JP2017204235A - 透明導電フィルム、透明導電フィルムを含むタッチパネル - Google Patents
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Abstract
Description
(1)CIE L*a*b*色空間における透過光のa*の値が−0.75〜+0.75であり、透過光のb*の値が−0.1〜+0.6である
(2)400〜800nmの波長領域の光の反射率のスペクトルが、500〜620nmの範囲内で極大値を取る
透明基材20は、透明導電フィルム9a及び9bの基体となるフィルムであり、可視光線の透過性に優れた材料により形成される。透明基材20の形成材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン等の透明樹脂や無機ガラスを利用できる。この中でも、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルムを好適に利用できる。透明基材20の厚みは、特に限定されないが、10〜200μmとすることが好ましい。
低屈折率層21は、透明電極層22がある部分とない部分との色差を小さくするために設けられる光学調整層である。低屈折率層21を設けることによって、透明導電フィルム9a及び9bの透過光のa*の値を−0.75〜+0.75とし、透過光のb*の値を−0.1〜+0.6にとすることができるので、透明導電フィルム9a及び9bの黄色化を抑制することが可能となる。低屈折率層21の屈折率は、1.42〜1.50とする。低屈折率層21の屈折率が1.42より小さい場合、透明導電フィルムの透過光のa*の値が増加し、透過光のb*の値が−0.1より小さくなるため、透明導電フィルム9a及び9bが紫色を帯びる。一方、低屈折率層21の屈折率が1.50より大きい場合、透明導電フィルム9a及び9bの透過光のb*の値が+0.6より大きくなり、黄色化を抑制できなくなる。
透明電極層22は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等の屈折率が1.7〜2.2の透明導電材料を用いて形成される。透明電極層22の膜厚は、低抵抗化のために膜厚を増加させる場合は、20〜30nmとすることが好ましい。
高屈折率ハードコート層23は、電離放射線硬化型樹脂等のバインダーと、高屈折率微粒子とを含有する塗工液を透明基材20に塗布し、塗膜を光重合により硬化させることによって形成することができる。この塗工液に使用するバインダーや添加剤は特に限定されず、硬化後に上記範囲内の屈折率となる材料を適宜使用できる。例えば、高屈折粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ニオブ、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化スズ、ATO、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛等の金属酸化物等を使用できる。これらの高屈折率材料の中でも、酸化ジルコニウムは、屈折率が相対的に高く、かつ、高屈折率ハードコート層23の透明性を向上できるためより好ましい。高屈折微粒子の粒径は、10〜100nmである。バインダーとの結合力を向上させるため、高屈折率微粒子として、表面が有機鎖により修飾されたものを使用することがより好ましい。塗工液の塗工方法及び硬化方法は、上述した低屈折率層の形成方法で示したものを利用できる。
アンチブロッキング層24は、透明導電フィルム9a及び9bのロール・ツー・ロールでの製造時及び/または製造後に、フィルム同士の貼り付きを防止するために設けられる層であり、表面に微細な凹凸を有する。この微細な凹凸は、アンチブロッキング層24に含まれる微粒子によって形成される。アンチブロッキング層24は、電離放射線硬化型樹脂等のバインダーと微粒子とを含有する塗工液を透明基材20に塗布し、塗膜を光重合により硬化させることによって形成することができる。この塗工液に使用するバインダーや添加剤は特に限定されず、公知のものを使用できる。例えば、微粒子としては、シリカ、タルク等の無機微粒子や、アクリル樹脂やスチレン樹脂等の有機微粒子を使用できる。
実施例1〜5及び比較例1〜4に係る透明導電フィルムとして、図2に示した層構成のものを作製した。
実施例6〜14、比較例5及び6に係る透明導電フィルムとして、図3に示した層構成のものを作製した。
分光光度計(UV−4100、株式会社日立製作所)を用いて、透明導電層側から入射角5°で光を照射し、透過光のa*及びb*を測定した。
得られた透明導電フィルムの裏面(透明電極層が積層されていない側の透明基材の面)に黒色の粘着層付きポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り合わせ、透明電極層側に虹色の干渉縞(虹ムラ)が生じたか否かを目視で確認した。
分光光度計(UV−4100、株式会社日立製作所)を用いて、400〜800nmの波長範囲で1nmずつ波長を変化させながら、透明導電層側から光を照射し、透明導電フィルムの光反射率を測定した。測定した光反射率のスペクトルから、500〜620nmの範囲内で極大値を取る波長を特定した。
2 画像表示パネル
3 タッチパネル
4 バックライト
5 偏光板
6 液晶パネル
7 偏光板
8 接着層
9a、9b 透明導電フィルム
10 接着層
11 接着層
12 カバーガラス
20 透明基材
21 低屈折率層
22 透明電極層
23 高屈折率ハードコート層
24 アンチブロッキング層
Claims (5)
- 透明基材の一方面に、低屈折率層及び透明電極層がこの順で積層された透明導電フィルムであって、
前記低屈折率層の屈折率が1.42〜1.50、前記低屈折率の膜厚が150〜190nmであり、
前記透明導電フィルムのCIE L*a*b*色空間におけるa*の値が−0.75〜+0.75、b*の値が−0.1〜+0.6であり、
400〜800nmの波長領域の光の反射率スペクトルが、500〜620nmの範囲内で極大値を取ることを特徴とする、透明導電フィルム。 - 透明基材の一方面に、高屈折率ハードコート層、低屈折率層及び透明電極層がこの順で積層された透明導電フィルムであって、
前記高屈折ハードコート層の屈折率が1.63〜1.67であり、
前記低屈折率層の屈折率が1.42〜1.50、前記低屈折率の膜厚が150〜190nmであり、
前記透明導電フィルムのCIE L*a*b*色空間におけるa*の値が−0.75〜+0.75、b*の値が−0.1〜+0.6であり、
400〜800nmの波長領域の光の反射率スペクトルが、500〜620nmの範囲内で極大値を取ることを特徴とする、透明導電フィルム。 - 前記低屈折率層と前記透明電極層との密着強度が、前記透明基材と前記透明電極層との密着強度よりも高いことを特徴とする、請求項1または2に記載の透明導電フィルム。
- 前記透明基材の他方面にアンチブロッキング層を更に備えることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電フィルム。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電フィルムを含む、タッチパネル。
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