JPH05502311A - 導電性、光減衰反射防止被覆 - Google Patents

Abstract

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Description

【発明の詳細な説明】 導電性、光減衰反射防止被覆 発明の背景 この発明は薄膜反射防止被覆に関し、かつより特定的には光を弱める導電性の反 射防止被覆に関する。

ある物品は熱減少（ｒｅｄｕｃ　ｔ　１ｏｎ）　、目の保護および改良された視 界のような様々な理由のために光を弱めるように製作される。これらの物品はま たその少なくとも１つの表面上て反射防止被覆を必要とする。そのような物品は サングラス、太陽制御用のつや出しおよびコントラスト増強（ｅｎｈａｎｃｅｍ ｅｎｔ）フィルタを含む。

サングラスにおいて、光の減衰は明るい光から目を保護し、かつ反射防止被覆は 目に直面するレンズの表面からの反射された眩しい光を減少する。サングラスの ための反射防止特性は通常は真空で堆積された透明な誘電膜を含む多層被覆によ って与えられる。光減衰の特徴はレンズの固有の特性であり得る。この特徴はま たレンズを染めることによって外部的に導入され得る。好ましくは、サングラス は約９０％の可視光を弱める。

太陽制御用のつや出しはたとえば乗物や建物の内部に伝えられた太陽エネルギを 弱める。これらのつや出しは好ましくはそれらの内部表面上に低い反射処理を有 し、反射か拡散することを減少させる。低い放射率（Ｅ）被覆は反射を減少させ るために使用され得る。太陽制御のためのつや出しに対する光の減衰は光吸収ガ ラスを使用することによって達成され得る。光減衰はまた真空で堆積された金属 膜または金属膜て被覆されかつ適当な接着剤によってつや出しへと付着されたプ ラスチックソートによって与えられ得る。光減衰は約５０％の可視光である。

コントラスト増強フィルタはしばしば画像コントラストを高めるためにかつビデ オ表示端末（ＶＤＴ）のスクリーンから眩しい光を減少させるために使用される 。このフィルタはＶＤＴオペレータとスクリーンとの間に位置される。

コントラスト増強フィルタは光吸収ガラスから作られ得る。

そのガラスは約３０％の入射光を透過することができる。

窓および光設備のような外部の源からの光はフィルタを通りかつそれがスクリー ンから反射される前に弱められる。

それかスクリーンから反射された後、オペレータによって観察される前に再びフ ィルタを通過しなければならない。

第２の通過の後、光はそれかフィルタなしてあった場合の輝度の約１０％にまで 減衰される。もしスクリーンの反射率が約４％であると、外部光源の画像および 対象物は９９゜５％以上減少され得る。

スクリーンの画像からの光はコントラスト増強フィルタを１回だけ通過する。こ うして、それは約７０％のみ減衰され得る。そのようにして、画像の視界か高め られる。コントラスト増強フィルタはその外部仕上げ表面に反射防止処理か与え られる場合にのみ効果的である。好ましくは、その内部および外部表面の双方が 処理されるへきである。

反射防止処理は多層の反射防止被覆を含み得る。そのような被覆は可視光に対し て認められた視界を存し得、それは通常明所視（ｐｈｏ　ｔ　ｏｐ　ｉ　ｃ）反 射または明所視の視界と呼ばれ、それは約０．２５％よりも少ない。約０．１５ ％よりも少ない明所視覚を有するフィルタか好ましい。

コントラスト増強フィルタはガラスまたはプラスチックから作られ得る。もしフ ィルタが陰極線管（ＣＲＴ）に密接して位置されると、それは静電荷を蓄積し得 る。こうして、フィルタの一方または双方の表面か好ましく導電性でありかつ静 電荷の蓄積を妨げるように接地される。もしフィルタの表面に多層の反射防止被 覆か設けられると、導電性は被覆の固有の特性であり得る。インジウム錫の酸化 物のような導電性の透光性のフィルムはそのような被覆に使用され得る。

導電性のフィルタの費用はＶＤＴの費用の約３０％であり得る。これらのフィル タの高いコストかそれらの使用を思いとどまらせる。

光吸収フィルムか反射防止層システムを構成するために使用され得るということ は周知である。最も単純な光吸収システムはガラスまたはプラスチック基板に接 触してクロムまたはモリブデンのような低い反射率の金属膜および低い反射率の フィルムに接触してフッ化マグネシウムまたは二酸化ケイ素のような透光性の誘 電材の層を含む。これらの金属膜は約５ナノメートル（ｍｎ）のオーダて非常に 薄くあり得る。そのような薄膜の光学的特性は堆積工程の初期の部分の間金属か 酸化しやすいために制卸することか困難である。その後に被覆の酸化または腐食 かまた起こり得る。薄い金＠膜はまた不適当な導電性および約４０％のみの可視 光の減衰を与え得る。

図１は約１．６ｎｍの厚みのクロム膜および約７５４ｎｍの厚みの二酸化ケイ素 膜を含む２層システムの計算された透過（曲線Ａ）および反射（曲線Ｂ）値を示 す。膜は約１．５２の屈折率を有するガラス基板上に堆積される。

システムの明所視反射は基板の反対側のシステムの側から、すなわちシステムの 空気側から観察されるときに約０．　３５％である。明所視透過は約７５％であ る。

別の反射防止システムは低いＥ被覆であり、それは銀膜を含み、それは高い屈折 率を有しかつ誘電膜によって片側上に結合される。最も低い反射は銀の相対的に 薄い膜、たとえば６ないし８ｎｍ厚みて得られる。可視光の減衰は、しかしなが ら無視してもよい。

銀誘電層システムは１つの付加的な銀膜を含むように延在され得る。このことは システムの導電性を増しかつその反射防止性能を改良する。銀膜は相対的に高い 屈折率の誘電材によって分離され得、それは約５１０ｎｍの波長で約２分の１の 波長の光学的厚みを有し、それは可視スペクトルのほぼ中間である。各々の銀幕 はまた誘電材の層によって結合されるてあろう。各々の誘電層は約５１０ｎｍの 波長で約４分の１の波長の屈折率を有するであろう。

このシステムは米国特許第４．７９９．７４５号に説明された光透過、熱反射被 覆にその機能において類似である。

この被覆の銀膜は最も低い可能な反射を与えるために相対的に薄くなくてはなら ない。この被覆のための可視光の減衰は約１０％のオーダである。シート抵抗は 約１平方につきｌＯオーム（１０Ω／口）てあり、大部分の目的に対して適切な 導電性を与える。

図２は２つの銀膜および３つの誘電層を含むシステムのための透過（曲線Ｃ）お よび反射（曲線Ｄ）値を示す。システムはガラス基板上に堆積される。基板から 始まる層ソーケンスおよび物理的厚みは以下のとおりてあり、すなわち酸化亜鉛 （４５，７層ｍ）、銀（６，９層ｍ）、酸化亜鉛（８５，３層ｍ）、銀（１８， ４層ｍ）および酸化亜鉛（４３，３層ｍ）である。ガラス基板の屈折率は１，５ ２である。

クロムのような高い光吸金属と銀または金のような低い光吸収材との組合せを使 用するシステムかまた構成さね得る。そのような組合せは明所視透過の異なる値 を許容するか、少なくとも１つの表面から相対的に低い反射をなおも与える。一 般的にはしかしなから、銀、金または銅のような薄い軟金属膜を含むシステムは 乏しい耐引っかき性を存する。銀または銅の薄膜を含むシステムはまた腐食に弱 くかつ保護されない表面上で使用されるときには２，３ケ月以内に劣化し得る。

上で説明された層システムは以下のうちのいずれかを発生することかてき、すな わち、（１）高い導電性および低い反射、（２）適切な光減衰および低い反射、 または（３）適切な光減衰および高い導電性である。これらのシステムは高い導 電性、低い反射および適切な光減衰を有する単一の構造を与えはしない。

そのように、この発明の目的は導電性の、反射防止層システムを提供することて あり、それは可視光のための広い範囲の減衰値を与えるか、さらに低い明所視反 射を与える。

１平方あたり約１００オームよりも少ないソート抵抗を有し得る光減衰、反射防 止層システムを提供することはこの発明のさらなる目的である。

耐磨耗性および耐食性てあ名導電性の、光減衰反射防止層システムを提供するこ とかこの発明のさらに別の目的である。

建築上のガラス被覆のために使用される型のイン−ライン被覆機械におけるＤＣ 反応性スパッタリングによって堆積され得る耐食性、耐磨耗性で導電性、適切な 光減衰の反射防止システムを提供することもまたこの発明の目的である。

この発明の付与目的な目的および利点は以下に続く説明において述−＼られ、か つその一部はその説明から明らかであるか、またはこの発明の実施によって理解 され得るであろう。この発明の目的および利点は特許請求の範囲にお０て指摘さ れる手段および組合せによって認識されかつ理解さこの発明は物品の被覆に向け られる。被覆は第１の層を含み、それは可視光に実質的に透光性の材料を含みか つ約１３５および１９の間の屈折率を有イる１、第１の層の光学的厚みは約４８ ０および５６０ナノメートルの間の約４分の１の波長である。第１の層は被覆の 最外層である。

被覆はさらに第２の層を含み、それは実質的に約５および４０ナノメートルの間 の厚みを有する遷移金属の窒化物を含む。被覆の第３の層は可視光に実質的に透 光性の材料を含みがつ約ｌ　３５および２６５の間の屈折率を有する。

第３の層の光学的厚みは約４８０と５６０ナノメートルとの間の波長で約４分の １の波長より少ないかまたはそれに等しい。被覆の第４の層はまた実質的に約５ および４０ナノメートルの間の厚みを有する遷移金属の窒化物を含む。

被覆はまた実質的に可視光に対して透光性かあり、かつ１３５および２６５の間 の屈折率を有する材料の第５の層を含み得る。第５の層の光学的厚みは約４８０ および５６０ナノメートルの間の波長で４分の１の波長よりも少ないかまたはそ れに等しい。この実施例はまた約５および４０ナノメートルの間の厚みを有する 実質的に遷移金属の窒化物の第６の層を含み得る。

この発明はまた約５および１５ナノメートルの間の厚みを育する遷移金属の窒化 物の第１の層を含む被覆に向けられる。第２の層は第１の層に隣接して位置され る。第２の層は実質的に可視光に透光性のかつ約１．３５および２゜６５の間の 屈折率を有する材料を含む。第２の層の厚みは約２および１５ナノメートルの間 である。

この発明の構造は導電性、光減衰の反射防止被覆を提供する。構造の明所視反射 は約０．２５％よりも少なくなり得る。その構造によって与えられる光減衰の割 合は約５０および９０％の間になり得る。構造の電気的シート抵抗は１平方につ き約２００オームかまたはそれよりも少なくなり得る。構造は耐磨耗性でありか つ耐食性である。

その構造は多くの応用に適当である高い導電性、低い反射および光減衰を与える 。この発明の構造は建築上のガラス被覆のために使用される型のイン−ライン被 覆機械におけるり、Ｃ反応性スパッタリングによって商業的な規模で適用され得 る。

図面の説明 組入れられ、かつ明細書の一部を構成する添付の図面はこの発明の好ましい実施 例を概略的に示し、かつそれとともに上て与えられた一般的な説明および以下に 与えられる好ましい実施例の詳細な説明はこの発明の詳細な説明するのに役立つ 。

図１はクロムおよび二酸化ケイ素を含む２層の、光吸収反射防止システムの波長 の機能として、計算された反射および透過値をグラフで示す。

図２は銀および酸化亜鉛膜を含む５層の光吸収反射防止システムの波長の機能と して、計算された反射および透過値をグラフで示す。

図３はこの発明に従った４層システムを概略的に示す。

図４は第１の層に二酸化ケイ素を、第２および第４の層に窒化チタンをかつ第３ の層に酸化錫を使用するこの発明の実施例のために波長の機能として、計算され た反射および透過値をグラフで示す。

図５は図４に参照された実施例のために、波長の機能として計測された反射およ び透過値をグラフて示す。

図６は窒化チタン膜のための交互の光学定数を使用するこの発明の実施例のため に、波長の機能として、計算された反射および透過値をグラフで示す。

図７は第１の層に二酸化ケイ素を使用し、第２および第４の層に窒化チタンを使 用し、かつ第３の層に二酸化チタンを使用するこの発明の実施例のために波長の 機能として、計算された反射および透過値をグラフで示す。

図８は図７に参照されるか窒化チタンのより薄い膜を使用する実施例のために波 長の機能として、計算された反射および透過値をグラフで示す。

図９は図８に参照された実施例のための波長の機能として、計測された反射およ び透過値をグラフで示す。

図１０は第１の層に二酸化ケイ素を、第２および第４の層に窒化チタンをかつ第 ３の層に二酸化ケイ素を使用するこの発明の実施例のための波長の機能として、 計算された反射および透過値をグラフで示す。

図１１は第１の層に酸化アルミニウム、第２および第４の層に窒化チタンをかつ 第３の層に二酸化ケイ素または二酸化チタンを使用するこの発明の実施例のため の波長の機能として、計算された反射値をグラフで示す。

図１２は第１の層に二酸化ケイ素を、第２および第４の層に窒化チタンを、第３ の１に二酸化ケイ素をかつ第５の層に二酸化チタンを使用するこの発明の５層シ ステムのための波長の機能として、計算された反射および透過値をグラフで示す 。

図１３は第１の層に二酸化ケイ素を、第２、第４および第６の層に窒化チタンを かつ第３および第５の層に酸化錫を使用するこの発明の６層システムのための波 長の機能として、計算された反射および透過値をグラフに示す。

図１４はこの発明に従う２層システムを概略的に示す。

図１５は様々な被覆で窒化チタン層を使用する図１４のシステムの計算された反 射および透過値をグラフて示す。

図１６は窒化チタン層のための波長の機能として、計測された反射および透過値 をグラフで示す。

図１７はヒデオ表示スクリーンとともに使用されるフントラスト増強フィルタを 概略的に示す。

図１８はこの発明に従う４層システムて一方の側上に被覆されかつ窒化チタンの 単相で反対側上を被覆されるコントラスト増強フィルタのための波長の機能とし て、計測された反射および透過値を示す。

発明の詳細な説明 この発明はある遷移金属の窒化物の層を使用して導電性、光減衰の反射防止被覆 を提供する。そのように、それらは層システムの１つの構造において特性の範囲 を与え、それは通常特性のうちの２つを有する構造の組合せによって与えられ、 基板かその他を有する。

窒化物を形成するものとして既知てありかつこの発明に有用である遷移金属はチ タン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、タンタル、ニオブおよびクロム を含む。これらの遷移金属の窒化物は金属と類似の光学的特性を有し得、かつそ れらは導電性の物品である。薄膜の形状で、それらは硬い、耐磨耗性のかつ耐食 性のものてあり得る。

これらの膜を堆積する好ましい方法は窒素またはアンモニアを含む大気における 金属のＤＣ反応性スノク・ツタリングによるものである。膜はまた化学的気相成 長によって堆積され得る。窒化膜の特性は炭素の含有によって修飾され得る。そ のような材料は一般的には炭窒化物と呼ばれる。炭素は膜の反射色、導電性また はその形態を変え得る。この発明の構造は層を含み、それらは実質的には遷移金 属の窒遷移金属の窒化物の最も一般的な物品は窒化チタンである。窒化チタンは 時計および宝石に対するめつき材として広く使用される。それは一般的には「金 トーン（ｇｏｌｄｔｏｎｅ）Ｊめっきと呼ばれる。滑らかな磨かれた表面上に堆 積されるとき、金から区別することは非常に困難である。金と違って、しかしな がらそれは硬質でありかつ高い度合の耐引っかき性を有する。それはまた日常の 使用において出くわす大部分の腐食剤に耐える。

窒化物の光学的特性はＰｒｏｃ　５ＰＩＥ　Ｉｎｔ、Ｓｏｃ、Ｏｐｔ、Ｅｎｇ　 の第４０１巻、３７５−８１頁（１９８３）のバルコーネン（Ｖａ　１ｋｏｎｅ ｎ）Ｌ”）による論文「薄い錫膜の選択的な透過」に述べられ、その全体のテキ ストは引用により援用される。

金属および光吸収材の光学的特性は複合屈折率、ｎ−ｊｋの点から一般的に特定 される。ｎ（複合指数の実際の部分）およびｋ（複合指数の想像上の部分）の値 は金属の光学定数と呼ばれる。それらは金属の異なる結晶性および物理形状によ って異なり得る。

窒化チタン膜の光学的特性は膜の厚みに依存する。この発明の状況に有用な厚み において、すなわち約５ないし４０ｎｍて、遷移金属の窒化物の光学定数は約２ ０％よりも多くは変化し得ない。この発明は膜の厚みを調整することによって光 学定数における変形を適応させるように構成され得る。

窒化チタン膜および他の遷移金属の窒化物のための光学定数はスパッタリングガ スの流速、混合ガス比、スパッタリング圧力およびスパッタリング電力のような 方法パラメータの機能として変化し得る。これらの変形は約６００ｎｍよりも長 い波長でより大きくなるであろう。約６００ｎｍよりも少ない波長に対して、変 形はたとえば約１５％以内のような相対的に狭い範囲て起こり得る。

表１は約１５および２５ｎｍの厚みの窒化チタン膜のための光学定数（ｎ、ｋ） を示す。これらの光学定数は既知の厚みの膜の反射および透過計測によって決定 さｔｌな。膜はチタンターゲノ）・を使用１．てアルゴン／窒素の混合ガスを流 し、平面マグネトロンからＤＣ反応性スパッタリングによって堆積された。スパ ッタリング電圧は４２０ボルトであり、スパッタリング圧力は３．１７ミリトル てありアルボ〉のための流速は１分間につき２５Ｏｆｆ準立方センチメートル（ ｓｃｃｍ）であり、かつ窒素のための流速は２２０ｓｃｃｒ＋ｒｎであった。２ ５ｎｒｒｉの厚みの膜は１分間に７５インチの線速度て堆積された。１５ｎｍ［ ｔは１分間につき１３６イ゛シチの線速度て堆積さえｌ／二。

表１ 窒化チタンの光学定数 波長　１５ｎｍ　波長　１５ｎｍ 厚み　厚み （ｎｍ）　ｎ　ｋ　（ｎｍ）　ｎ　ｋ ３８０　Ｋ、３２　１．．４５　３８０　１．３２　１４５４３０　＋、４５　 １．４５　４３０　！、、３４　］、、４２４７０　１．４８　１．４８　４８ ０　１．３６　１．４０５００　１．５０　＋、５０　５２０　１．４０　＋、 ４８５５０　１．６５　１５７　５５０　！、４７　１．．４６６００　１．８ ３　１．７４　６００　＋、５０　１．８５７００　＋、９５　２．１０　７０ ０　＋、７９　２．３７８００　２．２０　２．５０　８００　２．１５　２． ９５表１の光学定数は以下に説明される、二の発明の様々な実施例の光学的特性 を計算することにおいて使用された。遷移金属の膜はそれらの電気および反射特 性に関して「金属のような」と説明さ′Ｆｌ得る。約６００ｎｍよりも少ない波 長での光学定数の値は、しかしながら金属とは著しく異なる。

窒化チタンと一般の金属との光学的特性の間の差異は表１のｆａｎ、ｋを表２に 示されるいくつかの一般の金属に対する値ｎ、にと比較することによって理解さ れ得る。

表２ 波長　金属　ｎ　ｋ （ｎｍ） ５００　銀　０．２　２．９ ５００　ニッケル　１．８　３．４ ５００　モリブデン　３．１　３．０ 薄い金属膜の反射率および透過を計算するための式は複雑である。以下の「親指 の法則」はしかしなからこの発明の理解において助（ゴを与えることかできる。

厚い不透明の膜または磨かれたバルク材の形状の金属の反射率または明るさは１ り／ｎの比に直接比′例し、すなわちこの比率か高くなれば、金属かより明るく なる。薄い金属膜を介する光の透過はｎの埴か減少するに従って増ＪＪａ　ｌ、 、かつｋの値か減少するに従って少なくなる。銀は相対的に厚い膜の形状で高度 に反射しかつ相対的に薄膜の形状で透光性を存する。ｋ／ｎの相対的に低い値を 有するクロム膜は高度に反射しない。りａム膜はまた大変強度に光吸収性を有す る。

窒化チタン膜はまた非常に光を吸（仮性の高いものである。

しかしなから、膜のためのｎおよびｋの値はそれらか約５００６の可視光を吸収 するように少なくとも約３０ｎｍの厚みでなけれはならない。他方、４ｎ、ｍの 厚みのクロム膜は約５０％の可ン見光を吸収し得る。約２５ｎｍまたはそれ以上 の厚みの窒化チタン膜はこの発明の低いノート抵抗の目的に、すなわち１平方あ た〕′ン約２００オームかそれよりも少ないもの（：かなってあろう。そのよう （こ、それらは適切な導電性を与え静電荷の蓄積を防ぐ。そわらはまた十分な光 減衰も与えるであろう。

因３に示されるように、この発明の構造１５の好ましいシステムはガラスまたは プラスチック基板２８上に堆積さｊた４つの膜２０．２２．２６および２４を含 む。第１のおよび最外膜２０は実質的には可視光に透光性がありかつ約５１０ｎ ｍの波長で好ましくは約１．９よりも少ない屈折率を有する。その光学的厚みは 約４８０ｎｍおよび５６０ｎｍの間の波長での約４分の１の波長である。膜２１ ３はまた可視光に実質的に透光性かありかつ約５１Ｏｎ、ｍの波長で約１３５お よび約２．６５の範囲にお（プる屈折率を育する。その光学的厚みは約４８０お よび５６０ｎｍの間の波長て約４分の１の波長よりも少ないかまたはそれに等［ ５い。膜の光学的厚みは膜の屈折率か増加するに従って少なく：なり得る。

層２２および２４は遷移金属の窒化膜であり、各々は約５および４０ｎｍの間の 物理的厚みを有する。正確な厚みは必要とされる光減衰および反射の度合いに、 がっ透光性の膜２Ｇおよび２６の屈折率に依存するであろう。構造１５は矢印Ａ の方向に沿って観察者または観察器具２９によってＨ察されるとき、最も低い反 射率を有するように設計される。基ＦＦｉ、２Ｂを介して観察されるとき構造の 反射率はより高くなり得る。

この発明に従う層システムの詳細な例は以下に説明される。例は遷移金属の窒化 物成分のために窒化チタンを使用する。表３ないしｌ］において、この発明に従 う異なる構造か以下に述べられかつ説明され、ＴｉＮ（１）およびＴｉＮ　（２ ）によって示される材料は１５％ｍおよび２５％ｍの厚みの膜のために表１に載 せられる光学定数ｎおよびｋをそれぞれに有する。

すべての表において、基板は約５１０ｎｍの波長で約１５２の屈折率を有するガ ラスであると推定される。すへての計算に対して、図面に示される結果は単一の 表面または境界を介する透過および反射値である。すへての計算において、層シ ステムは約４２５　ｎｍから約６７５ｎｍの範囲の波長、すなわち可視スペクト ルの一般的に認められる限界の範囲内で最も低い可能な反射を生しるように最適 化されてきた。

好ましい構造１５は２つの窒化チタン（ＴｉＮ）＠２２および２４、二酸化ケイ 素（ＳｉＯ＝）膜２ｏおよび錫／酸化物（ＳｎＯｚ）膜２６を含み得る。この構 造の詳細は表３に与えられ、かつ図４は構造の計算された反射（曲線Ｅ）および 透過（曲ＭＦ）値を示す。図５は表３に詳細に説明されるように構成される実際 の構造１５のための計測された反射（曲線Ｈ）および透過（曲線■）値を示す。

構造か約３５％の透過、すなわち約６５９６の光減衰を与えるということは理解 され得る。構造はまた約０．１２％の明所視反射率を有し、より優れた反射防止 特性を与える。この構造はまた１平方につき約６６オームのソート抵抗を存し、 良好な導電性を与える。

表３ 層　材料　厚み（ｎｍ） 空気　入口媒体 Ｉ　５１０２　７５．２ ２　ＴｉＮ（１）　１２．７ ３　５ｎ０２　４８４ ４　ＴｉＮ（２）　２０．９ ガス　基板 上で説明されたように、表３の窒化膜の厚みは表１に与えられた窒化チタンに対 する光学定数を使用して計算された。ＴｉＮ（１）およびＴｉＮ（２）層に対し て、１５および２５％ｍの厚みの膜のための値かそれぞれに使用された。実際に 、しかしながら表３の１２．７％ｍおよび２０９ｎｍの膜に対する光学定数値は 僅かに異なり得る。さらに、たとえ混合ガスおよび流速か名目上置しであるとし ても、もし構造か異なるスパッタリング装置によって堆積されると、構造の計算 された光学的特性と実際の光学的特性（ｎ、ｋ）との間のいくつかの差異に遭遇 し得る。実際に、そのような差異は膜の厚みを変化させることによって調節され 得る。連続的な、イン−ライン被覆をシステムを使用することによって、このこ とは試行錯誤で３時間以内に達成され得る。

堆積の間、基板は定速、すなわち線速度で機械を介して輸送される。各々の陰極 でのスパッタリング状態は基板が陰極または陰極の群に露出される時間の間材料 の所望の厚みを堆積するように設定される。２．３％の厚みにおける変形はスパ ッタリング電力を調整することによって達成され得る。

計算された構造から実際の構造への相対的に単純な調整はこの発明の重要な特徴 である。調整は通常必要とされる反射率レベルに達成するために窒化膜のい″ず れか１つの厚みの変更を第１に伴う。窒化膜の元来の厚み比は調整の間維持され る。反射防止領域は第３の膜２６、すなわち窒化膜２２と２４との間の透光性の 厚みを調整することによって所望の波長範囲へと回復する。第３の膜の厚みは通 常窒化膜に対して反対のセンスにおいて調整され得る。

計算された構造か最適な低い反射結果を与えるであろう異なる厚みの値の範囲を 育し得るということもまた決定されてきた。そのような２つの構造の間の差異は 透過の異なる値として理解され得る。この発明の構造の特性か、実際の最適化か 相対的に単純であることの理由となり得るということか信じられる。

図３の計算された値と図４の計測された結果との間の一致は良好である。いずれ かの所与の波長での差異は曲線の波長の変位によって主に説明され得る。計測さ れた曲線Ｈは計算された曲線Ｅと比較されるとき約２ないし３％たけより長い波 長へと変位される。

表３の構造のサンプルは１時間の開場化ナトリウム（ＮａＣＩ）の５％溶液にお ける煮沸に耐えた。構造はまたＭＩＬ−に−６７５Ａの標準摩耗試験の５０回の こすりに曝されたときいずれの損害も示さなかった。こうして、構造は耐食性お よび耐磨耗性を示した。

層システムはスチルポースキー（Ｓｚｃｚｙｒｂｏｗｓｋｉ）９による「薄い錫 層の光学的および電気的特性Ｊ（Ｏｐｔｉｃａｌ　ａｎｄ　Ｅｌｅｃｔｒｉｃａ ｌ　Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｔｈ１ｎ　ＴｉＮ−ＬａｙｅｒＳ）の論文、 バキューム　テクニック（Ｖａｋｕｕｍ　Ｔｅｃｈｎｉｋ）、３７．１４−１８ 　（１９８８）において与えられる。この構造は表４に示される。ＴｉＮ（３） はスチルポースキー値およびＴｉＮ　（１）　、表１の１５ｎｍ厚みの膜に対す る光学定数値を示す。この構造に対する反射（曲線Ｊ）および透過（曲線Ｋ）値 は図６に示される。

表４ 層　材料　厚み（ｎｍ） 空気　入口媒体 Ｉ　５ｉＯｚ　６５．２ ２　ＴｉＮ（１）　１６．１ ３　５ｎＯｔ　４２．４ ４　ＴｉＮ（２）　３６．６ ガラス　基板 表４の構造は約０．１％の明所視反射率を有し得る。表４の構造はこの発明か表 １の特定的な光学定数に限定されないということを示す。

、二の発明のコンテキストにおいて、層２６（図３を参照を有し得る。ある値は 好ましい、すなわち１，９および２３Ｓの間の値であるか、すへ、ての値が容認 できる低い反射を与え得る。層２６（ご対する異なる屈折率は層２２および２４ の異なる厚みによって補償され、最適反射減少を与える。いずれかの所与の屈折 率に対して、層の厚みの組合せの１つ以上か低い反射を与え得る。組諭せにおけ る差異はまた異なる透過値という結果に終わり得る。この機構は構造のための光 減衰の所望の値を発生するために使用され得る。以下の例はこの原理を説明する ために役に立つ。

表５はこの発明の別の実施例を詳細に示す。計算された反射（曲線Ｌ）および透 過（曲線Ｍ）値は図７に示される。

この実施例において約５１０ｎｍの波長ての約２３５の屈折率を有する二酸化チ タン（ＴｉＯ２）か膜２６のために使用されてきた。

表５ 曙　材料　厚み（ｎｒｎ） 空気　人口媒体 ４　ＴｉＮ（２）　２９．８ ガラス　基板 表５の構造は約０１６の計算された明所視反射率および約３０％の明所視透過を 有し得る。窒化チタン層の全体の厚みか約４１ｎ、ｍであるということか理解さ れ得る。表３の実施例において、窒化チタンの全体の厚みは約３４ｎｍでありか つ明所視透過は約３５％である。表５の実施例にお（プる付加的な窒化チタン材 は可視光のより大きな減衰を与える。このことは図４の透過値を図７のそれらと 比較することによって理解され得る。

表６はこの発明の別の実施例の詳細を示し、ここでは窒化物層はより薄いもので ある。

表６ 層　材料　厚み（ｎｍ） 空気　入口媒体 ４　ＴｉＮ（２）　１９．９ ガラス　基板 構造は約００８％の計算された明所視反射および約４８％の計算された明所視透 過を有する。反射（曲線Ｎ）および透過（曲線○）の計算された値は図８に示さ れる。表６の構造の計測された反射（曲線Ｐ）および透過（曲線Ｑ）値は図９に 示される。５：れらの曲線から理解され得るように、表６の構造は低い反射を与 える一方で高い透過を与える。表６の構造の導電性は表５のそれよりも低し）も のであるか、静電荷の蓄積を防ぐためにはなおも適切であろう。

表７はこの発明のさらに別の実施例をさらに詳細に示す。

計算された反射（曲線Ｒ）および透過（曲線Ｓ）値は図１０において示される。

約５１．０％ｍの波長で約１４６の屈折率を有する二酸化ケイ素（ＳｉＯ７）” か＠２６を形成するために使用されてきた。

表７ 層　材料　厚み（ｎｍ） 空気　人口媒体 ４　ＴｉＮ（２）　３０．５ ガラス　基板 構造の明所視反射率は約０２％であり得る。窒化チタン層の全体の厚みは約５１ ｎｍてあり約１５％の明所視透過を与える。表７の構造を表５の構造と比較する ことによって、実質的に異なる屈折率を存する材料か第３の膜のために使用され 得るか、一方で非常に低い反射値をなおし達成するということか理解され得る。

一般的に、外膜２０の屈折率か低くなるにつれて、システムからの反射かより低 くなるであろう。層２０の屈折率は１．３５の低さてあり得るか、そのような低 い値を有する材料は実際的なものとして十分に耐久性のあるものではあり得ない 。もし膜２０の屈折率か約１４６よりも大きいと、膜２６のために可能な屈折率 値の範囲はより狭くなる。特定的に、相対的に高い屈折率の膜のみが１％の約４ 分の１かまたはそねよりも少ない明所視反射率を生じ得る。

例を使用して、表８はシステムの構成を示し、ここでは外部膜２０は酸化アルミ ニウム（△Ｌ、０３）である。酸化アルミニウム膜は約５１０ｎｍの波長で約１ ６５の屈折率を有し得る。膜２６は酸化錫てあり、それは約５］Ｏｎｍの波長で 約１．９２の屈折率を有し得る。構造の明所視反射率は約００４９％であり得る 。

表８ 層　材料　厚み（ｎｍ） 空気　入口媒体 Ｉ　Ａ１．２０ｓ　５０．　９ ２　ＴｉＮ（１）　２２．５ ３　５ｎ０２　４４．０ ・４　ＴｉＮ（２）　２８゜０ ガラス　基板 表９は層システムまたは構造の詳細を載せ、ここでは外部膜２０は酸化アルミニ ウムでありかっ膜２６は二酸化チタンであり、そねは約５１０ｎｒｎの波長で約 ２３５の屈折率を存し得る。このシステムの明所視反射率は約０３％である。

表９ 層　材料　厚み（ｎｍ） ２　ＴｉＮ（１）　２２．５ ３　ＴｉＯ２４４，０ ４ＴｉＮ（２）　２８．０ ガラス　基板 図１１は表８および９の構造のため計算された反射値（曲線Ｕおよび曲線Ｔ）を それぞれに示す。

第１の層２０の屈折率に対する実際的な上限か十分に高い反射率を存する透光性 の材料の存効性によって決定されるということか上の例から明らかになるへきで ある。実際に、可視光に対して実質的に透光性かある材料に対する最も高い屈折 率は約２６５であり得、それほぼは二酸化チタンのルチル結晶形状の屈折率であ る。

約１９の屈折率を有する内部膜２０、窒化チタン膜２２および２４ならびに約２ ６５の屈折率を有する膜２６は約０７５％かまたはそれよりも少ない反射率を有 し得る。０．７５！％の反射率はサングラスなとのようなある適用に対して容認 され得る。

この発明の他の実施例は４つの層以上を含み得る。たとえば、第５の膜か窒化チ タン膜２４と基板２８との間に加えられ得る。そのような構造の詳細は表１０に 示される。

この構造のための反射（曲線Ｖ）および透過（曲線Ｗ）値は図１２に示される。

層　材料　厚み（ｎｍ） 空気　入口媒体 Ｉ　ＳｉＯ□　７５．２ ２　ＴｉＮ（１）　１２．４ ３　ＳｎＱ、’　４９．６ ４　ＴｉＮ（２）　２１．７ ５　５ｎｏ２　９．８ ガラス　基板 表１０の構造は各々の構造における最初の４つの層の材料か同しであるので表３ の構造と比較され得る。理解されるように、酸化錫層の（Ｓｎ○２）の付加的な 層は窒化チタン層の厚みを増加させることによってかつその間の酸化錫層の厚み を減少させることによって適応される。

図】２の曲線を図４のそれらと比較することによって、第５の層の付加か反射防 止性能にお１プる重要な改良または可視光の減衰における重要な差異を生じ得な いということか示される。第５の層の屈折率か約５１０ｎｍの波長で１゜３５か ら２．６５へと変形された上て説明された５層構造の変形は調査されてきた。屈 折率のすべての値に対して、層の厚みノーケンスか確率され、それは約０．２５ ％の明所視反射率を生じ得るということが決定されたきた。屈折率のすへての値 に対して、第５の層の厚みは約４８０ｎｍから５６０ｎｍの波長の範囲において ８分の１の波長よりも少ないものであった。

この発明の別の実施例は６つの層を含む。この実施例は可視光に対して実質的に 透光性の材料の膜によって分離された３つの遷移金属の窒化物層を含む。４のよ うな構造の層システムは表１１を参照することによって示される。構造の反射（ 曲線Ｘ）および透過（曲線Ｙ）値は図１３に示層　材料　厚み（ｎ　ｍ　） 空気　入口媒体 ガラス　基板 表ＩＩの構造は約０１％の明所視反射率を有し得る。

反射率は表３の４つの膜構造よりも著しく低いわけてはない。しかしながら、付 加的な窒化チタン層は４つの膜構造のための約３５％と比較して約１７％の明所 視透過を与える。

上で説明された実施例のいずれかにおいて、１つまたはそれ以上の透光性の材料 をより薄い層の組合せ、すなわちほぼ同し全体の光学的厚みを有するか異なる屈 折率を有する副層に取換えることか可能であり得る。この技法は特定の屈折率を 有する材料の層をシミュレーションする方法として当該技術において周知である 。この技法は、屈折率のいずれかの所望の値を存する材料か存在しない、容易に 堆積されない、または適当な物理的特性を存さないときに使用され得る。そのよ うな修飾はこの発明の真意および範囲から逸脱することなしに可能である。

上で説明された実施例のために与えられた反射率値は基板から遠く離れた構造の 側から観察された値である。光吸収膜を含む構造か構造の異なる側面上で異なる 反射値を有し得るということは周知である。

窒化チタンまたは別の遷移金属の窒化物を含む構造は被覆された物品または装置 の基板側から観察されるように反射を減少させるように設計され得る。そのよう な構造は２つの層のみを必要とし、その１つは窒化物層であり、非常に低い明所 視反射を与える。

この発明のそのような実施例は図１４に示される。構造２５は基板３２上に堆積 された窒化物３０の薄膜を含む。

可視光に実質的に透光性のある材料の膜３４は窒化膜３０上に堆積される。膜の 厚みは矢印への方向において観察されるように可視光に対して最も低い反射率を 与えるように調整される。窒化物層３０は約６および９ｎ、ｍの厚みの間てあり 得る。好ましくは、それは約８ｎｍの厚みである。

透光性の層は２および１５１ｍの間の厚みであり、それは透光性の材料の屈折率 に依存する。この層の屈折率は約５１０ｎｍの波長で約１９３５および２６５の 間である。

層３０は窒化チタンであり得、かつ層３４は二酸化ケイ素、酸化錫または二酸化 チタンであり得る。窒化チタンの光学定数は１５ｎｍの厚みの膜に対して表１に 示される物品であり得る。層３４の厚みは約５１０ｎｍの波長で約２゜３５の屈 折率を有する二酸化チタンに対しては約２．５ｎｍてあり、かつ約５１０ｎ、ｍ の波長で約１．４６の屈折率を存する二酸化ケイ素に対しては約１０．８ｎｍで あり得る。

図１５は窒化チタン膜（曲線Ｚ）および二酸化ケイ素（曲線ＡＡ）、、酸化錫（ 曲線ＢＢ）または二酸化チタン（曲線ＣＣ）で覆われた窒化チタン膜の計算され た反射率を示す。図１５における反射率値は０ないし１％のスケールで示され、 異なる被覆材て得られた反射における差異を強調する。理解され得るように、反 射値は層３４の異なる被覆の屈折率の広い範囲に対して非常に低いものである。

約５］、Ｏｎｍの波長で約１．．３５から約２６５の範囲におけるいずれかの屈 折率は効果的な被覆を生じるために使用さね、得る。

図１６はガラス基板（ｎ＝　１．　５２）上の約８０ｎｍの厚みの窒化チタンの 単一膜のための計測された反射（曲線ＤＤ）および透過（曲線ＥＥ）値を示す。

図面は基板（曲線ＦＦ）の被覆されない表面からの反射を含む。計測された反射 曲線ＤＤ（図１６）は計算された曲線Ｚ（図１５）と比較され得る。計測された 曲線ＤＤは計算された曲線Ｚとほぼ同しである最小値を示す。計測された曲線の 最小値は計算された曲線よりも大きな波長で起こる。計測されたデータは基板を 介して見られるときの反射に対するものである。

上で説明された実施例において、窒化チタンは遷移金属の窒化物として使用され た。しかしなから、遷移金属の窒化物のいずれかかこの発明の構造において使用 され得るということか明らかになるであろう。たとえば、池の遷移金属の窒化物 は透過の異なる１／／＼ルまたはシー）・抵抗の異なる値を与えるために有用て あり得る。それはまた構造において２つまたはそれ以北の異なる遷移金属の窒化 物を使用するために有用てあり得る。

一ヒて説明された実施例において、金属酸化物か透光性の材料として使用されて きた。しかしなから、他の材料、たとえば窒化ケイ素のような実質的に透光性の 窒化物、またはシリコン酸窒化物のような酸窒化物か使用され得るということが 明らかになるであろう。フッ化物またはサルフィドのような材料もまた使用され 得るか、それらは反応性スパッタリングによって容易に堆積され得ない。

、二の発明の被覆はコントラス）・増強フィルタを構成するｔ二めに使用され？ 辱る。そのようなフィルタはもしそれらか両方の表面上で反射防止被覆を有する なら最大限に効果的である。光減衰５反射防止被覆は一方の表面にのみ適用され 得る。他方の表面は別の型の反射防止被覆を受（プ取り得る。この他の被覆は図 １４に示される。二の廠明の２層の実施例であり得るかまたは窒化チタンの単一 膜であり得る。

図１７に示されるように、コントラスト０はＶ　Ｄ　Ｔスクリーン５２の前に配 置され得る。フィルタ５０は透光性の基板４０を含み、それは表３の４層構造１ ５てその表面４２上て被覆される。基板４０の表面４６は２層構造２５て被覆さ れ得る。構造２５は約７．８ｎｒｎの厚みの窒化チタンの層を含み得る。

被覆１５および２５の低い反射側面は観察者またはオペ１ノータ５４に面する。

観察の方向は矢印へによって示される。フィルタ５０の光減衰特性はスクリーン ５２からの反射５６の抑制を引き起こす。

図１８はコノＩ・ラス）へ増強フィル、り５０の計測された透過（曲線ＧＧ）お よび反射（曲線１−Ｉ　Ｈ　）値を示す。反射計測は矢印Ａの方向においてなさ れた。表面４０および４６は１平方につき約１５０および２５０オームのシート 抵抗をそれぞれに育する。そのように、もし表面４０か電気的に接地されると、 静電荷の蓄積か妨げられるてあろう。

コントラスト増強フィルタはこの発明の唯一の応用である。この発明か太陽制御 つや出し、サレグラスおよび保護アイウェア（ｅｙｅｗｅａｒ）を含む池の応用 において使用され得るということか説明された実施例から明らかになるであろう 。この発明の実施例は物品または装置の一方または両方の表面−ヒて使用され得 る。この発明の実施例は反対側の表面上で薄膜干渉被覆の別の型を有する物品の １つの表面上で使用され得る。この発明の実施例はまた反対側の表面」二で化学 エツチングのような反射防止処理を有する物品の１つの表面上て使用され得る。

被覆組合せの選択は物品の特定の要求によって決定される。

上で説明された実施例を構成するように使用される材料はまた商業的に利用可能 なスパッタリング陰極を使用して商業的に利用可能な機械において堆積され得る しかつそうされてきた。材料はまた連続する、イン−ラインスパッタリングまた は他の機械において堆積され得る。材料はＤＣ反応性スパッタリングまたは他の 方法によって堆積され得る。膜の光学的特性は、しかしながら、すてに説明され たように異なり得、かつその差異は適当な膜の１７みを決定する際に考慮されな ければならない。

表３および表６、ならびに図１４および図１７の被覆または構造を堆積するため に使用される機械はイン−ラインスパッタ被覆機械であった．、機械は真空ロッ クによって分離された５つの別個のチャンバを含む。各々のチャンバは３つまで のスパッタリング陰極を含み得、それらは平面マグネトロンまたは回転円筒マグ ネトロンであり得る。装置は長さ２メートルに幅１メートルまでの基板を許容す るであろう。上で説明された実施例において、窒化チタン膜は平面マグネトロン を使用して堆積された。二酸化ケイ素および酸化錫膜は回転円筒マグネトロンを 使用して堆積された。

上で説明されたイン−ラインスパッタリング機械はカリフォルニア　フェアフィ ールド（Ｆａｉｒｆｉｅｌｄ）のエアコ・コーティング・チクノロシーズ・イン コーホレーテッド（Ａｉｒｃｏ　Ｃｏａｔｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌ。

ｇｉｅｓ　Ｉｎｃ、）によって供給された修飾されたＤＩモデルコーター（ｃｏ ａｔｅｒ）である。機械への修飾は以下のものを含み、すなわち原型のエトワー ズ（Ｅｄｗａｒｄｓ）油拡散ポンプとパリアン（Ｖａｒｉａｎ）（バラアルド、 カリフォルニア）モデル１８５油拡散ポンプとの取り換えてあり、それによって ボンピング容量において２層の増加を与え、真空ロックトンネルにわたる別個の ポンプアパーチャの付加を含み、それによって真空ロックの基板の通過の間に圧 力変動を減少させ、原型のプラスチック製の気体人口管とステンレス鋼の管との 置き換えをさらに含む。回転マグネトロンにはアーク抑制構造および遮へいか装 備され、それはディツキ−（Ｄｉｃｋｅｙ）らによる「回転マグネトロンスバノ タリングンステムにおけるアーク抑制のためのシールディングＪ　（Ｓｈｉｅｌ ｄｉｎｇｆｏｒ　Ａｒｃ　５ｕｐｐｒｅｓｓｉｏｎ　ｉｎ　Ｒｏｔａｔｉｎｇ　 Ｍａｇｎａｔｒｏｎ　ＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇＳｙｓ　ｔ　ｅｍｓ）と題された１ ９９０年８月１０日の日付で出願された同時継続出願連続番号第　号に、かつス テイーブンソン（Ｓｔｅｖｅｎｓｏｎ）らによる「回転円筒マグネトロンのため の片持ちばり装着Ｊ　（Ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ　Ｍｏｕｎｔ　Ｆｏｒ　Ｒｏｔａ ｔｉｎｇ　Ｃｙｌｉｎｄｒｉｃａｌ　Ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓ）と題された１９９ ０年８月ＩＯ日の日付で出願された同時継続出願連続番号第　号に説明され、両 方の出願はこの発明の意図される譲受人に謙譲され得、かつこれらの２つの出願 の全体の開示は引用により援用される。回転マグネトロン（こはまたカリフォル ニア、フェアフィールドのエアコ・コーディング・チクノロシーズ・インコーホ レーテッドから利用可能な電子アークタイバータか装備され得る。

この発明は多数の実施例に関して説明されたきた。この発明はしかしながら描写 されかつ説明された実施例に限定されない。むしろ、この発明の範囲は添付の請 求の範囲によって規定される。

ｋ′）−９ ＦＩＣ，−３ ＦＩＣ，−１４ ＦＩＧ、−７ ＦＩＧ、−１０ 要約 ある遷移金属の窒化物の層（２２，２４）を含み導電性、光減衰の反射防止表面 を与える物品（２８）のための被覆（１５）。

ＰＣＴ／ＬＩＳ９１１０５２９９ 国際調査報告 ｍｌ＃Ｍｍ１ｉｉ、ａｌｍ　ＰＣ”υ８９１１０５２９９

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．物品のための被覆であって、 ３つの層の群を含み、そこでは前記層の２つが実質的に遷移金属の窒化物を含み 、前記２つの層の各々は約５ｎｍおよび４０ｎｍの間の厚みを有し、かつ第３の 層は前記２つの層の間であり、前記第３の層は可視光に実質的に透光性のある材 料を含み、かつ約４８０ｎｍおよび５６０ｎｍの間の波長で約４分の１の波長よ りも少ないか素たはそれに等しい光学的厚みならびに約５１０ｎｍの波長て約１ ．３５および約２．６５の間の屈折率を有し、物品から遠く離れたその側面上で 前記３つの層の群に隣接する第４の層をさらに含み、前記第４の層は可視光に案 質的に透光性のある材料を食み、かつ５１０ｎｍの波長で約１．３５および１． ９の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍおよび約５６０ｎｍの間の約４分の１の波 長の光学的厚みを存する被覆。 ２．前記遷移金属の窒化物層が窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム 、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タンタルおよび窒化クロムからなる群から 選択された材料を含む、請求項１に記載の被覆。 ３．前記２層が窒化チタンを含む、請求項１に記載の被覆。 ４．可視光に実質的に透光性のある材料の第５の層をさらに含み、前記第５の層 が約１．３５ないし約２．６５の間の屈折率および約４８０ｎｍから５６０ｎｍ の範囲内の波長での８分の１の波長よりも少ない光学的厚みを有し、前記第５の 層が物品に接近するその側面上で前記３つの層の群に隣接する，請求項１に記載 の被覆。 ５．可視光に実質的に透光性のある材料のうちの少なくとも１つの層が異なる屈 折率を有する少なくとも２つの副層を含む、請求項１に記載の被覆。 ６．基板のための導電性、反射減少被覆であって、５層の群を含み、そこでは前 記層のうちの３つが約５ナノメートルおよび４０ナノメートルの間の厚みを存す る遷移金属の窒化物を含み、前記３つの層は前記５層の群の２つの他の層で交互 に配置され、前記２つの他の層は可視光に実質的に透光性のある材料を含みかつ 約４８０ｎｍから５６０ｎｍの範囲内の波長で約４分の１の波長よりも少ないか またはそれに等しい光学的厚みならびに約５１０ｎｍの波長で約１．３５および ２．６５の間の屈折率を有し、基板から遠く離れたその側面上に前記５層の群に 隣接する付加的な層をさらに含み、前記付加的な層は可視光に実質的に透光性の ある材料を含み、かつ約５１０ｎｍの波長で約１．３５および１．９の間の屈折 率ならびに約４８０ｎｍおよび５６０ナノメートルの間の約４分の１の波長の光 学的厚みを有する被覆。 ７．前記遷移金属の窒化物層が窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム 、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タンタルおよび窒化クロムからなる群から 選択された材料を含む、請求項６に記載の被覆。 ８．前記遷移金属の窒化物層が窒化チタンを含む、請求項６に記載の被覆。 ９．可視光に実質的に透光性のある材料の第７の層をさらに含み、前記第７の層 が約１．３５から約２．６５の範囲内の屈折率および約４８０ｎｍから５６０ｎ ｍの範囲内の波長で８分の１の波長よりも少ない光学的厚みを有し、前記第７の 層は前記基板に接近するその側面上で前記５層の群に隣接する。 １０．可視光に実質的に透光性のある材料の少なくとも１つの層が異なる屈折率 を有する少なくとも２つの副層を含む、請求項６に記載の被覆。 １１．基板のための被覆であって、 実質的に遷移金属の窒化物を含みかつ約６ｎｍおよび９ｎｍの間の厚みを有する 第１の層と、前記第１の層に隣接する第２の層とを含み、前記第２の層は可視光 に実質的に透光性のある材料を含み、約５１０ｎｍの波長で約１．３５および２ ．６５の間の屈折率ならびに約２．ｎｍないし１５ｎｍの間の厚みを有する被覆 。 １２．前記遷移第１の層が窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒 化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タンタルおよび窒化クロムからなる群から選択 された材料を含む、請求項１１に記載の被覆。 １３．前記第１が実質的に窒化チタンを含む、請求項１１に記載の被覆。 １４．物品のための導電性の反射減少被覆であって、３つの層の群を含み、ここ では前記層の２つが実質的に窒化チタンを含み、前記２つの眉の各々は約５ｎｍ および約４００ｎｍの間の厚みを有し、かつ第３の層は前記２つの層の間であり 、前記第３の層は金属酸化物を含み、それは約４８０ｎｍおよび５６０ｎｍの間 の波長で約４分の１の波長よりも少ないかまたはそれに等しい光学的厚みならび に約５１０ｎｍの波長で約１．３５および２．６５の間の屈折率を有し、物品か ら遠く離れたその側面上で前記３層の群に隣接する第４の層をさらに含み、前記 第４の層は金属酸化物を含み、それは約５１０ｎｍの波長で約１．３５および１ ．９の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍないし５６０ｎｍの間の約４分の１の波 長の光学的厚みを有する被覆。 １５．金属酸化物の第５の層をさらに含み、前記層は約１．３５および２．６５ の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍないし５６０ｎｍの間の８分の１の波長より も少ない光学的厚みを有し、前記第５の層は物品に最も接近するその側面上で前 記３層の群に隣接する、請求項１４に記載の被覆。 １６．金属酸化物の少なくとも１つの層が異なる屈折率を有する少なくとも２つ の副層を有する、請求項１４または１５に記載の被覆。 １７．基板のための導電性、反射減少被覆であって、５つの隣接する層の群を含 み、ここでは前記層のうちの３つが実質的に約５ｎｍおよび４０ｎｍの間の厚み を有する窒化チタンを含み、前記３つの層は約４８０ｎｍおよび５６０ｎｍの間 の波長で約４分の１の波長よりも少ないかまたはそれに等しい光学的厚みならび に約５１０ｎｍの波長で約１．３５および２．６５の間の屈折率を有する金属酸 化物の２つの他の層で交互に配置され、基板から遠く離れたその側面上で前記５ 層の群に隣接する第６の層をさらに含み、前記第６の層は金属酸化物を含み、そ れは約５１０ｎｍの波長で約１．３５から約１．９の範囲内の屈折率ならびに約 ４８０ｎｍないし５６０ｎｍの間の波長で約４分の１の波長の光学的厚みを有す る被覆。 １８．金属酸化物の第７の層をさらに含み、前記層が約１．３５から約２．６５ の範囲内の屈折率および約４８０から５６０ｎｍの範囲内の波長で８分の１の波 長よりも少ない光学的厚みを有し、前記層が前記基板に最も接近するその側面上 で前記第５層の群に隣接する、請求項１７に記載の被覆。 １９．金属酸化物の少なくとも１つの層が異なる屈折率を有する少なくとも２つ の副層を含む、請求項１７または１８に記載の被覆。 ２０．物品のための被覆であって、 第１の層を含み、それは可視光に実質的に透光性のある材料を含みかつ約１．３ ５および１．９の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍおよび約５６０ｎｍの間の波 長で約４分の１の波長の光学的厚みを有し、前記第１の層は前記被覆の最外層で あり、実質的に遷移金属の窒化物を含みかつ約５ｎｍおよび４０ｎｍの間の厚み を有する前記第２の層に隣接し、第３の層をさらに含み、それは前記第２の層に 隣接しかつ可視光に実質的に透光性のある材料を含みかつ約１．３５および２． ６５の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍおよび約５６０ｎｍの間の約４分の１の 波長よりも少ないかまたはそれに等しい光学的厚みを有し、前記第３の層に隣接 する第４の層をさらに含み、それは約５ｎｍおよび４０ｎｍの間の厚みを有する 遷移金属の窒化物を実質的に含む被覆。 ２１．前記遷移金属の窒化物層が窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウ ム、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タンタルおよび窒化クロムからなる群か ら選択された材料を実質的に含む、請求項２０に記載の被覆。 ２２．前記遷移金属の窒化物層が実質的に窒化チタンを含む、請求項２０に記載 の被覆。 ２３．可視光に実質的に透光性のある材料の第５の層をさらに含み、前記層が約 １．３５ないし約２．６５の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍおよび５６０ｎｍ の間の波長で８分の１の波長よりも少ない光学的厚みを有し、かつ前記第５の層 に隣接する前記層が前記第４の層に隣接する、請求項２０に記載の被覆。 ２４．可視光に実質的に透光性のある材料の少なくとも１つの層が異なる屈折率 を有する少なくとも２つの副層を含む、請求項２０に記載の被覆。 ２５．物品のための反射減少光減衰被覆であって、第１の層を含み、それは可視 光に実質的に透光性のある材料を含みかつ約１．３５および１．９の間の屈折率 ならびに約４８０ｎｍおよび約５６０ｎｍの間の約４分１の波長の光学的厚みを 有し、前記第１の層は前記被覆の最外層であり、第２の層を含み、それは実質的 に遷移金属の窒化物を含みかつ約５ｎｍおよび４０ｎｍの間の厚みを有し、第３ の層を含み、それは可視光に実質的に透光性のある材料を含みかつ約１．３５お よび約２．６５の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍおよび約５６０ｎｍの間の約 ４分の１の波長よりも少ないかまたはそれに等しい光学的厚みを有し、第４の層 を食み、それは実質的に遷移金属の窒化物を含みかつ約５ｎｍおよび４０ｎｍの 間の厚みを有し、第５の層を含み、それは可視光に実質的に透光性のある材料を 食みかつ約１．３５および約２．６５の間の屈折率ならびに約４８０ｎｍおよび 約５６０ｎｍの間の約４分の１の波長よりも少ないかまたはそれに等しい光学的 厚みを存し、第６の層をさらに含み、それか実質的に遷移金属の窒化物を含みか つ約５ｎｍおよび４０ｎｍの間の厚みを有する被覆。 ２６．前記遷移金属の窒化物層が窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウ ム、窒化バナジウム、窒化ニオブ、窒化タンタルおよび窒化クロムからなる群か ら選択された材料を実質的に含む、請求項２５に記載の被覆。 ２７．前記遷移金属の窒化物層が実質的に窒化チタンを食む、請求項２５に記載 の被覆。 ２８．可視光に実質的に透光性のある材料の少なくとも１つの層か異なる屈折率 を有する少なくとも２つの副層を含む、請求項２５に記載の被覆。 ２９．物品の表面からの反射を減少するための被覆であって、実質的に遷移金属 の窒化物を含む層を含み、前記層は約６および９ｎｍの間の厚みを有し、かつ前 記反射は前記物品を介するその上での光入射の前記表面からの反射である被覆。 ３０．前記遷移金属の窒化物がＬＩＳＴからなる群からの材料を実質的に含む、 請求項２９に記載の被覆。 ３１．前記遷移金属の窒化物が実質的に窒化チタンを含む、請求項２９に記載の 被覆。 ３２．可視光に突質的に透光性のある材料の層を含み、前記表面から遠く離れた その側面上て前記層に隣接し、前記層が約１．３５および２．６５の間の屈折率 ならびに約２ｎｍおよび１５ｎｍの間の厚みを有する、請求項２９に記載の被覆 。 ３３．被覆された物品てあって、 透光性のある基板と、 前記基板の１つの表面上に被覆とを含み、それは第１の層を含み、それは可視光 に実質的に透光性のある材料を含みかつ約１．３５および１．９の間の屈折率な らびに４８０ｎｍおよび５６０ｎｍの間のいずれかの波長での約４分の１の波長 の光学的厚みを有し、前記第１の層は前記被覆の最外層てあり、第２の層を含み 、それは約５ｎｍないし４０ｎｍの間の厚みを有する遷移金属の窒化物を実質的 に含み、前記第２の層に隣接して第３の層を含み、それは可視光に実質的に透光 性のある材料を含みかつ約１．３５から約２．６５の範囲内の屈折率ならびに約 ４８０ｎｍないし約５６０ｎｍの間の波長で約４分の１の波長よりも少ないかま たはそれに等しい光学的厚みを有し、第４の層をさらに含み、それは遷移金属の 窒化物を実質的に含みかつ約５ｎｍから４０ｎｍの範囲内の厚みを有する物品。 ３４．前記反射防止被覆が第５の層をさらに含み、それは可視光に実質的に透光 性のある材料を含み約１．３５および約２．６５の間の屈折率ならびに約４８０ ｎｍおよび約５６０ｎｍの間の波長で８分の１の波長よりも少ない光学的厚みを 有し、前記第５の層は前記第４の層と前記基板との間に位置される、請求項３３ に記載の物品。 ３５．前記反射防止被覆が前記第４の膜に隣接する第５の膜をさらに含み、それ は可視光に実質的に透光性のある材料を含みかつ約１．３５および約２．６５の 間の屈折率ならびに約４８０ｎｍから５６０ｎｍの範囲内の波長で約４分の１の 波長よりも少ないかまたはそれに等しい光学的厚みを有し、前記第５の膜に隣接 する第６の膜をさらに含み、前記第６の膜が遷移金属の窒化物を実質的に含みか つ約５ｎｍおよび４０ｎｍの間の厚みを有する、請求項３３に記載の物品。 ３６．前記４電光減衰被覆に対向する前記基板の表面上での反射防止処理をさら に含む、請求項３３、３４または３５に記載の物品。 ３７．前記反射防止処理が多層反射防止被覆である、請求項３６に記載の物品。 ３８、前記多層反射防止被覆が前記基板に隣接する層を含み、それは遷移金属の 窒化物を実質的に含みかつ約５ｎｍから１５ｎｍの範囲内の厚みを有し、かつ前 記窒化層に隣接して可視光に実質的に透光性のある材料の層を含み、それは約１ ．３５から２．６５の範囲内の屈折率ならびに約２ｎｍから１５．Ｉｎｍの範囲 内の厚みを有する、請求項３７に記載の物品。