さ
れていることを特徴とする電磁波低減反射防止コート。 （１２）基板上に形成される反射防止コートであって、
反射防止コートが少なくとも１層のシート抵抗率が１０
０Ω／□以下である透明導電性層と２層以上の他の透光
性薄膜層で構成されていることを特徴とする電磁波低減
反射防止コート。 （１３）透明導電性層の両側に、それぞれ、少なくとも
１層の反射防止コートを構成する層が設けられているこ
とを特徴とする上記（１１）または（１２）に記載の電
磁波低減反射防止コート。 （１４）透明導電性層の基板から見て遠い側に、透明導
電性層の屈折率よりも低い屈折率の透光性薄膜層が形成
されていることを特徴とする上記（１１）〜（１３）の
いずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （１５）透明導電性層の基板側に、透明導電性層の屈折
率と、基板から見て遠い側に設けられた透明導電性層の
屈折率よりも低い屈折率の透光性薄膜層の屈折率との間
の屈折率を有する透光性薄膜層が形成されていることを
特徴とする上記（１４）に記載の電磁波低減反射防止コ
ート。 （１６）透明導電性層の両側に、それぞれ、該層の屈折
率よりも低い屈折率の透光性薄膜層が形成されているこ
とを特徴とする上記（１１）〜（１３）のいずれかに記
載の電磁波低減反射防止コート。 （１７）透明導電性層が酸化インジュウムとスズを含む
層であることを特徴とする上記（１１）〜（１６）のい
ずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 （１８）基板上に、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率
の透光性薄膜層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率層
の透光性薄膜層が順次形成される反射防止コートであっ
て、高屈折率の透光性薄膜層の少なくとも１層が、膜厚
１０００Å以上の透明導電性層で構成されていることを
特徴とする電磁波低減反射防止コート。 （１９）基板上に、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率
の透光性薄膜層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率層
の透光性薄膜層が順次形成される反射防止コートであっ
て、高屈折率の透光性薄膜層の少なくとも１層が、シー
ト抵抗率が１００Ω／□以下の透明導電性層であること
を特徴とする電磁波低減反射防止コート。 （２０）基板上に、低屈折率層の透光性薄膜層、高屈折
率の透光性薄膜層、低屈折率の透光性薄膜層、高屈折率
の透光性薄膜層、低屈折率層の透光性薄膜層が順次形成
される反射防止コートであって、高屈折率の透光性薄膜
層の少なくとも１層が、膜厚１０００Å以上の透明導電
性層で構成されていることを特徴とする電磁波低減反射
防止コート。 （２１）基板上に、低屈折率層の透光性薄膜層、高屈折
率の透光性薄膜層、低屈折率の透光性薄膜層、高屈折率
の透光性薄膜層、低屈折率層の透光性薄膜層が順次形成
される反射防止コートであって、高屈折率の透光性薄膜
層の少なくとも１層が、シート抵抗率が１００Ω／□以
下の透明導電性層であることを特徴とする電磁波低減反
射防止コート。 （２２）プラスチックよりなる光学部材上に、上記
（１）〜（２１）のいずれかに記載の電磁波低減反射防
止コートを形成したことを特徴とする光学部材。 （２３）プラスチックよりなる光学部材が、７０℃以上
の耐熱性を有する材料により構成されていることを特徴
とする上記（２２）に記載の光学部材。 （２４）ガラスよりなる光学部材上に、上記（１）〜
（２１）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート
を形成したことを特徴とする光学部材。 （２５）フィルム状光学部材上に、上記（１）〜（２
１）のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コートを形
成したことを特徴とする光学部材。 （２６）フィルム状光学部材が偏光機能を有しているこ
とを特徴とする上記（２５）に記載の光学部材。 （２７）光学部材と電磁波低減反射防止コートとの間に
ハードコート層が設けられていることを特徴とする上記
（２２）〜（２５）のいずれかに記載の光学部材。 （２８）電磁波低減反射防止コート上に、ハードコート
層を設けたことを特徴とする上記（２２）〜（２７）の
いずれかに記載の光学部材。 （２９）上記（２２）〜（２８）のいずれかに記載の光
学部材を他の光学部材と接合してなることを特徴とする
光学部材。 （３０）他の光学部材と接合して使用される光学部材で
あって、他の光学部材と接合される側の光学面に導電性
層を含む電磁波低減反射防止コートが形成されているこ
とを特徴とする光学部材。 （３１）導電性層が膜厚１０００Å以上の透明導電性層
であり、電磁波低減反射防止コートが形成されている光
学部材側の第１層は、屈折率が、光学部材の屈折率＜第
１層の屈折率＜透明導電性層の屈折率の条件を満足する
透光性薄膜層であることを特徴とする上記（３０）に記
載の光学部材。 （３２）導電性層が膜厚１０００Å以上の透明導電性層
であり、光学部材から最も離れた層の屈折率が、最も離
れた層に接する他の光学部材側の材料の屈折率＜最も離
れた層の屈折率＜透明導電性層の屈折率の条件を満足す
る透光性薄膜層であることを特徴とする上記（３０）に
記載の光学部材。 （３３）導電性層が、少なくとも酸化インジウムを含む
透明層であることを特徴とする上記（３１）または（３
２）に記載の光学部材。 （３４）導電性層が、少なくとも酸化インジウムとスズ
を含む透明層であることを特徴とする上記（３１）また
は（３２）に記載の光学部材。 （３５）導電性層が透光性金属薄膜層であり、電磁波低
減反射防止コートが形成されている光学部材側の第１層
は、屈折率が、光学部材の屈折率＜第１層の屈折率の条
件を満足する透光性薄膜層であることを特徴とする上記
（３０）に記載の光学部材。 （３６）導電性層が透光性金属薄膜層であり、光学部材
から最も離れた層は、屈折率が、最も離れた層に接する
他の光学部材側の材料の屈折率＜最も離れた層の屈折率
の条件を満足する透光性薄膜層であることを特徴とする
上記（３０）に記載の光学部材。 （３７）透光性金属薄膜層が少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃ
ｕ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｃｏ、Ａｌのいずれかの金属を含む層
であることを特徴とする上記（３５）または（３６）に
記載の光学部材。 （３８）導電性層のシート抵抗が１００Ω／□以下であ
ることを特徴とする上記（３０）〜（３７）のいずれか
に記載の光学部材。 （３９）光学部材がフィルムで構成されていることを特
徴とする上記（３０）〜（３８）のいずれかに記載の光
学部材。 （４０）フィルムが偏光機能を有していることを特徴と
する上記（３９）記載の光学部材。 （４１）光学部材または他の光学部材の少なくとも一方
がポリカーボネートで構成されていることを特徴とする
上記（２９）〜（４０）のいずれかに記載の光学部材。 （４２）上記（３９）または（４０）の光学部材を光学
レンズの間に挟みこんでなる光学レンズ。 によって達成される。
【０００７】以下に、本発明を詳細に説明する。
【０００８】本発明において、透光性とは可視光線を有
効に透過することを意味している。
効に透過することを意味している。
【０００９】本発明の反射防止コート付光学部材がオフ
ィスオートメーション機器、テレビのブラウン管の前面
に設置して使用する場合には、反射防止コート付光学部
材全体として２５％以上の光透過性があることが、目の
疲労防止のために好ましい。
ィスオートメーション機器、テレビのブラウン管の前面
に設置して使用する場合には、反射防止コート付光学部
材全体として２５％以上の光透過性があることが、目の
疲労防止のために好ましい。
【００１０】本発明において、透光性金属薄膜層、膜厚
１０００Å以上の透明導電性層あるいはシート抵抗率が
１００Ω／□以下である透明導電性層（以下、これらを
併せて導電性層ということもある。）は導電性を与え、
電磁波を有効に遮蔽する。
１０００Å以上の透明導電性層あるいはシート抵抗率が
１００Ω／□以下である透明導電性層（以下、これらを
併せて導電性層ということもある。）は導電性を与え、
電磁波を有効に遮蔽する。
【００１１】導電性層として透明導電性層を用いる場
合、膜厚が１０００Å未満であったり、シート抵抗率が
１００Ω／□を越える場合には電磁波を有効に遮蔽する
ことはできない。
合、膜厚が１０００Å未満であったり、シート抵抗率が
１００Ω／□を越える場合には電磁波を有効に遮蔽する
ことはできない。
【００１２】導電性層の導電性は高い方が電磁波の遮蔽
性が優れてはいるが、導電性を高めるために膜厚を厚く
すると光透過率が低下したり、他の欠点が生じたりする
ので、使用目的に合う膜厚とすることが好ましい。透光
性金属薄膜層の場合、膜厚は３００Å以下とすることが
望ましく、２００Å以下とすることが更に望ましい。
性が優れてはいるが、導電性を高めるために膜厚を厚く
すると光透過率が低下したり、他の欠点が生じたりする
ので、使用目的に合う膜厚とすることが好ましい。透光
性金属薄膜層の場合、膜厚は３００Å以下とすることが
望ましく、２００Å以下とすることが更に望ましい。
【００１３】また、十分な電磁波遮蔽性を得るために
は、透光性金属薄膜層のシート抵抗率を１００Ω／□以
下とすることが望ましい。
は、透光性金属薄膜層のシート抵抗率を１００Ω／□以
下とすることが望ましい。
【００１４】本発明において、基板と基板に最も近い透
光性金属薄膜層との間、および、基板から見て基板から
最も離れた位置にある透光性金属薄膜層より更に離れた
位置に反射防止コートを構成する層（反射防止効果を有
する透光性薄膜層）を少なくとも１層設ける、あるい
は、膜厚１０００Å以上の透明導電性層やシート抵抗率
が１００Ω／□以下である透明導電性層を反射防止コー
トの一部に用いることによって、反射防止コートの入射
側、反射側ともに反射防止の効果を得ることができる。
光性金属薄膜層との間、および、基板から見て基板から
最も離れた位置にある透光性金属薄膜層より更に離れた
位置に反射防止コートを構成する層（反射防止効果を有
する透光性薄膜層）を少なくとも１層設ける、あるい
は、膜厚１０００Å以上の透明導電性層やシート抵抗率
が１００Ω／□以下である透明導電性層を反射防止コー
トの一部に用いることによって、反射防止コートの入射
側、反射側ともに反射防止の効果を得ることができる。
【００１５】透光性金属薄膜層を構成する金属として
は、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｕなどを
用いることができる。
は、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｕなどを
用いることができる。
【００１６】透明導電性層としては、例えば、酸化イン
ジウム、酸化インジウムとスズの混合物（ＩＴＯ）、酸
化スズ、酸化スズとアンチモンの混合物、酸化亜鉛、酸
化マンガン、あるいはこれらの混合物を用いることがで
きる。
ジウム、酸化インジウムとスズの混合物（ＩＴＯ）、酸
化スズ、酸化スズとアンチモンの混合物、酸化亜鉛、酸
化マンガン、あるいはこれらの混合物を用いることがで
きる。
【００１７】ＩＴＯは、スズの含有量を変化させること
でシート抵抗の値を変えることができるが、本発明を実
現するためには、スズの含有量は１０重量％以下とする
ことが望ましい。
でシート抵抗の値を変えることができるが、本発明を実
現するためには、スズの含有量は１０重量％以下とする
ことが望ましい。
【００１８】これらの透明導電性層を構成する物質は、
あらかじめ所定の比率で組成し、透明導電性層の蒸発材
料として使用することができるが、その他に、酸化前の
金属を蒸発材料として反応ガス中で蒸着したり、酸化前
の金属で金属膜を形成後反応ガスのプラズマにさらすこ
とで透明導電性層を得ることができる。
あらかじめ所定の比率で組成し、透明導電性層の蒸発材
料として使用することができるが、その他に、酸化前の
金属を蒸発材料として反応ガス中で蒸着したり、酸化前
の金属で金属膜を形成後反応ガスのプラズマにさらすこ
とで透明導電性層を得ることができる。
【００１９】透光性薄膜層には、上記透明導電性層や酸
化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化タン
タル、酸化プラセオジム、酸化ハフニウム、酸化アルミ
ニウム、酸化シリコンなど及びこれらの混合物を用いる
ことができる。
化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化タン
タル、酸化プラセオジム、酸化ハフニウム、酸化アルミ
ニウム、酸化シリコンなど及びこれらの混合物を用いる
ことができる。
【００２０】導電性反射防止膜面を他の光学部材と接合
しない場合には、低屈折率材料の屈折率としては、基板
の屈折率以下、さらには１．５５以下が望ましく、材料
として二酸化シリコンや弗化マグネシウムなどがある。
高屈折率材料としては、１．８以上の屈折率を持つこと
が望ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリ
ウム、酸化タンタル、酸化プラセオジム、酸化ハフニウ
ムなど及びこれらの混合物がある。屈折率が１．５５〜
１．８にある材料については、高屈折率層と低屈折率層
とからなる交互層の、等価膜の材料として利用すること
ができる。
しない場合には、低屈折率材料の屈折率としては、基板
の屈折率以下、さらには１．５５以下が望ましく、材料
として二酸化シリコンや弗化マグネシウムなどがある。
高屈折率材料としては、１．８以上の屈折率を持つこと
が望ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリ
ウム、酸化タンタル、酸化プラセオジム、酸化ハフニウ
ムなど及びこれらの混合物がある。屈折率が１．５５〜
１．８にある材料については、高屈折率層と低屈折率層
とからなる交互層の、等価膜の材料として利用すること
ができる。
【００２１】また、高屈折率層を透明導電性層で形成し
ようとする場合、抵抗値や着色の調整、膜強度の向上の
ために、透明導電性層の一部を誘電体で置き換えること
ができる。すなわち、透明導電性層の形成の前また／及
び後に所望のシート抵抗値及び反射防止性能をえること
ができる膜厚の範囲において、他の透光性誘電体薄膜を
形成し、前記透明導電性層とあわせて透明導電性層とみ
なすことができる。
ようとする場合、抵抗値や着色の調整、膜強度の向上の
ために、透明導電性層の一部を誘電体で置き換えること
ができる。すなわち、透明導電性層の形成の前また／及
び後に所望のシート抵抗値及び反射防止性能をえること
ができる膜厚の範囲において、他の透光性誘電体薄膜を
形成し、前記透明導電性層とあわせて透明導電性層とみ
なすことができる。
【００２２】本発明において、透光性金属薄膜層を高屈
折率の透光性薄膜層で挟んで形成する場合、高屈折率の
透光性薄膜層の屈折率を１．５以上とすることが好まし
い。
折率の透光性薄膜層で挟んで形成する場合、高屈折率の
透光性薄膜層の屈折率を１．５以上とすることが好まし
い。
【００２３】透光性金属薄膜層の透光性を高めるために
透光性金属薄膜層の膜厚を薄くした場合、透光性金属薄
膜層を構成する金属が島状に形成され、十分な電磁波遮
蔽性がえられる導電性が得られない場合があるが、透光
性金属薄膜層に接して透明導電性層を設けると、透光性
金属薄膜層単独の導電性及び透明導電性層単独での導電
性からは予測されない導電性が得られ、十分な電磁波遮
蔽性を得ることができる。
透光性金属薄膜層の膜厚を薄くした場合、透光性金属薄
膜層を構成する金属が島状に形成され、十分な電磁波遮
蔽性がえられる導電性が得られない場合があるが、透光
性金属薄膜層に接して透明導電性層を設けると、透光性
金属薄膜層単独の導電性及び透明導電性層単独での導電
性からは予測されない導電性が得られ、十分な電磁波遮
蔽性を得ることができる。
【００２４】導電性層を構成する透光性金属薄膜層、透
明導電性層、その他の透光性薄膜層の形成手段は特に限
定されるものではなく、従来周知の手段を用いて形成す
ることができる。本発明において用いられるこれら薄膜
層の形成方法としては、例えば、蒸着法、ＲＦイオンプ
レーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤを挙げるこ
とができる。
明導電性層、その他の透光性薄膜層の形成手段は特に限
定されるものではなく、従来周知の手段を用いて形成す
ることができる。本発明において用いられるこれら薄膜
層の形成方法としては、例えば、蒸着法、ＲＦイオンプ
レーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤを挙げるこ
とができる。
【００２５】ハードコート層は、例えば、熱硬化型の樹
脂、紫外線硬化型の樹脂、電子線硬化型の樹脂などの樹
脂を用いる周知の方法で形成することができる。
脂、紫外線硬化型の樹脂、電子線硬化型の樹脂などの樹
脂を用いる周知の方法で形成することができる。
【００２６】本発明において、ハードコート層はアンダ
ーコートとして基板に直接設けてもよく、また、オーバ
ーコートとして反射防止コートの上に設けてもよい。基
板にハードコート層を設けてから反射防止コートを設け
ると反射防止コートの付着力や基板の表面強度を向上す
ることができる。この時、ハードコート層の屈折率を基
板の屈折率に可能な限り近づけておくと色ムラの発生を
少なくすることができる。
ーコートとして基板に直接設けてもよく、また、オーバ
ーコートとして反射防止コートの上に設けてもよい。基
板にハードコート層を設けてから反射防止コートを設け
ると反射防止コートの付着力や基板の表面強度を向上す
ることができる。この時、ハードコート層の屈折率を基
板の屈折率に可能な限り近づけておくと色ムラの発生を
少なくすることができる。
【００２７】ハードコート層及び反射防止コートを設け
る場合、付着力や強度を向上させるために、ハードコー
ト層や反射防止コートにシラン化合物による処理、プラ
ズマ処理、紫外線処理等の周知の前処理を施すことがで
きる。
る場合、付着力や強度を向上させるために、ハードコー
ト層や反射防止コートにシラン化合物による処理、プラ
ズマ処理、紫外線処理等の周知の前処理を施すことがで
きる。
【００２８】本発明の反射防止コート及び反射防止コー
ト付光学部品において、表面に撥水処理を施すことがで
きる。撥水処理は防曇効果、防汚効果をもたらし好まし
い。
ト付光学部品において、表面に撥水処理を施すことがで
きる。撥水処理は防曇効果、防汚効果をもたらし好まし
い。
【００２９】反射防止コートを形成する光学基板として
は、透明性を有するものであればいずれでも用いること
ができるが、実用的にはプラスチック基板、ガラス基板
が用いられる。プラスチック基板はコーティング作業時
の加熱、温度上昇に耐えるに十分な強度を有するような
耐熱性を有することが望ましい。
は、透明性を有するものであればいずれでも用いること
ができるが、実用的にはプラスチック基板、ガラス基板
が用いられる。プラスチック基板はコーティング作業時
の加熱、温度上昇に耐えるに十分な強度を有するような
耐熱性を有することが望ましい。
【００３０】本発明において、基板、ハードコート層な
どを透明性を損なわない範囲で着色することができる。
どを透明性を損なわない範囲で着色することができる。
【００３１】好みの色相を得るためには、 真空槽内での薄膜形成時に色素を同時に蒸着する、 基板中、アンダーコート、オーバーコート中に色素や
特定波長吸収剤を混入したり、染色する、などの手段が
あり、これらと電磁波低減反射防止コートを組み合わせ
ることにより、電磁波低減と同時に、紫外線カット、赤
外線カット、コントラスト向上などの効果を得ることが
できる。
特定波長吸収剤を混入したり、染色する、などの手段が
あり、これらと電磁波低減反射防止コートを組み合わせ
ることにより、電磁波低減と同時に、紫外線カット、赤
外線カット、コントラスト向上などの効果を得ることが
できる。
【００３２】また、光学部材に、偏光機能を与えること
もできる。
もできる。
【００３３】
実施例１ 透明なアクリル系樹脂基板及びポリカーボネート基板に
紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射してハードコー
トを形成し、ハードコート層を有する透明なアクリル系
樹脂基板（以下、単に「アクリル基板」という。）及び
ハードコート層を有する透明なポリカーボネート基板
（以下、単に「ポリカーボネート基板」という。）作成
した。
紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射してハードコー
トを形成し、ハードコート層を有する透明なアクリル系
樹脂基板（以下、単に「アクリル基板」という。）及び
ハードコート層を有する透明なポリカーボネート基板
（以下、単に「ポリカーボネート基板」という。）作成
した。
【００３４】次いで、このアクリル基板及びポリカーボ
ネート基板に下記に従って反射防止コートを形成し、試
料１〜７を作成した。 試料１（本発明） アクリル基板に、第１層として膜厚４５０Åの５％のス
ズを含む酸化インジュウムとスズとの混合物（以下、
「ＩＴＯ」という。）の層をＲＦイオンプレーティング
により形成し、第２層として膜厚１５０ÅのＡｕ層を真
空蒸着により形成し、第３層として膜厚４５０Åの酸化
チタンと酸化ジルコニウムとの混合物（以下、混合物Ａ
という。）の層を真空蒸着により形成し、反射防止コー
トを形成した光学部材を得た。
ネート基板に下記に従って反射防止コートを形成し、試
料１〜７を作成した。 試料１（本発明） アクリル基板に、第１層として膜厚４５０Åの５％のス
ズを含む酸化インジュウムとスズとの混合物（以下、
「ＩＴＯ」という。）の層をＲＦイオンプレーティング
により形成し、第２層として膜厚１５０ÅのＡｕ層を真
空蒸着により形成し、第３層として膜厚４５０Åの酸化
チタンと酸化ジルコニウムとの混合物（以下、混合物Ａ
という。）の層を真空蒸着により形成し、反射防止コー
トを形成した光学部材を得た。
【００３５】この光学部材は、アクリル基板／高屈折率
の透光性薄膜層／透光性金属薄膜層／高屈折率の透光性
薄膜層からなる層構成を有している。 試料２（本発明） アクリル基板に、第１層として膜厚４５０ÅのＩＴＯの
層をＲＦイオンプレーティングにより形成し、第２層と
して膜厚１５０ÅのＡｕ層を真空蒸着により形成し、第
３層として膜厚２５０Åの混合物Ａの層を真空蒸着によ
り形成し反射防止コートを形成し、第４層として膜厚４
００Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着により形成し、
反射防止コートを形成した光学部材を得た。
の透光性薄膜層／透光性金属薄膜層／高屈折率の透光性
薄膜層からなる層構成を有している。 試料２（本発明） アクリル基板に、第１層として膜厚４５０ÅのＩＴＯの
層をＲＦイオンプレーティングにより形成し、第２層と
して膜厚１５０ÅのＡｕ層を真空蒸着により形成し、第
３層として膜厚２５０Åの混合物Ａの層を真空蒸着によ
り形成し反射防止コートを形成し、第４層として膜厚４
００Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着により形成し、
反射防止コートを形成した光学部材を得た。
【００３６】この光学部材は、アクリル基板／高屈折率
の透光性薄膜層／透光性金属薄膜層／高屈折率の透光性
薄膜層／低屈折率の透光性薄膜層からなる層構成を有し
ている。 試料３（本発明） アクリル基板に、第１層として膜厚３５０Åの二酸化シ
リコンの層を真空蒸着により形成し、第２層として膜厚
３８０ÅのＩＴＯの層をＲＦイオンプレーティングによ
り形成し、第３層として膜厚１００ÅのＡｕ層を真空蒸
着により形成し、第４層として膜厚１７０ÅのＩＴＯの
層をＲＦイオンプレーティングにより形成し、第５層と
して膜厚５５０Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着によ
り形成し、反射防止コートを形成した光学部材を得た。
の透光性薄膜層／透光性金属薄膜層／高屈折率の透光性
薄膜層／低屈折率の透光性薄膜層からなる層構成を有し
ている。 試料３（本発明） アクリル基板に、第１層として膜厚３５０Åの二酸化シ
リコンの層を真空蒸着により形成し、第２層として膜厚
３８０ÅのＩＴＯの層をＲＦイオンプレーティングによ
り形成し、第３層として膜厚１００ÅのＡｕ層を真空蒸
着により形成し、第４層として膜厚１７０ÅのＩＴＯの
層をＲＦイオンプレーティングにより形成し、第５層と
して膜厚５５０Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着によ
り形成し、反射防止コートを形成した光学部材を得た。
【００３７】この光学部材は、アクリル基板／低屈折率
の透光性薄膜層／高屈折率の透光性薄膜層／透光性金属
薄膜層／高屈折率の透光性薄膜層／低屈折率の透光性薄
膜層からなる層構成を有している。 試料４（本発明） ポリカーボネート基板に、第１層として膜厚３０ÅのＰ
ｔ層を真空蒸着により形成し、第２層として膜厚１００
ÅのＡｇ層を真空蒸着により形成し、第３層として膜厚
４００ÅのＩＴＯの層を−１００Ｖの電圧を印加しなが
らＲＦイオンプレーティングにより形成し、反射防止コ
ートを形成した光学部材を得た。
の透光性薄膜層／高屈折率の透光性薄膜層／透光性金属
薄膜層／高屈折率の透光性薄膜層／低屈折率の透光性薄
膜層からなる層構成を有している。 試料４（本発明） ポリカーボネート基板に、第１層として膜厚３０ÅのＰ
ｔ層を真空蒸着により形成し、第２層として膜厚１００
ÅのＡｇ層を真空蒸着により形成し、第３層として膜厚
４００ÅのＩＴＯの層を−１００Ｖの電圧を印加しなが
らＲＦイオンプレーティングにより形成し、反射防止コ
ートを形成した光学部材を得た。
【００３８】この光学部材は、ポリカーボネート基板／
透光性金属薄膜層／透光性金属薄膜層／高屈折率の透光
性薄膜層からなる層構成を有している。 試料５（本発明） ポリカーボネート基板の一方の側に、第１層として膜厚
７８０Åの酸化アルミニウムの層を真空蒸着により形成
し、第２層として膜厚１２７０ÅのＩＴＯの層をＲＦイ
オンプレーティングにより形成し、第３層として膜厚８
９０Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着により形成し
た。また、他方の側にも、上記と同一第１層、第２層及
び第３層を形成し、両面に反射防止コートを形成した光
学部材を得た。
透光性金属薄膜層／透光性金属薄膜層／高屈折率の透光
性薄膜層からなる層構成を有している。 試料５（本発明） ポリカーボネート基板の一方の側に、第１層として膜厚
７８０Åの酸化アルミニウムの層を真空蒸着により形成
し、第２層として膜厚１２７０ÅのＩＴＯの層をＲＦイ
オンプレーティングにより形成し、第３層として膜厚８
９０Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着により形成し
た。また、他方の側にも、上記と同一第１層、第２層及
び第３層を形成し、両面に反射防止コートを形成した光
学部材を得た。
【００３９】この光学部材は、高屈折率の透光性薄膜層
／透光性導電層／低屈折率の透光性薄膜層／ポリカーボ
ネート基板／低屈折率の透光性薄膜層／透光性導電層／
高屈折率の透光性薄膜層からなる層構成を有している。 試料６（本発明） ポリカーボネート基板の一方の側に、第１層として膜厚
３６０Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着により形成
し、第２層として膜厚１３０Åの混合物Ａ層を真空蒸着
により形成し、第３層として膜厚３６０Åの二酸化シリ
コンの層を真空蒸着により形成した。第４層として膜厚
１２７０ÅのＩＴＯの層をＲＦイオンプレーティングに
より形成し、第５層として膜厚９４０Åのフッ化マグネ
シウムの層を真空蒸着により形成した。また、他方の側
にも、上記と同一第１層、第２層、第３層、第４層、第
５層を形成し、両面に反射防止コートを形成した光学部
材を得た。
／透光性導電層／低屈折率の透光性薄膜層／ポリカーボ
ネート基板／低屈折率の透光性薄膜層／透光性導電層／
高屈折率の透光性薄膜層からなる層構成を有している。 試料６（本発明） ポリカーボネート基板の一方の側に、第１層として膜厚
３６０Åの二酸化シリコンの層を真空蒸着により形成
し、第２層として膜厚１３０Åの混合物Ａ層を真空蒸着
により形成し、第３層として膜厚３６０Åの二酸化シリ
コンの層を真空蒸着により形成した。第４層として膜厚
１２７０ÅのＩＴＯの層をＲＦイオンプレーティングに
より形成し、第５層として膜厚９４０Åのフッ化マグネ
シウムの層を真空蒸着により形成した。また、他方の側
にも、上記と同一第１層、第２層、第３層、第４層、第
５層を形成し、両面に反射防止コートを形成した光学部
材を得た。
【００４０】この光学部材は、高屈折率の透光性薄膜層
／透光性導電層／低屈折率の透光性薄膜層／高屈折率の
透光性薄膜層／低屈折率の透光性薄膜層／ポリカーボネ
ート基板／低屈折率の透光性薄膜層／高屈折率の透光性
薄膜層／低屈折率の透光性薄膜層／透光性導電層／高屈
折率の透光性薄膜層からなる層構成を有している。 試料７（比較） ポリカーボネート基板に、膜厚１５０ÅのＡｇ層を真空
蒸着により形成し、導電層を形成した光学部材を得た。
／透光性導電層／低屈折率の透光性薄膜層／高屈折率の
透光性薄膜層／低屈折率の透光性薄膜層／ポリカーボネ
ート基板／低屈折率の透光性薄膜層／高屈折率の透光性
薄膜層／低屈折率の透光性薄膜層／透光性導電層／高屈
折率の透光性薄膜層からなる層構成を有している。 試料７（比較） ポリカーボネート基板に、膜厚１５０ÅのＡｇ層を真空
蒸着により形成し、導電層を形成した光学部材を得た。
【００４１】この光学部材は、ポリカーボネート基板／
透光性金属薄膜層からなる層構成を有している。
透光性金属薄膜層からなる層構成を有している。
【００４２】上記試料１〜７について、下記により、分
光反射率、電磁波遮蔽性能、膜の付着力を測定した。 〈分光反射率〉分光光度計により各波長における反射率
を測定した。 〈電磁波遮蔽性能〉入力信号の１００ＭＨｚにおける減
衰率を測定した。減衰率はｄＢで示した。 〈膜の付着力〉粘着テープを貼り付け、該粘着テープを
基板に対して垂直の方向に引きはがし膜の剥れ具合で評
価した。
光反射率、電磁波遮蔽性能、膜の付着力を測定した。 〈分光反射率〉分光光度計により各波長における反射率
を測定した。 〈電磁波遮蔽性能〉入力信号の１００ＭＨｚにおける減
衰率を測定した。減衰率はｄＢで示した。 〈膜の付着力〉粘着テープを貼り付け、該粘着テープを
基板に対して垂直の方向に引きはがし膜の剥れ具合で評
価した。
【００４３】 ○；反射防止コートに剥れはなかった ×；反射防止コートが剥された 図１〜７に試料１〜７の分光反射率を示す。図１〜７に
おいて、横軸は光の波長、縦軸は反射率（％）である。
おいて、横軸は光の波長、縦軸は反射率（％）である。
【００４４】また、表１に電磁波遮蔽性能、膜の付着力
の測定の結果を示す。また、表１には波長５４０ｎｍで
の反射率及び導電性層のシート抵抗値を記載した。
の測定の結果を示す。また、表１には波長５４０ｎｍで
の反射率及び導電性層のシート抵抗値を記載した。
【００４５】
【表１】 試料１〜６はいずれも、可視領域における光反射率が低
く、電磁波遮蔽性能が優れており、膜の付着力も優れて
いた。これに対して、試料７は、光反射率が高く、電磁
波遮蔽性能も劣り、膜の付着力も弱い上、日数を減るに
つれて表面が黄色味を帯びてきた。 実施例２ 実施例１に記載のポリカーボネート基板に下記に従って
電磁波低減反射防止コートを形成し、試料８〜１４を作
成した。 試料８（本発明） ポリカーボネート基板に下記の４層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
く、電磁波遮蔽性能が優れており、膜の付着力も優れて
いた。これに対して、試料７は、光反射率が高く、電磁
波遮蔽性能も劣り、膜の付着力も弱い上、日数を減るに
つれて表面が黄色味を帯びてきた。 実施例２ 実施例１に記載のポリカーボネート基板に下記に従って
電磁波低減反射防止コートを形成し、試料８〜１４を作
成した。 試料８（本発明） ポリカーボネート基板に下記の４層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
【００４６】第１層；真空蒸着により形成した１５０Å
の厚さの酸化ジルコニウム層 第２層；真空蒸着により形成した３１０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第３層；ＲＦイオンプレーティングにより形成した１３
５０Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第４層；真空蒸着により形成した９００Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料９（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
の厚さの酸化ジルコニウム層 第２層；真空蒸着により形成した３１０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第３層；ＲＦイオンプレーティングにより形成した１３
５０Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第４層；真空蒸着により形成した９００Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料９（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
【００４７】第１層；真空蒸着により形成した２２００
Åの厚さの二酸化シリコン層 第２層；真空蒸着により形成した２６０Åの厚さのチタ
ン酸ジルコニウム層 第３層；真空蒸着により形成した３５０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第４層；ＲＦイオンプレーティングにより形成した１５
００Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第５層；真空蒸着により形成した９２０Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料１０（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
Åの厚さの二酸化シリコン層 第２層；真空蒸着により形成した２６０Åの厚さのチタ
ン酸ジルコニウム層 第３層；真空蒸着により形成した３５０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第４層；ＲＦイオンプレーティングにより形成した１５
００Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第５層；真空蒸着により形成した９２０Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料１０（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
【００４８】第１層；真空蒸着により形成した１５０Å
の厚さのチタン酸ジルコニウム層 第２層；真空蒸着により形成した５５０Åの厚さの酸化
アルミニウム層 第３層；真空蒸着により形成した２４０Åの厚さのチタ
ン酸ジルコニウム層を 第４層；ＲＦイオンプレーティングにより形成した１３
００Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第５層；真空蒸着により形成した９４０Åの厚さの二酸
化シリコン層 蒸着条件を変えることにより、透明導電性層の色を変え
ることができる。 試料１１（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
の厚さのチタン酸ジルコニウム層 第２層；真空蒸着により形成した５５０Åの厚さの酸化
アルミニウム層 第３層；真空蒸着により形成した２４０Åの厚さのチタ
ン酸ジルコニウム層を 第４層；ＲＦイオンプレーティングにより形成した１３
００Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第５層；真空蒸着により形成した９４０Åの厚さの二酸
化シリコン層 蒸着条件を変えることにより、透明導電性層の色を変え
ることができる。 試料１１（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
【００４９】第１層；真空蒸着により形成した３６０Å
の厚さの二酸化シリコン層 第２層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ１２０Å／分、６Å／分の蒸着速度にて混合蒸
着して形成した厚さ２２０Åの導電層 第３層；真空蒸着により形成した３５０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第４層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ１２０Å／分、６Å／分の蒸着速度にて混合蒸
着して形成した厚さ１４００Åの導電層 第５層；真空蒸着により形成した９３０Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料１２（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
の厚さの二酸化シリコン層 第２層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ１２０Å／分、６Å／分の蒸着速度にて混合蒸
着して形成した厚さ２２０Åの導電層 第３層；真空蒸着により形成した３５０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第４層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ１２０Å／分、６Å／分の蒸着速度にて混合蒸
着して形成した厚さ１４００Åの導電層 第５層；真空蒸着により形成した９３０Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料１２（本発明） ポリカーボネート基板に下記の５層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
【００５０】第１層；真空蒸着により形成した３６０Å
の厚さの二酸化シリコン層 第２層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ２００Å／分、１０Å／分の蒸着速度にて混合
蒸着して形成した厚さ２２０Åの導電層 第３層；真空蒸着により形成した３５０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第４層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ１２０Å／分、６Å／分の蒸着速度にて混合蒸
着して形成した厚さ１４００Åの導電層 第５層；真空蒸着により形成した９３０Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料１３（比較） ポリカーボネート基板に下記の４層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
の厚さの二酸化シリコン層 第２層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ２００Å／分、１０Å／分の蒸着速度にて混合
蒸着して形成した厚さ２２０Åの導電層 第３層；真空蒸着により形成した３５０Åの厚さの二酸
化シリコン層 第４層；ＩｎとＳｎをＲＦ放電させた酸素雰囲気中で、
それぞれ１２０Å／分、６Å／分の蒸着速度にて混合蒸
着して形成した厚さ１４００Åの導電層 第５層；真空蒸着により形成した９３０Åの厚さの二酸
化シリコン層 試料１３（比較） ポリカーボネート基板に下記の４層からなる電磁波低減
反射防止コートを順次形成した。
【００５１】第１層；ＲＦイオンプレーティングにより
形成した２８０Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％） 第２層；真空蒸着により形成した２７ＯÅの厚さの二酸
化シリコン層 第３層；真空蒸着により形成した５５０Åの厚さの酸化
ジルコニウム層 第４層；真空蒸着により形成した１０００Åの厚さの二
酸化シリコン層 上記試料８〜１３について、実施例１と同様にして分光
反射率、電磁波遮蔽性能、膜の付着力を測定した。
形成した２８０Åの厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％） 第２層；真空蒸着により形成した２７ＯÅの厚さの二酸
化シリコン層 第３層；真空蒸着により形成した５５０Åの厚さの酸化
ジルコニウム層 第４層；真空蒸着により形成した１０００Åの厚さの二
酸化シリコン層 上記試料８〜１３について、実施例１と同様にして分光
反射率、電磁波遮蔽性能、膜の付着力を測定した。
【００５２】図９、１０及び１３に試料９、１０及び１
３の分光反射率を示す。図９、１０及び１３において、
横軸は光の波長、縦軸は反射率（％）である。
３の分光反射率を示す。図９、１０及び１３において、
横軸は光の波長、縦軸は反射率（％）である。
【００５３】また、表２に電磁波遮蔽性能、膜の付着力
の測定の結果を示す。また、表２には波長５４０ｎｍで
の反射率及び導電性層のシート抵抗値を記載した。
の測定の結果を示す。また、表２には波長５４０ｎｍで
の反射率及び導電性層のシート抵抗値を記載した。
【００５４】また、試料１１及び１２については、下記
により、分光透過率を測定した。 〈分光透過率〉分光光度計により各波長における透過率
を測定した。
により、分光透過率を測定した。 〈分光透過率〉分光光度計により各波長における透過率
を測定した。
【００５５】図１１及び１２に試料１１及び１２の分光
透過率を示す。図１１及び１２において、横軸は光の波
長、縦軸は透過率（％）である。
透過率を示す。図１１及び１２において、横軸は光の波
長、縦軸は透過率（％）である。
【００５６】図１１及び１２から明らかなように、同じ
層構成であっても、導電層の蒸着条件を変えると、導電
性層のシート抵抗値や反射率をほとんど変えずに透過率
を変えることができる。
層構成であっても、導電層の蒸着条件を変えると、導電
性層のシート抵抗値や反射率をほとんど変えずに透過率
を変えることができる。
【００５７】
【表２】
【００５８】実施例１及び２において、得られた電磁波
低減反射防止コート上に、耐擦性のある皮膜をオーバー
コートを施すことにより、膜が傷つくのを防ぐことがで
きる。
低減反射防止コート上に、耐擦性のある皮膜をオーバー
コートを施すことにより、膜が傷つくのを防ぐことがで
きる。
【００５９】また、電磁波低減反射防止コート上に、他
の基板に接合させてもよい。 実施例３ ポリカーボネイト製のレンズの片面に下記の２層からな
る電磁波低減反射防止コートを順次形成した。
の基板に接合させてもよい。 実施例３ ポリカーボネイト製のレンズの片面に下記の２層からな
る電磁波低減反射防止コートを順次形成した。
【００６０】第１層；ＲＦイオンプレーティングにより
形成したλ／２の光学厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）
層 第２層；真空蒸着により形成したλ／４の光学厚さ（λ
は設計波長、本実施例の場合はλ＝５２０ｎｍであっ
た。）の酸化アルミニウム層 得られたレンズの電磁波低減反射防止コート上に、アク
リル系樹脂製レンズをＵＶ接着剤にて接合し１枚のレン
ズとした。
形成したλ／２の光学厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）
層 第２層；真空蒸着により形成したλ／４の光学厚さ（λ
は設計波長、本実施例の場合はλ＝５２０ｎｍであっ
た。）の酸化アルミニウム層 得られたレンズの電磁波低減反射防止コート上に、アク
リル系樹脂製レンズをＵＶ接着剤にて接合し１枚のレン
ズとした。
【００６１】得られたレンズの電磁波低減性能を測定し
たところ優れた電磁波低減性能を有していた。 実施例４ ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に下
記の３層からなる電磁波低減反射防止コートを順次形成
した。
たところ優れた電磁波低減性能を有していた。 実施例４ ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に下
記の３層からなる電磁波低減反射防止コートを順次形成
した。
【００６２】第１層；真空蒸着により形成したλ／４の
光学厚さ（λは設計波長、本実施例の場合はλ＝５２０
ｎｍであった）の酸化アルミニウム層 第２層；ＲＦイオンプレーティングにより形成したλ／
２の光学厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第３層；真空蒸着により形成したλ／４の光学厚さ（λ
は設計波長、本実施例の場合はλ＝５２０ｎｍであっ
た）の酸化アルミニウム層 得られたフィルムを、２枚のアクリル（ＰＭＭＡ）製レ
ンズの間に挟み込み、ＵＶ硬化型接着剤にて接合し１枚
のレンズを形成した。
光学厚さ（λは設計波長、本実施例の場合はλ＝５２０
ｎｍであった）の酸化アルミニウム層 第２層；ＲＦイオンプレーティングにより形成したλ／
２の光学厚さのＩＴＯ（Ｓｎ含有量５％）層 第３層；真空蒸着により形成したλ／４の光学厚さ（λ
は設計波長、本実施例の場合はλ＝５２０ｎｍであっ
た）の酸化アルミニウム層 得られたフィルムを、２枚のアクリル（ＰＭＭＡ）製レ
ンズの間に挟み込み、ＵＶ硬化型接着剤にて接合し１枚
のレンズを形成した。
【００６３】得られたレンズは、実施例３記載のレンズ
と同等の電磁波低減性能を得ることができた。
と同等の電磁波低減性能を得ることができた。
【００６４】実施例４においては、ＰＥＴフィルムを用
いているが、用いるフィルムはＰＥＴフィルムに限定さ
れず、各種のフィルムを用いることができる。また、接
着剤も各種の接着剤を用いることができる。この時、接
着剤の屈折率を接合する部材と同じにすると色ムラの発
生を防止できる。
いているが、用いるフィルムはＰＥＴフィルムに限定さ
れず、各種のフィルムを用いることができる。また、接
着剤も各種の接着剤を用いることができる。この時、接
着剤の屈折率を接合する部材と同じにすると色ムラの発
生を防止できる。
【００６５】カメラレンズ、眼鏡レンズ、ＣＲＴフィル
ターなどに使用される光学用プラスチックは一般に耐衝
撃性が弱いといわれており、貼りあわせレンズの片方を
ポリカーボネイト製にしたり、柔軟性に富む接着剤を用
いることなどはレンズの耐衝撃性を向上させることから
好ましい。
ターなどに使用される光学用プラスチックは一般に耐衝
撃性が弱いといわれており、貼りあわせレンズの片方を
ポリカーボネイト製にしたり、柔軟性に富む接着剤を用
いることなどはレンズの耐衝撃性を向上させることから
好ましい。
【００６６】この実施例では張りあわせに接着剤を用い
たが、他にも導電性反射防止膜をコーティングした光学
部材を、硬化前の樹脂に接して配置し、その後樹脂を硬
化させることで所望の光学部材を得ることも可能であ
る。
たが、他にも導電性反射防止膜をコーティングした光学
部材を、硬化前の樹脂に接して配置し、その後樹脂を硬
化させることで所望の光学部材を得ることも可能であ
る。
【００６７】
【発明の効果】本発明の反射防止コートは、透光性金属
薄膜層を設けた場合であっても、また、透明導電性層を
設けた場合であっても可視領域における光反射率が低く
可視領域の光透過性に優れ、電磁波遮蔽性能が優れてい
る。また、膜の付着力も優れている。また、透光性金属
薄膜層を用いた場合、透過する赤外線量を低減すること
ができる。
薄膜層を設けた場合であっても、また、透明導電性層を
設けた場合であっても可視領域における光反射率が低く
可視領域の光透過性に優れ、電磁波遮蔽性能が優れてい
る。また、膜の付着力も優れている。また、透光性金属
薄膜層を用いた場合、透過する赤外線量を低減すること
ができる。
【図１】試料１の分光反射率を示す図である。
【図２】試料２の分光反射率を示す図である。
【図３】試料３の分光反射率を示す図である。
【図４】試料４の分光反射率を示す図である。
【図５】試料５の分光反射率を示す図である。
【図６】試料６の分光反射率を示す図である。
【図７】試料７の分光反射率を示す図である。
【図８】試料８の分光反射率を示す図である。
【図９】試料９の分光反射率を示す図である。
【図１０】試料１０の分光反射率を示す図である。
【図１１】試料１１の分光透過率を示す図である。
【図１２】試料１２の分光透過率を示す図である。
【図１３】試料１３の分光反射率を示す図である。
【図１４】実施例３に記載のレンズの分光透過率を示す
図である。
図である。
【図１５】実施例４に記載のレンズの分光反射率を示す
図である。
図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｚ
Claims (42)
- 【請求項１】 基板上に形成される反射防止コートであ
って、少なくとも１層の透光性金属薄膜層を含む３層以
上の透光性薄膜層で構成されていることを特徴とする電
磁波低減反射防止コート。 - 【請求項２】 基板と基板に最も近い透光性金属薄膜層
との間、および、基板からみて基板から最も離れた位置
にある透光性金属薄膜層よりも更に離れた位置に反射防
止コートを構成する層が少なくとも１層あることを特徴
とする請求項１に記載の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項３】 透光性金属薄膜層が複数の層で構成され
ていることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁
波低減反射防止コート。 - 【請求項４】 透光性金属薄膜層が、Ａｕ、Ｐｔ、Ａ
ｇ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｕから選ばれた少なくとも１
つの金属で構成されていることを特徴とする請求項１〜
３のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項５】 透光性金属薄膜層の、基板からみて遠い
側に、高屈折率の透光性薄膜層が形成されていることを
特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の電磁波低減
反射防止コート。 - 【請求項６】 高屈折率の透光性薄膜層に挟まれて透光
性金属薄膜層が設けられていることを特徴とする請求項
１〜５のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項７】 透光性金属薄膜層に接して少なくとも１
層の透明導電性層が設けられていることを特徴とする請
求項１〜６のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コー
ト。 - 【請求項８】 透光性金属薄膜層のシート抵抗率が１０
０Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜７のい
ずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項９】 透光性金属薄膜層の膜厚が３００Å以下
であることを特徴とする請求項８に記載の電磁波低減反
射防止コート。 - 【請求項１０】 透光性金属薄膜層の膜厚が２００Å以
下であることを特徴とする請求項８または９に記載の電
磁波低減反射防止コート。 - 【請求項１１】 基板上に形成される反射防止コートで
あって、反射防止コートが少なくとも１層の膜厚１００
０Å以上の透明導電性層と２層以上の他の透光性薄膜層
で構成されていることを特徴とする電磁波低減反射防止
コート。 - 【請求項１２】 基板上に形成される反射防止コートで
あって、反射防止コートが少なくとも１層のシート抵抗
率が１００Ω／□以下である透明導電性層と２層以上の
他の透光性薄膜層で構成されていることを特徴とする電
磁波低減反射防止コート。 - 【請求項１３】 透明導電性層の両側に、それぞれ、少
なくとも１層の反射防止コートを構成する層が設けられ
ていることを特徴とする請求項１１または１２に記載の
電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項１４】 透明導電性層の基板から見て遠い側
に、透明導電性層の屈折率よりも低い屈折率の透光性薄
膜層が形成されていることを特徴とする請求項１１〜１
３のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項１５】 透明導電性層の基板側に、透明導電性
層の屈折率と、基板から見て遠い側に設けられた透明導
電性層の屈折率よりも低い屈折率の透光性薄膜層の屈折
率との間の屈折率を有する透光性薄膜層が形成されてい
ることを特徴とする請求項１４に記載の電磁波低減反射
防止コート。 - 【請求項１６】 透明導電性層の両側に、それぞれ、該
層の屈折率よりも低い屈折率の透光性薄膜層が形成され
ていることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれかに
記載の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項１７】 透明導電性層が酸化インジュウムとス
ズを含む層であることを特徴とする請求項１１〜１６の
いずれかに記載の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項１８】 基板上に、高屈折率の透光性薄膜層、
低屈折率の透光性薄膜層、高屈折率の透光性薄膜層、低
屈折率層の透光性薄膜層が順次形成される反射防止コー
トであって、高屈折率の透光性薄膜層の少なくとも１層
が、膜厚１０００Å以上の透明導電性層で構成されてい
ることを特徴とする電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項１９】 基板上に、高屈折率の透光性薄膜層、
低屈折率の透光性薄膜層、高屈折率の透光性薄膜層、低
屈折率層の透光性薄膜層が順次形成される反射防止コー
トであって、高屈折率の透光性薄膜層の少なくとも１層
が、シート抵抗率が１００Ω／□以下の透明導電性層で
あることを特徴とする電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項２０】 基板上に、低屈折率層の透光性薄膜
層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率の透光性薄膜
層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率層の透光性薄膜
層が順次形成される反射防止コートであって、高屈折率
の透光性薄膜層の少なくとも１層が、膜厚１０００Å以
上の透明導電性層で構成されていることを特徴とする電
磁波低減反射防止コート。 - 【請求項２１】 基板上に、低屈折率層の透光性薄膜
層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率の透光性薄膜
層、高屈折率の透光性薄膜層、低屈折率層の透光性薄膜
層が順次形成される反射防止コートであって、高屈折率
の透光性薄膜層の少なくとも１層が、シート抵抗率が１
００Ω／□以下の透明導電性層であることを特徴とする
電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項２２】 プラスチックよりなる光学部材上に、
請求項１〜２１のいずれかに記載の電磁波低減反射防止
コートを形成したことを特徴とする光学部材。 - 【請求項２３】 プラスチックよりなる光学部材が、７
０℃以上の耐熱性を有する材料により構成されているこ
とを特徴とする請求項２２に記載の光学部材。 - 【請求項２４】 ガラスよりなる光学部材上に、請求項
１〜２１のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コート
を形成したことを特徴とする光学部材。 - 【請求項２５】 フィルム状光学部材上に、請求項１〜
２１のいずれかに記載の電磁波低減反射防止コートを形
成したことを特徴とする光学部材。 - 【請求項２６】 フィルム状光学部材が偏光機能を有し
ていることを特徴とする請求項２５に記載の光学部材。 - 【請求項２７】 光学部材と電磁波低減反射防止コート
との間にハードコート層が設けられていることを特徴と
する請求項２２〜２５のいずれかに記載の光学部材。 - 【請求項２８】 電磁波低減反射防止コート上に、ハー
ドコート層を設けたことを特徴とする請求項２２〜２７
のいずれかに記載の光学部材。 - 【請求項２９】 請求項２２〜２８のいずれかに記載の
光学部材を他の光学部材と接合してなることを特徴とす
る光学部材。 - 【請求項３０】 他の光学部材と接合して使用される光
学部材であって、他の光学部材と接合される側の光学面
に導電性層を含む電磁波低減反射防止コートが形成され
ていることを特徴とする光学部材。 - 【請求項３１】 導電性層が膜厚１０００Å以上の透明
導電性層であり、電磁波低減反射防止コートが形成され
ている光学部材側の第１層は、屈折率が、 光学部材の屈折率＜第１層の屈折率＜透明導電性層の屈
折率の条件を満足する透光性薄膜層であることを特徴と
する請求項３０に記載の光学部材。 - 【請求項３２】 導電性層が膜厚１０００Å以上の透明
導電性層であり、光学部材から最も離れた層の屈折率
が、 最も離れた層に接する他の光学部材側の材料の屈折率＜
最も離れた層の屈折率＜透明導電性層の屈折率の条件を
満足する透光性薄膜層であることを特徴とする請求項３
０に記載の光学部材。 - 【請求項３３】 導電性層が、少なくとも酸化インジウ
ムを含む透明層であることを特徴とする請求項３１また
は３２に記載の光学部材。 - 【請求項３４】 導電性層が、少なくとも酸化インジウ
ムとスズを含む透明層であることを特徴とする請求項３
１または３２に記載の光学部材。 - 【請求項３５】 導電性層が透光性金属薄膜層であり、
電磁波低減反射防止コートが形成されている光学部材側
の第１層は、屈折率が、 光学部材の屈折率＜第１層の屈折率の条件を満足する透
光性薄膜層であることを特徴とする請求項３０に記載の
光学部材。 - 【請求項３６】 導電性層が透光性金属薄膜層であり、
光学部材から最も離れた層は、屈折率が、 最も離れた層に接する他の光学部材側の材料の屈折率＜
最も離れた層の屈折率の条件を満足する透光性薄膜層で
あることを特徴とする請求項３０に記載の光学部材。 - 【請求項３７】 透光性金属薄膜層が少なくともＡｕ、
Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｃｏ、Ａｌのいずれかの金属
を含む層であることを特徴とする請求項３５または３６
に記載の光学部材。 - 【請求項３８】 導電性層のシート抵抗が１００Ω／□
以下であることを特徴とする請求項３０〜３７のいずれ
かに記載の光学部材。 - 【請求項３９】 光学部材がフィルムで構成されている
ことを特徴とする請求項３０〜３８のいずれかに記載の
光学部材。 - 【請求項４０】 フィルムが偏光機能を有していること
を特徴とする請求項３９記載の光学部材。 - 【請求項４１】 光学部材または他の光学部材の少なく
とも一方がポリカーボネートで構成されていることを特
徴とする請求項２９〜４０のいずれかに記載の光学部
材。 - 【請求項４２】 請求項３９または４０の光学部材を光
学レンズの間に挟みこんでなる光学レンズ。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9269204A JPH1173119A (ja) | 1997-03-24 | 1997-09-17 | 電磁波シールド効果を有する反射防止コート及び反射防止コートを有する光学部材 |
| US09/044,802 US6104534A (en) | 1997-03-24 | 1998-03-20 | Antireflection coating with electromagnetic wave shielding effect and optical member having the antireflection coating |
| DE69814508T DE69814508T2 (de) | 1997-03-24 | 1998-03-23 | Antireflexionsschicht mit elektromagnetischem Abschirmeffekt und optisches Bauteil mit diesem Antireflexionsschicht |
| EP98105236A EP0867733B1 (en) | 1997-03-24 | 1998-03-23 | Antireflection coating with electromagnetic wave shielding effect and optical member having the antireflection coating |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8720997 | 1997-03-24 | ||
| JP9-87209 | 1997-06-17 | ||
| JP9-175180 | 1997-06-17 | ||
| JP17518097 | 1997-06-17 | ||
| JP9269204A JPH1173119A (ja) | 1997-03-24 | 1997-09-17 | 電磁波シールド効果を有する反射防止コート及び反射防止コートを有する光学部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1173119A true JPH1173119A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=27305442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9269204A Pending JPH1173119A (ja) | 1997-03-24 | 1997-09-17 | 電磁波シールド効果を有する反射防止コート及び反射防止コートを有する光学部材 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6104534A (ja) |
| EP (1) | EP0867733B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1173119A (ja) |
| DE (1) | DE69814508T2 (ja) |
Cited By (8)
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