JPS63265625A - 反射防止能を有する透明導電性フイルム - Google Patents
反射防止能を有する透明導電性フイルムInfo
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- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 title abstract 3
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 153
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 7
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 44
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 3
- XXLJGBGJDROPKW-UHFFFAOYSA-N antimony;oxotin Chemical compound [Sb].[Sn]=O XXLJGBGJDROPKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QCCDYNYSHILRDG-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);trifluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[Ce+3] QCCDYNYSHILRDG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- ROVXPMRYLZEBGX-UHFFFAOYSA-L difluoromolybdenum Chemical compound F[Mo]F ROVXPMRYLZEBGX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、透明導電性フィルムに関する。本発明の透明
導電性フィルムは、液晶用表示電極、面発熱式防曇膜、
液晶ディスプレーやCRTディスプレーなどと組み合わ
せて使用する透明タッチパネル等のような光学特性及び
電気特性が特に重要な分野において使用される。
導電性フィルムは、液晶用表示電極、面発熱式防曇膜、
液晶ディスプレーやCRTディスプレーなどと組み合わ
せて使用する透明タッチパネル等のような光学特性及び
電気特性が特に重要な分野において使用される。
〈従来技術及びその欠点〉
透明基板表面に透明導電性膜を成膜するとこの導電性膜
の高い屈折率に起因して表面反射が増大するという欠点
を有している。以下、この点を本発明の透明導電性フィ
ルムの最適応用分野である透明タッチパネルを例にして
詳述する。透明タッチパネルは透明導電性膜を導体とし
た透明な入力スイッチであり、例えば第2図に示すよう
にベースフィルム1上に透明導電性III 5を設けた
透明導電性フィルムを2枚用い、透明導電性1!5を内
側にしてスペーサー6を介して対向させた構造となって
おり、これを指で押すと、対向している透明導電性膜5
が接触してスイッチがオン(ON>の状態となって入力
される。ここで用いられる透明+I?l性フィルムは電
極グレードのもので、ポリエステル(特にポリエチレン
テレフタレート)、ポリエーテルサルフォン等の機械的
強度、耐熱性、耐薬品性に優れたベースフィルム表面に
インジウムm酸化物(以下、ITOという)、錫アンチ
モン酸化物等の半導体薄膜、金、パラジウム、アルミニ
ウムあるいはクロム系合金等の金属、薄膜を真空蒸着、
スパッタリング、イオンブレーティング、イオンビーム
蒸着等の方法により形成したものである。現在市販され
ている透明導電性フィルムの多くはポリエステルフィル
ム表面にITO膜を形成したタイプのものである。
の高い屈折率に起因して表面反射が増大するという欠点
を有している。以下、この点を本発明の透明導電性フィ
ルムの最適応用分野である透明タッチパネルを例にして
詳述する。透明タッチパネルは透明導電性膜を導体とし
た透明な入力スイッチであり、例えば第2図に示すよう
にベースフィルム1上に透明導電性III 5を設けた
透明導電性フィルムを2枚用い、透明導電性1!5を内
側にしてスペーサー6を介して対向させた構造となって
おり、これを指で押すと、対向している透明導電性膜5
が接触してスイッチがオン(ON>の状態となって入力
される。ここで用いられる透明+I?l性フィルムは電
極グレードのもので、ポリエステル(特にポリエチレン
テレフタレート)、ポリエーテルサルフォン等の機械的
強度、耐熱性、耐薬品性に優れたベースフィルム表面に
インジウムm酸化物(以下、ITOという)、錫アンチ
モン酸化物等の半導体薄膜、金、パラジウム、アルミニ
ウムあるいはクロム系合金等の金属、薄膜を真空蒸着、
スパッタリング、イオンブレーティング、イオンビーム
蒸着等の方法により形成したものである。現在市販され
ている透明導電性フィルムの多くはポリエステルフィル
ム表面にITO膜を形成したタイプのものである。
しかしながら、これらの透明導電性膜はベースフィルム
より屈折率が高く、これらの被膜を形成した透明導電性
フィルムは表面の反射が増大するという欠点を有してい
る。この点を第3図の分光反射率曲線図を用いて説明す
ると、図中、aはポリエステルベースフィルム、bはI
TOil膜(光学膜厚72.3nm)を設けたポリエス
テルフィルムの片面分光反射率曲線であり、曲線aとb
の対比より、ITOilJI!Iを設けたポリエステル
フィルムの反射率が、ポリエステルベースフィルムの反
射率よりも著しく増大している。
より屈折率が高く、これらの被膜を形成した透明導電性
フィルムは表面の反射が増大するという欠点を有してい
る。この点を第3図の分光反射率曲線図を用いて説明す
ると、図中、aはポリエステルベースフィルム、bはI
TOil膜(光学膜厚72.3nm)を設けたポリエス
テルフィルムの片面分光反射率曲線であり、曲線aとb
の対比より、ITOilJI!Iを設けたポリエステル
フィルムの反射率が、ポリエステルベースフィルムの反
射率よりも著しく増大している。
そしてITO@IEIを設けたポリエステルフィルムか
らなる透明導電性フィルムの上述の欠点は、該透明導電
性フィルムを用いて得られた従来の透明タッチパネルの
欠点ともなっており、タッチパネル画面のコントラスト
が悪い、表示がクリアーでない、反射が強くて見づらい
等の問題点があった。
らなる透明導電性フィルムの上述の欠点は、該透明導電
性フィルムを用いて得られた従来の透明タッチパネルの
欠点ともなっており、タッチパネル画面のコントラスト
が悪い、表示がクリアーでない、反射が強くて見づらい
等の問題点があった。
このような従来の透明タッチパネルの問題点を解消する
ために、ベースフィルムの透明導電性膜の設けられてい
ない面をあらし処理(ぼかし処理)することが行なわれ
ているが、その効果は十分でなく、上述の問題点を解消
するに至っていない。
ために、ベースフィルムの透明導電性膜の設けられてい
ない面をあらし処理(ぼかし処理)することが行なわれ
ているが、その効果は十分でなく、上述の問題点を解消
するに至っていない。
〈発明が解決しようとする問題点〉
従って本発明の目的は、透明タッチパネル等に用いられ
る透明導電性フィルムの本来の機能であるs?I性を完
全に維持しつつ、その欠点である反射性を著しく軽減さ
せた透明導電性フィルムを提供することにある。
る透明導電性フィルムの本来の機能であるs?I性を完
全に維持しつつ、その欠点である反射性を著しく軽減さ
せた透明導電性フィルムを提供することにある。
〈問題点を解消するための手段〉
上述の目的を達成するため、本発明者は、反射防止膜を
設けることに着目し、その成膜位置について検討した結
果、透明導電性フィルムの透明導電性m層が形成されて
いない面に反射防止膜を設けても、その反射性は軽減す
るものの十分でないのに対し、透明基板上に透明S電性
ll1層を最外層とする多層反射防止膜を設けると1#
電性を完全に維持し、かつその反射性が著しく軽減され
ることを見い出し、本発明を完成させた。
設けることに着目し、その成膜位置について検討した結
果、透明導電性フィルムの透明導電性m層が形成されて
いない面に反射防止膜を設けても、その反射性は軽減す
るものの十分でないのに対し、透明基板上に透明S電性
ll1層を最外層とする多層反射防止膜を設けると1#
電性を完全に維持し、かつその反射性が著しく軽減され
ることを見い出し、本発明を完成させた。
従って本発明は、透明基板上に透明導電性膜層を最外層
とする多層反射防止膜を設けたことを特徴とする透明導
電性フィルムである。
とする多層反射防止膜を設けたことを特徴とする透明導
電性フィルムである。
従来透明基板用多層反射防止膜の最外層としてSiO、
MoF2等の低屈折率膜が使用されているが、本発明は
ITO膜のような導電性高屈折率膜(屈折率n=2)を
導電性膜として機能させるだけでなく、反射防止膜の最
外層とても機能させでいることを特徴とするものである
。
MoF2等の低屈折率膜が使用されているが、本発明は
ITO膜のような導電性高屈折率膜(屈折率n=2)を
導電性膜として機能させるだけでなく、反射防止膜の最
外層とても機能させでいることを特徴とするものである
。
本発明の好ましい態様においては、上記多層反射防止膜
は、基板側から外方に向けて数えて第1層が第1低屈折
率膜層L1 (光学膜厚0≦[L1]≦λ/4、但しλ
は中心波長500〜600nm)であり、第2Nが高屈
折率膜層H(光学膜厚λ/8≦[H]≦λ/4)であり
、第3層が第2低屈折率!JIIL2 (光学膜厚0≦
[L2] ≦λ/4)であり、第4層(最外層)が透明
導電性膜層TC(光学膜厚0< [TC]≦λ/4)で
ある多m膜により構成される。ここに第1低屈折率膜層
L1は光学膜厚[L1]がOの場合も含むものであり、
この場合には第1屈折率膜層L1は設けられていない。
は、基板側から外方に向けて数えて第1層が第1低屈折
率膜層L1 (光学膜厚0≦[L1]≦λ/4、但しλ
は中心波長500〜600nm)であり、第2Nが高屈
折率膜層H(光学膜厚λ/8≦[H]≦λ/4)であり
、第3層が第2低屈折率!JIIL2 (光学膜厚0≦
[L2] ≦λ/4)であり、第4層(最外層)が透明
導電性膜層TC(光学膜厚0< [TC]≦λ/4)で
ある多m膜により構成される。ここに第1低屈折率膜層
L1は光学膜厚[L1]がOの場合も含むものであり、
この場合には第1屈折率膜層L1は設けられていない。
第2低屈折率膜層L2の場合も同様である。多層反射防
止膜全体の膜厚はλ/4以上3/4λ以下であるのが好
ましい。
止膜全体の膜厚はλ/4以上3/4λ以下であるのが好
ましい。
上記の反射防止膜を構成する金属酸化物としては、二酸
化ケイ素(Si02>、−1m化ケイ素(Sin)、酸
化アルミニウム(AI1203)、酸化ジルコニウム(
Zr02)、酸化チタン(TiO2)、酸化セリウム(
CeO2)、酸化イツトリウム(Y2O2)、酸化イン
ジウム(In203)、酸化錫(SnO2)、インジウ
ム錫酸化物(ITO)、錫アンチモン酸化物(SnO−
8b203)、酸化亜鉛(ZnO)等が挙げられ、また
金属弗化物としては弗化マグネシウム(MoF、、)、
弗化セリウム(CeF3)等が挙げられ、さらに金属硫
化物として硫化亜鉛(ZnS)が挙げられる。これらの
金属酸化物、金属弗化物及び金属硫化物はそれぞれが有
する屈折率に応じて高屈折率膜層、低屈折率膜層に使用
される。また酸化インジウム、酸化錫、ITO。
化ケイ素(Si02>、−1m化ケイ素(Sin)、酸
化アルミニウム(AI1203)、酸化ジルコニウム(
Zr02)、酸化チタン(TiO2)、酸化セリウム(
CeO2)、酸化イツトリウム(Y2O2)、酸化イン
ジウム(In203)、酸化錫(SnO2)、インジウ
ム錫酸化物(ITO)、錫アンチモン酸化物(SnO−
8b203)、酸化亜鉛(ZnO)等が挙げられ、また
金属弗化物としては弗化マグネシウム(MoF、、)、
弗化セリウム(CeF3)等が挙げられ、さらに金属硫
化物として硫化亜鉛(ZnS)が挙げられる。これらの
金属酸化物、金属弗化物及び金属硫化物はそれぞれが有
する屈折率に応じて高屈折率膜層、低屈折率膜層に使用
される。また酸化インジウム、酸化錫、ITO。
錫アンチモン酸化物、酸化亜鉛などの導電性酸化物が最
外層の導電性高屈折率膜層TCとして用いられることは
もちろんである。
外層の導電性高屈折率膜層TCとして用いられることは
もちろんである。
これらの反射防止膜は、真空蒸着法、スパッタリング法
、イオンブレーティング法、イオンビーム蒸着法等の物
理的方法や化学的気相成長法(CVD>、ゾルゲル法等
の化学的方法などの従来より慣用されている方法によっ
て形成される。
、イオンブレーティング法、イオンビーム蒸着法等の物
理的方法や化学的気相成長法(CVD>、ゾルゲル法等
の化学的方法などの従来より慣用されている方法によっ
て形成される。
以下、本発明の透明導電性フィルムを透明タッチパネル
に応用した場合について図面を参照しながら説明する。
に応用した場合について図面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の透明導電性フィルムを2枚用いて得ら
れた透明タッチパネルの一例を示すものである。各透明
導電性フィルムは、ベースフィルム1上に、ベースフィ
ルム側から外方に向けて数えて第1層が第1低屈折率膜
1i!(Ll)2であり、第2層が高屈折率膜層(H)
3であり、第3層が第2低屈折率膜層(L2)4であり
、第4層(最外層)が透明導電性II!I層(TC)5
である多層反射防止膜を設けることにより形成されてい
る。即ち、上記透明導電性フィルムは、ベースフィルム
と透明1電性膜とからなる従来の透明導電性フィルムの
ベースフィルムと透明導電性膜の聞に更に多層反射防止
膜の構成要素として低屈折率1ull!l。
れた透明タッチパネルの一例を示すものである。各透明
導電性フィルムは、ベースフィルム1上に、ベースフィ
ルム側から外方に向けて数えて第1層が第1低屈折率膜
1i!(Ll)2であり、第2層が高屈折率膜層(H)
3であり、第3層が第2低屈折率膜層(L2)4であり
、第4層(最外層)が透明導電性II!I層(TC)5
である多層反射防止膜を設けることにより形成されてい
る。即ち、上記透明導電性フィルムは、ベースフィルム
と透明1電性膜とからなる従来の透明導電性フィルムの
ベースフィルムと透明導電性膜の聞に更に多層反射防止
膜の構成要素として低屈折率1ull!l。
高屈折率膜層を設けたものである。そしてこの多層反射
防止膜を有する2枚の透明導電性フィルムを導電面を内
側にしてスペーサー6を介して対向させることにより目
的とする透明タッチパネルが形成される。
防止膜を有する2枚の透明導電性フィルムを導電面を内
側にしてスペーサー6を介して対向させることにより目
的とする透明タッチパネルが形成される。
なお第1図に示された透明タッチパネルにおいては、一
対の透明導電性フィルムの両方の透明導電性フィルムに
多層反射防止膜が設けられているが、上側透明11電性
フイルム又は下側透明IP電性フィルムのみに多層反射
防止膜を設けても良く、多層反射防止膜を片側のみに設
けた場合、両側に設けた場合よりも反射防止効果は劣る
が、本発明の目的を達成しつる。
対の透明導電性フィルムの両方の透明導電性フィルムに
多層反射防止膜が設けられているが、上側透明11電性
フイルム又は下側透明IP電性フィルムのみに多層反射
防止膜を設けても良く、多層反射防止膜を片側のみに設
けた場合、両側に設けた場合よりも反射防止効果は劣る
が、本発明の目的を達成しつる。
また上記透明タッチパネルにおいて、透明導電性膜を最
外層とする多層反射防止膜とともに非導電面(すなわち
透明タッチパネルの外表面)にも反射防止膜(光学膜厚
λ/4以上3/4λ以下)が設けられていても良く、両
面に反射防止膜を有する透明2g電性フィルムは透明導
電性膜を最外層とする多層反射防止層のみ有するものに
比べ反射率特性が更に改良される。この場合、非1m面
の反射防止膜は一般に用いられている低屈折率膜単層膜
あるいは低屈折率膜層を最外層とする多層反射防止膜の
いずれでもよいが、広い波長域でより低反射が実現でき
る多層反射防止膜であるのが好ましい。一般に利用され
ている反射防止膜は絶縁層であるが、本発明の透明導電
性フィルムを用いた透明タッチパネルにおいて内側導電
面反射防止膜は透明導電性膜を最外層とする多層反射防
止膜であるため導電性は全く損われない。又スイッチン
グ時の接触抵抗、作動力も状来のタイプと比較して全く
変わらない。その一方で多層反射防止膜としたことによ
り、光学特性及び機械的耐久性が向上するという利点が
ある。
外層とする多層反射防止膜とともに非導電面(すなわち
透明タッチパネルの外表面)にも反射防止膜(光学膜厚
λ/4以上3/4λ以下)が設けられていても良く、両
面に反射防止膜を有する透明2g電性フィルムは透明導
電性膜を最外層とする多層反射防止層のみ有するものに
比べ反射率特性が更に改良される。この場合、非1m面
の反射防止膜は一般に用いられている低屈折率膜単層膜
あるいは低屈折率膜層を最外層とする多層反射防止膜の
いずれでもよいが、広い波長域でより低反射が実現でき
る多層反射防止膜であるのが好ましい。一般に利用され
ている反射防止膜は絶縁層であるが、本発明の透明導電
性フィルムを用いた透明タッチパネルにおいて内側導電
面反射防止膜は透明導電性膜を最外層とする多層反射防
止膜であるため導電性は全く損われない。又スイッチン
グ時の接触抵抗、作動力も状来のタイプと比較して全く
変わらない。その一方で多層反射防止膜としたことによ
り、光学特性及び機械的耐久性が向上するという利点が
ある。
一般に電極グレードで使用される透明導電性膜の表面抵
抗は10〜103Ω/口ぐらいであり、成膜法、成膜温
度その他の条件により異なるものの、光学!!1F10
<[ITO]≦λ/4のITOIIIJにより、上記表
面抵抗は十分実現可能である。ITOWAの膜厚により
、多層反射防止膜を構成する他のHM体膜の反射防止効
果を最大とするための最適膜厚も変化する。第1低屈折
率膜1FljL1又は高屈折率膜厚H(第1低屈折率膜
層L1が存在しない場合)は多層反射防止層の構成要素
として反射率調整機能をもつほか、密着性、耐熱性その
他の機械的耐久性を高める役割も有する。
抗は10〜103Ω/口ぐらいであり、成膜法、成膜温
度その他の条件により異なるものの、光学!!1F10
<[ITO]≦λ/4のITOIIIJにより、上記表
面抵抗は十分実現可能である。ITOWAの膜厚により
、多層反射防止膜を構成する他のHM体膜の反射防止効
果を最大とするための最適膜厚も変化する。第1低屈折
率膜1FljL1又は高屈折率膜厚H(第1低屈折率膜
層L1が存在しない場合)は多層反射防止層の構成要素
として反射率調整機能をもつほか、密着性、耐熱性その
他の機械的耐久性を高める役割も有する。
以上、本発明の透明導電性フィルムの応用例を透明タッ
チパネルを例にして説明してきたが、本発明の透明導電
性フィルムの応用分野はこれに限定されるものではなく
、液晶用表示電極、面発熱式防曇膜等の用途にも用いら
れる。
チパネルを例にして説明してきたが、本発明の透明導電
性フィルムの応用分野はこれに限定されるものではなく
、液晶用表示電極、面発熱式防曇膜等の用途にも用いら
れる。
〈実施例〉
以下、実施例を挙げて本発明を更に説明する。
実施例1
ポリエステルフィルム(300X210m++、125
μ厚)の表面に真空蒸着法(真空rlL10−5TOr
r、温度120℃)により、高屈折率g1層(H)とし
て酸化チタン(Ti02)、第2低屈折率膜層(L2)
として二酸化ケイ素(Si02)を順次、それぞれの光
学膜厚が137.5ns、42.6011となるように
形成した後、高周波イオ’:/7L/−ティン’j’f
k (400W、150V、Ill素分IE 10−’
Torr)により透明S電性1ullとてITOSを光
学膜厚が72.3n−となるように形成した。得られた
反射防止膜を有する透明導電性フィルムの片面分光反射
率曲線を第3図のCに示す。
μ厚)の表面に真空蒸着法(真空rlL10−5TOr
r、温度120℃)により、高屈折率g1層(H)とし
て酸化チタン(Ti02)、第2低屈折率膜層(L2)
として二酸化ケイ素(Si02)を順次、それぞれの光
学膜厚が137.5ns、42.6011となるように
形成した後、高周波イオ’:/7L/−ティン’j’f
k (400W、150V、Ill素分IE 10−’
Torr)により透明S電性1ullとてITOSを光
学膜厚が72.3n−となるように形成した。得られた
反射防止膜を有する透明導電性フィルムの片面分光反射
率曲線を第3図のCに示す。
得られた分光反射率曲線に基づき計算することにより構
想反射率1.4%が算出され、良好な反射防止効果が得
られた。又、表面抵抗は220Ω/口であった(ポリエ
ステルフィルムの表面に同じ光学膜厚のITO膜を直接
形成した透明導電性フィルムの片面分光反射率曲線は第
3図のbに示す通りであり、構想反射率は12.2%で
ある。また表面抵抗は220Ω/口であった)。
想反射率1.4%が算出され、良好な反射防止効果が得
られた。又、表面抵抗は220Ω/口であった(ポリエ
ステルフィルムの表面に同じ光学膜厚のITO膜を直接
形成した透明導電性フィルムの片面分光反射率曲線は第
3図のbに示す通りであり、構想反射率は12.2%で
ある。また表面抵抗は220Ω/口であった)。
実施例2
ポリエステルフィルム(300x210m、125μ厚
)の表面に真空蒸着法(真空1!t10’■0「「、温
度120℃)により、第1低屈折率膜層(シ)として二
酸化ケイ素(Sin2)、高屈折率111層(H)とし
て酸化チタン(TiO2)、第2低屈折率膜層(L2)
として二酸化ケイ素(Si02)を順次、それぞれの光
学膜厚が27.5ns、137.5nm、49.5nm
となるように形成した後、高周波イオンブレーティング
法(400W、150■、酸素分圧10−4爾rr)
ニより透明li!性膜層としてITO膜を光学膜厚が7
2.30−となるように形成した。得られた反射防止膜
を有する透明導電性フィルムの片面分光反射率曲線を第
3図dに示す。得られた分光反射率曲線に基づき計算す
ることにより構想反射率1゜4%が算出され、良好な反
射防止効果が得られた。
)の表面に真空蒸着法(真空1!t10’■0「「、温
度120℃)により、第1低屈折率膜層(シ)として二
酸化ケイ素(Sin2)、高屈折率111層(H)とし
て酸化チタン(TiO2)、第2低屈折率膜層(L2)
として二酸化ケイ素(Si02)を順次、それぞれの光
学膜厚が27.5ns、137.5nm、49.5nm
となるように形成した後、高周波イオンブレーティング
法(400W、150■、酸素分圧10−4爾rr)
ニより透明li!性膜層としてITO膜を光学膜厚が7
2.30−となるように形成した。得られた反射防止膜
を有する透明導電性フィルムの片面分光反射率曲線を第
3図dに示す。得られた分光反射率曲線に基づき計算す
ることにより構想反射率1゜4%が算出され、良好な反
射防止効果が得られた。
又、表面抵抗は220Ω/口であった。
実施例3
実施例1.2の成膜条件に従ってポリエステルフィルム
表面に■S i O(L 1) / T i 02(H
) /S i O(L2 ) / I To (TO)
、■TiO2(H)/SiO2(L2 )/ITO(T
C) 、■5in2 (Ll )/ZrO2(H)/
S i O(L 2 ) / I T O(T C)
、■ITO(TC)のみの4II類の膜構成で合計24
11の多層反射防止膜を形成した。ITO膜の光学膜厚
を137.5ns、 110r11、82.611m、
68 、8nm、55nm、27.6rvと変化させ
た場合の各層の光学膜厚と、得られた片面分光反射率曲
線に塁づく構想反射率及び表面抵抗との関係を表1に示
す。
表面に■S i O(L 1) / T i 02(H
) /S i O(L2 ) / I To (TO)
、■TiO2(H)/SiO2(L2 )/ITO(T
C) 、■5in2 (Ll )/ZrO2(H)/
S i O(L 2 ) / I T O(T C)
、■ITO(TC)のみの4II類の膜構成で合計24
11の多層反射防止膜を形成した。ITO膜の光学膜厚
を137.5ns、 110r11、82.611m、
68 、8nm、55nm、27.6rvと変化させ
た場合の各層の光学膜厚と、得られた片面分光反射率曲
線に塁づく構想反射率及び表面抵抗との関係を表1に示
す。
表−1より明らかなように、■、■及び■に示された本
発明の透明導電性フィルムはいずれも■に示された比較
例の透明導電性フィルムに比べ、構想反射率が著しく低
く良好な反射防止効果が得られている。
発明の透明導電性フィルムはいずれも■に示された比較
例の透明導電性フィルムに比べ、構想反射率が著しく低
く良好な反射防止効果が得られている。
実施例1及び実施例2の透明導電性フィルム並びに実施
例3の表−1■、■及び■に示された透明+[性フィル
ムを用いて得られた透明タッチパネルは、その導電性を
完全に維持しつつタッチパネルの画面のコントラストが
良く、表示がクリアーで画面が見やすいという効果を有
していた。これに対して表−1の■に比較例として示さ
れた、ポリエステルフィルムにITO膜のみを被覆して
なる透明S電性フィルムを用いて得られた透明タッチパ
ネルは、上記の効果を奏することができなかった。
例3の表−1■、■及び■に示された透明+[性フィル
ムを用いて得られた透明タッチパネルは、その導電性を
完全に維持しつつタッチパネルの画面のコントラストが
良く、表示がクリアーで画面が見やすいという効果を有
していた。これに対して表−1の■に比較例として示さ
れた、ポリエステルフィルムにITO膜のみを被覆して
なる透明S電性フィルムを用いて得られた透明タッチパ
ネルは、上記の効果を奏することができなかった。
〈発明の効果〉
以上詳述したように、本発明の透明導電性フィルムは、
その本来の機能である導電性等を完全に維持しつつ、そ
の欠点である反射性を著しく軽減させたので、例えば透
明タッチパネルに応用した場合タッチパネル画面のコン
トラストが良く、表示がクリアーであり、画面が見やす
い等の利点をもたらす。また本発明の透明導電性フィル
ムは同時に機械的耐久性が向上しているので、その応用
製品の機械的耐久性も向上するという利点がある。
その本来の機能である導電性等を完全に維持しつつ、そ
の欠点である反射性を著しく軽減させたので、例えば透
明タッチパネルに応用した場合タッチパネル画面のコン
トラストが良く、表示がクリアーであり、画面が見やす
い等の利点をもたらす。また本発明の透明導電性フィル
ムは同時に機械的耐久性が向上しているので、その応用
製品の機械的耐久性も向上するという利点がある。
第1図は本発明の透明導電性フィルムを用いて得られた
透明タッチパネルの一例を示す概略図、第2図は従来の
透明導電性フィルムを用いて得られた透明タッチパネル
を示す概略図、第3図は本発明の透明導電性フィルム等
の分光反射率曲線を示すグラフである。 1・・・ベースフィルム 2・・・第1低屈折率Il!J層(Ll)3・・・高屈
折率111層(H) 4・・・第2低屈折率膜E!(L2) 5・・・透明導電性膜(TC) 6・・・スペーサ− 第1図 第2図 1・・・ベースフィルム 6・・・スペーサー 第3図 波長(nm)
透明タッチパネルの一例を示す概略図、第2図は従来の
透明導電性フィルムを用いて得られた透明タッチパネル
を示す概略図、第3図は本発明の透明導電性フィルム等
の分光反射率曲線を示すグラフである。 1・・・ベースフィルム 2・・・第1低屈折率Il!J層(Ll)3・・・高屈
折率111層(H) 4・・・第2低屈折率膜E!(L2) 5・・・透明導電性膜(TC) 6・・・スペーサ− 第1図 第2図 1・・・ベースフィルム 6・・・スペーサー 第3図 波長(nm)
Claims (2)
- (1)透明基板上に透明導電性膜層を最外層とする多層
反射防止膜を設けたことを特徴とする透明導電性フィル
ム。 - (2)基板側から外方に向けて数えて第1層が第1低屈
折率膜層L_1(光学膜厚0≦[L_1]≦λ/4、但
しλは中心波長500〜600nm)であり、第2層が
高屈折率膜層H(光学膜厚λ/8≦[H]≦λ/4)で
あり、第3層が第2低屈折率膜層L_2(光学膜厚0≦
[L_2]≦λ/4)であり、第4層(最外層)が透明
導電性膜層TC(光学膜厚0<[TC]≦λ/4)であ
る多層膜により、前記の多層反射膜が構成されている、
特許請求の範囲第1項記載の透明導電性フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10152587A JP2509215B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 反射防止能を有する透明導電性フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10152587A JP2509215B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 反射防止能を有する透明導電性フイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63265625A true JPS63265625A (ja) | 1988-11-02 |
JP2509215B2 JP2509215B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=14302898
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10152587A Expired - Lifetime JP2509215B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 反射防止能を有する透明導電性フイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2509215B2 (ja) |
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1987
- 1987-04-24 JP JP10152587A patent/JP2509215B2/ja not_active Expired - Lifetime
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CN112526650A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-03-19 | 浙江日久新材料科技有限公司 | 一种低阻抗型ito导电膜 |
CN115373055A (zh) * | 2021-05-17 | 2022-11-22 | 大永真空设备股份有限公司 | 光学多层膜及其用途 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2509215B2 (ja) | 1996-06-19 |
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