JP3520627B2 - 光反射防止部材及びその作製方法、並びに陰極線管 - Google Patents
光反射防止部材及びその作製方法、並びに陰極線管Info
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- JP3520627B2 JP3520627B2 JP26246095A JP26246095A JP3520627B2 JP 3520627 B2 JP3520627 B2 JP 3520627B2 JP 26246095 A JP26246095 A JP 26246095A JP 26246095 A JP26246095 A JP 26246095A JP 3520627 B2 JP3520627 B2 JP 3520627B2
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05F—STATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
- H05F3/00—Carrying-off electrostatic charges
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/867—Means associated with the outside of the vessel for shielding, e.g. magnetic shields
- H01J29/868—Screens covering the input or output face of the vessel, e.g. transparent anti-static coatings, X-ray absorbing layers
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光反射防止部材及
びその作製方法、並びに、かかる光反射防止部材がパネ
ル前面に貼り合わされた陰極線管に関する。
びその作製方法、並びに、かかる光反射防止部材がパネ
ル前面に貼り合わされた陰極線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば陰極線管（ＣＲＴ）においては、
そのパネル表面で外光が反射されるために、陰極線管に
表示された画像が見づらくなるという問題がある。一
方、陰極線管のパネルの内面に形成された蛍光面に印加
される高電圧に起因して、パネル表面の電位が変化す
る。その結果、パネル表面にゴミが付着したり、パネル
表面に近づいた人に放電現象が発生する場合がある。そ
して、このような現象の発生を防止するために、パネル
表面に帯電防止機能を付与する必要がある。加えて、陰
極線管から電磁波が漏出しないように、パネル表面に電
磁放射遮蔽機能を付与することも重要である。このよう
な技術的課題の全てを解決する手段の１つに、パネル表
面に導電性を有する光反射防止部材を貼り合わせる技術
が知られている。
そのパネル表面で外光が反射されるために、陰極線管に
表示された画像が見づらくなるという問題がある。一
方、陰極線管のパネルの内面に形成された蛍光面に印加
される高電圧に起因して、パネル表面の電位が変化す
る。その結果、パネル表面にゴミが付着したり、パネル
表面に近づいた人に放電現象が発生する場合がある。そ
して、このような現象の発生を防止するために、パネル
表面に帯電防止機能を付与する必要がある。加えて、陰
極線管から電磁波が漏出しないように、パネル表面に電
磁放射遮蔽機能を付与することも重要である。このよう
な技術的課題の全てを解決する手段の１つに、パネル表
面に導電性を有する光反射防止部材を貼り合わせる技術
が知られている。
【０００３】かかる光反射防止部材は、基材と、ハード
コート層と、多層の反射防止用光学薄膜とが積層されて
成る。基材は、例えば、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）やポリカーボネート（ＰＣ）から成り、表面
に傷が付き易いので、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト（ＰＭＭＡ）から成るハードコート層が表面に形成さ
れている。光反射防止部材に帯電防止機能や電磁放射遮
蔽機能を付与しなくてもよい場合には、ＳｉＯ、ＳｉＯ
2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3等の誘電体薄
膜を少なくとも２層（例えば、高屈折率膜／低屈折率膜
／高屈折率膜／低屈折率膜・・・といった積層構造）、
ハードコート層上に成膜すればよい。ＴｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3等の高屈折率（５５０ｎｍ付近
の波長での屈折率が１．８〜２．７）を有する材料は、
ポリメチルメタクリレートから成るハードコート層に対
する密着性が優れている。
コート層と、多層の反射防止用光学薄膜とが積層されて
成る。基材は、例えば、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）やポリカーボネート（ＰＣ）から成り、表面
に傷が付き易いので、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト（ＰＭＭＡ）から成るハードコート層が表面に形成さ
れている。光反射防止部材に帯電防止機能や電磁放射遮
蔽機能を付与しなくてもよい場合には、ＳｉＯ、ＳｉＯ
2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3等の誘電体薄
膜を少なくとも２層（例えば、高屈折率膜／低屈折率膜
／高屈折率膜／低屈折率膜・・・といった積層構造）、
ハードコート層上に成膜すればよい。ＴｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3等の高屈折率（５５０ｎｍ付近
の波長での屈折率が１．８〜２．７）を有する材料は、
ポリメチルメタクリレートから成るハードコート層に対
する密着性が優れている。
【０００４】一方、光反射防止部材に帯電防止機能や電
磁放射遮蔽機能を付与する必要がある場合には、透明導
電性酸化物膜と、かかる透明導電性酸化物膜を構成する
材料の有する屈折率よりも低い屈折率を有する材料から
成る薄膜（低屈折率膜と呼ぶ）とを積層することで、反
射防止用光学薄膜を構成することが好ましい。このよう
な構成にすることによって、透明導電性酸化物膜による
光反射防止部材への帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能の
付与と、高屈折率膜／低屈折率膜構成による光反射防止
機能の付与を同時に行うことができ、反射防止用光学薄
膜の構成を簡素化することが可能となる。透明導電性酸
化物膜としてはＩＴＯ（ＳｎをドープしたＩｎ 2Ｏ3）膜
（屈折率＝１．９〜２．０）を挙げることができる。一
方、低屈折率膜としては、ＳｉＯ2膜（５５０ｎｍにお
ける屈折率＝１．４６）、ＭｇＦ2膜（５５０ｎｍにお
ける屈折率＝１．３８）を挙げることができる。
磁放射遮蔽機能を付与する必要がある場合には、透明導
電性酸化物膜と、かかる透明導電性酸化物膜を構成する
材料の有する屈折率よりも低い屈折率を有する材料から
成る薄膜（低屈折率膜と呼ぶ）とを積層することで、反
射防止用光学薄膜を構成することが好ましい。このよう
な構成にすることによって、透明導電性酸化物膜による
光反射防止部材への帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能の
付与と、高屈折率膜／低屈折率膜構成による光反射防止
機能の付与を同時に行うことができ、反射防止用光学薄
膜の構成を簡素化することが可能となる。透明導電性酸
化物膜としてはＩＴＯ（ＳｎをドープしたＩｎ 2Ｏ3）膜
（屈折率＝１．９〜２．０）を挙げることができる。一
方、低屈折率膜としては、ＳｉＯ2膜（５５０ｎｍにお
ける屈折率＝１．４６）、ＭｇＦ2膜（５５０ｎｍにお
ける屈折率＝１．３８）を挙げることができる。
【０００５】通常、基材上に形成されたハードコート層
の上に、スパッタ法にてＩＴＯ膜／低屈折率膜／ＩＴＯ
膜／低屈折率膜・・・を繰り返し成膜することによっ
て、４５０〜６５０ｎｍの広い波長範囲内で光反射防止
部材に優れた光反射防止機能を付与することができる。
このような構造の光反射防止部材の模式的な一部断面図
を図４の（Ａ）に示す。尚、図４の（Ａ）には４層構造
の反射防止用光学薄膜を示し、第１層目及び第３層目は
ＩＴＯ膜から成り、第２層目及び第４層目は低屈折率膜
から成る。ＩＴＯ膜は、通常、酸化物であるＩＴＯをタ
ーゲットとしたスパッタ法にて成膜される。尚、かかる
ＩＴＯターゲットの組成は、例えば、Ｉｎ2Ｏ3／ＳｎＯ
2＝９０重量部／１０重量部であり、ターゲット電流密
度２Ｗ／ｃｍ2、Ａｒ／Ｏ2＝５０体積％／５０体積％、
０．２Ｐａのスパッタ条件にて成膜される。
の上に、スパッタ法にてＩＴＯ膜／低屈折率膜／ＩＴＯ
膜／低屈折率膜・・・を繰り返し成膜することによっ
て、４５０〜６５０ｎｍの広い波長範囲内で光反射防止
部材に優れた光反射防止機能を付与することができる。
このような構造の光反射防止部材の模式的な一部断面図
を図４の（Ａ）に示す。尚、図４の（Ａ）には４層構造
の反射防止用光学薄膜を示し、第１層目及び第３層目は
ＩＴＯ膜から成り、第２層目及び第４層目は低屈折率膜
から成る。ＩＴＯ膜は、通常、酸化物であるＩＴＯをタ
ーゲットとしたスパッタ法にて成膜される。尚、かかる
ＩＴＯターゲットの組成は、例えば、Ｉｎ2Ｏ3／ＳｎＯ
2＝９０重量部／１０重量部であり、ターゲット電流密
度２Ｗ／ｃｍ2、Ａｒ／Ｏ2＝５０体積％／５０体積％、
０．２Ｐａのスパッタ条件にて成膜される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ＩＴＯの結晶化温度は
１５０〜２００゜Ｃ付近であると報告されている。従っ
て、ハードコート層に対する密着性（付着強度）を高く
するためには、基材を１２０゜Ｃ以上に加熱することが
望ましい。しかしながら、このように基材を加熱した場
合、プラスチック材料から成る基材に変形等の熱損傷が
発生する虞がある。また、ポリメチルメタクリレートか
ら成るハードコート層は、１００゜Ｃ以上に熱せられる
と、硬度低下が生じる虞がある。
１５０〜２００゜Ｃ付近であると報告されている。従っ
て、ハードコート層に対する密着性（付着強度）を高く
するためには、基材を１２０゜Ｃ以上に加熱することが
望ましい。しかしながら、このように基材を加熱した場
合、プラスチック材料から成る基材に変形等の熱損傷が
発生する虞がある。また、ポリメチルメタクリレートか
ら成るハードコート層は、１００゜Ｃ以上に熱せられる
と、硬度低下が生じる虞がある。
【０００７】近年、液晶表示装置等のフラットパネルデ
ィスプレイ用透明電極として、カラーフィルター上に成
膜されたＩＴＯ膜が使用されている。かかるＩＴＯ膜
は、ＩＴＯをターゲットとした直流マグネトロンスパッ
タ法にて成膜される。このような方法で成膜されたＩＴ
Ｏ膜は、抵抗率、湿式エッチング特性、特性再現性の点
で優れている。しかしながら、ＩＴＯをターゲットとし
た直流マグネトロンスパッタ法にてハードコート層上に
成膜されたＩＴＯ膜は、ハードコート層に対する付着強
度が不十分である。
ィスプレイ用透明電極として、カラーフィルター上に成
膜されたＩＴＯ膜が使用されている。かかるＩＴＯ膜
は、ＩＴＯをターゲットとした直流マグネトロンスパッ
タ法にて成膜される。このような方法で成膜されたＩＴ
Ｏ膜は、抵抗率、湿式エッチング特性、特性再現性の点
で優れている。しかしながら、ＩＴＯをターゲットとし
た直流マグネトロンスパッタ法にてハードコート層上に
成膜されたＩＴＯ膜は、ハードコート層に対する付着強
度が不十分である。
【０００８】本出願人は、特願平７−１７０９２５号
（平成７年７月６日出願）にて、基材と、ハードコート
層と、多層の反射防止用光学薄膜とが積層されて成る、
新規の光反射防止部材を提案した。このような構造の光
反射防止部材の模式的な一部断面図を図４の（Ｂ）に示
す。この光反射防止部材における基材は、例えば、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリカーボネート
（ＰＣ）から成り、その表面に、例えば、ポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）から成るハードコート層が形
成されている。光反射防止部材に帯電防止機能や電磁放
射遮蔽機能を付与するために、反射防止用光学薄膜の第
１層目は導電性光吸収膜から成り、反射防止用光学薄膜
の第２層目は、第１層目を構成する材料の屈折率よりも
低い屈折率を有する材料から成る。
（平成７年７月６日出願）にて、基材と、ハードコート
層と、多層の反射防止用光学薄膜とが積層されて成る、
新規の光反射防止部材を提案した。このような構造の光
反射防止部材の模式的な一部断面図を図４の（Ｂ）に示
す。この光反射防止部材における基材は、例えば、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリカーボネート
（ＰＣ）から成り、その表面に、例えば、ポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）から成るハードコート層が形
成されている。光反射防止部材に帯電防止機能や電磁放
射遮蔽機能を付与するために、反射防止用光学薄膜の第
１層目は導電性光吸収膜から成り、反射防止用光学薄膜
の第２層目は、第１層目を構成する材料の屈折率よりも
低い屈折率を有する材料から成る。
【０００９】導電性光吸収膜は、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮX
（但し、Ｘ＝０．３〜１）、ＴｉＯXＮY（但し、Ｘ＝
０．３〜１、Ｙ＜１、Ｙ≦Ｘ）、ＴａＮX（但し、Ｘ＝
０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、
Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａｌ、及
びＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成された群から選択された材
料から成り、厚さは４〜４０ｎｍ程度である。一方、反
射防止用光学薄膜の第２層目は、ＳｉＯ2又はＭｇＦ2か
ら成る。導電性光吸収膜の厚さを例えば４〜２０ｎｍと
し、第２層目の厚さを例えば１００ｎｍとする。導電性
光吸収膜を構成する上述の材料は、波長に応じて光吸収
率が変化するという特性を有する。そして、反射を防止
し得る波長の範囲が広く、反射防止用光学薄膜が２層構
造であっても、広い範囲（４３０〜６５０ｎｍ）の波長
の光の反射防止が可能となる。尚、これらの材料は光透
過率が７０〜９０％程度であるが、反射防止用光学薄膜
を２層構造とすることができるので、導電性光吸収膜の
光透過率の低さは問題とならない。
（但し、Ｘ＝０．３〜１）、ＴｉＯXＮY（但し、Ｘ＝
０．３〜１、Ｙ＜１、Ｙ≦Ｘ）、ＴａＮX（但し、Ｘ＝
０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、
Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａｌ、及
びＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成された群から選択された材
料から成り、厚さは４〜４０ｎｍ程度である。一方、反
射防止用光学薄膜の第２層目は、ＳｉＯ2又はＭｇＦ2か
ら成る。導電性光吸収膜の厚さを例えば４〜２０ｎｍと
し、第２層目の厚さを例えば１００ｎｍとする。導電性
光吸収膜を構成する上述の材料は、波長に応じて光吸収
率が変化するという特性を有する。そして、反射を防止
し得る波長の範囲が広く、反射防止用光学薄膜が２層構
造であっても、広い範囲（４３０〜６５０ｎｍ）の波長
の光の反射防止が可能となる。尚、これらの材料は光透
過率が７０〜９０％程度であるが、反射防止用光学薄膜
を２層構造とすることができるので、導電性光吸収膜の
光透過率の低さは問題とならない。
【００１０】しかしながら、このような導電性光吸収膜
も、ポリメチルメタクリレートから成るハードコート層
に対する密着性（付着強度）が十分でないことが判っ
た。
も、ポリメチルメタクリレートから成るハードコート層
に対する密着性（付着強度）が十分でないことが判っ
た。
【００１１】従って、本発明の目的は、帯電防止機能や
電磁放射遮蔽機能が付与された光反射防止部材であっ
て、ハードコート層に対して優れた密着性を有する反射
防止用光学薄膜が形成された光反射防止部材及びその作
製方法、並びに、かかる光反射防止部材がパネル前面に
貼り合わされた陰極線管を提供することにある。
電磁放射遮蔽機能が付与された光反射防止部材であっ
て、ハードコート層に対して優れた密着性を有する反射
防止用光学薄膜が形成された光反射防止部材及びその作
製方法、並びに、かかる光反射防止部材がパネル前面に
貼り合わされた陰極線管を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の第１の態様に係る光反射防止部材は、基材
と、ハードコート層と、少なくとも２層の反射防止用光
学薄膜とが積層されて成る光反射防止部材であって、ハ
ードコート層と接する反射防止用光学薄膜の第１層目
は、反応性物理的気相成長法にて形成された透明導電性
酸化物膜から成り、反射防止用光学薄膜の第２層目は、
第１層目を構成する材料の屈折率よりも低い屈折率を有
する材料から成ることを特徴とする。
めの本発明の第１の態様に係る光反射防止部材は、基材
と、ハードコート層と、少なくとも２層の反射防止用光
学薄膜とが積層されて成る光反射防止部材であって、ハ
ードコート層と接する反射防止用光学薄膜の第１層目
は、反応性物理的気相成長法にて形成された透明導電性
酸化物膜から成り、反射防止用光学薄膜の第２層目は、
第１層目を構成する材料の屈折率よりも低い屈折率を有
する材料から成ることを特徴とする。
【００１３】上記の目的を達成するための本発明の第１
の態様に係る光反射防止部材の作製方法は、基材と、ハ
ードコート層と、少なくとも２層の反射防止用光学薄膜
とが積層されて成り、ハードコート層と接する反射防止
用光学薄膜の第１層目は透明導電性酸化物膜から成り、
反射防止用光学薄膜の第２層目は、第１層目を構成する
材料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成る光
反射防止部材の作製方法であって、透明導電性酸化物膜
を反応性物理的気相成長法にて形成することを特徴とす
る。
の態様に係る光反射防止部材の作製方法は、基材と、ハ
ードコート層と、少なくとも２層の反射防止用光学薄膜
とが積層されて成り、ハードコート層と接する反射防止
用光学薄膜の第１層目は透明導電性酸化物膜から成り、
反射防止用光学薄膜の第２層目は、第１層目を構成する
材料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成る光
反射防止部材の作製方法であって、透明導電性酸化物膜
を反応性物理的気相成長法にて形成することを特徴とす
る。
【００１４】ここで、透明導電性酸化物膜における「透
明」とは、波長５５０ｎｍの光を通過させたときのラン
バートの法則における吸収係数αが０乃至０．３、好ま
しくは０乃至０．２であることを意味する。また、透明
導電性酸化物膜における「導電性」とは、渦電流法にて
測定したときの抵抗値が、１×１０乃至１×１０4Ω／
□、好ましくは１×１０乃至５×１０3Ω／□であるこ
とを意味する。
明」とは、波長５５０ｎｍの光を通過させたときのラン
バートの法則における吸収係数αが０乃至０．３、好ま
しくは０乃至０．２であることを意味する。また、透明
導電性酸化物膜における「導電性」とは、渦電流法にて
測定したときの抵抗値が、１×１０乃至１×１０4Ω／
□、好ましくは１×１０乃至５×１０3Ω／□であるこ
とを意味する。
【００１５】本発明の第１の態様に係る光反射防止部材
あるいはその作製方法においては、反応性物理的気相成
長法、即ち、ハードコート層に堆積させるべき材料の少
なくとも一部分とハードコート層を構成する材料との間
の化学的反応を伴う物理的気相成長（ＰＶＤ，Physical
Vapor Deposition）法として、 （Ａ）電子ビーム加熱法、抵抗加熱法、フラッシュ蒸着
法等の各種真空蒸着法 （Ｂ）プラズマ蒸着法 （Ｃ）２極スパッタ法、直流スパッタ法、直流マグネト
ロンスパッタ法、高周波スパッタ法、マグネトロンスパ
ッタ法、イオンビームスパッタ法、バイアススパッタ法
等の各種スパッタ法 （Ｄ）ＤＣ法、ＲＦ法、多陰極法、活性化反応法、ＨＣ
Ｄ法、電界蒸着法、高周波イオンプレーティング法、反
応性イオンプレーティング法等の各種イオンプレーティ
ング法 を例示することができるが、中でも、金属若しくは合金
ターゲットを用いた反応性スパッタ法、更に具体的には
直流マグネトロンスパッタ法であることが好ましい。こ
の場合、ターゲットは、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎ又はＩｎ−Ｓ
ｎ合金から成ることが好ましい。ターゲットとしてＳｎ
を用いる場合、反応性物理的気相成長法によって得られ
る透明導電性酸化物膜はＳｎＯ2から成る。ターゲット
としてＺｎを用いる場合、反応性物理的気相成長法によ
って得られる透明導電性酸化物膜はＺｎＯから成る。ま
た、ターゲットとしてＩｎを用いる場合、反応性物理的
気相成長法によって得られる透明導電性酸化物膜はＩｎ
2Ｏ3から成る。更には、ターゲットとしてＩｎ−Ｓｎを
用いる場合、反応性物理的気相成長法によって得られる
透明導電性酸化物膜はＩＴＯから成る。尚、反応性スパ
ッタ法においては、Ｏ 2雰囲気においてスパッタを行
う。一方、従来の酸化物ターゲットを用いたスパッタ法
においては、Ａｒ＋Ｏ2（Ｏ2は０〜３０体積％近辺）の
雰囲気においてスパッタを行う。
あるいはその作製方法においては、反応性物理的気相成
長法、即ち、ハードコート層に堆積させるべき材料の少
なくとも一部分とハードコート層を構成する材料との間
の化学的反応を伴う物理的気相成長（ＰＶＤ，Physical
Vapor Deposition）法として、 （Ａ）電子ビーム加熱法、抵抗加熱法、フラッシュ蒸着
法等の各種真空蒸着法 （Ｂ）プラズマ蒸着法 （Ｃ）２極スパッタ法、直流スパッタ法、直流マグネト
ロンスパッタ法、高周波スパッタ法、マグネトロンスパ
ッタ法、イオンビームスパッタ法、バイアススパッタ法
等の各種スパッタ法 （Ｄ）ＤＣ法、ＲＦ法、多陰極法、活性化反応法、ＨＣ
Ｄ法、電界蒸着法、高周波イオンプレーティング法、反
応性イオンプレーティング法等の各種イオンプレーティ
ング法 を例示することができるが、中でも、金属若しくは合金
ターゲットを用いた反応性スパッタ法、更に具体的には
直流マグネトロンスパッタ法であることが好ましい。こ
の場合、ターゲットは、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎ又はＩｎ−Ｓ
ｎ合金から成ることが好ましい。ターゲットとしてＳｎ
を用いる場合、反応性物理的気相成長法によって得られ
る透明導電性酸化物膜はＳｎＯ2から成る。ターゲット
としてＺｎを用いる場合、反応性物理的気相成長法によ
って得られる透明導電性酸化物膜はＺｎＯから成る。ま
た、ターゲットとしてＩｎを用いる場合、反応性物理的
気相成長法によって得られる透明導電性酸化物膜はＩｎ
2Ｏ3から成る。更には、ターゲットとしてＩｎ−Ｓｎを
用いる場合、反応性物理的気相成長法によって得られる
透明導電性酸化物膜はＩＴＯから成る。尚、反応性スパ
ッタ法においては、Ｏ 2雰囲気においてスパッタを行
う。一方、従来の酸化物ターゲットを用いたスパッタ法
においては、Ａｒ＋Ｏ2（Ｏ2は０〜３０体積％近辺）の
雰囲気においてスパッタを行う。
【００１６】ハードコート層との密着性を向上させるた
めに、透明導電性酸化物膜には、透明導電性酸化物膜を
構成する元素（元素Ａと呼ぶ）と同じ若しくはそれ以上
の大きさの酸素との親和力を有する元素（元素Ｂと呼
ぶ）が含まれていることが好ましい。一般に、原子の酸
素との親和力は、酸化物の標準生成自由エネルギーを調
べることによって知ることができる。即ち、酸化物の標
準生成自由エネルギーが小さい程、酸化物が生成され易
いといえる。元素Ａにも依るが、元素Ｂとして、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｗ、Ｆｅ、Ｍｎから成
る群から選ばれた少なくとも１種の元素を挙げることが
できる。元素Ａと元素Ｂの組み合わせを以下の表１に例
示する。元素Ｂ／（元素Ａ＋元素Ｂ）の割合（原子割
合）は０．００１〜０．１、好ましくは０．００５〜
０．０５であることが好ましい。
めに、透明導電性酸化物膜には、透明導電性酸化物膜を
構成する元素（元素Ａと呼ぶ）と同じ若しくはそれ以上
の大きさの酸素との親和力を有する元素（元素Ｂと呼
ぶ）が含まれていることが好ましい。一般に、原子の酸
素との親和力は、酸化物の標準生成自由エネルギーを調
べることによって知ることができる。即ち、酸化物の標
準生成自由エネルギーが小さい程、酸化物が生成され易
いといえる。元素Ａにも依るが、元素Ｂとして、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｗ、Ｆｅ、Ｍｎから成
る群から選ばれた少なくとも１種の元素を挙げることが
できる。元素Ａと元素Ｂの組み合わせを以下の表１に例
示する。元素Ｂ／（元素Ａ＋元素Ｂ）の割合（原子割
合）は０．００１〜０．１、好ましくは０．００５〜
０．０５であることが好ましい。
【００１７】
【表１】
元素Ａ 元素Ｂ
Ｓｎ Ｃｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒ
Ｚｎ Ｃｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒ
Ｉｎ Ｃｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒ
Ｉｎ及びＳｎ Ｃｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒ
【００１８】本発明の第１の態様に係る光反射防止部材
あるいはその作製方法においては、反射防止用光学薄膜
の第２層目を構成する材料として、屈折率が約１．７以
下の物質であればよく、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＭｇＦ2、Ｃ
ａＦ2、ＬａＦ3、Ｎａ3ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、Ｎｄ
Ｆ3、ＬａＦ3、ＣｅＦ3、ＢａＦ2、ＮａＦ、ＳｒＦ2、
Ａｌ2Ｏ3を例示することができるが、中でも、ＳｉＯ2
又はＭｇＦ2を用いることが好ましい。
あるいはその作製方法においては、反射防止用光学薄膜
の第２層目を構成する材料として、屈折率が約１．７以
下の物質であればよく、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＭｇＦ2、Ｃ
ａＦ2、ＬａＦ3、Ｎａ3ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、Ｎｄ
Ｆ3、ＬａＦ3、ＣｅＦ3、ＢａＦ2、ＮａＦ、ＳｒＦ2、
Ａｌ2Ｏ3を例示することができるが、中でも、ＳｉＯ2
又はＭｇＦ2を用いることが好ましい。
【００１９】ハードコート層は、酸素を構成元素として
含む材料から成ることが好ましい。あるいは又、ハード
コート層は、シリコーン系材料、多官能アクリレート系
材料又はウレタン樹脂系材料、メラミン樹脂系材料、エ
ポキシ樹脂系材料から選ばれた有機材料から成る有機被
膜、更には、有機無機被膜から構成することができる。
ここで、シリコーン系材料として、テトラアルコキシシ
ランやアルキルトリアルコキシシランとエポキシ基やメ
タクリル基等の官能基を有するシランカップリング剤の
共加水分解物を例示することができる。また、多官能ア
クリレート系材料として、例えば、ポリオールアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、エポキシアクリレート等を挙げることができる。更
に、ウレタン樹脂系材料として、例えば、メラミンポリ
ウレタンを挙げることができる。ハードコート層として
は、中でも、アクリル系材料、より具体的には、例えば
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）から成ることが
好ましい。また、有機無機被膜として、アクリル−シリ
コーンを例示することができる。あるいは又、ハードコ
ート層を、親水性ゾルや疎水性ゾルの形態のコロイダル
シリカから構成することもできる。ハードコート層は、
ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプ
レーコーティング法、フローコーティング法等の各種塗
布法による材料の塗布、並びに乾燥、そして熱硬化若し
くは紫外線硬化によって形成することができる。
含む材料から成ることが好ましい。あるいは又、ハード
コート層は、シリコーン系材料、多官能アクリレート系
材料又はウレタン樹脂系材料、メラミン樹脂系材料、エ
ポキシ樹脂系材料から選ばれた有機材料から成る有機被
膜、更には、有機無機被膜から構成することができる。
ここで、シリコーン系材料として、テトラアルコキシシ
ランやアルキルトリアルコキシシランとエポキシ基やメ
タクリル基等の官能基を有するシランカップリング剤の
共加水分解物を例示することができる。また、多官能ア
クリレート系材料として、例えば、ポリオールアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、エポキシアクリレート等を挙げることができる。更
に、ウレタン樹脂系材料として、例えば、メラミンポリ
ウレタンを挙げることができる。ハードコート層として
は、中でも、アクリル系材料、より具体的には、例えば
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）から成ることが
好ましい。また、有機無機被膜として、アクリル−シリ
コーンを例示することができる。あるいは又、ハードコ
ート層を、親水性ゾルや疎水性ゾルの形態のコロイダル
シリカから構成することもできる。ハードコート層は、
ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプ
レーコーティング法、フローコーティング法等の各種塗
布法による材料の塗布、並びに乾燥、そして熱硬化若し
くは紫外線硬化によって形成することができる。
【００２０】本発明の第１の態様に係る光反射防止部材
の作製方法においては、基材をロール状のフィルムから
構成し、ハードコート層が予め形成されたフィルムを繰
り出し、ハードコート層上に、金属若しくは合金ターゲ
ットを用いた反応性スパッタ法にて透明導電性酸化物膜
から成る第１層目を成膜し、引き続き、第１層目上に反
射防止用光学薄膜の第２層目をスパッタ法にて成膜し、
次いで、反射防止用光学薄膜がハードコート層上に成膜
されたフィルムを巻き取ることによって、連続的に光反
射防止部材を作製することもできる。
の作製方法においては、基材をロール状のフィルムから
構成し、ハードコート層が予め形成されたフィルムを繰
り出し、ハードコート層上に、金属若しくは合金ターゲ
ットを用いた反応性スパッタ法にて透明導電性酸化物膜
から成る第１層目を成膜し、引き続き、第１層目上に反
射防止用光学薄膜の第２層目をスパッタ法にて成膜し、
次いで、反射防止用光学薄膜がハードコート層上に成膜
されたフィルムを巻き取ることによって、連続的に光反
射防止部材を作製することもできる。
【００２１】本発明の第１の態様に係る光反射防止部材
においては、反射防止用光学薄膜の第２層目の上に、Ｓ
ｎＯ2層、ＺｎＯ層、Ｉｎ 2Ｏ3層若しくはＩＴＯ層を成
膜し、その上にＳｉＯ2層若しくはＭｇＦ2層を成膜し、
更に、これらの各層を順次積層する構造としてもよい。
即ち、例えば、反射防止用光学薄膜を、ＩＴＯ層／Ｓｉ
Ｏ2層／ＩＴＯ層／ＳｉＯ2層／・・・／ＩＴＯ層／Ｓｉ
Ｏ2層といった構造、ＳｎＯ2層／ＳｉＯ2層／ＳｎＯ2層
／ＳｉＯ2層／・・・／ＳｎＯ2層／ＳｉＯ2層といった
構造、ＺｎＯ層／ＳｉＯ2層／ＺｎＯ層／ＳｉＯ2層／・
・・／ＺｎＯ層／ＳｉＯ2層といった構造とすることも
できる。あるいは又、奇数番目の層を（ＳｎＯ2、Ｚｎ
Ｏ、Ｉｎ 2Ｏ3、ＩＴＯ）から選択された同種又は異種の
材料から構成し、偶数番目の層を（ＳｉＯ2、ＭｇＦ2）
から選択された同種又は異種の材料から構成する構造と
することもできる（例えば、ＳｎＯ2層／ＳｉＯ2層／Ｉ
ＴＯ層／ＳｉＯ2層）。この場合には、第２Ｎ−１層目
（但し、１＜Ｎ）のＳｎＯ2層、ＺｎＯ層、Ｉｎ 2Ｏ3層
若しくはＩＴＯ層の成膜は、例えば、反応性スパッタ法
にて成膜してもよいし、酸化物ターゲットを用いた従来
のスパッタ法にて成膜してもよい。
においては、反射防止用光学薄膜の第２層目の上に、Ｓ
ｎＯ2層、ＺｎＯ層、Ｉｎ 2Ｏ3層若しくはＩＴＯ層を成
膜し、その上にＳｉＯ2層若しくはＭｇＦ2層を成膜し、
更に、これらの各層を順次積層する構造としてもよい。
即ち、例えば、反射防止用光学薄膜を、ＩＴＯ層／Ｓｉ
Ｏ2層／ＩＴＯ層／ＳｉＯ2層／・・・／ＩＴＯ層／Ｓｉ
Ｏ2層といった構造、ＳｎＯ2層／ＳｉＯ2層／ＳｎＯ2層
／ＳｉＯ2層／・・・／ＳｎＯ2層／ＳｉＯ2層といった
構造、ＺｎＯ層／ＳｉＯ2層／ＺｎＯ層／ＳｉＯ2層／・
・・／ＺｎＯ層／ＳｉＯ2層といった構造とすることも
できる。あるいは又、奇数番目の層を（ＳｎＯ2、Ｚｎ
Ｏ、Ｉｎ 2Ｏ3、ＩＴＯ）から選択された同種又は異種の
材料から構成し、偶数番目の層を（ＳｉＯ2、ＭｇＦ2）
から選択された同種又は異種の材料から構成する構造と
することもできる（例えば、ＳｎＯ2層／ＳｉＯ2層／Ｉ
ＴＯ層／ＳｉＯ2層）。この場合には、第２Ｎ−１層目
（但し、１＜Ｎ）のＳｎＯ2層、ＺｎＯ層、Ｉｎ 2Ｏ3層
若しくはＩＴＯ層の成膜は、例えば、反応性スパッタ法
にて成膜してもよいし、酸化物ターゲットを用いた従来
のスパッタ法にて成膜してもよい。
【００２２】上記の目的を達成するための本発明の第２
の態様に係る光反射防止部材は、基材と、ハードコート
層と、少なくとも３層を有する反射防止用光学薄膜とが
積層されて成る光反射防止部材であって、ハードコート
層と接する反射防止用光学薄膜の第１層目は、反応性物
理的気相成長法にて形成された透明酸化物膜から成り、
反射防止用光学薄膜の第２層目は導電性光吸収膜から成
り、反射防止用光学薄膜の第３層目は、第２層目を構成
する材料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成
ることを特徴とする。
の態様に係る光反射防止部材は、基材と、ハードコート
層と、少なくとも３層を有する反射防止用光学薄膜とが
積層されて成る光反射防止部材であって、ハードコート
層と接する反射防止用光学薄膜の第１層目は、反応性物
理的気相成長法にて形成された透明酸化物膜から成り、
反射防止用光学薄膜の第２層目は導電性光吸収膜から成
り、反射防止用光学薄膜の第３層目は、第２層目を構成
する材料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成
ることを特徴とする。
【００２３】上記の目的を達成するための本発明の第２
の態様に係る光反射防止部材の作製方法は、基材と、ハ
ードコート層と、少なくとも３層の反射防止用光学薄膜
とが積層されて成り、ハードコート層と接する反射防止
用光学薄膜の第１層目は透明酸化物膜から成り、反射防
止用光学薄膜の第２層目は導電性光吸収膜から成り、反
射防止用光学薄膜の第３層目は、第２層目を構成する材
料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成る光反
射防止部材の作製方法であって、透明酸化物膜を反応性
物理的気相成長法にて形成することを特徴とする。
の態様に係る光反射防止部材の作製方法は、基材と、ハ
ードコート層と、少なくとも３層の反射防止用光学薄膜
とが積層されて成り、ハードコート層と接する反射防止
用光学薄膜の第１層目は透明酸化物膜から成り、反射防
止用光学薄膜の第２層目は導電性光吸収膜から成り、反
射防止用光学薄膜の第３層目は、第２層目を構成する材
料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成る光反
射防止部材の作製方法であって、透明酸化物膜を反応性
物理的気相成長法にて形成することを特徴とする。
【００２４】ここで、透明酸化物膜における「透明」と
は、波長５５０ｎｍの光を通過させたときの吸収係数α
が０乃至０．３、好ましくは０乃至０．２であることを
意味する。また、導電性光吸収膜における「導電性」と
は、渦電流法にて測定したときの抵抗値が、１×１０乃
至１×１０4Ω／□、好ましくは１×１０乃至５×１０3
Ω／□であることを意味する。更に、導電性光吸収膜に
おける「光吸収」とは、波長５５０ｎｍの光を通過させ
たときの吸収係数αが０乃至０．５、好ましくは０．１
乃至０．３であることを意味する。
は、波長５５０ｎｍの光を通過させたときの吸収係数α
が０乃至０．３、好ましくは０乃至０．２であることを
意味する。また、導電性光吸収膜における「導電性」と
は、渦電流法にて測定したときの抵抗値が、１×１０乃
至１×１０4Ω／□、好ましくは１×１０乃至５×１０3
Ω／□であることを意味する。更に、導電性光吸収膜に
おける「光吸収」とは、波長５５０ｎｍの光を通過させ
たときの吸収係数αが０乃至０．５、好ましくは０．１
乃至０．３であることを意味する。
【００２５】本発明の第２の態様に係る光反射防止部材
あるいはその作製方法においては、反応性物理的気相成
長法は、本発明の第１の態様に係る光反射防止部材ある
いはその作製方法にて説明したと同様の方法とすること
ができるが、中でも、金属若しくは合金ターゲットを用
いた反応性スパッタ法、更に具体的には直流マグネトロ
ンスパッタ法であることが好ましい。
あるいはその作製方法においては、反応性物理的気相成
長法は、本発明の第１の態様に係る光反射防止部材ある
いはその作製方法にて説明したと同様の方法とすること
ができるが、中でも、金属若しくは合金ターゲットを用
いた反応性スパッタ法、更に具体的には直流マグネトロ
ンスパッタ法であることが好ましい。
【００２６】透明酸化物膜の厚さは、光反射防止効果に
影響を与えない厚さであれば任意であるが、ハードコー
ト層上での平均値で、１乃至２０ｎｍであることが好ま
しい。尚、この透明酸化物膜は、専ら、反射防止用光学
薄膜の第２層目とハードコート層との間の密着性の向上
を目的として形成される。
影響を与えない厚さであれば任意であるが、ハードコー
ト層上での平均値で、１乃至２０ｎｍであることが好ま
しい。尚、この透明酸化物膜は、専ら、反射防止用光学
薄膜の第２層目とハードコート層との間の密着性の向上
を目的として形成される。
【００２７】本発明の第２の態様に係る光反射防止部材
あるいはその作製方法においては、透明酸化物膜は、Ｚ
ｒＯ2、ＴｉＯ2、ＳｉＯX（但し、Ｘ＝１〜２）、Ｓｉ
ＯXＮY（但し、Ｘ＝１〜２、Ｙ＝０．２〜０．６）、及
びＣｒＯX（但し、Ｘ＝０．２〜１．５）から構成され
た群から選択された少なくとも１種の材料から成ること
が好ましい。反応性物理的気相成長法として反応性スパ
ッタ法を採用した場合、ＺｒＯ2を成膜する際にはＺｒ
から成るターゲットを使用し、ＴｉＯ2を成膜する際に
はＴｉから成るターゲットを使用し、ＳｉＯX（但し、
Ｘ＝１〜２）又はＳｉＯXＮY（但し、Ｘ＝１〜２、Ｙ＝
０．２〜０．６）を成膜する際にはＳｉから成るターゲ
ットを使用し、ＣｒＯXを成膜する際にはＣｒから成る
ターゲットを使用する。尚、透明酸化物膜に導電性を付
与してもよい。この場合には、透明酸化物膜を、ＳｎＯ
2、ＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＩＴＯ等から構成することがで
き、これらの成膜は、本発明の第１の態様に係る光反射
防止部材あるいはその作製方法と同様に、反応性物理的
気相成長法にて行う。
あるいはその作製方法においては、透明酸化物膜は、Ｚ
ｒＯ2、ＴｉＯ2、ＳｉＯX（但し、Ｘ＝１〜２）、Ｓｉ
ＯXＮY（但し、Ｘ＝１〜２、Ｙ＝０．２〜０．６）、及
びＣｒＯX（但し、Ｘ＝０．２〜１．５）から構成され
た群から選択された少なくとも１種の材料から成ること
が好ましい。反応性物理的気相成長法として反応性スパ
ッタ法を採用した場合、ＺｒＯ2を成膜する際にはＺｒ
から成るターゲットを使用し、ＴｉＯ2を成膜する際に
はＴｉから成るターゲットを使用し、ＳｉＯX（但し、
Ｘ＝１〜２）又はＳｉＯXＮY（但し、Ｘ＝１〜２、Ｙ＝
０．２〜０．６）を成膜する際にはＳｉから成るターゲ
ットを使用し、ＣｒＯXを成膜する際にはＣｒから成る
ターゲットを使用する。尚、透明酸化物膜に導電性を付
与してもよい。この場合には、透明酸化物膜を、ＳｎＯ
2、ＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＩＴＯ等から構成することがで
き、これらの成膜は、本発明の第１の態様に係る光反射
防止部材あるいはその作製方法と同様に、反応性物理的
気相成長法にて行う。
【００２８】ハードコート層との密着性を向上させるた
めに、透明酸化物膜には、透明酸化物膜を構成する元素
（元素Ｃと呼ぶ）と同じ若しくはそれ以上の大きさの酸
素との親和力を有する元素（元素Ｄと呼ぶ）が含まれて
いることが好ましい。元素Ｃにも依るが、元素Ｄとし
て、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｂｅ，Ｓｉ、Ｃｒ、Ｗ、
Ｆｅ、Ｍｎ、Ｓｎから成る群から選ばれた少なくとも１
種の元素を挙げることができる。元素Ｃと元素Ｄの組み
合わせを以下の表２に例示する。元素Ｄ／（元素Ｃ＋元
素Ｄ）の割合（原子割合）は０．００１〜０．１、好ま
しくは０．００５〜０．０５であることが好ましい。
めに、透明酸化物膜には、透明酸化物膜を構成する元素
（元素Ｃと呼ぶ）と同じ若しくはそれ以上の大きさの酸
素との親和力を有する元素（元素Ｄと呼ぶ）が含まれて
いることが好ましい。元素Ｃにも依るが、元素Ｄとし
て、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｂｅ，Ｓｉ、Ｃｒ、Ｗ、
Ｆｅ、Ｍｎ、Ｓｎから成る群から選ばれた少なくとも１
種の元素を挙げることができる。元素Ｃと元素Ｄの組み
合わせを以下の表２に例示する。元素Ｄ／（元素Ｃ＋元
素Ｄ）の割合（原子割合）は０．００１〜０．１、好ま
しくは０．００５〜０．０５であることが好ましい。
【００２９】
【表２】
元素Ｃ 元素Ｄ
Ｚｒ Ｍｇ，Ｂｅ
Ｔｉ Ａｌ，Ｚｒ，Ｂｅ
Ｓｉ Ｔｉ，Ａｌ、Ｚｒ，Ｂｅ
Ｃｒ Ｓｉ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒ，Ｂｅ
【００３０】本発明の第２の態様に係る光反射防止部材
あるいはその作製方法においては、導電性光吸収膜は、
金属、合金、金属窒化物又は金属酸窒化物から成ること
が好ましい。尚、金属窒化物あるいは金属酸窒化物とい
う用語の中には、合金窒化物あるいは合金酸窒化物も包
含される。より具体的には、導電性光吸収膜を構成する
材料として、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮX（但し、Ｘ＝０．３
〜１）、ＴｉＯXＮY（但し、Ｘ＝０．３〜１、Ｙ＜１、
Ｙ≦Ｘ）、ＴａＮX（但し、Ｘ＝０．２〜１）、Ｐｔ、
Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚ
ｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａｌ、及びＣｕ−Ｓｎ−Ａｌか
ら構成された群から選択された材料を挙げることができ
る。尚、金属若しくは合金から成る導電性光吸収膜の成
膜中に、導電性光吸収膜に雰囲気中の酸素や窒素が取り
込まれることもあるが、この場合にあっても、導電性光
吸収膜は、金属又は合金から成ると規定する。
あるいはその作製方法においては、導電性光吸収膜は、
金属、合金、金属窒化物又は金属酸窒化物から成ること
が好ましい。尚、金属窒化物あるいは金属酸窒化物とい
う用語の中には、合金窒化物あるいは合金酸窒化物も包
含される。より具体的には、導電性光吸収膜を構成する
材料として、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮX（但し、Ｘ＝０．３
〜１）、ＴｉＯXＮY（但し、Ｘ＝０．３〜１、Ｙ＜１、
Ｙ≦Ｘ）、ＴａＮX（但し、Ｘ＝０．２〜１）、Ｐｔ、
Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚ
ｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａｌ、及びＣｕ−Ｓｎ−Ａｌか
ら構成された群から選択された材料を挙げることができ
る。尚、金属若しくは合金から成る導電性光吸収膜の成
膜中に、導電性光吸収膜に雰囲気中の酸素や窒素が取り
込まれることもあるが、この場合にあっても、導電性光
吸収膜は、金属又は合金から成ると規定する。
【００３１】本発明の第２の態様に係る光反射防止部材
あるいはその作製方法においては、反射防止用光学薄膜
の第３層目は、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＬａＦ3、
Ｎａ3ＡｌＦ6、ＮｄＦ3、ＬａＦ3、Ａｌ2Ｏ3を例示する
ことができるが、中でも、ＳｉＯ2又はＭｇＦ2を用いる
ことが好ましい。ハードコート層は、本発明の第１の態
様に係る光反射防止部材あるいはその作製方法にて説明
した材料と同様の材料から構成することができるが、中
でも、アクリル系材料、より具体的にはポリメチルメタ
クリレート（ＰＭＭＡ）から構成することが好ましい。
あるいはその作製方法においては、反射防止用光学薄膜
の第３層目は、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＬａＦ3、
Ｎａ3ＡｌＦ6、ＮｄＦ3、ＬａＦ3、Ａｌ2Ｏ3を例示する
ことができるが、中でも、ＳｉＯ2又はＭｇＦ2を用いる
ことが好ましい。ハードコート層は、本発明の第１の態
様に係る光反射防止部材あるいはその作製方法にて説明
した材料と同様の材料から構成することができるが、中
でも、アクリル系材料、より具体的にはポリメチルメタ
クリレート（ＰＭＭＡ）から構成することが好ましい。
【００３２】本発明の第２の態様に係る光反射防止部材
の作製方法においては、基材をロール状のフィルムから
構成し、ハードコート層が予め形成されたフィルムを繰
り出し、ハードコート層上に、金属若しくは合金ターゲ
ットを用いた反応性スパッタ法にて透明酸化物膜から成
る第１層目を成膜した後、引き続き、第１層目上に導電
性光吸収膜から成る反射防止用光学薄膜の第２層目をス
パッタ法にて成膜し、次いで、第２層目上にスパッタ法
にて反射防止用光学薄膜の第３層目を成膜し、その後、
反射防止用光学薄膜がハードコート層上に成膜されたフ
ィルムを巻き取ることによって、連続的に光反射防止部
材を作製することができる。
の作製方法においては、基材をロール状のフィルムから
構成し、ハードコート層が予め形成されたフィルムを繰
り出し、ハードコート層上に、金属若しくは合金ターゲ
ットを用いた反応性スパッタ法にて透明酸化物膜から成
る第１層目を成膜した後、引き続き、第１層目上に導電
性光吸収膜から成る反射防止用光学薄膜の第２層目をス
パッタ法にて成膜し、次いで、第２層目上にスパッタ法
にて反射防止用光学薄膜の第３層目を成膜し、その後、
反射防止用光学薄膜がハードコート層上に成膜されたフ
ィルムを巻き取ることによって、連続的に光反射防止部
材を作製することができる。
【００３３】本発明においては、基材は、光を透過し得
る材料であれば如何なる材料から構成してもよい。基材
を構成する材料は、要求される仕様や光反射防止部材の
使用分野に依って決定すればよく、プラスチック又はガ
ラスとすることができる。基材を構成する材料としてプ
ラスチックを選択する場合、例えば、ポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポ
リプロピレン（ＰＰ）、ポリメチルメタクリレート及び
その共重合体、不飽和ポリエステル、アクリルニトリル
−スチレン共重合体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポ
キシ樹脂、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロ
ース等のセルロース系樹脂を例示することができるが、
中でも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポ
リカーボネート（ＰＣ）であることが好ましい。基材の
形態は、要求される仕様や使用目的に応じて、フィルム
状、シート状、プレート状とすることができる。基材の
厚さは、特に限定されず、光反射防止部材に要求される
仕様やその使用分野に依存して決定すればよい。光反射
防止部材の使用形態によっては、光反射防止部材の基材
の裏面（反射防止用光学薄膜が形成されていない側の表
面）にハードコート層を形成してもよい。
る材料であれば如何なる材料から構成してもよい。基材
を構成する材料は、要求される仕様や光反射防止部材の
使用分野に依って決定すればよく、プラスチック又はガ
ラスとすることができる。基材を構成する材料としてプ
ラスチックを選択する場合、例えば、ポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポ
リプロピレン（ＰＰ）、ポリメチルメタクリレート及び
その共重合体、不飽和ポリエステル、アクリルニトリル
−スチレン共重合体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポ
キシ樹脂、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロ
ース等のセルロース系樹脂を例示することができるが、
中でも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポ
リカーボネート（ＰＣ）であることが好ましい。基材の
形態は、要求される仕様や使用目的に応じて、フィルム
状、シート状、プレート状とすることができる。基材の
厚さは、特に限定されず、光反射防止部材に要求される
仕様やその使用分野に依存して決定すればよい。光反射
防止部材の使用形態によっては、光反射防止部材の基材
の裏面（反射防止用光学薄膜が形成されていない側の表
面）にハードコート層を形成してもよい。
【００３４】本発明の第１の態様及び第２の態様に係る
光反射防止部材の使用形態としては、例えば、陰極線管
のパネル表面や、液晶表示装置、プラズマ表示装置、Ｅ
Ｌ表示装置等の画像表示部分の表面への貼り合わせ、例
えば、陰極線管の前方に配設するフィルター部材として
の使用、各種の光学用レンズの表面への貼り合わせを例
示することができる。例えば、本発明の第１の態様及び
第２の態様に係る光反射防止部材の基材の裏面（ハード
コート層が形成されていない側の表面）に接着剤層や粘
着剤層を形成し、かかる接着剤層や粘着剤層を介して、
陰極線管のパネル表面に光反射防止部材を貼り合わせれ
ばよい。この場合、真空引きしながら光反射防止部材に
圧力を加えて貼り合わせれば、光反射防止部材と陰極線
管のパネル表面等との間に空気が入り込むことを防ぐこ
とができる。
光反射防止部材の使用形態としては、例えば、陰極線管
のパネル表面や、液晶表示装置、プラズマ表示装置、Ｅ
Ｌ表示装置等の画像表示部分の表面への貼り合わせ、例
えば、陰極線管の前方に配設するフィルター部材として
の使用、各種の光学用レンズの表面への貼り合わせを例
示することができる。例えば、本発明の第１の態様及び
第２の態様に係る光反射防止部材の基材の裏面（ハード
コート層が形成されていない側の表面）に接着剤層や粘
着剤層を形成し、かかる接着剤層や粘着剤層を介して、
陰極線管のパネル表面に光反射防止部材を貼り合わせれ
ばよい。この場合、真空引きしながら光反射防止部材に
圧力を加えて貼り合わせれば、光反射防止部材と陰極線
管のパネル表面等との間に空気が入り込むことを防ぐこ
とができる。
【００３５】また、反射防止用光学薄膜の最上層に、ポ
リテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−
パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラ
フルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合
体、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロ
エチレン−エチレン共重合体、クロロトリフルオロエチ
レン−エチレン共重合体、ポリビニリデンフルオライ
ド、ポリビニルフルオライド等のフッ素系材料から成る
層を、指紋等の付着を防ぐために、形成してもよい。
尚、この場合の層厚は、反射防止効果を損なわない程度
とすればよく、３〜１００ｎｍ程度にすることが好まし
い。
リテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−
パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラ
フルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合
体、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロ
エチレン−エチレン共重合体、クロロトリフルオロエチ
レン−エチレン共重合体、ポリビニリデンフルオライ
ド、ポリビニルフルオライド等のフッ素系材料から成る
層を、指紋等の付着を防ぐために、形成してもよい。
尚、この場合の層厚は、反射防止効果を損なわない程度
とすればよく、３〜１００ｎｍ程度にすることが好まし
い。
【００３６】本発明の第１の態様に係る光反射防止部材
における反射防止用光学薄膜の第１層目及び第２層目の
膜厚、あるいは又、本発明の第２の態様に係る光反射防
止部材における反射防止用光学薄膜の第２層目及び第３
層目の膜厚は、例えば、所謂（λ／４−λ／２）膜から
成るＶ型構造やＷ型構造の２層構造に基づく膜厚決定
法、あるいは所謂（λ／４−λ／２−λ／４）膜から成
る３層構造に基づく膜厚決定法等に基づき決定すればよ
い。
における反射防止用光学薄膜の第１層目及び第２層目の
膜厚、あるいは又、本発明の第２の態様に係る光反射防
止部材における反射防止用光学薄膜の第２層目及び第３
層目の膜厚は、例えば、所謂（λ／４−λ／２）膜から
成るＶ型構造やＷ型構造の２層構造に基づく膜厚決定
法、あるいは所謂（λ／４−λ／２−λ／４）膜から成
る３層構造に基づく膜厚決定法等に基づき決定すればよ
い。
【００３７】従来の技術においては、ＩＴＯ層は、酸化
物であるＩＴＯをターゲットとしたスパッタ法にて成膜
される。これに対して、本発明の第１の態様に係る光反
射防止部材あるいはその作製方法においては、ハードコ
ート層と接する反射防止用光学薄膜の第１層目を構成す
る透明導電性酸化物膜は反応性物理的気相成長法にて形
成される。反応性物理的気相成長法として、例えば金属
若しくは合金ターゲットを用いた反応性スパッタ法を採
用した場合、従来技術のような酸化物ターゲットを用い
たスパッタ法とは異なり、比較的酸素不足のスパッタ条
件でスパッタが行われる。これによって、スパッタ粒子
がハードコート層上で堆積する際、完全に酸化されたス
パッタ粒子がハードコート層上に堆積するのではなく、
金属若しくは合金のスパッタ粒子が一部活性な状態でハ
ードコート層に達し、ハードコート層構成分子中の酸素
原子と反応し、化学的に強固な結合がもたらされると考
えられる。その結果、透明導電性酸化物膜とハードコー
ト層との間の密着性（付着強度）が増加する。尚、本発
明の第１の態様に係る光反射防止部材においては、透明
導電性酸化物膜と第２層目の膜の組み合わせによって光
の反射を効果的に防止することができ、一方、透明導電
性酸化物膜によって光反射防止部材に帯電防止機能や電
磁放射遮蔽機能が付与される。
物であるＩＴＯをターゲットとしたスパッタ法にて成膜
される。これに対して、本発明の第１の態様に係る光反
射防止部材あるいはその作製方法においては、ハードコ
ート層と接する反射防止用光学薄膜の第１層目を構成す
る透明導電性酸化物膜は反応性物理的気相成長法にて形
成される。反応性物理的気相成長法として、例えば金属
若しくは合金ターゲットを用いた反応性スパッタ法を採
用した場合、従来技術のような酸化物ターゲットを用い
たスパッタ法とは異なり、比較的酸素不足のスパッタ条
件でスパッタが行われる。これによって、スパッタ粒子
がハードコート層上で堆積する際、完全に酸化されたス
パッタ粒子がハードコート層上に堆積するのではなく、
金属若しくは合金のスパッタ粒子が一部活性な状態でハ
ードコート層に達し、ハードコート層構成分子中の酸素
原子と反応し、化学的に強固な結合がもたらされると考
えられる。その結果、透明導電性酸化物膜とハードコー
ト層との間の密着性（付着強度）が増加する。尚、本発
明の第１の態様に係る光反射防止部材においては、透明
導電性酸化物膜と第２層目の膜の組み合わせによって光
の反射を効果的に防止することができ、一方、透明導電
性酸化物膜によって光反射防止部材に帯電防止機能や電
磁放射遮蔽機能が付与される。
【００３８】また、特願平７−１７０９２５号にて提案
した光反射防止部材においては、導電性光吸収膜を構成
する元素が、ハードコート層構成分子中の酸素との親和
力を有していないか若しくは親和力が小さい場合、導電
性光吸収膜とハードコート層との間の密着力が十分では
ないと考えられる。これに対して、本発明の第２の態様
に係る光反射防止部材あるいはその作製方法において
は、ハードコート層と接する反射防止用光学薄膜の第１
層目を構成する透明酸化物膜は反応性物理的気相成長法
にて形成される。反応性物理的気相成長法として、例え
ば金属若しくは合金ターゲットを用いた反応性スパッタ
法を採用した場合、従来技術のような酸化物ターゲット
を用いたスパッタ法とは異なり、比較的酸素不足のスパ
ッタ条件でスパッタが行われる。これによって、スパッ
タ粒子がハードコート層上で堆積する際、完全に酸化さ
れたスパッタ粒子がハードコート層上に堆積するのでは
なく、金属若しくは合金のスパッタ粒子が一部活性な状
態でハードコート層に達し、ハードコート層の構成分子
中の酸素原子と反応し、化学的に強固な結合がもたらさ
れると考えられる。その結果、透明酸化物膜（更には、
導電性光吸収膜）とハードコート層との間の密着性（付
着強度）が増加する。尚、本発明の第２の態様に係る光
反射防止部材においては、主に、導電性光吸収膜と第３
層目の膜の組み合わせによって光の反射を効果的に防止
することができ、一方、導電性光吸収膜によって光反射
防止部材に帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能が付与され
る。尚、透明酸化物膜の膜厚を適切な値とすることで、
透明酸化物膜に光反射防止機能を付与してもよい。ま
た、透明酸化物膜を導電性とすることで、透明酸化物膜
に帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能を付与してもよい。
した光反射防止部材においては、導電性光吸収膜を構成
する元素が、ハードコート層構成分子中の酸素との親和
力を有していないか若しくは親和力が小さい場合、導電
性光吸収膜とハードコート層との間の密着力が十分では
ないと考えられる。これに対して、本発明の第２の態様
に係る光反射防止部材あるいはその作製方法において
は、ハードコート層と接する反射防止用光学薄膜の第１
層目を構成する透明酸化物膜は反応性物理的気相成長法
にて形成される。反応性物理的気相成長法として、例え
ば金属若しくは合金ターゲットを用いた反応性スパッタ
法を採用した場合、従来技術のような酸化物ターゲット
を用いたスパッタ法とは異なり、比較的酸素不足のスパ
ッタ条件でスパッタが行われる。これによって、スパッ
タ粒子がハードコート層上で堆積する際、完全に酸化さ
れたスパッタ粒子がハードコート層上に堆積するのでは
なく、金属若しくは合金のスパッタ粒子が一部活性な状
態でハードコート層に達し、ハードコート層の構成分子
中の酸素原子と反応し、化学的に強固な結合がもたらさ
れると考えられる。その結果、透明酸化物膜（更には、
導電性光吸収膜）とハードコート層との間の密着性（付
着強度）が増加する。尚、本発明の第２の態様に係る光
反射防止部材においては、主に、導電性光吸収膜と第３
層目の膜の組み合わせによって光の反射を効果的に防止
することができ、一方、導電性光吸収膜によって光反射
防止部材に帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能が付与され
る。尚、透明酸化物膜の膜厚を適切な値とすることで、
透明酸化物膜に光反射防止機能を付与してもよい。ま
た、透明酸化物膜を導電性とすることで、透明酸化物膜
に帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能を付与してもよい。
【００３９】
【実施例】以下、図面を参照して、実施例に基づき本発
明を説明する。
明を説明する。
【００４０】（実施例１）実施例１は、本発明の第１の
態様に係る光反射防止部材及びその作製方法に関する。
表３に、ターゲット材料、及び反応性スパッタ法（より
具体的には、直流マグネトロンスパッタ法）による成膜
条件を示す。得られた光反射防止部材の模式的な一部断
面図を図１に示す。図１中、反射防止用光学薄膜の第１
層目は、反応性の直流マグネトロンスパッタ法にて成膜
された透明導電性酸化物膜（厚さ１５ｎｍ）である。反
射防止用光学薄膜の第２層は、酸化物をターゲットとし
て用いた従来のスパッタ法にて成膜された厚さ２０ｎｍ
のＳｉＯ2から成る。反射防止用光学薄膜の第３層目
は、第１層目と同じ条件での反応性の直流マグネトロン
スパッタ法にて成膜された透明導電性酸化物膜（厚さ１
００ｎｍ）である。反射防止用光学薄膜の第４層は、従
来のスパッタ法にて成膜された厚さ８５ｎｍのＳｉＯ2
から成る。ハードコート層はＰＭＭＡから成る。また、
基材はＰＥＴから成る。第２層目及び第４層目のスパッ
タ法による成膜条件を以下に示す。 ターゲット：ＳｉＯ2 電力密度 ：１５Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ 雰囲気圧力：０．２Ｐａ
態様に係る光反射防止部材及びその作製方法に関する。
表３に、ターゲット材料、及び反応性スパッタ法（より
具体的には、直流マグネトロンスパッタ法）による成膜
条件を示す。得られた光反射防止部材の模式的な一部断
面図を図１に示す。図１中、反射防止用光学薄膜の第１
層目は、反応性の直流マグネトロンスパッタ法にて成膜
された透明導電性酸化物膜（厚さ１５ｎｍ）である。反
射防止用光学薄膜の第２層は、酸化物をターゲットとし
て用いた従来のスパッタ法にて成膜された厚さ２０ｎｍ
のＳｉＯ2から成る。反射防止用光学薄膜の第３層目
は、第１層目と同じ条件での反応性の直流マグネトロン
スパッタ法にて成膜された透明導電性酸化物膜（厚さ１
００ｎｍ）である。反射防止用光学薄膜の第４層は、従
来のスパッタ法にて成膜された厚さ８５ｎｍのＳｉＯ2
から成る。ハードコート層はＰＭＭＡから成る。また、
基材はＰＥＴから成る。第２層目及び第４層目のスパッ
タ法による成膜条件を以下に示す。 ターゲット：ＳｉＯ2 電力密度 ：１５Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ 雰囲気圧力：０．２Ｐａ
【００４１】従来法にて同様の構造を有する光反射防止
部材を作製した。即ち、表３の従来法においては、反射
防止用光学薄膜の第１層目は、酸化物をターゲットとし
て用いた直流マグネトロンスパッタ法にて成膜された透
明導電性酸化物膜（厚さ１５ｎｍ）である。反射防止用
光学薄膜の第２層は、酸化物をターゲットとして用いた
従来のスパッタ法にて成膜された厚さ２０ｎｍのＳｉＯ
2から成る。反射防止用光学薄膜の第３層目は、酸化物
をターゲットとして用いた直流マグネトロンスパッタ法
にて成膜された透明導電性酸化物膜（厚さ１００ｎｍ）
である。反射防止用光学薄膜の第４層は、酸化物をター
ゲットとして用いた従来のスパッタ法にて成膜された厚
さ８５ｎｍのＳｉＯ2から成る。ハードコート層はＰＭ
ＭＡから成る。また、基材はＰＥＴから成る。第２層目
及び第４層目の成膜条件は、実施例１と同様とした。第
３層目のスパッタ法による成膜条件を以下に示す。 ターゲット：ＩＴＯ酸化物 電力密度 ：１０Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ 雰囲気圧力：０．２Ｐａ
部材を作製した。即ち、表３の従来法においては、反射
防止用光学薄膜の第１層目は、酸化物をターゲットとし
て用いた直流マグネトロンスパッタ法にて成膜された透
明導電性酸化物膜（厚さ１５ｎｍ）である。反射防止用
光学薄膜の第２層は、酸化物をターゲットとして用いた
従来のスパッタ法にて成膜された厚さ２０ｎｍのＳｉＯ
2から成る。反射防止用光学薄膜の第３層目は、酸化物
をターゲットとして用いた直流マグネトロンスパッタ法
にて成膜された透明導電性酸化物膜（厚さ１００ｎｍ）
である。反射防止用光学薄膜の第４層は、酸化物をター
ゲットとして用いた従来のスパッタ法にて成膜された厚
さ８５ｎｍのＳｉＯ2から成る。ハードコート層はＰＭ
ＭＡから成る。また、基材はＰＥＴから成る。第２層目
及び第４層目の成膜条件は、実施例１と同様とした。第
３層目のスパッタ法による成膜条件を以下に示す。 ターゲット：ＩＴＯ酸化物 電力密度 ：１０Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ 雰囲気圧力：０．２Ｐａ
【００４２】
【表３】
【００４３】密着性（付着強度）の評価として摺動試験
を行った。摺動試験は、エチルアルコールを含浸させた
木綿布を４枚、直径２０ｍｍの鉄球に巻き付け、鉄球に
３ｋｇｆの荷重を加えた状態で、水平に置かれた反射防
止用光学薄膜の最上層に接触させ、鉄球を１０ｃｍ、水
平方向に往復動させた。そして、反射防止用光学薄膜に
剥離が発生するまでの往復動の回数で密着性（付着強
度）の評価を行った。
を行った。摺動試験は、エチルアルコールを含浸させた
木綿布を４枚、直径２０ｍｍの鉄球に巻き付け、鉄球に
３ｋｇｆの荷重を加えた状態で、水平に置かれた反射防
止用光学薄膜の最上層に接触させ、鉄球を１０ｃｍ、水
平方向に往復動させた。そして、反射防止用光学薄膜に
剥離が発生するまでの往復動の回数で密着性（付着強
度）の評価を行った。
【００４４】密着性（付着強度）の評価結果を表３に示
す。付着強度評価において、「０」は、往復動が５回以
内で剥離が発生したことを示す。「１」は、往復動が５
〜１０回の範囲で剥離が発生したことを示す。「２」
は、往復動が１０〜２０回の範囲で剥離が発生したこと
を示す。「３」は、往復動が２０〜３０回の範囲で剥離
が発生したことを示す。「４」は、往復動が３０〜４０
回の範囲で剥離が発生したことを示す。「５」は、往復
動が５０回以上でも剥離が発生しなかったことを示す。
尚、全ての場合において、反射防止用光学薄膜の剥離
は、第１層目とハードコート層との間で発生していた。
す。付着強度評価において、「０」は、往復動が５回以
内で剥離が発生したことを示す。「１」は、往復動が５
〜１０回の範囲で剥離が発生したことを示す。「２」
は、往復動が１０〜２０回の範囲で剥離が発生したこと
を示す。「３」は、往復動が２０〜３０回の範囲で剥離
が発生したことを示す。「４」は、往復動が３０〜４０
回の範囲で剥離が発生したことを示す。「５」は、往復
動が５０回以上でも剥離が発生しなかったことを示す。
尚、全ての場合において、反射防止用光学薄膜の剥離
は、第１層目とハードコート層との間で発生していた。
【００４５】表３から、本発明の第１の態様に係る光反
射防止部材の作製方法によって作製された光反射防止部
材においては、従来法にて得られた光反射防止部材と比
較して、第１層目とハードコート層との間の密着性（付
着強度）が格段に改善されていることが判る。
射防止部材の作製方法によって作製された光反射防止部
材においては、従来法にて得られた光反射防止部材と比
較して、第１層目とハードコート層との間の密着性（付
着強度）が格段に改善されていることが判る。
【００４６】（実施例２）
実施例２は、本発明の第２の態様に係る光反射防止部材
及びその作製方法に関する。表４に、ターゲット材料、
及び反応性スパッタ法（より具体的には、直流マグネト
ロンスパッタ法）による成膜条件を示す。得られた光反
射防止部材の模式的な一部断面図を図２に示す。図２
中、反射防止用光学薄膜の第１層目は、反応性の直流マ
グネトロンスパッタ法にて成膜された透明酸化物膜（厚
さ４ｎｍ）である。反射防止用光学薄膜の第２層は、Ｔ
ｉをターゲットとして用い、窒素ガス雰囲気における反
応性の直流マグネトロンスパッタ法にて成膜された、厚
さ１０ｎｍのＴｉＮX（Ｘは約０．９）から成る。反射
防止用光学薄膜の第３層目は、酸化物をターゲットとし
て用いた従来のスパッタ法にて成膜された厚さ１００ｎ
ｍのＳｉＯ2から成る。第３層目の成膜条件は、実施例
１と同様とした。ハードコート層はＰＭＭＡから成る。
また、基材はＰＥＴから成る。第２層目のスパッタ法に
よる成膜条件を以下に示す。 ターゲット：Ｔｉ 電力密度 ：４Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ＋Ｎ 2 （Ｎ 2 ：５０体積％） 雰囲気圧力：０．２Ｐａ
及びその作製方法に関する。表４に、ターゲット材料、
及び反応性スパッタ法（より具体的には、直流マグネト
ロンスパッタ法）による成膜条件を示す。得られた光反
射防止部材の模式的な一部断面図を図２に示す。図２
中、反射防止用光学薄膜の第１層目は、反応性の直流マ
グネトロンスパッタ法にて成膜された透明酸化物膜（厚
さ４ｎｍ）である。反射防止用光学薄膜の第２層は、Ｔ
ｉをターゲットとして用い、窒素ガス雰囲気における反
応性の直流マグネトロンスパッタ法にて成膜された、厚
さ１０ｎｍのＴｉＮX（Ｘは約０．９）から成る。反射
防止用光学薄膜の第３層目は、酸化物をターゲットとし
て用いた従来のスパッタ法にて成膜された厚さ１００ｎ
ｍのＳｉＯ2から成る。第３層目の成膜条件は、実施例
１と同様とした。ハードコート層はＰＭＭＡから成る。
また、基材はＰＥＴから成る。第２層目のスパッタ法に
よる成膜条件を以下に示す。 ターゲット：Ｔｉ 電力密度 ：４Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ＋Ｎ 2 （Ｎ 2 ：５０体積％） 雰囲気圧力：０．２Ｐａ
【００４７】従来法にて同様の構造を有する光反射防止
部材を作製した。即ち、表４の従来法においては、反射
防止用光学薄膜の第１層目は、酸化物をターゲットとし
て用いたＲＦスパッタ法にて成膜された透明酸化物膜
（厚さ４ｎｍ）である。反射防止用光学薄膜の第２層目
及び第３層目、並びに、ハードコート層及び基材は実施
例２と同様とした。また、透明酸化物膜（第１層目）を
設けない場合の光反射防止部材の構成も同様とした。第
１層目のスパッタ法による成膜条件を以下に示す。尚、
第２層目及び第３層目のスパッタ法による成膜条件は、
実施例２と同様とした。 ターゲット：ＳｉＯ2，ＺｒＯ2等 電力密度 ：４Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ＋Ｏ2（Ｏ2：５０体積％） 雰囲気圧力０．２Ｐａ
部材を作製した。即ち、表４の従来法においては、反射
防止用光学薄膜の第１層目は、酸化物をターゲットとし
て用いたＲＦスパッタ法にて成膜された透明酸化物膜
（厚さ４ｎｍ）である。反射防止用光学薄膜の第２層目
及び第３層目、並びに、ハードコート層及び基材は実施
例２と同様とした。また、透明酸化物膜（第１層目）を
設けない場合の光反射防止部材の構成も同様とした。第
１層目のスパッタ法による成膜条件を以下に示す。尚、
第２層目及び第３層目のスパッタ法による成膜条件は、
実施例２と同様とした。 ターゲット：ＳｉＯ2，ＺｒＯ2等 電力密度 ：４Ｗ／ｃｍ2 雰囲気ガス：Ａｒ＋Ｏ2（Ｏ2：５０体積％） 雰囲気圧力０．２Ｐａ
【００４８】
【表４】
【００４９】密着性（付着強度）の評価として、実施例
１と同様の摺動試験を行った。密着性（付着強度）の評
価結果を表４に示す。表４から、本発明の第２の態様に
係る光反射防止部材の作製方法によって作製された光反
射防止部材においては、従来法にて得られた光反射防止
部材と比較して、第１層目とハードコート層との間の密
着性（付着強度）が格段に改善されていることが判る。
１と同様の摺動試験を行った。密着性（付着強度）の評
価結果を表４に示す。表４から、本発明の第２の態様に
係る光反射防止部材の作製方法によって作製された光反
射防止部材においては、従来法にて得られた光反射防止
部材と比較して、第１層目とハードコート層との間の密
着性（付着強度）が格段に改善されていることが判る。
【００５０】本発明の第１又は第２の態様に係る光反射
防止部材の製造においては、図３に模式図を示すスパッ
タ装置を用いて、連続的に反射防止用光学薄膜を成膜す
ることができる。このスパッタ装置は、ハードコート層
が予め形成されたロール状のフィルム１０を繰り出すロ
ールフィルム繰出室２０と、減圧雰囲気とし得るスパッ
タ室３０と、フィルム１０を巻き取るロールフィルム巻
取室２２から構成されている。スパッタ室３０には複数
のカソード３２が設けられている。そして、各カソード
３２にターゲット（図示せず）を載置し、各カソード表
面に酸素ガス雰囲気を形成し、反応性スパッタ法あるい
は従来のスパッタ法にて各種の薄膜をハードコート層上
に順次、連続的に成膜できる構造となっている。
防止部材の製造においては、図３に模式図を示すスパッ
タ装置を用いて、連続的に反射防止用光学薄膜を成膜す
ることができる。このスパッタ装置は、ハードコート層
が予め形成されたロール状のフィルム１０を繰り出すロ
ールフィルム繰出室２０と、減圧雰囲気とし得るスパッ
タ室３０と、フィルム１０を巻き取るロールフィルム巻
取室２２から構成されている。スパッタ室３０には複数
のカソード３２が設けられている。そして、各カソード
３２にターゲット（図示せず）を載置し、各カソード表
面に酸素ガス雰囲気を形成し、反応性スパッタ法あるい
は従来のスパッタ法にて各種の薄膜をハードコート層上
に順次、連続的に成膜できる構造となっている。
【００５１】このような構造のスパッタ装置を使用し
て、本発明の第１の態様に係る光反射防止部材の作製に
おいては、ハードコート層が予め形成されたフィルム１
０をロールフィルム繰出室２０から繰り出し、スパッタ
室３０内でフィルム１０をローラ３４に巻き付けなが
ら、ハードコート層上に、金属若しくは合金ターゲット
を用いた反応性スパッタ法にて透明導電性酸化物膜から
成る第１層目を成膜し、引き続き、第１層目上に反射防
止用光学薄膜の第２層目をスパッタ法にて成膜し、次い
で、反射防止用光学薄膜がハードコート層上に成膜され
たフィルム１０をロールフィルム巻取室２２にて巻き取
る。
て、本発明の第１の態様に係る光反射防止部材の作製に
おいては、ハードコート層が予め形成されたフィルム１
０をロールフィルム繰出室２０から繰り出し、スパッタ
室３０内でフィルム１０をローラ３４に巻き付けなが
ら、ハードコート層上に、金属若しくは合金ターゲット
を用いた反応性スパッタ法にて透明導電性酸化物膜から
成る第１層目を成膜し、引き続き、第１層目上に反射防
止用光学薄膜の第２層目をスパッタ法にて成膜し、次い
で、反射防止用光学薄膜がハードコート層上に成膜され
たフィルム１０をロールフィルム巻取室２２にて巻き取
る。
【００５２】あるいは又、本発明の第２の態様に係る光
反射防止部材の作製においては、ハードコート層が予め
形成されたフィルム１０をロールフィルム繰出室２０か
ら繰り出し、スパッタ室３０内で、ハードコート層上
に、金属若しくは合金ターゲットを用いた反応性スパッ
タ法にて透明酸化物膜から成る第１層目を成膜した後、
引き続き、第１層目上に導電性光吸収膜から成る反射防
止用光学薄膜の第２層目をスパッタ法にて成膜し、次い
で、第２層目上にスパッタ法にて反射防止用光学薄膜の
第３層目を成膜し、その後、反射防止用光学薄膜がハー
ドコート層上に成膜されたフィルム１０をロールフィル
ム巻取室２２にて巻き取る。
反射防止部材の作製においては、ハードコート層が予め
形成されたフィルム１０をロールフィルム繰出室２０か
ら繰り出し、スパッタ室３０内で、ハードコート層上
に、金属若しくは合金ターゲットを用いた反応性スパッ
タ法にて透明酸化物膜から成る第１層目を成膜した後、
引き続き、第１層目上に導電性光吸収膜から成る反射防
止用光学薄膜の第２層目をスパッタ法にて成膜し、次い
で、第２層目上にスパッタ法にて反射防止用光学薄膜の
第３層目を成膜し、その後、反射防止用光学薄膜がハー
ドコート層上に成膜されたフィルム１０をロールフィル
ム巻取室２２にて巻き取る。
【００５３】金属ターゲットを用いて酸化物膜を形成す
る方法が、例えば、特開平２−４９６７号から知られて
いる。この特許公開公報に開示されたスパッタ装置にお
いては、金属層を形成するステーションと、成膜された
金属層を酸化して酸化物膜を形成するステーションとが
別々に設けられている。そして、基材をこれらのステー
ションを繰り返し通過させることによって、目的とする
金属酸化物層が形成される。この特許公開公報に開示さ
れた技術においては、スパッタ装置が極めて複雑とな
り、金属酸化物層の生産性がよくない。
る方法が、例えば、特開平２−４９６７号から知られて
いる。この特許公開公報に開示されたスパッタ装置にお
いては、金属層を形成するステーションと、成膜された
金属層を酸化して酸化物膜を形成するステーションとが
別々に設けられている。そして、基材をこれらのステー
ションを繰り返し通過させることによって、目的とする
金属酸化物層が形成される。この特許公開公報に開示さ
れた技術においては、スパッタ装置が極めて複雑とな
り、金属酸化物層の生産性がよくない。
【００５４】一方、図３に示したスパッタ装置の構造は
簡素であり、多層の反射防止用光学薄膜を効率良く生産
することが可能であり、光反射防止部材の生産コストを
低く押さえることができる。
簡素であり、多層の反射防止用光学薄膜を効率良く生産
することが可能であり、光反射防止部材の生産コストを
低く押さえることができる。
【００５５】本発明の第１の態様及び第２の態様に係る
光反射防止部材の基材の裏面（ハードコート層が形成さ
れていない側の表面）に、例えばＵＶ硬化アクリル系接
着剤から成る接着剤層あるいは粘着剤層を形成し、かか
る接着剤層や粘着剤層を介して、陰極線管のパネル表面
に光反射防止部材を貼り合わせれば、パネル表面に光反
射防止部材が貼り合わされた陰極線管を作製することが
できる。尚、真空引きしながら光反射防止部材に圧力を
加えて陰極線管のパネル表面に貼り合わせれば、光反射
防止部材とパネル表面との間に空気が入り込むことを防
ぐことができる。また、基材が例えばＰＥＴから成る場
合、基材を１００゜Ｃ前後に加熱した状態で光反射防止
部材をパネル前面に貼り合わせれば、基材にしわが寄る
ことを防ぐことができる。
光反射防止部材の基材の裏面（ハードコート層が形成さ
れていない側の表面）に、例えばＵＶ硬化アクリル系接
着剤から成る接着剤層あるいは粘着剤層を形成し、かか
る接着剤層や粘着剤層を介して、陰極線管のパネル表面
に光反射防止部材を貼り合わせれば、パネル表面に光反
射防止部材が貼り合わされた陰極線管を作製することが
できる。尚、真空引きしながら光反射防止部材に圧力を
加えて陰極線管のパネル表面に貼り合わせれば、光反射
防止部材とパネル表面との間に空気が入り込むことを防
ぐことができる。また、基材が例えばＰＥＴから成る場
合、基材を１００゜Ｃ前後に加熱した状態で光反射防止
部材をパネル前面に貼り合わせれば、基材にしわが寄る
ことを防ぐことができる。
【００５６】以上、本発明を好ましい実施例に基づき説
明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例にて説明した反射防止用光学薄膜の構成材料や厚
さ、構造、あるいは、スパッタ条件、更には、基材やハ
ードコート層の材質、反射防止用光学薄膜を連続的に成
膜するスパッタ装置の構造は例示であり、適宜変更する
ことができる。
明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例にて説明した反射防止用光学薄膜の構成材料や厚
さ、構造、あるいは、スパッタ条件、更には、基材やハ
ードコート層の材質、反射防止用光学薄膜を連続的に成
膜するスパッタ装置の構造は例示であり、適宜変更する
ことができる。
【００５７】
【発明の効果】本発明の第１の態様に係る光反射防止部
材及びその作製方法によれば、反射防止用光学薄膜とハ
ードコート層との間の密着性を飛躍的に向上させること
ができ、洗浄時や使用時における高い信頼性を有する光
反射防止部材を提供することができる。また、透明導電
性酸化物膜が高屈折率層として機能するので、高屈折率
層と導電層を別の層から構成する必要がなくなり、反射
防止用光学薄膜の構成が簡素となり、安価に光反射防止
部材を作製することが可能となる。しかも、スパッタ法
において成膜速度の遅いＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5や
高価なＹ2Ｏ3を用いる必要がなく、例えばＩＴＯやＳｎ
Ｏ2、ＺｎＯ、Ｉｎ 2Ｏ3等を採用することができるので
経済的であり、成膜コストを抑制することができ、光反
射防止部材の製造コストの低減を図ることができる。
材及びその作製方法によれば、反射防止用光学薄膜とハ
ードコート層との間の密着性を飛躍的に向上させること
ができ、洗浄時や使用時における高い信頼性を有する光
反射防止部材を提供することができる。また、透明導電
性酸化物膜が高屈折率層として機能するので、高屈折率
層と導電層を別の層から構成する必要がなくなり、反射
防止用光学薄膜の構成が簡素となり、安価に光反射防止
部材を作製することが可能となる。しかも、スパッタ法
において成膜速度の遅いＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5や
高価なＹ2Ｏ3を用いる必要がなく、例えばＩＴＯやＳｎ
Ｏ2、ＺｎＯ、Ｉｎ 2Ｏ3等を採用することができるので
経済的であり、成膜コストを抑制することができ、光反
射防止部材の製造コストの低減を図ることができる。
【００５８】また、本発明の第２の態様に係る光反射防
止部材及びその作製方法によっても、反射防止用光学薄
膜とハードコート層との間の密着性を飛躍的に向上させ
ることができ、洗浄時や使用時における高い信頼性を有
する光反射防止部材を提供することができる。更には、
反射防止用光学薄膜の構成が簡素であり、反射防止用光
学薄膜を構成する膜厚も薄くてよく、安価に光反射防止
部材を作製することが可能となる。しかも、例えば反応
性の直流マグネトロンスパッタ法を採用すれば、成膜コ
ストを抑制することができ、光反射防止部材の製造コス
トの低減を図ることができる。
止部材及びその作製方法によっても、反射防止用光学薄
膜とハードコート層との間の密着性を飛躍的に向上させ
ることができ、洗浄時や使用時における高い信頼性を有
する光反射防止部材を提供することができる。更には、
反射防止用光学薄膜の構成が簡素であり、反射防止用光
学薄膜を構成する膜厚も薄くてよく、安価に光反射防止
部材を作製することが可能となる。しかも、例えば反応
性の直流マグネトロンスパッタ法を採用すれば、成膜コ
ストを抑制することができ、光反射防止部材の製造コス
トの低減を図ることができる。
【図１】実施例１における光反射防止部材の模式的な一
部断面図である。
部断面図である。
【図２】実施例２における光反射防止部材の模式的な一
部断面図である。
部断面図である。
【図３】本発明の光反射防止部材を連続的に作製するの
に適したスパッタ装置の模式図である。
に適したスパッタ装置の模式図である。
【図４】従来の光反射防止部材の模式的な一部断面図、
及び、本出願人が特願平７−１７０９２５号にて提案し
た光反射防止部材の模式的な一部断面図である。
及び、本出願人が特願平７−１７０９２５号にて提案し
た光反射防止部材の模式的な一部断面図である。
１０ フィルム１０
２０ ロールフィルム繰出室
２２ ロールフィルム巻取室
３０ スパッタ室
３２ カソード
３４ ローラ
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平６−130204（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−198701（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−168855（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−134102（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−82201（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−240802（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−245449（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−215202（ＪＰ，Ａ)
特開 昭64−80904（ＪＰ，Ａ)
特開 昭64−70701（ＪＰ，Ａ)
特開 昭64−79041（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 1/11
Claims (22)
- 【請求項１】 基材と、ハードコート層と、少なくとも３
層を有する反射防止用光学薄膜とが積層されて成る光反
射防止部材であって、 該ハードコート層と接する反射防止用光学薄膜の第１層
目は透明酸化物膜から成り、 反射防止用光学薄膜の第２層目は導電性光吸収膜から成
り、 反射防止用光学薄膜の第３層目は、第２層目を構成する
材料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成り、 反射防止用光学薄膜の該第２層目と該ハードコート層と
の間の密着性の向上のための該透明酸化物膜は、ハード
コート層上に堆積させるべき該透明酸化物膜を構成する
材料の少なくとも一部分とハードコート層を構成する材
料との間の化学的反応を伴う反応性物理的気相成長法に
て形成されている ことを特徴とする光反射防止部材。 - 【請求項２】 反応性物理的気相成長法は、金属若しくは
合金ターゲットを用いた反応性スパッタ法であることを
特徴とする請求項１に記載の光反射防止部材。 - 【請求項３】 透明酸化物膜の厚さは１乃至２０ｎｍであ
ることを特徴とする請求項１に記載の光反射防止部材。 - 【請求項４】 透明酸化物膜は、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｓｉ
ＯX（但し、Ｘ＝１〜２）、ＳｉＯXＮY（但し、Ｘ＝１
〜２、Ｙ＝０．２〜０．６）、及びＣｒＯX（但し、Ｘ
＝０．２〜１．５）から構成された群から選択された少
なくとも１種の材料から成ることを特徴とする請求項３
に記載の光反射防止部材。 - 【請求項５】 透明酸化物膜には、透明酸化物膜を構成す
る元素と同じ若しくはそれ以上の大きさの酸素との親和
力を有する元素が含まれていることを特徴とする請求項
１に記載の光反射防止部材。 - 【請求項６】 導電性光吸収膜は、金属、合金、金属窒化
物又は金属酸窒化物から成ることを特徴とする請求項１
に記載の光反射防止部材。 - 【請求項７】 導電性光吸収膜は、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮX
（但し、Ｘ＝０．３〜１）、ＴｉＯXＮY（但し、Ｘ＝
０．３〜１、Ｙ＜１、Ｙ≦Ｘ）、ＴａＮX（但し、Ｘ＝
０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、
Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａｌ、及
びＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成された群から選択された材
料から成ることを特徴とする請求項６に記載の光反射防
止部材。 - 【請求項８】 反射防止用光学薄膜の第３層目は、ＳｉＯ
2又はＭｇＦ2から成ることを特徴とする請求項１に記載
の光反射防止部材。 - 【請求項９】 ハードコート層はアクリル系材料から成る
ことを特徴とする請求項１に記載の光反射防止部材。 - 【請求項１０】 ハードコート層はポリメチルメタクリレ
ートから成ることを特徴とする請求項９に記載の光反射
防止部材。 - 【請求項１１】 基材と、ハードコート層と、少なくとも
３層の反射防止用光学薄膜とが積層されて成り、 該ハードコート層と接する反射防止用光学薄膜の第１層
目は透明酸化物膜から成り、 反射防止用光学薄膜の第２層目は導電性光吸収膜から成
り、 反射防止用光学薄膜の第３層目は、第２層目を構成する
材料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成る光
反射防止部材の作製方法であって、反射防止用光学薄膜の該第２層目と該ハードコート層と
の間の密着性の向上のための 該透明酸化物膜を、ハード
コート層上に堆積させるべき該透明酸化物膜を構成する
材料の少なくとも一部分とハードコート層を構成する材
料との間の化学的反応を伴う反応性物理的気相成長法に
て形成することを特徴とする光反射防止部材の作製方
法。 - 【請求項１２】 反応性物理的気相成長法は、金属若しく
は合金ターゲットを用いた反応性スパッタ法であること
を特徴とする請求項１１に記載の光反射防止部材の作製
方法。 - 【請求項１３】 透明酸化物膜の厚さは１乃至２０ｎｍで
あることを特徴とする請求項１１に記載の光反射防止部
材の作製方法。 - 【請求項１４】 透明酸化物膜は、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｓ
ｉＯX（但し、Ｘ＝１〜２）、ＳｉＯXＮY（但し、Ｘ＝
１〜２、Ｙ＝０．２〜０．６）、及びＣｒＯX（但し、
Ｘ＝０．２〜１．５）から構成された群から選択された
少なくとも１種の材料から成ることを特徴とする請求項
１３に記載の光反射防止部材の作製方法。 - 【請求項１５】 透明酸化物膜には、透明酸化物膜を構成
する元素と同じ若しくはそれ以上の大きさの酸素との親
和力を有する元素が含まれていることを特徴とする請求
項１１に記載の光反射防止部材の作製方法。 - 【請求項１６】 導電性光吸収膜は、金属、合金、金属窒
化物又は金属酸窒化物から成ることを特徴とする請求項
１１に記載の光反射防止部材の作製方法。 - 【請求項１７】 導電性光吸収膜は、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮ
X（但し、Ｘ＝０．２〜１）、ＴｉＯXＮY（但し、Ｘ＝
０．３〜１、Ｙ＜１、Ｙ≦Ｘ）、ＴａＮX（但し、Ｘ＝
０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、
Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａｌ、及
びＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成された群から選択された材
料から成ることを特徴とする請求項１６に記載の光反射
防止部材の作製方法。 - 【請求項１８】 反射防止用光学薄膜の第３層目は、Ｓｉ
Ｏ2又はＭｇＦ2から成ることを特徴とする請求項１１に
記載の光反射防止部材の作製方法。 - 【請求項１９】 ハードコート層はアクリル系材料から成
ることを特徴とする請求項１１に記載の光反射防止部材
の作製方法。 - 【請求項２０】 ハードコート層はポリメチルメタクリレ
ートから成ることを特徴とする請求項１９に記載の光反
射防止部材の作製方法。 - 【請求項２１】 基材はロール状のフィルムから成り、ハ
ードコート層が予め形成された該フィルムを繰り出し、
ハードコート層上に、金属若しくは合金ターゲットを用
いた反応性スパッタ法にて透明酸化物膜から成る第１層
目を成膜した後、引き続き、該第１層目上に導電性光吸
収膜から成る反射防止用光学薄膜の第２層目をスパッタ
法にて成膜し、次いで、該第２層目上にスパッタ法にて
反射防止用光学薄膜の第３層目を成膜し、その後、反射
防止用光学薄膜がハードコート層上に成膜されたフィル
ムを巻き取ることを特徴とする請求項１２に記載の光反
射防止部材の作製方法。 - 【請求項２２】 基材と、ハードコート層と、少なくとも
３層を有する反射防止用光学薄膜とが積層されて成る光
反射防止部材であって、該ハードコート層と接する反射
防止用光学薄膜の第１層目は透明酸化物膜から成り、反
射防止用光学薄膜の第２層目は導電性光吸収膜から成
り、反射防止用光学薄膜の第３層目は、第２層目を構成
する材料の屈折率よりも低い屈折率を有する材料から成
る光反射防止部材の基材が、陰極線管のパネル前面に貼
り合わされており、 反射防止用光学薄膜の該第２層目と該ハードコート層と
の間の密着性の向上のための該透明酸化物膜は、ハード
コート層上に堆積させるべき該透明酸化物膜を構成する
材料の少なくとも一部分とハードコート層を構成する材
料との間の化学的反応を伴う反応性物理的気相成長法に
て形成されている ことを特徴とする陰極線管。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26246095A JP3520627B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | 光反射防止部材及びその作製方法、並びに陰極線管 |
| SG1996010594A SG50759A1 (en) | 1995-09-14 | 1996-09-12 | Anti-reflection member manufacturing method thereof and cathode-ray tube |
| US08/713,013 US5874801A (en) | 1995-09-14 | 1996-09-12 | Anti-reflection member, manufacturing method thereof, and cathode-ray tube |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26246095A JP3520627B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | 光反射防止部材及びその作製方法、並びに陰極線管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0980205A JPH0980205A (ja) | 1997-03-28 |
| JP3520627B2 true JP3520627B2 (ja) | 2004-04-19 |
Family
ID=17376099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26246095A Expired - Fee Related JP3520627B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | 光反射防止部材及びその作製方法、並びに陰極線管 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JP3520627B2 (ja) |
| CN (1) | CN1134818C (ja) |
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Families Citing this family (48)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW347369B (en) * | 1996-12-17 | 1998-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | Organic substrate provided with a light absorptive antireflection film and process for production |
| JP2000513833A (ja) * | 1997-04-18 | 2000-10-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 光学素子及び光学素子が設けられたディスプレイ装置 |
| JPH10293541A (ja) * | 1997-04-18 | 1998-11-04 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマディスプレイ装置 |
| US6469685B1 (en) * | 1997-06-25 | 2002-10-22 | Viratec Thin Films, Inc. | Display panel filter and method of making the same |
| JP4553021B2 (ja) * | 1997-11-27 | 2010-09-29 | ソニー株式会社 | 反射防止膜およびその製造方法 |
| US7092695B1 (en) * | 1998-03-19 | 2006-08-15 | Securealert, Inc. | Emergency phone with alternate number calling capability |
| US6583935B1 (en) * | 1998-05-28 | 2003-06-24 | Cpfilms Inc. | Low reflection, high transmission, touch-panel membrane |
| JP2000047007A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-18 | Sony Corp | 反射防止膜及び陰極線管 |
| JP2000121804A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 反射防止フィルム |
| US6353501B1 (en) | 1999-01-21 | 2002-03-05 | Viratec Thin Films, Inc. | Display panel filter connection to a display panel |
| DE19922523A1 (de) * | 1999-05-15 | 2000-11-16 | Merck Patent Gmbh | Verfahren und Mittel zur Herstellung hydrophober Schichten auf Fluoridschichten |
| US6480250B1 (en) * | 1999-06-02 | 2002-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Low-reflection transparent conductive multi layer film having at least one transparent protective layer having anti-smudge properties |
| KR100615154B1 (ko) * | 1999-08-19 | 2006-08-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 콘트라스트가 향상된 음극선관 |
| KR100346547B1 (ko) * | 1999-11-26 | 2002-07-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 화상 표시장치 |
| EP1143480A1 (en) * | 2000-04-04 | 2001-10-10 | Tokin Corporation | Light emitting element, plasma display panel, and CRT display device capable of considerably suppressing a high-frequency noise |
| JP4560889B2 (ja) * | 2000-05-12 | 2010-10-13 | 旭硝子株式会社 | 反射防止体 |
| US6652981B2 (en) * | 2000-05-12 | 2003-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Etching process for making electrodes |
| JP2002006103A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-09 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、光学機能性フィルム、及び表示装置 |
| US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US7311961B2 (en) * | 2000-10-24 | 2007-12-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US20030228476A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-12-11 | Harry Buhay | Methods of changing the visible light transmittance of coated articles and coated articles made thereby |
| KR100786854B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2007-12-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 디스플레용 필터막, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치 |
| US20040005482A1 (en) * | 2001-04-17 | 2004-01-08 | Tomio Kobayashi | Antireflection film and antireflection layer-affixed plastic substrate |
| JP2003025510A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 反射防止性及び耐擦傷性を有する多層積層体 |
| US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
| JP4016178B2 (ja) * | 2001-11-06 | 2007-12-05 | ソニー株式会社 | 表示装置及び反射防止用基体 |
| TWI290328B (en) * | 2002-05-23 | 2007-11-21 | Nof Corp | Transparent conductive laminated film and touch panel |
| JP4069369B2 (ja) | 2002-09-25 | 2008-04-02 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜及び反射防止膜の製造方法 |
| WO2004031813A1 (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-15 | Bridgestone Corporation | 反射防止フィルム |
| US7585567B2 (en) * | 2003-06-17 | 2009-09-08 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Transparent conductive substrate, method of manufacturing the same, and photoelectric conversion element |
| JP4582305B2 (ja) * | 2004-11-15 | 2010-11-17 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止フィルムの製造方法 |
| TWI276986B (en) | 2004-11-19 | 2007-03-21 | Au Optronics Corp | Handwriting input apparatus |
| US7330122B2 (en) * | 2005-08-10 | 2008-02-12 | Remotemdx, Inc. | Remote tracking and communication device |
| TW200732691A (en) * | 2005-12-22 | 2007-09-01 | Fujifilm Corp | Antireflection film, front plate for plasma display panel using the same, plasma display panel-display device, and image display device |
| US20070148988A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-28 | Industrial Technology Research Institute | Fabrication method for alignment film |
| US8797210B2 (en) * | 2006-07-14 | 2014-08-05 | Securealert, Inc. | Remote tracking device and a system and method for two-way voice communication between the device and a monitoring center |
| US7737841B2 (en) * | 2006-07-14 | 2010-06-15 | Remotemdx | Alarm and alarm management system for remote tracking devices |
| US7936262B2 (en) | 2006-07-14 | 2011-05-03 | Securealert, Inc. | Remote tracking system with a dedicated monitoring center |
| US8232876B2 (en) | 2008-03-07 | 2012-07-31 | Securealert, Inc. | System and method for monitoring individuals using a beacon and intelligent remote tracking device |
| DE102008014900A1 (de) | 2008-03-19 | 2009-09-24 | Rodenstock Gmbh | Schichtsystem zur Beheizung optischer Oberflächen und gleichzeitiger Reflexminderung |
| JP4626721B1 (ja) * | 2009-09-02 | 2011-02-09 | ソニー株式会社 | 透明導電性電極、タッチパネル、情報入力装置、および表示装置 |
| JP5281606B2 (ja) * | 2010-03-17 | 2013-09-04 | 富士フイルム株式会社 | 機能性フィルムの製造方法 |
| US8514070B2 (en) | 2010-04-07 | 2013-08-20 | Securealert, Inc. | Tracking device incorporating enhanced security mounting strap |
| US20140333996A1 (en) * | 2012-01-25 | 2014-11-13 | Konica Minolta, Inc. | Optical film |
| US9025100B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-05-05 | Apple Inc. | Display with shielding antireflection layer |
| KR20140071058A (ko) * | 2012-12-03 | 2014-06-11 | 코닝정밀소재 주식회사 | 롤투롤 스퍼터링 장치 |
| CN104835554B (zh) * | 2015-03-18 | 2017-06-06 | 浙江大学 | 一种基于TiN层间掺杂的透明导电氧化物薄膜 |
| CN106564228A (zh) * | 2016-10-27 | 2017-04-19 | 广东星弛光电科技有限公司 | 一种增透抗刮花防指纹手机玻璃视窗防护屏的制备方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4075632A (en) * | 1974-08-27 | 1978-02-21 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Interrogation, and detection system |
| DE2919753A1 (de) * | 1979-05-16 | 1980-11-27 | Bbc Brown Boveri & Cie | Einrichtung zur automatischen identifizierung von objekten und/oder lebewesen |
| US4510495A (en) * | 1982-08-09 | 1985-04-09 | Cornell Research Foundation, Inc. | Remote passive identification system |
| US4598275A (en) * | 1983-05-09 | 1986-07-01 | Marc Industries Incorporated | Movement monitor |
| JPH0719551B2 (ja) * | 1985-04-22 | 1995-03-06 | 東レ株式会社 | 電磁波シールド性を有する光学フィルター |
| BG44890A1 (ja) * | 1986-05-27 | 1989-03-15 | Valentin R Krausp | |
| DE3629996A1 (de) * | 1986-09-03 | 1988-03-17 | Flachglas Ag | Vorsatzaggregat fuer die kathodenstrahlroehre von monitoren, fernsehapparaten und dergleichen |
| US4733633A (en) * | 1986-11-20 | 1988-03-29 | Yarnall Sr Robert G | Electronic confinement arrangement for animals |
| US5218344A (en) * | 1991-07-31 | 1993-06-08 | Ricketts James G | Method and system for monitoring personnel |
| SE9203479L (sv) * | 1992-01-20 | 1993-07-21 | Rso Corp | Saett och anordning vid elektronisk identifiering |
| US5241923A (en) * | 1992-07-23 | 1993-09-07 | Pole/Zero Corporation | Transponder control of animal whereabouts |
| NL9300740A (nl) * | 1993-05-03 | 1994-12-01 | Nedap Nv | Inrichting voor het elektronisch waarnemen van gedrag en het signaleren van gedragsveranderingen bij dieren. |
| NL9301318A (nl) * | 1993-07-28 | 1995-02-16 | Lely Nv C Van Der | Inrichting voor het automatisch melken van dieren. |
| SE9404539D0 (sv) * | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Tetra Laval Holdings & Finance | Apparatus and method for monitoring animals |
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