TWI495897B - 色調校正膜及使用其的透明導電性膜 - Google Patents

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Description

色調校正膜及使用其的透明導電性膜
本發明係為一種觸控面板用色調校正膜，以及在此色調校正膜的兩面具備錫摻雜氧化銦層作為透明導電層的透明導電性膜。
目前，觸控面板作為能夠通過直接觸摸圖像顯示部來輸入資訊的器件，被廣泛使用。觸控面板是將透過光的輸入裝置配置在液晶顯示裝置等顯示器畫面上的產品，作為代表形式，有電容式觸控面板，其利用了透明電極與手指間產生的電流容量的變化。
在電容式觸控面板上，通常使用兩張透明導電性膜作為透明電極，透明導電性膜是在透明基材膜上層壓透明導電層而形成的，通過黏合層黏貼該一對透明導電性膜，使透明基材膜之間相互面對。作為觸控面板用透明導電性膜，一般使用在透明基材膜上層壓透明導電層而成的透明導電性膜，該透明導電層是由含有氧化錫的銦氧化物(錫摻雜氧化銦，ITO)或氧化鋅等金屬氧化物構成。這樣的透明導電性膜，大多因來自金屬氧化物層的反射及吸收，可見光短波長區域的透過率降低，從而使全光線透過率降低，同時可觀察到呈現黃色。因此，具有難以準確顯示配置在觸控面板下的顯示裝置的顯色的問題。
為了解決這個問題，在日本特開2011-98563號公報中，已提出有將透明導電層與多層光學膜組合而成的透明導電性膜。日本特開2011-98563號公報中的透明導電性膜是從作為透明基材膜的聚酯膜的表面開始依次層壓高折射率層、低折射率層及錫摻雜氧化銦層而構成的，同時，高折射率層由金屬氧化物微粒和紫外線固化型黏合劑形成，光波長為400nm時的折射率為1.63~1.86、膜厚為40~90nm；低折射率層在光波長為400nm時的折射率為1.33~1.53、膜厚為10~50nm，錫摻雜氧化銦層在光波長為400nm時的折射率為1.85~2.35、膜厚為5~50nm，從而實現減少透過光著色的效果。但是，使用兩張上述透明導電性膜作為電容式觸控面板用透明電極的情況下，存在因用於黏結膜的黏合層及兩張基材引起的光的吸收，導致全光線透過率下降的問題。
因此，本發明的目的是提供一種透明導電性膜及用作其基膜的色調校正膜，該透明導電性膜能夠抑制透過光的著色，且全光線透過率高。
本發明之一種色調校正膜，其是在透明基材膜的兩個面上層壓硬塗層，分別在前述兩個硬塗層上依次層壓第一色調校正層及第二色調校正層，其特徵在於，前述兩個硬塗層對於波長為400nm的光的折射率為1.51~1.61，膜厚為1~10μm；前述兩個第一色調校正層由金屬氧化物微粒和活性能量射線固化型樹脂構成，其對於波長為400nm的光的折射率為1.63~1.86，膜厚為25~90nm；前述兩個第二色調校正層由二氧化矽微粒和活性能量射線固化型樹脂構成，其對於波長為400nm的光的折射率為 1.33~1.53，膜厚為10~55nm。
本發明之另一種透明導電性膜，係在上述發明中的色調校正膜的兩個第二色調校正層上，分別層壓錫摻雜氧化銦層，其特徵在於，此兩個錫摻雜氧化銦層對於波長為400nm的光的折射率為1.85~2.35，膜厚為5~50nm。
由於本發明之色調校正膜是在一張透明基材膜的兩個面上具有色調校正層，因此通過在一張色調校正膜的兩個面上層壓透明導電層，就能夠形成觸控面板用透明電極。現有一般的觸控面板用透明電極，是使用黏合劑黏結兩張透明導電性膜而構成的，該透明導電性膜是在透明基材膜的一個面上層壓色調校正層及錫摻雜氧化銦層(透明導電層)而成的，但是通過將本發明之色調校正膜用於透明電極，能夠減少用於黏結的黏合劑和一張透明基材膜。因此，能夠抑制由於黏合劑或透明基材膜引起的透過光的吸收，提高全光線透過率。另外，由於本發明的透明導電性膜的結構是在上述色調校正膜的兩個面上具備具有特定性質的錫摻雜氧化銦層，因此其與上述色調校正膜相同，能夠提高全光線透過率，同時還能夠抑制透過光的著色。
進一步地，本發明的透明導電性膜，其中第一色調校正層對於波長為400nm的光的折射率為1.63~1.86，膜厚為25~90nm；第二色調校正層對於波長為400nm的光的折射率為1.33~1.53，膜厚為10~55nm；錫摻雜氧化銦層對於波長為400nm的光的折射率為1.85~2.35，膜厚為5~50nm。因此，通過適當設定第一色調校正層、第二色調校正層及錫摻雜氧化銦層的折射率及膜厚，能夠抑制透過光的著色。此外，本發明中的膜厚是指物 理膜厚，而不是光學膜厚。
接著，以下說明使用相對於波長為400nm的光的折射率的理由。折射率具有波長分散性，在短波長區域具有折射率變大的傾向。雖然通常在調整各層折射率時，大多使用鈉的D線(光波長為589nm)的值，但是在如本發明的色調校正層及錫摻雜氧化銦層這樣含有金屬氧化物微粒的層中，折射率受波長分散的影響變大。由於在抑制黃色顯色時，控制波長為400nm的透過率非常重要，因此在用波長為589nm的折射率來調整各層折射率的情況下，不能充分調整波長為400nm的透過率，無法得到充分降低黃色顯色的效果。在本發明中，通過使用波長為400nm的折射率設計各層，使抑制透過光著色的效果最大化。
本發明之具體實施方式： 色調校正膜
本實施方式的色調校正膜，其結構是在透明基材膜的兩個面上分別依次層壓硬塗層、第一色調校正層、第二色調校正層。即，色調校正膜的結構為從上開始依次層壓第二色調校正層、第一色調校正層、硬塗層、透明基材膜。下面依次說明該色調校正膜的結構要素。
透明基材膜
透明基材膜可使用由聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、三乙醯纖維素樹脂、降冰片烯類樹脂或環烯烴樹脂構成的膜。由聚酯樹脂構成的膜，可列舉由東麗(東)株式會社生產的PET膜(Lumirror-U-403)；由聚碳酸酯樹脂構成的膜，可列舉由帝人化成株式會社生產的聚碳酸酯膜(PC-2151)；由三乙醯纖維素樹脂構成的膜，可列舉由富士膠片株式會社生產的三乙醯纖維素 膜(FUJITAC)；由降冰片烯類樹脂構成的膜，可列由舉JSR株式會社生產的ARTON()膜；由環烯烴樹脂構成的膜，可列舉日本ZEON( )株式會社生產的Zeonor()膜(ZF14，ZF16)，等等。
此透明基材膜的膜厚通常為25~400μm左右，較佳為25~200μm左右。此外，由PET樹脂形成透明基材膜的情況下，透明基材膜相對於波長為400nm的光的折射率為1.72。
硬塗層
為了提高表面硬度，在透明基材膜的兩個面上設置有硬塗層。在將現有的透明導電性膜用作觸控面板用透明電極的情況下，由於相互黏結的兩張透明導電性膜分別具有透明基材膜，因此通過兩張透明基材膜能夠保證充分的強度。另一方面，本實施方式的色調校正膜為一張透明基材膜，通過在該色調校正膜的表裡兩面上層壓透明導電層(錫摻雜氧化銦層)，形成作為透明電極的透明導電性膜。因此，本實施方式的色調校正膜乃至後述的透明導電性膜，通過將透明基材膜從現有的兩張減少至一張，具有透明電極的強度下降的可能，但由於具有硬塗層，因此能夠保持充分的強度。
其中硬塗層的材料，只要是可配置在觸控面板表面上，其用作各種光學膜的硬塗層的公知活性能量射線固化型樹脂即可，沒有特別限定。例如，可選由通過紫外線(UV)或電子束等活性能量射線使硬塗層用塗液固化而得的固化物，硬塗層用塗液由四乙氧基矽烷等反應性矽化合物與活性能量射線固化型樹脂混合而成。活性能量射線固化型樹脂，例如可選由單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。其中，從兼顧生產率和硬度兩方面考慮，較佳的固化物為含有鉛筆硬度(評估方法： JIS-K5600-5-4)為H以上的活性能量射線固化型樹脂的組合物。含有這樣的活性能量射線固化型樹脂的組合物，甚至可以使用混合了兩種以上公知的活性能量射線固化型樹脂的組合物、市售的作為紫外線固化型硬塗層材料的組合物，或除此之外，使用在不損害本發明效果的範圍內，進一步添加了其他成分的組合物。此外，“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。
另外，硬塗層還含有光聚合引發劑。光聚合引發劑用於通過紫外線(UV)等活性能量射線使硬塗層用塗液固化並形成塗膜時的聚合引發劑。光聚合引發劑，其只要是通過活性能量射線照射可以引發聚合者即可，沒有特別的限定，亦可以使用公知的化合物。例如，1-羥基環己基苯酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉丙烷-1-酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮等苯乙酮類聚合引發劑；安息香、2,2-二甲氧基1,2-二苯基乙烷-1-酮等安息香類聚合引發劑；二苯甲酮、[4-(甲基苯硫基)苯基]苯甲酮、4-羥基二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、3,3’，4,4’-四(叔丁基過氧羰基)二苯甲酮等二苯甲酮類聚合引發劑；2-氯噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮等噻噸酮類聚合引發劑等。
在硬塗層中含有0.1~10重量份的光聚合引發劑。當光聚合引發劑的含量不足0.1重量份，則活性能量射線固化型樹脂的固化不充分。另一方面，如果光聚合引發劑的含量超過10重量份，則光聚合引發劑不必要地增多，並不適合選用。
調整硬塗層相對於波長為400nm的光的折射率，使其為1.51~1.61。當折射率不足1.51的情況下，由於透明基材膜與硬塗層之間的 折射率差變大，可能會產生干涉條紋，故不適合選用。當折射率大於1.61的情況下，為了增大折射率，需要向硬塗層添加較多的高折射率材料，但會產生因高折射率材料引起的光的吸收及光的散射，硬塗層發生著色，並且全光線透過率降低，故不適合選用。另外，硬塗層乾燥固化後的膜厚為1~10μm。膜厚比1μm更薄的情況下，由於鉛筆硬度不足H，故不適合。膜厚比10μm更厚的情況下，在因固化收縮導致捲曲變強的同時，不必要地變厚，生產率和操作性降低，故不適合。
本實施方式的色調校正膜具有兩個硬塗層，但是這兩個硬塗層的膜厚及折射率只要在上述範圍內，相互之間既可以相同，也可以不同。
第一色調校正層
第一色調校正層是折射率比硬塗層及第二色調校正層更高的高折射率層，其由通過活性能量射線(例如紫外線、電子束)使第一色調校正層用塗液固化得到的固化物構成，第一色調校正層用塗液是將調整(積極地提高)第一色調校正層折射率的金屬氧化物微粒與作為黏合劑的活性能量射線固化型樹脂混合而成。金屬氧化物微粒，選用氧化鈦或氧化鋯較佳。氧化鈦和氧化鋯相對於波長為400nm的光的折射率因製備方法的不同而不同，但較佳為1.9~3.0。另外，黏合劑使用的活性能量射線固化型樹脂，相對於波長為400nm的光的折射率為1.4~1.7較佳。活性能量射線固化型樹脂，例如，單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。
進一步地，第一色調校正層還含有光聚合引發劑。關於該光聚合引發劑，可以同等程度地使用與硬塗層所使用的光聚合引發劑相同種類的引發劑。
通過適當選擇金屬氧化物微粒及活性能量射線固化型樹脂，可使第一色調校正層相對於波長為400nm的光的折射率為1.63~1.86。進一步地，需要使第一色調校正層乾燥固化後的膜厚為25~90nm。第一色調校正層的折射率不足1.63的情況下，JIS Z 8729規定的L*a*b表色系統中的透過色b*的值會變大，使得可明顯識別出透明導電性膜的透過色顯示黃色。另外，第一色調校正層的折射率大於1.86的情況下，由於塗膜中的粒子比例變大，霧度值上升，因此全光線透過率降低。如果第一色調校正層的膜厚在上述範圍外，b*的值變大，使得明顯識別出透明導電性膜的透過色顯示黃色的著色。
本實施方式的色調校正膜具有兩個第一色調校正層，但是這兩個第一色調校正層的膜厚及折射率，只要在上述範圍內，相互之間既可以相同，也可以不同。
第二色調校正層
第二色調校正層是折射率比硬塗層及第一色調校正層更低的低折射率層，其是由通過活性能量射線(例如紫外線、電子束)使第二色調校正層用塗液固化得到的固化物構成，所述第二色調校正層用塗液是將調整(積極地降低)第二色調校正層折射率的二氧化矽微粒與作為黏合劑的活性能量射線固化型樹脂混合而成。二氧化矽微粒，可用膠體二氧化矽或中空二氧化矽微粒。膠體二氧化矽及中空二氧化矽微粒相對於波長為400nm的光的折射率因製備方法的不同而不同，但較佳範圍在1.25~1.50。另外，黏合劑的活性能量射線固化型樹脂，相對於波長為400nm的光的折射率為1.4~1.7。活性能量射線固化型樹脂，例如，單官能(甲基)丙烯酸酯，多官能(甲 基)丙烯酸酯等。
進一步地，第二色調校正層還含有光聚合引發劑。該光聚合引發劑，可以同等程度地使用與硬塗層中所用的光聚合引發劑相同種類的引發劑。
通過適當選擇二氧化矽微粒及活性能量射線固化型樹脂，可形成第二色調校正層並使其相對於波長為400nm的光的折射率為1.33~1.53。進一步地，需要使第二色調校正層乾燥固化後的膜厚為10~55nm。第二色調校正層的折射率不足1.33的情況下，由於塗膜中的粒子比例變大，霧度值升高，因此全光線透過率降低。另外，第二色調校正層的折射率大於1.53的情況下，JIS Z 8729規定的L*a*b表色系統中的透過色b*的值就會變大，使得可明顯識別出透明導電性膜的透過色顯示黃色。如果第二色調校正層的膜厚在上述範圍外，b*的值變大，使得明顯識別出透明導電性膜的透過色顯示黃色的著色。
本實施方式的色調校正膜具有兩個第二色調校正層，但是這兩個第二色調校正層的膜厚及折射率，只要在上述範圍內，相互之間既可以相同，也可以不同。
硬塗層、第一色調校正層及第二色調校正層的形成
硬塗層是在透明基材膜上塗布硬塗層用塗液後，通過照射活性能量射線進行固化而形成的。另一方面，第一色調校正層是在形成的硬塗層上塗布第一色調校正層用塗液後，通過照射活性能量射線使其固化而形成的。進一步地，第二色調校正層是在形成的第一色調校正層上塗布第二色調校正層用塗液後，通過照射活性能量射線使其固化而形成的。硬塗層用塗液、第一色調校 正層用塗液、第二色調校正層用塗液的塗布方法沒有特別限定，可以採用任何公知方法，例如輥塗法、旋轉塗布法、浸塗法、噴霧塗布法、棒塗布法、刮刀塗布法、模具塗布法、噴塗法、凹版塗布法等。另外，活性能量射線的種類沒有特別限定，但從便利性等觀點考慮，使用紫外線較佳。此外，為了提高硬塗層的貼附性，可以預先在透明基材膜表面上實施電暈放電處理等前處理。
透明導電性膜
透明導電性膜的結構是在色調校正膜的兩個第二色調校正層上分別層壓錫摻雜氧化銦層。即，透明導電性膜的結構是從上面依次層壓錫摻雜氧化銦層、第二色調校正層、第一色調校正層、硬塗層、透明基材膜、硬塗層、第一色調校正層、第二色調校正層、錫摻雜氧化銦層。
透明導電性膜的透過光的著色可以用JIS Z 8729規定的Lab表色系統的b*進行評價，為-2b*2，更佳為-1b*1。在b*>2的情況下，由於能觀察到透明導電膜著色成黃色，故不適合選用。另一方面，在b*<-2的情況下，由於能觀察到透明導電膜著色成淺藍色，故不適合選用。
透明導電性膜的全光線透過率為85%以上，更可達86%以上，全光線透過率不足85%的情況下，能見度變差，故不選擇使用。
錫摻雜氧化銦層(ITO層)
在兩個第二色調校正層上分別層壓的錫摻雜氧化銦層(ITO層)是透明導電層，其相對於波長為400nm的光的折射率比第二色調校正層的折射率大。具體地，相對於波長為400nm的光的折射率1.85~2.35。如果折射率在 該範圍外，由於與第一色調校正層及第二色調校正層2之間的光學干涉不能適當地發揮作用，因此透明導電性膜的透過色呈現著色，全光線透過率也降低。另外，使ITO層的膜厚為5~50nm。膜厚比5nm更薄的情況下，難以形成均勻的膜，得不到穩定的電阻，故不適合選用。另外，膜厚比50nm更厚的情況下，ITO層自身的光的吸收變強，降低透過色著色的效果變差，同時，具有全光線透過率變小的傾向，故不適合選用。
錫摻雜氧化銦層的形成
對錫摻雜氧化銦層的製膜方法並沒有特別限定，例如可以採用蒸鍍法、濺射法、離子電鍍法、CVD(化學氣相沉積)法。其中，從控制層厚度的觀點考慮，特別優選蒸鍍法及濺射法。此外，形成錫摻雜氧化銦層後，根據需要，在100℃~200℃的範圍內實施退火處理，能夠使其結晶化。具體地，如果在高溫下結晶化，則錫摻雜氧化銦層的折射率顯示出變小的傾向。因此，可以通過控制退火處理的溫度和時間調整錫摻雜氧化銦層的折射率。
本實施方式的透明導電性膜具有兩個錫摻雜氧化銦層，但是這兩個錫摻雜氧化銦層的膜厚及折射率，只要在上述範圍內，相互之間既可以相同，也可以不同。
下面，列舉實施例及比較例對本發明進行具體說明，但本發明並不限定於這些實施例的範圍內。此外，各例中除ITO層之外的層的折 射率用如下所示的方法測定。
折射率(除ITO層之外的層)
(1)在相對於波長為400nm的光的折射率為1.72的PET膜(商品名“A4100”，東洋紡織株式會社製造)上，使用浸漬提拉鍍膜機(杉山元理化學器械株式會社製造)，分別塗布各層用塗液，調整層厚，使其乾燥固化後的膜厚為100~500nm左右。
(2)乾燥後，在氮氣氛下利用紫外線照射裝置(岩崎電氣株式會社生產)，使用120W高壓水銀燈，照射400mJ紫外線，進行固化。在固化後的PET膜內面用砂紙打磨粗糙，全部塗上黑色塗料，使用反射分光膜厚計(“FE-3000”，大塚電子株式會社生產)，測定其反射光譜。
(3)根據由反射光譜讀取的反射率，求出如下所示的n元柯西(n-Cauchy)的波長分散式(公式1)的常數，計算光波長為400nm時的折射率。
N(λ)=a/λ4 +b/λ2 +c (公式1)
(N：折射率，λ：波長，a、b、c：波長分散常數)
硬塗層用塗液(HC-1)的配製
混合96質量份的二季戊四醇六丙烯酸酯、4質量份的光聚合引發劑(商品名：IRGACURE184，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)(株)生產)及100質量份的異丁醇，配製硬塗層用塗液(HC-1)。使用硬塗層用塗液(HC-1)形成的硬塗層的折射率為1.52。
硬塗層用塗液(HC-2)的配製
混合96質量份的二季戊四醇六丙烯酸酯、5質量份的丙烯酸酯微粒(商品名：MA-150，綜研化學(株)生產)、4質量份的光聚合引發劑(商品名： IRGACURE184，汽巴精化(株)生產)及100質量份的異丁醇，配製硬塗層用塗液(HC-2)。使用硬塗層用塗液(HC-2)形成的硬塗層的折射率為1.53。
第一色調校正層用塗液的配製
第一色調校正層用塗液，使用如下原料，以下述表1所記載的組成混合各原料，配製第一色調校正層用塗液C1-1~C1-4。此外，表示表1中各原料的混合比例的數值為重量份。
金屬氧化物微粒：平均粒徑為0.02μm的氧化鋯微粒；平均粒徑為0.02μm的氧化鈦微粒。
活性能量射線固化型樹脂：六官能聚氨酯丙烯酸酯(日本合成化學工業(株)生產紫光UV-7600B)。
光聚合引發劑：汽巴精化(株)生產IRGACURE184(I-184)。
溶劑：甲基異丁基酮。
通過上述方法，測定使用製得的第一色調校正層用塗液C1-1~C1-4所形成的色調校正層的折射率。其結果表示在表1中。
第二色調校正層用塗液的配製
第二色調校正層用塗液，使用下面的原料，以表2所記載的組成混合各原料，配製第二色調校正層用塗液C2-1~C2-5。表示表1中各原料的配合比例的數值為重量份。
二氧化矽微粒：日揮催化劑化成(株)生產的丙烯醯基改性中空二氧化矽微粒suru-ria()NAU：日产化学(株)生产的XBA-ST。
金屬氧化物微粒(比較例用)：平均粒徑為0.02μm的氧化鋯微粒。
活性能量射線固化型樹脂：日本化藥(株)生產的DPHA。
光聚合引發劑：汽巴精化(株)生產IRGACURE907(I-907)。
溶劑：異丙醇。
通過上述方法，測定使用製得的第二色調校正層用塗液C2-1~C2-5所形成的色調校正層的折射率。其結果表示在表2中。
實施例1-1：
在東麗(株)生產的PET膜(產品名稱：U-403，膜厚：125μm，折射率1.72)的一個面上，使用棒塗布機塗布硬塗層用塗液(HC-1)，利用120W 高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為2.5μm的硬塗層(1)。接著，在PET膜的另一面上，使用棒塗布機塗布硬塗層用塗液(HC-2)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為2.5μm的硬塗層(2)。
在上述硬塗層(1)上，使用棒塗布機塗布第一色調校正層用塗液(C1-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為55nm的第一色調校正層(1)。接著，在硬塗層上，使用棒塗布機塗布第一色調校正層用塗液(C1-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為55nm的第一色調校正層(2)。
在上述第一色調校正層(1)上，使用棒塗布機塗布第二色調校正層用塗液(C2-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為30nm的第二色調校正層(2)。接著，在第一色調校正層上，使用棒塗布機塗布第二色調校正層用塗液(C2-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為30nm的第二色調校正層(2)，製成色調校正膜(S-1)。
實施例1-2
除了使第二色調校正層(1)乾燥固化後的膜厚為10nm以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-2)。
實施例1-3
除了使第二色調校正層(1)乾燥固化後的膜厚為55nm以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-3)。
實施例1-4
除了使第二色調校正層(1)的第二色調校正層用塗液為C2-2以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-4)。
實施例1-5
除了使第二色調校正層(1)的第二色調校正層用塗液為C2-3以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-5)。
實施例1-6
除了使第一色調校正層(1)乾燥固化後的膜厚為25nm以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-6)。
實施例1-7
除了使第一色調校正層(1)乾燥固化後的膜厚為90nm以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-7)。
實施例1-8
除了使第一色調校正層(1)的第一色調校正層用塗液為C1-2以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-8)。
實施例1-9
除了使第一色調校正層(1)的第一色調校正層用塗液為C1-3以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-9)。
實施例1-10
除了使硬塗層(1)及硬塗層(2)的硬塗層用塗液為HC-3(商品名： NAB-2000，日本塗料(日本)(株)生产)以外，與實施例1-1相同，製成色调校正膜(S-10)。此外，使用硬塗層用塗液(HC-3)形成的硬塗層的折射率為1.54。
實施例1-11
使用C1-2為第一色調校正層(1)的第一色調校正層用塗液，使乾燥固化後的膜厚為25nm，使用C1-3為第一色調校正層(2)的第一色調校正層用塗液，使乾燥固化後的膜厚為90nm。進一步地，使用C2-3為第二色調校正層(1)的第二色調校正層用塗液，使乾燥固化後的膜厚為10nm，使用C2-2為第二色調校正層(2)的第二色調校正層用塗液，使乾燥固化後的膜厚為55nm，除此之外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-11)。
實施例1-12
除了使透明基材膜為作為環烯烴樹脂膜的日本ZEON株式會社生產的Zeonor膜(產品名稱：ZF14，膜厚：100μm，折射率為1.55)以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-12)。
實施例1-13
除了使透明基材膜為帝人化成株式會社生產的聚碳酸酯膜(產品名稱：PC-2151，膜厚：125μm，折射率為1.61)以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-13)。
將實施例1-1~1-13所製得的色調校正膜的性質表示在表3中。
實施例2-1
在上述色調校正膜(S-1)的第二色調校正層(1)上，使用銦：錫=10：1的ITO靶材進行濺射，從而形成膜厚為20nm的錫摻雜氧化銦層(ITO層)(1)，接著，在第二色調校正層(2)上，使用銦：錫=10：1的ITO靶材進行濺射，從而形成膜厚為20nm的錫摻雜氧化銦層(2)，在150℃下實施30分鐘退火處理，製成透明導電性膜。
實施例2-2
除了使色調校正膜為(S-2)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-3
除了使色調校正膜為(S-3)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-4
除了使色調校正膜為(S-4)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-5
除了使色調校正膜為(S-5)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-6
除了使色調校正膜為(S-6)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-7
除了使色調校正膜為(S-7)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透 明導電性膜。
實施例2-8
除了使色調校正膜為(S-8)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-9
除了使色調校正膜為(S-9)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-10
除了使色調校正膜為(S-10)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-11
除了使色調校正膜為(S-11)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-12
除了使錫摻雜氧化銦層(1)及錫摻雜氧化銦層(2)的膜厚為30nm，使退火處理的條件為150℃、60分鐘以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-13
除了使退火處理的條件為100℃、60分鐘以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-14
除了使色調校正膜為(S-12)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
實施例2-15
除了使色調校正膜為(S-13)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
對所得到的透明導電性膜，測定ITO層的折射率、透過色b*及全光線透過率。將其結果表示在表4中。此外，通過如下所示方法測定ITO層的折射率、透過色b*及全光線透過率。
折射率(ITO層)
(1)在相對於波長為400nm的光的折射率為1.72的PET膜(商品名稱“A4100”、東洋紡織株式會社生產)上，使用銦：錫=10：1的ITO靶材進行濺射，形成作為實際膜厚為20nm的透明導電層的錫摻雜氧化銦層(ITO層)，分別以下述實施例及比較例的條件實施退火，製作透明導電性膜。
(2)在上述透明導電性膜內面用砂紙打磨粗糙，全部塗上黑色塗料，使用反射分光膜厚計(“FE-3000”，大塚電子株式會社生產)，測定其反射光譜。
(3)根據由反射光譜讀取的反射率，利用上述公式(1)求出光波長為400nm時的折射率。
此外，表4中所記載的折射率，是由上述用於測定折射率的樣品求出的折射率。
透過色
使用色差計(“SQ-2000”，日本電色工業株式會社生產)，測定透明導電性膜的透過色b*。該b*是JIS Z 8729規定的L*a*b表色系統中的值。
全光線透過率
使用霧度儀(“NDH2000”，日本電色工業株式會社生產)，測定透明導電 性膜的全光線透過率(%)。
比較例1-1
在東麗(株)生產的PET膜(產品名稱：U-403，膜厚：125μm)上，使用棒塗布機塗布硬塗層用塗液(HC-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為2.5μm的硬塗層。接著，在硬塗層上，使用棒塗布機塗布第一色調校正層用塗液(C1-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為55nm的第一色調校正層，進一步地，在第一色調校正層上，使用棒塗布機塗布第二色調校正層用塗液(C2-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ的紫外線，使其固化，形成乾燥固化後的膜厚為30nm的第二色調校正層，製成色調校正膜。
接著，在色調校正膜的第二色調校正層上，使用銦：錫=10：1的ITO靶材進行濺射，從而形成作為透明導電層的錫摻雜氧化銦層，接著，在150℃下實施30分鐘退火處理，製成透明導電性膜。通過透明性黏接劑轉印帶(商品名：8146-2，住友3M(株)生產)，黏貼製得到的兩張透明導電性膜，並使PET膜之間相互面對，製成比較例1-1的透明導電性膜。對所得到的透明導電性膜，使用上述方法測定其ITO層的折射率、透過色b*及全光線透過率。將其結果表示在表5中。
比較例2-1
除了使第二色調校正層(1)乾燥固化後的膜厚為60nm以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-14)。
比較例2-2
除了使第二色調校正層(1)的第二色調校正層用塗液為C2-4以外，與實 施例1-1相同，製成色調校正膜(S-15)。
比較例2-3
除了使第二色調校正層(1)的第二色調校正層用塗液為C2-5以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-16)。
比較例2-4
除了使第一色調校正層(1)乾燥固化後的膜厚為20nm以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-17)。
比較例2-5
除了使第一色調校正層(1)乾燥固化後的膜厚為95nm以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-18)。
比較例2-6
除了使第一色調校正層(1)的第一色調校正層用塗液為C2-5以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-19)。
比較例2-7
除了使第一色調校正層(1)的第一色調校正層用塗液為C1-4以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S-20)。
將比較例2-1~2-7製得的色調校正膜的性質表示在表6中。
比較例3-1
除了使色調校正膜為(S-14)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
比較例3-2
除了使色調校正膜為(S-15)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
比較例3-3
除了使色調校正膜為(S-16)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
比較例3-4
除了使色調校正膜為(S-17)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
比較例3-5
除了使色調校正膜為(S-18)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
比較例3-6
除了使色調校正膜為(S-19)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
比較例3-7
除了使色調校正膜為(S-20)以外，使用與實施例2-1相同的方法，製成透明導電性膜。
比較例3-8
除了使ITO層的膜厚為70nm以外，與實施例2-1相同，製成透明導電性膜。對比較例3-1~3-8製得的透明導電性膜，使用上述方法測定其ITO層的折射率、透過色b*及全光線透過率。將其結果表示在表7中。
在實施例2-1~2-15中，由於將硬塗層、色調校正層、錫摻雜氧化銦層的折射率及膜厚設定在了本發明所規定的範圍內，因此透過色b*的值小，能夠充分抑制透明導電性膜的著色，並且能夠實現優異的全光線透過率。
另一方面，在比較例1-1中，由於使用了多餘的黏合層及透明基材膜，結果全光線透過率差。由於比較例3-1~3-8將色調校正層、錫摻雜氧化銦層的折射率及膜厚中的任意一種設定在了本發明所規定的範圍外，因此其結果為透過色b*的值大，透明導電性膜發生著色。

Claims (2)

  1. 一種電容式觸控面板用色調校正膜，該色調校正膜係為一透明基材膜的兩個面上層壓一硬塗層，並分別在兩個該硬塗層上依次層壓一第一色調校正層及一第二色調校正層，其中，兩個該硬塗層對於波長為400nm的光的折射率為1.51~1.61，膜厚為1~10μm；兩個該第一色調校正層含有金屬氧化物微粒和活性能量射線固化型樹脂，其對於波長為400nm的光的折射率為1.63~1.86，膜厚為25~90nm；以及兩個該第二色調校正層含有二氧化矽微粒和活性能量射線固化型樹脂，其對於波長為400nm的光的折射率為1.33~1.53，膜厚為10~55nm。
  2. 一種透明導電性膜，係在申請專利範圍第1項所述之電容式觸控面板用色調校正膜的兩個該第二色調校正層上，分別層壓一錫摻雜氧化銦層而形成的，其中，兩個該錫摻雜氧化銦層對於波長為400nm的光的折射率為1.85~2.35，膜厚為5~50nm。
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