JP2003080624A - 透明導電材料およびタッチパネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明基材表面に特定の高屈折率層、低屈折率
層を順次形成した上に、透明導電層を形成することによ
り、透過光および反射光の着色を抑えた透明導電材料を
提供する。 【解決手段】 透明基材（Ａ）の片面もしくは両面に、
直接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、少
なくとも（Ｂ）屈折率１．６０〜１．６９、光学膜厚が
１１０〜１７０ｎｍの高屈折率層、（Ｃ）屈折率１．３
０〜１．５５、光学膜厚が２０〜１２０ｎｍの低屈折率
層、（Ｄ）光学膜厚が１０〜６０ｎｍの金属もしくは金
属酸化物からなる透明導電層を積層した透明導電材料で
あり、４００〜８００ｎｍにおける光線透過率の最大値
が４００〜５００ｎｍである透明導電材料

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，透明導電材料およ
びタッチパネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】

【０００３】現在、画面表示に直接触れることにより、
情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが用いら
れている。これは光を透過する入力装置を液晶表示装
置、ＣＲＴ等の各種ディスプレイ上に配置したものであ
り、代表的な形式のひとつとして、透明電極基板２枚を
透明電極層が向かい合う様に配置した抵抗膜式タッチパ
ネルがある。

【０００４】抵抗膜式タッチパネル用の透明電極基板と
して、ガラスもしくは透明樹脂板や各種の熱可塑性高分
子フィルムの基板上に、酸化錫を含有するインジウム酸
化物（ＩＴＯ）や酸化亜鉛等の金属酸化物による透明導
電層を積層したものが一般的に用いられている。このよ
うにして得られた透明電極基板は、金属酸化物層の反射
および吸収に由来する可視光短波長域の透過率低下によ
る、黄色もしくは茶色の呈色が観られることが多い。そ
のためタッチパネルの下に配置される表示装置の発色を
正確に表現することが難しいといった問題があった。

【０００５】この問題を解決するために、透明電極層を
多層光学膜と組み合わせる方法が特開平１１−２８６０
６６号公報や特開２０００−３０１６４８号公報に提案
されている。これらは透明電極層と透明基板の間に光学
薄膜を組み合わせたものであり、透明電極材料の透過率
をコントロールして透過光の着色を抑える効果が得られ
る。しかし透過光の着色を抑え透過率を向上させるため
に、電極層が４００〜５００ｎｍに最小反射率を持つよ
うに設計する必要があり、そのために反射色が黄色に強
く着色する問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的は
透過光および反射光の着色を抑えた透明導電材料を提供
することにある。第２の目的は透過光および反射光の着
色を抑えたタッチパネルを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記問題
点に鑑み鋭意検討した結果、透明基材表面に特定の高屈
折率層、低屈折率層を順次形成した上に、透明導電層を
形成することにより、透過光および反射光の着色を抑え
た透明導電材料を形成できることを見い出し、本発明を
完成した。本発明は次の（１）〜（７）である。すなわ
ち、 （１） 透明基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直接も
しくは一層以上の層を介して基材側から順に、少なくと
も（Ｂ）屈折率１．６０〜１．６９、光学膜厚が１１０
〜１７０ｎｍの高屈折率層、（Ｃ）屈折率１．３０〜
１．５５、光学膜厚が２０〜１２０ｎｍの低屈折率層、
（Ｄ）光学膜厚が１０〜６０ｎｍの金属もしくは金属酸
化物からなる透明導電層を積層した透明導電材料であ
り、４００〜８００ｎｍにおける光線透過率の最大値が
４００〜５００ｎｍである透明導電材料。 （２） 透過光色がＬ＊ａ＊ｂ＊表色系において−２＜
ａ＊＜２、−２＜ｂ＊＜２であり、かつ透明導電層の反
射光色が−１５＜ａ＊＜１５、０＜ｂ＊＜２０である前
記（１）の透明導電材料。 （３） 透明導電層（Ｄ）が酸化インジウム錫を蒸着
法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、もしくはスパ
ッタリング法のいずれか１種の方法により形成した層で
あり、その表面抵抗値が１０００Ω以下である前記
（１）または（２）の透明導電材料。 （４） 低屈折率層（Ｃ）が含フッ素重合体を１０〜１
００重量％含んでなる前記（１）から（３）のいずれか
に記載の透明導電材料。 （５） 透明基材（Ａ）が厚み１０〜５００μｍのプラ
スチックフィルムである前記（１）から（４）のいずれ
かに記載の透明導電材料。 （６） （Ｂ）、（Ｃ）の層をそれぞれウェットコーテ
ィング法により形成した前記（１）から（５）のいずれ
かに記載の透明導電材料。 （７） 前記（１）から（６）のいずれかに記載の透明
導電材料を電極として用いたタッチパネル。

【０００８】

【発明の実施形態】以下本発明をさらに詳細に説明す
る。本発明の透明導電材料は、透明基材（Ａ）の片面も
しくは両面に、直接もしくは一層以上の層を介して基材
側から順に、少なくとも（Ｂ）屈折率１．６０〜１．６
９、光学膜厚が１１０〜１７０ｎｍの高屈折率層、
（Ｃ）屈折率１．３０〜１．５５、光学膜厚が２０〜１
２０ｎｍの低屈折率層、（Ｄ）光学膜厚が１０〜６０ｎ
ｍの金属もしくは金属酸化物からなる透明導電層を積層
した透明導電材料であり、４００〜８００ｎｍにおける
光線透過率の最大値が４００〜５００ｎｍである。

【０００９】本発明に用いる透明基材（Ａ）としては特
に限定されるものではないが、形状として例えば板状も
しくはフィルム状のものが挙げられる。生産性、運搬性
の点からフィルム状のものが好ましく挙げられる。フィ
ルムの厚みとしては１０〜５００μｍのものが透明性、
作業性の点より好ましく挙げられる。また透明基材の材
質としては特に限定されるものではないが、例えば、ガ
ラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチ
ル共重合体、トリアセチルセルロース、ポリオレフィ
ン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、非晶質ポリオレフィ
ン等透明樹脂を好ましく挙げることができる。ここでい
う透明性とは光線透過率で５０％以上であり、より好ま
しくは７０％以上、更に好ましくは８０％以上である。

【００１０】前記の透明基材（Ａ）表面には、基材から
順に直接もしくは一層以上の層を介して少なくとも、
（Ｂ）屈折率１．６０〜１．６９、光学膜厚が１１０〜
１７０ｎｍの高屈折率層、（Ｃ）屈折率１．３０〜１．
５５、光学膜厚が２０〜１２０ｎｍの低屈折率層、
（Ｄ）光学膜厚１０〜６０ｎｍの金属もしくは金属酸化
物からなる透明導電層を積層する。ここでいう光学膜厚
とは層の屈折率（ｎ）と層の厚み（ｄ）の積（ｎ・ｄ）
を示す。

【００１１】透明基材に透明導電層（Ｄ）を直接形成し
た場合は、紫から青色の光である４００〜５００ｎｍの
光に対する反射および吸収が、５００〜８００ｎｍの光
に対するより大きいため透過光が黄色に着色する。本発
明の透明導電材料は前記（Ｂ）〜（Ｄ）を積層すること
により、４００〜５００ｎｍの光に対する透過率を５０
０〜８００ｎｍの透過率に対して高くし、透明導電層の
透過光のバランスを補正し着色を低減することができ
る。このときの透過色はＪＩＳ Ｚ８７２９（８０）に
定められるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系において、−２＜ａ＊＜
２、−２＜ｂ＊＜２の範囲内であることが好ましい。そ
れぞれが範囲外であると透過色の着色が明確になり好ま
しくない。

【００１２】また透明導電層の反射光の着色は、前記の
透過色補正のために４００〜５００ｎｍの範囲の反射率
を抑えることにより生じる。すなわち紫から青色の光で
ある４００〜５００ｎｍの光に対する反射を５００〜８
００ｎｍの光に対するより小さく抑えるため反射光が黄
色に着色する。本発明では高屈折率層（Ｂ）の屈折率を
１．６０〜１．６９とし、かつ各層の膜厚を特定範囲と
することにより、反射率を制御して着色を抑えている。
高屈折率層の屈折率が本発明の範囲より高い場合は、該
範囲内にａ＊、ｂ＊を収めることが困難になる。着色の
程度を抑えるためには、反射光色がＬ＊ａ＊ｂ＊表色系
で−１５＜ａ＊＜１５、０＜ｂ＊＜２０であることが好
ましく、さらに好ましくは−１０＜ａ＊＜１０、０＜ｂ
＊＜１５、より好ましくは−５＜ａ＊＜１０、０＜ｂ＊
＜１０である。該範囲以外では反射光の着色が明確にな
る。

【００１３】透明基材上に形成する高屈折率層（Ｂ）、
低屈折率層（Ｃ）の形成方法は従来公知のものでよく、
特に限定されない。例えばドライコーティング法、ウェ
ットコーティング法等の方法をとることができる。生産
性、コストの面より、特にウェットコート法が好まし
い。ウェットコーティングの方法としては公知のもので
良く、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ディ
ップコート法などが代表的なものとして挙げられる。ロ
ールコート法等、連続的に形成できる方法が生産性の点
より好ましい。

【００１４】高屈折率層（Ｂ）の材料としては、該屈折
率の範囲を超えず、本発明の効果を損なわない限りは特
に限定されず、従来公知のものを使用することができ
る。例えば、有機物、無機物およびその混合物を用いる
ことができる。無機物としては例えば酸化亜鉛、酸化チ
タン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、
酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウ
ム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫等が挙げられ
る。またウェットコート法で形成する場合、前記金属酸
化物の超微粒子と硬化性単量体や重合体の混合物を用い
ることが好ましい。硬化性単量体としては、特に限定さ
れないが、例えば多官能もしくは単官能の（メタ）アク
リレートエステル、テトラエトキシシラン等の珪素化合
物等が挙げられる。重合体としては特に限定されず、従
来公知のものも使用できる。生産性および膜強度の観点
より紫外線硬化性多官能アクリレート単量体であること
が特に好ましい。

【００１５】また無機物を微粒子として用いる場合は、
その平均粒径が層の厚みを大きく超えないことが好まし
く、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。平均粒
径が大きくなると、散乱が生じるなど、高屈折率層の透
明性が低下するため好ましくない。また必要に応じて微
粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することが
できる。各種カップリング剤としては例えば、有機置換
された珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコ
ニウム、アンチモン等の金属アルコキシド、有機酸塩等
が挙げられる。

【００１６】低屈折率層（Ｃ）の材料としては酸化珪
素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリ
ウム、フッ化マグネシウム等の無機化合物や、例えば含
フッ素有機化合物や単官能もしくは多官能（メタ）アク
リル酸エステル、テトラエトキシシラン等の有機化合物
を単独または混合物として用いることが出来る。

【００１７】前記の含フッ素有機化合物は特に限定され
るものではないが、例えば、単官能もしくは多官能の含
フッ素（メタ）アクリル酸エステル、含フッ素イタコン
酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪
素化合物等の単量体、およびそれらの重合体等が挙げら
れる。特に反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリル
酸エステルが好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬
化させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成す
ることができる。

【００１８】低屈折率層の材料としては酸化珪素、フッ
化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム等の
無機物や含フッ素有機化合物を単独または混合物として
用いることが出来る。また非フッ素系単量体や重合体を
バインダーとして用いることができる。

【００１９】前記の含フッ素有機化合物は特に限定され
るものではないが、例えば、多官能の含フッ素（メタ）
アクリル酸エステル、含フッ素イタコン酸エステル、含
フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合物等の単
量体、およびそれらの重合体等が挙げられる。単量体と
しては単官能および多官能の重合性基を有する構造のも
のが挙げられ、反応性の観点より含フッ素（メタ）アク
リル酸エステルが好ましい。ここで（メタ）アクリル
は、アクリルおよび／またはメタクリルを意味する。特
に多官能含フッ素（メタ）アクリル酸エステルが、硬
度、屈折率の点より好ましい。これら含フッ素有機化合
物を硬化させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を
形成することができる。

【００２０】前記の単官能含フッ素（メタ）アクリル酸
エステルとしては、例えば、１−（メタ）アクリロイロ
キシ−１−パーフルオロアルキルメタン、１−（メタ）
アクリロイロキシ−２−パーフルオロアルキルエタン等
が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ない
し８の直鎖状、分枝状、環状のものが挙げられる。

【００２１】前記の多官能含フッ素（メタ）アクリル酸
エステルとしては、２官能ないし４官能の含フッ素（メ
タ）アクリル酸エステルが好ましく挙げられる。その中
で２官能の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとして
は、例えば、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−
３−パーフルオロアルキルブタン、２−ヒドロキシ−１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−
２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル｝プロピオナート、α，ω−ジ（メタ）アクリロイル
オキシメチルパーフルオロアルカン等を好ましく挙げる
ことができる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ない
し１１の直鎖状、分枝状、環状のものが、パーフルオロ
アルカン基は直鎖状のものが好ましく挙げられる。これ
らのジ（メタ）アクリル酸エステルは、使用に際して単
独もしくは混合物として用いることができる。

【００２２】さらに前記の２官能以外の含フッ素多官能
（メタ）アクリル酸エステルとしては、３官能および４
官能の含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステルが挙
げられる。該３官能の含フッ素多官能（メタ）アクリル
酸エステルの例としては、例えば、２−（メタ）アクリ
ロイルオキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフ
ルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロ
イルオキシメチル｝プロピオナート等が挙げられる。パ
ーフルオロアルキル基は炭素数１ないし１１の直鎖状、
分枝状、環状のものが好ましく挙げられる。

【００２３】また、４官能の含フッ素多官能（メタ）ア
クリル酸エステルの例としては、α，β，ψ，ω−テト
ラ（メタ）アクリロイルオキシ−αＨ，αＨ，βＨ，γ
Ｈ，γＨ，χＨ，χＨ，ψＨ，ωＨ，ωＨ−パーフルオ
ロアルカン等を好ましく挙げることができる。パーフル
オロアルカン基は炭素数１ないし１４の直鎖状のものが
好ましく挙げられる。使用に際しては、前記の含フッ素
多官能（メタ）アクリル酸エステルは、単独もしくは混
合物として用いることができる。

【００２４】前記の含フッ素珪素化合物の具体的な例と
しては、（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアル
キル）トリメトキシシラン等を好ましく挙げることがで
きる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ないし１０の
直鎖状、分枝状、環状のものが好ましく挙げられる。

【００２５】前記の含フッ素有機化合物の重合体として
は前記の単官能含フッ素単量体の単独重合体、共重合
体、もしくはフッ素を含まない単量体との共重合体等の
直鎖状重合体、鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環
状重合体、櫛型重合体などが挙げられる。

【００２６】前記の非フッ素系単量体としては、従来公
知のものを用いることができる。例えば単官能もしくは
多官能の（メタ）アクリル酸エステルやテトラエトキシ
シラン等の珪素化合物等が挙げられる。

【００２７】また前記（Ｂ）、（Ｃ）の層には前記の化
合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、そ
の他の成分を含んでも構わない。その他の成分は、特に
限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、無機ま
たは有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合禁止
剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸
収剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられる。ま
たウェットコーティング法において成膜後乾燥させる限
りは、任意の量の溶媒を添加することができる。

【００２８】前記（Ｂ）、（Ｃ）の層はウェットコーテ
ィングにより成膜した後、熱や紫外線、電子線などの活
性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って層
を形成することができる。また、活性エネルギー線によ
る硬化反応は必要に応じて窒素、アルゴンなどの不活性
ガス雰囲気下にて行うことができる。

【００２９】さらに、透明基材と高屈折率層（Ｂ）の間
に、一層以上の層を形成することができる。この層は無
機物、有機物、もしくはこれらの混合物を用いることが
できる。その厚みは０．００５〜２０μｍが好ましく、
屈折率は１．４５〜１．６０の範囲内であることが好ま
しい。また、層の形成方法は特に限定されず、ドライコ
ーティング法、ウェットコーティング法を用いることが
できる。硬度の向上、防眩、ニュートンリング防止、密
着性の向上、特定波長の光の遮断等の機能を一種類以上
付与することができる。機能の付与方法は特に限定され
ず、従来公知の方法を用いることができる。特に硬度の
向上および密着性の向上を目的とした層を形成すること
が好ましい。

【００３０】前記機能層の材料としては、本発明の効果
を損なわない限りは特に限定されず、従来公知のものを
使用することができる。例えば有機物、無機物およびそ
の混合物を用いることができる。特に硬度を上げるため
に（例えば、ハードコート層用に）、架橋性の硬化性単
量体を含むことが好ましい。硬化性単量体としては熱も
しくは紫外線や電子線などの活性エネルギー線により短
時間に硬化するものが好ましい。例えば単官能もしくは
多官能（メタ）アクリル酸エステル、テトラエトキシシ
ラン等の珪素化合物が挙げられる。多官能（メタ）アク
リル酸エステルとしては、例えば、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート（ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート）、テトラメチロールメタントリアクリレート（ペ
ンタエリスリトールトトアクリレート）、トリメチロル
プロパントリアクリレート、１，６−ヘキサンジオール
ジアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロイルオキ
シ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官
能アルコール誘導体やポリエチレングリコールジアクリ
レート、ポリウレタンアクリレートなどが挙げられる。
また無機物としてはシリカゲル超微粒子などを用いるこ
とができる。

【００３１】前記透明導電層（Ｄ）の材料としては特に
限定されないが、導電性の面より金属もしくは金属酸化
物を用いることが好ましい。例えば、金、銀、銅、白
金、ニッケル、酸化錫、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、
酸化アンチモン錫等が挙げられる。導電性、透明性、安
定性の観点よりＩＴＯが好ましく挙げられる。

【００３２】また層の形成方法は特に限定されず、例え
ば、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、Ｃ
ＶＤ法、めっき等の方法を取ることができる。層の厚み
制御の観点より蒸着、スパッタ等、ドライコーティング
法が特に好ましい。

【００３３】前記の透明導電材料は、導電材料として高
光線透過率および優れた色調を必要とする用途に用いる
ことができる。特に有機、無機エレクトロルミネッセン
スディスプレイや液晶ディスプレイなどの電子画像表示
装置や、抵抗膜式タッチパネルの透明電極等に用いるこ
とができる。また必要に応じて透明導電材料の透明導電
層を形成していない面に予じめ接着層を設け、対象物に
貼り合せて用いることができる。接着層に用いられる材
料としては特に限定されるものではないが、例えば、シ
リコン系粘着剤、アクリル系粘着剤、紫外線硬化型接着
剤、熱硬化型接着剤等を挙げることができる。

【００３４】抵抗膜式タッチパネルの上部電極として用
いる場合には、透明導電材料の導電層を形成していない
面に、表面強度向上のためのハードコート層を形成する
ことが好ましい。このハードコート層には防眩、帯電防
止、減反射等の機能を一種類以上付与することができ
る。また透明導電材料の導電層を形成していない面を密
着させるように接着層を介してハードコート層を有する
透明基材の裏面に貼り合せて用いることもできる。

【００３５】下部電極として用いる場合には透明導電性
材料をそのまま、もしくはガラス、プラスチック等の透
明基材に貼り合せて用いることができる。またその裏側
に光線透過率を向上させるために直接もしくは１層以上
の層を介して少なくとも１層以上からなる減反射層を形
成したり、減反射層を有する透明基材を貼り合せても構
わない。減反射層としては特に限定されず、従来公知の
ものを使用することができる。

【００３６】

【発明の効果】本発明の透明導電性材料は、透過光、反
射光とも着色の少ない良好な外観を有し、タッチパネル
等の透明電極として用いることができる。

【００３７】

【実施例】以下に実施例を示すが、本発明は以下の実施
例に限定されるものではない。なお、透明導電層以外の
層の屈折率は以下のように測定した。 ＜屈折率の測定方法＞ （１）屈折率１．６３のＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４
１００」、東洋紡績株式会社製）上に、ディップコータ
ー（杉山元理化学機器株式会社製）により、各層用塗液
をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚（ｎ・ｄ）＝１１０ｎｍ
程度になるように層の厚さを調製して塗布した。 （２）乾燥後、紫外線照射装置（岩崎電気株式会社製）
により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４
００ｍＪの紫外線を照射し硬化した。アクリル板裏面を
サンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたもの
を分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓｔ ５０」、日本分光株式
会社製）により、４００〜８００ｎｍの５°、−５°正
反射スペクトルを測定した。 （３）反射スペクトルより読み取った反射率の極大値も
しくは極小値を用いて以下の式より屈折率を計算した。

【００３８】

【数１】

【００３９】製造例１ 低屈折率層用塗液（Ｌ―１）の
調製 トリアクリル酸テトラメチロールメタン２５重量部、シ
リカ微粒子分散液（商品名「ＸＢＡ−ＳＴ」、日産化学
株式会社製）２２０重量部、ブチルアルコール９００重
量部、光重合開始剤（商品名ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭ
Ｓ、日本化薬株式会社製）５重量部を混合し低屈折率層
用塗液（Ｌ―１）を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈
折率は１．５０であった。

【００４０】製造例２ 低屈折率層用塗液（Ｌ―２）の
調製 １，１０−ジアクリロイルオキシ−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−オ
クタデカフルオロデカン７０重量部、テトラアクリル酸
テトラメチロールメタン２０重量部、ブチルアルコール
９００重量部、光重合開始剤（商品名「ＫＡＹＡＣＵＲ
Ｅ ＢＭＳ」、日本化薬株式会社製）５重量部を混合し
低屈折率層用塗液（Ｌ―２）を調製した。溶媒乾燥後の
硬化物の屈折率は１．４７であった。

【００４１】製造例３ 高屈折率層用塗液（Ｈ―１）の
調製 平均粒径が０．０４μｍの酸化錫微粒子を８０重量部、
トリアクリル酸テトラメチロールメタン１５重量部、ブ
チルアルコール９００重量部、光重合開始剤（商品名
「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、チバガイギー株式会社
製）１重量部を混合し高屈折率層用塗液（Ｈ―１）を調
製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は１．６８であっ
た。

【００４２】製造例４ 高屈折率層用塗液（Ｈ―２）の
調製 酸化錫微粒子に代えて平均粒径が０．０３μｍの酸化チ
タン微粒子を用いた以外は製造例３と同様にして、高屈
折率層用塗液（Ｈ―２）を調製した。溶媒乾燥後の硬化
物の屈折率は１．８４であった。

【００４３】製造例５ ハードコート層用塗液（ＨＣ−
１）の調製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量
部、１，６−ジアクリロイルオキシヘキサン３０重量
部、光重合開始剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８
４」、チバガイギー株式会社製）４重量部、イソプロピ
ルアルコール１００重量部を混合しハードコート層用塗
液を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は１．５２
であった。

【００４４】製造例６ ハードコート処理ＰＥＴフィル
ムの作製 厚みが１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１０
０」、東洋紡績株式会社製）上に、製造例４で調製した
ハードコート用塗液をバーコーターを用いて乾燥膜厚５
μｍ程度になるように塗布し、紫外線照射装置（岩崎電
気株式会社製）により１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて４０
０ｍＪの紫外線を照射し硬化した。

【００４５】実施例１ 厚みが１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１０
０」、東洋紡績株式会社製）上に、製造例１、３で作製
した低屈折率層用塗液Ｌ−１、高屈折率層用塗液Ｈ−１
を用いて以下の方法で処理を行った。ディップコーター
（杉山元理化学機器株式会社製）によりＨ−１を乾燥膜
厚で光学膜厚ｎ・ｄ＝１３０ｎｍ程度になるように層の
厚さを調製して塗布した後、紫外線照射装置（岩崎電気
株式会社製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯
を用いて４００ｍＪの紫外線を照射し硬化した。その上
に同様にしてＬ−１をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚ｎ・
ｄ＝５０ｎｍ程度になるように塗布、硬化した。これら
のフィルムを１００℃で１時間予備乾燥を行った後、イ
ンジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてス
パッタリングを行い、光学膜厚ｎ・ｄ＝４０ｎｍの導電
層を形成し、透明導電性材料を作製した。得られた透明
導電性材料の模式図を図１に示す。なお図１では、透明
導電性材料（１１）の模式図の層の上より、（１）導電
層、（２）低屈折率層、（３）高屈折率層、（４）ＰＥ
Ｔフィルムである。また、全光線透過率、最大透過率波
長、反射および透過色差ａ＊、ｂ＊、および表面抵抗値
を以下のように測定した。結果をそれぞれ表１に示し
た。 １．全光線透過率；ヘイズメーター（「ＮＤＨ２００
０」、日本電色工業株式会社製）により全光線透過率を
測定した。 最大透過率波長；分光光度計（「ＵＶ１６００」、島津
製作所製）を用いて４００〜８００ｎｍの分光透過スペ
クトルを測定し、そのスペクトルより最大透過率を示す
波長を読み取った。 ２．反射色差；導電層の形成していない面をサンドペー
パーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶして色差計（「ＳＱ
−２０００」、日本電色工業製）を用いて反射色差ａ
＊、ｂ＊を測定した。 ３．透過色差；色差計（「ＳＱ−２０００」、日本電色
工業製）を用いて透過色差ａ＊、ｂ＊を測定した。 ４．表面抵抗値；表面抵抗計（「Ｌｏｒｅｓｔａ ＭＰ
ＭＣＰ―Ｔ３５０」、三菱化学株式会社製）により測
定した。

【００４６】実施例２ 低屈折率層用塗液にＬ−２を用いた以外は実施例１と同
様にして透明導電性材料を作製した。また全光線透過
率、最大透過率波長、反射および透過色差ａ＊、ｂ＊、
および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。結果を
それぞれ表１に示した。

【００４７】実施例３ ＰＥＴフィルムに代えて、製造例５で作製したハードコ
ート処理ＰＥＴ以外は実施例１と同様にして透明導電性
材料を作製した。また全光線透過率、最大透過率波長、
反射および透過色差ａ＊、ｂ＊、および表面抵抗値を実
施例１と同様に測定した。結果をそれぞれ表１に示し
た。

【００４８】実施例４ 低屈折率層用塗液にＬ−２を用いた以外は実施例３と同
様にして透明導電性材料を作製した。また全光線透過
率、最大透過率波長、反射および透過色差ａ＊、ｂ＊、
および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。結果を
それぞれ表１に示した。

【００４９】比較例１ 厚みが１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１０
０」、東洋紡績株式会社製）上に、実施例１と同様にし
て導電層を形成した。全光線透過率、反射および透過色
差ａ＊、ｂ＊、および表面抵抗値を実施例１と同様に測
定した。結果をそれぞれ表１に示した。

【００５０】比較例２ 製造例６で作製したハードコートＰＥＴフィルム上に、
高屈折率層を光学膜厚ｎ・ｄ＝１１０ｎｍ、低屈折率層
を光学膜厚ｎ・ｄ＝１１０ｎｍとなるように形成した以
外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。全
光線透過率、最大透過率波長、反射および透過色差ａ
＊、ｂ＊、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定し
た。結果をそれぞれ表１に示した。

【００５１】比較例３ 高屈折率層用塗液にＨ−２を用いた以外は実施例１と同
様に透明導電性材料を作製した。全光線透過率、最大透
過率波長、反射および透過色差ａ＊、ｂ＊、および表面
抵抗値を実施例１と同様に測定した。結果をそれぞれ表
１に示した。

【００５２】

【表１】

【００５３】実施例１〜４で作製した透明導電性材料は
高導電性、高光線透過率を兼ね備えている。また反射お
よび透過色差の値が小さく、着色の少ない外観を有して
いることが分かる。一方、比較例１では透過率が劣り、
且つ透過色差のｂ＊が大きいことから黄色に着色してい
ることが分かる。比較例２では高屈折率層、低屈折率層
の膜厚が適切でないため、高い光線透過率を示すもの
の、透過色差ｂ＊が非常に大きくなっている。比較例３
では高屈折率層の屈折率が高く、反射色差が大きくなっ
ており、着色が見られる。

【００５４】実施例５、６ 実施例３、４で作製した透明導電材料の裏面にアクリル
系粘着剤シート（商品名「ノンキャリア」、リンテック
株式会社製）をハンドローラーにより貼り、製造例１で
作製したハードコート処理ＰＥＴフィルムの裏面に均一
に貼り合せた。また厚さ２ｍｍのガラス板（ＦＬ２．
０、日本板硝子株式会社製）に実施例１と同様にしてス
パッタリング法によりＩＴＯからなる透明導電層を形成
した。それぞれこれらを導電層同士が向かい合うように
配置し、四辺を両面粘着テープにより貼り合せ、抵抗膜
式タッチパネルのモデルを作製した。得られたタッチパ
ネルモデルの模式図を図２に示した。なお図２では、タ
ッチパネルモデル（２２）の模式図の層の上より、
（１）ハードコート層、（２）ＰＥＴフィルム、（３）
粘着剤層、（４）ＰＥＴフィルム、（５）ハードコート
層、（６）高屈折率層、（７）低屈折率層、（８）導電
層、（９）両面テープ、（１０）導電層、（１１）ガラ
ス板である。また、全光線透過率、反射および透過色差
ａ＊、ｂ＊を実施例１と同様の方法により測定した。結
果を表２に示した。

【００５５】比較例４、５、６ 透明導電性材料として、それぞれ比較例１、２、３で作
製したフィルムを使用した以外は実施例３と同様にして
抵抗膜式タッチパネルのモデルを作製した。全光線透過
率、反射および透過色差ａ＊、ｂ＊を実施例１と同様の
方法により測定した。結果を表２に示した。

【００５６】

【表２】

【００５７】実施例３、６のタッチパネルは反射、透過
色差ともに低く、着色の目立たない外観を示しているこ
とが分かる。一方、比較例４では透過率が劣り、且つ透
過色差のｂ＊が大きいことから黄色に着色していること
が分かる。比較例５では高屈折率層、低屈折率層の膜厚
が適切でないため、高い光線透過率を示すものの、透過
色差ｂ＊が非常に大きくなっている。比較例６では高屈
折率層の屈折率が高く、反射光に明らかな着色が見られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１で作製した透明導電性材料の模
式図である。

【図２】図２は実施例３で作製したタッチパネルのモデ
ルの模式図である。

【符号の説明】

図１の符号；（１１）透明導電材料 （１）導電層 （２）低屈折率層 （３）高屈折率層 （４）ＰＥＴフィルム 図２の符号；（２２）タッチパネル （１）ハードコート層 （２）ＰＥＴフィルム （３）粘着剤層 （４）ＰＥＴフィルム （５）ハードコート層 （６）高屈折率層 （７）低屈折率層 （８）導電層 （９）両面テープ （10）導電層 （11）ガラス板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA06 BB24 CC03 CC06 CC09 CC14 CC26 DD02 DD03 DD04 DD07 EE03 4F100 AA17D AA17E AA33D AA33E AB01D AB01E AK01A AK17C AK17E AT00A BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10D BA10E EH46 EH462 EH66 EH662 GB41 JG01 JN01 JN01A JN06 JN18B JN18C JN18E YY00B YY00C YY00D YY00E 5G307 FA01 FA02 FB01 FB02 FC10

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直
   接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、少な
   くとも（Ｂ）屈折率１．６０〜１．６９、光学膜厚が１
   １０〜１７０ｎｍの高屈折率層、（Ｃ）屈折率１．３０
   〜１．５５、光学膜厚が２０〜１２０ｎｍの低屈折率
   層、（Ｄ）光学膜厚が１０〜６０ｎｍの金属もしくは金
   属酸化物からなる透明導電層を積層した透明導電材料で
   あり、４００〜８００ｎｍにおける光線透過率の最大値
   が４００〜５００ｎｍである透明導電材料。
2. 【請求項２】透過光色がＬ＊ａ＊ｂ＊表色系において−
   ２＜ａ＊＜２、−２＜ｂ＊＜２であり、かつ透明導電層
   の反射光色が−１５＜ａ＊＜１５、０＜ｂ＊＜２０であ
   る請求項１記載の透明導電材料。
3. 【請求項３】透明導電層（Ｄ）が酸化インジウム錫を蒸
   着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、もしくはス
   パッタリング法のいずれか１種の方法により形成した層
   であり、その表面抵抗値が１０００Ω以下である請求項
   １または２に記載の透明導電材料。
4. 【請求項４】低屈折率層（Ｃ）が含フッ素重合体を１０
   〜１００重量％含んでなる請求項１から３項のいずれか
   １項に記載の透明導電材料。
5. 【請求項５】透明基材（Ａ）が厚み１０〜５００μｍの
   プラスチックフィルムである請求項１から４項のいずれ
   か１項に記載の透明導電材料。
6. 【請求項６】（Ｂ）、（Ｃ）の層をそれぞれウェットコ
   ーティング法により形成した請求項１から５のいずれか
   １項に記載の透明導電材料。
7. 【請求項７】請求項１から６のいずれか１項に記載の透
   明導電材料を電極として用いたタッチパネル。