JPH11344935A - デイスプレイ前面板貼着用フイルム積層体およびデイスプレイ前面板 - Google Patents
デイスプレイ前面板貼着用フイルム積層体およびデイスプレイ前面板Info
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- JPH11344935A JPH11344935A JP20591998A JP20591998A JPH11344935A JP H11344935 A JPH11344935 A JP H11344935A JP 20591998 A JP20591998 A JP 20591998A JP 20591998 A JP20591998 A JP 20591998A JP H11344935 A JPH11344935 A JP H11344935A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 防汚性、反射防止性、電磁波シ−ルド性、近
赤外線遮断性、外観性などに優れたディスプレイ前面板
を提供するための、ディスプレイ前面板貼着用フイルム
積層体を提供する。 【解決手段】 透明性ベースフィルムの一面上に、少な
くともハ−ドコ−ト層、反射防止層をこの順に設け、該
透明性ベースフイルムの他面上に、少なくとも粘着剤層
を設け、透明性ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との間
もしくは透明性ベースフィルムと粘着剤層との間の少な
くとも一方の間に近赤外線吸収性層、透明導電性層を設
けたことを特徴とするディスプレイ前面板貼着用フイル
ム積層体と、この積層体を貼着したディスプレイ前面
板。
赤外線遮断性、外観性などに優れたディスプレイ前面板
を提供するための、ディスプレイ前面板貼着用フイルム
積層体を提供する。 【解決手段】 透明性ベースフィルムの一面上に、少な
くともハ−ドコ−ト層、反射防止層をこの順に設け、該
透明性ベースフイルムの他面上に、少なくとも粘着剤層
を設け、透明性ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との間
もしくは透明性ベースフィルムと粘着剤層との間の少な
くとも一方の間に近赤外線吸収性層、透明導電性層を設
けたことを特徴とするディスプレイ前面板貼着用フイル
ム積層体と、この積層体を貼着したディスプレイ前面
板。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、テレビ等のディスプレ
イの前面板において必要とされる防汚性、反射防止性、
ハ−ドコ−ト性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性な
どを付与するディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体
と該フイルム積層体を貼着してなるディスプレイ前面板
に関する。
イの前面板において必要とされる防汚性、反射防止性、
ハ−ドコ−ト性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性な
どを付与するディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体
と該フイルム積層体を貼着してなるディスプレイ前面板
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＣＲＴをはじめＬＣＤ、ＰＤＰ、
ＥＬ等、ディスプレイ分野は目まぐるしい発達を遂げて
いる。それに伴い、防汚性、反射防止性、ハ−ドコ−ト
性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性などの物性がデ
ィスプレイの前面板に要求されてきている。それに対
し、従来よりそれら機能を前面板に直接コ−ティングし
たり、もしくはプラスチックシートに前記の機能の一部
を保有させたものをディスプレイの前面に設置してなる
もの、さらにプラスチックシートに前記の機能の一部を
積層しこの積層シートをディスプレイの前面板に貼着す
ることが提案されている。
ＥＬ等、ディスプレイ分野は目まぐるしい発達を遂げて
いる。それに伴い、防汚性、反射防止性、ハ−ドコ−ト
性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性などの物性がデ
ィスプレイの前面板に要求されてきている。それに対
し、従来よりそれら機能を前面板に直接コ−ティングし
たり、もしくはプラスチックシートに前記の機能の一部
を保有させたものをディスプレイの前面に設置してなる
もの、さらにプラスチックシートに前記の機能の一部を
積層しこの積層シートをディスプレイの前面板に貼着す
ることが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
板、アクリル板等のプラスチック板の前面板に直接コ−
ティングを行う方法は、一枚、一枚枚葉でのコ−ティン
グとなるため、生産性、歩留が悪くなるため、加工コス
トが高くなる。更に、良好な外観性を得ることは非常に
困難であった。また、プラスチックシートに前記の機能
の一部を保有させたものをディスプレイの前面に設置し
てなるものは、機能が全て保有されていないこと、殊に
ディスプレイの最も主要な性能である見易さを犠牲にす
るもの、透明性に欠けるもの、異物感があるもの、等が
多かった。さらに、プラスチックシートに前記の機能の
一部を積層しこの積層シートをディスプレイの前面板に
貼着することにおいては、一部の機能を保有するが他の
必要な機能を保有しないものが多く、ディスプレイの前
面板として十分に満足されるものはなかった。
板、アクリル板等のプラスチック板の前面板に直接コ−
ティングを行う方法は、一枚、一枚枚葉でのコ−ティン
グとなるため、生産性、歩留が悪くなるため、加工コス
トが高くなる。更に、良好な外観性を得ることは非常に
困難であった。また、プラスチックシートに前記の機能
の一部を保有させたものをディスプレイの前面に設置し
てなるものは、機能が全て保有されていないこと、殊に
ディスプレイの最も主要な性能である見易さを犠牲にす
るもの、透明性に欠けるもの、異物感があるもの、等が
多かった。さらに、プラスチックシートに前記の機能の
一部を積層しこの積層シートをディスプレイの前面板に
貼着することにおいては、一部の機能を保有するが他の
必要な機能を保有しないものが多く、ディスプレイの前
面板として十分に満足されるものはなかった。
【０００４】したがって、本発明の目的は、本発明のフ
イルム積層体をディスプレイの前面板に貼着することで
十分に満足できるディスプレイの前面板を提供すること
であり、ディスプレイ前面板において必要な、防汚性、
反射防止性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性、など
全てを備えたディスプレイ前面板とその作製のためのデ
ィスプレイ前面板貼着用フイルム積層体とを提供するも
のである。
イルム積層体をディスプレイの前面板に貼着することで
十分に満足できるディスプレイの前面板を提供すること
であり、ディスプレイ前面板において必要な、防汚性、
反射防止性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性、など
全てを備えたディスプレイ前面板とその作製のためのデ
ィスプレイ前面板貼着用フイルム積層体とを提供するも
のである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、透明
性ベースフィルムの一面上に、少なくともハ−ドコ−ト
層、反射防止層をこの順に設け、該透明性ベースフイル
ムの他面上に、少なくとも粘着剤層を設け、透明性ベー
スフィルムとハ−ドコ−ト層との間もしくは透明性ベー
スフィルムと粘着剤層との間の少なくとも一方の間に近
赤外線吸収性層、透明導電性層を設けたことを特徴とす
るディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体であり、ガ
ラス板またはプラスチック板のディスプレイ前面板の基
板に、粘着剤層を介して透明性ベースフィルム、ハード
コート層、反射防止層がこの順に積層され、かつ透明性
ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との間もしくは透明性
ベースフィルムと粘着剤層との間の少なくとも一方の間
に近赤外線吸収性層、透明導電性層が積層されてなるこ
とを特徴とするディスプレイ前面板である。
性ベースフィルムの一面上に、少なくともハ−ドコ−ト
層、反射防止層をこの順に設け、該透明性ベースフイル
ムの他面上に、少なくとも粘着剤層を設け、透明性ベー
スフィルムとハ−ドコ−ト層との間もしくは透明性ベー
スフィルムと粘着剤層との間の少なくとも一方の間に近
赤外線吸収性層、透明導電性層を設けたことを特徴とす
るディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体であり、ガ
ラス板またはプラスチック板のディスプレイ前面板の基
板に、粘着剤層を介して透明性ベースフィルム、ハード
コート層、反射防止層がこの順に積層され、かつ透明性
ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との間もしくは透明性
ベースフィルムと粘着剤層との間の少なくとも一方の間
に近赤外線吸収性層、透明導電性層が積層されてなるこ
とを特徴とするディスプレイ前面板である。
【０００６】
【発明の実施態様】本発明のディスプレイ前面板貼着用
フイルム積層体において用いる透明性ベースフィルム
（以下ＢＦと略記することもある）としては、特に制限
はなく、十分な透明性を保有するものであればいずれも
用いることができる。例えばポリエチレンテレフタレー
トフィルム、トリアセチルセルロースフイルム、ポリカ
ーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミ
ドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリアクリル
系フイルムなどのフィルム等が挙げられるが、なかでも
透明性、耐熱性等の観点から、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、トリアセチルセルロースフイルム、ポリ
アクリル系フイルムが好ましく使用できる。ベースフィ
ルムの厚さとしては、特に制限はなく、通常１０〜２０
０μｍの範囲のものを用いるのが、しわや亀裂などのな
いディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体の製造が容
易にできる点から好ましい。
フイルム積層体において用いる透明性ベースフィルム
（以下ＢＦと略記することもある）としては、特に制限
はなく、十分な透明性を保有するものであればいずれも
用いることができる。例えばポリエチレンテレフタレー
トフィルム、トリアセチルセルロースフイルム、ポリカ
ーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミ
ドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリアクリル
系フイルムなどのフィルム等が挙げられるが、なかでも
透明性、耐熱性等の観点から、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、トリアセチルセルロースフイルム、ポリ
アクリル系フイルムが好ましく使用できる。ベースフィ
ルムの厚さとしては、特に制限はなく、通常１０〜２０
０μｍの範囲のものを用いるのが、しわや亀裂などのな
いディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体の製造が容
易にできる点から好ましい。
【０００７】本発明におけるハ−ドコ−ト層（以下ＨＣ
と略記することもある）は、紫外線硬化樹脂、電子線硬
化樹脂、アルコキシシラン加水分解縮合系樹脂、メラミ
ン系樹脂、チタネート系化合物等からのハードコート層
が特に限定なく使用できる。本発明におけるハ−ドコ−
ト層の一例としてのフッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層
は、屈折率が１．５以下、このましくは１．４以下
（１．２以上）の低屈折率のものであって、透明性に優
れたフッ素原子含有のしかも塗膜形成後の鉛筆硬度がＨ
以上のものであり、本発明におけるハ−ドコ−ト層の一
例としての金属酸化物を含有する高屈折率導電性ハ−ド
コ−ト層との密着性にも優れたものである。これらのフ
ッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層形成用の原料化合物の具
体例としては、パーフルオロアルキレン基含有の末端珪
素化合物、パーフルオロアルキレン基含有エポキシ化合
物、パーフルオロアルキレン基含有メラミン系化合物、
パーフルオロアルキレン基含有珪素化合物、等が挙げら
れ、これらの化合物からフッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト
層が形成される。前記の化合物に予めＳｉＯ2の微粒子
などの低屈折率化剤を含有せしめて樹脂化されハードコ
ート層として形成したものでもよい。これらのフッ素系
低屈折率ハ−ドコ−ト層の厚さは０．０５μｍから０．
２μｍの範囲でありより好ましくは０．０９μｍから
０．１１μｍの範囲である。
と略記することもある）は、紫外線硬化樹脂、電子線硬
化樹脂、アルコキシシラン加水分解縮合系樹脂、メラミ
ン系樹脂、チタネート系化合物等からのハードコート層
が特に限定なく使用できる。本発明におけるハ−ドコ−
ト層の一例としてのフッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層
は、屈折率が１．５以下、このましくは１．４以下
（１．２以上）の低屈折率のものであって、透明性に優
れたフッ素原子含有のしかも塗膜形成後の鉛筆硬度がＨ
以上のものであり、本発明におけるハ−ドコ−ト層の一
例としての金属酸化物を含有する高屈折率導電性ハ−ド
コ−ト層との密着性にも優れたものである。これらのフ
ッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層形成用の原料化合物の具
体例としては、パーフルオロアルキレン基含有の末端珪
素化合物、パーフルオロアルキレン基含有エポキシ化合
物、パーフルオロアルキレン基含有メラミン系化合物、
パーフルオロアルキレン基含有珪素化合物、等が挙げら
れ、これらの化合物からフッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト
層が形成される。前記の化合物に予めＳｉＯ2の微粒子
などの低屈折率化剤を含有せしめて樹脂化されハードコ
ート層として形成したものでもよい。これらのフッ素系
低屈折率ハ−ドコ−ト層の厚さは０．０５μｍから０．
２μｍの範囲でありより好ましくは０．０９μｍから
０．１１μｍの範囲である。
【０００８】本発明のハ−ドコ−ト層の一例としての金
属酸化物を含有する高屈折率導電性ハ−ドコ−ト層は、
屈折率が１．７以上、好ましくは１．８以上のものであ
って、透明性に優れしかも導電性をも有したもので塗膜
形成後の鉛筆硬度がＨ以上のものであり、フッ素系低屈
折率ハ−ドコ−ト層とのまた金属化合物及び金属からな
る層またはプライマ−層との密着性にも優れたものであ
る。その具体例としては、平均粒子径で０．０３μｍ以
下のＩＴＯ，酸化錫、酸化亜鉛、等の導電性微粒子およ
びまたは平均粒子径で０．０３μｍ以下のＴｉＯ2、Ｚ
ｒＯ2 、ＣｅＯ2等の高屈折率化剤微粒子を含有する、従
来からのハードコート層に使用される樹脂からの組成物
が使用できる。
属酸化物を含有する高屈折率導電性ハ−ドコ−ト層は、
屈折率が１．７以上、好ましくは１．８以上のものであ
って、透明性に優れしかも導電性をも有したもので塗膜
形成後の鉛筆硬度がＨ以上のものであり、フッ素系低屈
折率ハ−ドコ−ト層とのまた金属化合物及び金属からな
る層またはプライマ−層との密着性にも優れたものであ
る。その具体例としては、平均粒子径で０．０３μｍ以
下のＩＴＯ，酸化錫、酸化亜鉛、等の導電性微粒子およ
びまたは平均粒子径で０．０３μｍ以下のＴｉＯ2、Ｚ
ｒＯ2 、ＣｅＯ2等の高屈折率化剤微粒子を含有する、従
来からのハードコート層に使用される樹脂からの組成物
が使用できる。
【０００９】これらの金属酸化物を含有する高屈折率導
電性ハ−ドコ−ト層の厚さは１．０μｍから１０μｍの
範囲である。これらの厚さが１．０μｍに満たない時は
硬化がし難く、また硬度も充分でなく、１０μｍを超え
る場合は、層の割れや硬化不良が発生し易くなる。上記
フッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層と金属酸化物を含有す
る高屈折率（導電性）ハ−ドコ−ト層との積層によって
得られるハードコート層は、反射防止性能と汚染防止性
能が発現し後記の反射防止層としてまた防汚層としても
使用できる。本発明のハ−ドコ−ト層の一例として、ハ
ードコート層が、前記のハードコート層形成用樹脂中
に、球状シリカ粒子等の粒子を含有したハードコート層
である防眩性ハードコート層も挙げられる。
電性ハ−ドコ−ト層の厚さは１．０μｍから１０μｍの
範囲である。これらの厚さが１．０μｍに満たない時は
硬化がし難く、また硬度も充分でなく、１０μｍを超え
る場合は、層の割れや硬化不良が発生し易くなる。上記
フッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層と金属酸化物を含有す
る高屈折率（導電性）ハ−ドコ−ト層との積層によって
得られるハードコート層は、反射防止性能と汚染防止性
能が発現し後記の反射防止層としてまた防汚層としても
使用できる。本発明のハ−ドコ−ト層の一例として、ハ
ードコート層が、前記のハードコート層形成用樹脂中
に、球状シリカ粒子等の粒子を含有したハードコート層
である防眩性ハードコート層も挙げられる。
【００１０】本発明における反射防止層（以下ＨＢはと
略記することもある）は、特に限定されるものではない
が、低屈折率ハ−ドコ−ト層と高屈折率ハ−ドコ−ト層
との組み合わせによる複合層、透明無機化合物と透明金
属との薄膜の積層による所謂多層反射防止膜、少なくと
も光吸収性層と低屈折率層とからなる所謂光吸収性反射
防止膜、さらにＭｇＦ2膜等を利用する単層反射防止膜
等を挙げることができる。
略記することもある）は、特に限定されるものではない
が、低屈折率ハ−ドコ−ト層と高屈折率ハ−ドコ−ト層
との組み合わせによる複合層、透明無機化合物と透明金
属との薄膜の積層による所謂多層反射防止膜、少なくと
も光吸収性層と低屈折率層とからなる所謂光吸収性反射
防止膜、さらにＭｇＦ2膜等を利用する単層反射防止膜
等を挙げることができる。
【００１１】本発明における粘着剤層（以下ＮＴと略記
することもある）は、特に限定されるものではないが、
例えばアクリル系、酢酸ビニル系、塩化ビニル系、スチ
レンーブタジエン系、塩化ビニルー酢酸ビニル系、エチ
レンー酢酸ビニル系、ポリエステル系、塩化ゴム系、塩
素化ポリプロピレン系、ウレタン系などの樹脂の単独ま
たはこれらの混合物等から適宜選択採用される。粘着剤
層は、前記樹脂の塗液をグラビア印刷法、スクリーン印
刷法、オフセット印刷法等で、塗布、（必要により乾燥
させて）形成される。粘着剤層の厚さとしては特に制限
はなく、通常３〜５０μｍ程度の範囲から適宜選択採用
される。
することもある）は、特に限定されるものではないが、
例えばアクリル系、酢酸ビニル系、塩化ビニル系、スチ
レンーブタジエン系、塩化ビニルー酢酸ビニル系、エチ
レンー酢酸ビニル系、ポリエステル系、塩化ゴム系、塩
素化ポリプロピレン系、ウレタン系などの樹脂の単独ま
たはこれらの混合物等から適宜選択採用される。粘着剤
層は、前記樹脂の塗液をグラビア印刷法、スクリーン印
刷法、オフセット印刷法等で、塗布、（必要により乾燥
させて）形成される。粘着剤層の厚さとしては特に制限
はなく、通常３〜５０μｍ程度の範囲から適宜選択採用
される。
【００１２】本発明における近赤外線吸収性層（以下Ｋ
Ｋと略記することもある）は、近赤外線吸収性能を有す
る透明薄膜であればよく、限定されるものではないが、
前記の粘着剤層またプライマー層（以下ＰＬと略記する
こともある、この層は、本発明における各層間の密着性
等の向上のために適宜使用されるものであり、その両層
に接着性のよいポリマー成分を主とする組成物の塗布層
であり、厚さは０．５〜５μｍ程度の範囲が好ましいも
のである。その具体例としては、アクリル系樹脂、酢酸
ビニル系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ウレタン系樹脂等が挙げられる。）に、近赤外線吸収剤
を含有せしめた層が好ましく使用できるものである。
Ｋと略記することもある）は、近赤外線吸収性能を有す
る透明薄膜であればよく、限定されるものではないが、
前記の粘着剤層またプライマー層（以下ＰＬと略記する
こともある、この層は、本発明における各層間の密着性
等の向上のために適宜使用されるものであり、その両層
に接着性のよいポリマー成分を主とする組成物の塗布層
であり、厚さは０．５〜５μｍ程度の範囲が好ましいも
のである。その具体例としては、アクリル系樹脂、酢酸
ビニル系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ウレタン系樹脂等が挙げられる。）に、近赤外線吸収剤
を含有せしめた層が好ましく使用できるものである。
【００１３】近赤外線吸収剤としてはジイモニウム系化
合物、アミニウム系化合物、ポリメチン系化合物、シア
ニン系化合物、アントラキノン系化合物などの単独また
はこれらの混合物が好ましい。この中でも特にジイモニ
ウム系化合物が広域な近赤外線吸収能、透明性などから
好ましく、前記粘着剤層等の形成用樹脂と近赤外線吸収
剤とを主成分とした有機溶剤もしくは水に溶解させた塗
料を溶解もしくは分散させ、グラビヤ印刷法、スクリ−
ン印刷法、オフセット印刷法などの通常の印刷法で粘着
剤層等を形成する。また、透明近赤外線吸収剤含有の粘
着剤層等層中の近赤外線吸収剤の含有量としては目的と
する近赤外線吸収効果に合わせて０．０５〜１．０ｇ／
ｍ2から適宜選択される。透明近赤外線吸収層の厚みが
０．５μｍ未満の場合、要求される近赤外線吸収能を得
るためには透明近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤の含
有％を高くしなければならず、透明近赤外線吸収層の膜
質の低下、着色性、膜厚管理などの面で好ましくない。
また２０μｍを越えるとコスト面、膜厚管理などの面で
好ましくない。透明近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤
の含有量が０．０５ｇ／ｍ2未満の場合、目的の近赤外
線吸収効果が得られないので好ましくない。また１．０
ｇ／ｍ2を越えると可視光線の透過性とコスト面で好ま
しくない。
合物、アミニウム系化合物、ポリメチン系化合物、シア
ニン系化合物、アントラキノン系化合物などの単独また
はこれらの混合物が好ましい。この中でも特にジイモニ
ウム系化合物が広域な近赤外線吸収能、透明性などから
好ましく、前記粘着剤層等の形成用樹脂と近赤外線吸収
剤とを主成分とした有機溶剤もしくは水に溶解させた塗
料を溶解もしくは分散させ、グラビヤ印刷法、スクリ−
ン印刷法、オフセット印刷法などの通常の印刷法で粘着
剤層等を形成する。また、透明近赤外線吸収剤含有の粘
着剤層等層中の近赤外線吸収剤の含有量としては目的と
する近赤外線吸収効果に合わせて０．０５〜１．０ｇ／
ｍ2から適宜選択される。透明近赤外線吸収層の厚みが
０．５μｍ未満の場合、要求される近赤外線吸収能を得
るためには透明近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤の含
有％を高くしなければならず、透明近赤外線吸収層の膜
質の低下、着色性、膜厚管理などの面で好ましくない。
また２０μｍを越えるとコスト面、膜厚管理などの面で
好ましくない。透明近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤
の含有量が０．０５ｇ／ｍ2未満の場合、目的の近赤外
線吸収効果が得られないので好ましくない。また１．０
ｇ／ｍ2を越えると可視光線の透過性とコスト面で好ま
しくない。
【００１４】本発明における透明導電性層（以下ＴＤと
略記することもある）は、電磁波シールド性を付与する
機能を有したものであり、また赤外線をも遮断する機能
をも付与するものであり、例えば酸化錫系（その組み合
わせ例として、酸化錫／酸化亜鉛、酸化錫／硫酸バリウ
ム、酸化錫／ほう酸アルミニウム、酸化錫／チタン酸カ
リウム、酸化錫／酸化チタン、酸化錫／酸化アンチモ
ン、酸化錫／リン）、酸化インジュウム系（その組み合
わせ例として、酸化インジュウム／酸化錫、酸化インジ
ュウム／酸化亜鉛）等の金属化合物層が挙げられ、この
層の厚さは３０〜１００ｎｍの範囲、好ましくは４０〜
８０ｎｍの範囲である。さらに透明導電性層として、
金、銀、銅等の金属層（合金を含む）の、単層およびま
たは積層体が挙げられ、その層の厚さは透明性を損なわ
ない範囲でなければならず、１〜３０ｎｍの範囲、好ま
しくは３〜２０ｎｍの範囲である。透明導電性層は、上
記の例示物の金属アルコキシドからのもの、または平均
粒子径で０．０３μｍ以下の微粒子を含有した組成物の
塗布によって形成してもよいが、上記例示物を蒸着、ス
パッタリング等の手段によって形成してもよいものであ
る。
略記することもある）は、電磁波シールド性を付与する
機能を有したものであり、また赤外線をも遮断する機能
をも付与するものであり、例えば酸化錫系（その組み合
わせ例として、酸化錫／酸化亜鉛、酸化錫／硫酸バリウ
ム、酸化錫／ほう酸アルミニウム、酸化錫／チタン酸カ
リウム、酸化錫／酸化チタン、酸化錫／酸化アンチモ
ン、酸化錫／リン）、酸化インジュウム系（その組み合
わせ例として、酸化インジュウム／酸化錫、酸化インジ
ュウム／酸化亜鉛）等の金属化合物層が挙げられ、この
層の厚さは３０〜１００ｎｍの範囲、好ましくは４０〜
８０ｎｍの範囲である。さらに透明導電性層として、
金、銀、銅等の金属層（合金を含む）の、単層およびま
たは積層体が挙げられ、その層の厚さは透明性を損なわ
ない範囲でなければならず、１〜３０ｎｍの範囲、好ま
しくは３〜２０ｎｍの範囲である。透明導電性層は、上
記の例示物の金属アルコキシドからのもの、または平均
粒子径で０．０３μｍ以下の微粒子を含有した組成物の
塗布によって形成してもよいが、上記例示物を蒸着、ス
パッタリング等の手段によって形成してもよいものであ
る。
【００１５】本発明において、防汚性が不足する反射防
止膜を反射防止層として採用した時に、防汚性を付与す
るために、フッ素系コート剤、シリコン系コート剤、シ
リコン・フッ素系コート剤等の防汚層（以下ＢＳと略記
することもある）を設けてもよく、なかでもシリコン・
フッ素系コート剤が好ましく適用される。これらの防汚
層の厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下で、より好まし
くは１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下
である。これらの防汚層の厚さが１００ｎｍを超えると
きは、防汚染性の初期値は優れているが、耐久性におい
て劣るものとなる。防汚染性とその耐久性のバランスか
ら５ｎｍ以下が最も好ましい。
止膜を反射防止層として採用した時に、防汚性を付与す
るために、フッ素系コート剤、シリコン系コート剤、シ
リコン・フッ素系コート剤等の防汚層（以下ＢＳと略記
することもある）を設けてもよく、なかでもシリコン・
フッ素系コート剤が好ましく適用される。これらの防汚
層の厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下で、より好まし
くは１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下
である。これらの防汚層の厚さが１００ｎｍを超えると
きは、防汚染性の初期値は優れているが、耐久性におい
て劣るものとなる。防汚染性とその耐久性のバランスか
ら５ｎｍ以下が最も好ましい。
【００１６】本発明は、透明性ベースフィルム（ＢＦ）
の一面上に、少なくともハ−ドコ−ト層（ＨＣ）、反射
防止層（ＨＢ）をこの順に設け、該透明性ベースフイル
ムの他面上に、少なくとも粘着剤層（ＮＴ）を設け、透
明性ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との間もしくは透
明性ベースフィルムと粘着剤層との間の少なくとも一方
の間に近赤外線吸収性層（ＫＫ）、透明導電性層（Ｔ
Ｄ）を設けたことを特徴とするディスプレイ前面板貼着
用フイルム積層体であって、必要に応じて防汚層（Ｂ
Ｓ）を設けてもよいものであり、各層の構成例として
は、以下に挙げるものがあるが、これらに限定されるも
のではない。
の一面上に、少なくともハ−ドコ−ト層（ＨＣ）、反射
防止層（ＨＢ）をこの順に設け、該透明性ベースフイル
ムの他面上に、少なくとも粘着剤層（ＮＴ）を設け、透
明性ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との間もしくは透
明性ベースフィルムと粘着剤層との間の少なくとも一方
の間に近赤外線吸収性層（ＫＫ）、透明導電性層（Ｔ
Ｄ）を設けたことを特徴とするディスプレイ前面板貼着
用フイルム積層体であって、必要に応じて防汚層（Ｂ
Ｓ）を設けてもよいものであり、各層の構成例として
は、以下に挙げるものがあるが、これらに限定されるも
のではない。
【００１７】ＨＢ／ＨＣ／ＢＦ／ＨＣ／ＴＤ／ＫＫ
（ＮＴ） 注記：ＫＫ（ＮＴ）はＫＫがＮＴを兼ねている場合を示
す。（以下同じ） ＢＳ／ＨＢ／ＨＣ／ＢＦ／ＨＣ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＴＤ／ＫＫ／ＨＣ／ＢＦ／ＫＫ（ＮＴ） ＨＢ（ＨＣ）／ＢＦ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＴＤ／ＨＣ／ＢＦ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＢＦ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＢＳ／ＨＢ／ＨＣ／ＢＦ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＫＫ／ＢＦ／ＴＤ／ＮＴ
（ＮＴ） 注記：ＫＫ（ＮＴ）はＫＫがＮＴを兼ねている場合を示
す。（以下同じ） ＢＳ／ＨＢ／ＨＣ／ＢＦ／ＨＣ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＴＤ／ＫＫ／ＨＣ／ＢＦ／ＫＫ（ＮＴ） ＨＢ（ＨＣ）／ＢＦ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＴＤ／ＨＣ／ＢＦ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＢＦ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＢＳ／ＨＢ／ＨＣ／ＢＦ／ＴＤ／ＫＫ／ＮＴ ＨＢ／ＨＣ／ＫＫ／ＢＦ／ＴＤ／ＮＴ
【００１８】以下実施例によって本発明を説明する。
【実施例】＊＊実施例１ 厚さ１７５ミクロンのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム（ＢＦ）の一面に、アクリレート系アルコール変性
多官能化合物を主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫
外線硬化して厚さ５ミクロンのハードコート層（ＨＣ）
を形成し、該層をアルゴンガス下、圧力２Ｐａから６Ｐ
ａで、対向する電極に直流１ｋＶを加えてグロー放電処
理し、該処理を施したハードコート層上に、最初の無機
光学薄膜として、ＳｉＯ1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジ
ウム・錫系化合物（ＩＴＯ）からの薄膜を、最外層の膜
としてＳｉＯ2膜を、スパッタリングで、それぞれの膜
厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で５７ｎｍ、ＩＴＯからの薄膜で
１００ｎｍ、ＳｉＯ2膜で８５ｎｍとなるように製膜し
反射防止層（ＨＢ）を形成した。得られたこの積層体の
ポリエチレンテレフタレートフイルム（ＢＦ）の（上記
層形成面と異なる側である）他面に、透明導電性層（Ｔ
Ｄ）として、インジウム：錫＝９０：１０のターゲット
を用い、真空室内を１０-3Ｐａとし、ＡｒとＯ2の混合
ガスを導入しながら５×１０-1ＰａとしてＤＣスパッタ
リングでインジウム・錫膜（ＩＴＯ膜）を形成した、こ
のＩＴＯ膜の屈折率は２．０５であり膜厚は８０ｎｍで
あった。このＩＴＯ膜上に、エチレン．酢ビ系樹脂１０
部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５部、トルエン
５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコーテイ
ング法により塗布、乾燥して厚さ１．５μｍの近赤外線
吸収性層（ＫＫ）を形成した。この近赤外線吸収性層上
に、アクリル系の粘着剤層（ＮＴ）を１６μｍ厚さで形
成し、ディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体を得
た。
ルム（ＢＦ）の一面に、アクリレート系アルコール変性
多官能化合物を主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫
外線硬化して厚さ５ミクロンのハードコート層（ＨＣ）
を形成し、該層をアルゴンガス下、圧力２Ｐａから６Ｐ
ａで、対向する電極に直流１ｋＶを加えてグロー放電処
理し、該処理を施したハードコート層上に、最初の無機
光学薄膜として、ＳｉＯ1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジ
ウム・錫系化合物（ＩＴＯ）からの薄膜を、最外層の膜
としてＳｉＯ2膜を、スパッタリングで、それぞれの膜
厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で５７ｎｍ、ＩＴＯからの薄膜で
１００ｎｍ、ＳｉＯ2膜で８５ｎｍとなるように製膜し
反射防止層（ＨＢ）を形成した。得られたこの積層体の
ポリエチレンテレフタレートフイルム（ＢＦ）の（上記
層形成面と異なる側である）他面に、透明導電性層（Ｔ
Ｄ）として、インジウム：錫＝９０：１０のターゲット
を用い、真空室内を１０-3Ｐａとし、ＡｒとＯ2の混合
ガスを導入しながら５×１０-1ＰａとしてＤＣスパッタ
リングでインジウム・錫膜（ＩＴＯ膜）を形成した、こ
のＩＴＯ膜の屈折率は２．０５であり膜厚は８０ｎｍで
あった。このＩＴＯ膜上に、エチレン．酢ビ系樹脂１０
部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５部、トルエン
５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコーテイ
ング法により塗布、乾燥して厚さ１．５μｍの近赤外線
吸収性層（ＫＫ）を形成した。この近赤外線吸収性層上
に、アクリル系の粘着剤層（ＮＴ）を１６μｍ厚さで形
成し、ディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体を得
た。
【００１４】＊＊実施例２ 厚さ５μｍアクリル系紫外線硬化樹脂のハードコート層
（ＨＣ−１）が一面に設けられた、厚さ８０μｍのトリ
アセチルセルロースフイルム（ＢＦ）のハードコート層
（ｈｃ）の設けられていない面上に、ウレタンアクリレ
ート系樹脂１部、平均粒子径で０．０３μｍの酸化錫５
部と平均粒子径で０．０２μｍの酸化チタン２部、平均
粒子径で０．０３μｍの酸化ジルコニウム２部、トルエ
ン４０部、ＭＥＫ５０部からなる溶液をリバースコーテ
イング法により塗布、乾燥して厚さ３．５μｍの高屈折
率導電性ハ−ドコ−ト層を形成した。この高屈折率導電
性ハ−ドコ−ト層上に、両末端アクリレートパーフルオ
ロアルキレン基含有珪素化合物５部（以下、ことわらな
い限り重量部を示す）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケ
トン）５０部、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）４５部か
らなる溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾燥
して厚さ０．１μｍのフッ素系低屈折率ハードコート層
を形成し、ＨＣ（ＨＢ，ＢＳ）を形成した。次いで、ト
リアセチルセルロースフイルム（ＢＦ）の、前記積層形
成面とは異なるがわのハードコート層（ＨＣ）上に、マ
グネトロンスパッタリング法により厚さ３０ｎｍのＩＴ
Ｏ（インジウム錫酸化物）層（ＴＤ−１）を形成した。
このＩＴＯ（インジウム錫酸化物）層上に、マグネトロ
ンスパッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合
金層（Ａｇ：Ａｕが８：２の比）（ＴＤ−２）を形成し
た。このＡｇ．Ａｕ合金層上に、マグネトロンスパッタ
リング法により厚さ３０ｎｍのＩＴＯ（インジウム錫酸
化物）層（ＴＤ−３）を形成した。さらにこのＩＴＯ
（インジウム錫酸化物）層上に、エチレン．酢ビ系樹脂
１０部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５部、トル
エン５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコー
テイング法により塗布、乾燥して厚さ１．５μｍの近赤
外線吸収性層（ＫＫ）を形成した。この近赤外線吸収性
層上に、アクリル系の粘着剤層（ＮＴ）を１６μｍ厚さ
で形成し、ディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体を
得た。
（ＨＣ−１）が一面に設けられた、厚さ８０μｍのトリ
アセチルセルロースフイルム（ＢＦ）のハードコート層
（ｈｃ）の設けられていない面上に、ウレタンアクリレ
ート系樹脂１部、平均粒子径で０．０３μｍの酸化錫５
部と平均粒子径で０．０２μｍの酸化チタン２部、平均
粒子径で０．０３μｍの酸化ジルコニウム２部、トルエ
ン４０部、ＭＥＫ５０部からなる溶液をリバースコーテ
イング法により塗布、乾燥して厚さ３．５μｍの高屈折
率導電性ハ−ドコ−ト層を形成した。この高屈折率導電
性ハ−ドコ−ト層上に、両末端アクリレートパーフルオ
ロアルキレン基含有珪素化合物５部（以下、ことわらな
い限り重量部を示す）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケ
トン）５０部、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）４５部か
らなる溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾燥
して厚さ０．１μｍのフッ素系低屈折率ハードコート層
を形成し、ＨＣ（ＨＢ，ＢＳ）を形成した。次いで、ト
リアセチルセルロースフイルム（ＢＦ）の、前記積層形
成面とは異なるがわのハードコート層（ＨＣ）上に、マ
グネトロンスパッタリング法により厚さ３０ｎｍのＩＴ
Ｏ（インジウム錫酸化物）層（ＴＤ−１）を形成した。
このＩＴＯ（インジウム錫酸化物）層上に、マグネトロ
ンスパッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合
金層（Ａｇ：Ａｕが８：２の比）（ＴＤ−２）を形成し
た。このＡｇ．Ａｕ合金層上に、マグネトロンスパッタ
リング法により厚さ３０ｎｍのＩＴＯ（インジウム錫酸
化物）層（ＴＤ−３）を形成した。さらにこのＩＴＯ
（インジウム錫酸化物）層上に、エチレン．酢ビ系樹脂
１０部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５部、トル
エン５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコー
テイング法により塗布、乾燥して厚さ１．５μｍの近赤
外線吸収性層（ＫＫ）を形成した。この近赤外線吸収性
層上に、アクリル系の粘着剤層（ＮＴ）を１６μｍ厚さ
で形成し、ディスプレイ前面板貼着用フイルム積層体を
得た。
【００１５】＊＊実施例３ 厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム
（ＢＦ）の一面上に、アクリレート系アルコール変性多
官能化合物を主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫外
線硬化して厚さ５μｍのハードコート層（ＨＣ）を形成
し、該ハードコート層上に、最初の無機光学薄膜とし
て、ＳｉＯ1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジウム・錫系化
合物（ＩＴＯ）からの薄膜を、ついでＴａ2Ｏ5の膜を、
最外層の膜としてＳｉＯ2膜を、スパッタリングで、そ
れぞれの膜厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で２３ｎｍ、ＩＴＯの
薄膜で６０ｎｍ、Ｔａ2Ｏ5の膜で５３ｎｍ、ＳｉＯ2膜
で９０ｎｍとなるように製膜し反射防止層（ＨＢ）を形
成した。得られた前記の反射防止フイルムの、最外層の
膜としてＳｉＯ2膜上に、シリコン・フッ素系防汚染剤
である、パーフルオロアルキル基含有シリコン系化合物
を、厚さ３．０ｎｍとなるように塗布乾燥硬化せしめて
防汚層（ＢＳ）を形成した。次いで、ポリエチレンテレ
フタレートフイルム（ＢＦ）の他面上に、アクリレート
系アルコール変性多官能化合物を主材とする塗布液を塗
布・予備乾燥・紫外線硬化して厚さ５μｍのハードコー
ト層（ＨＣ）を形成し、この層（ＨＣ）上に、マグネト
ロンスパッタリング法により厚さ８０ｎｍのＩＴＯ（イ
ンジウム錫酸化物）層（ＴＤ）を形成した。さらにこの
ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）層上に、エチレン．酢ビ
系樹脂１０部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５
部、トルエン５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバ
ースコーテイング法により塗布、乾燥して厚さ１．５μ
ｍの近赤外線吸収性層（ＫＫ）を形成した。この近赤外
線吸収性層上に、アクリル系の粘着剤層（ＮＴ）を１６
μｍ厚さで形成し、ディスプレイ前面板貼着用フイルム
積層体を得た。
（ＢＦ）の一面上に、アクリレート系アルコール変性多
官能化合物を主材とする塗布液を塗布・予備乾燥・紫外
線硬化して厚さ５μｍのハードコート層（ＨＣ）を形成
し、該ハードコート層上に、最初の無機光学薄膜とし
て、ＳｉＯ1Ｎ1の膜を、ついで酸化インジウム・錫系化
合物（ＩＴＯ）からの薄膜を、ついでＴａ2Ｏ5の膜を、
最外層の膜としてＳｉＯ2膜を、スパッタリングで、そ
れぞれの膜厚が、ＳｉＯ1Ｎ1の膜で２３ｎｍ、ＩＴＯの
薄膜で６０ｎｍ、Ｔａ2Ｏ5の膜で５３ｎｍ、ＳｉＯ2膜
で９０ｎｍとなるように製膜し反射防止層（ＨＢ）を形
成した。得られた前記の反射防止フイルムの、最外層の
膜としてＳｉＯ2膜上に、シリコン・フッ素系防汚染剤
である、パーフルオロアルキル基含有シリコン系化合物
を、厚さ３．０ｎｍとなるように塗布乾燥硬化せしめて
防汚層（ＢＳ）を形成した。次いで、ポリエチレンテレ
フタレートフイルム（ＢＦ）の他面上に、アクリレート
系アルコール変性多官能化合物を主材とする塗布液を塗
布・予備乾燥・紫外線硬化して厚さ５μｍのハードコー
ト層（ＨＣ）を形成し、この層（ＨＣ）上に、マグネト
ロンスパッタリング法により厚さ８０ｎｍのＩＴＯ（イ
ンジウム錫酸化物）層（ＴＤ）を形成した。さらにこの
ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）層上に、エチレン．酢ビ
系樹脂１０部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５
部、トルエン５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバ
ースコーテイング法により塗布、乾燥して厚さ１．５μ
ｍの近赤外線吸収性層（ＫＫ）を形成した。この近赤外
線吸収性層上に、アクリル系の粘着剤層（ＮＴ）を１６
μｍ厚さで形成し、ディスプレイ前面板貼着用フイルム
積層体を得た。
【００１９】実施例で得られたディスプレイ前面板貼着
用フイルム積層体をアクリル板に転写し、ディスプレイ
前面板を得た。この得られたディスプレイ前面板につい
て、下記の測定、評価を実施した。 透過率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所
製）を用い５５０ｎｍの光線透過率を測定した。単位は
％である。 反射率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所
製）を用い５５０ｎｍの光線反射率を測定した。単位は
％である。 鉛筆硬度；ＪＩＳ−Ｋ５４００に準じて測定した。 電磁波シールド性；社団法人関西電子振興センター、
ＫＥＣ法（電界モード）にて１から１０００ＭＨｚの範
囲で測定した。単位はｄＢである。 近赤外線透過率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島
津製作所製）を用い、８００ｎｍから１２００ｎｍの光
線透過率を測定した。単位は％である。
用フイルム積層体をアクリル板に転写し、ディスプレイ
前面板を得た。この得られたディスプレイ前面板につい
て、下記の測定、評価を実施した。 透過率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所
製）を用い５５０ｎｍの光線透過率を測定した。単位は
％である。 反射率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所
製）を用い５５０ｎｍの光線反射率を測定した。単位は
％である。 鉛筆硬度；ＪＩＳ−Ｋ５４００に準じて測定した。 電磁波シールド性；社団法人関西電子振興センター、
ＫＥＣ法（電界モード）にて１から１０００ＭＨｚの範
囲で測定した。単位はｄＢである。 近赤外線透過率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島
津製作所製）を用い、８００ｎｍから１２００ｎｍの光
線透過率を測定した。単位は％である。
【００２０】各実施例での結果はいずれも、 透過率； ７０以上 反射率； １．０以下 鉛筆硬度； ２Ｈ以上 電磁波シールド性； ６０以上（２０ＭＨｚ），４
０以上（１００ＭＨｚ） 近赤外線透過率； ２３以下（８００ｎｍ），３
以下（１２００ｎｍ） であり、いずれも、反射防止性、ハ−ドコ−ト性、電磁
波シ−ルド性、近赤外線遮断性の優れたディスプレイ前
面板であった。
０以上（１００ＭＨｚ） 近赤外線透過率； ２３以下（８００ｎｍ），３
以下（１２００ｎｍ） であり、いずれも、反射防止性、ハ−ドコ−ト性、電磁
波シ−ルド性、近赤外線遮断性の優れたディスプレイ前
面板であった。
【００２６】
【発明の効果】本発明のディスプレイ前面板貼着用フイ
ルム積層体を使用することで、従来のディスプレイ前面
板における物性面、外観性面等の問題点を解決し、防汚
性、反射防止性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性、
外観性などに優れたディスプレイ前面板が提供できる。
ルム積層体を使用することで、従来のディスプレイ前面
板における物性面、外観性面等の問題点を解決し、防汚
性、反射防止性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性、
外観性などに優れたディスプレイ前面板が提供できる。
Claims (2)
- 【請求項１】 透明性ベースフィルムの一面上に、少な
くともハ−ドコ−ト層、反射防止層をこの順に設け、該
透明性ベースフイルムの他面上に、少なくとも粘着剤層
を設け、透明性ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との間
もしくは透明性ベースフィルムと粘着剤層との間の少な
くとも一方の間に近赤外線吸収性層、透明導電性層を設
けたことを特徴とするディスプレイ前面板貼着用フイル
ム積層体。 - 【請求項２】 ガラス板またはプラスチック板のディス
プレイ前面板の基板に、粘着剤層を介して透明性ベース
フィルム、ハードコート層、反射防止層がこの順に積層
され、かつ透明性ベースフィルムとハ−ドコ−ト層との
間もしくは透明性ベースフィルムと粘着剤層との間の少
なくとも一方の間に近赤外線吸収性層、透明導電性層が
積層されてなることを特徴とするディスプレイ前面板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20591998A JPH11344935A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | デイスプレイ前面板貼着用フイルム積層体およびデイスプレイ前面板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20591998A JPH11344935A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | デイスプレイ前面板貼着用フイルム積層体およびデイスプレイ前面板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11344935A true JPH11344935A (ja) | 1999-12-14 |
Family
ID=16514925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20591998A Pending JPH11344935A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | デイスプレイ前面板貼着用フイルム積層体およびデイスプレイ前面板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11344935A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000190414A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Takiron Co Ltd | 多機能複合素材 |
| EP1280179A2 (en) * | 2001-07-23 | 2003-01-29 | Asahi Glass Company Ltd. | Flat display panel |
| US6965191B2 (en) | 2000-02-01 | 2005-11-15 | Mitsui Chemicals, Inc. | Display filter, display apparatus, and method for production of the same |
| JP2014134770A (ja) * | 2012-12-13 | 2014-07-24 | Dic Corp | ハードコートフィルム、加飾フィルム及び保護フィルム |
-
1998
- 1998-05-29 JP JP20591998A patent/JPH11344935A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000190414A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Takiron Co Ltd | 多機能複合素材 |
| US6965191B2 (en) | 2000-02-01 | 2005-11-15 | Mitsui Chemicals, Inc. | Display filter, display apparatus, and method for production of the same |
| EP1280179A2 (en) * | 2001-07-23 | 2003-01-29 | Asahi Glass Company Ltd. | Flat display panel |
| EP1280179A3 (en) * | 2001-07-23 | 2003-09-03 | Asahi Glass Company Ltd. | Flat display panel |
| JP2014134770A (ja) * | 2012-12-13 | 2014-07-24 | Dic Corp | ハードコートフィルム、加飾フィルム及び保護フィルム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040109 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040210 |