CN104380149A - 色调校正膜及使用其的透明导电性膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种透明导电性膜用色调校正膜，所述色调校正膜能够抑制透过光的着色，全光线透过率高。所述色调校正膜在透明基材膜的两个面上层压硬涂层，并分别在所述两个硬涂层上依次层压第一色调校正层及第二色调校正层。所述两个硬涂层对于波长为400nm的光的折射率为1.51～1.61，膜厚为1～10μm；所述两个第一色调校正层由金属氧化物微粒和活性能量射线固化型树脂构成，其对于波长为400nm的光的折射率为1.63～1.86，所述两个第一色调校正层的膜厚为25～90nm；所述两个第二色调校正层由二氧化硅微粒和活性能量射线固化型树脂构成，所述两个第二色调校正层对于波长为400nm的光的折射率为1.33～1.53，所述两个第二色调校正层的膜厚为10～55nm。

Description

色调校正膜及使用其的透明导电性膜
技术领域
本发明涉及一种触控面板用色调校正膜，以及在所述色调校正膜的两面具备锡掺杂氧化铟层作为透明导电层的透明导电性膜。
背景技术
目前，触控面板作为能够通过直接触摸图像显示部来输入信息的器件，被广泛使用。通常的触控面板是将透过光的输入装置配置在液晶显示装置等显示器画面上的产品。作为触控面板的代表形式，有电容式触控面板，其利用了透明电极与手指间产生的电流容量的变化。
在所述电容式触控面板上，通常使用两张透明导电性膜作为透明电极。透明导电性膜是在透明基材膜上层压透明导电层而形成的，通过粘合层粘贴该一对透明导电性膜，使透明基材膜之间相互面对。作为触控面板用透明导电性膜，一般使用在透明基材膜上层压透明导电层而成的透明导电性膜，该透明导电层是由含有氧化锡的铟氧化物(锡掺杂氧化铟，ITO)或氧化锌等金属氧化物构成。这样的透明导电性膜，大多因来自金属氧化物层的反射及吸收，引起可见光短波长区域的透过率降低，从而使全光线透过率降低，同时可观察到呈现黄色。因此，具有难以准确显示配置在触控面板下的显示装置的显色的问题。
为了解决这个问题，已提出有将透明导电层与多层光学膜组合而成的透明导电性膜(参见日本特开2011-98563号公报)。日本特开2011-98563号公报中所记载的透明导电性膜，是从作为透明基材膜的聚酯膜的表面开始依次层压高折射率层、低折射率层及锡掺杂氧化铟层而构成的。高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化型粘合剂形成，高折射率层在光波长为400nm时的折射率为1.63～1.86，高折射率层的膜厚为40～90nm。低折射率层在光波长为400nm时的折射率为1.33～1.53，低折射率层的膜厚为10～50nm。锡掺杂氧化铟层在光波长为400nm时的折射率为1.85～2.35，锡掺杂氧化铟层的膜厚为5～50nm。该透明导电性膜通过所述特征，实现减少透过光着色的效果。但是，使用两张所述透明导电性膜作为电容式触控面板用透明电极的情况下，存在因用于粘结膜的粘合层及两张基材引起的光的吸收，导致全光线透过率下降的问题。
发明内容
因此，本发明的目的是提供一种透明导电性膜及用作其基膜的色调校正膜，该透明导电性膜能够抑制透过光的着色，且全光线透过率高。
在本公开的第一个方面，提供一种色调校正膜，其是在透明基材膜的两个面上层压硬涂层，分别在所述两个硬涂层上依次层压第一色调校正层及第二色调校正层，所述两个硬涂层对于波长为400nm的光的折射率为1.51～1.61，所述两个硬涂层的膜厚为1～10μm；所述两个第一色调校正层由金属氧化物微粒和活性能量射线固化型树脂构成，所述两个第一色调校正层对于波长为400nm的光的折射率为1.63～1.86，所述两个第一色调校正层的膜厚为25～90nm；所述两个第二色调校正层由二氧化硅微粒和活性能量射线固化型树脂构成，所述两个第二色调校正层对于波长为400nm的光的折射率为1.33～1.53，所述两个第二色调校正层的膜厚为10～55nm。
在本公开的第二个方面，提供一种透明导电性膜，其在第一发明的色调校正膜的所述两个第二色调校正层上，分别层压锡掺杂氧化铟层，其特征在于，所述两个锡掺杂氧化铟层对于波长为400nm的光的折射率为1.85～2.35，所述两个锡掺杂氧化铟层的膜厚为5～50nm。
由于本发明的色调校正膜是在一张透明基材膜的两个面上具有色调校正层，因此通过在一张色调校正膜的两个面上层压透明导电层，就能够形成触控面板用透明电极。现有一般的触控面板用透明电极，是使用粘合剂粘结两张透明导电性膜而构成的，该透明导电性膜是在透明基材膜的一个面上层压色调校正层及锡掺杂氧化铟层(透明导电层)而成的。另一方面，本公开通过将本发明的色调校正膜用于透明电极，能够减少用于粘结的粘合剂和一张透明基材膜。因此，能够抑制由于粘合剂或透明基材膜引起的透过光的吸收，提高全光线透过率。另外，由于本公开的透明导电性膜的结构是在上述色调校正膜的两个面上具备具有特定性质的锡掺杂氧化铟层，因此其与上述色调校正膜相同，能够提高全光线透过率，同时还能够抑制透过光的着色。
进一步地，本公开的透明导电性膜，设定第一色调校正层对于波长为400nm的光的折射率为1.63～1.86，第一色调校正层的膜厚为25～90nm；第二色调校正层对于波长为400nm的光的折射率为1.33～1.53，第二色调校正层的膜厚为10～55nm；锡掺杂氧化铟层对于波长为400nm的光的折射率为1.85～2.35，锡掺杂氧化铟层的膜厚为5～50nm。因此，通过适当设定第一色调校正层、第二色调校正层及锡掺杂氧化铟层的折射率及膜厚，能够抑制透过光的着色。此外，本发明中的膜厚是指物理膜厚，而不是光学膜厚。
接着，说明使用相对于波长为400nm的光的折射率的理由。折射率具有波长分散性，在短波长区域具有折射率变大的倾向。虽然通常在调整各层折射率时，大多使用钠的D线(光波长为589nm)的值，但是在如本发明的色调校正层及锡掺杂氧化铟层这样含有金属氧化物微粒的层中，折射率受波长分散的影响变大。由于在抑制黄色显色时，控制波长为400nm的透过率非常重要，因此在用波长为589nm的折射率来调整各层折射率的情况下，不能充分调整波长为400nm的透过率，无法得到充分降低黄色显色的效果。在本申请中，通过使用波长为400nm的折射率设计各层，使抑制透过光着色的效果最大化。
具体实施方式
(色调校正膜)
本实施方式的色调校正膜，其结构是在透明基材膜的两个面上分别依次层压硬涂层、第一色调校正层、第二色调校正层。即，色调校正膜的结构为从上开始依次层压第二色调校正层(1)、第一色调校正层(1)、硬涂层(1)、透明基材膜、硬涂层(2)、第一色调校正层(2)、第二色调校正层(2)。下面依次说明该色调校正膜的结构要素。
(透明基材膜)
透明基材膜可使用由聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、三乙酰纤维素树脂、降冰片烯类树脂或环烯烃树脂构成的膜。作为由聚酯树脂构成的膜，可列举东丽(東レ)株式会社生产的PET膜(Lumirror-U-403)；作为由聚碳酸酯树脂构成的膜，可列举帝人化成株式会社生产的聚碳酸酯膜(PC-2151)等。作为由三乙酰纤维素树脂构成的膜，可列举富士胶片株式会社生产的三乙酰纤维素膜(FUJITAC)等。作为由降冰片烯类树脂构成的膜，可列举JSR株式会社生产的ARTON(アートン)膜等。作为由环烯烃树脂构成的膜，可列举日本ZEON(ゼオン)株式会社生产的Zeonor(ゼオノア)膜(ZF14，ZF16)等。
透明基材膜的膜厚通常为25～400μm左右，优选为25～200μm左右。此外，由PET树脂形成透明基材膜的情况下，透明基材膜相对于波长为400nm的光的折射率为1.72。
(硬涂层)
为了提高表面硬度，在透明基材膜的两个面上设置有硬涂层。在将现有的透明导电性膜用作触控面板用透明电极的情况下，由于相互粘结的两张透明导电性膜分别具有透明基材膜，因此通过两张透明基材膜能够保证充分的强度。另一方面，本实施方式的色调校正膜为一张透明基材膜，通过在该色调校正膜的两面上层压透明导电层(锡掺杂氧化铟层)，形成作为透明电极的透明导电性膜。因此，本实施方式的色调校正膜乃至后述的透明导电性膜，通过将透明基材膜从现有的两张减少至一张，具有透明电极的强度下降的可能，但由于具有硬涂层，因此能够保持充分的强度。
作为硬涂层的材料，只要是一直以来可配置在触控面板表面上，用作各种光学膜的硬涂层的公知活性能量射线固化型树脂即可使用，没有特别限定。例如，可列举通过紫外线(UV)或电子束等活性能量射线使硬涂层用涂液固化而得的固化物，所述硬涂层用涂液由四乙氧基硅烷等反应性硅化合物与活性能量射线固化型树脂混合而成。作为活性能量射线固化型树脂，例如可列举单官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。其中，从兼顾生产率和硬度两方面考虑，优选固化物为含有铅笔硬度(评价方法：JIS-K5600-5-4)为H以上的活性能量射线固化型树脂的组合物。作为含有这样的活性能量射线固化型树脂的组合物，可以使用例如混合了两种以上公知的活性能量射线固化型树脂的组合物、市售的作为紫外线固化型硬涂层材料的组合物，或除此之外，使用在不损害本公开效果的范围内，进一步添加了其他成分的组合物。此外，“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。
另外，硬涂层还含有光聚合引发剂。光聚合引发剂用作通过紫外线(UV)等活性能量射线使硬涂层用涂液固化并形成涂膜时的聚合引发剂。作为光聚合引发剂，只要是通过活性能量射线照射可以引发聚合即可使用，没有特别的限定，可以使用公知的化合物。例如可列举1-羟基环己基苯酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉丙烷-1-酮、1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮等苯乙酮类聚合引发剂；安息香、2,2-二甲氧基1,2-二苯基乙烷-1-酮等安息香类聚合引发剂；二苯甲酮、[4-(甲基苯硫基)苯基]苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、3,3’，4,4’-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮等二苯甲酮类聚合引发剂；2-氯噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮等噻吨酮类聚合引发剂等。
在硬涂层中含有0.1～10重量份的光聚合引发剂。当光聚合引发剂的含量不足0.1重量份，则活性能量射线固化型树脂的固化不充分。另一方面，如果光聚合引发剂的含量超过10重量份，则光聚合引发剂不必要地增多，并不优选。
调整硬涂层相对于波长为400nm的光的折射率，使其为1.51～1.61。折射率不足1.51的情况下，由于透明基材膜与硬涂层之间的折射率差变大，产生干涉条纹，故不优选。折射率大于1.61的情况下，为了增大折射率，需要向硬涂层添加较多的高折射率材料，但会产生因高折射率材料引起的光的吸收及光的散射，硬涂层发生着色，并且全光线透过率降低，故不优选。另外，硬涂层干燥固化后的膜厚为1～10μm。膜厚比1μm更薄的情况下，由于铅笔硬度不足H，故不优选。膜厚比10μm更厚的情况下，在因固化收缩导致卷曲变强的同时，不必要地变厚，生产率和操作性降低，故不优选。
本实施方式的色调校正膜具有两个硬涂层，即硬涂层(1)及硬涂层(2)，但是这两个硬涂层的膜厚及折射率只要在上述范围内，相互之间既可以相同，也可以不同。
(第一色调校正层)
第一色调校正层是折射率比硬涂层及第二色调校正层更高的高折射率层。第一色调校正层由通过活性能量射线(例如紫外线、电子束)使第一色调校正层用涂液固化得到的固化物构成，所述第一色调校正层用涂液是将调整(积极地提高)第一色调校正层折射率的金属氧化物微粒与作为粘合剂的活性能量射线固化型树脂混合而成。作为金属氧化物微粒，优选氧化钛或氧化锆。氧化钛和氧化锆相对于波长为400nm的光的折射率因制备方法的不同而不同，但优选为1.9～3.0。另外，作为粘合剂使用的活性能量射线固化型树脂，相对于波长为400nm的光的折射率优选为1.4～1.7。作为活性能量射线固化型树脂，例如，可列举单官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。
进一步地，第一色调校正层还含有光聚合引发剂。关于该光聚合引发剂，可以同等程度地使用与硬涂层所使用的光聚合引发剂相同种类的引发剂。
通过适当选择金属氧化物微粒及活性能量射线固化型树脂，可使第一色调校正层相对于波长为400nm的光的折射率为1.63～1.86。进一步地，需要使第一色调校正层干燥固化后的膜厚为25～90nm。第一色调校正层的折射率不足1.63的情况下，JIS Z 8729规定的L*a*b表色系统中的透过色b*的值会变大，使得可明显识别出透明导电性膜的透过色显示黄色。另外，第一色调校正层的折射率大于1.86的情况下，由于涂膜中的粒子比例变大，雾度值上升，因此全光线透过率降低。如果第一色调校正层的膜厚在上述范围外，b*的值变大，使得明显识别出透明导电性膜的透过色显示黄色的着色。
本实施方式的色调校正膜具有两个第一色调校正层，即第一色调校正层(1)及第一色调校正层(2)，但是这两个第一色调校正层的膜厚及折射率，只要在上述范围内，相互之间既可以相同，也可以不同。
(第二色调校正层)
第二色调校正层是折射率比硬涂层及第一色调校正层更低的低折射率层。第二色调校正层是由通过活性能量射线(例如紫外线、电子束)使第二色调校正层用涂液固化得到的固化物构成，所述第二色调校正层用涂液是将调整(积极地降低)第二色调校正层折射率的二氧化硅微粒与作为粘合剂的活性能量射线固化型树脂混合而成。作为二氧化硅微粒，优选胶体二氧化硅或中空二氧化硅微粒。胶体二氧化硅及中空二氧化硅微粒相对于波长为400nm的光的折射率因制备方法的不同而不同，但优选为1.25～1.50。另外，用作粘合剂的活性能量射线固化型树脂，相对于波长为400nm的光的折射率优选为1.4～1.7。作为活性能量射线固化型树脂，例如，可列举单官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。
进一步地，第二色调校正层还含有光聚合引发剂。关于该光聚合引发剂，可以同等程度地使用与硬涂层中所用的光聚合引发剂相同种类的引发剂。
通过适当选择二氧化硅微粒及活性能量射线固化型树脂，可形成第二色调校正层并使其相对于波长为400nm的光的折射率为1.33～1.53。进一步地，需要使第二色调校正层干燥固化后的膜厚为10～55nm。第二色调校正层的折射率不足1.33的情况下，由于涂膜中的粒子比例变大，雾度值升高，因此全光线透过率降低。另外，第二色调校正层的折射率大于1.53的情况下，JIS Z 8729规定的L*a*b表色系统中的透过色b*的值就会变大，使得可明显识别出透明导电性膜的透过色显示黄色。如果第二色调校正层的膜厚在上述范围外，b*的值变大，使得明显识别出透明导电性膜的透过色显示黄色的着色。
本实施方式的色调校正膜具有两个第二色调校正层，即第二色调校正层(1)及第二色调校正层(2)。这两个第二色调校正层的膜厚及折射率，只要在上述范围内，相互之间既可以相同，也可以不同。
(硬涂层、第一色调校正层及第二色调校正层的形成)
硬涂层是在透明基材膜上涂布硬涂层用涂液后，通过照射活性能量射线进行固化而形成的。另一方面，第一色调校正层是在形成的硬涂层上涂布第一色调校正层用涂液后，通过照射活性能量射线使其固化而形成的。进一步地，第二色调校正层是在形成的第一色调校正层上涂布第二色调校正层用涂液后，通过照射活性能量射线使其固化而形成的。硬涂层用涂液、第一色调校正层用涂液、第二色调校正层用涂液的涂布方法没有特别限定，可以采用任何公知方法，例如辊涂法、旋转涂布法、浸涂法、喷雾涂布法、棒涂布法、刮刀涂布法、模具涂布法、喷涂法、凹版涂布法等。另外，活性能量射线的种类没有特别限定，但从便利性等观点考虑，优选使用紫外线。此外，为了提高硬涂层的贴附性，可以预先在透明基材膜表面上实施电晕放电处理等前处理。
(透明导电性膜)
透明导电性膜的结构是在色调校正膜的两个第二色调校正层上分别层压锡掺杂氧化铟层。即，透明导电性膜从上面依次具有锡掺杂氧化铟层(1)、第二色调校正层(1)、第一色调校正层(1)、硬涂层(1)、透明基材膜、硬涂层(2)、第一色调校正层(2)、第二色调校正层(2)、锡掺杂氧化铟层(2)。
透明导电性膜的透过光的着色可以用JIS Z 8729规定的Lab表色系统的b*进行评价，优选为-2≤b*≤2，更优选为-1≤b*≤1。在b*＞2的情况下，由于能观察到透明导电膜着色成黄色，故不优选。另一方面，在b*＜-2的情况下，由于能观察到透明导电膜着色成浅蓝色，故不优选。
透明导电性膜的全光线透过率优选为85％以上，更加优选为86％以上，全光线透过率不足85％的情况下，能见度变差，故不优选。
(锡掺杂氧化铟层(ITO层))
在两个第二色调校正层上分别层压的锡掺杂氧化铟层(ITO层)是透明导电层，优选其相对于波长为400nm的光的折射率比第二色调校正层的折射率大。具体地，相对于波长为400nm的光的折射率1.85～2.35。如果折射率在该范围外，由于与第一色调校正层及第二色调校正层2之间的光学干涉不能适当地发挥作用，因此透明导电性膜的透过色呈现着色，全光线透过率也降低。另外，使ITO层的膜厚为5～50nm。膜厚比5nm更薄的情况下，难以形成均匀的膜，得不到稳定的电阻，故不优选。另外，膜厚比50nm更厚的情况下，ITO层自身的光的吸收变强，降低透过色着色的效果变差，同时，具有全光线透过率变小的倾向，故不优选。
(锡掺杂氧化铟层的形成)
对锡掺杂氧化铟层的制膜方法并没有特别限定，例如可以采用蒸镀法、溅射法、离子电镀法、CVD(化学气相沉积)法。其中，从控制层厚度的观点考虑，特别优选蒸镀法及溅射法。此外，形成锡掺杂氧化铟层后，根据需要，在100℃～200℃的范围内实施退火处理，能够使其结晶化。具体地，如果在高温下结晶化，则锡掺杂氧化铟层的折射率显示出变小的倾向。因此，可以通过控制退火处理的温度和时间调整锡掺杂氧化铟层的折射率。
本实施方式的透明导电性膜具有两个锡掺杂氧化铟层，即锡掺杂氧化铟层(1)及锡掺杂氧化铟层(2)，但是这两个锡掺杂氧化铟层的膜厚及折射率，只要在上述范围内，相互之间既可以相同，也可以不同。
实施例
下面，列举实施例及比较例对本发明进行具体说明，但本发明并不限定于这些实施例的范围内。此外，各例中除ITO层之外的层的折射率用如下所示的方法测定。
(折射率(除ITO层之外的层))
(1)在相对于波长为400nm的光的折射率为1.72的PET膜(商品名“A4100”，东洋纺织株式会社制造)上，使用浸渍提拉镀膜机(杉山元理化学器械株式会社制造)，分别涂布各层用涂液，调整层厚，使其干燥固化后的膜厚为100～500nm左右。
(2)干燥后，在氮气氛下利用紫外线照射装置(岩崎电气株式会社生产)，使用120W高压水银灯，照射400mJ紫外线，进行固化。在固化后的PET膜内面用砂纸打磨粗糙，全部涂上黑色涂料，使用反射分光膜厚计(“FE-3000”，大塚电子株式会社生产)，测定其反射光谱。
(3)根据由反射光谱读取的反射率，求出如下所示的n元柯西(n-Cauchy)的波长分散式(公式1)的常数，计算光波长为400nm时的折射率。
N(λ)＝a/λ4+b/λ2+c(公式1)
(N：折射率，λ：波长，a、b、c：波长分散常数)
(硬涂层用涂液(HC-1)的配制)
混合96质量份的二季戊四醇六丙烯酸酯、4质量份的光聚合引发剂(商品名：IRGACURE184，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)(株)生产)及100质量份的异丁醇，配制硬涂层用涂液(HC-1)。使用硬涂层用涂液(HC-1)形成的硬涂层的折射率为1.52。
(硬涂层用涂液(HC-2)的配制)
混合96质量份的二季戊四醇六丙烯酸酯、5质量份的丙烯酸酯微粒(商品名：MA-150，综研化学(株)生产)、4质量份的光聚合引发剂(商品名：IRGACURE184，汽巴精化(株)生产)及100质量份的异丁醇，配制硬涂层用涂液(HC-2)。使用硬涂层用涂液(HC-2)形成的硬涂层的折射率为1.53。
(第一色调校正层用涂液的配制)
作为第一色调校正层用涂液，使用如下原料，以下述表1所记载的组成混合各原料，配制第一色调校正层用涂液C1-1～C1-4。此外，表示表1中各原料的混合比例的数值为重量份。
金属氧化物微粒：平均粒径为0.02μm的氧化锆微粒；
平均粒径为0.02μm的氧化钛微粒。
活性能量射线固化型树脂：六官能聚氨酯丙烯酸酯(日本合成化学工业(株)生产紫光UV-7600B)。
光聚合引发剂：汽巴精化(株)生产IRGACURE184(I-184)。
溶剂：甲基异丁基酮。
通过上述方法，测定使用制得的第一色调校正层用涂液C1-1～C1-4所形成的色调校正层的折射率。其结果表示在表1中。
(表1)
(第二色调校正层用涂液的配制)
作为第二色调校正层用涂液，使用下面的原料，以表2所记载的组成混合各原料，配制第二色调校正层用涂液C2-1～C2-5。表示表1中各原料的配合比例的数值为重量份。
二氧化硅微粒：日挥催化剂化成(株)生产的丙烯酰基改性中空二氧化硅微粒
suru-ria(スルーリア)NAU：日产化学(株)生产的XBA-ST。
金属氧化物微粒(比较例用)：平均粒径为0.02μm的氧化锆微粒。
活性能量射线固化型树脂：日本化药(株)生产的DPHA。
光聚合引发剂：汽巴精化(株)生产IRGACURE907(I-907)。
溶剂：异丙醇。
通过上述方法，测定使用制得的第二色调校正层用涂液C2-1～C2-5所形成的色调校正层的折射率。其结果表示在表2中。
(表2)
(实施例1-1)
在东丽(株)生产的PET膜(产品名称：U-403，膜厚：125μm，折射率1.72)的一个面上，使用棒涂布机涂布硬涂层用涂液(HC-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为2.5μm的硬涂层(1)。接着，在PET膜的另一面上，使用棒涂布机涂布硬涂层用涂液(HC-2)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为2.5μm的硬涂层(2)。
在上述硬涂层(1)上，使用棒涂布机涂布第一色调校正层用涂液(C1-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为55nm的第一色调校正层(1)。接着，在硬涂层(2)上，使用棒涂布机涂布第一色调校正层用涂液(C1-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为55nm的第一色调校正层(2)。
在上述第一色调校正层(1)上，使用棒涂布机涂布第二色调校正层用涂液(C2-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为30nm的第二色调校正层(1)。接着，在第一色调校正层(2)上，使用棒涂布机涂布第二色调校正层用涂液(C2-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为30nm的第二色调校正层(2)，制成色调校正膜(S-1)。
(实施例1-2)
除了使第二色调校正层(1)干燥固化后的膜厚为10nm以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-2)。
(实施例1-3)
除了使第二色调校正层(1)干燥固化后的膜厚为55nm以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-3)。
(实施例1-4)
除了使第二色调校正层(1)的第二色调校正层用涂液为C2-2以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-4)。
(实施例1-5)
除了使第二色调校正层(1)的第二色调校正层用涂液为C2-3以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-5)。
(实施例1-6)
除了使第一色调校正层(1)干燥固化后的膜厚为25nm以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-6)。
(实施例1-7)
除了使第一色调校正层(1)干燥固化后的膜厚为90nm以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-7)。
(实施例1-8)
除了使第一色调校正层(1)的第一色调校正层用涂液为C1-2以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-8)。
(实施例1-9)
除了使第一色调校正层(1)的第一色调校正层用涂液为C1-3以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-9)。
(实施例1-10)
除了使硬涂层(1)及硬涂层(2)的硬涂层用涂液为HC-3(商品名：ルシフラールNAB-2000，日本涂料(日本ペイント)(株)生产)以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-10)。此外，使用硬涂层用涂液(HC-3)形成的硬涂层的折射率为1.54。
(实施例1-11)
使用C1-2为第一色调校正层(1)的第一色调校正层用涂液，使干燥固化后的膜厚为25nm，使用C1-3为第一色调校正层(2)的第一色调校正层用涂液，使干燥固化后的膜厚为90nm。进一步地，使用C2-3为第二色调校正层(1)的第二色调校正层用涂液，使干燥固化后的膜厚为10nm，使用C2-2为第二色调校正层(2)的第二色调校正层用涂液，使干燥固化后的膜厚为55nm，除此之外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-11)。
(实施例1-12)
除了使透明基材膜为作为环烯烃树脂膜的日本ZEON株式会社生产的Zeonor膜(产品名称：ZF14，膜厚：100μm，折射率为1.55)以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-12)。
(实施例1-13)
除了使透明基材膜为帝人化成株式会社生产的聚碳酸酯膜(产品名称：PC-2151，膜厚：125μm，折射率为1.61)以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-13)。
将实施例1-1～1-13所制得的色调校正膜的性质表示在表3中。
(实施例2-1)
在上述色调校正膜(S-1)的第二色调校正层(1)上，使用铟:锡＝10:1的ITO靶材进行溅射，从而形成膜厚为20nm的锡掺杂氧化铟层(ITO层)(1)，接着，在第二色调校正层(2)上，使用铟:锡＝10:1的ITO靶材进行溅射，从而形成膜厚为20nm的锡掺杂氧化铟层(2)，在150℃下实施30分钟退火处理，制成透明导电性膜。
(实施例2-2)
除了使色调校正膜为(S-2)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-3)
除了使色调校正膜为(S-3)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-4)
除了使色调校正膜为(S-4)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-5)
除了使色调校正膜为(S-5)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-6)
除了使色调校正膜为(S-6)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-7)
除了使色调校正膜为(S-7)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-8)
除了使色调校正膜为(S-8)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-9)
除了使色调校正膜为(S-9)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-10)
除了使色调校正膜为(S-10)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-11)
除了使色调校正膜为(S-11)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-12)
除了使锡掺杂氧化铟层(1)及锡掺杂氧化铟层(2)的膜厚为30nm，使退火处理的条件为150℃、60分钟以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-13)
除了使退火处理的条件为100℃、60分钟以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-14)
除了使色调校正膜为(S-12)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(实施例2-15)
除了使色调校正膜为(S-13)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
对所得到的透明导电性膜，测定ITO层的折射率、透过色b*及全光线透过率。将其结果表示在表4中。此外，通过如下所示方法测定ITO层的折射率、透过色b*及全光线透过率。
(折射率(ITO层))
(1)在相对于波长为400nm的光的折射率为1.72的PET膜(商品名称“A4100”、东洋纺织株式会社生产)上，使用铟:锡＝10:1的ITO靶材进行溅射，形成作为实际膜厚为20nm的透明导电层的锡掺杂氧化铟层(ITO层)，分别以下述实施例及比较例的条件实施退火，制作透明导电性膜。
(2)在上述透明导电性膜内面用砂纸打磨粗糙，全部涂上黑色涂料，使用反射分光膜厚计(“FE-3000”，大塚电子株式会社生产)，测定其反射光谱。
(3)根据由反射光谱读取的反射率，利用上述公式(1)求出光波长为400nm时的折射率。
此外，表4中所记载的折射率，是由上述用于测定折射率的样品求出的折射率。
(透过色)
使用色差计(“SQ-2000”，日本电色工业株式会社生产)，测定透明导电性膜的透过色b*。该b*是JIS Z 8729规定的L*a*b表色系统中的值。
(全光线透过率)
使用雾度仪(“NDH2000”，日本电色工业株式会社生产)，测定透明导电性膜的全光线透过率(％)。
(比较例1-1)
在东丽(株)生产的PET膜(产品名称：U-403，膜厚：125μm)上，使用棒涂布机涂布硬涂层用涂液(HC-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为2.5μm的硬涂层。接着，在硬涂层上，使用棒涂布机涂布第一色调校正层用涂液(C1-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为55nm的第一色调校正层，进一步地，在第一色调校正层上，使用棒涂布机涂布第二色调校正层用涂液(C2-1)，利用120W高压水银灯照射400mJ的紫外线，使其固化，形成干燥固化后的膜厚为30nm的第二色调校正层，制成色调校正膜。
接着，在色调校正膜的第二色调校正层上，使用铟:锡＝10:1的ITO靶材进行溅射，从而形成作为透明导电层的锡掺杂氧化铟层，接着，在150℃下实施30分钟退火处理，制成透明导电性膜。通过透明性粘接剂转印带(商品名：8146-2，住友3M(株)生产)，粘贴制得到的两张透明导电性膜，并使PET膜之间相互面对，制成比较例1-1的透明导电性膜。对所得到的透明导电性膜，使用上述方法测定其ITO层的折射率、透过色b*及全光线透过率。将其结果表示在表5中。
(表5)
(比较例2-1)
除了使第二色调校正层(1)干燥固化后的膜厚为60nm以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-14)。
(比较例2-2)
除了使第二色调校正层(1)的第二色调校正层用涂液为C2-4以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-15)。
(比较例2-3)
除了使第二色调校正层(1)的第二色调校正层用涂液为C2-5以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-16)。
(比较例2-4)
除了使第一色调校正层(1)干燥固化后的膜厚为20nm以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-17)。
(比较例2-5)
除了使第一色调校正层(1)干燥固化后的膜厚为95nm以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-18)。
(比较例2-6)
除了使第一色调校正层(1)的第一色调校正层用涂液为C2-5以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-19)。
(比较例2-7)
除了使第一色调校正层(1)的第一色调校正层用涂液为C1-4以外，与实施例1-1相同，制成色调校正膜(S-20)。
将比较例2-1～2-7制得的色调校正膜的性质表示在表6中。
(比较例3-1)
除了使色调校正膜为(S-14)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(比较例3-2)
除了使色调校正膜为(S-15)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(比较例3-3)
除了使色调校正膜为(S-16)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(比较例3-4)
除了使色调校正膜为(S-17)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(比较例3-5)
除了使色调校正膜为(S-18)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(比较例3-6)
除了使色调校正膜为(S-19)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(比较例3-7)
除了使色调校正膜为(S-20)以外，使用与实施例2-1相同的方法，制成透明导电性膜。
(比较例3-8)
除了使ITO层(2)的膜厚为70nm以外，与实施例2-1相同，制成透明导电性膜。
对比较例3-1～3-8制得的透明导电性膜，使用上述方法测定其ITO层的折射率、透过色b*及全光线透过率。将其结果表示在表7中。
(表7)
在实施例2-1～2-15中，由于将硬涂层、色调校正层、锡掺杂氧化铟层的折射率及膜厚设定在了本发明所规定的范围内，因此透过色b*的值小，能够充分抑制透明导电性膜的着色，并且能够实现优异的全光线透过率。
另一方面，在比较例1-1中，由于使用了多余的粘合层及透明基材膜，结果全光线透过率差。由于比较例3-1～3-8将色调校正层、锡掺杂氧化铟层的折射率及膜厚中的任意一种设定在了本公开所规定的范围外，因此其结果为透过色b*的值大，透明导电性膜发生着色。

Claims (2)

1.一种色调校正膜，其是在透明基材膜的两个面上层压硬涂层，并分别在所述两个硬涂层上依次层压第一色调校正层及第二色调校正层，其特征在于，
所述两个硬涂层对于波长为400nm的光的折射率为1.51～1.61，所述两个硬涂层的膜厚为1～10μm；
所述两个第一色调校正层含有金属氧化物微粒和活性能量射线固化型树脂，所述两个第一色调校正层对于波长为400nm的光的折射率为1.63～1.86，所述两个第一色调校正层的膜厚为25～90nm；
所述两个第二色调校正层含有二氧化硅微粒和活性能量射线固化型树脂，所述两个第二色调校正层对于波长为400nm的光的折射率为1.33～1.53，所述两个第二色调校正层的膜厚为10～55nm。
2.一种透明导电性膜，其是在权利要求1所述的色调校正膜的所述两个第二色调校正层上，分别层压锡掺杂氧化铟层而形成的，其特征在于，所述两个锡掺杂氧化铟层对于波长为400nm的光的折射率为1.85～2.35，所述两个锡掺杂氧化铟层的膜厚为5～50nm。
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