CN102753998B - 提高透射率的膜 - Google Patents

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Abstract

一种提高透射率的膜，其在透明基材膜的表面直接层叠比该透明基材膜的折射率低的低折射率层。低折射率层由中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂以及氧化铝微粒构成。这些成分总含量为100wt％，其中，中空二氧化硅微粒占28.0～69.0wt％；不含氟原子的活性能量射线固化型树脂占27.0～69.0wt％；光聚合引发剂占1.0～9.0wt％；氧化铝微粒占0.1～0.9wt％。在透明基材膜的背面还可以层叠保护涂层。

Description

提高透射率的膜
技术领域
本发明涉及一种提高透射率的膜，所述提高透射率的膜应用于例如构成触摸屏的定位装置(位置入力装置)的背面等。 
背景技术
根据画面上的操作说明进行输入操作的触摸屏，由于其直观、易理解且操作简单，因此得到广泛普及。这种触摸屏具备显示和输入两种功能，其结构通常是将液晶面板之类的显示装置与触摸板之类的定位装置组合而成。但是，由于定位装置介于使用者与显示装置之间，因此存在触摸屏的全光线透射率低、可视性差的问题。为此，通常采用在定位装置的背面通过双面胶贴合提高透射率的膜，提高可视性的方法。 
以往，在这种提高透射率的膜上层叠有防反射层，但为了提高全光线透射率，该防反射层通常为层叠有多层高折射率层和低折射率层的多层结构。但是，如果使用折射率低的材料，则即使仅为低折射率层的单层结构，也能够抑制反射。 
在专利文献1中，作为单层结构的防反射膜是在透明基材膜的表面通过易粘接层层叠低折射率层而构成。已知的防反射膜，所述易粘接层的折射率为1.50～1.65，厚度为1～50nm，且低折射率层的折射率为1.20～1.50。 
现有技术文献 
专利文献 
专利文献1：日本专利公开号2010-170089 
发明内容
本发明要解决的技术问题 
在专利文献1的方法中，全光线透射率得到满足，但由于是通过易粘接层形成低折射率层，因此存在由易粘接层导致的外观上一致性差的问题。该防反射膜设想在触摸屏的最外表面上使用。因此，为了获得防污性能，还推荐使用含氟原子的活性能量射线固化型树脂作为低折射层材料。但是，在使用含氟原子的活性能量射线固化型树脂的情况下，由氟原子导致防反射膜表面的表面能降低。那么，会出现与双面胶的粘着力变差的问题。进而，专利文献1的方法中，没有实施任何针对耐擦伤性的措施，存在耐擦伤性差的问题。此外，在与透明基材膜的低折射率层相反侧的面上没有实施任何处理。因此，在将该提高透射率的膜组装到定位装置时或组装到定位装置后，在其与显示装置接合时有加热处理工序的情况下，存在加热处理后，提高透射率的膜的雾度(haze)升高的问题。 
因此，本发明的目的在于提供一种与双面胶的粘着性、全光线透射率以及耐擦伤性优异，且抑制外观上的反射不一致的提高透射率的膜。 
解决技术问题的技术手段 
作为解决上述问题的技术手段，在透明基材膜的表面直接层叠比该透明基材膜的折射率低的低折射率层。该低折射率层由中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂以及氧化铝微粒构成。该中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂以及氧化铝微粒总计为100wt％，其中，所述中空二氧化硅微粒占28.0～69.0wt％、所述不含氟原子的活性能量射线固化型树脂占27.0～69.0wt％、所述光聚合引发剂占1.0～9.0wt％、所述氧化铝微粒占0.1～0.9wt％。即，低折射率层不含有由积极表现防污性能等的氟树脂或硅树脂构成的表面调节剂。 
优选在所述透明基材膜的背面层叠保护涂层(over coat)。该保护涂层由不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、二氧化硅微粒以及光聚合引发剂构成。并且，这里的二氧化硅微粒是指实心(非中空)二 氧化硅微粒和中空二氧化硅微粒两者。该不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、二氧化硅微粒以及光聚合引发剂的总计为100wt％，其中，所述不含氟原子的活性能量射线固化型树脂占85.0～95.0wt％、所述二氧化硅微粒占1.0～10.0wt％、所述光聚合引发剂占1.0～9.0wt％。即，保护涂层不含有由积极表现防污性能等的氟树脂或硅树脂构成的表面调节剂。进而，所述保护涂层的光学膜厚为kλ/4(其中，λ为光波长400～700nm，k为1、3或5)。 
发明效果 
若在透明基材膜的表面直接层叠有低折射率层，则提高透射率的膜的全光线透射率优异，甚至具有该提高透射率的膜的触摸屏等的全光线透射率也优异，且能够抑制外观上的反射不一致。另外，所述低折射率层是由中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂以及氧化铝微粒构成，因此与双面胶的粘着性及耐擦伤性优异。 
若在透明基材膜的背面形成保护涂层，则加热处理后提高透射率的膜的雾度不会升高。进而，若保护涂层的光学膜厚为kλ/4(其中，λ为光波长400～700nm，k为1、3或5)，则在上述效果的基础上，全光线透射率也优异。 
具体实施方式
下面，对本发明的具体实施方式进行详细说明。提高透射率的膜是在透明基材膜上直接层叠低折射率层。进而，还可以在提高透射率的膜的背面层叠保护涂层。 
[透明基材膜] 
透明基材膜构成提高透射率的膜的基材(基体材料)。作为透明基材膜，使用透明树脂膜等，层叠有低折射率层的面除了没有易粘接层外没有特别限制。这是由于若在低折射率层和透明基材膜之间形成易粘接层，则会出现外观上的不一致。为了抑制光的反射，透明基材 膜的折射率(n)优选为1.55～1.70。作为透明基材膜的具体材料，例如可例举聚(甲基)丙烯酸系树脂、三乙酸纤维素(TAC、n＝1.49)系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET、n＝1.65)系树脂、聚碳酸酯(PC、n＝1.59)系树脂、聚芳酯(PAR、n＝1.60)及聚醚砜(PES、n＝1.65)等。其中，从通用性等观点来看，优选为三乙酸纤维素系树脂或聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂。透明基材膜的厚度，通常为10～500μm，优选为25～200μm。并且，在本说明书中，所谓的“(甲基)丙烯酸系树脂”是指丙烯酸系树脂或甲基丙烯酸系树脂。后述的“(甲基)丙烯酸”、“(甲基)丙烯酰基”等也与此相同。 
[低折射率层] 
低折射率层是作为防反射层的功能层。低折射率层由中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂以及氧化铝微粒构成，将这些组分混合制成低折射率层涂液，使低折射率层涂液在紫外线(UV)下固化，从而形成低折射率层。上述各组合物的配比，以中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂及氧化铝微粒的总计为100wt％计，其中含28.0～69.0wt％的中空二氧化硅微粒、27.0～69.0wt％的不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、1.0～9.0wt％的光聚合引发剂、0.1～0.9wt％的氧化铝微粒，不含有其他成分。因此，不含有由积极表现防污性能等的氟树脂或硅树脂构成的表面调节剂。若含有其他成分，则与双面胶的粘着力减弱。但是，从涂布性的角度来看，低折射率层涂液中通常含有稀释溶剂。 
根据中空二氧化硅微粒的折射率与不含氟原子的活性能量射线固化型树脂的折射率之间的相对关系，低折射率层的折射率优选调整到1.35～1.47。干燥固化后的膜厚优选为50～130nm、更优选为80～125nm。折射率与膜厚在该范围外时，5°正反射下的可视范围内的反射率在作为最低值的最小反射率波长450～650nm的范围外，无 法见到全光线透射率的提高。 
用于低折射率层的中空二氧化硅微粒的折射率优选为1.2～1.4。另一方面，作为不含氟原子的活性能量射线固化型树脂，其折射率优选为1.3～1.7。中空二氧化硅微粒的折射率大于1.4时，不含氟原子的活性能量射线固化型树脂的混合量相对减少，涂膜强度减弱。即，可看出耐擦伤性变差的倾向。此外，中空二氧化硅微粒的折射率小于1.2时，中空二氧化硅的强度减弱，可看出耐擦伤性变差的倾向。 
中空二氧化硅微粒的掺合量为28.0～69.0wt％。小于28.0wt％时，由于低折射率层的折射率变为1.47以上，因此不适合。另一方面，大于69.0wt％时，不含氟原子的活性能量射线固化型树脂的量减少，作为涂膜的强度减弱，因此不优选。 
此外，中空二氧化硅微粒的平均粒径优选不显著超过低折射率层的厚度。具体地说，中空二氧化硅微粒的平均粒径优选在0.1μm以下。当中空二氧化硅微粒的平均粒径显著超过低折射率层的厚度时，会发生光的散射等，存在低折射率层的光学性能降低的倾向。并且，在本说明书中，所谓的“平均粒径”是通过下述方法求得的值，使用粒径分布测定仪(大冢电子，PAR-III)，通过采用激光的动态光散射法测定平均粒径。 
用于低折射率层的中空二氧化硅微粒还可以用例如日本专利特开2006-21938号公报所公开的、制备在外壳内部具有空洞的中空球状二氧化硅系微粒的方法进行合成。即，二氧化硅系微粒经下述步骤(a)、(b)、(d)及(e)制得。 
步骤(a)：将硅酸盐水溶液或酸性硅酸溶液，与可溶于碱的无机化合物水溶液按规定比例添加到碱水溶液中，配制成复合氧化物微粒分散液，并在此时添加电解质盐。 
步骤(b)：在所述复合氧化物微粒分散液中加入酸，制成二氧化硅系微粒分散液。 
步骤(d)：将所述二氧化硅系微粒分散液在常温～300℃的范围内陈化。 
步骤(e)：在50～300℃范围内进行水热处理。 
进而，中空二氧化硅微粒，优选通过具有(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂等修饰表面。通过用具有(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂等修饰中空二氧化硅微粒表面，从而与不含氟原子的活性能量射线固化型树脂产生共价键，可看出涂膜强度增强的倾向。 
作为低折射率层中所使用的不含氟原子的活性能量射线固化型树脂，使用不含以降低折射率为目的的氟原子的活性能量射线固化型树脂。若含有氟原子，则会出现由氟原子导致的提高透射率的膜表面的表面能降低，与双面胶的粘着力变差。作为这种活性能量射线固化型树脂，可从单官能单体、多官能单体中选择使用一种或两种以上。作为单官能单体，具体优选(甲基)丙烯酸烷基酯、含(甲基)丙烯酸(聚)乙二醇基的(甲基)丙烯酸酯等。作为多官能单体，可例举有多元醇与(甲基)丙烯酸的酯化合物、氨基甲酸酯改性丙烯酸酯等的含两个以上(甲基)丙烯酰基的多官能聚合性化合物等。 
不含氟原子的活性能量射线固化型树脂的掺合量为27.0～69.0wt％。在小于27.0wt％时，有涂膜强度减弱的倾向，不优选。另一方面，在大于69.0wt％时，由于低折射率层的折射率变为1.47以上，因此不适合。 
在低折射率层中所使用的氧化铝微粒是以提高耐擦伤性为目的而使用的。氧化铝微粒的平均粒径优选不显著超过低折射率层的厚度。具体地说，氧化铝微粒的平均粒径优选在0.1μm以下。若氧化铝微粒的平均粒径显著超过低折射率层的厚度，则会发生光的散射等，存在低折射率层的光学性能降低的倾向。 
氧化铝微粒的掺合量为0.1～0.9wt％。若小于0.1wt％，则不会赋予耐擦伤性提高的效果。另一方面，在大于0.9wt％时，会出现由不含氟原子的活性能量射线固化型树脂与氧化铝微粒之间的折射率差导致的散射，存在低折射率层的光学性能降低的倾向。
在低折射率层中所使用的光聚合引发剂用来使低折射率层涂液在紫外线(UV)下固化。光聚合引发剂的掺合量为1.0～9.0wt％。若小于1.0wt％，则固化不充分。另一方面，在大于9.0wt％时，增加了不需要的量，存在低折射率层的光学性能降低的倾向。作为这种光聚合引发剂，例如可使用1-羟基-环己基-苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉丙烷-1-酮等。 
[保护涂层] 
保护涂层由不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、二氧化硅微粒及光聚合引发剂构成。将这些组分混合成保护涂层涂液，使其在紫外线(UV)下固化形成保护涂层。上述各组合物的配比量，以不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、二氧化硅微粒及光聚合引发剂的总计为100wt％计，其中，不含氟原子的活性能量射线固化型树脂为85.0～95.0wt％、二氧化硅微粒为1.0～10.0wt％、光聚合引发剂为1.0～9.0wt％，不含有其他成分。因此，不含有由积极表现防污性能等的氟树脂或硅树脂构成的表面调节剂。若含有其他成分，则用具有粘着剂的双面胶粘贴了定位装置和提高透射率的膜的情况下，与双面胶的粘着力减弱，可能发生定位装置的剥离。但是，从涂布性角度来看，在保护涂层涂液中通常含有稀释溶剂。 
干燥固化后的保护涂层光学膜厚为kλ/4(其中，λ为光波长400～700nm，k为1、3或5)，折射率为1.3～1.7。当膜厚和折射率在该范围外时，5°正反射下的可视范围内的反射率在作为最低值的最小反射率波长450～650nm的范围外，无法见到全光线透射率的提高。此外，在保护涂层的光学膜厚比1λ/4薄的情况下，在将该提高透射率的膜组装到定位装置等时或组装到定位装置后，在其与显示装置接合时有加热处理工序的情况下，加热处理后，提高透射率的膜的雾度 会升高。另一方面，在比5λ/4厚的情况下，仅仅增加了不需要的厚度，因此不优选。 
并且，在将提高透射率的膜组装到定位装置等时或组装到定位装置后，在其与显示装置接合时进行加热处理的情况下，可以在50～150℃程度进行1～60分钟程度。加热处理前后的雾度之差(加热处理后的雾度)-(加热处理前的雾度)优选小于0.5％。 
作为在保护涂层中所使用的不含氟原子的活性能量射线固化型树脂使用不含以降低折射率为目的的氟原子的活性能量射线固化型树脂。若含有氟原子，则会出现由氟原子导致的提高透射率的膜表面的表面能降低，与双面胶的粘着性变差。作为这种活性能量射线固化型树脂，可从单官能单体、多官能单体中选择使用一种或两种以上。作为单官能单体，具体优选为(甲基)丙烯酸烷基酯、含(甲基)丙烯酸(聚)乙二醇基的(甲基)丙烯酸酯等。作为多官能单体，可例举有多元醇与(甲基)丙烯酸的酯化合物、氨基甲酸酯改性丙烯酸酯等的含两个以上(甲基)丙烯酰基的多官能聚合性化合物等。 
不含氟原子的活性能量射线固化型树脂的掺合量为85.0～95.0wt％。在小于85.0wt％时，二氧化硅微粒的掺合量增多，会发生光的散射等，存在光学性能降低的倾向。在大于95.0wt％时，在用卷到卷制程(Roll to Roll)制备提高透射率的膜的情况下，会发生堵塞，不优选。 
在保护涂层中，为了防止在用卷到卷制程制备提高透射率的膜时的阻塞，可以添加二氧化硅微粒。即，这里的二氧化硅微粒并不是为了积极降低保护涂层的折射率。因此，在保护涂层中所使用的二氧化硅微粒也可以比在低折射率层中使用的二氧化硅微粒的折射率还高。具体地说，除中空二氧化硅微粒外，还可以使用比其折射率高的实心二氧化硅微粒。中空二氧化硅微粒的折射率为1.2～1.4，与此不同，实心二氧化硅微粒的折射率为1.4～1.5。二氧化硅微粒的折射率大于 1.5时，会出现由不含氟原子的活性能量射线固化型树脂与二氧化硅微粒的折射率差导致的光散射，存在光学性能降低的倾向。二氧化硅微粒的折射率小于1.2时，中空二氧化硅微粒的强度减弱，可见到耐擦伤性变差的倾向，但由于保护涂层中所使用的二氧化硅微粒的掺合量少，因此对耐擦伤性恶化的影响小。因此，即使二氧化硅微粒的折射率在1.2以下，在技术上也没有问题。 
二氧化硅微粒的掺合量为1.0～10.0wt％。在小于1.0wt％时，在用卷到卷制程制备提高透射率的膜的情况下，会发生堵塞，不优选。另一方面，在大于10.0wt％时，会出现由不含氟原子的活性能量射线固化型树脂与二氧化硅微粒的折射率差导致的光散射，存在光学性能降低的倾向。 
在保护涂层中所使用的光聚合引发剂用来使保护涂层涂液在紫外线(UV)下固化。光聚合引发剂的掺合量为1.0～9.0wt％。若小于1.0wt％，则固化不充分。另一方面，在大于9.0wt％时，增加了不必要的量，存在保护涂层的光学性能降低的倾向。作为这种光聚合引发剂，例如可使用1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉丙烷-1-酮等。 
低折射率层涂液或保护涂层涂液的涂布方法没有特别限制，通常进行的涂布方法，例如辊涂布法、旋转涂布法、浸渍涂布法、喷涂法、棒式涂布法(bar-coating)、刮刀涂布法、模具式涂布法(die coating)、喷墨法、凹版涂布法(gravure coating)等公知的任意方法均可以使用。在涂布时，为了提高贴附性，可以事先在透明基材膜表面实施电晕放电处理等前处理。 
作为用于照射活性能量射线的活性能量射线源，例如可使用高压水银灯、卤素灯、氙灯、氮分子激光器、电子束加速器、放射性元素等射线源等。这种情况下，活性能量射线的照射量，以紫外线波长365nm下的累积光量计优选为50～5000mJ/cm2。照射量小于50mJ/cm2 时，涂液的固化不充分，因此不优选。另一方面，当超过5000mJ/cm2时，活性能量射线固化型树脂显示出着色的倾向，因此不优选。 
制得的提高透射率的膜应用于在静电容量式触摸屏或电阻膜式触摸屏等触摸屏中的例如构成触摸屏的定位装置的背面等。 
实施例 
下面，列举制备例、实施例及比较例对本发明的具体实施方式进一步进行具体说明。这里，各实施例及比较例的提高透射率的膜是在透明基材膜上直接层叠低折射率层，进而在提高透射率的膜的背面层叠保护涂层而构成的。此外，对于在各实例中的粘着力、全光线透射率、耐擦伤性、反射不一致、加热处理后的雾度上升，通过下述所示的方法进行了测定。 
<粘着力> 
(1)将提高透射率的膜的低折射率层面粘贴到日东电工(株)生产的双面胶No.500上。 
(2)按照JIS Z0237，使用台式材料试验机株式会社ORIENTEC(オリエンテツク)生产的STA-1150，在剥离角度90°下测定低折射率层面与双面胶间的粘着力。 
<雾度值、全光线透射率> 
使用雾度计日本电色工业(株)生产的NDH2000，测定雾度值、全光线透射率。 
<耐擦伤性> 
将#0000的钢丝绒固定到(株)本光制作所生产的橡胶磨损试验机的前端，施加2.5N(255gf)的负重，对作为待擦伤体的膜的表面进行10次往复摩擦，然后目测观察表面的伤痕，按下述三级进行评价。 
○：几乎没有伤痕(伤痕在4条以下) 
△：有少量伤痕(伤痕5～15条) 
×：有多条伤痕(伤痕16条以上) 
<反射不一致> 
在三波长光源下，在制得的防反射膜的背面粘贴施加有黑色粘贴层的膜，用目观察，按下述三级进行评价。 
○：几乎没有不一致 
△：有弱的不一致 
×：有强的不一致 
<加热处理后的雾度升高> 
对提高透射率的膜实施150℃、60分钟的加热处理。评价加热处理前后的雾度差，即(加热处理后的雾度)-(加热处理前的雾度)。 
[配制低折射率层涂液] 
使用下述原料作为低折射率层涂液，将各原料按照表1、2所述的组成进行混合，配制成低折射率层涂液L-1～L-13。并且，表1、2中的数值以wt％计。 
中空二氧化硅微粒： 
日挥催化剂化成(株)生产丙烯酰基修饰中空二氧化硅微粒スル一リアNAU 
日挥催化剂化成(株)生产丙烯酰基修饰中空二氧化硅微粒V8208 
不含氟原子的活性能量射线固化型树脂：日本化药(株)生产DPHA 
光聚合引发剂：汽巴特种化学(株)生产I-907 
氧化铝微粒： 
毕克化学日本(株)生产NANOBYK-3601 
毕克化学日本(株)生产NANOBYK-3602 
毕克化学日本(株)生产NANOBYK-3610 
溶剂：异丙醇 
表1 
表2 
[配制保护涂层涂液] 
使用如下原料作为保护涂层涂液，将各原料按表3所示的组成进行混合，配制保护涂层涂液O-1～O-7。并且，表3中的数值以wt％计。 
不含氟原子的活性能量射线固化型树脂：日本化药(株)生产DPHA 
二氧化硅微粒： 
日挥催化剂化成(株)生产丙烯酸修饰中空二氧化硅微粒V8208 
日挥催化剂化成(株)生产丙烯酸修饰中空二氧化硅微粒スル一リアNAU 
光聚合引发剂：汽巴特种化学(株)生产I-907 
溶剂：异丙醇 
表3 
实施例1-1 
用辊涂布法直接在作为透明基材膜的50μm厚聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜上涂布低折射率层涂液(L-1)，使其固化后的膜厚为100nm，干燥后，通过120W高压水银灯(日本电池(株)生产)照射紫外线(累积光量400mJ/cm2)使其固化，制得提高透射率的膜。 
实施例1-2 
除低折射率层涂液为L-2，固化后的膜厚为125nm外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例1-3 
除低折射率层涂液为L-3，固化后的膜厚为80nm外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例1-4 
除低折射率层涂液为L-4外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例1-5 
除低折射率层涂液为L-5外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例1-6 
除低折射率层涂液为L-6外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例1-7 
除低折射率层涂液为L-7外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例1-1 
除低折射率层涂液为L-8外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例1-2 
除低折射率层涂液为L-9外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例1-3 
除低折射率层涂液为L-10外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例1-4 
除低折射率层涂液为L-11外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例1-5 
除低折射率层涂液为L-12外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例1-6 
除低折射率层涂液为L-13外，与实施例1-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例2-1 
用辊涂布法在实施例1-1制得的提高透射率的膜的背面涂布保护涂层涂液(O-1)，使固化后的光学膜厚为kλ/4(k：1，λ：550nm)＝138nm，干燥后，通过120W高压水银灯(日本电池(株)生产)照射紫外线(累积光量400mJ/cm2)使其固化，制得提高透射率的膜。 
实施例2-2 
除保护涂层涂液为O-2，保护涂层的膜厚为kλ/4(k：3，λ：550nm)＝412nm外，与实施例2-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例2-3 
除保护涂层涂液为O-3，保护涂层的膜厚为kλ/4(k：5，λ：550nm)＝688nm外，与实施例2-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例2-4 
除保护涂层涂液为O-4外，与实施例2-1相同，制得提高透射率的膜。 
实施例2-5 
除保护涂层涂液为O-5外，与实施例2-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例2-1 
除保护涂层涂液为O-6外，与实施例2-1相同，制得提高透射率的膜。 
比较例2-2 
除保护涂层涂液为O-7外，与实施例2-1相同，制得提高透射率的膜。 
各实施例的各试验结果如表4～6所示。 
表4 
表5 
表6 
从表3、表4所示的结果可以看出，实施例1-1～7的提高透射率的膜，其与双面胶的粘着性、全光线透射率、耐擦伤性均优异，在此基础上，还能够实现没有外观上的反射不一致。此外，实施例2-1～5的提高透射率的膜，由于在提高透射率的膜背面形成有规定光学膜厚的保护涂层，因此全光线透射率更优异，还能够实现加热处理后雾度不升高。 
另一方面，比较例1-1，其中空二氧化硅微粒的掺合量少，全光线透射率差。比较例1-2，其中空二氧化硅微粒的掺合量多，结果耐擦伤性(表面)差。比较例1-3，由于其不掺合氧化铝微粒，结果耐擦伤性(表面)差。比较例1-4，其氧化铝微粒的掺合量多，结果全光线透射率差。比较例1-5，由于其不掺合光聚合引发剂，结果耐擦伤性(表面)差。比较例1-6，其光聚合引发剂的掺合量多，结果全光线透射率差。 
比较例2-1，由于其没有掺合二氧化硅微粒，结果阻塞性差。比较例2-2，由于其没有掺合光聚合引发剂，结果耐擦伤性(背面)差。 

Claims (7)

1.一种提高透射率的膜，其在透明基材膜的表面直接层叠比该透明基材膜的折射率低的低折射率层；
所述低折射率层由中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂以及氧化铝微粒构成；
该中空二氧化硅微粒、不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、光聚合引发剂以及氧化铝微粒总计为100wt％；其中，
所述中空二氧化硅微粒占28.0～69.0wt％；所述不含氟原子的活性能量射线固化型树脂占27.0～69.0wt％；所述光聚合引发剂占1.0～9.0wt％；所述氧化铝微粒占0.1～0.9wt％。
2.如权利要求1所述的提高透射率的膜，其特征是，所述透明基材膜的折射率为1.55～1.70；所述低折射率层的折射率为1.35～1.47。
3.如权利要求1或2所述的提高透射率的膜，其特征是，所述低折射率层的膜厚为50～130nm；所述中空二氧化硅微粒及氧化铝微粒的平均粒径为0.1μm以下。
4.如权利要求1或2所述的提高透射率的膜，其特征是，在所述透明基材膜的背面层叠保护涂层，所述保护涂层由不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、二氧化硅微粒及光聚合引发剂构成；
该不含氟原子的活性能量射线固化型树脂、二氧化硅微粒以及光聚合引发剂的总计为100wt％，其中：
所述不含氟原子的活性能量射线固化型树脂占85.0～95.0wt％；所述二氧化硅微粒占1.0～10.0wt％；所述光聚合引发剂占1.0～9.0wt％；
所述保护涂层的光学膜厚为kλ/4，其中，λ为光波长400～700nm，k为1、3或5。
5.如权利要求4所述的提高透射率的膜，其特征是，所述保护涂层的折射率为1.3～1.7。
6.如权利要求1或2所述的提高透射率的膜，其特征是，应用于构成触摸屏的定位设备的背面。
7.如权利要求4所述的提高透射率的膜，其特征是，应用于构成触摸屏的定位设备的背面。
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