TWI460742B

TWI460742B - 透明導電膜

Info

Publication number: TWI460742B
Application number: TW099133481A
Authority: TW
Inventors: Yuko Kato; Takayuki Nojima; Hiroshige Morita
Original assignee: Nof Corp
Priority date: 2009-10-06
Filing date: 2010-10-01
Publication date: 2014-11-11
Also published as: JP5408075B2; TW201133515A; JP2011098563A

Description

透明導電膜

本發明係關於例如使用於觸控式面板等，可抑制穿透光之著色，且總光線穿透率優異之透明導電膜。

目前，作為可藉由直接碰觸影像顯示部而輸入資訊之裝置，係使用觸控式面板。該觸控式面板係將光可穿透之輸入裝置配置於液晶顯示裝置、CRT等各種裝置上者。作為觸控式面板之代表性形式，係有將2片透明電極基板以該等之透明電極層相互對向之方式而配置的電阻膜式觸控式面板，與利用透明電極層與手指之間所產生之電流容量變化的靜電容式觸控面板。

作為電阻膜式觸控面板或靜電容式觸控面板之透明電極基板，一般係使用在玻璃板、透明樹脂板或各種熱可塑性高分子薄膜等基材上積層由含有氧化錫之銦氧化物(錫摻雜氧化銦，ITO)或氧化鋅等金屬氧化物所形成之透明導電層者。如此所得之透明電極基板，由於會發生來自於金屬氧化物層之反射及吸收的可見光短波長區域之穿透率的降低，故有穿透透明電極基板之光呈現黃色之情況。因此，會有配置於觸控式面板之下的顯示裝置之發色難以正確表現之問題。

為了解決此問題，係提案將透明導電層與多層光學膜予以組合之透明導電性積層體(參照日本專利特開2000-301648號公報)。該透明導電性積層體之多層光學膜係由不同折射率之層所積層而成者。作為多層光學膜之構成要素，由於係使用金屬烷氧化物之水解物，因此抑制穿透色之黃色著色的效果、與降低透明導電性積層體的霧值，無法充分兼顧。

因此，本發明之目的在於提供一種透明導電膜，其係抑制穿透光之著色，霧值低，總光線穿透率高。

為了達成上述目的，本發明一態樣之透明導電膜係具備從聚酯薄膜的第1主面依序積層之高折射率層、低折射率層及錫摻雜氧化銦層(ITO層)。高折射率層係由金屬氧化物微粒子與紫外線硬化性黏結劑所形成。波長400nm下之高折射率層的折射率為1.63~1.86。高折射率層之膜厚為40~90nm。波長400nm下之低折射率層的折射率為1.33~1.53。低折射率層之膜厚為10~50nm。波長400nm下之錫摻雜氧化銦層的折射率為1.85~2.35。錫摻雜氧化銦層之膜厚為5~50nm。

一例之透明導電膜係於聚酯薄膜與高折射率層之間，進一步具備膜厚1.0~10.0μm之硬塗層。

一例之透明導電膜係進一步具備形成於聚酯薄膜的第2主面之機能層。

於一例中，機能層係硬塗層、防眩層、抗指紋層或自身修復層。

於一例中，機能層係滑性硬塗層。上述滑性硬塗層之膜厚為1.0~10.0μm。上述滑性硬塗層係於該滑性硬塗層中含有0.5~30質量%之透光性微粒子。上述透光性微粒子之平均粒徑相對於上述滑性硬塗層之膜厚的比率為10~60%。

於一例中，機能層為硬塗層或防眩層，透明導電膜係進一步具備積層於該機能層上之抗反射層。

根據本發明，可發揮以下之效果。

於一態樣之透明導電膜中，藉由將積層於聚酯薄膜之第1主面的高折射率層、低折射率層及ITO層之折射率，根據光之波長400nm下的折射率而適當設定，可抑制透明導電膜之穿透光的帶黃色，同時可提升穿透率。因此，可獲得抑制穿透光之著色，且使霧值降低，並經提高總光線穿透率之透明導電膜。

在此，折射率係有波長分散性，在短波長區域中有折射率變高之傾向。一般而言，各層之折射率調整係使用鈉之D射線(589nm)的值。然而，在如本發明之中間層及ITO般含有金屬氧化物微粒子的層中，折射率之波長分散影響變大。在以波長589nm之折射率調整各層之折射率的情況，變得無法充分調整波長400nm之穿透率，無法充分獲得降低帶黃色之效果。本發明中，使用波長400nm之折射率而設計各層，控制波長400nm下之穿透率，因此抑制帶黃色之效果發揮至最大。

以下，針對將本發明具體化之實施形態進行詳細說明。

[透明導電膜]

本實施形態之透明導電膜係從聚酯薄膜100之第1主面開始依序使高折射率層300、低折射率層500及錫摻雜氧化銦層(ITO層)700積層所構成(參照圖1)。高折射率層係由金屬氧化物微粒子與紫外線(UV)硬化性黏結劑所形成。波長400nm下之高折射率層的折射率為1.63~1.86，高折射率層之膜厚為40~90nm。波長400nm下之低折射率層的折射率為1.33~1.53，低折射率層之膜厚為10~50nm。波長400nm下之ITO層的折射率為1.85~2.35，ITO層之膜厚為5~50nm。

以下，依序針對該透明導電膜之構成要素進行說明。

<聚酯薄膜>

聚酯薄膜係透明基材，係以聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂為代表之聚酯系樹脂。聚酯薄膜之膜厚通常為25~400μm，較佳為35~250μm。

<高折射率層>

高折射率層係由使混合金屬氧化物微粒子與紫外線硬化性黏結劑而成之高折射率層用塗液進行紫外線硬化所得之硬化物所形成。作為金屬氧化物微粒子，較佳為氧化鈦及氧化鋯。氧化鈦及氧化鋯於波長400nm下之折射率係因製法而異，但較佳為2.0~3.0。又，作為紫外線硬化性黏結劑，可舉出具有(甲基)丙烯醯基之多官能單體、寡聚物及聚合物。波長400nm下之紫外線硬化性黏結劑的折射率較佳為1.4~1.7。

高折射率層之塗液係調整為乾燥硬化後之硬化膜(亦即高折射率層)於波長400nm下的折射率為1.63~1.86，較佳為1.66~1.86。此外，高折射率層之塗液係以乾燥硬化後之膜厚成為40~90nm、較佳為45~90nm之方式進行塗佈，之後進行硬化。若高折射率層之折射率及膜厚在該等範圍外，則以JIS Z 8729所規定之L*a*b配色系統的穿透色之b*之值變大，會明顯發現透明導電膜之穿透色的帶黃色調。又，高折射率層之折射率大於1.86之情況，塗膜中之粒子的比例變多，霧值上升。若高折射率層之膜厚在上述範圍外，則穿透色之b*值變大，會明顯發現透明導電膜之穿透色的帶黃色調。

<低折射率層>

低折射率層係將平均粒徑10~100nm之無機微粒子與活性能量射線硬化型樹脂視需要使用溶媒混合，將所得之塗液塗佈、硬化而成之層。作為無機微粒子，可舉出膠體矽石或中空矽石微粒子。作為活性能量射線硬化型樹脂，可舉例如具有(甲基)丙烯醯基之多官能單體、寡聚物及聚合物。

低折射率層之塗液係調整為乾燥硬化後之硬化膜(亦即低折射率層)於波長400nm下的折射率為1.33~1.53。當該折射率小於1.33之情況，低折射率層之塗液中的中空矽石微粒子等之比例增加，因此塗膜變脆，且變得無法良好地將低折射率層予以製膜。另一方面，低折射率層之折射率大於1.53之情況，穿透色之b*值變大，會明顯發現透明導電膜之穿透色的帶黃色調。

低折射率層之塗液係以乾燥硬化後之膜厚成為10~50nm、較佳為15~45nm之方式進行塗佈，之後進行硬化。若該膜厚在該等範圍外，則穿透色之b*之值變大，會明顯發現透明導電膜之穿透色的帶黃色調。

<高折射率層及低折射率層之形成方法>

設置於聚酯薄膜上之高折射率層及低折射率層的形成方法，以習知公知的方法即可，並無特別限制。例如可採用乾式塗佈法、濕式塗佈法等方法。從生產性及製造成本方面而言，尤其以濕式塗佈法為佳。作為濕式塗佈法，可為公知之方法，例如可舉出輥塗法、旋塗法、浸塗法等作為代表性的方法。其中，輥塗法等可連續地形成層之方法係從生產性之觀點而言為較佳。

<ITO層>

ITO層係積層於低折射率層之上。波長400nm下之ITO層的折射率為1.85~2.35，較佳為1.90~2.30。ITO層之折射率若在此範圍外，透明導電膜之穿透色會呈現著色，穿透率亦降低。又，ITO層乾燥硬化後之膜厚為5~50nm，較佳為20~30nm。當該膜厚較5nm薄之情況，難以均勻地將ITO層予以成膜，無法獲得安定的電阻。另一方面，膜厚較50nm厚之情況，ITO層本身所造成之光吸收變強，降低帶黃色調之效果薄弱。ITO層之製膜方法並無特別限制，例如可採用蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍敷法、CVD法(化學蒸鍍法)或電鍍法。該等之中，從控制ITO層之厚度的觀點而言，尤其以蒸鍍法及濺鍍法為佳。另外，形成ITO層後，可視需要在100~200℃之範圍內施行退火處理而結晶化。具體而言，若在高溫度下結晶化，則ITO層之折射率顯示變小之傾向。因此，ITO層之折射率的調整可藉由控制退火處理之溫度與時間而進行調整。

<硬塗層>

聚酯薄膜100與高折射率層300之間係可形成硬塗層200(參照圖2)。作為硬塗層，可舉出例如使混合四乙氧基矽烷等之反應性矽化合物與活性能量射線硬化型樹脂而成之硬塗層用塗液進行紫外線硬化而得之硬化物。作為活性能量射線性化型樹脂，可舉出例如單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。該等之中，由兼顧生產性及硬度之觀點而言，較佳係含有鉛筆硬度(評估法：JIS-K5600-5-4)為H以上之活性能量射線硬化型樹脂的組成物之聚合硬化物。

作為此種含有活性能量射線硬化型樹脂的組成物，並無特別限定，可使用例如將公知活性能量射線硬化型樹脂混合2種以上者、作為紫外線硬化性硬塗材而市售者、或者除了該等以外在不損及本發明效果之範圍內進一步添加其他成分者。乾燥硬化後之硬塗層的膜厚較佳為1.0~10.0μm，折射率較佳為1.45~1.60。硬塗層之膜厚較1.0μm更薄之情況，鉛筆硬度未滿H，因此不佳。另一方面，膜厚較10μm更厚之情況，硬化收縮所造成之捲曲變強，且為不必要之厚度，會降低生產性與作業性，因此不佳。

硬塗層之形成方法並無特別限定，可採用通常進行之塗佈方法，例如輥塗法、旋塗法、浸塗法、棒塗法、凹版塗佈法等之任何方法。

<機能層>

聚酯薄膜100之上述第1主面之相反側的第2主面，亦可形成機能層400(參照圖3)。該機能層可應用可對透明導電膜賦予既定機能之任何機能層。機能層例如係為硬塗層、抗指紋層、防眩層、自身修復層等。硬塗層可為習知公知者，並無特別限制。

抗指紋層係顯示對附著於透明導電膜表面的指紋(來自生物體之脂質成分)顯示融合性(親和性)之層。例如可從單官能聚合物、具有乙烯基或(甲基)丙烯醯基之寡聚物、及具有乙烯基或(甲基)丙烯醯基之聚合物中選擇1種或2種以上而使用，係將該等之有機溶媒溶液塗佈、乾燥並進行紫外線硬化之層。

防眩層係利用表面凹凸使從螢光燈等外部光源所照射之光線散射，以降低光反射之層。該防眩層係將在熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等活性能量射線硬化型樹脂中分散有粒徑為數μm之球形或不定形的無機或有機微粒子之塗液，或不使用粒子而含有可形成凹凸之聚合物的塗液，予以塗佈、硬化之層。

自身修復層係提升以筆輸入時在透明導電膜表面之筆記感，具有自身修復性(亦即暫時產生之凹痕會經時消失並回復至原本形狀之性質)之層。作為形成自身修復層之樹脂，可使用紫外線硬化性或熱硬化性之不飽和丙烯酸系樹脂、胺甲酸乙酯改質(甲基)丙烯酸酯等之不飽和聚胺甲酸酯系樹脂、不飽和聚酯系樹脂等。

作為機能層之硬塗層，係可使用具有滑性之硬塗層(有時稱為滑性硬塗層或易滑硬塗層)。滑性硬塗層之膜厚為1.0~10.0μm。滑性硬塗層係於該滑性硬塗層中含有0.5~30質量%之透光性微粒子。透光性微粒子之平均粒徑相對於滑性硬塗層之膜厚的比率為10~60%。藉由透光性微粒子，於滑性硬塗層之表面形成微細的凹凸，可表現良好的捲取性能。滑性硬塗層之膜厚較佳為3~6μm。該膜厚若較1.0μm薄，則有損及硬塗性能之可能性，若較10.0μm厚，則有損及捲取性能之可能性。

滑性硬塗層係藉由對含有紫外線硬化性黏結劑與透光性微粒子，並視需要含有添加劑之硬塗層用塗液照射紫外線使之硬化而形成。紫外線硬化性黏結劑之材料並無特別限定，例如可舉出單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯及四乙氧基矽烷等之反應性矽化合物等之硬化物。

透光性微粒子係用以在硬塗層表面形成凹凸俾表現捲取性能者。該透光性微粒子可使用任意材料。作為此種透光性微粒子，例如除了矽石之外，可將選自氯乙烯、(甲基)丙烯酸系單體、苯乙烯以及乙烯之至少1種單體予以聚合而獲得聚合物等，由此聚合物形成。透光性微粒子之平均粒徑係視硬塗層之膜厚而決定。上述透光性微粒子之平均粒徑相對於硬塗層膜厚的比率，較佳為10~60%。更佳為20~50%。當該平均粒徑之比率小於硬塗層膜厚之10%之情況以及大於60%之情況，有損及捲取性能之虞。相對於硬塗層膜厚之透光性微粒子的平均粒徑之比率(R_p/HC )係可由下式(1)求出。

R_p/HC =[(透光性微粒子之平均粒徑)/(硬塗層之膜厚)]×100(%)...式(1)

透光性微粒子之含有量，相對於硬塗層用塗液較佳為0.5~20質量%，更佳為0.5~10質量%，特佳為3~5質量%。硬塗層亦可含有添加劑，作為此種添加劑可使用聚矽氧系添加劑。作為該聚矽氧系添加劑係可舉出聚醚改質聚二甲基矽氧烷，具體而言可舉出BYK Chemi Japan(股)製之BYK330、BYK331、BYK346。滑性硬塗層之形成方法並無特別限定，通常所進行之塗佈方法，例如輥塗法、旋塗法、浸塗法、棒塗法、凹版塗佈法等之任何方法均可採用。

本說明書中，有時將機能層中所含之上述硬塗層或防眩層稱為支持層。於支持層上可形成抗反射層或防眩性抗反射層。該抗反射層係藉由光之干涉，將從螢光燈等外部光源所照射之光線予以降低之層。於折射率為1.5~1.6之支持層上形成單層構成的抗反射層之情況，可積層一層的折射率低於支持層(例如折射率為1.3~1.5)之低折射率層而形成。當於折射率為1.5~1.6之支持層上形成二層構成的抗反射層之情況，可依序將折射率高於該支持層(例如折射率為1.6~1.8)之高折射率層、與折射率低於高折射率層之低折射率層，積層於支持層而形成。

抗反射層中所含之低折射率層係將混合有平均粒徑為10~100nm之無機微粒子與活性能量射線硬化型樹脂的塗液予以塗佈、硬化之層。作為無機微粒子，可舉出膠體矽石或中空矽石微粒子，作為活性能量射線硬化型樹脂，例如可舉出具有(甲基)丙烯醯基之多官能單體、寡聚物以及聚合物。

抗反射層中所含之高折射率層係將混合有平均粒徑為10~100nm之金屬氧化物微粒子與活性能量射線硬化型樹脂的塗液予以塗佈、硬化之層。作為金屬氧化物微粒子，可舉出錫摻雜氧化銦、氧化鈦、氧化鋯等，作為活性能量射線硬化型樹脂，可舉出例如具有(甲基)丙烯醯基之多官能單體、寡聚物以及聚合物。

防眩性抗反射層係兼具有防眩性與抗反射性機能之層，係藉由在上述防眩層上積層抗反射層而形成。

該等機能層可分別單獨使用，或者亦可將該等適當組合而使用。

(實施例)

以下舉出製造例、實施例以及比較例，進一步具體說明上述實施形態，但本發明並不被限定於該等實施例之範圍中。另外，各層之折射率係如下述般測定。

<折射率之測定方法>

(1)於折射率1.63之PET薄膜[商品名「A4100」，東洋紡績(股)製]上，利用浸塗機[杉山元理化學機器(股)製]將各層用塗液分別以乾燥硬化後之膜厚為100~500nm左右之方式，調整層厚度而塗佈。

(2)乾燥後，藉由紫外線照射裝置[岩崎電氣(股)製]，於氮環境下使用120W高壓水銀燈，照射400mJ之紫外線而硬化。將硬化後之PET薄膜背面以砂紙磨粗，以黑色塗料塗佈，予以粉碎，以反射分光膜厚計[「FE-3000」，大塚電子(股)製]測定反射光譜。

(3)從由反射光譜所讀取之反射率，求出下述(式2)所示之n-Cauchy之波長分散式的常數，求出波長400nm下之折射率。

N(λ)=A/λ⁴ +B/λ² +C...(式2)

A、B、C：波長分散常數

<折射率之測定方法>

(1)將折射率1.63之PET薄膜[商品名「A4100」，東洋紡績(股)製]以100℃進行預備乾燥1小時後，於PET薄膜上使用銦：錫=10：1(質量比)之ITO靶材進行濺鍍，形成作為實際膜厚20nm之透明導電層的錫摻雜氧化銦層(ITO層)，製作透明導電膜。

(2)將該透明導電膜背面以砂紙磨粗，以黑色塗料塗佈，予以粉碎，以反射分光膜厚計[「FE-3000」，大塚電子(股)製]測定反射光譜。

(3)從由反射光譜所讀取之反射率，使用上述式(2)，求出波長400nm下之折射率。

另外，實施例及比較例所記載之各層的折射率，係從前段之折射率測定方法所求出之折射率。

<總光線穿透率、霧值之測定方法>

利用霧度計[「NDH2000」，日本電色工業(股)製]測定總光線穿透率(%)及霧值(%)。

<穿透色之測定方法>

使用色差計[「SQ-2000」，日本電色工業(股)製]，測定穿透色、b*。該b*係IIS Z 8729所規定之L*a*b配色系統中之值。

<捲取性能之評估方法>

將雙面硬塗(HC)薄膜捲取為輥狀，以目視觀察輥，藉此根據以下所示之評估基準而評估薄膜之捲取性能。

◎：完全沒有捲取皺摺及凹陷等之凹凸狀變形。

○：幾乎沒有捲取皺摺及凹陷等之凹凸狀變形。

╳：捲取皺摺及凹陷等之凹凸狀變形大。

[製造例1，硬塗層用塗液(HC-1)之調製]

混合二新戊四醇六丙烯酸酯80質量份、三丙烯酸四羥甲基甲烷20質量份、1,6-雙(3-丙烯醯基氧基-2-羥基丙基氧基)己烷20質量份、光聚合起始劑[商品名：IRGACURE184，Ciba特用化學(股)製]4質量份以及異丁醇100質量份，調製硬塗層用塗液(HC-1)。

[製造例2，高折射率用塗液(H-1)之調製]

混合平均粒徑為0.02μm之氧化鋯微粒子79質量份、於1分子中具有6個丙烯醯基之胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯[分子量1400，日本合成化學工業(股)製，紫光UV7600B]21質量份以及光聚合起始劑[商品名：IRGACURE184，Ciba特用化學(股)製]5質量份，以甲基乙基酮稀釋至上述固形分成為10質量%，調製高折射率層用塗液(H-1)。

[製造例3，高折射率層用塗液(H-2)之調製]

混合平均粒徑為0.02μm之氧化鋯微粒子72質量份、於1分子中具有6個丙烯醯基之胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯[分子量1400，日本合成化學工業(股)製，紫光UV7600B]28質量份以及光聚合起始劑[商品名：IRGACURE184，Ciba特用化學(股)製]5質量份，以甲基乙基酮稀釋至上述固形分成為10質量%，調製高折射率層用塗液(H-2)。

[製造例4，高折射率層用塗液(H-3)之調製]

混合平均粒徑為0.02μm之氧化鋯微粒子86質量份、於1分子中具有6個丙烯醯基之胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯[分子量1400，日本合成化學工業(股)製，紫光UV7600B]14質量份以及光聚合起始劑[商品名：IRGACURE184，Ciba特用化學(股)製]5質量份，以甲基乙基酮稀釋至上述固形分成為10質量%，調製高折射率層用塗液(H-3)。

[製造例5，高折射率層用塗液(H-4)之調製]

混合平均粒徑為0.02μm之氧化鋯微粒子67質量份、於1分子中具有6個丙烯醯基之胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯[分子量1400，日本合成化學工業(股)製，紫光UV7600B]33質量份以及光聚合起始劑[商品名：IRGACURE184，Ciba特用化學(股)製]5質量份，以甲基乙基酮稀釋至上述固形分成為10質量%，調製高折射率層用塗液(H-4)。

[製造例6，高折射率層用塗液(H-5)之調製]

混合平均粒徑為0.02μm之氧化鋯微粒子58質量份、於1分子中具有6個丙烯醯基之胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯[分子量1400，日本合成化學工業(股)製，紫光UV7600B]42質量份以及光聚合起始劑[商品名：IRGACURE184，Ciba特用化學(股)製]5質量份，以甲基乙基酮稀釋至上述固形分成為10質量%，調製高折射率層用塗液(H-5)。

[製造例7，高折射率層用塗液(H-6)之調製]

混合平均粒徑為0.02μm之氧化鋯微粒子94質量份、於1分子中具有6個丙烯醯基之胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯[分子量1400，日本合成化學工業(股)製，紫光UV7600B]6質量份以及光聚合起始劑[商品名：IRGACURE184，Ciba特用化學(股)製]5質量份，以甲基乙基酮稀釋至上述固形分成為10質量%，調製高折射率層用塗液(H-6)。

[製造例8，低折射率層用塗液(L-1)之調製]

混合二新戊四醇六甲基丙烯酸酯10質量份、矽石微粒子分散液[商品名「XBA-ST」，日產化學(股)製]90質量份、異丙醇900質量份、光聚合起始劑[商品名：IRGACURE907，Ciba特用化學(股)製]5質量份，調製低折射率層用塗液(L-1)。

[製造例9，改質中空矽石微粒子(溶膠)之調製]

混合中空矽石溶膠[觸媒化成工業(股)製，商品名：ELECOM NY-1001S1V，異丙醇所製成之中空矽石溶膠的25質量%分散液，平均粒徑60nm]2000質量份、γ-丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷[信越化學工業(股)製，KBM5103]70質量份及蒸餾水80質量份，調製改質中空矽石微粒子(溶膠)(平均粒徑：60nm)。

[製造例10，低折射率層用塗液(L-2)之調製]

利用104質量份之全氟-(1,1,9,9-四氫-5,8-雙氟甲基A二氧-1-壬烯)-9-醇與11質量份之雙(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟戊醯基)過氧化物之8質量%全氟己烷溶液的聚合反應，獲得含羥基之氟烯丙基醚聚合物(數目平均分子量72000，質量平均分子量118000)。

其次，由含羥基之氟烯丙基醚聚合物、甲基乙基酮43質量份、吡啶1質量份以及α-氟化丙烯酸氟化物1質量份，調製具有聚合性雙鍵之含氟反應性聚合物溶液(固形分13質量%，羥基對α-氟化丙烯醯基之導入率40莫耳%)。混合該含氟反應聚合物溶液40質量%、上述改質中空矽石微粒子60質量份、光聚合起始劑[Ciba特用化學(股)製，IRGACURE907]2質量份、異丙醇2000質量份，調製低折射率層用塗液(L-2)。

[製造例11，低折射率層用塗液(L-3)之調製]

混合上述改質中空矽石微粒子60質量份、二新戊四醇六丙烯酸酯40質量份、光聚合起始劑[Ciba特用化學(股)製，IRGACURE907]2質量份、異丙醇2000質量份，調製低折射率層用塗液(L-3)。

[製造例12，低折射率層用塗液(L-4)之調製]

混合矽石微粒子分散液[商品名「XBA-ST」，日產化學(股)製]5質量份、具有丙烯醯基之多官能黏結劑[商品名「HIC-GL」，共榮社化學(股)製]95質量份、光聚合起始劑[Ciba特用化學(股)製，IRGACURE907]2質量份、異丙醇2000質量份，調製低折射率層用塗液(L-4)。

[製造例13，硬塗層用塗液(HC-A1)之調製]

混合二新戊四醇六丙烯酸酯95質量份、平均粒徑0.5μm之丙烯酸系樹脂微粒子(折射率1.495)5質量份、甲基乙基酮100質量份、光聚合起始劑[商品名：「IRGACURE184」，Ciba特用化學(股)製]4質量份，調製硬塗層用塗液(HC-A1)。

[製造例14，硬塗層用塗液(HC-A2)之調製]

混合二新戊四醇六丙烯酸酯97質量份、平均粒徑1.5μm之丙烯酸系樹脂微粒子(折射率1.495)3質量份、甲基乙基酮100質量份、光聚合起始劑[商品名：「IRGACURE184」，Ciba特用化學(股)製]4質量份，調製硬塗層用塗液(HC-A2)。

(實施例1-1)

將製造例1之硬塗層用塗液(HC-1)以輥塗機在厚度125μm之PET薄膜上塗佈，使乾燥硬化後之膜厚為4μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線並使之硬化，藉此製作硬塗處理PET薄膜。

於該硬塗處理PET薄膜上，使用高折射率層用塗液H-1，以輥塗機塗佈為乾燥後之膜厚為60nm後，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此形成高折射率層。於高折射率層上，使用低折射率層用塗液L-1以輥塗機塗佈為乾燥後之膜厚為20nm後，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此形成低折射率層，製作色調校正薄膜。

於該色調校正薄膜之背面，以輥塗機將製造例1之硬塗層用塗液(HC-1)塗佈為乾燥硬化後之膜厚為4μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此製作雙面積層有硬塗層之色調校正薄膜。

將該雙面積層有硬塗層之色調校正薄膜於100℃下進行預備乾燥1小時後，使用銦：錫=10：1(質量比)之ITO靶材進行濺鍍，於低折射率層上形成實際膜厚30nm之作為透明導電層的ITO層，於150℃下施行30分鐘之退火處理，製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表1。

(實施例1-2)

除了使用高折射率層用塗液H-2以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表1。

(實施例1-3)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、低折射率層之乾燥硬化後膜厚為25nm、ITO層之膜厚為25nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表1。

(實施例1-4)

除了使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為15nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表1。

(實施例1-5)

除了使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為45nm、ITO層之膜厚為25nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表1。

(實施例1-6)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-2、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之膜厚為25nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表1。

(實施例1-7)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之膜厚為25nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(實施例1-8)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為45nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之膜厚為25nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(實施例1-9)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為90nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為25nm、使ITO層之膜厚為20nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(實施例1-10)

除了使用高折射率層用塗液H-3、使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之膜厚為25nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(實施例1-11)

除了使用高折射率層用塗液H-4、使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之膜厚為20nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(實施例1-12)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之濺鍍後的退火處理為150℃下進行60分鐘以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(實施例1-13)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為25nm、使ITO層之膜厚為25nm、使ITO層之濺鍍後的退火處理為100℃下進行60分鐘以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(實施例1-14)

除了使用高折射率層用塗液H-4、使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為55nm、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之膜厚為20nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表2。

(比較例1-1)

除了使用高折射率層用塗液H-5以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

(比較例1-2)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為60nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

(比較例1-3)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為5nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

(比較例1-4)

除了使用高折射率層用塗液H-6、使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為65nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm、使ITO層之膜厚為20nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

(比較例1-5)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為100nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

(比較例1-6)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為20nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

(比較例1-7)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為20nm、使用低折射率層用塗液L-3、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為25nm、使ITO層之膜厚為70nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

(比較例1-8)

除了使高折射率層之乾燥硬化後膜厚為70nm、使用低折射率層用塗液L-4、使低折射率層之乾燥硬化後膜厚為30nm以外，與實施例1-1同樣地製作透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表3。

由表1及表2所示之結果，實施例1-1~1-14中，高折射率層係以氧化銦微粒子與胺基甲酸乙酯丙烯酸酯所形成，且高折射率層及低折射率層之折射率與膜厚、進而ITO層之折射率與膜厚係被設定於本發明所規定之範圍內。因此，可充分抑制穿透光之著色，同時可提高總光線穿透率，且可抑制霧值。

另一方面，如表3所示，比較例1-1中，由於高折射率層之折射率係小於本發明所規定之範圍，故穿透色b*之值變大，穿透光呈現著色情況，進而導致總光線穿透率降低之結果。比較例1-2中，由於低折射率層之膜厚大於本發明所規定之範圍，故穿透色b*之值變得過大，成為穿透色呈現著色之結果。比較例1-3中，由於低折射率層之膜厚小於本發明所規定之範圍，故穿透色b*之絕對值變大，穿透光呈現著色情況，進而導致總光線穿透率降低之結果。

比較例1-4中，由於高折射率層之折射率大於本發明所規定之範圍，故穿透色b*之絕對值變大，顯示穿透光呈現著色之結果。比較例1-5中，由於高折射率層之膜厚大於本發明所規定之範圍，故穿透色b*之值變大，成為穿透色呈現著色之結果。比較例1-6中，由於高折射率層之膜厚小於本發明所規定之範圍，故穿透色b*之值變大，穿透光呈現著色情況，進而顯示總光線穿透率降低之結果。比較例1-7中，由於ITO層之膜厚在本發明所規定之範圍外，故穿透色b*之值變得過大，穿透光呈現著色現象，且導致總光線穿透率降低之結果。比較例1-8中，由於低折射率層之折射率大於本發明所規定之範圍，故穿透色b*之值變得過大，成為穿透色呈現著色之結果。

(實施例2-1)

將製造例1之硬塗層用塗液(HC-1)以輥塗機在厚度125μm之PET薄膜上塗佈為乾燥硬化後之膜厚為2μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，藉此製作硬塗處理PET薄膜。

於該硬塗處理PET薄膜之背面，以輥塗機將製造例13之硬塗層用塗液(HC-A1)塗佈為乾燥硬化後之膜厚為2μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此於背面形成滑性硬塗層。如此，製作雙面硬塗薄膜。評估所得之雙面硬塗薄膜的捲取性，為◎。於上述雙面硬塗薄膜之單面的硬塗層(HC-1)上，與實施例1-1同樣地形成高折射率層、低折射率層以及ITO層，獲得透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表4。

(實施例2-2)

將製造例1之硬塗層用塗液(HC-1)以輥塗機在厚度125μm之PET薄膜上塗佈成乾燥硬化後之膜厚為4μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此製作硬塗處理PET薄膜。於該硬塗處理PET薄膜之背面，以輥塗機將製造例14之硬塗層用塗液(HC-A2)塗佈為乾燥硬化後之膜厚為4μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此於背面形成滑性硬塗層。如此，製作雙面硬塗薄膜。

評估所得之雙面硬塗薄膜的捲取性，為○。於該雙面硬塗薄膜之單面的硬塗層(HC-1)上，與實施例1-1同樣地形成高折射率層、低折射率層以及ITO層，獲得透明導電膜。對所得之透明導電膜以上述方法測定穿透色之色調(b*)、總光線穿透率(%)以及霧值(%)，將該等之結果示於表4。

(比較例2-1)

將製造例1之硬塗層用塗液(HC-1)以輥塗機在厚度125μm之PET薄膜上塗佈成乾燥硬化後之膜厚為4μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此製作硬塗處理PET薄膜。於該硬塗處理PET薄膜之背面，以輥塗機將製造例1之硬塗層用塗液(HC-1)塗佈為乾燥硬化後之膜厚為4μm，以120W高壓水銀燈照射400mJ之紫外線，使之硬化，藉此製作雙面硬塗薄膜。評估所得之雙面硬塗薄膜的捲取性，為╳。

由表4所示結果，實施例2-1及2-2中，藉由在硬塗層中含有適當量的透光性微粒子，可使雙面硬塗之捲取性變好。又，即便於使用滑性硬塗層之情況，穿透色b*之值與總光線穿透率仍無變化。另一方面，於比較例2-1中，由於硬塗層中並未含有適當量的透光性微粒子，故雙面硬塗薄膜之捲取性不佳，發生捲取皺摺薄膜上之凹凸，無法積層高折射率層與低折射率層。

雖然前述的描述及圖式已揭示本發明之較佳實施例，必須瞭解到各種增添、許多修改和取代可能使用於本發明較佳實施例，而不會脫離如所附申請專利範圍所界定的本發明原理之精神及範圍。熟悉本發明所屬技術領域之一般技藝者將可體會，本發明可使用於許多形式、結構、佈置、比例、材料、元件和組件的修改。因此，本文於此所揭示的實施例應被視為用以說明本發明，而非用以限制本發明。本發明的範圍應由後附申請專利範圍所界定，並涵蓋其合法均等物，並不限於先前的描述。

100．．．聚酯薄膜

200．．．硬塗層

300．．．高折射率層

400．．．機能層

500．．．低折射率層

700．．．錫摻雜氧化銦層(ITO層)

圖1係表示一實施形態之透明導電膜構造的示意剖面圖；

圖2係表示於聚酯薄膜與高折射率層之間具有硬塗層之導電性薄膜構造的示意剖面圖；以及

圖3係表示具有機能層之透明導電膜構造的示意剖面圖。

100．．．聚酯薄膜

300．．．高折射率層

500．．．低折射率層

700．．．錫摻雜氧化銦層(ITO層)

Claims

一種透明導電膜，係具備從聚酯薄膜之第1主面起依序積層之高折射率層、低折射率層以及錫摻雜氧化銦層者，其特徵為，上述高折射率層係由金屬氧化物微粒子與紫外線硬化性黏結劑所形成，波長400nm下之上述高折射率層的折射率為1.63~1.86，上述高折射率層之膜厚為40~90nm；波長400nm下之上述低折射率層的折射率為1.33~1.53，上述低折射率層之膜厚為10~50nm；波長400nm下之上述錫摻雜氧化銦層的折射率為1.85~2.35，上述錫摻雜氧化銦層之膜厚為5~50nm。
如申請專利範圍第1項所述之透明導電膜，其中，於上述聚酯薄膜與上述高折射率層之間進一步具備1.0~10.0μm之硬塗層。
如申請專利範圍第2項所述之透明導電膜，其中，進一步具備形成於上述聚酯薄膜的第2主面之機能層。
如申請專利範圍第3項所述之透明導電膜，其中，上述機能層係硬塗層、防眩層、抗指紋層或自身修復層。
如申請專利範圍第4項所述之透明導電膜，其中，上述機能層係滑性硬塗層，上述滑性硬塗層之膜厚為1.0~10.0μm，上述滑性硬塗層係於該滑性硬塗層中含有0.5~30質量%之透光性微粒子，上述透光性微粒子之平均粒徑相對於上述滑性硬塗層之膜厚的比率係10~60%。
如申請專利範圍第4項所述之透明導電膜，其中，上述機能層係硬塗層或防眩層，進一步具備積層於該機能層上之抗反射層。