JP2015036866A - タッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサ - Google Patents

Abstract

【課題】干渉縞が視認されることを抑制でき、白濁感を低減できるタッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサを提供する。
【解決手段】本発明の一の態様によれば、パターニングされた導電層を支持するための中間基材フィルム１１であって、透明基材１３の一方の面１３Ａ上に第１の透明層１４を積層し、第１の透明層１４が透明基材１３側とは反対側に第１の凹凸面１４Ａを有し、中間基材フィルム１３のフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する第１の凹凸面１４Ａの傾斜角度を表面角度とすると、第１の凹凸面１４Ａにおいて、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第１の凹凸面１４Ａにおける粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下であることを特徴とする、中間基材フィルム１１が提供される。
【選択図】図１

Description

本発明は、タッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサに関する。

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基材）を備えている。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能となっている。

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、静電容量方式のタッチパネル装置が注目されている。静電容量方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識（多点認識）への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている。

投影型静電容量方式のタッチパネルに用いられるタッチパネルセンサとしては、透明基材と、透明基材上に設けられたハードコート層と、ハードコート層上に設けられた透明導電層とを備えているものがある（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１１−９８５６３号公報

しかしながら、このようなタッチパネルセンサにおいては、透明基材とハードコート層との屈折率差に起因して、透明基材とハードコート層との界面で反射する光と、ハードコート層の表面またはハードコート層とハードコート層上に設けられた層との界面で反射する光とが干渉して、干渉縞と呼ばれる虹色状のムラ模様が発生してしまうという問題がある。この問題は、透明基材としてポリエチレンテレフタレート基材を用いた場合に、顕著に現れる。

ここで、ハードコート層の表面に、従来の防眩フィルムと同程度の大きさの凹凸を形成して、干渉縞を不可視化することも考えられるが、ハードコート層の表面にこのような大きさの凹凸を形成すると、表面ヘイズ値が上昇してしまい、白濁感が生じてしまうおそれがある。また、ハードコート層上に透明導電層を不可視化するための屈折率調整層としての高屈折率層や低屈折率層を形成した場合には、ハードコート層の表面における白濁感は解消するが、高屈折率層や低屈折率層は膜厚が非常に薄いので、ハードコート層の表面の凹凸が高屈折率層や低屈折率層の表面に影響を与え、低屈折率層の表面に白濁感が生じてしまうおそれがある。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、干渉縞が視認されることを抑制でき、かつ白濁感を低減できるタッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルムおよびタッチパネルセンサを提供することを目的とする。

本発明の一の態様によれば、パターニングされた導電層を支持するためのタッチパネル用中間基材フィルムであって、透明基材の一方の面上に第１の透明層を積層し、前記第１の透明層が透明基材側とは反対側に第１の凹凸面を有し、前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第１の凹凸面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第１の凹凸面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ前記第１の凹凸面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下であることを特徴とする、中間基材フィルムが提供される。

上記の中間基材フィルムは、前記透明基材の他方の面上に設けられた第２の透明層をさらに備え、前記第２の透明層が、透明基材側とは反対側に第２の凹凸面を有してもよい。

本発明の他の態様によれば、パターニングされた導電層を支持するためのタッチパネル用中間基材フィルムであって、透明基材の一方の面上に第１の機能層を積層し、前記第１の機能層が前記中間基材フィルムの一方の表面をなす第１の凹凸面を有し、前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第１の凹凸面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第１の凹凸面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ前記第１の凹凸面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下であることを特徴とする、中間基材フィルムが提供される。

上記の中間基材フィルムは、前記透明基材の他方の面上に第２の機能層をさらに積層し、前記第２の機能層が前記中間基材フィルムの他方の表面をなす第２の凹凸面を有してもよい。

本発明の他の態様によれば、上記の中間基材フィルムと、前記中間基材フィルムにおける前記第１の透明層側の表面に支持され、かつパターニングされた第１の導電層とを積層している、タッチパネル用積層フィルムが提供される。

本発明の他の態様によれば、上記の中間基材フィルムと、前記中間基材フィルムにおける第１の透明層側の表面に支持され、かつパターニングされた第１の導電層と、前記中間基材フィルムにおける第２の透明層側の表面に支持され、かつパターニングされた第２の導電層とを積層した、タッチパネル用積層フィルムが提供される。

本発明の他の態様によれば、上記の積層フィルムを備える、タッチパネルセンサが提供される。

本発明の一の態様のタッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサによれば、第１の透明層の第１の凹凸面においては、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、干渉縞が視認されることを抑制でき、かつ白濁感を低減できる。

第１の実施形態に係る中間基材フィルムおよび積層フィルムの概略構成図である。 第１の実施形態に係る積層フィルムの一部の平面図である。 凹凸面の表面角度が０．０５°である場合において、赤色光明線がどの程度のピッチで発生するかを説明するための図である。 第１の実施形態に係る他の積層フィルムの概略構成図である。 第１の実施形態に係る他の積層フィルムの一部の平面図である。 第１の実施形態に係る他の第１の導電層の一部の平面図である。 第１の実施形態に係る他の第１の導電層の一部の平面図である。 第１の実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。 第１の実施形態に係る他のタッチパネルセンサの概略構成図である。 第２の実施形態に係る中間基材フィルムおよび積層フィルムの概略構成図である。 第２の実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。

〔第１の実施形態〕
以下、本発明の第１の実施形態に係る中間基材フィルムおよび積層フィルムについて、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「シート」、「フィルム」、「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートや板とも呼ばれ得るような部材も含む概念である。一具体例として、「積層フィルム」には、「積層シート」や「積層板」等と呼ばれる部材も含まれる。また、本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。図１は本実施形態に係る中間基材フィルムおよび積層フィルムの概略構成図であり、図２は本実施形態に係る積層フィルムの一部の平面図であり、図３は凹凸面の表面角度が０．０５°である場合において、赤色光明線がどの程度のピッチで発生するかを説明するための図である。図４は本実施形態に係る他の積層フィルムの概略構成図であり、図５は本実施形態に係る他の積層フィルムの一部の平面図である。図６および図７は本実施形態に係る他の第１の導電層の一部の平面図である。

［タッチパネル用中間基材フィルムおよび積層フィルム］
図１に示されるように積層フィルム１０は、中間基材フィルム１１と、中間基材フィルム１１に支持された第１の導電層１２とを備えている。積層フィルムおよび中間基材フィルムは、タッチパネルに組み込まれて使用されるものである。「中間基材フィルム」という用語は、タッチパネルの最表面ではなく、タッチパネルの内部で用いられる基材フィルムを意味する。

中間基材フィルム１１は、第１の導電層１２を支持するためのものである。中間基材フィルムは、直接、導電層を支持してもよいが、例えば他の層を介して間接的に導電層を支持してもよい。中間基材フィルム１１は、透明基材１３と、透明基材１３の一方の面１３Ａ上に設けられた第１の透明層１４と、第１の透明層１４上に設けられた第１の高屈折率層１５と、第１の高屈折率層１５上に設けられた第１の低屈折率層１６と、透明基材１３の他方の面１３Ｂ上に設けられた第２の透明層１７とを備えている。中間基材フィルムは、透明基材と、第１の透明層とを備えていればよく、第１の高屈折率層、第１の低屈折率層、第２の透明層を備えていなくともよい。また、中間基材フィルムは、第２の透明層上に第２の高屈折率層や第２の低屈折率層を備えていてもよい。具体的には、中間基材フィルムとしては、図１に示される中間基材フィルム１１の他、透明基材の一方の面上に第１の透明層のみが設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層が設けられていない中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層のみが設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層のみが設けられた中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層および第１の高屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層が設けられていない中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層および第１の高屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層が設けられた中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層および第１の高屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層および第２の高屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層が設けられていない中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層および第２の高屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルム、および透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層、第２の高屈折率層、および第２の低屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルムのいずれであってもよい。

＜透明基材＞
透明基材１３としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン基材、ポリカーボネート基材、ポリアクリレート基材、ポリエステル基材、芳香族ポリエーテルケトン基材、ポリエーテルサルフォン基材、ポリアミド基材、またはガラス基材が挙げられる。

ポリオレフィン基材としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン基材等の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。環状ポリオレフィン基材としては、例えばノルボルネン骨格を有するものが挙げられる。

ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。

ポリアクリレート基材としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル基材、ポリ（メタ）アクリル酸エチル基材、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。

ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。

芳香族ポリエーテルケトン基材としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）基材等が挙げられる。

透明基材１３の厚みは、特に限定されないが、５μｍ以上３００μｍ以下とすることが可能であり、透明基材１３の厚みの下限はハンドリング性等の観点から１０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましい。透明基材１３の厚みの上限は薄膜化の観点から２００ｍ以下であることが好ましい。

透明基材１３の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤やプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。アンカー剤やプライマー剤としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンと酢酸ビニルまたはアクリル酸などとの共重合体、エチレンとスチレンおよび／またはブタジエンなどとの共重合体、オレフィン樹脂などの熱可塑性樹脂および／またはその変性樹脂、光重合性化合物の重合体、およびエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等の少なくともいずれかを用いることが可能である。

＜第１の透明層＞
第１の透明層１４は、透明基材１３側とは反対側に第１の凹凸面１４Ａを有している。具体的には、中間基材フィルム１１のフィルム面の法線方向Ｎに沿った断面におけるフィルム面に対する第１の凹凸面１４Ａの傾斜角度を第１の表面角度とすると、第１の凹凸面１４Ａにおいては、表面角度が０．０５°以上となっている領域が５０％以上存在する。ここで、「フィルム面」とは、対象となる積層フィルムを全体的かつ大局的に見た場合におけるその平面方向と一致する面のことをいうものとする。また、「表面角度」は絶対値である。

表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合の下限は、５５％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましい。また、第１の表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合の上限は、９５％以下または９０％以下であってもよい。

表面角度が０．０５°以上の領域の割合で第１の凹凸面１４Ａを規定したのは、表面角度が０．０５°以上の領域であれば、以下の理由から、人間の目には、干渉縞は認識されない、すなわち干渉縞を不可視化できるからである。ただし、本発明は、以下の理論に拘束されるものではない。

図３に示されるように、例えば、透明基材１００上に形成された透明層１０１の表面における表面角度が０．０５°である領域１０１Ａにおいて、領域１０１Ａの表面で反射される赤色光１０２、１０３と、領域１０１Ａと透明基材１０１との界面で反射される赤色光１０４、１０５とが強め合うように干渉して、赤色光の明線Ｒ１、Ｒ２（以下、赤色光の明線を「赤色明線」と称する。）が発生したと仮定すると、隣り合う赤色明線Ｒ１、Ｒ２の間隔は距離Ａとなる。以下、図３に示される、距離Ａを底辺とし、距離Ｂと高さとする三角形から、距離Ａを求める。

まず、この三角形においては、下記式（１）が成り立つ。
Ｂ／Ａ＝ｔａｎ０．０５°＝０．０００８７ …（１）
式（１）中の距離Ｂは光学距離ではなく、実際の距離である。

また、赤色光１０４と赤色光１０５との光路差をｂとし、透明層１０１の屈折率をｎとすると、距離Ｂは、下記式（２）で表すことができる。
Ｂ＝ｂ／２ｎ …（２）

ここで、赤色明線Ｒ１と赤色明線Ｒ２は隣り合い、しかも赤色光１０４は赤色光１０２と、赤色光１０５は赤色光１０３と強め合うように干渉しているので、赤色光の一波長を７８０ｎｍとすると、光路差ｂは、赤色光の一波長分、すなわち７８０ｎｍとなる。また、ハードコート層の屈折率は通常１．５程度であるので、屈折率ｎを１．５とすると、距離Ｂは式（２）から、２６０ｎｍとなる。

そして、式（１）のＢに２６０ｎｍを代入して、距離Ａを算出すると、距離Ａは２９９μｍとなる。

したがって、表面角度が０．０５°の領域において、赤色明線が生じたとすると、２９９μｍのピッチで赤色明線が生じることとなる。また、青色光や緑色光は赤色光よりも波長が短いので、表面角度が０．０５°の領域においては、青色光や緑色光の明線は２９９μｍよりも短いピッチで生じるものと考えられる。

一方、明暗が矩形状に変化する場合には、視力１の人間の目の分解能は１分であるから、明視距離を２５ｃｍとした場合、人間は約７０μｍのピッチの明暗縞を検知することができる。しかしながら、明暗が矩形ではなく、グラデーションをもって変化する場合には、人間が検知できる感度は数倍から数十倍にも低下することが知られている。干渉縞はグラデーションをもって変化するものであるので、干渉縞（明線）のピッチが３００μｍであっても、干渉縞は人間の目には認識できないものと考えられる。したがって、人間の目にはピッチが最も長い赤色光の明線が認識できないので、青色光や緑色光の干渉縞も認識できない。その結果、０．０５°以上の表面角度は、干渉縞を人間の目に認識させない角度であると言える。

表面角度は、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａの表面形状を測定することにより得られる。表面形状を測定する装置としては、接触式表面粗さ計や非接触式の表面粗さ計（例えば、干渉顕微鏡、共焦点顕微鏡、原子間力顕微鏡等）が挙げられる。これらの中でも、測定の簡便性から干渉顕微鏡が好ましい。このような干渉顕微鏡としては、Ｚｙｇｏ社製の「Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ」シリーズ等が挙げられる。

干渉顕微鏡を用いて、表面角度が０．０５°以上となる領域の割合を算出するには、例えば、凹凸面の全面に渡る各点の傾斜Δｉを求め、傾斜Δｉを下記式（３）により表面角度θ_ｉに換算して、そこから、表面角度θ_ｉの絶対値が０．０５°以上となる領域の割合を算出する。なお、傾斜Δｉは、下記式（５）で算出される局部傾斜ｄＺｉ／ｄＸｉと同じものであるので、下記式（５）から求めることができる。
θ_ｉ＝ｔａｎ^−１Δｉ …（３）

第１の凹凸面１４Ａの表面形状の測定においては、人間の目の分解能以下の範囲での凹凸の形成が必要であることから、３００μｍのカットオフ値による高域フィルタでうねり成分を除いた凹凸形状から第１の表面角度を算出することが好ましい。

表面角度を求める際は、サンプリング間隔の影響を大きく受けることが知られている。本発明においては、サンプリング間隔は１μｍ以上４μｍ以下であることが好ましい。サンプリング間隔が小さすぎると、ノイズ上の凹凸の高周波成分を拾ってしまい、表面角度が過剰に大きく見積もられるおそれがあるからであり、サンプリング間隔が大きすぎると、第１の表面角度を正確に見積もることができなくなるおそれがあるからである。測定面積は広い方が好ましく、少なくとも５００μｍ×５００μｍ以上、より好ましくは２ｍｍ×２ｍｍ以上の領域で測定されるのがよい。

また、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっている。粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１：２００１において、局部傾斜ｄＺｉ／ｄＸｉの二乗平均平方根として定義されており、下記式（４）で表される。

式中、ｎは全測定点であり、ｄＺ_ｉ／ｄＸ_ｉはｉ番目の局部傾斜である。測定面の各点における局部傾斜は例えば下記式（５）により求められる。

式中、測定面の一つ方向をＸ方向としたとき、Ｘ_ｉはｉ番目のＸ方向の位置であり、Ｚ_ｉはｉ番目の高さであり、ΔＸはサンプリング間隔である。

ＲΔｑの下限は、０．０００５以上または０．００１以上であってもよい。また、ＲΔｑの上限は、０．００２５以下であることが好ましく、０．００２以下であることがより好ましい。

第１の凹凸面１４ＡをＲΔｑで規定する理由は、ＲΔｑを用いることによって中間基材フィルム１１の白濁感を評価できるからである。すなわち、ＲΔｑは、微小領域における傾斜の平均値であることから、表面を構成する成分に急激な傾斜が含まれると、表面散乱が大きくなるため、白濁感が増大する。なお、ＲΔｑと類似する凹凸面の表面形状を表すパラメータとして平均傾斜角θａがあるが、ＲΔｑは微小領域の傾斜を２乗平均しているので、より大きな角度成分が強調される。したがって、ＲΔｑは、白濁感に対してθａよりも感度が高いと言える。

二乗平均平方根傾斜ＲΔｑは、表面角度と同様に、第１の凹凸面１４Ａの表面形状を測定することにより得られる。表面形状を測定する装置としては、接触式表面粗さ計や非接触式の表面粗さ計（例えば、干渉顕微鏡、共焦点顕微鏡、原子間力顕微鏡等）が挙げられる。これらの中でも、測定の簡便性から干渉顕微鏡が好ましい。このような干渉顕微鏡としては、Ｚｙｇｏ社製の「Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ」シリーズ等が挙げられる。

第１の透明層１４は、ハードコート性を有することが好ましい。第１の透明層１４がハードコート性を有する場合、第１の透明層１４の表面はＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を有する。鉛筆硬度を「Ｈ」以上とすることにより、第１の透明層１４の硬さを第１の低屈折率層１６の表面に十分に反映させることができ、耐久性を向上させることができる。なお、第１の透明層１４上に形成する第１の高屈折率層１５との密着性、靱性およびカールの防止の観点から、第１の透明層１４の表面（第１の凹凸面１４Ａ）の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。タッチパネルセンサは、繰り返し押圧され高度な密着性および靱性が要求されることから、第１の透明層１４の鉛筆硬度の上限を４Ｈとすることにより、中間基材フィルム１１をタッチパネルセンサに組み込んで使用する場合に顕著な効果を発揮できる。

第１の透明層１４の膜厚は１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。第１の透明層１４の膜厚がこの範囲であれば、所望の硬度を得ることができるとともに、第１の透明層の薄膜化を図ることができる。また、第１の導電層１２を形成する際に透明基材１３を加熱すると、この加熱によって透明基材１３からオリゴマーが析出して白く濁って見えることがあるが、この範囲の膜厚を有する第１の透明層１４を形成することによって、このオリゴマーの析出を抑制することができる。第１の透明層１４の膜厚は、断面顕微鏡観察により測定することができる。

第１の透明層１４の膜厚の下限は、第１の透明層の割れを抑制する観点から、５μｍ以下であることがより好ましい。また、第１の透明層の薄膜化を図る一方で、カールの発生を抑制する観点から、第１の透明層１４の膜厚は０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることがさらに好ましい。ただし、中間基材フィルム１１のように、透明基材１３の一方の面１３Ａに第１の透明層１４を形成し、かつ他方の面１３Ｂに第２の透明層１７を形成している場合には、第１の透明層１４と第２の透明層１７でカールの発生を抑制できることから、第１の透明層１４の膜厚は５μｍを超えていてもよい。

第１の透明層１４の屈折率は、１．５０以上１．６０以下であってもよい。第１の透明層１４の屈折率の下限は、１．５２以上であってもよく、第１の透明層１４の屈折率の上限は、１．５６以下であってもよい。透明基材１３と第１の透明層１４との屈折率差は、干渉縞が視認されることを抑制する観点から、０．１０以内とすることが好ましく、０．０６以内とすることがより好ましい。ここで、透明基材１３の表面にアンカー剤やプライマー剤が塗布されている場合には、透明基材１３と第１の透明層１４との屈折率差は、アンカー剤やプライマー剤と第１の透明層との屈折率差である。

第１の透明層１４の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）やエリプソメーターによって測定できる。また、中間基材フィルム１１となった後に屈折率を測定する方法としては、第１の透明層１４をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。

本発明においては、第１の透明層の第１の凹凸面において、第１の表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上（要件１）となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下（要件２）となっていれば、中間基材フィルムにおいて、干渉縞が視認されることを抑制でき、白濁感を低減できる。したがって、第１の透明層の第１の凹凸面が上記要件１、２を満たすように材料を適宜選択すれば、第１の透明層を構成する材料は特に限定されない。

第１の凹凸面を有する第１の透明層は、例えば、（１）微粒子および重合後バインダ樹脂となる光重合性化合物を含む第１の透明層用樹脂組成物を透明基材に塗布する方法、（２）第１の透明層用組成物を透明基材に塗布し、その後表面に凹凸面の逆形状の溝を有する型を第１の透明層用組成物に型押する方法、または（３）上記第１の凹凸面に対応する凹凸形状を表面に有する円盤状粒子を分散させた第１の透明層用樹脂組成物を、透明基材に塗布して、円盤状粒子を第１の透明層の表面に配列する方法等によって、形成することが可能である。これらの中でも、製造が容易であることから、（１）の方法が好ましい。

上記（１）の方法においては、光重合性化合物が重合（架橋）して、バインダ樹脂となる際に、微粒子が存在しない部分においては、光重合性化合物が硬化収縮を起こすため全体的に収縮する。これに対し、微粒子が存在する部分においては、微粒子は硬化収縮を起こさないため、微粒子の上下に存在する光重合性化合物のみ硬化収縮を起こす。これにより、微粒子が存在する部分は微粒子が存在しない部分に比べて第１の透明層の膜厚が厚くなるので、第１の透明層の表面が凹凸形状となる。したがって、微粒子の種類や粒径および光重合性化合物の種類を適宜選択し、塗膜形成条件を調整することにより、第１の凹凸面１４Ａを有する第１の透明層１４を形成することができる。

以下、第１の透明層１４が、微粒子およびバインダ樹脂を含んでいる例について説明する。例えば、このような微粒子およびバインダ樹脂を含む第１の透明層１４は、上記（１）の方法で形成することができる。

〈微粒子〉
微粒子は、無機微粒子または有機微粒子のいずれであってもよいが、これらの中でも、例えば、シリカ（ＳｉＯ_２）微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、酸化スズ微粒子、アンチモンドープ酸化スズ（略称；ＡＴＯ）微粒子、酸化亜鉛微粒子等の無機酸化物微粒子が好ましい。無機酸化物微粒子は、第１の透明層中で凝集体を形成することが可能となり、この凝集体の凝集度合により第１の凹凸面１４Ａを形成することが可能となる。

有機微粒子としては、例えば、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、具体例としては、ポリスチレンビーズ、メラミン樹脂ビーズ、アクリルビーズ、アクリル−スチレンビーズ、シリコーンビーズ、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。

有機微粒子は、上述した硬化収縮において、微粒子が有する硬化収縮に対する抵抗力を適度に調整されていることが好ましい。この収縮に対する抵抗力を調整するには、事前に、三次元架橋の程度を変えて作成した、硬さの異なる有機微粒子を含む積層フィルムを複数作成し、積層フィルムの凹凸面を評価することによって、第１の凹凸面となるに適した架橋度合いを選定しておくことが好ましい。

微粒子として無機酸化物粒子を用いる場合、無機酸化物粒子は表面処理が施されていることが好ましい。無機酸化物微粒子に表面処理を施すことにより、微粒子の第１の透明層１４中での分布を好適に制御することができ、また微粒子自体の耐薬品性の向上を図ることもできる。

表面処理としては、微粒子の表面を疎水性にする疎水化処理が好ましい。このような疎水化処理は、微粒子の表面にシラン類やシラザン類等の表面処理剤を化学的に反応させることにより、得ることができる。具体的な表面処理剤としては、例えば、ジメチルジクロロシランやシリコーンオイル、ヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン、ヘキサデシルシラン、アミノシラン、メタクリルシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。微粒子が無機酸化物微粒子の場合、無機酸化物微粒子の表面には水酸基が存在しているが、上記のような疎水化処理を施すことにより、無機酸化物微粒子の表面に存在する水酸基が少なくなり、無機酸化物微粒子のＢＥＴ法により測定される比表面積が小さくなるとともに、無機酸化物微粒子が過度に凝集することを抑制でき、第１の凹凸面を有する第１の透明層を形成することができる。

微粒子として無機酸化物粒子を用いる場合、無機酸化物微粒子は非晶質であることが好ましい。これは、無機酸化物粒子が結晶性である場合、その結晶構造中に含まれる格子欠陥により、無機酸化物微粒子のルイス酸塩が強くなってしまい、無機酸化物微粒子の過度の凝集を制御できなくなるおそれがあるからである。

微粒子として無機酸化物粒子を用いる場合、無機酸化物微粒子は第１の透明層１４中において凝集体を形成していることが好ましい。この無機酸化物微粒子の凝集体は、第１の透明層１４中においては、無機酸化物微粒子が三次元的に連なった構造を有していることが好ましい。無機酸化物微粒子が三次元的に連なった構造としては、例えば籠状や糸毬状が挙げられる。無機酸化物微粒子が三次元的に連なった構造を有する凝集体は、硬化後バインダ樹脂となる光重合性化合物の硬化収縮の際に、容易に、かつ、均一性を持って潰れる。これにより、凹凸面を非常に滑らかな面とすることができるので、結果として急峻な斜面を有する凹凸面とはならず、第１の凹凸面を有する第１の透明層を形成することができる。なお、上述したように有機微粒子を用いた場合であっても、架橋度を適度に調整すれば、第１の凹凸面を有する第１の透明層を形成することができる。

第１の透明層１４に対する微粒子の含有量は特に限定されないが、０．１質量％以上５．０質量％以下であることが好ましい。微粒子の含有量が０．１質量％以上となっているので、第１の凹凸面をより確実に形成することができ、また微粒子の含有量が５．０質量％以下となっているので、凝集体が過度に生じることもなく、内部拡散および／または第１の透明層の表面に大きな凹凸が生じることを抑制でき、これにより白濁感を抑制できる。微粒子の含有量の下限は０．５質量％以上であることがより好ましく、微粒子の含有量の上限は３．０質量％以下であることがより好ましい。

微粒子は、単粒子状態での形状が球状であることが好ましい。微粒子の単粒子がこのような球状であることにより、積層フィルムを画像表示装置の画像表示面に配置したときに、コントラストに優れた画像を得ることができる。ここで、「球状」とは、例えば、真球状、楕円球状等が含まれるが、いわゆる不定形のものは含まれない意味である。

微粒子として無機酸化物微粒子を用いる場合、無機酸化物微粒子の平均一次粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。微粒子の平均一次粒径が１ｎｍ以上となっているので、第１の凹凸面を有する第１の透明層をより容易に形成することができ、また平均一次粒径が１００ｎｍ以下となっているので、微粒子による光の拡散を抑制でき、優れた暗室コントラストを得ることができる。微粒子の平均一次粒径の下限は５ｎｍ以上であることがより好ましく、微粒子の平均一次粒径の上限は５０ｎｍ以下であることがより好ましい。なお、微粒子の平均一次粒径は、断面電子顕微鏡（ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型で倍率が５万倍以上のものが好ましい）の画像から、画像処理ソフトウェアを用いて測定される値である。

微粒子として有機微粒子を用いる場合、有機微粒子は、屈折率の異なる樹脂の共重合比率を変えることでバインダ樹脂との屈折率差を小さく、例えば、０．０１未満とすることが容易にできるので、微粒子による光の拡散を抑制できる。そのため、平均一次粒径は８．０μｍ未満、好ましくは５．０μｍ以下であれば良い。

微粒子として無機酸化物微粒子を用いる場合、無機酸化物微粒子の凝集体の平均粒子径は、１００ｎｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましい。１００ｎｍ以上であれば、容易に第１の凹凸面を形成することができ、また２．０μｍ以下であれば、微粒子の凝集体による光の拡散を抑制でき、暗室コントラストに優れた積層フィルムの画像像表示装置を得ることができる。微粒子の凝集体の平均粒子径は、下限が２００ｎｍ以上であることが好ましく、上限が１．５μｍ以下であることが好ましい。

無機酸化物微粒子の凝集体の平均粒子径は、断面電子顕微鏡による観察（１万〜２万倍程度）から無機酸化物微粒子の凝集体が多く含まれる５μｍ四方の領域を選び、その領域中の無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径を測定し、上位１０個の無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径を平均したものである。なお、上記「無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径」は、無機酸化物微粒子の凝集体の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、この２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。また、無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径は、画像解析ソフトを用いて算出してもよい。

微粒子としてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子の中でも、容易に第１の凹凸面を有する第１の透明層を形成することができる観点から、フュームドシリカ微粒子が好ましい。フュームドシリカとは、乾式法で作製された２００ｎｍ以下の粒径を有する非晶質のシリカであり、ケイ素を含む揮発性化合物を気相で反応させることにより得ることができる。具体的には、例えば、四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ_４）等のケイ素化合物を酸素と水素の炎中で加水分解して生成されたもの等が挙げられる。フュームドシリカ微粒子の市販品としては、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５等が挙げられる。

フュームドシリカ微粒子には、親水性を示すものと、疎水性を示すものがあるが、これらの中でも、水分吸収量が少なくなり、第１の透明層用組成物中に分散し易くなる観点から、疎水性を示すものが好ましい。疎水性のフュームドシリカは、フュームドシリカ微粒子の表面に存在するシラノール基に上記のような表面処理剤を化学的に反応させることにより得ることができる。上記のような凝集体を容易に得るという観点からは、フュームドシリカはオクチルシラン処理されていることが最も好ましい。

フュームドシリカ微粒子は凝集体を形成するが、フュームドシリカ微粒子の凝集体は、第１の透明層用組成物中においては、稠密な凝集体ではなく、籠状または糸毬状のような十分疎である凝集体を形成する。このため、フュームドシリカ微粒子の凝集体は硬化後バインダ樹脂となる光重合性化合物の硬化収縮の際に、容易に、かつ、均一性を持って潰れる。これにより、第１の凹凸面を有する第１の透明層を形成することができる。

フュームドシリカ微粒子のＢＥＴ比表面積は、１００ｍ^２／ｇ以上２００ｍ^２／ｇ以下が好ましい。フュームドシリカ微粒子のＢＥＴ比表面積を１００ｍ^２／ｇ以上とすることにより、フュームドシリカが分散しすぎず、適度な凝集体を形成させやすくなり、またフュームドシリカ微粒子のＢＥＴ比表面積が２００ｍ^２／ｇ以下とすることにより、フュームドシリカ微粒子が過剰に大きな凝集体を形成しにくくなる。フュームドシリカ微粒子のＢＥＴ比表面積の下限は、より好ましくは１２０ｍ^２／ｇであり、さらに好ましくは１４０ｍ^２／ｇである。フュームドシリカ微粒子のＢＥＴ比表面積の上限は、より好ましくは１８０ｍ^２／ｇであり、さらに好ましくは１６５ｍ^２／ｇである。

〈バインダ樹脂〉
バインダ樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）を含むものである。バインダ樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性樹脂を含んでいてもよい。光重合性化合物は、光重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、光重合性化合物を重合する際に照射される光としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、または光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。

（光重合性モノマー）
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。

２官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。

これらの中でも硬度が高い第１の透明層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）等が好ましい。

（光重合性オリゴマー）
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、 ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（光重合性ポリマー）
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光学積層フィルムの外観が悪化するおそれがある。上記多官能ポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、第１の透明層１４を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。

熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。

熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

上記（１）の方法によって、第１の透明層１４を形成するためには、まず、透明基材１３の表面に、第１の透明層用組成物を塗布する。第１の透明層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。

＜第１の透明層用組成物＞
第１の透明層用組成物は、少なくとも、微粒子、光重合性化合物を含むものである。その他、必要に応じて、第１の透明層用組成物に、上記熱可塑性樹脂、上記熱硬化性樹脂、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、第１の透明層用組成物には、第１の透明層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。

〈溶剤〉
溶剤としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等）、エーテル類（１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテルジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。

〈重合開始剤〉
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。

重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

上記重合開始剤としては、上記バインダ樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。

第１の透明層用組成物における重合開始剤の含有量は、光重合性化合物１００質量部に対して、０．５質量部以上１０．０質量部以下であることが好ましい。重合開始剤の含有量をこの範囲内にすることにより、ハードコート性能が充分に保つことができ、かつ硬化阻害を抑制できる。

第１の透明層用組成物中における原料の含有割合（固形分）としては特に限定されないが、通常は５質量％以上７０質量％以下が好ましく、２５質量％以上６０質量％以下とすることがより好ましい。

〈レベリング剤〉
レベリング剤としては、例えば、シリコーンオイル、フッ素系界面活性剤等が、第１の透明層がベナードセル構造となることを回避することから好ましい。溶剤を含む樹脂組成物を塗工し、乾燥する場合、塗膜内において塗膜表面と内面とに表面張力差等を生じ、それによって塗膜内に多数の対流が引き起こされる。この対流により生じる構造はベナードセル構造と呼ばれ、形成する第１の透明層にゆず肌や塗工欠陥といった問題の原因となる。

ベナードセル構造は、第１の透明層の表面の凹凸が大きくなりすぎてしまうおそれがある。前述のようなレベリング剤を用いると、この対流を防止することができるため、欠陥やムラのない第１の透明層が得られるだけでなく、第１の透明層の表面の凹凸形状の調整も容易となる。

第１の透明層用組成物の調製方法としては、各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。

透明基材１３の表面に、第１の透明層用組成物を塗布した後、塗膜状の第１の透明層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の透明層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。ここで、溶剤相対蒸発速度、固形分濃度、塗布液温度、乾燥温度、乾燥風の風速、乾燥時間、乾燥ゾーンの溶剤雰囲気濃度等を選定することにより、微粒子の凝集体の分布状態を調整できる。

特に、乾燥条件の選定によって微粒子の凝集体の分布状態を調整する方法が簡便で好ましい。具体的な乾燥温度としては、３０〜１２０℃、乾燥風速では０．２〜５０ｍ／ｓであることが好ましく、この範囲内で適宜調整した乾燥処理を、１回又は複数回行うことで微粒子の凝集体の分布状態を所望の状態に調整することができる。

その後、塗膜状の第１の透明層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより第１の透明層用組成物を硬化させて、第１の透明層１４を形成する。

第１の透明層用組成物を硬化させる際の光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

＜第１の高屈折率層＞
第１の高屈折率層１５は、第１の透明層１４の屈折率よりも高い屈折率を有する層である。具体的には、第１の高屈折率層１５の屈折率は、１．５０以上２．００以下であってもよい。第１の高屈折率層１５の屈折率の下限は、１．６０以上であってもよく、第１の高屈折率層１５の屈折率の上限は、１．７５以下であってもよい。第１の高屈折率層１５の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第１の透明層１４と第１の高屈折率層１５との屈折率差は、０．０５以上０．２５以下であってもよい。

第１の高屈折率層１５の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第１の高屈折率層１５の膜厚が２００ｎｍ以下の場合、第１の高屈折率層１５の膜厚が非常に薄いので、第１の高屈折率層１５の表面は、第１の凹凸面１４Ａの凹凸形状が反映される。すなわち、第１の高屈折率層１５の膜厚が２００ｎｍ以下である場合には、第１の高屈折率層１５の表面においては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上となり、かつ第１の高屈折率層１５の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている。したがって、第１の高屈折率層１５の膜厚が２００ｎｍ以下の場合であって、第１の高屈折率層１５の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第１の高屈折率層１５の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第１の凹凸面１４Ａにおいては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつＲΔｑが０．００３以下となっていると言える。本明細書において、「第１の高屈折率層の表面」とは、第１の高屈折率層における第１の透明層側の面とは反対側の面を意味する。

第１の高屈折率層１５の膜厚の下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることがより好ましい。第１の高屈折率層１５の膜厚の上限は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましい。

第１の高屈折率層１５および第１の低屈折率層１６は、第１の導電層１２が設けられている領域と第１の導電層１２が設けられていない領域との間の光透過率および反射率の差を小さくするための屈折率調整層（インデックスマッチング層）として機能することができる。

第１の高屈折率層１５としては、第１の透明層１４の屈折率よりも高い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第１の高屈折率層１５は、例えば、微粒子と、バインダ樹脂とから構成することができる。

第１の高屈折率層１５を構成する微粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率：２．３３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、酸化スズ（ＳｎＯ_２、屈折率：２．００）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率：１．９５）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６、屈折率：１．９０〜２．００）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３、屈折率：１８７）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率：１８５〜１８５）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ、屈折率：１８５〜１８５）、等が挙げられる。これらの中でも、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムが好ましい。

第１の高屈折率層１５を構成するバインダ樹脂は特に制限されることがなく、熱可塑性樹脂を用いることもできるが、表面硬度を高くする観点から、熱硬化性樹脂又は光重合性化合物等の重合物（架橋物）であるものが好ましく、中でも光重合性化合物の重合物であるものがより好ましい。

熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を硬化させる際には、硬化剤を用いてもよい。

光重合性化合物としては、特に限定されないが、光重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。１官能の光重合性モノマーとしては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。また、２官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、これらの化合物をエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド等で変性した化合物等が挙げられる。

また、これらの化合物は、芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、窒素、リン原子等を導入して、屈折率を高く調整したものであってもよい。さらに、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。光重合性化合物を重合（架橋）させる際には、第１の透明層の欄で説明した重合開始剤を用いてもよい。

＜第１の低屈折率層＞
第１の低屈折率層１６は、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低い屈折率を有する層である。具体的には、第１の低屈折率層１６の屈折率は、１．２０以上１．５０以下であってもよい。第１の低屈折率層１６の屈折率の下限は、１．４０以上であってもよく、第１の低屈折率層１６の屈折率の上限は、１．４９以下であってもよい。第１の低屈折率層１６の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第１の高屈折率層１５と第１の低屈折率層１６との屈折率差は、０．１０以上０．２５以下であってもよい。

第１の低屈折率層１６の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第１の高屈折率層１５の膜厚および第１の低屈折率層１６の膜厚が２００ｎｍ以下の場合、第１の高屈折率層１５および第１の低屈折率層１６の膜厚が非常に薄いので、第１の高屈折率層１５の表面のみならず、第１の低屈折率層１６の表面にも、第１の凹凸面１４Ａの凹凸形状が反映される。すなわち、第１の高屈折率層１５の膜厚および第１の低屈折率層１６の膜厚が２００ｎｍ以下である場合には、第１の低屈折率層１６の表面においては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上となり、かつ第１の低屈折率層１６の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている。したがって、第１の高屈折率層１５の膜厚および第１の低屈折率層１６の膜厚が２００ｎｍ以下の場合であって、第１の低屈折率層１６の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第１の低屈折率層１６の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第１の凹凸面１４Ａにおいては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつＲΔｑが０．００３以下となっていると言える。本明細書において、「第１の低屈折率層の表面」とは、第１の低屈折率層における第１の透明層側の面（第１の高屈折率層側の面）とは反対側の面を意味する。

第１の低屈折率層１６の膜厚の下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましい。第１の低屈折率層１６の膜厚の上限は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

第１の低屈折率層の表面上にスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等を用いて第１の導電層を形成する場合、スズドープ酸化インジウム等を結晶化させる必要があるが、第１の低屈折率層の表面が大きな凹凸形状を有している場合には、スズドープ酸化インジウム等の結晶化を妨げるおそれがある。これに対し、第１の低屈折率層１６の表面においては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上となり、かつ第１の低屈折率層１６の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっているので、大きな凹凸形状を有していない。したがって、スズドープ酸化インジウム等の結晶化の阻害を抑制できる。

第１の低屈折率層１６としては、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第１の低屈折率層１６は、例えば、低屈折率微粒子と、バインダ樹脂とから、または低屈折率樹脂から構成することができる。

低屈折率微粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。これらの中でも、中空シリカ粒子が好ましく、このような中空シリカ粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。

低屈折率微粒子としては、シリカ表面に反応性官能基を有する反応性シリカ微粒子を用いることが好ましい。反応性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。このような反応性シリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。

第１の低屈折率層１６を構成するバインダ樹脂としては、第１の高屈折率層１５を構成するバインダ樹脂と同様のものが挙げられる。ただし、バインダ樹脂に、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料を混合してもよい。

低屈折率樹脂としては、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い樹脂が挙げられる。

第１の高屈折率層１５と第１の低屈折率層１６との間には、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低く、かつ第１の低屈折率層１６の屈折率よりも高い屈折率を有する中屈折率層（図示せず）を設けられていてもよい。

中屈折率層の屈折率は、１．５０以上１．８０以下であってもよい。中屈折率層の屈折率の下限は、１．５５以上であってもよく、中屈折率層の屈折率の上限は、１．６５以下であってもよい。中屈折率層の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第１の高屈折率層１５と中屈折率層との屈折率差は、０．０５以上０．１５以下であってもよく、中屈折率層と第１の低屈折率層１６との屈折率差は、０．０５以上０．１５以下であってもよい。

中屈折率層の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。中屈折率層の膜厚の下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることがより好ましい。中屈折率層の膜厚の上限は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましい。

中屈折率層としては、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低く、かつ第１の低屈折率層１６の屈折率よりも高い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、中屈折率層４は、例えば、粒子と、バインダ樹脂とから構成することができる。粒子としては、第１の高屈折率層１５を構成する粒子と同様の粒子が挙げられる。また、バインダ樹脂としては、第１の高屈折率層１５を構成するバインダ樹脂と同様の樹脂が挙げられる。

＜第２の透明層＞
第２の透明層１７は、透明基材１３側とは反対側に第２の凹凸面１７Ａを有していることが好ましい。具体的には、中間基材フィルム１１のフィルム面の法線方向Ｎに沿った断面におけるフィルム面に対する第２の凹凸面１７Ａの傾斜角度を表面角度とすると、第２の凹凸面１７Ａにおいては、表面角度が０．０５°以上となっている領域が５０％以上存在することが好ましい。

第２の表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合の下限は、５５％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましい。また、第２の表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合の上限は、９５％以下または９０％以下であってもよい。

表面角度が０．０５°以上の領域の割合で第２の凹凸面１７Ａを規定したのは、第１の凹凸面１４Ａと同様の理由により、表面角度が０．０５°以上の領域であれば、干渉縞が視認されることを抑制できるからである。第２の凹凸面１７Ａにおける表面角度は、第１の表面角度と同様の方法によって得ることができる。

また、第２の透明層１７の第２の凹凸面１７Ａにおいては、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっていることが好ましい。第２の凹凸面１７Ａにおける粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑの定義および測定方法は、第１の透明層１４の欄で説明した二乗平均平方根傾斜ＲΔｑと同様の定義および測定方法であるので、説明を省略する。

第２の凹凸面１７Ａにおいても、ＲΔｑの下限は、０．０００５以上または０．００１以上であってもよい。また、ＲΔｑの上限は、０．００２５以下であることが好ましく、０．００２以下であることがより好ましい。

第２の凹凸面１７ＡをＲΔｑで規定する理由は、第１の透明層１４の欄で説明したように、ＲΔｑを用いることによって中間基材フィルム１１の白濁感を評価できるからである。

第２の透明層１７の第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっている場合、第１の透明層１４の欄で説明した方法と同様の方法によって、第２の透明層１７を得ることができる。具体的には、例えば、第２の透明層１７は、第１の透明層１４の欄で説明した微粒子と、第１の透明層１４で説明したバインダ樹脂とから構成することが可能である。

第２の透明層１７は、ハードコート性を有することが好ましい。第２の透明層１７がハードコート性を有する場合、第２の透明層１７の表面（第２の凹凸面１７Ａ）はＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を有する。なお、第１の透明層１４に記載した理由と同様の理由から、第２の透明層１７の表面の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。

第２の透明層１７の膜厚は、５μｍ以下であってもよいが、透明基材１３の他方の面１３Ｂに第２の透明層１７が設けられている場合には、透明基材１３の一方の面１３Ａには第１の透明層１４が必ず設けられているので、上記した理由から５μｍを超えていてもよい。第１の透明層１３の膜厚が０．５μｍ以上５．０μｍ以下である場合、第２の透明層１７の膜厚は、０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。

第２の透明層１７の屈折率は、第１の透明層１４の欄で説明した理由と同様の理由から、１．５０以上１．６０以下であってもよい。第２の透明層１７の屈折率の下限は、１．５２以上であってもよく、第２の透明層１７の屈折率の上限は、１．５６以下であってもよい。透明基材１３と第２の透明層１７との屈折率差は、干渉縞が視認されることを抑制する観点から、０．０６以内とすることが好ましく、０．０３以内とすることがより好ましい。第２の透明層１７の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。

上記においては、第２の透明層１７の第２の凹凸面１７Ａは、干渉縞が視認されることを抑制する観点から、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上（要件１）となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下（要件２）となっていることが好ましいが、第２の凹凸面１７Ａは、凹凸形状を有していれば、上記要件１および２を満たしていなくともよい。

＜第１の導電層＞
第１の導電層１２は、所望の形状にパターニングされており、また導電性を有するものであれば、特に限定されない。第１の導電層１２は、取出パターン（図示せず）を介して端子部（図示せず）に接続されている。第１の導電層１２の形状としては、特に限定されないが、正方形状やストライプ状が挙げられる。第１の導電層１２は、図２に示されるように正方形状になっている。

第１の導電層１２はタッチパネルセンサのＸ方向の電極として機能させるものであるので、図２に示されるように第１の導電層１２を構成するパターン形状が横方向に並んでいるが、第１の導電層がタッチパネルセンサのＹ方向の電極として機能するものである場合には、図４および図５に示される積層フィルム３０のように、第１の導電層１８を構成するパターン形状を縦方向に並ばせる。

第１の導電層１２、１８は、透明導電材料から構成されている。透明導電材料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物等が挙げられる。

第１の導電層１２、１８の膜厚は、電気抵抗の仕様などに応じて適宜設定されるが、例えば１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。

第１の導電層１２、１８の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の場合、第１の導電層１２、１８の膜厚が非常に薄いので、第１の高屈折率層１５や第１の低屈折率層１６の表面のみならず、第１の導電層１２、１８の表面にも、第１の凹凸面１４Ａの凹凸形状が反映される。すなわち、第１の高屈折率層１５の膜厚および第１の低屈折率層１６の膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ第１の導電層１２、１８の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の場合には、第１の導電層１２、１８の表面においては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上となり、かつ第１の導電層１２、１８の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている。したがって、第１の高屈折率層１５の膜厚および第１の低屈折率層１６の膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ第１の導電層１２、１８の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の場合であって、第１の導電層１２、１８の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第１の導電層１２、１８の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第１の凹凸面１４Ａにおいては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつＲΔｑが０．００３以下となっていると言える。本明細書において、「第１の導電層の表面」とは、第１の導電層における第１の透明層側の面（第１の低屈折率層側の面）とは反対側の面を意味する。

第１の導電層１２、１８の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。第１の導電層をパターニングする方法としては、例えばフォトリソグラフィー法が挙げられる。

第１の導電層として、透明導電材料から構成された第１の導電層１２、１８の代わりに、図６に示される第１の導電層１９および図７に示される第１の導電層２０を使用してもよい。第１の導電層１９はタッチパネルセンサのＸ方向の電極として機能するものであり、第１の導電層２０はタッチパネルセンサのＹ方向の電極として機能するものである。

第１の導電層１９、２０は、メッシュ状の導線１９Ａ、２０Ａから構成されている。メッシュ状の導線１９Ａ、２０Ａから構成された第１の導電層１９、２０は、複数の検出パターン１９Ｂ、２０Ｂと複数のダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃとを備えていてもよい。検出パターン１９Ｂ、２０Ｂおよびダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃのそれぞれがメッシュ状の導線１９Ａ、２０Ａから構成されている。検出パターン１９Ｂ、２０Ｂは、外部導体がタッチパネルセンサに近接した際に生じる、電磁的な変化または静電容量の変化を検知するためのものである。ダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃは、検出パターン１９Ｂ、２０Ｂが設けられている領域を透過する映像光と設けられていない領域を透過する映像光との輝度のバラツキを防ぐためのものである。第１の導電層１９、２０は、複数の検出パターン１９Ｂ、２０Ｂとダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃとから構成されているが、第１の導電層は、一つの検出パターンから構成されていてもよい。

検出パターン１９Ｂ、２０Ｂは、取出パターン（図示せず）を介して端子部（図示せず）に接続されているが、ダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃは、取出パターンや端子部に接続されていない。検出パターン１９Ｂ、２０Ｂとダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃは、交互に配置されているが、検出パターン１９Ｂ、２０Ｂとダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃを電気的に絶縁するために所定の間隔を空けて配置されている。

検出パターン１９Ｂ、２０Ｂとダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃの間隔Ｓは、検出パターン１９Ｂ、２０Ｂとダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃを形成する方法の精度に応じて適宜設定されるが、例えば２μｍ以上１０００μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上１０００μｍ以下であることが好ましい。このような範囲に間隔Ｓを設定することにより、検出パターン１９Ｂ、２０Ｂとダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃとの間の電気的な絶縁を確保しながら、検出パターン１９Ｂ、２０Ｂとダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃとの間の不連続性が観察者によって視認されることを防ぐことができる。

導線１９Ａ、２０Ａを構成する材料としては、銀、銅、アルミニウム、またはこれらの合金等の遮光性のある金属材料が挙げられる。

導線１９Ａ、２０Ａの幅Ｗは、１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以上１５μｍ以下であることがより好ましい。これによって、観察者が視認する画像に対して導線１９Ａ、２０Ａが及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすることができる。

検出パターン１９Ｂ、２０Ｂおよびダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃは、導線１９Ａ、２０Ａによって形成された例えば矩形状の開口１９Ｄ、２０Ｄを有している。検出パターン１９Ｂ、２０Ｂおよびダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃの開口率は、表示装置からの放出される映像光の特性などに応じて適宜設定されるが、例えば、８０％以上９０％以下の範囲内にある。また、開口部１９Ｄ、２０Ｄの配置ピッチＰは、求められる開口率や導線１９Ａ、２０Ａの幅Ｗの値に応じて、１００μｍ以上１０００μｍ以下の範囲内で適宜設定される。

検出パターン１９Ｂ、２０Ｂおよびダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃを有する第１の導電層１９、２０は、例えば、以下のようなフォトリソグラフィー法によって形成することができる。まず、第１の低屈折率層１６上にスパッタリング等により遮光導電層を形成し、その後、遮光導電層上に特定波長の光、例えば紫外線に対して感光性を有する感光層を形成する。遮光導電層上に感光層を形成した後、感光層上にマスクを配置し、マスクを介して露光する。ここで、マスクは、検出パターンおよびダミーパターンに対応したパターンを有し、かつ露光光を透過する透過部と、露光光を遮蔽する遮蔽部とを備えている。露光した後、感光層を、現像液を用いて現像する。これにより、感光層のうち露光光が照射されていない部分が除去され、検出パターンおよびダミーパターンに対応した部分が残存する。そして、残存した感光層の部分をマスクとして、遮光導電層をエッチングして、遮光導電層をパターニングする。最後に、パターニングされた遮光導電層を除去する。これにより、検出パターン１９Ｂ、２０Ｂおよびダミーパターン１９Ｃ、２０Ｃを有する第１の導電層１９、２０を形成することができる。

本実施形態によれば、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、第１の高屈折率層１５と第１の透明層１４との界面で反射される光と、第１の透明層１４と透明基材１３との界面で反射される光とが干渉することによって生じる干渉縞が視認されることを抑制でき、かつ白濁感を低減できる。すなわち、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、干渉縞が視認されることを抑制できる表面角度０．０５°以上の領域（干渉縞が視認されることを抑制できる領域）の割合が５０％以上となっているので、干渉縞を不可視化することができる。また、第１の透明層１４の凹凸面１４Ａにおいては、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、白濁感を低減でき、その結果、視認性を向上させることができる。

従来、タッチパネルに用いられる中間基材フィルムは、成形加工時の生産性向上等の観点より、巻き取ってロールとされるが、従来のハードコート層は、表面平滑性が高いため、巻取ロールにしたときに、重なったフィルム同士がくっついてしまう現象（いわゆるブロッキング）が発生してしまうという問題があった。このようなブロッキングが発生すると、ロールからフィルムを滑らかに繰り出すことができなくなり、次工程において、フィルムにシワが発生したり、中間基材フィルムが蛇行したりする要因となる。また、ブロッキングが著しい場合は、ブロッキングした所にムラができて製造した中間基材フィルムの透明性やヘイズ、更には光学的均一性を損なう結果となることもあった。このような問題に対し、例えば、特開平１０−３２３９３１号公報や特開２０１２−２０６５０２号公報等に、ハードコート層中に微粒子を含有させて表面に凹凸を形成し、耐ブロッキング性や易滑性の向上を図る方法が従来から提案されている。しかしながら、従来の中間基材フィルムは、ハードコート層表面の凹凸形状が耐ブロッキング性や易滑性の向上のみを目的として形成されたものであったため、干渉縞が視認されることを抑制できるものではなかった。これは、従来のハードコート層に微粒子を添加して耐ブロッキング性や易滑性の向上を図った中間基材フィルムは、ハードコート層の透明性や色調を維持する必要性から、上記微粒子の添加量をかなり少なくすることで、ハードコート層の表面に、耐ブロッキング性や易滑性を発揮し得る最低限度の凹凸形状を形成していたためである。すなわち、上記ハードコート層の表面は、平面部分の面積が凹凸部分の面積よりも非常に大きなほぼ平坦な状態であり、このため、ハードコート層の膜厚のムラの制御ができず、その結果、干渉縞が視認されることを抑制できなかった。本発明者らが、干渉縞が視認されることを抑制でき、かつ耐ブロッキング性や易滑性を向上させることができる凹凸形状について鋭意研究したところ、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつＲΔｑが０．００３以下となっている凹凸面であれば、干渉縞が視認されることを抑制できるとともに耐ブロッキング性や易滑性を向上させることができることを見出した。本実施形態では、第１の凹凸面１４Ａが、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、干渉縞が視認されることを抑制できる他に、耐ブロッキング性や易滑性を向上させることができる。

本実施形態によれば、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、画質劣化を抑制することができる。すなわち、第１の透明層は、タッチパネル装置の画像表示面から離れた位置に存在するので、第１の透明層の表面に従来の防眩フィルムと同程度の大きさの凹凸を形成すると、第１の透明層の表面における映像光の拡散によって映像光がぼけてしまい、画質劣化が生じるおそれがある。これに対し、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、映像光の過度の拡散を抑制できるので、画質劣化を抑制することができる。

第２の透明層１７の第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいて説明した理由と同様の理由から、透明基材１３と第２の透明層１７との界面と、第２の透明層１７の表面で反射される光とが干渉することによって生じる干渉縞が視認されることを抑制でき、かつ白濁感を低減できる。

本実施形態によれば、第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、干渉縞が視認されることを抑制できるとともに、耐ブロッキング性や易滑性をさらに向上させることができる。

本実施形態においては、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいて、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているが、透明基材と、透明基材の一方の面上に設けられた第１の機能層とを備える中間基材フィルムであって、第１の機能層が中間基材フィルムの一方の表面をなす第１の凹凸面を有し、この第１の凹凸面において、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっていてもよい。「機能層」とは、中間基材フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層であり、具体的には、例えば、ハードコート性、反射防止性、帯電防止性、または防汚性等の機能を発揮する層が挙げられる。第１の機能層は、単層のみならず、２層以上積層されたものであってもよい。本実施形態においては、第１の透明層１４と、第１の透明層１５に設けられた第１の高屈折率層１５と、第１の高屈折率層１５上に設けられた第１の低屈折率層１６との積層体が第１の機能層に相当し、また第１の低屈折率層１６の表面が第１の機能層の第１の凹凸面に相当する。ただし、第１の機能層はこれに限定されず、例えば、第１の機能層は第１の透明層１４のみから構成されていてもよく、この場合には第１の機能層の第１の凹凸面は第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａとなっている。また、第１の機能層は第１の透明層１４と、第１の透明層上に設けられた第１の高屈折率層１５とから構成されていてもよく、この場合には、第１の機能層の第１の凹凸面は第１の高屈折率層１５の表面となっている。第１の機能層の第１の凹凸面において、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、上述した理由から、干渉縞が認識されることを抑制でき、かつ白濁感を低減できる。また、上述した理由から、耐ブロッキング性や易滑性を向上させることもできる。

透明基材と、透明基材の一方の面上に設けられた第１の機能層とを備える中間基材フィルムを用いる場合、透明基材の他方の面上に設けられた第２の機能層とをさらに備え、第２の機能層が中間基材フィルムの他方の表面をなす第２の凹凸面を有し、この第２の凹凸面において、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっていてもよい。第２の機能層は、単層のみならず、２層以上積層されたものであってもよい。本実施形態においては、第２の透明層１７が第２の機能層に相当し、また第２の透明層１７の表面が第２の機能層の第２の凹凸面に相当する。ただし、第２の機能層はこれに限定されず、例えば、第２の機能層は第２の透明層１７と、第２の透明層１７上に設けられた第２の高屈折率層とから構成されていてもよく、この場合には第２の機能層の第２の凹凸面は第２の高屈折率層の表面となっている。また、第２の機能層は第２の透明層１７と、第２の透明層１７上に設けられた第２の高屈折率層と、第２の高屈折率上に設けられた第２の低屈折率層とから構成されていてもよく、この場合には、第２の機能層の第２の凹凸面は第２の低屈折率層の表面となっている。第２の機能層の第２の凹凸面において、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、上述した理由から、干渉縞が認識されることをより抑制でき、かつ白濁感をより低減できる。また、上述した理由から、耐ブロッキング性や易滑性をさらに向上させることもできる。

〔タッチパネルセンサ〕
積層フィルム１０、３０は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。図８は本実施形態に係る積層フィルムを組み込んだタッチパネルセンサの概略構成図であり、図９は本実施形態に係る積層フィルムを組み込んだ他のタッチパネルセンサの概略構成図である。

図８に示されるタッチパネルセンサ４０は、積層フィルム１０と積層フィルム３０を積層した構造を有している。積層フィルム１０と積層フィルム３０との間には透明粘着層４１が設けられており、また積層フィルム１０上には透明粘着層４２が設けられている。すなわち、積層フィルム１０と積層フィルム３０とは透明粘着層４１によって貼り付けられており、またタッチパネルセンサ４０は透明粘着層４２によって他の部材と貼り付け可能となっている。

積層フィルム１０の第１の導電層１２は、タッチパネルセンサ４０におけるＸ方向の電極として機能するものであり、積層フィルム３０の第１の導電層１８は、タッチパネルセンサ４０におけるＹ方向の電極として機能するものである。

積層フィルム３０は、他の態様のタッチパネルセンサに組み込まれてもよい。図９に示されるタッチパネルセンサ５０は、積層フィルム３０と、積層フィルム３０の第１の導電層１８上に設けられ、パターニングされた第２の導電層５１と、第１の導電層１８と第２の導電層５１とを貼り付けるための透明粘着層５２とを備えている。第２の導電層５１は、ガラス板５３の一方の面に形成されたものであり、第２の導電層５１とガラス板５３とは一体化している。

第１の導電層１８は、タッチパネルセンサ５０におけるＹ方向の電極として機能するものであり、第２の導電層５１は、タッチパネルセンサ５０におけるＸ方向の電極として機能するものである。

図８に示されるタッチパネルセンサ４０は第１の導電層１２と第１の導電層１８を備えているが、第１の導電層１２の代わりに第１の導電層１９を用い、かつ第１の導電層１８の代わりに第１の導電層２０を用いてもよい。図９に示されるタッチパネルセンサ５０は第１の導電層１８と第２の導電層５１を備えているが、第１の導電層１８の代わりに第１の導電層２０を用い、かつ第２の導電層５１の代わりに第１の導電層１９を用いてもよい。

＜第２の導電層＞
第２の導電層５１は、第１の導電層１２と同様の構成（膜厚、パターン形状の配置等）となっていることが好ましい。また、第２の導電層５１は第１の導電層１２と同様の材料から構成することが可能である。

＜透明粘着層＞
透明粘着層４１、４２、５２としては、公知の感圧接着層や粘着シートが挙げられる。

〔第２の実施形態〕
以下、本発明の第２の実施形態に係る中間基材フィルム、積層フィルムおよびタッチパネルセンサについて、図面を参照しながら説明する。図１０は本実施形態に係る中間基材フィルムおよび積層フィルムの概略構成図である。なお、本実施形態において、第１の実施形態で説明した部材と同じ符号が付してある部材は、第１の実施形態で説明した部材と同じ部材であることを意味するものであり、また第１の実施形態と重複する内容については特記しない限り省略するものとする。

［タッチパネル用中間基材フィルムおよび積層フィルム］
図１０に示される積層フィルム６０は、中間基材フィルム６１と、中間基材フィルム６１に支持された第１の導電層１２および第２の導電層６２とを備えている。中間基材フィルム６１は、第１の導電層１２および第２の導電層６２を支持するためのものであり、透明基材１３と、透明基材１３の一方の面１３Ａ上に設けられた第１の透明層１４と、第１の透明層１４上に設けられた第１の高屈折率層１５と、第１の高屈折率層１５上に設けられた第１の低屈折率層１６と、透明基材１３の他方の面１３Ｂ上に設けられた第２の透明層１７と、第２の透明層１７上に設けられた第２の高屈折率層６３と、第２の高屈折率層６３上に設けられた第２の低屈折率層６４とを備えている。すなわち、中間基材フィルム６１は、中間基材フィルム１１の第２透明層１７上に第２の高屈折率層６３、第２の低屈折率層６４を設けたものである。

＜第２の高屈折率層＞
第２の高屈折率層６３は、第１の高屈折率層１５と同様の構成（膜厚、屈折率等）となっていることが好ましい。また、第２の高屈折率層６３は、第１の高屈折率層１５と同様の材料から構成することが可能である。

第２の高屈折率層６３は、第１の高屈折率層１５と同様の構成となっていることが好ましいので、第２の高屈折率層６３の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第２の高屈折率層６３の膜厚が２００ｎｍ以下である場合、第２の高屈折率層６３の膜厚が非常に薄いので、第２の高屈折率層６３の表面は、第２の凹凸面１７Ａの凹凸形状が反映される。すなわち、第２の高屈折率層６３の膜厚が２００ｎｍ以下である場合であって、第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第２の凹凸面１７ＡにおけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第２の高屈折率層６３の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上となり、かつ第２の高屈折率層６３の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている。したがって、第２の高屈折率層６３の膜厚が２００ｎｍ以下の場合であって、第２の高屈折率層６３の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第２の高屈折率層６３の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第２の凹凸面１７Ａにおいては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつＲΔｑが０．００３以下であると言える。本明細書において、「第２の高屈折率層の表面」とは、第２の高屈折率層における第２の透明層側の面とは反対側の面を意味する。

＜第２の低屈折率層＞
第２の低屈折率層６４は、第１の低屈折率層１６と同様の構成（膜厚、屈折率等）となっていることが好ましい。また、第２の低屈折率層６４は、第１の低屈折率層１６と同様の材料から構成することが可能である。

第２の低屈折率層６４は、第１の低屈折率層１６と同様の構成となっていることが好ましいので、第２の低屈折率層６４の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第２の高屈折率層６３の膜厚および第２の低屈折率層６４の膜厚が２００ｎｍ以下の場合、第２の高屈折率層６３および第２の低屈折率層６４の膜厚が非常に薄いので、第２の高屈折率層６３の表面のみならず、第２の低屈折率層６４の表面にも、第２の凹凸面１７Ａの凹凸形状が反映される。すなわち、第２の高屈折率層６３の膜厚および第２の低屈折率層６４の膜厚が２００ｎｍ以下である場合であって、第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第２の凹凸面１７ＡにおけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第２の低屈折率層６４の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上となり、かつ第２の低屈折率層６４の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている。したがって、第２の高屈折率層６３の膜厚および第２の低屈折率層６４の膜厚が２００ｎｍ以下の場合であって、第２の低屈折率層６４の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第２の低屈折率層の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつＲΔｑが０．００３以下となっていると言える。本明細書において、「第２の低屈折率層の表面」とは、第２の低屈折率層における第２の透明層側の面（第２の高屈折率層側の面）とは反対側の面を意味する。

＜第２の導電層＞
第２の導電層６２は第１の導電層１８と同様の構成（膜厚、パターン形状の配置等）となっていることが好ましく、第２の導電層６２は第１の導電層１８と同様の構成となっていることが好ましい。

第２の導電層６２は、第１の導電層１８と同様の構成となっていることが好ましいので、第２の導電層６２の膜厚は１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下となっていることが好ましい。第２の導電層６２の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の場合、第２の導電層６２の膜厚が非常に薄いので、第２の高屈折率層６３や第２の低屈折率層６４の表面のみならず、第２の導電層６２の表面にも、第２の凹凸面１７Ａの凹凸形状が反映される。すなわち、第２の高屈折率層６３の膜厚および第２の低屈折率層６４の膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ第２の導電層６２の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の場合であって、第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第２の凹凸面１７ＡにおけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第２の導電層６２の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上となり、かつ第２の導電層６２の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている。したがって、第２の高屈折率層６３の膜厚および第２の低屈折率層６４の膜厚が２００ｎｍ以下であり、かつ第２の導電層６２の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の場合であって、第２の導電層６２の表面において、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ第２の導電層６２の表面におけるＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第２の凹凸面１７Ａにおいては、表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつＲΔｑが０．００３以下となっていると言える。本明細書において、「第２の導電層の表面」とは、第２の導電層における第２の透明層側の面（第２の低屈折率層側の面）とは反対側の面を意味する。

第１の導電層１２は、タッチパネルセンサにおけるＸ方向の電極として機能するものであり、第２の導電層６２は、タッチパネルセンサにおけるＹ方向の電極として機能するものである。第１の導電層１２の代わりに第１の導電層１９を用い、かつ第２の導電層６２の代わりに第１の導電層２０を用いてもよい。

第１の導電層１２および第２の導電層６２は、積層フィルム６０の両面に形成されているので、フォトリソグラフィー法によって同時にパターニングすることができる。したがって、この場合には、第１の導電層１２および第２の導電層６２の位置精度を高めることができる。

本実施形態によれば、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、第１の実施形態で説明した理由と同様の理由から、干渉縞が視認されることを抑制でき、かつ白濁感を低減できる。

本実施形態によれば、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、第１の実施形態で説明した理由と同様の理由から、耐ブロッキング性や易滑性を向上させることができる。

本実施形態によれば、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａにおいては、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、第１の実施形態で説明した理由と同様の理由から、画質劣化を抑制することができる。

第１の導電層１２の代わりに第１の導電層１９を用い、かつ第２の導電層６２の代わりに第１の導電層２０を用いた場合、第１の導電層１９、２０はともにメッシュ状の導線１９Ａ、２０Ａから構成されているので、この積層フィルムをロール状に巻回すると、導線１８Ａと導電１９Ａが接触することになる。ここで、導線同士が接触する場合は、導線と第２の透明層（有機層）とが接触する場合によりも、ブロッキングが生じやすいが、本実施形態においては、第１の透明層１４の第１の凹凸面１４Ａが、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっているので、耐ブロッキング性や易滑性を向上させることができる。これにより、導線同士が接触する場合であっても、導線１９Ａと導電１９Ｂにおけるブロッキングを抑制することができる。また、第２の透明層１７の第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、導線１９Ａと導電１９Ｂにおけるブロッキングをさらに抑制することができる。

第２の透明層１７の第２の凹凸面１７Ａにおいて、表面角度０．０５°以上の領域の割合が５０％以上となっており、かつ粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下となっている場合には、第１の実施形態で説明した理由と同様の理由から、透明基材１３と第２の透明層１７との界面と、第２の透明層１７の表面で反射される光とが干渉することによって生じる干渉縞が視認されることを抑制でき、かつ白濁感を低減できる。

［タッチパネルセンサ］
積層フィルム７０は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。図１１は本実施形態に係る積層フィルムを組み込んだタッチパネルセンサの概略構成図である。

図１１に示されるタッチパネルセンサ７０は、積層フィルム６０と、積層フィルム６０の第１の導電層１２および第２の導電層６２上に設けられた透明粘着層７１、７２とを備えている。なお、タッチパネルセンサ７０は透明粘着層７１、７２を備えているが、積層フィルム６０をタッチパネルセンサとして用いてもよい。

タッチパネルセンサ７０においては、第１の導電層１２および第２の導電層６２を用いているが、第１の導電層１２の代わりに第１の導電層１９を用い、かつ第２の導電層６２の代わりに第１の導電層２０を用いてもよい。

＜透明粘着層＞
透明粘着層７１、７２としては、公知の感圧接着層や粘着シートが挙げられる。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。

＜透明層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、透明層用組成物を得た。
（透明層用組成物１）
・フュームドシリカ（オクチルシラン処理、平均粒子径１２ｎｍ、日本アエロジル社製）：１質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）（製品名：ＰＥＴＡ、ダイセル・サイテック社製）：６０質量部
・ウレタンアクリレート（製品名：ＵＶ１８００Ｂ、日本合成化学社製、重量平均分子量２０００、官能基数１０）：４０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（製品名：ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：０．０２５質量部
・トルエン：１０５質量部
・イソプロピルアルコール：３０質量部
・シクロヘキサノン：１５質量部
なお、上記フュームドシリカは、オクチルシラン処理（オクチルシランにより、フュームドシリカの表面のシラノール基をオクチルシリル基で置換して疎水化する処理）されたものであった。

（透明層用組成物２）
・フュームドシリカ（オクチルシラン処理、平均粒子径１２ｎｍ、日本アエロジル社製）１．５質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）（製品名：ＰＥＴＡ、ダイセル・サイテック社製）：６０質量部
・ウレタンアクリレート（製品名：ＵＶ１８００Ｂ、日本合成化学社製、重量平均分子量２０００、官能基数１０）：４０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：０．０２５質量部
・トルエン：１０５質量部
・イソプロピルアルコール：３０質量部
・シクロヘキサノン：１５質量部

（透明層用組成物３）
・フュームドシリカ（オクチルシラン処理、平均粒子径１２ｎｍ、日本アエロジル社製）：０．５質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）（製品名：ＰＥＴＡ、ダイセル・サイテック社製）：６０質量部
・ウレタンアクリレート（製品名：ＵＶ１８００Ｂ、日本合成化学社製、重量平均分子量２０００、官能基数１０）：４０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（製品名：ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：０．０２５質量部
・トルエン：１０５質量部
・イソプロピルアルコール：３０質量部
・シクロヘキサノン：１５質量部

（透明層用組成物４）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）（製品名：ＰＥＴＡ、ダイセル・サイテック社製）：６０質量部
・ウレタンアクリレート（製品名：ＵＶ１８００Ｂ、日本合成化学社製、重量平均分子量２０００、官能基数１０）：４０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：０．０２５質量部
・トルエン：１０５質量部
・イソプロピルアルコール：３０質量部
・シクロヘキサノン：１５質量部

（透明層用組成物５）
・有機微粒子（親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子、平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５１５、積水化成品工業社製）：３質量部
・フュームドシリカ（メチルシラン処理、平均粒子径１２ｎｍ、日本アエロジル社製）：１質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）（製品名：ＰＥＴＡ、ダイセル・サイテック社製）：６０質量部
・ウレタンアクリレート（製品名：ＵＶ１８００Ｂ、日本合成化学社製、重量平均分子量２０００、官能基数１０）：４０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：０．０２５質量部
・トルエン：１０５質量部
・イソプロピルアルコール：３０質量部
・シクロヘキサノン：１５質量部

（透明層用組成物６）
・有機微粒子（親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子、平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５５、積水化成品工業社製）：３質量部
・フュームドシリカ（メチルシラン処理、平均粒子径１２ｎｍ、日本アエロジル社製）：１質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）（製品名：ＰＥＴＡ、ダイセル・サイテック社製）：６０質量部
・ウレタンアクリレート（製品名：ＵＶ１８００Ｂ、日本合成化学社製、重量平均分子量２０００、官能基数１０）：４０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：０．０２５質量部
・トルエン：１０５質量部
・イソプロピルアルコール：３０質量部
・シクロヘキサノン：１５質量部

（透明層用組成物７）
・有機微粒子（非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子、平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５５、積水化成品工業社製）：８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（製品名：ＰＥＴＩＡ、ダイセル・サイテック社製）：８０質量部
・イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート（製品名：Ｍ−３１５、東亜合成社製）：２０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：０．０２５質量部
・トルエン：１２０質量部
・シクロヘキサノン：３０質量部

＜高屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物を得た。
（高屈折率層用組成物）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（製品名：ＰＥＴＩＡ、ダイセル・サイテック社製）：０．８質量部
・高屈折率ジルコニア粒子（製品名：ＭＺ−２３０Ｘ、住友大阪セメント社製）：４量部
・重合開始剤（イルガキュア１２７、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．０５質量部
・レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））０．０２質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：３８質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：３８質量部
・シクロヘキサノン：２０質量部

＜低屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
（低屈折率層用組成物）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（製品名：ＰＥＴＩＡ、ダイセル・サイテック社製）：０．６質量部
・低屈折率シリカ粒子（日産化学社製、ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分３０％）：２．０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１２７、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．０８質量部
・レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））０．０２質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：７６質量部
・シクロヘキサノン：２０質量部

＜実施例１＞
透明基材としての厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名：Ａ４３００、東洋紡績社製）を準備し、ポリエチレンテレフタレート基材の片面に、透明層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、４μｍ厚み（硬化時）の透明層を形成して、実施例１に係る中間基材フィルムを作製した。

＜実施例２＞
実施例２においては、透明層用組成物１に代えて透明層用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムを作製した。

＜実施例３＞
実施例３においては、紫外線の積算光量を５０ｍＪ／ｃｍ^２とした以外は、実施例１と同様にして、実施例３に係る中間基材フィルムを作製した。

＜実施例４＞
実施例４においては、透明層用組成物１に代えて透明層用組成物２を用いた以外は、実施例３と同様にして、中間基材フィルムを作製した。

＜実施例５＞
実施例５においては、透明層用組成物１に代えて透明層用組成物３を用いた以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムを作製した。

＜比較例１＞
比較例１においては、透明層用組成物１に代えて透明層用組成物４を用いた以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムを作製した。

＜比較例２＞
比較例２においては、透明層用組成物１に代えて透明層用組成物５を用いた以外は、実施例３と同様にして、中間基材フィルム体を作製した。

＜比較例３＞
比較例３においては、透明層用組成物１に代えて透明層用組成物６を用いた以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムを作製した。

＜比較例４＞
比較例４においては、透明層用組成物１に代えて透明層用組成物７を用い、硬化時の透明層の膜厚を５μｍとした以外は、実施例１と同様にして、基材フィルムを作製した。

＜表面角度、二乗平均平方根傾斜ＲΔｑの測定＞
実施例及び比較例で得られた各中間基材フィルムの透明層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとし、白色干渉顕微鏡（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ６３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて、積層フィルムの表面形状の測定・解析を行った。なお、解析ソフトにはＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いた。

［測定条件］
対物レンズ：２．５倍
Ｚｏｏｍ：２倍
データ点数：９９２×９９２点
解像度（１点当たりの間隔）：２．２μｍ

［解析条件］
Ｒｅｍｏｖｅｄ：Ｎｏｎｅ
Ｆｉｌｔｅｒ：ＨｉｇｈＰａｓｓ
ＦｉｌｔｅｒＴｙｐｅ：ＧａｕｓｓＳｐｌｉｎｅ
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：３００μｍ
以上の条件で、カットオフ値３００μｍの高域フィルタにてうねり成分を除いた凹凸形状が得られる。
Ｒｅｍｏｖｅ ｓｐｉｋｅｓ： ｏｎ
Ｓｐｉｋｅ Ｈｅｉｇｈｔ（ｘＲＭＳ）：２．５
以上の条件で、スパイク状のノイズを除去できる。

次に、上記解析ソフト（ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２−Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ）にてＳｌｏｐｅＸ ＭＡＰ画面（ｘ方向傾斜の表示）を表示し、ｒｍｓを表示させた。このｒｍｓが二乗平均平方根傾斜ＲΔｑに相当する。

また、全面に渡る各点の傾斜Δｉを求め、上記式（３）により傾斜Δｉを表面角度θ_ｉに換算して、そこから、表面角度θ_ｉの絶対値が０．０５°以上となる領域の割合を算出した。

＜干渉縞観察評価＞
実施例及び比較例で得られた各中間基材フィルムのポリエチレンテレフタレート基材における透明層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、裏面反射を防止するための黒アクリル板を貼り、透明層側から各中間基材フィルムに光を照射し、目視で観察した。光源としては、フナテック社製の干渉縞検査ランプ（ナトリウムランプ）を使用した。干渉縞の発生を以下の基準により評価した。
◎：干渉縞は確認されなかった。
○：干渉縞はわずかに確認されたが、問題ないレベルであった。
×：干渉縞がはっきりと確認された。

＜白濁感観察評価＞
実施例及び比較例で得られた各中間基材フィルムのポリエチレンテレフタレート基材における透明層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、黒アクリル板を貼り、暗室にて卓上スタンド（３波長蛍光灯管）の下で、白濁感を観察し、以下の基準により評価した。
○：白さが観察されなかった。
×：白さが観察された。

＜ブロッキング性評価＞
実施例及び比較例で得られた各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物を用いて膜厚が１００ｎｍの高屈折率層を形成した各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層及び膜厚が５０ｎｍの低屈折率層を順次積層した各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層及び膜厚が４０ｎｍの低屈折率層を順次積層し、そしてこの低屈折率層上にスズドープ酸化インジウムからなる膜厚が２０ｎｍの導電層を形成した各積層フィルム、並びに実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層および膜厚が４０ｎｍの低屈折率層を順次積層し、そしてこの低屈折率層上に銅メッシュからなる導電層を形成した各積層フィルムにおいて、ブロッキング性を評価した。ブロッキング性の評価は、５ｃｍ×５ｃｍの大きさに各フィルムを２枚切り出し、同じフィルム同士をフィルムにおける透明層側の表面が互いに接触するように重ね合わせた状態で、ブロッキング試験機を使用して、圧力条件３．０Ｋｇｆ／ｃｍ^２、試験面積３ｃｍφ、湿温度条件４０℃、９０％ＲＨ、３０時間の条件で行い、ブロッキングの状態を目視で判断した。なお、高屈折率層および低屈折率層は上記高屈折率層用組成物および上記低屈折率層用組成物の塗膜に紫外線を照射し、硬化させることによって形成された。また、高屈折率層等の形成条件は全ての中間基材フィルムにおいて同じとした。

＜易滑性評価＞
実施例及び比較例で得られた各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物を用いて膜厚が１００ｎｍの高屈折率層を形成した各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層及び膜厚が５０ｎｍの低屈折率層を順次積層した各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層及び膜厚が４０ｎｍの低屈折率層を順次積層し、そしてこの低屈折率層上にスズドープ酸化インジウムからなる膜厚が２０ｎｍの導電層を形成した各積層フィルム、並びに実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層および膜厚が４０ｎｍの低屈折率層を順次積層し、そしてこの低屈折率層上に銅メッシュからなる導電層を形成した各積層フィルムにおいて、易滑性を評価した。易滑性の評価は、２枚の同じフィルムを用いてフィルムの透明層側の表面同士を擦り合わせて、滑り性を確認することにより行われた。なお、高屈折率層および低屈折率層は上記高屈折率層用組成物および上記低屈折率層用組成物の塗膜に紫外線を照射し、硬化させることによって形成された。また、高屈折率層等の形成条件は全ての中間基材フィルムにおいて同じとした。

以下、結果を表１に示す。

表１に示されるように、比較例１〜４においては、透明層の表面における表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ透明層の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下であるという両方の要件を満たしていないので、干渉縞が確認され、または白濁感が観察されていた。これに対し、実施例１〜５においては、透明層の表面における表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ透明層の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下であるという両方の要件を満たしているので、干渉縞が確認されず、または干渉縞はわずかに確認されたが、問題ないレベルであり、かつ白濁感は観察されなかった。

実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物を用いて膜厚が１００ｎｍの高屈折率層を形成した各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層及び膜厚が５０ｎｍの低屈折率層を順次積層した各中間基材フィルム、実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層及び膜厚が４０ｎｍの低屈折率層を順次積層し、そしてこの低屈折率層上にスズドープ酸化インジウムからなる膜厚が２０ｎｍの導電層を形成した各積層フィルム、並びに実施例及び比較例の各透明層上に上記高屈折率層用組成物及び上記低屈折率層用組成物を用いて膜厚が５０ｎｍの高屈折率層および膜厚が４０ｎｍの低屈折率層を順次積層し、そしてこの低屈折率層上に銅メッシュからなる導電層を形成した各積層フィルムにおいて、各フィルムの表面における表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合および粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑを上記と同様の方法により求めたところ、実施例および比較例に係る中間基材フィルムにおける値（表１に記載された値）とほぼ同じ値が得られ、また干渉縞および白濁感の観察結果も実施例および比較例に係る中間基材フィルムの結果と同様であった。なお、高屈折率層および低屈折率層は上記高屈折率層用組成物および上記低屈折率層用組成物の塗膜に紫外線を照射し、硬化させることによって形成された。また、高屈折率層等の形成条件は全ての中間基材フィルムにおいて同じとした。

比較例に係る中間基材フィルム、および比較例に係る透明層上に高屈折率層等を形成した基材フィルムや積層フィルムにおいては、フィルム同士の貼り付きが発生していたので耐ブロッキング性に劣っており、またフィルム同士の滑り性も劣っていたので易滑性も劣っていた。これに対し、実施例に係る中間基材フィルム、および実施例に係る透明層上に高屈折率層等を形成した中間基材フィルムや積層フィルムにおいては、フィルム同士の貼り付きが発生していなかったので、耐ブロッキング性に優れており、またフィルム同士の滑り性も良好であったので、易滑性にも優れていた。

１０、３０、６０…積層フィルム
１１、６１…中間基材フィルム
１２、１８〜２０…第１の導電層
１３…透明基材
１４…第１の透明層
１４Ａ…第１の凹凸面
１５…第１の高屈折率層
１６…第１の低屈折率層
１７…第２の透明層
１７Ａ…第２の凹凸面
４０、５０、７０…タッチパネルセンサ
５１、６２…第２の導電層

Claims (18)

1. パターニングされた導電層を支持するためのタッチパネル用中間基材フィルムであって、
   透明基材の一方の面上に第１の透明層を積層し、
   前記第１の透明層が透明基材側とは反対側に第１の凹凸面を有し、
   前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第１の凹凸面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第１の凹凸面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ
   前記第１の凹凸面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下であることを特徴とする、中間基材フィルム。
2. 前記第１の透明層上に、前記第１の透明層の屈折率よりも高い屈折率を有する第１の高屈折率層をさらに積層した、請求項１に記載の中間基材フィルム。
3. 前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第１の高屈折率層の表面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第１の高屈折率層の表面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ前記第１の高屈折率層の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下である、請求項２に記載の中間基材フィルム。
4. 前記第１の高屈折率層上に、前記第１の高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する第１の低屈折率層をさらに積層した、請求項２または３に記載の中間基材フィルム。
5. 前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第１の低屈折率層の表面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第１の低屈折率層の表面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ前記第１の低屈折率層の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下である、請求項４に記載の中間基材フィルム。
6. 前記透明基材の他方の面上に第２の透明層をさらに積層し、前記第２の透明層が、透明基材側とは反対側に第２の凹凸面を有する、請求項１ないし５のいずれか一項に記載の中間基材フィルム。
7. 前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第２の凹凸面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第２の凹凸面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ前記第２の凹凸面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下である、請求項６に記載の中間基材フィルム。
8. 前記第２の透明層上に、前記第２の透明層の屈折率よりも高い屈折率を有する第２の高屈折率層をさらに積層した、請求項６または７に記載の中間基材フィルム。
9. 前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第２の高屈折率層の表面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第２の高屈折率層の表面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ前記第２の高屈折率層の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下である、請求項８に記載の中間基材フィルム。
10. 前記第２の高屈折率層上に、前記第２の高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する第２の低屈折率層をさらに積層した、請求項８または９に記載の中間基材フィルム。
11. 前記中間基材フィルムのフィルム面の法線方向に沿った断面における前記フィルム面に対する前記第２の低屈折率層の表面の傾斜角度を表面角度とすると、前記第２の低屈折率層の表面において、前記表面角度が０．０５°以上となっている領域の割合が５０％以上であり、かつ前記第２の低屈折率層の表面における粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜ＲΔｑが０．００３以下である、請求項１０に記載の中間基材フィルム。
12. 前記第１の透明層および／または前記第２の透明層が、微粒子とバインダ樹脂とを含んでいる、請求項１ないし１１のいずれか一項に記載の中間基材フィルム。
13. 前記微粒子が、無機酸化物微粒子である、請求項１２に記載の中間基材フィルム。
14. 前記無機酸化物微粒子は、表面が疎水化処理された無機酸化物微粒子である、請求項１３に記載の中間基材フィルム。
15. 前記無機酸化物微粒子が前記第１の透明層および／または前記第２の透明層内で凝集体を形成しており、前記凝集体の平均粒子径が１００ｎｍ以上２．０μｍ以下である、請求項１３に記載の中間基材フィルム。
16. 請求項１ないし１５のいずれか一項に記載の中間基材フィルムと、
    前記中間基材フィルムにおける前記第１の透明層側の表面に支持され、かつパターニングされた第１の導電層と
    を備える、タッチパネル用積層フィルム。
17. 請求項６ないし１５のいずれか一項に記載の中間基材フィルムと、
    前記中間基材フィルムにおける第１の透明層側の表面に支持され、かつパターニングされた第１の導電層と、
    前記中間基材フィルムにおける第２の透明層側の表面に支持され、かつパターニングされた第２の導電層と
    を積層した、タッチパネル用積層フィルム。
18. 請求項１６または１７に記載の積層フィルムを備える、タッチパネルセンサ。

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