JP2003121603A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
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- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射率のきわめて低い反射防止フィルムを提
供する。 【解決手段】 透明基材１０上に第１，２，…，ｎ−
１，ｎ層２１，２２，…，２３，２４がこの順に形成さ
れている反射防止フィルム３０において、第ｎ層と第ｎ
−１層との界面の光学アドミッタンスをｘ＋ｉｙとした
場合、ｘ、ｙは次の関係を有する。０．９×｛（ｎ２−
ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＜｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ
０｝２＋ｙ２＜１．１×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝
２ただし、ｎ ０は外側領域（空気、接着剤など）の屈折
率、ｎは最外層（第ｎ層２４）の屈折率である。
供する。 【解決手段】 透明基材１０上に第１，２，…，ｎ−
１，ｎ層２１，２２，…，２３，２４がこの順に形成さ
れている反射防止フィルム３０において、第ｎ層と第ｎ
−１層との界面の光学アドミッタンスをｘ＋ｉｙとした
場合、ｘ、ｙは次の関係を有する。０．９×｛（ｎ２−
ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＜｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ
０｝２＋ｙ２＜１．１×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝
２ただし、ｎ ０は外側領域（空気、接着剤など）の屈折
率、ｎは最外層（第ｎ層２４）の屈折率である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴ画面や、Ｐ
ＤＰ画面等のディスプレイ分野に用いられる反射防止フ
ィルムに関するものである。
ＤＰ画面等のディスプレイ分野に用いられる反射防止フ
ィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】反射防止フィルムは、透明な合成樹脂シ
ートの上に低屈折率層と高屈折率層とを交互に複数層積
層したものである。この反射防止フィルムは、粘着剤に
よってＣＲＴ（陰極線管）やＰＤＰ（プラズマディスプ
レイパネル）に、透明な接着剤（粘着材をも包含す
る。）によって貼着されることが多い。この場合、該合
成樹脂シートが外面（ＣＲＴやＰＤＰから遠い側。すな
わち、大気露出面側）となるように反射防止フィルムが
貼着される。
ートの上に低屈折率層と高屈折率層とを交互に複数層積
層したものである。この反射防止フィルムは、粘着剤に
よってＣＲＴ（陰極線管）やＰＤＰ（プラズマディスプ
レイパネル）に、透明な接着剤（粘着材をも包含す
る。）によって貼着されることが多い。この場合、該合
成樹脂シートが外面（ＣＲＴやＰＤＰから遠い側。すな
わち、大気露出面側）となるように反射防止フィルムが
貼着される。
【０００３】この多層膜を有した反射防止フィルムの反
射率や透過率についての簡便な計算方法は、ベクトル
法、Ｓｍｉｔｈ図表、Ｋａｒｄ図表として知られている
ところである。
射率や透過率についての簡便な計算方法は、ベクトル
法、Ｓｍｉｔｈ図表、Ｋａｒｄ図表として知られている
ところである。
【０００４】この多層膜の反射率や透過率を正確に計算
する方法は、各層について、複素屈折率と光学膜厚より
定まる特性マトリックスＭ１、Ｍ２、Ｍ３、…、Ｍｋを
求め、この積Ｍ１・Ｍ２・Ｍ３・…・Ｍｋより多層膜の
特性マトリックスＭを求めるものである。反射防止フィ
ルムの設計にあたっては、所定の波長範囲において目標
とする反射率が得られるように各層の屈折率、膜厚を設
定する。
する方法は、各層について、複素屈折率と光学膜厚より
定まる特性マトリックスＭ１、Ｍ２、Ｍ３、…、Ｍｋを
求め、この積Ｍ１・Ｍ２・Ｍ３・…・Ｍｋより多層膜の
特性マトリックスＭを求めるものである。反射防止フィ
ルムの設計にあたっては、所定の波長範囲において目標
とする反射率が得られるように各層の屈折率、膜厚を設
定する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特性マトリックスの演算はきわめて煩雑であると共に、
場合によっては最適値が算出されないこともある。
特性マトリックスの演算はきわめて煩雑であると共に、
場合によっては最適値が算出されないこともある。
【０００６】本発明は、目標特性に高精度にて合致した
光学特性を有する反射防止フィルムを提供し得るように
することを目的とする。
光学特性を有する反射防止フィルムを提供し得るように
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の反射防止フィル
ムは、透明基材上に複数の薄層を形成してなり、該透明
基材から最も離隔した最外層の可視域の吸収が無視でき
る反射防止フィルムにおいて、該最外層よりも１層だけ
透明基材側の層の光学アドミッタンスを（ｘ＋ｉｙ）と
した場合に、ｘ、ｙが次の不等式を満たすものであるこ
とを特徴とするものである。 ０．９×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ＜｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＋ｙ２＜ １．１×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ただし、 ｎ０：最外層の外側の領域の屈折率 ｎ ：最外層の屈折率
ムは、透明基材上に複数の薄層を形成してなり、該透明
基材から最も離隔した最外層の可視域の吸収が無視でき
る反射防止フィルムにおいて、該最外層よりも１層だけ
透明基材側の層の光学アドミッタンスを（ｘ＋ｉｙ）と
した場合に、ｘ、ｙが次の不等式を満たすものであるこ
とを特徴とするものである。 ０．９×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ＜｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＋ｙ２＜ １．１×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ただし、 ｎ０：最外層の外側の領域の屈折率 ｎ ：最外層の屈折率
【０００８】かかる本発明の反射防止フィルムは、最外
層と該最外層よりも１層だけ透明基材側の層との界面の
光学アドミッタンスが所定の範囲に納まっているため、
透明な最外層の屈折率と厚さを選択することにより、目
標の反射防止特性を有した反射防止フィルムとすること
ができる。
層と該最外層よりも１層だけ透明基材側の層との界面の
光学アドミッタンスが所定の範囲に納まっているため、
透明な最外層の屈折率と厚さを選択することにより、目
標の反射防止特性を有した反射防止フィルムとすること
ができる。
【０００９】なお、本発明において、透明基材は消衰係
数ｋが可視域で実質的に０であることが望ましい。
数ｋが可視域で実質的に０であることが望ましい。
【００１０】この透明基材は、合成樹脂シート、特に厚
さが３０〜３００μｍ程度のポリエステルフィルムであ
ることが望ましい。
さが３０〜３００μｍ程度のポリエステルフィルムであ
ることが望ましい。
【００１１】上記の最外層よりも１層だけ透明基材側の
層は、消衰係数ｋがｋ＞０．００１とりわけ０．０１＜
ｋ＜１０であることが望ましい。
層は、消衰係数ｋがｋ＞０．００１とりわけ０．０１＜
ｋ＜１０であることが望ましい。
【００１２】この消衰係数を有した層としては、金属、
金属酸化物又は金属窒化物微粒子を含む複合材料、例え
ば、金属、金属酸化物又は金属窒化物微粒子と透明合成
樹脂との複合層や、金属、金属酸化物又は金属窒化物薄
膜が好適である。この薄膜としては、ＰＶＤ（物理的気
相成長法）とくに真空蒸着又はスパッタリングにより成
膜された薄膜が好適である。このＰＶＤによる隣接層の
厚さは３０ｎｍ以下特に１〜１０ｎｍ程度が好適であ
る。
金属酸化物又は金属窒化物微粒子を含む複合材料、例え
ば、金属、金属酸化物又は金属窒化物微粒子と透明合成
樹脂との複合層や、金属、金属酸化物又は金属窒化物薄
膜が好適である。この薄膜としては、ＰＶＤ（物理的気
相成長法）とくに真空蒸着又はスパッタリングにより成
膜された薄膜が好適である。このＰＶＤによる隣接層の
厚さは３０ｎｍ以下特に１〜１０ｎｍ程度が好適であ
る。
【００１３】上記の金属としては、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇ，
Ｔｉ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃ，Ｓ
ｉ，Ｂ，Ｇｅ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｃｄ，Ｉｎ，
Ｓｎが好適であり、酸化物、窒化物としてはＡｇ，Ｔ
ｉ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃ，Ｓｉ，
Ｂ，Ｇｅ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｃｄ，Ｉｎ，Ｓｎ
の酸化物、窒化物が好適である。
Ｔｉ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃ，Ｓ
ｉ，Ｂ，Ｇｅ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｃｄ，Ｉｎ，
Ｓｎが好適であり、酸化物、窒化物としてはＡｇ，Ｔ
ｉ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃ，Ｓｉ，
Ｂ，Ｇｅ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｃｄ，Ｉｎ，Ｓｎ
の酸化物、窒化物が好適である。
【００１４】本発明では、反射防止フィルムが帯電防止
機能（比抵抗５×１０１２Ω／□以下）を有しているこ
とが望ましい。特に、最小反射率が０．５％以下、視感
度反射率は１％以下、比抵抗が１０７Ω／□以下、透過
率が６０％以上であることが望ましい。最外層よりも１
層だけ透明基材側の層に金属、導電性の金属酸化物又は
金属窒化物微粒子を用いることにより、反射防止フィル
ムの比抵抗を下げて帯電防止機能を向上させることがで
きる。
機能（比抵抗５×１０１２Ω／□以下）を有しているこ
とが望ましい。特に、最小反射率が０．５％以下、視感
度反射率は１％以下、比抵抗が１０７Ω／□以下、透過
率が６０％以上であることが望ましい。最外層よりも１
層だけ透明基材側の層に金属、導電性の金属酸化物又は
金属窒化物微粒子を用いることにより、反射防止フィル
ムの比抵抗を下げて帯電防止機能を向上させることがで
きる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、必要に応じ図面を参照しな
がら実施の形態について詳細に説明する。
がら実施の形態について詳細に説明する。
【００１６】光学アドミッタンスＹは、光波の電場成分
Ｅと磁場成分Ｈとの比（Ｙ＝Ｈ／Ｅ）で定義されるもの
であり、光波が屈折率ｎｓの単一層内を進行する進行波
である場合、該層の屈折率ｎｓと該層の光学アドミッタ
ンスＹとの間には、以下の関係がある。
Ｅと磁場成分Ｈとの比（Ｙ＝Ｈ／Ｅ）で定義されるもの
であり、光波が屈折率ｎｓの単一層内を進行する進行波
である場合、該層の屈折率ｎｓと該層の光学アドミッタ
ンスＹとの間には、以下の関係がある。
【００１７】
【数１】
ここで、ε０は真空の誘電率、μ０は真空の透磁率であ
る。なお、慣習的に真空中の光速及び透磁率を１とする
単位系を用いるため、以下の通り光学アドミッタンスY
は媒質の屈折率ｎｓと一致する。 Ｙ＝ｎｓ （２）
る。なお、慣習的に真空中の光速及び透磁率を１とする
単位系を用いるため、以下の通り光学アドミッタンスY
は媒質の屈折率ｎｓと一致する。 Ｙ＝ｎｓ （２）
【００１８】ここまでは、屈折率ｎｓの単一層内を光波
が進行する場合について説明したが、基板上に屈折率の
異なる複数層の薄膜を積層させたフィルムの膜厚方向に
光波が進行する場合は、進行波の一部が各層同士の界面
で反射した後に進行波と逆方向に戻ってくるため（以
下、進行方向と逆方向に戻る波を後退波と称す場合があ
る。）、各層内の光波は、進行波と、複数の界面におけ
る反射によって戻ってきた後退波との合成波となる。従
って各層内の光波（合成波）の電場成分Ｅ及び磁場成分
Ｈは進行波単独のものとは異なるものとなる。その結
果、電場と磁場の比である光学アドミッタンスＹも変化
し、各層内における屈折率と光学アドミッタンスＹとは
一致しなくなる。
が進行する場合について説明したが、基板上に屈折率の
異なる複数層の薄膜を積層させたフィルムの膜厚方向に
光波が進行する場合は、進行波の一部が各層同士の界面
で反射した後に進行波と逆方向に戻ってくるため（以
下、進行方向と逆方向に戻る波を後退波と称す場合があ
る。）、各層内の光波は、進行波と、複数の界面におけ
る反射によって戻ってきた後退波との合成波となる。従
って各層内の光波（合成波）の電場成分Ｅ及び磁場成分
Ｈは進行波単独のものとは異なるものとなる。その結
果、電場と磁場の比である光学アドミッタンスＹも変化
し、各層内における屈折率と光学アドミッタンスＹとは
一致しなくなる。
【００１９】図１に、反射防止フィルムの断面図を示
す。反射防止フィルム３０は、透明基材１０と、該透明
基材１０上に積層された薄膜層２０とからなる。該薄膜
層２０は、透明基材１０に接する第１層２１と、その上
の第２層２２と、…、その上の第ｎ−１層２３と、最も
外側の第ｎ層２４のｎ層から構成されており、これらの
層はこの順番に透明基材１０上に積層されている。
す。反射防止フィルム３０は、透明基材１０と、該透明
基材１０上に積層された薄膜層２０とからなる。該薄膜
層２０は、透明基材１０に接する第１層２１と、その上
の第２層２２と、…、その上の第ｎ−１層２３と、最も
外側の第ｎ層２４のｎ層から構成されており、これらの
層はこの順番に透明基材１０上に積層されている。
【００２０】該フィルム３０内に透明基材１０側の反対
側から光を入射した場合、透明基材１０と第１層２１と
の界面における光の電場成分及び磁場成分をそれぞれＥ
ｓ、Ｈｓとし、該界面から第１層内に距離ｄ１離れた位
置での光の電場成分及び磁場成分をそれぞれＥｄ、Ｈｄ
とすると、これらの間には、以下の関係がある。
側から光を入射した場合、透明基材１０と第１層２１と
の界面における光の電場成分及び磁場成分をそれぞれＥ
ｓ、Ｈｓとし、該界面から第１層内に距離ｄ１離れた位
置での光の電場成分及び磁場成分をそれぞれＥｄ、Ｈｄ
とすると、これらの間には、以下の関係がある。
【００２１】
【数２】
ここで、
ｉ：虚数単位
ｎ１：第１層の複素屈折率
λ：入射光の真空中の波長
である。
【００２２】従って、この位置での光学アドミッタンス
Ｙｄは、式（３）より以下のように表わされる。
Ｙｄは、式（３）より以下のように表わされる。
【００２３】
【数３】
ここで、Ｙｓは透明基材の光学アドミッタンスである
（Ｙｓ＝Ｈｓ／Ｅｓ）。
（Ｙｓ＝Ｈｓ／Ｅｓ）。
【００２４】式（４）及び（５）から明らかな通り、第
１層内の光学アドミッタンスＹｄは、該界面からの距離
ｄ１によって変化する。光学アドミッタンスが連続であ
ることに注意して同様の操作を次々と行うことにより、
第ｎ層（ｎは自然数）の任意の点での光学アドミッタン
スを算出することが可能である。
１層内の光学アドミッタンスＹｄは、該界面からの距離
ｄ１によって変化する。光学アドミッタンスが連続であ
ることに注意して同様の操作を次々と行うことにより、
第ｎ層（ｎは自然数）の任意の点での光学アドミッタン
スを算出することが可能である。
【００２５】最外層と該最外層より１層手前の層との界
面の光学アドミッタンスＹ及び最外層終点（最外層と該
最外層の外側の領域との界面）の光学アドミッタンスＹ
ｅをそれぞれ Ｙ＝ｘ＋ｉｙ （６） Ｙｅ＝ｘｅ＋ｉｙｅ （７） とする。ここで、最外層は透明とみなせる場合、すなわ
ち最外層の屈折率が実数ｎのみで表わせる場合、最外層
と該最外層より１層手前の層との界面の光学アドミッタ
ンスＹは以下の通り表わされる。
面の光学アドミッタンスＹ及び最外層終点（最外層と該
最外層の外側の領域との界面）の光学アドミッタンスＹ
ｅをそれぞれ Ｙ＝ｘ＋ｉｙ （６） Ｙｅ＝ｘｅ＋ｉｙｅ （７） とする。ここで、最外層は透明とみなせる場合、すなわ
ち最外層の屈折率が実数ｎのみで表わせる場合、最外層
と該最外層より１層手前の層との界面の光学アドミッタ
ンスＹは以下の通り表わされる。
【００２６】
【数４】
ここで、
δ＝２πｎｄ／λ０ （１０）
λ０：入射光の真空中の波長
ｄ ：最外層の膜厚
【００２７】ここで、外側領域の光学アドミッタンスＹ
０（外側領域の屈折率ｎ０と一致する。）及び最外層終
点（最外層と該最外層の外側の領域との界面）の光学ア
ドミッタンスＹｅを用いて、反射率Ｒは以下のように表
わすことができる。
０（外側領域の屈折率ｎ０と一致する。）及び最外層終
点（最外層と該最外層の外側の領域との界面）の光学ア
ドミッタンスＹｅを用いて、反射率Ｒは以下のように表
わすことができる。
【００２８】
【数５】
【００２９】従って、反射率が０となる条件は、
Ｙｅ＝ｘｅ＋ｉｙｅ
＝Ｙ０＝ｎ０＋ｉ・０
すなわち、
ｘｅ＝ｎ０， ｙｅ＝０ （１１）
となることである。
【００３０】式（１１）を式（８）、（９）に代入して
δを消去して整理すると、以下の関係式が成り立つ。
δを消去して整理すると、以下の関係式が成り立つ。
【００３１】
【数６】
【００３２】図２に、式（１２）の軌跡、すなわち光学
アドミッタンスＹ＝ｘ＋ｉｙが実部をｘ軸、虚部ｙをｙ
軸とする複素平面上を描く軌跡を示す。図２に示す通
り、式（１２）の軌跡は、（（ｎ０ ２＋ｎ２）／２
ｎ０，０）を中心とする半径（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０
の円軌道であり、最外層の膜厚の増加に伴い時計回りに
動く。この式の意味するところは、最外層と該最外層よ
り１層手前の層との界面の光学アドミッタンスＹが、複
素平面上の式（１２）の円上の点になれば、最外層の膜
厚ｄを適当に選ぶことにより、波長λ０における反射率
を０にすることができるということである。
アドミッタンスＹ＝ｘ＋ｉｙが実部をｘ軸、虚部ｙをｙ
軸とする複素平面上を描く軌跡を示す。図２に示す通
り、式（１２）の軌跡は、（（ｎ０ ２＋ｎ２）／２
ｎ０，０）を中心とする半径（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０
の円軌道であり、最外層の膜厚の増加に伴い時計回りに
動く。この式の意味するところは、最外層と該最外層よ
り１層手前の層との界面の光学アドミッタンスＹが、複
素平面上の式（１２）の円上の点になれば、最外層の膜
厚ｄを適当に選ぶことにより、波長λ０における反射率
を０にすることができるということである。
【００３３】従来の反射防止フィルムの設計において
は、最外層終点の光学アドミッタンスＹｅを最適化する
ように設計していたため、未定パラメータが多くなり、
計算が極めて煩雑であった。本発明によれば、最外層よ
り１層だけ基板側の層（以下アドミッタンス調整層と称
す場合がある。）の屈折率及び膜厚を調整して式（１
２）の円上に持ってくることにより、反射防止特性に優
れた反射防止フィルムを容易に設計することが可能とな
る。
は、最外層終点の光学アドミッタンスＹｅを最適化する
ように設計していたため、未定パラメータが多くなり、
計算が極めて煩雑であった。本発明によれば、最外層よ
り１層だけ基板側の層（以下アドミッタンス調整層と称
す場合がある。）の屈折率及び膜厚を調整して式（１
２）の円上に持ってくることにより、反射防止特性に優
れた反射防止フィルムを容易に設計することが可能とな
る。
【００３４】なお、最外層と該最外層より１層手前の層
との界面の光学アドミッタンスＹが円周上の点と一致し
ない場合であっても、該光学アドミッタンスＹが以下の
不等式の範囲内に存在すれば、反射率がほぼ０である低
反射な反射防止フィルムを得ることができる。 ０．９×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ＜｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＋ｙ２＜ １．１×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ （１３）
との界面の光学アドミッタンスＹが円周上の点と一致し
ない場合であっても、該光学アドミッタンスＹが以下の
不等式の範囲内に存在すれば、反射率がほぼ０である低
反射な反射防止フィルムを得ることができる。 ０．９×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ＜｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＋ｙ２＜ １．１×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ （１３）
【００３５】式（１３）の関係を示す複素平面上の領域
を図３に示す。図３に示す通り、最外層と該最外層より
１層手前の層との界面の光学アドミッタンスＹを図中の
ドーナツ状の広い領域内に入る範囲となるように設計す
れば良いため、最外層終点の光学アドミッタンスＹｅを
最適化する従来の方法と比べて、容易にフィルムの設計
を行うことが可能である。
を図３に示す。図３に示す通り、最外層と該最外層より
１層手前の層との界面の光学アドミッタンスＹを図中の
ドーナツ状の広い領域内に入る範囲となるように設計す
れば良いため、最外層終点の光学アドミッタンスＹｅを
最適化する従来の方法と比べて、容易にフィルムの設計
を行うことが可能である。
【００３６】
【実施例】［実施例１］透明基材として、厚さ１８８μ
ｍのＰＥＴフィルムを採用した。この透明基材の上に、
日本合成ゴム株式会社製ハードコート材Ｚ７５０１を塗
布して乾燥膜厚５μｍの第１層を形成した。この第１層
の消衰係数は０であり、屈折率は約１．５である。
ｍのＰＥＴフィルムを採用した。この透明基材の上に、
日本合成ゴム株式会社製ハードコート材Ｚ７５０１を塗
布して乾燥膜厚５μｍの第１層を形成した。この第１層
の消衰係数は０であり、屈折率は約１．５である。
【００３７】この第１層の上にＡｇをスパッタリング
し、３．６ｎｍ厚のＡｇよりなる第２層を形成した。こ
の第２層（Ａｇ層）と最外層との界面の光学アドミッタ
ンスＹは、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ＝１．４９−０．６２ｉ であった。
し、３．６ｎｍ厚のＡｇよりなる第２層を形成した。こ
の第２層（Ａｇ層）と最外層との界面の光学アドミッタ
ンスＹは、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ＝１．４９−０．６２ｉ であった。
【００３８】この第２層の上に多官能アクリル樹脂とシ
リカとの混合物をグラビア塗工し、乾燥、紫外線硬化す
ることにより、厚さ５０ｎｍの透明膜を第３層（最外
層）として形成した。
リカとの混合物をグラビア塗工し、乾燥、紫外線硬化す
ることにより、厚さ５０ｎｍの透明膜を第３層（最外
層）として形成した。
【００３９】この実施例１では、第３層の外側は空気で
あり、屈折率ｎ０は１．０であるので、 Ａ＝｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ＝｛（１．５１２−１．０２）／（２×１．０）｝２ ＝０．４１０ である。これに０．９及び１．１を乗じた値は０．３６
９，０．４５１である。
あり、屈折率ｎ０は１．０であるので、 Ａ＝｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ＝｛（１．５１２−１．０２）／（２×１．０）｝２ ＝０．４１０ である。これに０．９及び１．１を乗じた値は０．３６
９，０．４５１である。
【００４０】実施例１では、最外層と該最外層より１層
手前の層（Ａｇ層）との界面の光学アドミッタンスＹ
は、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ ＝１．４９−０．６２ｉ より、 Ｂ＝｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＋ｙ２ ＝｛１．４９−（１．５１２＋１．０２）／２×１．
０｝２＋０．６２ ２ ＝０．４０７ である。これは、上記０．９及び１．１を乗じた値の間
の値である。
手前の層（Ａｇ層）との界面の光学アドミッタンスＹ
は、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ ＝１．４９−０．６２ｉ より、 Ｂ＝｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＋ｙ２ ＝｛１．４９−（１．５１２＋１．０２）／２×１．
０｝２＋０．６２ ２ ＝０．４０７ である。これは、上記０．９及び１．１を乗じた値の間
の値である。
【００４１】この反射防止フィルムの波長５５０ｎｍの
光の反射率は０．０％であった。なお、この結果を表１
にまとめて示す。
光の反射率は０．０％であった。なお、この結果を表１
にまとめて示す。
【００４２】［実施例２］実施例１において、第２層を
厚さ５．９ｎｍの金スパッタ膜とし、第３層（最外層）
の膜厚を５４ｎｍとしたこと以外は同様にして反射防止
フィルムを製造した。最外層と該最外層より１層手前の
層（Ａｕ層）との界面の光学アドミッタンスＹは、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ＝１．５７−０．６４ｉ であった。
厚さ５．９ｎｍの金スパッタ膜とし、第３層（最外層）
の膜厚を５４ｎｍとしたこと以外は同様にして反射防止
フィルムを製造した。最外層と該最外層より１層手前の
層（Ａｕ層）との界面の光学アドミッタンスＹは、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ＝１．５７−０．６４ｉ であった。
【００４３】この反射防止フィルムの波長５５０ｎｍの
光の反射率は表１にも示す通り０．０％であった。な
お、表１には実施例１と同様の計算値を併せて示す。
光の反射率は表１にも示す通り０．０％であった。な
お、表１には実施例１と同様の計算値を併せて示す。
【００４４】［比較例１］実施例１において、第２層を
厚さ１６．５ｎｍの銀スパッタ膜とし、第３層（最外
層）の膜厚を６１ｎｍとしたこと以外は同様にして反射
防止フィルムを製造した。最外層と該最外層より１層手
前の層（Ａｇ層）との界面の光学アドミッタンスＹは、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ＝０．９８−２．３７ｉ であった。
厚さ１６．５ｎｍの銀スパッタ膜とし、第３層（最外
層）の膜厚を６１ｎｍとしたこと以外は同様にして反射
防止フィルムを製造した。最外層と該最外層より１層手
前の層（Ａｇ層）との界面の光学アドミッタンスＹは、 Ｙ＝ｘ＋ｉｙ＝０．９８−２．３７ｉ であった。
【００４５】この反射防止フィルムの波長５５０ｎｍの
光の反射率は表１にも示す通り２２．５％であった。な
お、表１には実施例１と同様の計算値を併せて示す。
光の反射率は表１にも示す通り２２．５％であった。な
お、表１には実施例１と同様の計算値を併せて示す。
【００４６】
【表１】
【００４７】
【発明の効果】上記実施例及び比較例にも示される通
り、本発明によると反射率のきわめて低い反射防止フィ
ルムが提供される。
り、本発明によると反射率のきわめて低い反射防止フィ
ルムが提供される。
【図１】反射防止フィルムの断面図である。
【図２】反射防止フィルムの反射率が０である場合にお
ける、該反射防止フィルムの最外層と該最外層より１層
手前の層との界面の光学アドミッタンスＹ（Ｙ＝ｘ＋ｉ
ｙ）が複素平面上を描く軌跡を示す図である。
ける、該反射防止フィルムの最外層と該最外層より１層
手前の層との界面の光学アドミッタンスＹ（Ｙ＝ｘ＋ｉ
ｙ）が複素平面上を描く軌跡を示す図である。
【図３】本発明に係る反射防止フィルムの最外層と該最
外層より１層手前の層との界面の光学アドミッタンスＹ
（Ｙ＝ｘ＋ｉｙ）が複素平面上を描く領域を示す図であ
る。
外層より１層手前の層との界面の光学アドミッタンスＹ
（Ｙ＝ｘ＋ｉｙ）が複素平面上を描く領域を示す図であ
る。
１０：透明基材
２０：薄膜層
２１：第１層
２２：第２層
２３：第ｎ−１層
２４：第ｎ層
３０：反射防止フィルム
４０：光
─────────────────────────────────────────────────────
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Ｆターム(参考） 2K009 AA02 BB24 CC02 CC03 CC09
CC14 DD03 DD04 EE03
4F100 AA17B AB01B AB25B AD04B
AD04H AK01A AK42A AR00B
AT00A BA03 BA07 BA10A
BA10C DE01B DE01H GB41
JA20B JM02B JN01A JN01C
JN06 JN18B JN30B YY00
YY00B
4K029 AA11 AA24 BA04 BA05 BA43
BA58 BC07 BD00 CA05 FA07
GA03
Claims (8)
- 【請求項１】 透明基材上に複数の薄層を形成してな
り、該透明基材から最も離隔した最外層は透明である反
射防止フィルムにおいて、 該最外層と該最外層よりも１層だけ透明基材側の層との
界面の光学アドミッタンスを（ｘ＋ｉｙ）とした場合
に、ｘ、ｙが次の不等式を満たすものであることを特徴
とする反射防止フィルム。 ０．９×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ＜｛ｘ−（ｎ２＋ｎ０ ２）／２ｎ０｝２＋ｙ２＜ １．１×｛（ｎ２−ｎ０ ２）／２ｎ０｝２ ただし、 ｎ０：最外層の外側の領域の屈折率 ｎ ：最外層の屈折率 - 【請求項２】 請求項１において、前記最外層の消衰係
数が０であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、前記最外層よ
りも１層だけ透明基材側の層の波長５５０ｎｍにおける
消衰係数ｋがｋ＞０．００１であることを特徴とする反
射防止フィルム。 - 【請求項４】 請求項１又は２において、前記最外層よ
りも１層だけ透明基材側の層の波長５５０ｎｍにおける
消衰係数ｋが０．０１＜ｋ＜１０であることを特徴とす
る反射防止フィルム。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項におい
て、前記透明基材が合成樹脂シートであることを特徴と
する反射防止フィルム。 - 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれか１項におい
て、前記最外層よりも１層だけ透明基材側の層が金属、
金属酸化物又は金属窒化物微粒子を含む複合材料よりな
ることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項７】 請求項１ないし５のいずれか１項におい
て、前記最外層よりも１層だけ透明基材側の層が金属、
金属酸化物又は金属窒化物薄膜よりなることを特徴とす
る反射防止フィルム。 - 【請求項８】 請求項７において、前記最外層よりも１
層だけ透明基材側の層の厚さが３０ｎｍ以下であること
を特徴とする反射防止フィルム。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001315612A JP2003121603A (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 反射防止フィルム |
| US10/267,747 US20030104187A1 (en) | 2001-10-12 | 2002-10-10 | Reflection preventing film |
| US10/804,073 US7351447B2 (en) | 2001-10-12 | 2004-03-19 | Method of producing anti-reflection film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001315612A JP2003121603A (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003121603A true JP2003121603A (ja) | 2003-04-23 |
Family
ID=19133749
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001315612A Pending JP2003121603A (ja) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | 反射防止フィルム |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030104187A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003121603A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216644A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Asahi Glass Co Ltd | 複屈折板および光ヘッド装置 |
| JPWO2014148512A1 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-02-16 | コニカミノルタ株式会社 | 透明導電体、及び、電子デバイス |
| JP2019070687A (ja) * | 2017-10-06 | 2019-05-09 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学素子の製造方法、光学系、および、光学機器 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2008201633A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Asahi Glass Co Ltd | 反射防止膜付きガラス板および窓用合わせガラス |
| JP6808355B2 (ja) * | 2015-08-19 | 2021-01-06 | キヤノン株式会社 | 光学フィルタおよびそれを有する光学系、撮像装置 |
-
2001
- 2001-10-12 JP JP2001315612A patent/JP2003121603A/ja active Pending
-
2002
- 2002-10-10 US US10/267,747 patent/US20030104187A1/en not_active Abandoned
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| US9899624B2 (en) | 2013-03-19 | 2018-02-20 | Konica Minolta, Inc. | Transparent conductor and electronic device |
| JP2019070687A (ja) * | 2017-10-06 | 2019-05-09 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学素子の製造方法、光学系、および、光学機器 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030104187A1 (en) | 2003-06-05 |
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| A02 | Decision of refusal |
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