JP2016045521A - 中間基材フィルム、導電性フィルムおよびタッチパネルセンサ - Google Patents

Abstract

【課題】低屈折率層上にパターニングされた透明導電層を積層した場合に、透明導電層の形状を不可視化できる中間基材フィルム、導電性フィルム、およびタッチパネルセンサを提供する。
【解決手段】本発明の一の態様によれば、パターニングされた第１の透明導電層１２を支持するためのタッチパネル用中間基材フィルム１１であって、透明基材１３と、透明基材１３の一方の面上に積層された第１の高屈折率層１５と、第１の高屈折率層１５上に積層され、かつ第１の高屈折率層１５よりも低い屈折率を有する第１の低屈折率層１６とを備え、中間基材フィルム１１における第１の低屈折率層１６側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に反射率の極大値が存在する、中間基材フィルム１１が提供される。
【選択図】図１

Description

本発明は、中間基材フィルム、導電性フィルムおよびタッチパネルセンサに関する。

従来から、指などで触れることにより情報を入力することが可能なタッチパネルが知られている。タッチパネルには、種々の形式のものがあるが、その一つとして、静電容量方式のタッチパネルがある。静電容量方式のタッチパネルは、例えば、指などで接触した位置における静電容量の変化を捉えて、位置を検出するものである。

静電容量方式のタッチパネルに用いられるタッチパネルセンサには、透明基材と、透明基材上に積層された透明層と、透明層上に積層された上部電極層または下部電極層として機能する透明導電層を備えているものがある。

透明導電層は、フォトリソグラフィー法によってパターニングされており、所定の形状を有している。したがって、タッチパネルセンサは、透明導電層が存在している領域である透明導電層存在領域と、透明導電層が存在していない領域である透明導電層非存在領域とを有している。

しかしながら、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との光の反射率差が大きいと、透明導電層の形状（パターン形状）が視認されてしまうことがある（いわゆる、骨見え現象）。現在、透明導電層の形状を不可視化するために、透明層と透明導電層との間に、低屈折率層および高屈折率層を設けて、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率差を小さくしている（例えば、特許文献１参照）。

特表２０１３−５１３１３６号公報

しかしながら、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率差を小さくしても、透明導電層の形状を不可視化できていないのが現状である。

この点について、本発明者らが鋭意研究を重ねたところ、透明導電層存在領域においては、今まで考慮されていなかった波長４５０ｎｍ未満の可視光短波長領域の反射率が波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率に比べて極めて高く、また透明導電層非存在領域においては可視光短波長領域の反射率が波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率に比べて極めて低くなっているため、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域での可視光短波長領域の反射率差が大きくなっており、この可視光短波長領域の反射率差によって透明導電層存在領域の青味が際立ち、これにより透明導電層の形状が視認されてしまうことが見出された。

一方で、現在、タッチパネルの大面積化を図る観点から、透明導電層の低抵抗化が進んでおり、透明導電層の膜厚を厚くする傾向にある。透明導電層の膜厚が厚くなると、透明導電層存在領域での波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率のみならず、４５０ｎｍ未満の可視光短波長領域の反射率もさらに上昇する。このため、透明導電層の低抵抗化が進むと、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との可視光短波長領域の反射率差がさらに大きくなり、上記した問題が顕著になるおそれがある。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、低屈折率層上にパターニングされた透明導電層を積層した場合に、透明導電層の形状を不可視化できる中間基材フィルム、導電性フィルム、およびタッチパネルセンサを提供することを目的とする。

本発明の一の態様によれば、パターニングされた透明導電層を支持するためのタッチパネル用中間基材フィルムであって、透明基材と、前記透明基材の一方の面上に積層された高屈折率層と、前記高屈折率層上に積層され、かつ前記高屈折率層よりも低い屈折率を有する低屈折率層とを備え、前記中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に前記分光反射率の極大値が存在する、中間基材フィルムが提供される。

本発明の他の態様によれば、上記の中間基材フィルムと、前記中間基材フィルム上に積層され、かつパターニングされた透明導電層とを備える、導電性フィルムが提供される。

本発明の他の態様によれば、上部電極層と、前記上部電極層と所定の間隔を置いて配置された下部電極層とを備えるタッチパネルセンサであって、上記の導電性フィルムを備え、前記導電性フィルムの前記透明導電層が前記上部電極層または前記下部電極層として機能する、タッチパネルセンサが提供される。

本発明の一の態様の中間基材フィルムによれば、中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に分光反射率の極大値が存在するので、低屈折率層上にパターニングされた透明導電層を積層した場合には、透明導電層が存在する領域（透明導電層存在領域）における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率と、透明導電層が存在せずに低屈折率層が露出している領域（透明導電層非存在領域）における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率との差を小さくすることができる。したがって、透明導電層存在領域における反射光のｂ^*値と透明導電層非存在領域における反射光のｂ^*値との差を小さくすることができるので、透明導電層存在領域の青味が透明導電層非存在領域と比べて際立つことを抑制できる。これにより、透明導電層の形状を不可視化することができる。

本発明の他の態様の導電性フィルムおよびタッチパネルセンサによれば、中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に分光反射率の極大値が存在するので、透明導電層が存在する領域（透明導電層存在領域）における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域の光の反射率と、透明導電層が存在せずに低屈折率層が露出している領域（透明導電層非存在領域）における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域の光の反射率との差を小さくすることができる。したがって、透明導電層存在領域における反射光のｂ^*値と透明導電層非存在領域における反射光のｂ^*値との差を小さくすることができるので、透明導電層存在領域の青味が透明導電層非存在領域と比べて際立つことを抑制できる。これにより、透明導電層の形状を不可視化することができる。

第１の実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図である。 第１の実施形態に係る導電性フィルムの一部の平面図である。 第１の実施形態に係る他の導電性フィルムの概略構成図である。 第１の実施形態に係る他の導電性フィルムの一部の平面図である。 第１の実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。 第１の実施形態に係るタッチパネルセンサのセンサ部分の平面図である。 第１の実施形態に係る他のタッチパネルセンサの概略構成図である。 第２の実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図である。 第２の実施形態に係る他の導電性フィルムの概略構成図である。

［第１の実施形態］
以下、本発明の第１の実施形態に係る中間基材フィルムおよび導電性フィルムについて、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「中間基材フィルム」には、「中間基材シート」等と呼ばれる部材も含まれ、また「導電性フィルム」には、「導電性板」や「導電性シート」等と呼ばれる部材も含まれる。本明細書において、透明基材、透明層および透明導電層における「透明」とは、透明基材、透明層および透明導電層のそれぞれが可視光を透過する領域を面内に有していることを意味し、透明基材、透明層および透明導電層のそれぞれが実質的に半透明であってもよい。また、「透明」とは、例えば、波長５５０ｎｍでの光透過率が概ね５０％以上であることを言う。本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。本明細書において、微粒子の「平均粒径」は、微粒子が凝集粒子（二次粒子）の状態である場合には、凝集粒子の長径および短径の平均から個々の微粒子の粒子径を算出し、これを平均することにより算出できる。具体的には、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による光学フィルムの表面像または断面像、あるいは走査透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）による光学フィルムの表面像または断面像から任意の２個の凝集粒子を抽出し（表面像の場合、無作為に２個選択できるが、断面の場合、微粒子のどこで切られているか不明であるため、可能な限り大きい粒子を２個選択する）、個々の凝集粒子の長径および短径を測定して、個々の凝集粒子の凝集径を算出し、同じサンプルの別画像の撮像において同様の作業を９回行って、合計２０個分の微粒子の粒子径の数平均から得られる値を微粒子の平均粒径とした。なお、「長径」は、凝集粒子の画面上において最も長い径とし、「短径」は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、この線分が凝集粒子と交わる２点間の距離を言うものとする。また、本明細書において、微粒子が凝集粒子の状態でない、すなわち一次粒子の状態である場合には、微粒子の一次粒子の平均粒径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。なお、後述する第１の高屈折率層に含まれる高屈折率微粒子および第１の低屈折率層に含まれる低屈折率微粒子の平均粒径も同様の手法によって算出できる。（１）微粒子そのもの、または微粒子の分散液を光透過性基材上に塗布し、乾燥させたものをＴＥＭまたはＳＴＥＭの断面像を撮像する。（２）表面像から任意の１０個の微粒子を抽出し、個々の微粒子の長径および短径を測定し、長径および短径の平均から個々の微粒子の粒子径を算出する。（３）同じサンプルの別画像の撮像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の微粒子の数平均から得られる値を平均粒径とした。図１は本実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図であり、図２は本実施形態に係る導電性フィルムの一部の平面図であり、図３は本実施形態に係る他の導電性フィルムの概略構成図であり、図４は本実施形態に係る他の導電性フィルムの一部の平面図である。

＜＜導電性フィルムおよび中間基材フィルム＞＞
図１に示される導電性フィルム１０は、中間基材フィルム１１と、中間基材フィルム１１に積層された第１の透明導電層１２とを備えている。「中間基材フィルム」とは、タッチパネルに用いられるものであるが、タッチパネル等の最表面に配置されるものではなく、タッチパネル等の内部に配置される基材フィルムを意味する。

中間基材フィルム１１は、第１の透明導電層１２を支持するためのものである。中間基材フィルム１１は、透明基材１３と、透明基材１３の一方の面１３Ａ上に積層された第１の透明層１４と、第１の透明層１４上に積層された第１の高屈折率層１５と、第１の高屈折率層１５上に積層された第１の低屈折率層１６と、透明基材１３の他方の面１３Ｂ上に積層された第２の透明層１７とを備えている。

中間基材フィルムは、第１の透明層や第２の透明層を備えていなくともよい。また、中間基材フィルムは、第２の透明層上に第２の高屈折率層や第２の低屈折率層を備えていてもよい。具体的には、中間基材フィルムとしては、図１に示される中間基材フィルム１１の他、透明基材の一方の面上に、第１の透明層が設けられておらず、また第１の高屈折率層および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層のみが設けられている中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に、第１の透明層が設けられておらず、また第１の高屈折率層および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層が設けられていない中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に、第１の透明層が設けられておらず、また第１の高屈折率層および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層および第２の高屈折率層が設けられている中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に、第１の透明層が設けられておらず、また第１の高屈折率層および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層および第２の低屈折率層が設けられている中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層が設けられていない中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層および第２の高屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層および第２の低屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルム、および透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層、第２の高屈折率層、および第２の低屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルムのいずれであってもよい。

中間基材フィルム１１における第１の低屈折率層１６側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に分光反射率の極大値が存在している。本明細書において、「極大値」とは、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍの領域全体で見たときに、分光反射率が増加から減少に大きく転じている点を意味する。したがって、高周波成分のような微小な波長領域において分光反射率が増加から減少に転じている点は、本明細書における「極大値」には含まれない。

分光反射率は、光源から少なくとも波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度５°で照射し、かつ正反射方向の反射光を検出器で受光することによって測定することができる。本明細書において、「入射角度５°の光」とは、中間基材フィルムの一方の面の法線方向を０°としたとき、前記法線方向に対して５°傾いた光を意味する。少なくとも波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光源としては、重水素ランプとハロゲンランプの併用したデュアル光源が挙げられる。分光反射率は、例えば、島津製作所社製のＵＶ−３１００ＰＣ／ＭＰＣ−３１００のような公知の分光光度計を用いて測定することが可能である。分光光度計で測定された分光反射率は高周波成分が重畳しているので、上記極大値は、分光光度計で測定された分光反射率から微分変換法を用いたスムージング処理によって高周波成分を取り除き、この高周波成分を取り除いた分光反射率から求めるものとする。

中間基材フィルム１１における波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率は、中間基材フィルム１１上に第１の透明導電層１２を形成する前の段階において、中間基材フィルム１１の第１の低屈折率層１６に光を照射して、分光反射率を測定することによって得ることが可能であるが、第１の透明導電層１２が形成された後であっても、第１の透明導電層１２が存在せずに第１の低屈折率層１６が露出している透明導電層非存在領域１０Ａに光を照射して、分光反射率を測定することによって、または第１の透明導電層１２をエッチング液等で取り除いて第１の低屈折率層１６を露出させ、第１の低屈折率層１６に光を照射して、分光反射率を測定することによっても得ることが可能である。

透明導電層存在領域においては、波長３００ｎｍ周辺から波長５００ｎｍまで急激に反射率が低下し、波長５００ｎｍ以上の波長領域では反射率の変動は比較的小さい傾向にある。また、透明導電層非存在領域における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率は、透明導電層存在領域における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率よりも極めて低い。したがって、透明導電層非存在領域における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率を上昇させれば、透明導電層存在領域における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率と、透明導電層非存在領域における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率との差を小さくすることができる。ここで、中間基材フィルムにおける分光反射率をグラフ化した場合、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に反射率の極大値が存在している方が、波長５００ｎｍを超える領域に反射率の極大値が存在している場合よりも、低波長側で反射率曲線が立ち上がるので、波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の光の反射率は高くなる。本実施形態においては、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に反射率の極大値が存在しているので、波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の光の反射率を上昇させることができる。したがって、透明導電層存在領域１０Ａにおける波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率と、第１の透明導電層１２が存在せずに第１の低屈折率層１６が露出している透明導電層非存在領域１０Ｂにおける波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率との差を小さくすることができる。したがって、透明導電層存在領域１０Ａにおける反射光のｂ^*値と透明導電層非存在領域１０Ｂにおける反射光のｂ^*値との差を小さくすることができるので、透明導電層存在領域１０Ａの青味が透明導電層非存在領域１０Ｂと比べて際立つことを抑制できる。これにより、第１の透明導電層１２の形状を不可視化することができる。なお、上記「ｂ^*」値はＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の色座標ｂ^*であり、ＪＩＳ Ｚ８７２９に準拠するものである。上記ｂ^*値は、第１の透明導電層側から導電性フィルムの透明導電層存在領域および第１の低屈折率層側から導電性フィルムの透明導電層非存在領域のそれぞれに少なくとも波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度５°で照射し、それぞれの正反射方向の反射光を受光し、その受光された反射光から求めることができる。

上記極大値は、波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在していることが好ましい。上記極大値が波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在することにより、波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率をより上昇させることができるので、第１の透明導電層１２の形状をより不可視化することができる。

上記極大値は、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率の最大値であることが好ましい。上記したように透明導電層存在領域においては、波長３００ｎｍ周辺から波長５００ｎｍまで急激に反射率が低下し、波長５００ｎｍ以上の可視光波長域では反射率の変動は比較的小さい傾向にあるので、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍの領域に存在する極大値が波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率の最大値であることにより、中間基材フィルムにおいて、透明導電層存在領域の反射率曲線に沿った形状の反射率曲線を得ることができる。

波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域内に、反射率の極大値を有する中間基材フィルム１１は、例えば、第１の高屈折率層１５の屈折率を上げるとともに、第１の高屈折率層１５の膜厚を薄くして、あるいは第１の低屈折率層１６の膜厚を薄くして、短波長領域の反射率を上げることにより得ることができる。

中間基材フィルム１１においては、中間基材フィルム１１における第１の低屈折率層１６側から測定した波長５００ｎｍの光の反射率と、中間基材フィルム１１における第１の低屈折率層１６側から測定した波長３００ｎｍの光の反射率との差（反射率差）が２％以下となっていることが好ましい。波長３００ｎｍの光の反射率を用いたのは、中間基材フィルム１１においては、波長３００ｎｍ周辺から波長５００ｎｍに向かい反射率が急激に上昇するからであり、また波長５００ｎｍの光の反射率を用いたのは、波長５００ｎｍ以上の可視光波長域においては、光の反射率の変動が少ないからである。

従来の中間基材フィルムにおいては、波長４５０ｎｍ未満の可視光短波長領域の反射率については、何ら考慮されていなかったので、波長３００ｎｍの光の反射率は、極めて低くなっている。このため、従来の中間基材フィルムにおける波長５００ｎｍの光の反射率と、波長３００ｎｍの光の反射率との差は、２％を大きく超えている。これに対し、中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長５００ｎｍの光の反射率と中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長３００ｎｍの光の反射率との差が２％以下となっている場合であって、第１の低屈折率層１６上にパターニングされた透明導電層１２を積層した場合には、従来の中間基材フィルムより、透明導電層存在領域１０Ａにおける波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域の光の反射率と、透明導電層非存在領域１０Ｂにおける波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域の反射率との差を小さくすることができる。これにより、第１の透明導電層１２の形状をより不可視化することができる。

「中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長５００ｎｍの光の反射率と中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長３００ｎｍの光の反射率との差」とは、中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長５００ｎｍの光の反射率から中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長３００ｎｍの光の反射率を引いた値の絶対値とする。「波長５００ｎｍの光の反射率」および「波長３００ｎｍの光の反射率」は、例えば、島津製作所社製のＵＶ−３１００／ＭＰＣ−３１００のような公知の分光光度計を用いて測定することが可能である。波長５００ｎｍの光の反射率および波長３００ｎｍの光の反射率は、分光光度計で測定された分光反射率は高周波成分が重畳しているので、微分変換法を用いたスムージング処理によって高周波成分を取り除いてから求めることが好ましい。

中間基材フィルム１１における波長５００ｎｍの光の反射率および波長３００ｎｍの光の反射率は、中間基材フィルム１１上に第１の透明導電層１２を形成する前の段階において、中間基材フィルム１１の第１の低屈折率層１６に光を照射して、反射率を測定することによって得ることが可能であるが、第１の透明導電層１２が形成された後であっても、第１の透明導電層１２が存在せずに露出している第１の低屈折率層１６に光を照射して、反射率を測定することによって、または第１の透明導電層１２をエッチング液等で取り除いて第１の低屈折率層１６を露出させ、第１の低屈折率層１６に光を照射して、分光反射率を測定することによっても得ることが可能である。

波長５００ｎｍの光の反射率と波長３００ｎｍの光の反射率との差が、２％以下である中間基材フィルム１１は、例えば、高屈折率層１５の屈折率を上げるとともに、高屈折率層１５の膜厚を薄くして、あるいは第１の低屈折率層１６の膜厚を薄くして、短波長領域の反射率を上げることにより得ることができる。

中間基材フィルム１１上に、第１の透明導電層１２として膜厚２５ｎｍ以上、好ましくは膜厚３０ｎｍ以上のスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層を積層する場合には、中間基材フィルム１１においては、波長３００ｎｍの光の反射率は４％以上８％以下であることが可能であり、波長３５０ｎｍの光の反射率は６．５％以上８．５％以下であることが可能であり、波長４００ｎｍの光の反射率は７％以上９％以下であることが可能であり、波長４５０ｎｍの光の反射率は７％以上９％以下であることが可能であり、波長５００の光の反射率は６．５％以上９％以下であることが可能である。中間基材フィルム１１においては、波長６００ｎｍの光の反射率は５％以上９％以下であることが可能であり、波長７００ｎｍの光の反射率は５％以上９％以下であることが可能である。この場合のスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層の膜厚の上限は、色味が付くことを抑制する観点から、５０ｎｍ以下であることが好ましい。膜厚２５ｎｍ以上のスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層は、１２０Ω／□未満の抵抗値を有するものである。

中間基材フィルム１１上に、第１の透明導電層１２として膜厚１５ｎｍ以上２５ｎｍ未満のスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層を積層する場合には、中間基材フィルム１１においては、波長３００ｎｍの光の反射率は４％以上７％以下であることが可能であり、波長３５０ｎｍの光の反射率は４％以上７％以下であることが可能であり、波長４００ｎｍの光の反射率は４％以上７％以下であることが可能であり、波長４５０ｎｍの光の反射率は４％以上７％以下であることが可能であり、波長５００の光の反射率は４％以上７％以下であることが可能である。中間基材フィルム１１においては、波長６００ｎｍの光の反射率は４％以上７％以下であることが可能であり、波長７００ｎｍの光の反射率は４％以上７％以下であることが可能である。膜厚１５ｎｍ以上２５ｎｍ未満のスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層は、１２０Ω／□以上２００Ω／□以下の抵抗値を有するものである。

上記において、膜厚１５ｎｍ以上２５ｎｍ未満のスズドープ酸化インジウム層よりも膜厚２５ｎｍ以上、好ましくは３０ｎｍ以上のスズドープ酸化インジウム層を用いる場合の方が、中間基材フィルムにおける各波長の光の反射率の範囲を高くするのは、スズドープ酸化インジウム層の膜厚が厚くなると、スズドープ酸化インジウム層の存在領域における各波長の光の反射率が上昇する傾向にあるからである。

第１の透明導電層１２はパターニングされているので、第１の低屈折率層１６の一部の表面に形成されている。すなわち、導電性フィルム１０においては、第１の透明導電層１２が存在している領域である透明導電層存在領域１０Ａと、第１の透明導電層１２が存在しておらず、第１の低屈折率層１６が露出している領域である透明導電層非存在領域１０Ｂとが存在している。なお、第１の透明導電層の形状は特に限定されないが、例えば、正方形状やストライプ状が挙げられる。図２に示されるように第１の透明導電層１２の形状は正方形状となっており、かつ第１の透明導電層１２は横方向に並んでいる。

第１の透明導電層１２側から透明導電層存在領域１０Ａおよび第１の低屈折率層１６側から透明導電層非存在領域１０Ｂのそれぞれに少なくとも波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度５°で照射し、それぞれの正反射方向の反射光を受光し、透明導電層存在領域１０Ａでの反射光のＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _１、色座標ａ^* _１、および色座標ｂ^* _１とし、透明導電層非存在領域１０Ｂでの反射光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _２、色座標ａ^* _２、および色座標ｂ^* _２としたとき、導電性フィルム１０は下記式（１）〜（３）の少なくともいずれかを満たすことが好ましく、下記式（１）〜（３）の全てを満たすことがより好ましい。「Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系」、「Ｌ^*」、「ａ^*」、および「ｂ^*」は、ＪＩＳ Ｚ８７２９に準拠するものである。
０≦│Ｌ^* _１−Ｌ^* _２│≦６．０ …（１）
０≦│ａ^* _１−ａ^* _２│≦３．０ …（２）
０≦│ｂ^* _１−ｂ^* _２│≦６．０ …（３）

導電性フィルム１０は下記式（４）〜（６）の少なくともいずれかを満たすことがより好ましく、下記式（４）〜（６）の全てを満たすことが最も好ましい。
０≦│Ｌ^* _１−Ｌ^* _２│≦５．０ …（４）
０≦│ａ^* _１−ａ^* _２│≦２．０ …（５）
０≦│ｂ^* _１−ｂ^* _２│≦２．５ …（６）

導電性フィルム１０が上記式（１）〜（３）の少なくともいずれかを満たすことにより、特に上記式（３）を満たすことにより、第１の透明導電層１２の形状をより不可視化することができる。

上記反射光の上記Ｌ^* _１、Ｌ^* _２、ａ^* _１、ａ^* _２、ｂ^* _１、およびｂ^* _２から求めた透明導電層存在領域１０Ａにおける第１の透明導電層１２側での反射光と透明導電層非存在領域１０Ｂにおける第１の低屈折率層１６側での反射光の色差ΔＥ^*ａｂは、５．０以下であることが好ましい。「ΔＥ^*ａｂ」は、ＪＩＳ Ｚ８７３０に準拠するものである。透明導電層存在領域１０Ａの反射光と透明導電層非存在領域１０Ｂの反射光の色差ΔＥ^*ａｂを５．０以下とすることにより、第１の透明導電層１２の形状をより不可視化することができる。

透明導電層存在領域１０Ａに向けて透明基材１３側（第２の透明層１７側）から少なくとも波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度０°で照射したときの透明導電層存在領域１０Ａを透過した光（透過光）のＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _３、色座標ａ^* _３、および色座標ｂ^* _３とし、透明導電層非存在領域１０Ｂに向けて透明基材１３側（第２の透明層１７側）から少なくとも波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度０°で照射したときの透明導電層存在領域１０Ａを透過した光（透過光）の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _４、色座標ａ^* _４、および色座標ｂ^* _４としたとき、導電性フィルム１０は下記式（７）〜（９）の少なくともいずれかを満たすことが好ましく、下記式（７）〜（９）の全てを満たすことがより好ましい。
０≦│Ｌ^* _３−Ｌ^* _４│≦３．０ …（７）
０≦│ａ^* _３−ａ^* _４│≦１．０ …（８）
０≦│ｂ^* _３−ｂ^* _４│≦５．０ …（９）

導電性フィルム１０は下記式（１０）〜（１２）の少なくともいずれかを満たすことがより好ましく、下記式（１０）〜（１２）の全てを満たすことが最も好ましい。
０≦│Ｌ^* _１−Ｌ^* _２│≦２．０ …（１０）
０≦│ａ^* _１−ａ^* _２│≦０．５ …（１１）
０≦│ｂ^* _１−ｂ^* _２│≦３．０ …（１２）

上記透過光の上記Ｌ^* _３、Ｌ^* _４、ａ^* _３、ａ^* _４、ｂ^* _３、およびｂ^* _４から求めた透明導電層存在領域１０Ａの透過光と透明導電層非存在領域１０Ｂの透過光の色差ΔＥ^*ａｂは、３．５以下であることが好ましい。透明導電層存在領域１０Ａの透過光と透明導電層非存在領域１０Ｂの透過光の色差ΔＥ^*ａｂを３．５以下とすることにより、タッチパネルの使用時において、第１の透明導電層１２の形状を不可視化することができる。

図２においては、第１の透明導電層１２がＸ方向に延びた導電性フィルム１０が示されているが、導電性フィルムとしては、例えば、第１の透明導電層１８がＹ方向に延びた、図３および図４に示される導電性フィルム３０であってもよい。

導電性フィルム１０と導電性フィルム３０は、第１の透明導電層１２と第１の透明導電層１８の配置が異なるだけである。したがって、導電性フィルム３０においても、導電性フィルム１０と同様に、第１の透明導電層１８が存在している透明導電層存在領域３０Ａおよび第１の透明導電層１８が存在していない透明導電層非存在領域３０Ｂが存在している。また、導電性フィルム３０においても、第１の低屈折率層１６側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に分光反射率の極大値が存在している中間基材フィルム１１を用いている。したがって、導電性フィルム３０においても、第１の透明導電層１８の形状を不可視化できる。なお、その他の点も、導電性フィルム１０と同様であるので、ここでは説明を省略する。

＜透明基材＞
透明基材１３としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン基材、ポリカーボネート基材、ポリアクリレート基材、ポリエステル基材、芳香族ポリエーテルケトン基材、ポリエーテルサルフォン基材、ポリアミド基材、またはガラス基材が挙げられる。

ポリオレフィン基材としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン基材等の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。環状ポリオレフィン基材としては、例えばノルボルネン骨格を有するものが挙げられる。

ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。

ポリアクリレート基材としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル基材、ポリ（メタ）アクリル酸エチル基材、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。

ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。

芳香族ポリエーテルケトン基材としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）基材等が挙げられる。

透明基材１３の厚みは、特に限定されないが、５μｍ以上３００μｍ以下とすることが可能であり、透明基材１３の厚みの下限はハンドリング性等の観点から１０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましい。透明基材１３の厚みの上限は薄膜化の観点から２００ｍ以下であることが好ましい。

透明基材１３の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤やプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。アンカー剤やプライマー剤としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンと酢酸ビニルまたはアクリル酸などとの共重合体、エチレンとスチレンおよび／またはブタジエンなどとの共重合体、オレフィン樹脂などの熱可塑性樹脂および／またはその変性樹脂、光重合性化合物の重合体、およびエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等の少なくともいずれかを用いることが可能である。

＜第１の透明層＞
第１の透明層１４は、透明性を有していればよいが、ハードコート性を有することが好ましい。第１の透明層１４がハードコート性を有する場合、第１の透明層１４の表面はＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「ＨＢ」以上、好ましくはＦ以上の硬度を有する。鉛筆硬度を「ＨＢ」以上とすることにより、第１の透明層１４の硬さを第１の低屈折率層１６の表面に十分に反映させることができ、耐擦傷性や耐久性を向上させることができる。なお、第１の透明層１４上に形成する第１の高屈折率層１５との密着性、靱性およびカールの防止の観点から、第１の透明層１４の表面の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。タッチパネルセンサは、繰り返し押圧され高度な密着性および靱性が要求されることから、第１の透明層１４の鉛筆硬度の上限を４Ｈとすることにより、中間基材フィルム１１をタッチパネルセンサに組み込んで使用する場合に顕著な効果を発揮できる。

第１の透明層１４の膜厚は０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。第１の透明層１４の膜厚がこの範囲であれば、所望の硬度を得ることができるとともに、第１の透明層の薄膜化を図ることができる。また、第１の透明導電層１２の導電性を向上させるために、第１の透明導電層１２を形成する際や第１の透明導電層１２を形成した後に透明基材１３を加熱すると、この加熱によって透明基材１３からオリゴマーが析出して白く濁って見えることがあるが、この範囲の膜厚を有する第１の透明層１４を形成することによって、このオリゴマーの析出を抑制することができる。第１の透明層の膜厚は、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。第１の透明層の膜厚が０．５μｍ以上１０μｍ以下の場合には、ＳＥＭを用いることが好ましい。ＳＥＭの場合、加速電圧は３０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましい。

第１の透明層の薄膜化を図る一方で、カールの発生を抑制する観点から、第１の透明層１４の膜厚は０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることがより好ましい。ただし、中間基材フィルム１１のように、透明基材１３の一方の面１３Ａに第１の透明層１４を形成し、かつ他方の面１３Ｂに第２の透明層１７を形成している場合には、第１の透明層１４と第２の透明層１７でカールの発生を抑制できることから、第１の透明層１４の膜厚は５μｍを超えていてもよい。

第１の透明層１４の屈折率は、１．４５以上１．６０以下であってもよい。第１の透明層１４の屈折率の下限は、１．５０以上であってもよく、第１の透明層１４の屈折率の上限は、１．５８以下であってもよい。透明基材１３と第１の透明層１４との屈折率差は、干渉縞が視認されることを抑制する観点から、０．１５以内とすることが好ましく、０．１０以内とすることがより好ましい。ここで、透明基材１３の表面にアンカー剤やプライマー剤が塗布されている場合には、透明基材１３と第１の透明層１４との屈折率差は、アンカー剤やプライマー剤と第１の透明層との屈折率差である。

第１の透明層１４の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）やエリプソメータによって測定できる。

第１の透明層１４は、少なくとも樹脂から構成することが可能である。なお、樹脂の他に、微粒子を含んでいてもよい。

〈樹脂〉
樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）を含むものである。樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性樹脂を含んでいてもよい。光重合性化合物は、光重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、光重合性化合物を重合する際に照射される光としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、または光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性プレポリマーとの組み合わせが好ましい。

（光重合性モノマー）
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。

２官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。

これらの中でも硬度が高い第１の透明層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）等が好ましい。

（光重合性オリゴマー）
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（光重合性プレポリマー）
光重合性プレポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる導電性フィルムの外観が悪化するおそれがある。上記多官能プレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、第１の透明層１４を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。

熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。

熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

〈微粒子〉
微粒子は、無機微粒子または有機微粒子のいずれであってもよいが、これらの中でも、例えば、シリカ（ＳｉＯ_２）微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、酸化スズ微粒子、アンチモンドープ酸化スズ（略称；ＡＴＯ）微粒子、酸化亜鉛微粒子等の無機酸化物微粒子が好ましい。

有機微粒子としては、例えば、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、具体例としては、ポリスチレンビーズ、メラミン樹脂ビーズ、アクリルビーズ、アクリル−スチレンビーズ、シリコーンビーズ、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。

第１の透明層１４を形成するためには、まず、透明基材１３の表面に、少なくとも光重合性化合物を含む第１の透明層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第１の透明層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の透明層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の透明層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより第１の透明層用組成物を硬化させて、第１の透明層１４を形成する。

第１の透明層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。

第１の透明層用組成物を硬化させる際の光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

第１の透明層用組成物には、必要に応じて、上記微粒子、上記熱可塑性樹脂、上記熱硬化性樹脂、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、第１の透明層用組成物には、第１の透明層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。

〈溶剤〉
溶剤としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等）、エーテル類（１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテルジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。

〈重合開始剤〉
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。

重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

上記重合開始剤としては、上記バインダ樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。

第１の透明層用組成物における重合開始剤の含有量は、光重合性化合物１００質量部に対して、０．５質量部以上１０．０質量部以下であることが好ましい。重合開始剤の含有量をこの範囲内にすることにより、ハードコート性能が充分に保つことができ、かつ硬化阻害を抑制できる。

第１の透明層用組成物中における原料の含有割合（固形分）としては特に限定されないが、通常は５質量％以上７０質量％以下が好ましく、１５質量％以上６０質量％以下とすることがより好ましい。

＜第１の高屈折率層＞
第１の高屈折率層１５の屈折率は、１．５０以上２．００以下であってもよい。第１の高屈折率層１５の屈折率の下限は、１．５８以上であってもよく、第１の高屈折率層１５の屈折率の上限は、１．７５以下であってもよい。第１の高屈折率層１５の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。透明基材１３と第１の高屈折率層１５との間に第１の透明層１４が存在する場合には、第１の高屈折率層１５は第１の透明層１４の屈折率よりも高い屈折率を有する。第１の透明層１４と第１の高屈折率層１５との屈折率差は、０．０６以上０．２０以下であることが好ましい。

第１の高屈折率層１５の膜厚と第１の低屈折率層１６の膜厚との比は、１：１〜５：１となっていることが好ましい。上記比がこの範囲内にあることにより、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域において、分光反射率の極大値が存在する範囲を実現できる。

第１の高屈折率層１５の膜厚は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第１の高屈折率層の膜厚はｎｍオーダーであるので、第１の高屈折率層の膜厚は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの測定条件としては、加速電圧は３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。第１の高屈折率層１５の膜厚の下限は、３０ｎｍ以上であることが好ましく、第１の高屈折率層１５の膜厚の上限は、７０ｎｍ以下であることが好ましい。

第１の高屈折率層１５としては、第１の透明層１４の屈折率よりも高い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第１の高屈折率層１５は、例えば、高屈折率微粒子と、バインダ樹脂とから構成することができる。高屈折率微粒子の平均粒径は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下がさらに好ましい。高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、第１の高屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な微粒子の分散状態が得られる。

第１の高屈折率層１５を構成する高屈折率微粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．３３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．０４）、酸化スズ（ＳｎＯ_２、屈折率：２．００）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率：１．９５）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６、屈折率：１．９０〜２．００）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３、屈折率：１．８７）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）等が挙げられる。これらの中でも、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムが好ましい。

第１の高屈折率層１５を構成するバインダ樹脂は特に制限されることがなく、熱可塑性樹脂を用いることもできるが、表面硬度を高くする観点から、熱硬化性樹脂又は光重合性化合物等の重合物（架橋物）であるものが好ましく、中でも光重合性化合物の重合物であるものがより好ましい。

熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を硬化させる際には、硬化剤を用いてもよい。

光重合性化合物としては、特に限定されないが、光重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。１官能の光重合性モノマーとしては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。また、２官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、これらの化合物をエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド等で変性した化合物等が挙げられる。

また、これらの化合物は、芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、窒素、リン原子等を導入して、屈折率を高く調整したものであってもよい。さらに、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。光重合性化合物を重合（架橋）させる際には、第１の透明層の欄で説明した重合開始剤を用いてもよい。

第１の高屈折率層１５は、例えば、第１の透明層１４の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第１の透明層１４の表面に、少なくとも高屈折率微粒子と光重合性化合物を含む第１の高屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第１の高屈折率層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の高屈折率層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の高屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより第１の高屈折層用組成物を硬化させて、第１の高屈折率層１５を形成することができる。

＜第１の低屈折率層＞
第１の低屈折率層１６は、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低い屈折率を有する層である。具体的には、第１の低屈折率層１６の屈折率は、１．３５以上１．５５以下であってもよい。第１の低屈折率層１６の屈折率の下限は、１．４０以上であってもよく、第１の低屈折率層１６の屈折率の上限は、１．５０以下であってもよい。第１の低屈折率層１６の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第１の透明層１４が存在する場合には、第１の低屈折率層１６は第１の透明層１４よりも低い屈折率を有する層であることが好ましく、この場合、第１の透明層１４と第１の低屈折率層１６との屈折率差は、０．０１以上０．１８以下であることが好ましい。

第１の低屈折率層１６の膜厚は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第１の低屈折率層の膜厚はｎｍオーダーであるので、第１の低屈折率層の膜厚は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの測定条件としては、加速電圧は３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。第１の低屈折率層１６の膜厚の下限は、１５ｎｍ以上であることが好ましく、第１の低屈折率層１６の膜厚の上限は、５０ｎｍ以下であることが好ましい。

第１の低屈折率層１６としては、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第１の低屈折率層１６は、例えば、低屈折率微粒子と、バインダ樹脂とから、または低屈折率樹脂から構成することができる。

低屈折率微粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。低屈折率微粒子の平均粒径は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下がさらに好ましい。低屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、第１の低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な微粒子の分散状態が得られる。

低屈折率微粒子としては、硬度を向上させる観点から、シリカ表面に反応性官能基を有する反応性シリカ微粒子を用いることが好ましい。反応性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。このような反応性シリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。

第１の低屈折率層１６を構成するバインダ樹脂としては、第１の高屈折率層１５を構成するバインダ樹脂と同様のものが挙げられる。ただし、バインダ樹脂に、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料を混合してもよい。

低屈折率樹脂としては、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い樹脂が挙げられる。

第１の低屈折率層１６は、例えば、第１の透明層１４の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第１の高屈折率層１５の表面に、少なくとも低屈折率微粒子と光重合性化合物を含む第１の低屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第１の低屈折率層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の低屈折率層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の低屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより第１の低屈折層用組成物を硬化させて、第１の低屈折率層１６を形成することができる。

第１の高屈折率層１５と第１の低屈折率層１６との間には、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低く、かつ第１の低屈折率層１６の屈折率よりも高い屈折率を有する中屈折率層（図示せず）、第１の高屈折率層１５よりも高い屈折率を有する層（図示せず）、または第１の低屈折率層１６よりも低い屈折率を有する層（図示せず）が設けられていてもよい。

＜第２の透明層＞
第２の透明層１７は、ハードコート性を有することが好ましい。第２の透明層１７がハードコート性を有する場合、第２の透明層１７の表面はＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「ＨＢ」以上、好ましくはＦ以上の硬度を有する。なお、第１の透明層１４に記載した理由と同様の理由から、第２の透明層１７の表面の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。

第２の透明層１７の膜厚は、５μｍ以下であってもよいが、透明基材１３の他方の面１３Ｂに第２の透明層１７が設けられている場合には、透明基材１３の一方の面１３Ａには第１の透明層１４が必ず設けられているので、上記した理由から５μｍを超えていてもよい。第１の透明層１３の膜厚が０．５μｍ以上５．０μｍ以下である場合、第２の透明層１７の膜厚は、０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。

第２の透明層１７の屈折率は、第１の透明層１４の欄で説明した理由と同様の理由から、１．４５以上１．６０以下であってもよい。第２の透明層１７の屈折率の下限は、１．５０以上であってもよく、第２の透明層１７の屈折率の上限は、１．５８以下であってもよい。透明基材１３と第２の透明層１７との屈折率差は、干渉縞が視認されることを抑制する観点から、０．１５以内とすることが好ましく、０．１０以内とすることがより好ましい。第２の透明層１７の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。なお、透明基材１３の表面にアンカー剤やプライマー剤が塗布されている場合には、透明基材１３と第２の透明層１７との屈折率差は、アンカー剤やプライマー剤と第２の透明層との屈折率差である。

第２の透明層は、第１の透明層の欄で記載した材料および方法によって形成することができる。

＜第１の透明導電層＞
第１の透明導電層１２、１８は、中間基材フィルム１１上に設けられ、かつパターニングされている。本実施形態では、第１の透明導電層１２は、導電性フィルム１０における第１の低屈折率層１６上に形成されており、第１の透明導電層１８は、導電性フィルム３０における第１の低屈折率層１６上に形成されている。なお、図１は、図２のＩ−Ｉ線に沿った断面図であり、図３は図４のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。

第１の透明導電層１２、１８の屈折率は、１．８５以上２．３０以下であることが好ましい。第１の透明導電層１２、１８の屈折率の下限は、１．９０以上であることが好ましく、第１の透明導電層１２、１８の屈折率の上限は、２．２０以下であることが好ましい。第１の透明導電層１２、１８の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。

第１の透明導電層１２、１８の膜厚は、電気抵抗の仕様などに応じて適宜設定されるが、例えば、１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。第１の透明導電層１２、１８の膜厚の下限は、５０ｎｍ以下であることが好ましい。

図２、４に示されるように第１の透明導電層１２、１８は、それぞれ、センサ部１２Ａ、１８Ａと、センサ部１２Ａ、１８Ａに連結した端子部（図示せず）とを備えている。センサ部１２Ａ、１８Ａは、タッチ位置を検出され得る領域である矩形状のアクティブエリア内に設けられており、端子部は、アクティブエリアに隣接し、アクティブエリアを四方から周状に取り囲む領域である非アクティブエリア内に設けられている。

センサ部１２Ａは、センサ部１８Ａとは異なる所定のパターンで配置されている。具体的には、センサ部１２Ａは、導電性フィルム１０における中間基材フィルム１１のフィルム面に沿った一方向（図２に示されるＹ方向）に並べて配列された線状導電体として構成されており、センサ部１８Ａは、前記一方向と交差し、かつ導電性フィルム３０における中間基材フィルム１１のフィルム面に沿った他方向（図４に示されるＸ方向）に並べて配列された線状導電体として構成されている。

センサ部１２Ａをなす線状導電体の各々は、その配列方向と交差する方向において線状に延びている。同様に、センサ部１８Ａをなす線状導電体の各々は、その配列方向と交差する方向に線状に延びている。図２においては、センサ部１２Ａは、センサ部１２Ａの配列方向であるＹ方向と直交するＸ方向に沿って直線状に延びており、センサ部１８Ａは、センサ部１８Ａの配列方向であるＸ方向と直交するＹ方向に沿って直線状に延びている。

センサ部１２Ａは、直線状に延びるライン部１２Ｂと、ライン部１２Ｂから膨出した膨出部１２Ｃとを有している。図２においては、ライン部１２Ｂは、Ｘ方向に沿って直線状に延びている。膨出部１２Ｃは導電性フィルム１０における中間基材フィルム１１のフィルム面に沿ってライン部１２Ｂから膨らみ出ている部分である。したがって、各センサ部１２Ａの幅は、膨出部１２Ｃが設けられている部分においては太くなっている。本実施形態においては、膨出部１２Ｃは平面視略正方形状の外輪郭を有している。なお、膨出部１２Ｃは平面視略正方形状に限らず、菱形状、またはストライプ状であってもよい。

センサ部１８Ａも、センサ部１２Ａと同様に構成されている。すなわち、センサ部１８Ａは、直線状に延びるライン部１８Ｂと、ライン部１８Ｂから膨出した膨出部１８Ｃとを有している。図４においては、ライン部１８Ｂは、Ｙ方向に沿って直線状に延びている。膨出部１８Ｃは導電性フィルム３０における中間基材フィルム１１のフィルム面に沿ってライン部１８Ｂから膨らみ出ている部分である。したがって、各センサ部１８Ａの幅は、膨出部１８Ｃが設けられている部分においては太くなっている。本実施形態においては、膨出部１８Ｃは平面視略正方形状の外輪郭を有している。なお、膨出部１８Ｃは平面視略正方形状に限らず、菱形状、またはストライプ状であってもよい。

第１の透明導電層１２、１８（センサ部１２Ａ、１８Ａおよび端子部）は、例えば、無機系の透明導電層用材料、有機系の透明導電層用材料、または無機系の透明導電層用材料と有機系の透明導電層用材料との混合材料を含む層である。無機系の透明導電層用材料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物やカーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でも透明導電層における透明性と低抵抗の観点から、無機系の透明導電層用材料としてはスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）が好ましい。有機系の透明導電層用材料としては、導電性ポリマー等が挙げられる。

第１の透明導電層１２、１８の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。第１の透明導電層１２、１８をパターニングする方法としては、例えばフォトリソグラフィー法が挙げられる。

なお、第２の透明層１７上に第２の高屈折率層および第２の低屈折率層が備えられている場合、第２の低屈折率層上にパターニングされた第２の透明導電層を設けられていてもよい。第２の透明導電層は、第１の透明導電層１２と同様の構成（膜厚、配置等）となっていることが好ましい。また、第２の透明導電層５１は第１の透明導電層１２と同様の材料から構成することが可能である。

〔タッチパネルセンサ〕
導電性フィルム１０、３０は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。図５は本実施形態に係る導電性フィルムを組み込んだタッチパネルセンサの概略構成図であり、図６は本実施形態に係るタッチパネルセンサのセンサ部分の平面図である。図７は本実施形態に係る導電性フィルムを組み込んだ他のタッチパネルセンサの概略構成図である。

図５に示されるタッチパネルセンサ４０は、導電性フィルム１０と導電性フィルム３０を積層した構造を有している。導電性フィルム１０と導電性フィルム３０との間には透明粘着層４１が設けられており、また導電性フィルム１０上には透明粘着層４２が設けられている。すなわち、導電性フィルム１０と導電性フィルム３０とは透明粘着層４１によって貼り付けられており、またタッチパネルセンサ４０は透明粘着層４２によって他の部材と貼り付け可能となっている。

導電性フィルム１０の第１の透明導電層１２は、タッチパネルセンサ４０における上部電極層として機能するものであり、導電性フィルム３０の第１の透明導電層１８は、タッチパネルセンサ４０における下部電極層として機能するものである。

図６に示されるように、タッチパネルセンサ４０の法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、センサ部１２Ａは、多数のセンサ部１８Ａと交差している。そして、図６に示されるように、センサ部１２Ａの膨出部１２Ｃは、センサ部１２Ａ上において、隣り合う二つのセンサ部１８Ａ間に配置されている。同様に、タッチパネルセンサ４０の法線方向から観察した場合、センサ部１８Ａは、多数のセンサ部１２Ａと交差している。そして、センサ部１８Ａの膨出部１８Ｃも、センサ部１８Ａ上において、隣り合う二つのセンサ部１２Ａ間に配置されている。さらに、本実施形態においては、センサ部１２Ａの膨出部１２Ｃと、センサ部１８Ａの膨出部１８Ｃとは、タッチパネルセンサ４０の法線方向から観察した場合に重ならないように配置されている。つまり、タッチパネルセンサ４０の法線方向から観察した場合、センサ部１２Ａとセンサ部１８Ａとは、ライン部１２Ｂ、１８Ｂのみにおいて交わっている。

導電性フィルム３０は、他の態様のタッチパネルセンサに組み込まれてもよい。図７に示されるタッチパネルセンサ５０は、導電性フィルム３０と、導電性フィルム３０の第１の透明導電層１８上に設けられ、パターニングされた第２の透明導電層５１と、第１の透明導電層１８と第２の透明導電層５１とを貼り付けるための透明粘着層５２とを備えている。第２の透明導電層５１は、ガラス板５３の一方の面に形成されたものであり、第２の透明導電層５１とガラス板５３とは一体化している。

第１の透明導電層１８は、タッチパネルセンサ５０における下部電極層として機能するものであり、第２の透明導電層５１は、タッチパネルセンサ５０における上部電極層として機能するものである。

＜第２の透明導電層＞
第２の透明導電層５１は、第１の透明導電層１２と同様の構成（膜厚、配置等）となっていることが好ましい。また、第２の透明導電層５１は第１の透明導電層１２と同様の材料から構成することが可能である。

＜透明粘着層＞
透明粘着層４１、４２、５２としては、公知の感圧接着層や粘着シートが挙げられる。

［第２の実施形態］
以下、本発明の第２の実施形態に係る中間基材フィルムおよび導電性フィルムについて、図面を参照しながら説明する。なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と重複する内容については、特記しない限り、省略するものとする。図８は本実施形態に係る導電性フィルムの概略構成図であり、図９は本実施形態に係る他の導電性フィルムの概略構成図である。

＜＜導電性フィルムおよび中間基材フィルム＞＞
図８に示される導電性フィルム６０は、中間基材フィルム６１と、中間基材フィルム６１に積層された第１の透明導電層１２とを備えている。図９に示される導電性フィルム７０は、中間基材フィルム７１と、中間基材フィルム７１に積層された第１の透明導電層１２とを備えている。

図８に示される中間基材フィルム６１は、透明基材１３と、透明基材１３の一方の面上に積層された第１の高屈折率層６２と、第１の高屈折率層６２上に積層され、第１の高屈折率層６２よりも低い屈折率を有する第１の低屈折率層６３と、透明基材１３の他方の面上に積層された第２の透明層１７とを備えている。中間基材フィルム６１においては、透明基材１３と第１の高屈折率層６２との間に第１の透明層は設けられていない。中間基材フィルム６１は、第２の透明層１７を備えているが、第２の透明層１７を備えていなくてもよい。

図９に示される中間基材フィルム７１は、透明基材１３と、透明基材１３の一方の面上に積層された第１の高屈折率層６２と、第１の高屈折率層６２上に積層され、第１の高屈折率層６２よりも低い屈折率を有する第１の低屈折率層６３と、光透過性基材１１の他方の面上に積層された第２の低屈折率層７２とを備えている。中間基材フィルム７０においては、透明基材１３と第１の高屈折率層６２との間に第１の透明層は設けられておらず、また透明基材１３と第２の低屈折率層７２との間に第２の透明層は設けられていない。

中間基材フィルム６１、７１においては、それぞれ、第１の低屈折率層６３側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に分光反射率の極大値が存在している。

本実施形態においても、第１の低屈折率層６３側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に分光反射率の極大値が存在しているので、第１の実施形態と同様の理由から、透明導電層存在領域６０Ａ、７０Ａにおける波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率と、第１の透明導電層１２が存在せずに第１の低屈折率層６３が露出している透明導電層非存在領域６０Ｂ、７０Ｂにおける波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の光の反射率との差を小さくすることができる。したがって、透明導電層存在領域６０Ａ、７０Ａにおける反射光のｂ^*値と透明導電層非存在領域６０Ｂ、７０Ｂにおける反射光のｂ^*値との差を小さくすることができるので、透明導電層存在領域６０Ａ、７０Ａの青味が透明導電層非存在領域６０Ｂ、７０Ｂと比べて際立つことを抑制できる。これにより、第１の透明導電層１２の形状を不可視化することができる。

＜第１の高屈折率層＞
第１の高屈折率層６２は、膜厚以外、上記第１の実施形態で説明した第１の高屈折率層１５と同様の構成となっている。第１の高屈折率層６２の膜厚は、それぞれ０．５μｍ以上１０μｍ以下となっている。第１の高屈折率層６２の膜厚を０．５μｍ以上とすることによって、光透過性基材１１と第１の高屈折率層６２との間に第１の透明層を設けなくとも中間基材フィルム１０と同様の硬度を得ることができる。また、第１の高屈折率層６２の膜厚を１０μｍ以下とすることによって、ロールツーロールでの中間基材フィルムの生産時に発生する高屈折率層の割れを抑制できる。

第１の高屈折率層６２の膜厚の下限は、１．０μｍ以上であることがより好ましく、第１の高屈折率層６２の膜厚の上限は、５．０μｍ以下であることがより好ましい。

＜第１の低屈折率層および第２の低屈折率層＞
第１の低屈折率層６３および第２の低屈折率層７２は、第１の低屈折率層１６と同様であるので、説明を省略するものとする。

＜＜タッチパネルセンサ＞＞
導電性フィルム６０、７０を、図５および図７に示されるタッチパネルセンサ４０、５０と同様の構造のタッチパネルセンサに組み込むことができる。ここで、タッチパネルセンサは、画像を表示するための表示パネル（図示せず）よりも観察者側に配置されるが、導電性フィルム７０を有するタッチパネルセンサにおいては、第２の低屈折率層７２の表面がタッチパネルセンサにおける表示パネル側の面となるように導電性フィルム７０が配置される。この場合、表示パネルと第２の低屈折率層７２とが空気層（エアギャップ）を介して離間するように、端部において粘着剤によって表示パネルと第２の低屈折率層が貼り付けられている。これにより、第２の低屈折率層７２による反射防止機能が発揮される。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。

＜透明層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、透明層用組成物を得た。
（透明層用組成物）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）：５０質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１８４」）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１００質量部

＜高屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物を得た。
（高屈折率層用組成物１）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）：１４質量部
・酸化ジルコニウム微粒子分散液（平均粒径１０〜１５ｎｍの酸化ジルコニウム微粒子をメチルイソブチルケトンに分散させた分散液（固形分３２．５％））：６９質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：１．０質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１０００質量部

（高屈折率層用組成物２）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）：１１質量部
・酸化ジルコニウム微粒子分散液（平均粒径１０〜１５ｎｍの酸化ジルコニウム微粒子をメチルイソブチルケトンに分散させた分散液（固形分３２．５％））：７５質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：０．８質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１０００質量部

（高屈折率層用組成物３）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）：１６質量部
・酸化ジルコニウム微粒子分散液（平均粒径１０〜１５ｎｍの酸化ジルコニウム微粒子をメチルイソブチルケトンに分散させた分散液（固形分３２．５％））：６２質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１０００質量部

（高屈折率層用組成物４）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）：１９質量部
・酸化ジルコニウム微粒子分散液（平均粒径１０〜１５ｎｍの酸化ジルコニウム微粒子をメチルイソブチルケトンに分散させた分散液（固形分３２．５％））：５０質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１０００質量部

＜低屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
（低屈折率層用組成物）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）：３．５質量部
・中実シリカ微粒子分散液（平均粒径１０〜１５ｎｍの中実シリカ微粒子をメチルイソブチルケトンに分散させた分散液（固形分３０％））：２１．７質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：０．７質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１０００質量部

＜実施例１＞
透明基材としての厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「ＴＡ０１０」、東洋紡績社製）を準備し、ポリエチレンテレフタレート基材の片面に、透明層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が２μｍの第２の透明層を形成した。次いで、ポリエチレンテレフタレート基材を反転させ、ポリエチレンテレフタレート基材の他方の面に、上記と同様の透明層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が２μｍの第１の透明層を形成して、ポリエチレンテレフタレート基材の両面に透明層を形成した。次いで、ポリエチレンテレフタレート基材の他方の面に形成された第１の透明層上に、高屈折率層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、７０℃で３０秒間乾燥させた後、積算光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行って硬化させて、膜厚が５０ｎｍの高屈折率層を形成した。次いで、高屈折率層上に、低屈折率層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、７０℃で３０秒間乾燥させた後、積算光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行って硬化させて、膜厚が２０ｎｍの低屈折率層を形成した。これにより、中間基材フィルムを作製した。

中間基材フィルムを作製した後、低屈折率層の表面にスパッタリング法により膜厚が３０ｎｍのスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層を形成した。ＩＴＯ層を形成した後、ＩＴＯ層を１５０℃で３０分間加熱してＩＴＯ層を結晶化させた。その後、フォトリソグラフィー技術を利用して、ＩＴＯ層をパターニングした。これにより、ＩＴＯ層が存在しているＩＴＯ層存在領域と、ＩＴＯ層が存在しておらず、低屈折率層が露出したＩＴＯ層非存在領域とを有する実施例１に係る導電性フィルムを作製した。実施例１の第１の透明層、第２の透明層、高屈折率層、低屈折率層、ＩＴＯ層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）でそれぞれ測定したところ、第１の透明層および第２の透明層の屈折率は１．５２であり、高屈折率層の屈折率は１．６６であり、低屈折率層の屈折率は１．４８であり、ＩＴＯ層の屈折率は２．００であった。

＜実施例２＞
実施例２においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムおよび導電性フィルムを作製した。実施例２の高屈折率層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）で測定したところ、屈折率は１．６９であった。

＜実施例３＞
実施例３においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物３を用い、かつＩＴＯ層の膜厚を２０ｎｍにしたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムおよび導電性フィルムを作製した。実施例３の高屈折率層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）で測定したところ、屈折率は１．６３であった。

＜実施例４＞
実施例４においては、高屈折率層の膜厚を６０ｎｍにしたこと以外は、実施例３と同様にして、中間基材フィルムおよび導電性フィルムを作製した。

＜比較例１＞
比較例１においては、低屈折率層の膜厚を４０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムおよび導電性フィルムを作製した。

＜比較例２＞
比較例２においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物２を用い、かつ低屈折率層の膜厚を４０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムおよび導電性フィルムを作製した。

＜比較例３＞
比較例３においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物４を用い、かつ高屈折率層の膜厚を７０ｎｍにしたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムおよび導電性フィルムを作製した。比較例３の高屈折率層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）で測定したところ、屈折率は１．６０であった。

＜比較例４＞
比較例４においては、高屈折率層の膜厚を８０ｎｍにしたこと以外は、比較例３と同様にして、中間基材フィルムおよび導電性フィルムを作製した。

＜抵抗値測定＞
実施例および比較例に係る導電性フィルムにおける透明導電層の抵抗値を、低抵抗率計（製品名：ロレスタ−ＡＸ ＭＣＰ−Ｔ３７０、三菱化学アナリテック社製）を用いて、測定した。

＜中間基材フィルムの分光反射率＞
実施例及び比較例に係るＩＴＯ層を形成する前の中間基材フィルムにおいて、以下のようにして、分光反射率を測定した。まず、第２の透明層におけるポリエチレンテレフタレート基材側の面とは反対側の面に、黒ビニールテープ（ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼った後、入射角度を５°として低屈折率層側から各中間基材フィルムに少なくとも波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を照射し、正反射方向の反射光から、中間基材フィルムの分光反射率を測定した。具体的には、分光反射率は、分光光度計（ＵＶ−３１００ 島津製作所社製）を用いて波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の光に対して測定された。得られた分光反射率は、ＵＶＰｒｏｂｅソフトを用いて、デ−タ演算からデータ変換し、微分変換方法で、平滑化のデルタラムダ４０．０００を２回処理することによりスムージングされた。このスムージングされた分光反射率から波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域における反射率の極大値を求め、そのときの波長（λ_ＬＭＡＸ）を求めた。また、同様に、このスムージングされた分光反射率から波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域における反射率の最大値を求め、そのときの波長（λ_ＭＡＸ）を求めた。

＜ＩＴＯ層の視認性評価＞
実施例および比較例で得られた導電性フィルムをＩＴＯ層側が上側となるように３波長蛍光ランプ下に置き、ＩＴＯ層側から目視によりＩＴＯ層の視認性評価を行った。評価基準は以下の通りとした。
○：ＩＴＯ層の形状が視認されなかった、またはほぼ視認されなかった。
×：ＩＴＯ層の形状が視認された。

＜反射光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*、および色差ΔＥ^*ａｂ＞
実施例および比較例で得られた導電性フィルムにおいて、以下のようにして、ＩＴＯ層存在領域の反射光およびＩＴＯ層非存在領域の反射光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めるとともに、ＩＴＯ層存在領域の反射光とＩＴＯ層非存在領域の反射光との色差ΔＥ^*ａｂを求めた。まず、第２の透明層におけるポリエチレンテレフタレート基材側の面とは反対側の面に、黒ビニールテープ（ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼った後、入射角度を５°としてＩＴＯ層側から各導電性フィルムのＩＴＯ層存在領域および低屈折率層側から各導電性フィルムのＩＴＯ層非存在領域のそれぞれに少なくとも波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を照射し、それぞれの正反射方向の反射光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めた。なお、ＩＴＯ層存在領域での反射光のＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _１、色座標ａ^* _１、および色座標ｂ^* _１とし、ＩＴＯ非存在領域での反射光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _２、色座標ａ^* _２、および色座標ｂ^* _２とした。また、求められた明度Ｌ^* _１、Ｌ^* _２、色座標ａ^* _１、ａ^* _２、色座標ｂ^* _１、ｂ^* _２から│Ｌ^* _１−Ｌ^* _２│、│ａ^* _１−ａ^* _２│、│ｂ^* _１−ｂ^* _２│およびΔＥ^*ａｂを求めた。明度Ｌ^* _１、Ｌ^* _２、色座標ａ^* _１、ａ^* _２、色座標ｂ^* _１、ｂ^* _２および色差ΔＥ^*ａｂは、分光光度計（ＵＶ−３１００（ＭＰＣ−３１００：５°正反射測定装置設置タイプ） 島津製作所社製）を用いて算出された。

＜透過光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*、および色差ΔＥ^*ａｂ＞
実施例および比較例で得られた導電性フィルムにおいて、以下のようにして、ＩＴＯ層存在領域の透過光およびＩＴＯ層非存在領域の透過光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めるとともにＩＴＯ層存在領域の透過光とＩＴＯ層非存在領域の透過光との色差ΔＥ^*ａｂを求めた。入射角度を０°として第２の透明層側から各導電性フィルムのＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域のそれぞれに少なくとも波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を照射し、それぞれの透過光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めた。なお、ＩＴＯ層存在領域での透過光のＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _３、色座標ａ^* _３、および色座標ｂ^* _３とし、ＩＴＯ非存在領域での透過光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _４、色座標ａ^* _４、および色座標ｂ^* _４とした。また、求められた明度Ｌ^* _３、Ｌ^* _４、色座標ａ^* _３、ａ^* _４、色座標ｂ^* _３、ｂ^* _４から│Ｌ^* _３−Ｌ^* _４│、│ａ^* _３−ａ^* _４│、│ｂ^* _３−ｂ^* _４│およびΔＥ^*ａｂを求めた。明度Ｌ^* _３、Ｌ^* _４、色座標ａ^* _３、ａ^* _４、色座標ｂ^* _３、ｂ^* _４および色差ΔＥ^*ａｂは、分光光度計（ＵＶ−３１００ 島津製作所社製）を用いて算出された。

以下、結果を表１〜表６に示す。

表４に示されるように、比較例１〜４に係る導電性フィルムにおいては、λ_ＬＭＡＸが３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長領域内に存在していない中間基材フィルムを用いていたので、ＩＴＯ層の形状が視認された。これは、比較例１〜４で用いられた中間基材フィルムにおいては、λ_ＬＭＡＸが３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長領域内に存在していない分、中間基材フィルム（ＩＴＯ層非存在領域）における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域の光反射率が低く、このため、ＩＴＯ層存在領域における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域の光反射率と、ＩＴＯ層非存在領域における波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域の光反射率との差が大きくなっていたことが原因であると考えられる。これに対し、表４に示されるように、実施例１〜４に係る導電性フィルムにおいては、λ_ＬＭＡＸが３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長領域内に存在している中間基材フィルムを用いていたので、ＩＴＯ層の形状が視認されなかった、またはＩＴＯ層の形状がほぼ視認されなかった。また、表４から、実施例１〜４で用いられた中間基材フィルムおいては、λ_ＬＭＡＸは、λ_ＭＡＸと同じ値であることが確認された。

１０、３０、６０、７０…導電性フィルム
１１、６１、７１…中間基材フィルム
１２、１８…第１の透明導電層
１３…透明基材
１４…第１の透明層
１５、６２…第１の高屈折率層
１６、６３…第１の低屈折率層
１７…第２の透明層
４０、５０…タッチパネルセンサ

Claims (9)

1. パターニングされた透明導電層を支持するためのタッチパネル用中間基材フィルムであって、
   透明基材と、
   前記透明基材の一方の面上に積層された高屈折率層と、
   前記高屈折率層上に積層され、かつ前記高屈折率層よりも低い屈折率を有する低屈折率層とを備え、
   前記中間基材フィルムにおける低屈折率層側から測定した波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率において、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に前記分光反射率の極大値が存在する、中間基材フィルム。
2. 前記極大値が、前記波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域の分光反射率の最大値である、請求項１に記載の中間基材フィルム。
3. 前記高屈折率層の膜厚と前記低屈折率層の膜厚との比が１：１〜５：１である、請求項１に記載の中間基材フィルム。
4. 前記高屈折率層の屈折率が、１．５０以上２．００以下である、請求項１に記載の中間基材フィルム。
5. 前記透明基材と前記高屈折率層との間に、透明層をさらに備える、請求項１に記載の中間基材フィルム。
6. 前記透明層と前記高屈折率層との屈折率差が０．０６以上０．２０以下であり、かつ前記透明層と前記低屈折率層との屈折率差が０．０１以上０．１８以下である、請求項５に記載の中間基材フィルム。
7. 請求項１に記載の中間基材フィルムと、
   前記中間基材フィルム上に積層され、かつパターニングされた透明導電層と
   を備える、導電性フィルム。
8. 前記透明導電層の膜厚が１５ｎｍ以上である、請求項７に記載の導電性フィルム。
9. 上部電極層と、前記上部電極層と所定の間隔を置いて配置された下部電極層とを備えるタッチパネルセンサであって、
   請求項７に記載の導電性フィルムを備え、前記導電性フィルムの前記透明導電層が前記上部電極層または前記下部電極層として機能する、タッチパネルセンサ。

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