JP2000235115A - プラズマディスプレイ用前面フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁波、近赤外線の漏洩が少なく、色彩、明る
さ、反射防止性においても優れた性能を示し、かつ低コ
ストのプラズマディスプレイ用前面フィルターを提供す
る。 【解決手段】基板上に、少なくとも導電性無機質膜と樹
脂フィルム層が設けられていることを特徴とするプラズ
マディスプレイ用前面フィルターによって達成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】プラズマディスプレイから発
せられる電磁波、近赤外線などを遮蔽する、プラズマデ
ィスプレイの前面フィルターに関わる。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイは、大型平板、薄
型のディスプレイとして、壁掛けテレビなどで大いなる
発展が期待されている。

【０００３】現在同ディスプレイは、パネルなど本体部
分の性能向上努力とともに、それを補う目的で前面フィ
ルターの使用が考えられている。同フィルターの使用目
的は例えば下記のようなものである。 (1)プラズマディスプレイ前面から漏洩する電磁波を遮
蔽し、所定の安全基準値以下まで下げる。 (2)プラズマディスプレイ前面から漏洩する近赤外線
（およそ８００〜１０００ｎｍ）を遮蔽し、リモートコ
ントローラ等の電子機器の誤動作源にならないようにす
る。 (3)プラズマディスプレイに混入する不要色を補正し
て、色質の適正化を図る。 (4)反射防止性を付与し、画面を見やすくする。 (5)パネルを破損から保護する。

【０００４】電磁波遮蔽機能付与技術については、特開
平９−２９１３５６号公報、特開平１０−１１９１６４
号公報、特開平１０−２１７３８０号公報などで開示す
る銀やＩＴＯの積層透明導電膜が知られている。

【０００５】近赤外線の遮蔽機能付与技術については、
上記透明導電膜自体が近赤外線を反射することが知られ
ている。また、特開平１０−２３０１３４号公報、特開
平１０−２８２３３５号公報、特開平１０−７８５０９
号公報、特開平１０−１８６１２７号公報などで開示す
る近赤外線吸収剤を用いる方法が知られている。

【０００６】プラズマディスプレイに混入する不要色と
は、蛍光体固有の発光色、封入ガス固有の発色光および
上記近赤外線吸収剤使用による色彩の濁りを挙げること
ができ、必要性に応じてそれらを補色する色素を使用す
る方法が特開平９−１４５９１８号公報で知られてい
る。

【０００７】そして、反射防止技術については、特開平
９−１４５９１８号公報、特開平９−３０６３６６号公
報などが知られている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
の普及を妨げる最大の理由は高価格にある。収率向上も
さることながら、ディスプレイを構成する個々の部材の
価格低下が実現して初めて全体のコストを低下できる。
プラズマディスプレイの一部材である前面フィルターに
必要とされる機能付与方法と低コスト化の関係について
鋭意検討し、本発明に至った。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、基板上
に、少なくとも導電性無機質膜と樹脂フィルム層が設け
られていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前
面フィルターによって達成される。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明に用いられるプラズマディ
スプレイ用前面フィルターの基板は、ガラス基板、樹脂
基板のいずれでもよい。ガラス基板は、ソーダガラス、
強化ガラスなど一般に入手できるガラス板ならいずれの
ものでも使用可能である。通常は、２〜４ｍｍ程度のも
のが使用される。ガラス基板は、ＰＭＭＡのようなプラ
スチック基板に比べ一般に安価である。

【００１１】また、樹脂基板は、ＰＭＭＡ、ポリカーボ
ネート、ポリエチレンテレフタレート、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート樹脂、ポリ４−メチルペ
ンテン−１、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂、アクリロ
ニトリルスチレン樹脂など透明性のある樹脂基板である
ならいずれでも使用可能である。通常は、２〜６ｍｍ程
度のものが使用される。樹脂基板はガラス基板に比べ一
般に強靱であり、外部からの打撃に対し、プラズマディ
スプレイパネルを保護する機能が高い。またガラス基板
に比べ軽量である。

【００１２】また本発明のプラズマディスプレイ用前面
フィルターは、樹脂フィルム層が設けられていることを
特徴とする。基板と各種機能を有する樹脂フィルム層を
別々に作成し、後から貼り合わせることにより、プラズ
マディスプレイ用前面フィルターの作成が容易になり、
コスト的に好ましい。樹脂フィルム層は、少なくとも接
着膜と樹脂フィルムからなり、該樹脂フィルム層を該接
着膜を介して基板の少なくとも片面に貼付することが、
より好ましい。

【００１３】樹脂フィルムの樹脂としては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、ポリカー
ボネート、ポリ塩化ビニル、アセチルセルロース、ポリ
エチレンテレフタレートなど透明性があり、固有の着色
の少ないものならいずれでも使用可能である。また、フ
ィルム厚みとしては、５〜２００μｍ程度が好ましい。

【００１４】また、接着膜としては、（メタ）アクリル
樹脂系やポリビニルブチラール系などの粘着型接着膜と
（メタ）アクリル系モノマー、オリゴマー、エポキシ樹
脂系などの熱または活性光線重合による硬化型接着膜な
どがある。本発明では、とくに限定しないが、耐久性の
観点からは硬化型接着膜の方が好ましい。これらの接着
膜は、通常５〜１００μｍ程度の膜厚で上記樹脂フィル
ムの片面に塗布することが好ましい。

【００１５】本発明において樹脂フィルム層は、色素お
よび／または近赤外線吸収剤を含むことが好ましい。

【００１６】色素は、プラズマディスプレイに混入する
不要色を補正して、色質の適正化を図る機能を有する。
例えば青色を発光する蛍光体が同時に赤色を発光する特
性を持つ場合は、赤色は不要光であり、プラズマディス
プレイ本来の色彩の質を低下させることがある。そこ
で、場合に応じて青ないし緑系統の染料または顔料から
なる補色用の色素を加え、補色するのである。

【００１７】また、近赤外線吸収剤は、プラズマディス
プレイ前面から漏洩する近赤外線（およそ８００〜１０
００ｎｍ）を遮蔽し、リモートコントローラ等の電子機
器の誤動作源にならないようにする機能を有する。近赤
外線吸収剤としては、ポリメチン系、フタロシアニン
系、アントラキノン系、ジイモニウム系などの近赤外線
吸収剤を用いることができる。なお、後述する導電性無
機質膜自体が近赤外線遮蔽効果を持つ場合があるが、そ
のような場合であっても樹脂フィルム層に近赤外線吸収
剤を含ませることにより、近赤外線遮蔽効果をよりいっ
そう高めることができるので好ましい。

【００１８】色素を添加する場合は、膜中に０．０００
０１〜２ｗｔ％、近赤外線吸収剤を添加する場合は、膜
中に０．１〜１５ｗｔ％の範囲で添加することが好まし
い。

【００１９】色素や近赤外線吸収剤を紫外線から保護す
る目的のため、樹脂フィルム層に、ベンゾフェノン系、
ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤を含ませるこ
とが好ましい。紫外線吸収剤の通常の配合量は、膜中に
０．１〜１０ｗｔ％である。

【００２０】本発明の樹脂フィルム層は、ハードコート
膜を持つことが、耐擦傷性を付与するうえで好ましい。
特に、樹脂フィルム上に後述する導電性無機質膜を形成
する場合は、樹脂フィルムと導電性無機質膜の間にハー
ドコート膜を形成することが、耐擦傷性の点から好まし
い。

【００２１】ハードコート膜としては、多官能性（メ
タ）アクリルモノマー、オリゴマー、多官能性エポキシ
樹脂、シラン系化合物の硬化物などが好ましく使用され
る。硬度向上や帯電防止性能付与の目的でシリカのよう
な１００ｎｍ以下の超微粒子を含むことも可能である。
通常０．５〜１５μｍ程度の膜厚で形成される。

【００２２】ハードコート膜は、硬度が鉛筆硬度で２Ｈ
以上であることが、傷つきにくく好ましい。このために
は、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物また
はその加水分解物を含む塗料を用いる方法がある。

【００２３】 Ｒ¹ _aＲ² _bＳｉ（ＯＲ³）_4-a-b （１） （式中Ｒ¹，Ｒ²は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、またはハロゲン、エポキシ基、グリシドキシ
基、アミノ基、メルカプト基、メタクリロイル基、アク
リロイル基を有する炭化水素基、Ｒ³は炭素数が１〜８
のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、フェ
ニル基であり、ａおよびｂは０または１である） 一般式（１）で表される化合物の具体例としては、メチ
ルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラ
ン、フェニルトリアルコキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジアルコキシ
シラン、γ−メタクリロイルプロピルトリアルコキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシランが挙げ
られる。

【００２４】色素、近赤外線吸収剤、紫外線吸収剤など
は、樹脂フィルム自体に含ませても良いし、樹脂フィル
ム上に形成された接着膜やハードコート膜に含ませても
良い。それらを添加する方法は、上記マトリックス成分
を含む塗料に、それらを配合して塗布し、脱溶媒や硬化
を行って膜を形成する方法や樹脂フィルムの成膜時にそ
れらを配合する方法、あるいは、形成後の膜をそれらで
染色する方法などを用いることができる。

【００２５】なお、基板が樹脂基板である場合には、樹
脂基板自体に色素、近赤外線吸収剤、紫外線吸収剤など
を配合することにより、不要色を補正する機能、近赤外
線遮蔽機能、紫外線吸収機能などを持たせることができ
る。それらは一般に基板成形時に、色素、近赤外線吸収
剤、紫外線吸収剤を配合する方法で付与できる。

【００２６】導電性無機質膜は、プラズマディスプレイ
前面から漏洩する電磁波を遮蔽し、所定の安全基準値以
下まで下げる機能を有する。

【００２７】導電性無機質膜は、基板上に形成しても、
樹脂フィルム層に形成して、後で基板と貼り合わせても
良い。基板上に形成する場合は、樹脂フィルム層の反対
の面に形成すると基板の保護の点から好ましい。

【００２８】電磁波は、通常３０〜１０００ＭＨｚの電
磁波を対象にする。中でも３００ＭＨｚ以下のものが主
要対象になる。電磁波発生源の強度により、遮蔽機能の
要求値が変化するのは当然であるが、通常は産業用途で
表面抵抗率（シート抵抗）が１０Ω／□以下、民生用途
で１Ω／□以下であるとされている。

【００２９】これらの導電性を実現し、かつ透明性を保
持する技術として、銀、金など金属薄膜やＩＴＯ、酸化
錫系などの透明性半導体膜を使用する技術を用いること
ができる。５０％以上、好ましくは６５％以上の可視光
透過率を得るために、金属系膜では厚くても１層１００
ｎｍ以下、半導体膜では１層７００ｎｍ以下にコントロ
ールすることが好ましい。これらの薄膜は、導電性、透
明性、コスト的要求を満足させるために、スパッタリン
グ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などを用
い、通常は何層かを積層する方法が取られる。また、
銅、銀など金属の無電解メッキ膜のエッチングや印刷
法、フォトマスク法などによるメッシュ状の微細回路形
成方法により導電性無機質膜を形成する方法も取り得
る。

【００３０】また、種類により程度の差はあるものの、
上記した金属薄膜や半導体薄膜自体が近赤外線領域遮蔽
効果を持つことがある。

【００３１】さらに好ましくは、外光映りを減じ、見や
すくするために、反射防止膜を設ける。反射防止膜は、
ウエットコーティング法による有機質膜または真空蒸着
法などのＰＶＤ法やＣＶＤ法による無機質膜もしくは有
機質膜として形成する。いずれの場合でも、最外層を低
屈折率膜にする。ウェットコーティング法の場合は、フ
ッ素を含有する、屈折率１．４３以下の、膜厚５０〜１
５０ｎｍ程度の光学薄膜であることが好ましい。

【００３２】ＰＶＤ法による無機質膜の場合は、ＴｉＯ
₂、ＺｒＯ₂、ＩＴＯなど高屈折率膜とＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂
などの低屈折率膜とを光学薄膜レベルの膜厚で付与す
る。低屈折率膜１層だけの場合のほか、高屈折率膜、低
屈折率膜とを交互に２〜１６層程度付与する場合などが
ある。

【００３３】反射防止膜は、いずれの面に設けても良
い。また、基板上に直接形成しても、樹脂フィルム層あ
るいは導電性無機質膜の上に形成しても良い。基板上に
直接形成する場合は、樹脂フィルム層の反対の面に設け
ると基板の保護の点から好ましい。また、導電性無機質
膜の上に形成することは、導電性無機質膜の最外層に反
射防止膜の高屈折率膜を兼ねさせることが可能であり好
ましい。

【００３４】本発明の実施にあたっては、樹脂フィルム
層は、基板の両面へ設けても、片面へ設けても良いが、
片面だけに設けるのがコスト的に有利である。

【００３５】本発明の好ましい態様の一つは、性能、コ
ストの観点から、片面に樹脂フィルム層を貼付け、反対
面に導電性無機質膜と反射防止膜のいずれか、あるい
は、その両方を形成する場合である。

【００３６】さらに、本発明の好ましい態様として基板
上に鉛筆硬度で２Ｈ以上であるハードコート膜を設け
る。特に、基板が樹脂基板である場合には、基板保護の
観点から好ましい。ハードコート膜は、基板の片面に設
けても両面に設けても良いが、基板の保護という点か
ら、基板の両面に設けるのが好ましい。

【００３７】ハードコート膜は、多官能性（メタ）アク
リルモノマー、オリゴマー、多官能性エポキシ樹脂、シ
ラン系化合物の硬化物などが好ましく使用されること
は、フィルム上に設けるハードコート膜の場合と同じで
ある。通常０．５〜１５μｍ程度の膜厚で形成される。

【００３８】また、基板上に設けるハードコート膜に、
前記と同様に、補色用色素または近赤外線吸収剤を含ま
せることにより、不要色を補正して色質の適正化を図る
機能または近赤外線遮蔽機能を付与することができる。
また、補色用色素や近赤外線吸収剤を紫外線から保護す
る目的のため、紫外線吸収剤が付与されていることが好
ましいことも同様である。これらの添加剤の好ましい種
類や添加量は、前記と同様である。これらの添加剤は、
樹脂フィルム層と基板上のハードコート膜のいずれか一
方に添加してもよいし、両方に添加してもよい。

【００３９】導電性無機質膜が電磁波遮蔽機能を的確に
発揮するためには、使用に際して、導電性無機質膜がア
ース取りされていることが好ましい。従って、本発明の
プラズマディスプレイ用前面フィルターは、導電性無機
質膜と接触または導電性無機質膜を貫通するアース取り
用の導電性端子を備えていることが好ましい。ここで、
導電性無機質膜と接触する導電性端子とは、平面状ない
し針状、または突起状の導電性端子のことであり、少な
くとも１箇所で導電性無機質膜と接触する。好ましくは
複数箇所で接触する場合、高い効果が得られる。また、
導電性無機質膜を貫通する導電性端子とは、導電性の針
状、丸頭状、棒状の端子であり、導電性無機質膜を貫通
する。この場合も、貫通部分は少なくとも１箇所、好ま
しくは複数箇所で貫通する場合、高い効果が得られる。

【００４０】

【実施例】実施例１ 厚さ３ｍｍの強化ガラス板の片面へ、真空蒸着法を用
い、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜
厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５
ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順に積層し、電
磁波遮蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性無機質膜を形
成した。

【００４１】さらに、導電性無機質膜の上に、真空蒸着
法により膜厚１８ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚１５ｎｍのＳ
ｉＯ₂膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚８０ｎｍのＳ
ｉＯ ₂膜からなる反射防止膜を形成した。

【００４２】厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの片面へ、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン加水分解物とビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂（油化シェルエポキシ製 商品名”エピコート”８
２７）を主成分とし、紫外線吸収剤（チバガイギー社製
商品名”チヌビン”３２６）５ｗｔ％含む、膜厚３μ
ｍ、鉛筆硬度３Ｈのハードコート膜を設け、さらにその
反対面へ近赤外線吸収剤（日本触媒社製 商品名”イー
エクスカラー”ＩＲ−４）２ｗｔ％、色素（三井化学社
製 商品名”ＰＳブルーＢＮ”）０．００１ｗｔ％、紫
外線吸収剤（チバガイギー社製 商品名”チヌビン”３
２６）２ｗｔ％含み、アクリル系樹脂を主成分にする紫
外線硬化型接着膜を、膜厚３０μｍで形成して、樹脂フ
ィルム層とした。

【００４３】導電性無機質膜および反射防止膜を形成し
た上記の基板の反対面へ、上記樹脂フィルム層を貼付
し、紫外線硬化法により固着した。

【００４４】導電性無機質膜が形成されている側の表面
外周部に、導電性無機質膜を貫通するように径２ｍｍの
丸頭状のステンレス棒３０本を圧入固定し、アース線を
取った。このものをプラズマディスプレイの前面フィル
ターとした。

【００４５】本前面フィルターの電磁波遮蔽能は、２０
０ＭＨｚの電界波に対し４５ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
３％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。 実施例２ 厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの
片面へ、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
加水分解物とビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シ
ェルエポキシ製 商品名”エピコート”８２７）を主成
分とし、紫外線吸収剤（チバガイギー社製 商品名”チ
ヌビン”３２６）５ｗｔ％含む、膜厚３μｍ、鉛筆硬度
３Ｈのハードコート膜を設けた。

【００４６】ハードコート膜の上に、真空蒸着法を用
い、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜
厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５
ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順に積層し、電
磁波遮蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性無機質膜を形
成した。

【００４７】さらに、導電性無機質膜の上に、真空蒸着
法により膜厚１８ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚１５ｎｍのＳ
ｉＯ₂膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚８０ｎｍのＳ
ｉＯ ₂膜からなる反射防止膜を形成した。

【００４８】その後、その反対面へ近赤外線吸収剤（日
本触媒社製 商品名”イーエクスカラー”ＩＲ−４）２
ｗｔ％、色素（三井化学社製 商品名”ＰＳブルーＢ
Ｎ”）０．００１ｗｔ％、紫外線吸収剤（チバガイギー
社製 商品名”チヌビン”３２６）２ｗｔ％含み、アク
リル系樹脂を主成分にする紫外線硬化型接着膜を、膜厚
３０μｍで形成して、樹脂フィルム層とした。

【００４９】厚さ３ｍｍの強化ガラス板の片面へ、真空
蒸着法により、膜厚１８ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚１５ｎ
ｍのＳｉＯ₂膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚８０ｎ
ｍのＳｉＯ₂膜からなる反射防止膜を形成した。

【００５０】ガラス基板の反射防止膜形成面の反対面
へ、上記樹脂フィルム層を貼付し、紫外線硬化法により
固着した。

【００５１】導電性無機質膜が形成されている側の表面
外周部に、導電性無機質膜を貫通するように径２ｍｍの
丸頭状のステンレス棒３０本を圧入固定し、アース線を
取った。このものをプラズマディスプレイの前面フィル
ターとした。

【００５２】本前面フィルターの電磁波遮蔽能は、２０
０ＭＨｚの電界波に対し４５ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
３％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。 実施例３ 厚さ４ｍｍの紫外線吸収剤を配合したＰＭＭＡ基板（波
長４００ｎｍ以下の光線の実質的透過がない）の両面
に、ディッピング法を用い、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン加水分解物とビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社製 商品名”エピコ
ート”８２７）を主成分とし、近赤外線吸収剤（日本触
媒社製 商品名”イーエクスカラー”ＩＲ−４）５ｗｔ
％、色素（三井化学社製 商品名”ＰＳブルーＢＮ”）
０．０１ｗｔ％、紫外線吸収剤（チバガイギー社製 商
品名”チヌビン”３２６）５ｗｔ％含む、膜厚３．５μ
ｍ、鉛筆硬度４Ｈのハードコート膜を形成した。

【００５３】ハードコート膜の片面に、真空蒸着法で膜
厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５
ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５ｎｍの
銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順に積層し、電磁波遮
蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性無機質膜を形成し
た。さらに、その上へ、真空蒸着法により、膜厚１８ｎ
ｍのＴｉＯ₂膜、膜厚１５ｎｍのＳｉＯ₂膜、膜厚２０ｎ
ｍのＴｉＯ₂膜、膜厚８０ｎｍのＳｉＯ₂膜からなる反射
防止膜を形成した。

【００５４】厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの片面へ、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン加水分解物とビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂（油化シェルエポキシ製 商品名エピコート８２
７）を主成分とし、紫外線吸収剤（チバガイギー社製
商品名チヌビン３２６）５ｗｔ％含む、膜厚３μｍのハ
ードコート膜を設けた。

【００５５】フィルム上のハードコート膜の上に、真空
蒸着法を用い、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩ
ＴＯ膜、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ
膜、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順
に積層し、電磁波遮蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性
無機質膜を形成した。さらに、その上へ、真空蒸着法に
より、膜厚１８ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚１５ｎｍのＳｉ
Ｏ₂膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚８０ｎｍのＳｉ
Ｏ₂膜からなる反射防止膜を形成した。

【００５６】さらに、その反対面へ近赤外線吸収剤（日
本触媒社製 商品名”イーエクスカラー”ＩＲ−４）２
ｗｔ％、紫外線吸収剤（チバガイギー社製 商品名”チ
ヌビン”３２６）２ｗｔ％含み、アクリル系樹脂を主成
分にする紫外線硬化型接着膜を膜厚３０μｍで形成し
て、樹脂フィルム層とした。

【００５７】ＰＭＭＡ基板の導電性無機質膜を形成した
のと反対の面へ、上記樹脂フィルム層を貼付し、紫外線
硬化法により固着した。

【００５８】それぞれの面の表面外周部に、導電性無機
質膜を貫通するように、それぞれ径２ｍｍの丸頭状のス
テンレス棒３０本を圧入固定し、アース線を取った。こ
のものをプラズマディスプレイの前面フィルターとし
た。

【００５９】本前面フィルターの電磁波遮蔽能は、２０
０ＭＨｚの電界波に対し４８ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
５％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。 実施例４ 厚さ４ｍｍの紫外線吸収剤を配合したＰＭＭＡ基板（波
長４００ｎｍ以下の光線の実質的透過がない）の両面
に、ディッピング法を用い、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン加水分解物とビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社製 商品名”エピコ
ート”８２７）を主成分とし、近赤外線吸収剤（日本触
媒社製 商品名”イーエクスカラー”ＩＲ−４）５ｗｔ
％、色素（三井化学社製 商品名”ＰＳブルーＢＮ”）
０．０１ｗｔ％、紫外線吸収剤（チバガイギー社製 商
品名”チヌビン”３２６）５ｗｔ％含む、膜厚３．５μ
ｍ、鉛筆硬度４Ｈのハードコート膜を形成した。

【００６０】ハードコート膜の片面に、真空蒸着法によ
り、膜厚１８ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚１５ｎｍのＳｉＯ₂
膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚８０ｎｍのＳｉＯ₂
膜からなる反射防止膜を形成した。

【００６１】厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの片面へ、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン加水分解物とビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂（油化シェルエポキシ製 商品名”エピコート”８
２７）を主成分とし、紫外線吸収剤（チバガイギー社製
商品名”チヌビン”３２６）５ｗｔ％含む、膜厚３μ
ｍのハードコート膜を設けた。

【００６２】フィルム上のハードコート膜の上に、真空
蒸着法を用い、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩ
ＴＯ膜、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ
膜、膜厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順
に積層し、電磁波遮蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性
無機質膜を形成した。さらに、その上へ、真空蒸着法に
より、膜厚１８ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚１５ｎｍのＳｉ
Ｏ₂膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ₂膜、膜厚８０ｎｍのＳｉ
Ｏ₂膜からなる反射防止膜を形成した。

【００６３】反射防止膜の反対面へ、近赤外線吸収剤
（日本触媒社製 商品名”イーエクスカラー”ＩＲ−
４）２ｗｔ％、紫外線吸収剤（チバガイギー社製 商品
名”チヌビン”３２６）２ｗｔ％含み、アクリル系樹脂
を主成分にする紫外線硬化型接着膜を、膜厚３０μｍで
形成して、樹脂フィルム層とした。

【００６４】ＰＭＭＡ基板の反射防止膜を形成したのと
反対の面へ、上記樹脂フィルム層を貼付し、紫外線硬化
法により固着した。

【００６５】導電性無機質膜が形成されている面の表面
外周部に、導電性無機質膜を貫通するように径２ｍｍの
丸頭状のステンレス棒３０本を圧入固定し、アース線を
取った。このものをプラズマディスプレイの前面フィル
ターとした。

【００６６】本前面フィルターの電磁波遮蔽能は、２０
０ＭＨｚの電界波に対し４５ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
３％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。

【００６７】

【発明の効果】本発明の前面フィルターを装着したプラ
ズマディスプレイは、漏洩する電磁波、近赤外線量が少
なく、色彩、明るさ、反射防止性でも優れた性能を示
し、かつ低コストで製造可能であった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｅ ３１８ Ｈ０４Ｎ 5/66 １０１Ｚ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｈ０４Ｎ 5/66 １０１ Ｚ Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA12 CA13 CA14 CA19 CA23 CA25 CA26 CA27 CA29 2K009 AA07 AA15 BB02 BB12 BB13 BB14 BB15 BB28 CC03 CC06 CC42 DD02 DD03 EE03 FF02 FF03 5C040 GH01 GH10 JA09 KB13 MA04 MA08 MA26 5C058 AA11 AB05 BA35 5G435 AA00 AA16 AA17 BB06 GG11 GG16 GG33 HH03 HH12 KK07

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、少なくとも導電性無機質膜と樹
   脂フィルム層が設けられていることを特徴とするプラズ
   マディスプレイ用前面フィルター。
2. 【請求項２】樹脂フィルム層が、少なくとも接着膜と樹
   脂フィルムからなり、該樹脂フィルム層が該接着膜を介
   して基板の少なくとも片面に貼付されていることを特徴
   とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用前面フィ
   ルター。
3. 【請求項３】導電性無機質膜が基板上に設けられている
   ことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ
   用前面フィルター。
4. 【請求項４】基板の片面に樹脂フィルム層が設けられ、
   その反対面に導電性無機質膜が設けられていることを特
   徴とする請求項３記載のプラズマディスプレイ用前面フ
   ィルター。
5. 【請求項５】基板上に設けられた導電性無機質膜の上
   に、さらに反射防止膜が設けられていることを特徴とす
   る請求項３記載のプラズマディスプレイ用前面フィルタ
   ー。
6. 【請求項６】導電性無機質膜が樹脂フィルム層上に設け
   られていることを特徴とする請求項１記載のプラズマデ
   ィスプレイ用前面フィルター。
7. 【請求項７】樹脂フィルム層が、樹脂フィルム上にハー
   ドコート膜が設けられたものであり、その上に導電性無
   機質膜が設けられていることを特徴とする請求項６記載
   のプラズマディスプレイ用前面フィルター。
8. 【請求項８】樹脂フィルム層が、補色用色素および／ま
   たは近赤外線吸収剤を含むものであることを特徴とする
   請求項１記載のプラズマディスプレイ用前面フィルタ
   ー。
9. 【請求項９】樹脂フィルム層が、紫外線吸収剤を含むこ
   とを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイ用
   前面フィルター。
10. 【請求項１０】樹脂フィルム層上に反射防止膜が設けら
    れたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプ
    レイ用前面フィルター。
11. 【請求項１１】樹脂フィルム層上に設けられた導電性無
    機質膜の上に、反射防止膜が設けられていることを特徴
    とする請求項６記載のプラズマディスプレイ用前面フィ
    ルター。
12. 【請求項１２】基板の片面に樹脂フィルム層が設けら
    れ、その反対面に反射防止膜が設けられていることを特
    徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用前面フ
    ィルター。
13. 【請求項１３】基板上に鉛筆硬度で２Ｈ以上であるハー
    ドコート膜を設けたことを特徴とする請求項１記載のプ
    ラズマディスプレイ用前面フィルター。
14. 【請求項１４】ハードコート膜が、補色用色素および／
    または近赤外線吸収剤を含むものであることを特徴とす
    る請求項１３記載のプラズマディスプレイ用前面フィル
    ター。
15. 【請求項１５】ハードコート膜が、紫外線吸収剤を含む
    ことを特徴とする請求項１４記載のプラズマディスプレ
    イ用前面フィルター。
16. 【請求項１６】導電性無機質膜と接触または導電性無機
    質膜を貫通する導電性端子を備えていることを特徴とす
    る請求項１記載のプラズマディスプレイ用前面フィルタ
    ー。