JP2001330707A - 導電性減反射材、製造方法および用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】導電性反射防止機能に優れた導電性減反射材、
製造方法およびその用途を提供する。 【解決手段】透明基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直
接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、少な
くとも、 〔１〕１層以上からなる減反射層（Ｂ） 〔２〕層の厚みを制御した導電層（Ｃ） を積層してなる導電性減反射材であって、減反射層
（Ｂ）の厚みを、導電層を積層した後に減反射効果が５
００〜６５０ｎｍの波長の光に対し最も強く得られるよ
うに予め調整することを特徴とした導電性減反射材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，導電性減反射材、
その製造方法および該導電性減反射材の用途に関する。

【０００２】

【従来の技術】透明基板の最外層に、基板よりも低屈折
率の物質からなる低屈折率層を可視光波長の１／４の層
の厚み（約１００ｎｍ）で形成すると、干渉効果により
表面反射が低減し、透過率が向上することが知られてい
る。また、低屈折率層と基板の間に屈折率の異なる層を
一層以上設けることにより、より表面反射を抑えること
のできる多層減反射材が知られており、電気製品や光学
製品、建材等の透明基板部分等の表面反射の低減が必要
とされる分野において、減反射材として応用されてい
る。

【０００３】減反射材の製造方法としては、フッ化マグ
ネシウム等を蒸着、スパッタリングするいわゆるドライ
コーティング法（特開昭６３−２６１６４６号公報）、
および材料を溶液や分散液等液状で基材に塗布し、乾燥
させ、必要に応じて硬化させるウェットコーティング法
（特開平７−４８５４３号公報、特開平９−３１４０３
８号公報）の２種類が知られている。これらのうちドラ
イコーティング法は高真空の大型設備が必要で、生産性
が低い等の問題があった。一方、ウェットコーティング
法は設備投資が少なく、また生産性および大面積化への
対応の点で優れており、この方法でハードコート基材上
に高屈折率層、低屈折率層を構成した２層減反射材が工
業的に生産されている。しかし、ウェットコーティング
法では、導電性を付与する場合には金属もしくは金属酸
化物による微粒子と有機バインダーを組み合わせる必要
があり、１０⁸〜１０¹⁰Ω／ｃｍ²程度の導電性しか付与
できない。そのため、より導電性を必要とする用途には
十分でない等の問題がある。導電性を付与するために
は、減反射材の表面または裏面に前記の様に蒸着法、ス
パッタリング法等によりドライコーティングする方法が
あるが、この方法では光学性能が大きく低化するといっ
た問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、導電性減反射材を提供することにある。本発明の第
２の目的は、その導電性減反射材の製造方法を提供する
ことにある。またさらに、本発明の第３の目的は、前記
導電性減反射材の用途を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記問題
点に鑑み鋭意検討した結果、透明基材表面に層の厚みを
調整した減反射層を形成した上に、さらに層の厚みを制
御した導電層を形成することにより、導電性と減反射性
を有する減反射材料を製造できることを見い出し、本発
明を完成した。すなわち、本発明は次の［１］〜［１
０］である。 ［１］ 透明基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直接も
しくは一層以上の層を介して基材側から順に、少なくと
も、〔１〕１層以上からなる減反射層（Ｂ）、〔２〕層
の厚みを制御した導電層（Ｃ）、を積層してなる導電性
減反射材であって、減反射層（Ｂ）の厚みを、導電層を
積層した後に減反射効果が５００〜６５０ｎｍの波長の
光に対し最も強く得られるように予め調整することを特
徴とした導電性減反射材。

【０００６】［２］ 導電層（Ｃ）が厚み１〜３０ｎｍ
の金属もしくは金属酸化物である前記［１］の導電性減
反射材。 ［３］ 導電層（Ｃ）が酸化インジウム錫を蒸着法、イ
オンプレーティング法、またはスパッタリング法により
形成した層である前記の［１］または［２］の導電性減
反射材。 ［４］ 減反射層（Ｂ）が基材側から順に、屈折率が
１．６０〜１．９０の高屈折率層、屈折率が１．３０〜
１．５５の低屈折率層から構成されたものである前記
［３］の導電性減反射材。 ［５］ 透明基材が厚み１０〜５００μｍのプラスチッ
クフィルムである前記［１］〜［４］のいずれかの導電
性減反射材。 ［６］ 低屈折率層が含フッ素重合体を１０〜１００重
量％含んでなる前記［１］〜［５］のいずれかの導電性
減反射材。 ［７］ 低屈折率層の含フッ素重合体が、下記の式
［１］

【０００７】

【化４】

【０００８】［ここでＸ¹、Ｘ²は同一もしくは異なる基
であって、水素原子もしくはメチル基を示し、Ｙ¹は、
（ｉ）フッ素原子を２個以上有する炭素数１〜１４のフ
ルオロアルキレン基、（ii）フッ素原子を４個以上有す
る炭素数３〜１４のシクロアルキレン基、（iii）―Ｃ
（Ｙ²）―ＨＣＨ₂―基（ただし、Ｙ²は、フッ素原子を
３個以上有する炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、
もしくはフッ素原子を４個以上有する炭素数３〜１４の
シクロアルキル基を示す。） （iv）下記の式［２］

【０００９】

【化５】

【００１０】（ここでＹ³はフッ素原子を２個以上有す
る炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、Ｘ³は水素原
子もしくは炭素数１〜３のアルキル基、Ｚ¹は水素原
子、アクリル酸残基、もしくはメタクリル酸残基で示さ
れる基である）で示される基、または、（ｖ）下記の式
［３］

【００１１】

【化６】

【００１２】（ここで、Ｙ⁴はフッ素原子を２個以上有
する炭素数１〜１４のフルオロアルキレン基、Ｚ²、Ｚ³
は同一もしくは異なる基であって、水素原子、アクリル
酸残基、もしくはメタクリル酸残基で示される基であ
る）で示される基］で示される含フッ素単量体を重合硬
化してなる前記［６］の導電性減反射材。

【００１３】［８］ 前記［１］〜［７］のいづれかに
記載の導電性減反射材の製造方法であって、次の工次程
Ｉ〜IIIよりなる導電性減反射材の製造方法。 工程Ｉ：高屈折率層の形成の透明基材（Ａ）の片面に、
直接もしくは一層以上の層を介して下記の高屈折率層用
塗液（Ｘ）をウェットコーティング法により塗布し、活
性エネルギー線もしくは熱により硬化させる工程。ただ
し、高屈折率層の厚みは目的波長λに対し５００≦４×
ｎ_H×ｄ_H≦８００を満足するように調整する。（ただ
し、ｎ_Hは層の屈折率、ｄ_Hは層の厚みとする。） また、高屈折率層用塗液（Ｘ）は、高屈折率の硬化性単
量体および無機微粉体を必須成分とする配合物である。 工程II：低屈折率層の形成 前記の高屈折率層の上に、さらに下記の低屈折率層用塗
液（Ｙ）をウェットコーティング法により塗布し、活性
エネルギー線もしくは熱により硬化させる工程。ただ
し、低屈折率層の厚みは導電層を積層した後に減反射効
果が５００〜６５０ｎｍの波長の光に対し最も強く得ら
れるように調整して塗布する。低屈折率層用塗液（Ｙ）
は、含フッ素硬化性単量体を必須成分とし、必要量の重
合開始剤を含む配合物である。 工程III：導電層の形成 前記の低屈折率層を形成した上にさらにドライコーティ
ング法により、酸化インジウム錫からなる導電層を形成
する工程。

【００１４】［９］ 前記の［１］〜［７］のいずれか
に記載の導電性減反射材を電磁波遮蔽材として用いてな
る電子ディスプレイ。 ［１０］前記の［１］〜［７］のいずれかに記載の導電
性減反射材を電極として用いてなるタッチパネル。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の導電性減反射材は、透明
基材（Ａ）表面に減反射層を構成した上に、さらに導電
層を形成してなるものである。本発明に用いる透明基材
（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、ガラ
ス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭ
Ａ）共重合体、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポ
リオレフィン（ＰＯ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）等を好ましく挙げることができる。ま
た、形状としては、特に限定されないが、例えば、板状
もしくはフィルム状のものが挙げられる。生産性、運搬
性の点からフィルム状のものが好ましく挙げられる。フ
ィルムの厚みとしては１０〜５００μｍのものが透明
性、作業性の点より好ましく挙げられる。ここでいう透
明性とは光線透過率で３０％以上であり、より好ましく
は５０％以上、更に好ましくは８０％以上である。

【００１６】また前記の透明基材表面に形成する減反射
層としては従来公知のものでよく、層の形成方法も限定
されない。例えば、ドライコーティング法、ウェットコ
ーティング法等の方法をとることができる。生産性、コ
ストの面より、特にウェットコーティング法が好まし
い。ウェットコーティング法としては公知の方法でよ
く、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ディッ
プコート法などが代表的なものとして挙げられる。ロー
ルコート法等、連続的に形成できる方法が生産性の点よ
り好ましい。

【００１７】減反射層は基材上に単層もしくは多層で形
成することができる。例えば低屈折率層の単層もしくは
高屈折率層および低屈折率層からなる２層構造が挙げら
れる。生産性、コスト、減反射効果の観点より、２層構
造のものが好ましく挙げられる。その層の厚みは基材、
膜の構成によって異なるが、一層あたり可視光波長と同
じ厚みもしくはそれ以下の厚みが好ましい。

【００１８】減反射層の屈折率としては、最外層がその
直下の層より低屈折率であることが必要となり、その屈
折率は１．３０〜１．５５の範囲にあることが好まし
い。１．５５を超える場合はウェットコーティング法で
は十分な減反射効果を得ることが難しく、また１．３０
未満の場合は層を形成するのは現実的に困難である。ま
た２層構造の高屈折率層は最外層より屈折率が高いこと
が必要となり、その屈折率は１．６０〜１．９０の範囲
内であることが好ましい。１．６０未満では十分な減反
射効果を得ることが難しく、また、ウェットコーティン
グ法で１．９０を超える層を形成するのは困難である。

【００１９】減反射層に用いる物質としては、特に限定
されるものではない。高屈折率層の材料としては、例え
ば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミ
ニウム、酸化シラン、酸化タンタル、酸化イットリウ
ム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化イン
ジウム錫等が挙げられる。特に屈折率の点より、酸化チ
タン、酸化セリウム、酸化亜鉛が好ましく挙げられる。
また有機単量体や重合体をバインダーとして用いること
ができる。低屈折率層の材料としては、例えば、酸化珪
素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリ
ウム等の無機化合物や含フッ素有機物を単独または混合
物として用いることができる。また非フッ素系単量体や
重合体をバインダーとして用いてもよい。

【００２０】ウェットコーティング法には前記の無機材
料を微粒子として用いることができる。この際、無機材
料は、構成材料中好ましくは６０重量％以上、さらに好
ましくは７０重量％以上含まれていることが好ましい。
６０重量％未満では高屈折率層の屈折率が低くなり、光
学性能が低下するため好ましくない。また微粒子の平均
粒径は層の厚み以下であるのが好ましい。また必要に応
じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾する
ことができる。各種カップリング剤としては、例えば、
有機置換された珪素化合物、アルミニウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシド、
有機酸塩等が挙げられる。

【００２１】前記の含フッ素有機化合物は特に限定され
るものではないが、例えば単官能もしくは多官能の含フ
ッ素（メタ）アクリル酸エステル、含フッ素イタコン酸
エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素
化合物等の単量体、および重合体等が挙げられる。特に
反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリル酸エステル
が好ましい。

【００２２】前記の単官能含フッ素（メタ）アクリル酸
エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸−２，
２，２−トリフルオロエチル、（メタ）アクリル酸−
２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタ
フルオロブチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、（メ
タ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、（メタ）アク
リル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，７−トリデカフルオロへプチル、（メタ）アク
リル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル、
（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカ
フルオロノニル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、（メ
タ）アクリル酸−３，３，３−トリフルオロプロピル、
（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，４−ペンタフル
オロブチル、（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，
５，５，５−ヘプタフルオロペンチル、（メタ）アクリ
ル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフル
オロヘキシル、（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，７−ウンデカフルオロヘプチ
ル、（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチ
ル、（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，９−ペンタデカフル
オロノニル、（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、（メタ）アクリ
ル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ノナデカ
フルオロウンデシル、（メタ）アクリル酸−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１１，１１，１２，１２，１２−ヘンエイコ
サフルオロウンデシル、（メタ）アクリル酸−（１−ト
リフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチ
ル、（メタ）アクリル酸−（２−ヒドロキシ）−４，
４，５，５，６，６，７，７，７−ノナフルオロヘプチ
ル、（メタ）アクリル酸−（２−ヒドロキシ）−４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ト
リデカフルオロノニル、（メタ）アクリル酸−（２−ヒ
ドロキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ノナデカ
フルオロウンデシル、（メタ）アクリル酸−（２−ヒド
ロキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，
１３，１３−ヘンエイコサフルオロトリデシル等が挙げ
られる。

【００２３】前記の多官能含フッ素（メタ）アクリル酸
エステルとしては、２官能ないし４官能の含フッ素（メ
タ）アクリル酸エステルが好ましく挙げられる。その中
で２官能の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとして
は、例えば、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−
４，４，４−トリフルオロブタン、１，２−ジ（メタ）
アクリロイルオキシ−４，４，５，５，５−ペンタフル
オロペンタン、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ
−４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロヘキサ
ン、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，
５，５，６，６，７，７，７−ノナフルオロヘプタン、
１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，８−ウンデカフルオロオ
クタン、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ト
リデカフルオロノナン、１，２−ジ（メタ）アクリロイ
ルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ペンタデカフルオロデカ
ン、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−
トリデカフルオロデカン、１，２−ジ（メタ）アクリロ
イルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデ
カフルオロウンデカン、１，２−ジ（メタ）アクリロイ
ルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１２−
ノナデカフルオロドデカン、１，２−ジ（メタ）アクリ
ロイルオキシ−５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオ
ロドデカン、

【００２４】１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−
４−トリフルオロメチル−５，５，５−トリフルオロペ
ンタン、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−５−
トリフルオロメチル−６，６，６−トリフルオロヘキサ
ン、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−３−メチ
ル−４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンタン、
１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−３−メチル−
４，４，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロヘキサ
ン、１，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，
３，３−テトラフルオロブタン、１，５−ジ（メタ）ア
クリロイルオキシ−２，２，３，３，４，４−ヘキサフ
ルオロペンタン、１，６−ジ（メタ）アクリロイルオキ
シ−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ
ヘキサン、１，７−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオ
ロヘプタン、１，８−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ド
デカフルオロオクタン、１，９−ジ（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８−テトラデカフルオロノナン、１，１０
−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘ
キサデカフルオロデカン、１，１１−ジ（メタ）アクリ
ロイルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０−オクタデカ
フルオロウンデカン、１，１２−ジ（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１−エ
イコサフルオロドデカン、

【００２５】２−ヒドロキシ−４，４，４−トリフルオ
ロブチル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオ
キシメチル｝プロピオナート、２−ヒドロキシ−４，
４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル−２’，２’
−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオ
ナート、２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，６
−ヘプタフルオロヘキシル−２’，２’−ビス｛（メ
タ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート、２−
ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，７−ノ
ナフルオロヘプチル−２’，２’−ビス｛（メタ）アク
リロイルオキシメチル｝プロピオナート、２−ヒドロキ
シ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，９−トリデカフルオロノニル−２’，２’−ビス
｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナー
ト、２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−
ノナデカフルオロウンデシル−２’，２’−ビス｛（メ
タ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート、２−
ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１
３，１３，１３−ヘンエイコサフルオロトリデシル−
２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル｝プロピオナート等を好ましく挙げることができる。

【００２６】特に好ましくは１，２−ジ（メタ）アクリ
ロイルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデ
カフルオロドデカン、１，１０−ジ（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカン、
２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオ
ロウンデシル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイ
ルオキシメチル｝プロピオナートが挙げられる。これら
のジ（メタ）アクリル酸エステルは、使用に際して単独
もしくは混合物として用いることができる。

【００２７】さらに前記のジエステル以外の含フッ素多
官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、３官能およ
び４官能の含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル
が挙げられる。該３官能の含フッ素多官能（メタ）アク
リル酸エステルの具体例としては、例えば、２−（メ
タ）アクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，６，
７，７，７−ノナフルオロヘプチル−２’，２’−ビス
｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナー
ト、２−（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ウンデカフ
ルオロノニル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイ
ルオキシメチル｝プロピオナート、２−（メタ）アクリ
ロイルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデ
カフルオロウンデシル−２’，２’−ビス｛（メタ）ア
クリロイルオキシメチル｝プロピオナート、３−｛（１
−トリフルオロメチル）オクタフルオロシクロペンチ
ル｝−２−アクリロイルオキシプロピル−２’，２’−
ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナ
ート、３−｛（１−トリフルオロメチル）デカフルオロ
シクロヘキシル｝−２−アクリロイルオキシプロピル−
２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル｝プロピオナート、３−｛（１−トリフルオロメチ
ル）ヘキサフルオロシクロブチル｝−２−アクリロイル
オキシプロピル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロ
イルオキシメチル｝プロピオナート、

【００２８】さらに、１−（メタ）アクリロイルオキシ
メチル−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフ
ルオロヘキシル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロ
イルオキシメチル｝プロピオナート、１−（メタ）アク
リロイルオキシメチル−３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，８−ウンデカフルオロオクチル−
２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル｝プロピオナート、１−（メタ）アクリロイルオキシ
メチル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオ
ロデシル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオ
キシメチル｝プロピオナート、２−｛（１−トリフルオ
ロメチル）オクタフルオロシクロペンチル｝−１−（ア
クリロイルオキシメチル）エチル−２’，２’−ビス
｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナー
ト、２−｛（１−トリフルオロメチル）デカフルオロシ
クロヘキシル｝−１−（アクリロイルオキシメチル）エ
チル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ
メチル｝プロピオナート、２−｛（１−トリフルオロメ
チル）ヘキサフルオロシクロブチル｝−１−（アクリロ
イルオキシメチル）エチル−２’，２’−ビス｛（メ
タ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート等が挙
げられる。特に好ましくは２−（メタ）アクリロイルオ
キシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオ
ロウンデシル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイ
ルオキシメチル｝プロピオナートが挙げられる。

【００２９】また、４官能の含フッ素多官能（メタ）ア
クリル酸エステルの具体的な例としては、１，２，７，
８−テトラ（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，
５−テトラフルオロオクタン、１，２，８，９−テトラ
（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，６
−ヘキサフルオロノナン、１，２，９，１０−テトラ
（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，
６，７，７−オクタフルオロデカン、１，２，１０，１
１−テトラ（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８−デカフルオロウンデカ
ン、１，２，１１，１２−テトラ（メタ）アクリロイル
オキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９−ドデカフルオロドデカン等を好ましく挙げるこ
とができる。特に好ましくは１，２，９，１０−テトラ
（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，
６，７，７−オクタフルオロデカン、１，２，１１，１
２−テトラ（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９−ドデカフルオロ
ドデカンが挙げられる。使用に際しては、前記の含フッ
素多官能（メタ）アクリル酸エステルは、単独もしくは
混合物として用いることができる。

【００３０】前記の含フッ素シラン化合物の具体的な例
としては、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリ
メトキシシラン、（３，３，４，４，４−ペンタフルオ
ロブチル）トリメトキシシラン、（３，３，４，４，
５，５，５−ヘプタフルオロペンチル）トリメトキシシ
ラン、（３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフ
ルオロヘキシル）トリメトキシシラン、（３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，７−ウンデカフルオロヘ
プチル）トリメトキシシラン、（３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ）
トリメトキシシラン、（３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，９−ペンタデカフルオ
ロ）トリメトキシシラン、（３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−
ヘプタデカフルオロ）トリメトキシシラン、（３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１１，１１，１１−ノナデカフルオロ）トリ
メトキシシラン、（３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１
２，１２，１２−ヘンエイコサフルオロ）トリメトキシ
シラン等を好ましく挙げることができる。

【００３１】前記の含フッ素重合体としては前記の単官
能含フッ素単量体の単独重合体、共重合体、もしくはフ
ッ素を含まない単量体との共重合体等の直鎖状重合体、
鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環状重合体、櫛型
重合体などが挙げられる。前記の非フッ素系単量体とし
ては、従来公知のものを用いることができる。例えば、
単官能もしくは多官能の（メタ）アクリル酸エステルや
エチルシリケート等の珪素化合物等が挙げられる。

【００３２】また、有機減反射層については前記の単量
体をウェットコーティングにより成膜した後、熱や紫外
線、電子線などの活性エネルギー線の照射や加熱により
硬化反応を行って減反射膜を形成することができる。フ
イルム上に減反射防止機能を有する層を形成する際に
は、次のような配合物が望ましい。 （ａ）前記の含フッ素硬化性単量体の配合物、（ｂ）前
記の含フッ素硬化性単量体と他の硬化性単量体の配合
物、（ｃ）前記の含フッ素硬化性単量体と他の無機また
は有機微粉末の配合物、（ｄ）前記の含フッ素硬化性単
量体と他の硬化性単量体と他の無機または有機微粉末の
配合物。減反射幕の形成方法は、前記の含フッ素硬化性
単量体１０〜１００重量％とその他の成分９０〜０重量
％とを含む硬化性塗液をエネルギー線、特に紫外線で硬
化するのが量産化でき、好ましい。

【００３３】前記の含フッ素硬化性塗液に配合する光重
合開始剤としては紫外線照射による重合開始能を有する
ものが好ましい。具体的には例えば、ベンジルジメチル
ケタール、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタ
ン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン等のアセトフ
ェノン系開始剤；ベンゾフェノン、ビス４−ジメチルア
ミノフェニルケトン、フェニルベンゾイルケトン等のベ
ンゾフェノン系開始剤；２，４−ジエチルチオキサント
ン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、イソ
プロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤；
チオ安息香酸Ｓ−フェニル系開始剤、オキシムケトン系
開始剤、アシルホスフィンオキシド系開始剤、アシルホ
スフォナート系開始剤、チタノセン系開始剤等を挙げる
ことができる。これらは単独もしくは混合物として用い
ることができる。また重合開始剤の種類によってはｐ−
ジメチルアミノ安息香酸エステル等の三級アミンを添加
するなどの反応促進剤を併用する方法でもよい。重合開
始剤の配合割合は、含フッ素硬化性塗液中の硬化性成分
全量１００部に対し、０．００１〜２０重量部であるこ
とが望ましい。開始剤の配合割合が０．００１重量部未
満の場合には硬化後の表面硬度が低下し、２０重量部を
越えると重合硬化した際に屈折率が上昇し、所望の反射
防止膜が形成できないので好ましくない。

【００３４】前記特定の含フッ素硬化性塗液において、
塗液の粘度調整や塗布後の表面のレベリングのために、
反応を阻害しない限り、溶媒を含有していても良い。該
溶媒としては、具体的には例えば、トリフルオロメチル
ベンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼ
ン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘキサフルオロシクロヘ
キサン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペルフ
ルオロメチルシクロヘキサン、オクタフルオロデカリ
ン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオ
ロメチルエタン、「アサヒクリン（ＡＫ２２５）」（旭
硝子（株）社製、商品名）等の市販品等の含フッ素溶
媒；さらにイソプロパノール、２−ブタノール、イソブ
タノール等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸イソブチル等のエステル系溶媒；メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等
の非フッ素系溶媒を挙げることができる。

【００３５】減反射層には前記の化合物以外に本発明の
効果を損なわない範囲において、のその他の成分を含ん
でも構わない。例えば、無機充填剤、無機または有機顔
料、重合体、および重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止
剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリ
ング剤などの添加剤などが挙げられる。またウェットコ
ーティング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の
量の溶媒を添加することができる。

【００３６】また、減反射層と前記の透明基材との間に
もう一つ以上の層を設けてもよい。この間の層は無機
物、有機物、もしくはこれらの混合物を用いることがで
き、その厚みは０．０５〜２０μｍが好ましい。層の形
成方法は特に限定されず、ドライコーティング法、ウェ
ットコーティング法等の方法をとることができる。減反
射層と同様に生産性の面より、ウェットコーティング法
が最も好ましい。またこの層には、防眩、ニュートンリ
ング防止、硬度の向上、密着性の向上、帯電防止を含む
導電性等の機能を一種類以上付与することができる。特
に硬度の向上をもたらす効果を有するハードコート層を
構成することが好ましい。減反射層上に構成する導電層
の材料としては、特に限定されないが、導電性の面より
金属もしくは金属酸化物を用いることが好ましい。例え
ば、金、銀、銅、白金、ニッケル、酸化錫、酸化インジ
ウム錫（ＩＴＯ）、酸化アンチモン錫等が好ましいもの
として挙げられる。

【００３７】導電層の厚みは正確に制御する必要があ
り、その厚みは５〜２０ｎｍであることが好ましい。５
ｎｍ未満では制御することが難しく、また２０ｎｍを超
える場合は、光学性能が低下するので好ましくない。ま
た層の形成方法は特に限定されず、例えば、蒸着、スパ
ッタ、イオンプレーティング、めっき等の方法を取るこ
とができる。層の厚み制御の観点より蒸着、スパッタ
等、ドライコーティング法が特に好ましい。減反射層お
よび導電層の厚みは、導電層まで形成した後に減反射効
果が最大になる光の波長が５００ｎｍから６５０ｎｍの
範囲内になるように調整するのが好ましい。この範囲外
になるとヒトの視感度に対し減反射効果が効率良く得ら
れないため好ましくない。

【００３８】減反射層および導電層の厚みは、各層の屈
折率および減反射効果を最大にする目的波長よりＨｅｒ
ｐｉｎマトリックスの理論式を用いて計算することがで
きる。Ｈｅｒｐｉｎマトリックスの反射率の理論式より
目的波長における反射率が最小になるように厚みを計算
し、各層を形成する。例えば、透明基板上に、それぞれ
屈折率が既知の高屈折率層および低屈折率層からなる２
層減反射層および導電層を形成する場合は以下の手順で
計算できる。 （ａ） 目的波長λに対し高屈折率層が５００≦４×ｎ
_H×ｄ_H≦８００となるように厚みを計算する。 （ｂ） 必要な導電性能を満たすように、導電層の厚み
を設定する。 （ｃ） （ａ）（ｂ）および低屈折率層の屈折率よりλ
に対し反射率が最小になるようにＨｅｒｐｉｎマトリッ
クスの反射率の理論式より低屈折率層の厚みを計算す
る。

【００３９】前記の導電性減反射材は、減反射効果、高
光線透過率および導電性を必要とする用途に用いること
ができる。特に電子画像表示装置の電磁波遮蔽材、透明
電極等に用いることができる。これらの用途に用いる場
合には導電性減反射材の減反射層および導電層を形成し
ていない面にあらかじめ粘着加工を行い、対象物に貼り
合せて用いることができる。用いられる粘着剤としては
特に限定されるものではないが、例えば、アクリル系粘
着剤、紫外線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等を挙げる
ことができる。

【００４０】前記の電子画像表示装置としては、例え
ば、ブラウン管、プラズマパネルディスプレイ（ＰＤ
Ｐ）等を挙げることができる。前記表示装置の表面に、
導電性減反射材の減反射層および導電層を形成していな
い面が接するように接着層を介して密着させ用いること
ができる。必要であれば透明基材、接着層、前記の透明
基材と減反射層間に形成する層に透過率を制御するため
の着色を行っても構わない。

【００４１】また導電性減反射材は高光透過性透明電極
として、例えば、タッチパネル、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ、液晶ディスプレイ等に用いることが
できる。抵抗膜式タッチパネルの上部電極として用いる
場合には、導電性減反射材の減反射層および導電層を形
成していない面に、表面強度向上のためのハードコート
層を形成することが好ましい。このハードコート層に
は、防眩、帯電防止、減反射等の機能を一種類以上付与
することができる。また導電性減反射材の減反射層およ
び導電層を形成していない面を密着させるように接着層
を介してハードコート層を有する透明基材の裏面に貼り
合せて用いることもできる。下部電極として用いる場合
には導電性減反射材をそのまま、もしくはガラス、プラ
スチック等の透明基板に貼り合せて用いることができ
る。またその裏側に光線透過率を向上させるために直接
もしくは１層以上の層を介して減反射層を形成したり、
減反射層を有する透明基材を貼り合せても構わない。

【００４２】

【発明の効果】本発明の導電性減反射材は、透明基材
（Ａ）の片面もしくは両面に、直接もしくは一層以上の
層を介して基材側から順に、少なくとも、〔１〕１層以
上からなる減反射層（Ｂ）、〔２〕層の厚みを制御した
導電層（Ｃ）、を積層してなる導電性減反射材であっ
て、減反射層（Ｂ）の厚みを、導電層を積層した後に減
反射効果が５００〜６５０ｎｍの波長の光に対し最も強
く得られるように予め調整することを特徴としたもので
ある。そのためにこの導電性減反射材は、減反射効果、
透明性および導電性においてバランスよい性能を有して
おり、ブラウン管、ＰＤＰ、タッチパネル等の電子画像
表示装置に用いることにより表面反射光の低減、透過光
の増加と同時に導電性に優れる。本発明の導電性減反射
材の製造方法は、透明基材に高屈折率層、低屈折率層を
ウエットコーテイングで形成させて、さらにその上に、
導電性を付与するもので、導電性減反射材を高い生産性
で製造することができる。本発明の導電性減反射材は、
前記の表示装置の表面に用いて、電磁遮蔽材や電極とし
ての使用すると、著しい電磁波遮蔽性や導電性等の効果
が得られる。

【００４３】

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を更に詳細に
説明する。なお、溶媒乾燥後の膜の屈折率は以下のよう
に測定した。 １．使用材料膜の屈折率の測定 手順１：屈折率１．５０のアクリル板｛商品名「デラグ
ラスＡ」、旭化成工業（株）製｝上に、ディップコータ
ー｛杉山元理化学機器（株）製｝により、減反射層用塗
液をそれぞれ乾燥膜厚でλ／４を示す光の波長が５５０
ｎｍ程度になるように層の厚さを調整して塗布した。 手順２：乾燥後、紫外線照射装置｛岩崎電気（株）製｝
により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４
００ｍＪの紫外線を照射し、硬化した。アクリル板裏面
をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたも
のを分光光度計｛「Ｕ−ｂｅｓｔ ５０」、日本分光
（株）製｝により、５°、−５°正反射率を測定した。 手順３：反射率の極値Ｒより以下の式より屈折率を計算
した。

【００４４】

【数１】

【００４５】製造例１：減反射層用塗液（１）の調製 トリアクリル酸テトラメチロールメタン２５重量部、シ
リカ微粒子分散液｛商品名「ＸＢＡ−ＳＴ」、日産化学
（株）製｝２２０重量部、ブチルアルコール９００重量
部、光重合開始剤｛商品名ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、
日本化薬（株）製｝５重量部を混合し減反射層用塗液
（１）を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は１．
５０であった。

【００４６】製造例２：減反射層用塗液（２）の調製 １，２，９，１０−テトラアクリロイルオキシ−４，
４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５
０重量部、シリカ微粒子｛商品名「ＸＢＡ−ＳＴ」、日
産化学（株）製｝４０重量部、２’，２’−ビス（メタ
クリロイルオキシメチル）プロピオン酸（２−ヒドロキ
シ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１１−ノナデカフルオロ
ウンデシル１０重量部、ブチルアルコール９００重量
部、光重合開始剤｛商品名「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭ
Ｓ」、日本化薬（株）製｝５重量部を混合し、減反射層
用塗液（２）を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率
は１．４７であった。

【００４７】製造例３：減反射層用塗液（３）の調製 １，１０−ジアクリロイルオキシ−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−オ
クタデカフルオロデカン７０重量部、テトラアクリル酸
テトラメチロールメタン２０重量部、ブチルアルコール
９００重量部、光重合開始剤｛商品名「ＫＡＹＡＣＵＲ
Ｅ ＢＭＳ」、日本化薬（株）製｝５重量部を混合し、
減反射層用液（３）を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の
屈折率は１．４２であった。

【００４８】製造例４：減反射層用塗液（４）の調製 アクリル酸ブチル６０重量部、アクリル酸ヘプタデカフ
ルオロデカン２４０重量部、アゾビスイソ酪酸ジメチル
１重量部、ベンゾトリフルオリド３００重量部を脱気ガ
ラス封管に封入し、５０℃で２時間反応を行った。反応
物とベンゾトリフルオリド２４００重量部を混合し、減
反射層用液（４）を調製した。溶媒乾燥後の屈折率は
１．３６であった。

【００４９】製造例５：減反射層用塗液（５）の調製 平均粒径が０．０４μｍの酸化インジウム錫微粒子を８
５重量部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン１５
重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤
｛商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、チバガイギー
社製｝１重量部を混合し減反射層用塗液（５）を調製し
た。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は１．６４であった。

【００５０】製造例６：減反射層用塗液（６）の調製 酸化インジウム錫微粒子にかえて平均粒径が０．０５μ
ｍの酸化セリウム微粒子を用いた以外は製造例３と同様
にして減反射層用塗液（６）を調製した。溶媒乾燥後の
硬化物の屈折率は１．７７であった。

【００５１】製造例７：ハードコート層用塗液の調製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量
部、１，６−ジアクリロイルオキシヘキサン３０重量
部、光重合開始剤｛商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８
４」、チバガイギー社製｝４重量部、イソプロピルアル
コール１００重量部を混合しハードコート層用塗液を調
製した。

【００５２】製造例８：ハードコート処理ＰＥＴフィル
ムの作製 厚みが１００μｍのＰＥＴフィルム｛商品名「Ａ４１０
０」、東洋紡績（株）製｝上に、製造例７で調製したハ
ードコート用塗液をバーコーターを用いて乾燥膜厚４μ
ｍ程度になるように塗布し、紫外線照射装置｛岩崎電気
（株）製｝により１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて４００ｍ
Ｊの紫外線を照射し、硬化した。

【００５３】実施例１−１〜１−８ 製造例８で作製したハードコート処理ＰＥＴフィルム上
に、製造例（１）〜（６）で作製した減反射層用塗液
（１）〜（６）を用いて以下の方法で減反射処理を行っ
た。ディップコーター｛杉山元理化学機器（株）製｝に
より減反射層用塗液（５）〜（６）をそれぞれ乾燥膜厚
でλ／４を示す光の波長が５５０ｎｍ程度になるように
層の厚さを調整して塗布した後、紫外線照射装置｛岩崎
電気（株）製｝により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀
灯を用いて４００ｍＪの紫外線を照射し硬化した。その
上に同様にして減反射層（１）〜（４）をそれぞれ乾燥
膜厚が、導電層形成後に５５０ｎｍで最小反射率を示す
ように計算した値±５％以内になるように調整し塗布、
硬化した。これらの減反射材を１００℃で１時間予備乾
燥を行った後、インジウム：錫＝１０：１のＩＴＯター
ゲットを用いてスパッタリングを行い、膜厚１５ｎｍの
導電層を形成し、導電性減反射膜を作製した。得られた
導電性減反射材の模式図を図１に示す。全光線透過率、
分光反射率および表面抵抗値を以下のように測定した。
結果をそれぞれ表１および図２〜９に示す。

【００５４】２．全光線透過率；ヘイズメーター｛「Ｎ
ＤＨ２０００」、日本電色工業（株）製｝により全光線
透過率を測定した。 ３．分光反射率；導電性減反射材の裏面をサンドペーパ
ーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計
｛「Ｕ−ｂｅｓｔ ５０」、日本分光（株）製｝によ
り、５°、−５°正反射率を測定した。 ４．表面抵抗値；表面抵抗計｛「ＴＲＡＳＴＡＴ」、シ
ムコ製もしくは「Ｌｏｒｅｓｔａ ＭＰＭＣＰ−Ｔ３５
０」、三菱化学（株）製｝により測定した。

【００５５】比較例１ 厚みが１００μｍのＰＥＴフィルム｛商品名「Ａ４１０
０」、東洋紡績（株）製｝上に、実施例１と同様にして
導電層のみを形成した。得られた導電性ＰＥＴフィルム
の全光線透過率、分光反射率、表面抵抗値を実施例１と
同様の方法により測定した。結果を図１０および表１に
示す。

【００５６】比較例２ 製造例８で作製したハードコートＰＥＴフィルム上に、
乾燥、硬化後の減反射層の厚みを反射スペクトルのλ／
４が５５０ｎｍになるように塗布した以外は実施例１−
２と同様に減反射材を作製した。得られた減反射材の全
光線透過率、分光反射率、表面抵抗値を実施例１と同様
の方法により測定した。結果を図１１および表１に示
す。

【００５７】比較例３ 比較例２で作製した減反射材に実施例１と同様にして導
電層を形成し、導電性減反射材を作製した。得られた導
電性減反射材の分光透過率および全光線透過率、分光反
射率を実施例１と同様の方法により測定した。結果を図
１２および表１に示す。

【００５８】

【表１】

【００５９】以上の結果から、実施例１で作製した導電
性減反射材は高導電性、高光線透過率、低反射率を兼ね
備えている。一方、比較例１では透過率、反射率が劣
り、比較例２では導電性が十分でない。比較例３では減
反射層と導電層を形成したが層の厚さを制御していない
ため全光線透過率が実施例に比べ劣っていることがわか
る。

【００６０】実施例２ 実施例１−２で作製した導電性減反射材の裏面にアクリ
ル系粘着剤シート｛商品名「ノンキャリア」、リンテッ
ク（株）製｝をハンドローラーにより貼り、ブラウン管
式テレビ表面に均一に貼り合せた。その結果、貼り合わ
せを行っていない面に対し背景光の反射が抑えられ、非
常に鮮明な画像が得られた。

【００６１】実施例３ 実施例１−２で作製した導電性減反射材の裏面にアクリ
ル系粘着剤シートをハンドローラーにより貼り、製造例
１で作製したハードコート処理ＰＥＴフィルムの裏面、
および厚さ２ｍｍのアクリル板｛商品名「デラグラス
Ａ」、旭化成工業（株）製｝にそれぞれ均一に貼り合せ
た。これらを導電層同士が向かい合うように配置し、四
辺を両面粘着テープにより貼り合せ、抵抗膜式タッチパ
ネルのモデルを作製した。得られたタッチパネルモデル
の模式図を図１３に示した。全光線透過率を実施例１と
同様の方法により、分光反射率を以下の方法により測定
し、また画面の見易さを異化の方法で評価した。結果を
表２に示した。 ５．分光反射率；分光光度計｛「Ｕ−ｂｅｓｔ ５
０」、日本分光（株）製｝により、モデルの導電性減反
射材側から光を入射して５°、−５°正反射率を測定し
た。 ６．ＰＣ液晶ディスプレイ画面の見易さの評価方法 作製したパネルをＰＣ液晶ディスプレイ｛商品名「ＰＣ
−７ＤＬ０５」、（株）日立製作所製｝前面に配置し、
目視により画面の見易さを下記の評価で確認した。 ◎；著しく見やすくなった。 ○；見やすくなった。 ×；変化なし、または見にくくなった。 結果を表２に示す。

【００６２】実施例４ ハードコート処理ＰＥＴフィルムの替わりに比較例２で
作製した減反射フィルムを用い、アクリル板の裏面に比
較例２で作製した減反射フィルムをアクリル系粘着剤シ
ートで貼り合せた以外は実施例３と同様にして抵抗膜式
タッチパネルのモデルを作製した。得られたタッチパネ
ルモデルの模式図を図１４に示す。全光線透過率、分光
反射率および画面の見易さを測定、評価した。結果を表
２に示す。

【００６３】比較例４ 導電性減反射材のかわりに比較例１で作製した導電性Ｐ
ＥＴフィルムを使用した以外は実施例３と同様にして抵
抗膜式タッチパネルのモデルを作製した。得られたタッ
チパネルモデルの模式図を図１５に示す。全光線透過
率、分光反射率および画面の見易さを測定、評価した。
結果を表２に示す。

【００６４】

【表２】

【００６５】比較例４に対し、実施例３、４のタッチパ
ネルは全光線透過率が向上するため画面が見易くなっ
た。特に実施例４では７％の光線透過率の向上が達成さ
れた。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１で作製した導電性減反射材の模
式図である。

【図２】図２は実施例１−１の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図３】図３は実施例１−２の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図４】図４は実施例１−３の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図５】図５は実施例１−４の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図６】図６は実施例１−５の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図７】図７は実施例１−６の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図８】図８は実施例１−７の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図９】図９は実施例１−８の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図１０】図１０は比較例１の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図１１】図１１は比較例２の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図１２】図１２は比較例３の４００から８００ｎｍに
おける分光反射スペクトルである。

【図１３】図１３は実施例２で作製したタッチパネルの
モデルの模式図である。

【図１４】図１４は実施例３で作製したタッチパネルの
モデルの模式図である。

【図１５】図１５は比較例４で作製したタッチパネルの
モデルの模式図である。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H091 FA37Y FB02 FB06 FC02 FC03 FD06 GA01 GA03 LA08 2H092 HA04 MA04 MA05 MA06 MA10 NA02 NA14 NA25 PA01 2K009 AA04 AA05 AA06 AA07 AA08 AA09 AA15 BB14 BB24 CC03 CC09 CC24 CC26 DD01 DD02 DD04 DD05 DD07 EE03 4K029 AA11 BA45 BA47 BA50 BB02 BC03 BC09 BD09 CA01 CA03 CA05 DB05 DC05 FA07

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直
   接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、少な
   くとも、〔１〕１層以上からなる減反射層（Ｂ）、
   〔２〕層の厚みを制御した導電層（Ｃ）、を積層してな
   る導電性減反射材であって、減反射層（Ｂ）の厚みを、
   導電層を積層した後に減反射効果が５００〜６５０ｎｍ
   の波長の光に対し最も強く得られるように予め調整する
   ことを特徴とした導電性減反射材。
2. 【請求項２】導電層（Ｃ）が厚み１〜３０ｎｍの金属も
   しくは金属酸化物である請求項１記載の導電性減反射
   材。
3. 【請求項３】導電層（Ｃ）が酸化インジウム錫を蒸着
   法、イオンプレーティング法またはスパッタリング法に
   より形成した層であり、その表面抵抗値が１０００Ω／
   ｃｍ²以下である請求項２記載の導電性減反射材。
4. 【請求項４】減反射層（Ｂ）が基材側から順に、屈折率
   が１．６０〜１．９０の高屈折率層、屈折率が１．３０
   〜１．５５の低屈折率層から構成されている請求項３記
   載の導電性減反射材。
5. 【請求項５】透明基材（Ａ）が厚み１０〜５００μｍの
   プラスチックフィルムである請求項１〜４項のいずれか
   １項に記載の導電性減反射材。
6. 【請求項６】低屈折率層が含フッ素重合体を１０〜１０
   ０重量％含んでなる請求項１〜５項のいずれか１項に記
   載の導電性減反射材。
7. 【請求項７】低屈折率層の含フッ素重合体が、下記の式
   ［１］ 【化１】 ［ここでＸ¹、Ｘ²は同一もしくは異なる基であって、水
   素原子もしくはメチル基を示し、Ｙ¹は、（ｉ）フッ素
   原子を２個以上有する炭素数１〜１４のフルオロアルキ
   レン基、（ii）フッ素原子を４個以上有する炭素数３〜
   １４のシクロアルキレン基、（iii）―Ｃ（Ｙ²）―ＨＣ
   Ｈ₂―基（ただし、Ｙ²は、フッ素原子を３個以上有する
   炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、もしくはフッ素
   原子を４個以上有する炭素数３〜１４のシクロアルキル
   基を示す。） （iv）下記の式［２］ 【化２】 （ここでＹ³はフッ素原子を２個以上有する炭素数１〜
   １４のフルオロアルキル基、Ｘ³は水素原子もしくは炭
   素数１〜３のアルキル基、Ｚ¹は水素原子、アクリル酸
   残基、もしくはメタクリル酸残基で示される基である）
   で示される基、または、（ｖ）下記の式［３］ 【化３】 （ここで、Ｙ⁴はフッ素原子を２個以上有する炭素数１
   〜１４のフルオロアルキレン基、Ｚ²、Ｚ³は同一もしく
   は異なる基であって、水素原子、アクリル酸残基、もし
   くはメタクリル酸残基で示される基である）で示される
   基］で示される含フッ素単量体を重合硬化したものであ
   る請求項６記載の導電性減反射材。
8. 【請求項８】請求項１〜７のいづれか１項に記載の導電
   性減反射材の製造方法であって、次の工程Ｉ〜IIIより
   なる導電性減反射材の製造方法。 工程Ｉ：高屈折率層の形成 透明基材（Ａ）の片面に、直接もしくは一層以上の層を
   介して下記の高屈折率層用塗液（Ｘ）をウェットコーテ
   ィング法により塗布し、活性エネルギー線もしくは熱に
   より硬化させる工程。ただし、高屈折率層の厚みは目的
   波長λに対し５００≦４×ｎ_H×ｄ_H≦８００を満足する
   ように調整する。（ここで、ｎ_Hは層の屈折率、ｄ_Hは層
   の厚みとする。） また、高屈折率層用塗液（Ｘ）は、高屈折率の硬化性単
   量体および無機微粉体を必須成分とする配合物である。 工程II：低屈折率層の形成 前記高屈折率層の上に、さらに下記の低屈折率層用塗液
   （Ｙ）をウェットコーティング法により塗布し、活性エ
   ネルギー線もしくは熱により硬化させる工程。ただし、
   低屈折率層の厚みは導電層を積層した後に減反射効果が
   ５００〜６５０ｎｍの波長の光に対し最も強く得られる
   ように調整して塗布する。低屈折率層用塗液（Ｙ）は、
   含フッ素硬化性単量体を必須成分とし、必要量の重合開
   始剤を含む配合物である。 工程III：導電層の形成 前記の低屈折率層を形成した上にさらにドライコーティ
   ング法により、酸化インジウム錫からなる導電層を形成
   する工程。
9. 【請求項９】請求項１〜７いずれか１項に記載の導電性
   減反射材を電磁波遮蔽材として用いてなる電子ディスプ
   レイ。
10. 【請求項１０】請求項１〜７いずれか１項に記載の導電
    性減反射材を電極として用いてなるタッチパネル。