JP2590136B2 - 導電性反射防止膜の付着透明板 - Google Patents
導電性反射防止膜の付着透明板Info
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- JP2590136B2 JP2590136B2 JP62238234A JP23823487A JP2590136B2 JP 2590136 B2 JP2590136 B2 JP 2590136B2 JP 62238234 A JP62238234 A JP 62238234A JP 23823487 A JP23823487 A JP 23823487A JP 2590136 B2 JP2590136 B2 JP 2590136B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、透明基板表面の光の反射を低減させるため
の導電性反射防止膜の付着透明板に関するもので、特に
高耐久性金属膜を用いて帯電防止機能を付与するに適し
た導電性反射防止膜の付着透明板に関する。
の導電性反射防止膜の付着透明板に関するもので、特に
高耐久性金属膜を用いて帯電防止機能を付与するに適し
た導電性反射防止膜の付着透明板に関する。
［従来の技術］ 多層膜中の一つの膜にITO膜（錫をドープしたインジ
ウム酸化物膜）を用いた反射防止膜を透明基板等の表面
に付着した導電性反射防止膜付着透明板は特開昭59−90
801号及び特開昭60−168102号で公知である。このよう
な導電性反射防止膜の付着透明板は陰極線管の表面パネ
ルに接着剤を介して接着し、該導電性反射防止膜の少な
くとも１ケ所の接地電極を介して接地することにより、
陰極線管の内部に印加される高電圧によって発生する陰
極線管表面付近の強電界が導電性反射防止膜の導電性で
あるITO膜を通して供給される電荷によって、該ITO膜よ
り外側にでるのを防ぐことができる。
ウム酸化物膜）を用いた反射防止膜を透明基板等の表面
に付着した導電性反射防止膜付着透明板は特開昭59−90
801号及び特開昭60−168102号で公知である。このよう
な導電性反射防止膜の付着透明板は陰極線管の表面パネ
ルに接着剤を介して接着し、該導電性反射防止膜の少な
くとも１ケ所の接地電極を介して接地することにより、
陰極線管の内部に印加される高電圧によって発生する陰
極線管表面付近の強電界が導電性反射防止膜の導電性で
あるITO膜を通して供給される電荷によって、該ITO膜よ
り外側にでるのを防ぐことができる。
したがって、導電性反射防止膜の付着透明板は陰極線
管の画像を反射光なしに鮮明にみることができる外、陰
極線管により生じる強電界による悪影響、例えば人体と
の間の放電や陰極線管の表面へのほこりの吸着などを防
ぐことができる利点がある。また、眼鏡レンズの眼と反
対側の面に指紋が付着しても目立たない反射防止膜とし
て、レンズ表面上に順次ニッケル・クロム合金（Ni＋C
r）などの金属膜と酸化珪素（SiO2）または弗化マグネ
シウム（MgF2）膜とを付着したものが特開昭51−95858
号により公知である。この眼鏡レンズの反射防止膜も導
電性があり、その導電性を利用することにより、反射防
止作用と同時に前記した強電界による悪影響を防止でき
る。
管の画像を反射光なしに鮮明にみることができる外、陰
極線管により生じる強電界による悪影響、例えば人体と
の間の放電や陰極線管の表面へのほこりの吸着などを防
ぐことができる利点がある。また、眼鏡レンズの眼と反
対側の面に指紋が付着しても目立たない反射防止膜とし
て、レンズ表面上に順次ニッケル・クロム合金（Ni＋C
r）などの金属膜と酸化珪素（SiO2）または弗化マグネ
シウム（MgF2）膜とを付着したものが特開昭51−95858
号により公知である。この眼鏡レンズの反射防止膜も導
電性があり、その導電性を利用することにより、反射防
止作用と同時に前記した強電界による悪影響を防止でき
る。
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、多層膜中の一つの膜にITO膜を用いた
導電性反射防止膜は酸化度と膜密度の一定のITO膜が形
成し難いため、安定した屈折率のものが得難く、反射防
止膜の性能を低下したり、またITO膜を真空蒸着法で形
成する場合には蒸発源のITOが局部的に昇華するため、
一定の膜厚のものを形成することが困難であるという製
造上の不利がある。
導電性反射防止膜は酸化度と膜密度の一定のITO膜が形
成し難いため、安定した屈折率のものが得難く、反射防
止膜の性能を低下したり、またITO膜を真空蒸着法で形
成する場合には蒸発源のITOが局部的に昇華するため、
一定の膜厚のものを形成することが困難であるという製
造上の不利がある。
一方、透明基板上に順次付着したニッケル・クロム合
金などの金属膜と酸化珪素、または弗化マグネシウム膜
とは陰極線管に用いる反射防止膜としては不充分な反射
防止効果しか得られない。
金などの金属膜と酸化珪素、または弗化マグネシウム膜
とは陰極線管に用いる反射防止膜としては不充分な反射
防止効果しか得られない。
［問題点を解決するための手段］ 本発明は透明基板上に、屈折率が1.60〜1.80で、且つ
膜厚が600Å〜900Åの中屈折率誘電体膜と、屈折率が1.
90〜2.50で、且つ膜厚が1000Å〜1400Åの高屈折率誘電
体膜と、膜厚が10Å〜20Åのチタン、クロム、ジルコニ
ウム、モリブデン、ニッケル・クロム合金、及びステン
レス（Ni＋Ci＋Fe）のいずれか一つの金属膜と、屈折率
が1.35〜1.50で、且つ膜厚が700Å〜1200Åの低屈折率
誘電体膜とを順次形成した導電性反射防止膜の付着透明
板である。
膜厚が600Å〜900Åの中屈折率誘電体膜と、屈折率が1.
90〜2.50で、且つ膜厚が1000Å〜1400Åの高屈折率誘電
体膜と、膜厚が10Å〜20Åのチタン、クロム、ジルコニ
ウム、モリブデン、ニッケル・クロム合金、及びステン
レス（Ni＋Ci＋Fe）のいずれか一つの金属膜と、屈折率
が1.35〜1.50で、且つ膜厚が700Å〜1200Åの低屈折率
誘電体膜とを順次形成した導電性反射防止膜の付着透明
板である。
また、第２の発明は透明基板上に、屈折率が1.90〜2.
50で、且つ膜厚が90Å〜140Åの第１の高屈折率誘電体
膜と、屈折率が1.35〜1.50で、且つ膜厚が300Å〜500Å
の第１の低屈折率誘電体膜と、屈折率が1.90〜2.50で、
且つ膜厚が1000Å〜1400Åの第２の高屈折率誘電体膜
と、膜厚が10Å〜20Åのチタン、クロム、ジルコニウ
ム、モリブデン、ニッケル・クロム合金、及びステンレ
ス（Ni＋Cr＋Fe）のいずれか一つの金属膜と、屈折率が
1.35〜1.50で、且つ膜厚が700Å〜1200Åの低屈折率誘
電体膜とを順次形成した導電性反射防止膜の付着透明板
である。
50で、且つ膜厚が90Å〜140Åの第１の高屈折率誘電体
膜と、屈折率が1.35〜1.50で、且つ膜厚が300Å〜500Å
の第１の低屈折率誘電体膜と、屈折率が1.90〜2.50で、
且つ膜厚が1000Å〜1400Åの第２の高屈折率誘電体膜
と、膜厚が10Å〜20Åのチタン、クロム、ジルコニウ
ム、モリブデン、ニッケル・クロム合金、及びステンレ
ス（Ni＋Cr＋Fe）のいずれか一つの金属膜と、屈折率が
1.35〜1.50で、且つ膜厚が700Å〜1200Åの低屈折率誘
電体膜とを順次形成した導電性反射防止膜の付着透明板
である。
［作 用］ 本発明による導電性反射防止膜付着透明板は導電性反
射防止膜の層を４層又は５層にして、その１層にチタ
ン、クロム、ジルコニウム、モリブデン、ニッケル・ク
ロム合金及びステンレス（Ni＋Ci＋Fe）のいずれか一つ
の金属膜を用いて導電性を付与し、しかもこれらの金属
膜は真空蒸着法により安定して形成でき、反射防止膜の
特性を安定したものにすることができる。
射防止膜の層を４層又は５層にして、その１層にチタ
ン、クロム、ジルコニウム、モリブデン、ニッケル・ク
ロム合金及びステンレス（Ni＋Ci＋Fe）のいずれか一つ
の金属膜を用いて導電性を付与し、しかもこれらの金属
膜は真空蒸着法により安定して形成でき、反射防止膜の
特性を安定したものにすることができる。
［実施例 １］ 以下、本発明の実施例を図面を引用して説明する。
第１図において、１はガラス基板、２はガラス基板１
の上に形成された多層導電性反射防止膜であり、ガラス
基板１としては屈折率1.52のフロートガラス板を通常用
いるが、屈折率1.45〜1.60の範囲の透明な他の種類のガ
ラス板、各種プラスチック板、特にハードコートを施し
たプラスチック板又はプラスチックフィルムを用いても
よく、また多層導電性反射防止膜２には中屈折率誘電体
膜３と高屈折率誘電体膜４と、金属膜５と、低屈折率誘
電体膜６とからなる。
の上に形成された多層導電性反射防止膜であり、ガラス
基板１としては屈折率1.52のフロートガラス板を通常用
いるが、屈折率1.45〜1.60の範囲の透明な他の種類のガ
ラス板、各種プラスチック板、特にハードコートを施し
たプラスチック板又はプラスチックフィルムを用いても
よく、また多層導電性反射防止膜２には中屈折率誘電体
膜３と高屈折率誘電体膜４と、金属膜５と、低屈折率誘
電体膜６とからなる。
中屈折率誘電体膜３としては、屈折率が1.60〜1.80で
ある酸化アルミニウム（Al2O3,屈折率1.63）、弗化セリ
ウム（CeF3,屈折率1.63）、酸化アルミニウムと酸化ジ
ルコニウムの混合物（Al2O3＋ZrO2,屈折率1.65〜1.7
5）、及び弗化セリウムと酸化ジルコニウムの混合物（C
eF3＋ZrO2,屈折率1.65〜1.75）等を用いることができ
る。
ある酸化アルミニウム（Al2O3,屈折率1.63）、弗化セリ
ウム（CeF3,屈折率1.63）、酸化アルミニウムと酸化ジ
ルコニウムの混合物（Al2O3＋ZrO2,屈折率1.65〜1.7
5）、及び弗化セリウムと酸化ジルコニウムの混合物（C
eF3＋ZrO2,屈折率1.65〜1.75）等を用いることができ
る。
また、高屈折率誘電体膜４としては、屈折率が1.90〜
2.50である酸化チタン（TiO2,屈折率2.4）、酸化タンタ
ル（Ta2O5,屈折率2.1）酸化ジルコニウム（ZrO2,屈折率
2.05）、酸化ハフニウム（HfO2,屈折率1.9）、酸化ジル
コニウムと酸化チタンの混合物（ZrO2＋TiO2,屈折率2.1
〜2.2）、酸化プラセオジウムと酸化チタンの混合物（P
r6O11＋TiO2,屈折率2.1〜2.3）が用いられる。
2.50である酸化チタン（TiO2,屈折率2.4）、酸化タンタ
ル（Ta2O5,屈折率2.1）酸化ジルコニウム（ZrO2,屈折率
2.05）、酸化ハフニウム（HfO2,屈折率1.9）、酸化ジル
コニウムと酸化チタンの混合物（ZrO2＋TiO2,屈折率2.1
〜2.2）、酸化プラセオジウムと酸化チタンの混合物（P
r6O11＋TiO2,屈折率2.1〜2.3）が用いられる。
更にまた、金属膜５としては、可視光波長全域にわた
って透過率がほぼ一定で、且つ薄い連続膜に形成が容易
な高耐久性のものが良く、チタン（Ti）、クロム（C
r）、ジルコニウム（Zr）、モリブデン（Mo）、ニッケ
ル・クロム合金（Ni＋Cr）、及びステンレス（Ni＋Cr＋
Fe）を用いることができる。
って透過率がほぼ一定で、且つ薄い連続膜に形成が容易
な高耐久性のものが良く、チタン（Ti）、クロム（C
r）、ジルコニウム（Zr）、モリブデン（Mo）、ニッケ
ル・クロム合金（Ni＋Cr）、及びステンレス（Ni＋Cr＋
Fe）を用いることができる。
更にまた、低屈折率誘電体膜６としては、酸化珪素
（SiO2,屈折率1.46）及び弗化マグネシウム（MgF2,屈折
率1.38）を用いることができる。これらの中屈折率誘電
体膜３、高屈折率誘電体膜４、金属膜５、及び低屈折率
誘電体膜６は真空蒸着法によって容易にガラス基板上に
形成できる。また、これらの物質のうち弗化マグネシウ
ムを除く他の前記物質はスパッタリングによって容易に
形成できる。
（SiO2,屈折率1.46）及び弗化マグネシウム（MgF2,屈折
率1.38）を用いることができる。これらの中屈折率誘電
体膜３、高屈折率誘電体膜４、金属膜５、及び低屈折率
誘電体膜６は真空蒸着法によって容易にガラス基板上に
形成できる。また、これらの物質のうち弗化マグネシウ
ムを除く他の前記物質はスパッタリングによって容易に
形成できる。
金属膜５をガラス基板上に形成する際金属膜５の表面
が酸化する傾向があり、酸化した部分により、導電性や
光学特性の寄与が低下する場合には金属膜５を形成する
際には酸化する部分の厚さをあらかじめ見込んで、設計
した金属層の膜厚よりも、その分だけ厚い膜を形成する
とよい。例えばステンレス膜を真空蒸着で作成する場合
には厚さ15Åの酸化層が形成されることがあり、これを
見込んでおけば設計通りの導電性と光学特性を持った多
層反射防止膜が得られる。
が酸化する傾向があり、酸化した部分により、導電性や
光学特性の寄与が低下する場合には金属膜５を形成する
際には酸化する部分の厚さをあらかじめ見込んで、設計
した金属層の膜厚よりも、その分だけ厚い膜を形成する
とよい。例えばステンレス膜を真空蒸着で作成する場合
には厚さ15Åの酸化層が形成されることがあり、これを
見込んでおけば設計通りの導電性と光学特性を持った多
層反射防止膜が得られる。
第１表に本実施例の膜構成の屈折率と膜厚の設計例を
掲げた。
掲げた。
酸化珪素、酸化タンタル、及び酸化アルミニウムの光
学定数は消衰係数が零で、また波長依存性が弱いので、
屈折率も第１表に示した近似値をとるが、インコネルと
呼ばれるステンレス（Niが72重量％、Crが16重量％、Fe
が８重量％、残部が不純物）の光学定数は消衰係数が零
でなく、また波長依存性が強いので、その屈折率と消衰
係数とは第２表の如くなる。
学定数は消衰係数が零で、また波長依存性が弱いので、
屈折率も第１表に示した近似値をとるが、インコネルと
呼ばれるステンレス（Niが72重量％、Crが16重量％、Fe
が８重量％、残部が不純物）の光学定数は消衰係数が零
でなく、また波長依存性が強いので、その屈折率と消衰
係数とは第２表の如くなる。
第１図及び第１表に示された、本発明の導電性反射防
止膜を有する透明板を膜側が外側になるように陰極線管
の表示パネルにガラス基板および表示パネルの屈折率に
近い屈折率をもつ接着剤で貼付ける。そして導電性反射
防止膜２の少なくとも１点の接地電極を陰極線管装置本
体の接地点に接続する。
止膜を有する透明板を膜側が外側になるように陰極線管
の表示パネルにガラス基板および表示パネルの屈折率に
近い屈折率をもつ接着剤で貼付ける。そして導電性反射
防止膜２の少なくとも１点の接地電極を陰極線管装置本
体の接地点に接続する。
このような導電性反射防止膜付着透明板の反射率特性
と透過率特性を第２図及び第３図に示す。第２図又は第
３図から明らかなように、反射率は低減され、透過率は
ほとんど低下せずフラットである。
と透過率特性を第２図及び第３図に示す。第２図又は第
３図から明らかなように、反射率は低減され、透過率は
ほとんど低下せずフラットである。
一方、帯電防止作用は前記金属膜５の導電性により得
られる。この金属層５の厚味は11Åあり、第４図に示す
通り100KΩ・Sq未満であり、帯電防止の目的が達せられ
る。陰極線管の内部に印加される高電圧により表示パネ
ルの前方に発生する強い電界は接地電極および前記金属
層５を通して供給される電荷によって遮蔽されるため、
人体との間での放電などの不快な現象は発生しない。な
お、接地電極は多層反射防止膜２の最表面層６の上から
金属片や導電加工を施したプラスチックケースなどを接
触させるだけで充分な導通が得られ、必ずしも前記金属
膜５に直接接触させる必要はない。
られる。この金属層５の厚味は11Åあり、第４図に示す
通り100KΩ・Sq未満であり、帯電防止の目的が達せられ
る。陰極線管の内部に印加される高電圧により表示パネ
ルの前方に発生する強い電界は接地電極および前記金属
層５を通して供給される電荷によって遮蔽されるため、
人体との間での放電などの不快な現象は発生しない。な
お、接地電極は多層反射防止膜２の最表面層６の上から
金属片や導電加工を施したプラスチックケースなどを接
触させるだけで充分な導通が得られ、必ずしも前記金属
膜５に直接接触させる必要はない。
［実施例 ２］ 実施例１と同様に、第５図に示した他の態様の導電性
反射防止膜の付着透明板を製造した。本実施例において
は、ガラス基板７上の多層導電性防止膜８を構成する金
属膜12と誘電体膜9,10,11,13が異なる。
反射防止膜の付着透明板を製造した。本実施例において
は、ガラス基板７上の多層導電性防止膜８を構成する金
属膜12と誘電体膜9,10,11,13が異なる。
すなわち、第１高屈折率誘電体膜９を屈折率が1.90〜
2.50で、膜厚が90Å〜140Åとし、第１の低屈折率誘電
体膜10を屈折率が1.35〜1.50で、膜厚が300Å〜500Åと
し、第２の高屈折率誘電体膜11を屈折率が1.90〜2.50
で、膜厚が1000Å〜1400Åとし、金属膜12が膜厚が10Å
〜20Åとして、第２の低屈折率誘電体膜13が屈折率1.35
〜1.50で、膜厚が700Å〜1200Åとした多層導電性膜８
を構成する。
2.50で、膜厚が90Å〜140Åとし、第１の低屈折率誘電
体膜10を屈折率が1.35〜1.50で、膜厚が300Å〜500Åと
し、第２の高屈折率誘電体膜11を屈折率が1.90〜2.50
で、膜厚が1000Å〜1400Åとし、金属膜12が膜厚が10Å
〜20Åとして、第２の低屈折率誘電体膜13が屈折率1.35
〜1.50で、膜厚が700Å〜1200Åとした多層導電性膜８
を構成する。
第３表に具体例を示し、その導電性反射防止膜の付着
透明板反射率及び透過率を夫々第６図及び第７図に示し
た。第６図及び第７図から明らかなように実施例２のも
のは実施例１のものに比べて、反射防止性能が優れ、透
過率特性はほぼ同等である。
透明板反射率及び透過率を夫々第６図及び第７図に示し
た。第６図及び第７図から明らかなように実施例２のも
のは実施例１のものに比べて、反射防止性能が優れ、透
過率特性はほぼ同等である。
［発明の効果］ 以上のように本発明による導電性反射防止膜の付着透
明板は導電性反射防止膜を４層又は５層構造にし、その
１層にチタン、クロム、ジルコニウム、モリブデン、ニ
ッケル・クロム合金及びステンレス（Ni＋Cr＋Fe）のい
ずれか一つの金属膜を用いてたものであるから、多層膜
の光の干渉により、透明板表面での光な反射を低下をさ
せ、且つ前記金属層により導電性を付与して帯電防止を
することができる。
明板は導電性反射防止膜を４層又は５層構造にし、その
１層にチタン、クロム、ジルコニウム、モリブデン、ニ
ッケル・クロム合金及びステンレス（Ni＋Cr＋Fe）のい
ずれか一つの金属膜を用いてたものであるから、多層膜
の光の干渉により、透明板表面での光な反射を低下をさ
せ、且つ前記金属層により導電性を付与して帯電防止を
することができる。
このような導電性反射防止膜の付着透明板を陰極線管
表面に適用すると、外側から入射する光の反射を大幅に
低減して陰極線管表示面の視認性を高めると共に陰極線
管内部の高電圧によって発生する陰極線管表面付近での
放電等の不快な現象を防ぐことができ、またこの導電性
反射防止膜に所定の透過率低減効果を持たせることがで
きる。
表面に適用すると、外側から入射する光の反射を大幅に
低減して陰極線管表示面の視認性を高めると共に陰極線
管内部の高電圧によって発生する陰極線管表面付近での
放電等の不快な現象を防ぐことができ、またこの導電性
反射防止膜に所定の透過率低減効果を持たせることがで
きる。
図面は本発明の実施例を示すもので、第１図及び第５図
は導電性反射防止膜を有する透明体の断面図、第２図及
び第６図は反射率特性図、第３図及び第７図は透過率特
性図、第４図は金属膜の面積抵抗を示す特性図である。 1,7:ガラス基板、2:多層導電性反射防止膜、3:中屈折率
誘電体膜、4:高屈折率誘電体膜、5,12:金属膜、6:低屈
折率誘電体、9:第１の高屈折率誘電体膜、10:第１の低
屈折率誘電体膜、11:第２の高屈折率誘電体膜、13:第２
の低屈折率誘電体膜
は導電性反射防止膜を有する透明体の断面図、第２図及
び第６図は反射率特性図、第３図及び第７図は透過率特
性図、第４図は金属膜の面積抵抗を示す特性図である。 1,7:ガラス基板、2:多層導電性反射防止膜、3:中屈折率
誘電体膜、4:高屈折率誘電体膜、5,12:金属膜、6:低屈
折率誘電体、9:第１の高屈折率誘電体膜、10:第１の低
屈折率誘電体膜、11:第２の高屈折率誘電体膜、13:第２
の低屈折率誘電体膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中井 日出海 大阪府大阪市東区道修町４丁目８番地 日本板硝子株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−47601（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−250601（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−189501（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−137840（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−168102（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−151602（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−178901（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−116901（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−95858（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−112101（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−58202（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−51101（ＪＰ，Ａ)
Claims (7)
- 【請求項１】透明基板表面での光の反射を低減させるた
めの反射防止膜の付着した透明板において、屈折率が1.
45〜1.60の透明基板と、該透明基板上に形成された、屈
折率が1.60〜1.80で、且つ膜厚が600Å〜900Åの中屈折
率誘電体膜と、該中屈折率誘電体膜上に形成された、屈
折率が1.90〜2.50で、且つ膜厚が1000Å〜1400Åの高屈
折率誘電体膜と、該高屈折率誘電体膜上に形成された、
膜厚が10Å〜20Åのチタン、クロム、ジルコニウム、モ
リブデン、ニッケル・クロム合金及びステンレス（Ni＋
Cr＋Fe）のいずれか一つの金属膜と、該金属膜上に形成
された、屈折率が1.35〜1.50で、且つ膜厚が700Å〜120
0Åの低屈折率誘電体膜とからなる導電性反射防止膜の
付着透明板。 - 【請求項２】前記中屈折率誘電体膜が酸化アルミニウム
（Al2O3）、弗化セリウム（CeF3）、酸化アルミニウム
と酸化ジルコニウムの混合物（Al2O3＋ZrO2）、及び弗
化セリウムと酸化ジルコニウムの混合物（CeF3＋ZrO2）
のいずれかからなる特許請求の範囲第１項に記載の導電
性反射防止膜の付着透明板。 - 【請求項３】前記高屈折率誘電体膜が酸化チタン（Ti
O2）、酸化タンタル（Ta2O5）、酸化ジルコニウム（ZrO
2）、酸化ハフニウム（HfO2）、酸化ジルコニウムと酸
化チタンの混合物（ZrO2＋TiO2）及び酸化プラセオジム
と酸化チタンの混合物（Pr6O11＋TiO2）のいずれかから
なる特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の導電性反
射防止膜の付着透明板。 - 【請求項４】前記低屈折率誘電体膜が酸化珪素（SiO2）
及び弗化マグネシウム（MgF2）のいずれかである特許請
求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記載の導電性反
射防止膜の付着透明板。 - 【請求項５】透明基板表面での光の反射を低減させるた
めの反射防止膜の付着した透明板において、屈折率が1.
45〜1.60の透明基板と、該透明基板上に形成された、屈
折率が1.90〜2.50で、且つ膜厚が90Å〜140Åの第１の
高屈折率誘電体膜と、該第１の高屈折率誘電体膜上に形
成された、屈折率が1.35〜1.50で、且つ膜厚が300Å〜5
00Åの第１の低屈折率誘電体膜と、該第１の低屈折率誘
電体膜上に形成された、屈折率が1.90〜2.50で、且つ膜
厚が1000Å〜1400Åの第２の高屈折率誘電体膜と、該第
２の高屈折率誘電体膜上に形成された、膜厚が10Å〜20
Åのチタン、クロム、ジルコニウム、モリブデン、ニッ
ケル・クロム合金及びステンレス（Ni＋Cr＋Fe）のいず
れか一つの金属膜と、該金属膜上に形成された、屈折率
が1.35〜1.50で、且つ膜厚が700Å〜1200Åの第２の低
屈折率誘電体膜とからなる導電性反射防止膜の付着透明
板。 - 【請求項６】前記第１及び第２の高屈折率誘電体膜が酸
化チタン（TiO2）、酸化タンタル（Ta2O5）、酸化ジル
コニウム（ZiO2）、酸化ハフニウム（HfO2）、酸化ジル
コニウムと酸化チタンの混合物（ZiO2＋TiO2）及び酸化
プラセオジムと酸化チタンの混合物（Pr6O11＋TiO2）の
いずれかからなる特許請求の範囲第５項に記載の導電性
反射防止膜の付着透明板。 - 【請求項７】前記第１及び第２の低屈折率誘電体膜が酸
化珪素（SiO2）、及び弗化マグネシウム（MgF2）のいず
れかである特許請求の範囲第５項又は第６項に記載の導
電性反射防止膜の付着透明板。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP62238234A JP2590136B2 (ja) | 1987-09-22 | 1987-09-22 | 導電性反射防止膜の付着透明板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62238234A JP2590136B2 (ja) | 1987-09-22 | 1987-09-22 | 導電性反射防止膜の付着透明板 |
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| JP2590136B2 true JP2590136B2 (ja) | 1997-03-12 |
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ID=17027140
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|---|---|---|---|
| JP62238234A Expired - Lifetime JP2590136B2 (ja) | 1987-09-22 | 1987-09-22 | 導電性反射防止膜の付着透明板 |
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| JP (1) | JP2590136B2 (ja) |
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-
1987
- 1987-09-22 JP JP62238234A patent/JP2590136B2/ja not_active Expired - Lifetime
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