DE3941797A1 - Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags - Google Patents

Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags

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Description

Die Erfindung betrifft einen Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist.
Es gibt eine breite Palette von Schichtsystemen für Substrate, insbesondere für Glas, die bestimmte optische Funktionen erfüllen. Die vorliegende Erfindung betrifft die Gattung der Antireflexschichten, beziehungsweise Antireflexschichtsysteme.
Durch die deutsche Offenlegungsschrift 36 29 996 ist ein Vorsatzaggregat für die Katodenstrahlröhre von Monitoren, Fernsehapparaten und dergleichen, bestehend aus einer Glasscheibe, insbesondere einer Grauglasscheibe, einer vorderseitigen Antireflexionsausrüstung und einer rückseitigen Absorptionsbeschichtung, wobei die Absorptionsbeschichtung Metallatome aufweist, bekannt geworden.
In dieser deutschen Offenlegungsschrift wird vorgeschlagen, daß die Absorptionsbeschichtung einschichtig aus Chrom, einer Chrom/Nickel-Legierung oder Siliciden aufgebaut und antistatisch eingerichtet und geerdet, sowie mit einer Dicke versehen ist, welche die Lichttransmission gegenüber der unbeschichteten Glasscheibe um etwa ein Drittel absenkt.
In der US-Patentschrift Nr. 38 54 796 wird weiterhin eine Beschichtung vorgeschlagen, die zur Reduzierung der Reflexion dienen soll. Die Beschichtung soll für ein Substrat angewendet werden, das eine Mehrzahl von Schichten aufweist. In der Reihenfolge beginnend beim Substrat ist in der US-Patentschrift folgende Anordnung beschrieben: drei Gruppen von wenigstens zwei Lambda/4-Schichten, die aufeinanderfolgenden Schichten der ersten Gruppe haben einen Brechungsindex, der unterhalb des Brechungsindexes des Substrats liegt. Die Schichten der zweiten Gruppe haben einen sich vergrößernden Brechungsindex und die Schichten der dritten Gruppe haben einen Brechungsindex unterhalb des Brechungsindexes des Substrats. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
Zum Stand der Technik gehört weiterhin die US-Patentschrift 37 61 160. Dort werden eine Breitbandantireflexionsbeschichtung und Substrate, die damit beschichtet sind, vorgeschlagen. Sie weisen wenigstens vier Schichten für Glas mit hohem Index und wenigstens sechs Schichten für Glas mit niedrigem Index auf. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
Weiterhin wird in der US-Patentschrift 36 95 910 ein Verfahren zur Anbringung einer Antireflexbeschichtung auf einem Substrat beschrieben. Diese Beschichtung besteht aus mehreren Einzelschichten. Das Verfahren für die Aufbringung der Antireflexionsschichten erfolgt unter Vakuum, und zwar unter Verwendung von Elektronenstrahlen. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.
Weiterhin gehört zum Stand der Technik die US-Patentschrift 38 29 197, die einen Antireflexionsbelag, der als Mehrschichtsystem ausgebildet ist, beschreibt. Dieser Belag soll auf einem stark brechenden Substrat angebracht werden. Das Schichtsystem besteht aus fünf einzelnen Schichten, die gegenseitig angepaßt sind, und zwar in Hinsicht auf ihren Brechungssindex und in Hinsicht auf ihre optische Dicke. Durch diese Anpassung soll eine günstige Antireflexionskurve mit einem breiten, flachen, mittleren Teil erreicht werden. Weitere Einzelheiten dieses Vorschlags sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.
Zum Stand der Technik gehört weiterhin die schweizerische Patentschrift 2 23 344. Diese Schrift befaßt sich mit einem Überzug zur Verminderung der Oberflächenreflexion. Der Überzug besteht aus mindestens drei Schichten mit verschiedenen Brechzahlen. Die Verminderung der Oberflächenreflexion soll nach dieser Schrift durch eine bestimmte Auswahl der Brechzahlen der einzelnen Schichten erzielt werden.
Der Erfindung liegen folgende Aufgaben zugrunde:
Es sollen Voraussetzungen für die wirtschaftliche Herstellung von Antireflexbeschichtungen für transparente Substrate geschaffen werden.
Transparente Substrate werden in einer Vielzahl moderner Einrichtungen und Geräte benötigt. Die Hersteller dieser Einrichtungen und Geräte stellen hohe Anforderungen in Hinsicht auf die optischen und sonstigen Eigenschaften dieser Substrate.
Die Erfindung soll diese hohen Anforderungen insbesondere in Hinsicht auf die Entspiegelung, die Kontrasterhöhung und die Erhöhung der Antistatikwirkung erfüllen.
Weiterhin sollen Voraussetzungen dafür geschaffen werden, daß eine nur geringe Anzahl von Schichten benötigt wird. Gleichzeitig sollen die Dicken der Einzelschichten klein sein. Die Erfindung macht sich weiterhin zur Aufgabe, Voraussetzungen für den Einsatz preisgünstigerer Materialien zu schaffen.
Mit der Erfindung soll ein Konzept vorgeschlagen werden, bei dem DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget gesputtert werden kann.
Die geringe Zahl der Schichten des Schichtsystems, die geringe Dicke der Einzelschichten des Schichtsystems, die Auswahl preisgünstiger Einsatzmaterialien und die Möglichkeit, DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget zu sputtern, führen zu einer äußerst wirtschaftlichen Herstellung der erfindungsgemäßen Antireflexschichtsysteme.
An sich ist die Benutzung von Metallschichten für Antireflexsysteme im Prinzip bekannt. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß die bekannten Metallschichten für den Alltagsbetrieb zu weich sind.
Es gehört daher mit zu der Aufgabenstellung der vorliegenden Erfindung, einen Ersatz für die bekannten weichen Metallschichten (Ag, Ni, ...) zu finden. Dieser Ersatz soll hart und kratzfest sein. Er soll einerseits eine keramische Härte aufweisen, andererseits jedoch auch die Wirkung einer metallähnlichen Optik besitzen.
Die gestellten Aufgaben werden erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (4) angeordnet ist, darauffolgend eine zweite Nitrid, vorzugsweise TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), aufweisende Schicht (5) angeordnet ist, darauffolgend eine dritte ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (6) angeordnet ist, darauffolgend eine vierte Nitrid, vorzugsweise TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), aufweisende Schicht (7) angeordnet ist, darauffolgend eine fünfte, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (8) angeordnet ist.
Dabei kann vorgesehen werden, daß die erste Schicht (4) Oxide aus der Gruppe: SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2), ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCr-Oxid, TiO2, Sb2O3, In2O3 oder Mischoxide von Oxiden aus dieser Gruppe umfaßt.
Weiterhin wird vorgeschlagen, daß die zweite Schicht (5) Nitride aus der Gruppe TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), ZrN umfaßt.
Die dritte Schicht (6) umfaßt Oxide aus der Gruppe: SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x =2), ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCr-Oxid, TiO2, Sb2O3 In2O3 oder Mischoxide von Oxiden aus dieser Gruppe.
Weiterhin wird vorgesehen, daß die vierte Schicht (7) Nitride aus der Gruppe TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), ZrN umfaßt.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung wird vorgeschlagen, daß die fünfte Schicht (8) niederbrechende Materialien, insbesondere mit einem Brechungsindex n gleich oder kleiner als 1,7 umfaßt.
Außerdem soll vorgesehen werden, daß die fünfte Schicht (8) Oxide aus der Gruppe SiO2, Al2O3, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO oder Oxidfluoride aus der gleichen Gruppe umfaßt.
Alternativ wird vorgeschlagen, daß die fünfte Schicht (8) MgF2 umfaßt.
In einer besonderen Gruppe von Ausführungsbeispielen wird vorgesehen, daß zwischen der ersten (4) und der zweiten Schicht (5) eine Haftvermittlerschicht (Haftvermittler) (11) angeordnet ist.
Der Haftvermittler (11) kann Ni oder NiOx mit x kleiner als 1 aufweisen.
Andererseits kann vorgesehen werden, daß der Haftvermittler (11) Cr oder Cr-Suboxid aufweist.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß der Haftvermittler (11) eine NiCr Legierung, vorzugsweise NiCr mit 80 Gewichtsprozent Ni und 20 Gewichtsprozent Cr als Metall oder Metallsuboxid (NiCr-Oxid) aufweist.
Es ist auch möglich, daß die erste Schicht (4) NiCrOx aufweist und Haftvermittlereigenschaft hat.
In einem besonderen Ausführungsbeispiel, bei dem das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) AL2O3 aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNx-Schicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (10) aufgebracht ist.
Ein alternatives Ausführungsbeispiel besteht darin, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x= 2) aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht (11) angeordnet ist, die NiCr oder NiCr-Oxid aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNxSchicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (10) aufgebracht ist.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) SiO2 aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht (11) angeordnet ist, die NiCr oder NiCr-Oxid aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNx Schicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (10) aufgebracht ist.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht (4) NiCr-Oxid aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNx Schicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (11) aufgebracht ist.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht (4) NiCr-Oxid aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) mit x größer als oder gleich 1 aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) SiO2 aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNx Schicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (11) aufgebracht ist.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht (4) eine Dicke von 170 Ångström +/-20% aufweist, daß die zweite Schicht (5) eine Dicke von 170 Ångström +/-20% aufweist, daß die dritte Schicht (6) eine optische Dicke von 5550/4 Ångström +/-20% aufweist, daß die vierte Schicht eine Dicke von 110 Ångström +/-20% aufweist, daß die fünfte Schicht eine optische Dicke von 5550/4 Ångström aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel, bei dem das Substrat aus Glas mit vorzugsweise einem Brechungsindex von n=1,52 besteht, wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 170 Ångström besitzt, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 190 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 130 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist und eine Dicke von 730 Ångström besitzt.
Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel besteht darin, daß bei einem Substrat aus Glas mit vorzugsweise einem Brechungsindex von n=1,52 besteht, vorgesehen wird, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 170 Ångström besitzt, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 175 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 110 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist und eine Dicke von 730 Ångström besitzt.
Es wird weiterhin vorgeschlagen, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (10), die TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), aufweist, angeordnet ist.
Dabei kann vorgesehen werden, daß die Rückseitenschicht (10) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 70 Ångström besitzt, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, eine Dicke von 170 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=2,05 aufweist, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, eine Dicke von 190 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt und einen Brechungskoeffizient n=2,05 aufweist, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 130 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist, eine Dicke von 730 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=1,6 aufweist.
Im Rahmen eines weiteren Ausführungsbeispiels wird vorgeschlagen, daß die Rückseitenschicht (10) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, daß das Substrat (1) aus Glas besteht,eine Dicke von vorzugsweise 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (4) NiCr-Oxid aufweist, eine Dicke von 170 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=2,1 aufweist, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, eine Dicke von 170 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt und einen Brechungskoeffizient n=2,05 aufweist, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 110 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) SiO2 aufweist, und eine Dicke von 730 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=1,5 aufweist.
Zur Herstellung des Belags wird ein Katodenzerstäubungsverfahren vorgeschlagen, insbesondere ein DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron.
Insbesondere wird ein reaktives Sputtern vom Sn-Target mit Magnetron vorgeschlagen zur Erzeugung einer Schicht aus SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
In analoger Weise kann vorgesehen werden, daß durch reaktives Sputtern vom Si-Target mit Magnetron eine Schicht aus SiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das durch reaktives Sputtern vom Si-Target mit Magnetron eine Schicht aus SiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
Weiterhin wird vorgeschlagen, daß durch reaktives Sputtern vom Al-Target mit Magnetron eine Schicht aus Al2O3 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
Außerdem ist vorgesehen, daß durch reaktives Sputtern vom Ti-Target mit Magnetron eine Schicht aus TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und N2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
Weiterhin wird vorgeschlagen, daß durch reaktives Sputtern von einem Target, das NiCr, (vorzugsweise 80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr) aufweist, mit Magnetron eine Schicht aus NiCr-Oxid bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
Alternative Verfahren bestehen darin, daß ein an sich bekanntes Aufdampfverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird, daß ein an sich bekanntes Chemical Vapor Deposition-Verfahren (CVD) eingesetzt wird, daß ein an sich bekanntes Plasma-gestütztes Chemical Vapor Deposition-Verfahren (CVD) eingesetzt wird, daß ein an sich bekanntes Pyrolyse-Verfahren eingesetzt wird.
Gute Antistatikwirkungen werden dadurch erreicht, daß die dem Betrachter zuwandte Vorderseite des Schichtsystems einen Flächenwiderstand von 100 bis 400 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 150 Ohm pro Quadrat, aufweist.
Außerdem kann vorgesehen werden, daß die vom Betrachter abgewandte Rückseite des Schichtsystems eine Dicke im Bereich von 40 bis 200 Ångström besitzt und einen Flächenwiderstand von 150 bis 500 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 450 Ohm pro Quadrat, aufweist.
Mit der Erfindung werden folgende Vorteile erzielt.
Die eingangs beschriebenen Aufgaben werden gelöst.
Es wird eine hohe Entspiegelung erreicht, ebenso eine markante Kontrasterhöhung. Durch Reduzierung bzw. Verhinderung elektrostatischer Aufladung wird die Antistatikwirkung verbessert. Die Antireflexionswirkung wird insbesondere dadurch erhöht, daß die von der Rückseite des Substrats reflektierende Schicht durch Absorption im Schichtsystem der Vorderseite abgeschwächt wird. Damit wird eine Gesamtentspiegelung erzielt, die über dem liegt, was vergleichbare Systeme des Standes der Technik erzielen.
Die Gesamtdicke des Belags ist, verglichen mit den Systemen des Standes der Technik, klein.
Die weiche Metallschicht, wie sie bei Metalloptiken des Standes der Technik als Antireflexschichten bekannt sind, werden durch die erfindungsgemäße harte kratzfeste TiN-Schicht ersetzt. Diese Schicht hat einerseits keramische Härte und andererseits eine metallähnliche optische Wirkung.
Weitere Einzelheiten der Erfindung, der Aufgabenstellung und der erzielten Vorteile sind der folgenden Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele der Erfindung zu entnehmen.
Diese Ausführungsbeispiele werden anhand von vier Figuren erläutert.
Die Fig. 1 und 2 zeigen je ein Schichtsystem.
Die Fig. 3 und 4 zeigen Transmissions- beziehungsweise Reflexions-Kurven in Prozent über Wellenlängen in nm.
Nachfolgend werden zunächst fünf Ausführungsbeispiele anhand der Fig. 1 und 2 beschrieben:
Das Substrat 1 besteht aus Glas. Die Vorderseite 2 des Substrats ist die Seite des Substrats, die dem Betrachter zugewandt ist. Die Rückseite 9 des Substrats ist die Seite, die vom Betrachter abgewandt ist. Die an der Vorderseite des Substrats anliegende Schicht wird als die "erste" Schicht 4 bezeichnet. Es folgen in Richtung zum Betrachter die "zweite" Schicht 5 und die "dritte" Schicht 6, die "vierte" Schicht 7 und die "fünfte" Schicht 8.
Das Schichtsystem des ersten Ausführungsbeipiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)
  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 10 angebracht,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter der ersten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SnO2,
  • - die vierte optisch wirksame Schicht 7, die in Richtung auf den Betrachter der dritten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx,
  • - die fünfte optisch wirksame Schicht 8, die in Richtung auf den Betrachter der vierten optischen wirksamen Schicht besteht aus Al2O3.
Das Schichtsystem des zweiten Ausführungsbeipiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 2)
  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 10 angebracht,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat: Glas,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,
  • - es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 11, bestehend aus NiCr-Oxid,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SnO2.
  • - die vierte optisch wirksame Schicht 7, die in Richtung auf den Betrachter der dritten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx.
  • - die fünfte optisch wirksame Schicht 8, die in Richtung auf den Betrachter der vierten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.
Das Schichtsystem des dritten Ausführungsbeipiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 2)
  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 10 angebracht,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,
  • - es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 11, bestehend aus NiCr-Oxid,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SnO2.
  • - die vierte optisch wirksame Schicht 7, die in Richtung auf den Betrachter der dritten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx.
  • - die fünfte optisch wirksame Schicht 8, die in Richtung auf den Betrachter der vierten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO2.
Das Schichtsystem des vierten Ausführungsbeipiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)
  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 10 angebracht,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCr-Oxid; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SnO2.
  • - die vierte optisch wirksame Schicht 7, die in Richtung auf den Betrachter der dritten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx.
  • - die fünfte optisch wirksame Schicht 8, die in Richtung auf den Betrachter der vierten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO2.
Das Schichtsystem des fünften Ausführungsbeipiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)
  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 10 angebracht,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat: Glas 1,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCr-Oxid; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SnO2.
  • - die vierte optisch wirksame Schicht 7, die in Richtung auf den Betrachter der dritten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx.
  • - die fünfte optisch wirksame Schicht 8, die in Richtung auf den Betrachter der vierten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.
Als Substrat können außer Mineralglas, Floatglas auch Plexiglas, durchsichtige Kunststoffschichten, Folien usw. eingesetzt werden.
Neben der Vorderseitenentspiegelung durch die beschriebenen, vor der Vorderseite angeordneten, Schichtsystemen wird eine weitere überraschend niedrige Gesamtreflexion durch die auf der Rückseite angeordnete TiNx-Schicht erzielt.
Der Grundgedanke der Erfindung läßt eine Vielzahl von Ausführungsbeispielen, bzw. Schichtsystemen, zu, die durch die nachfolgend genannten Materialien und Schichtdicken charakterisiert sind.
"Erste" Schicht (Bezugsziffer 4), ein Dielektrikum: Metalloxid (SnO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCr-Oxid, TiO2, Sb2O3, In2O3),
Schichtdicke: 170 Ångström +/-20%,
"Zweite" Schicht (Bezugsziffer 5) Nitrid (TiN, ZrN)
Schichtdicke: 170 Ångström +/-20%,
"Dritte" Schicht (Bezugsziffer 6) Dielektrikum: Metalloxid (SnO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCr-Oxid TiO2, Sb2O3, In2O3)
Schichtdicke: 500 Ångström +/-20%
"Vierte" Schicht (Bezugsziffer 7) Nitrid (TiN, ZrN)
Schichtdicke: 110 Ångström +/-20%,
"Fünfte" Schicht (Bezugsziffer 8), Dielektrikum:
niederbrechende Materialien, n kleiner als 1,7, (SiO2, Al2O3, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgF2)
Optische Dicke: 5550/4 Ångström +/-10%,
"Haftvermittler-Schicht" (Bezugsziffer 11): Ni, Cr, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr)
Schichtdicke: 10 Ångström +/-10%,
Auf der Rückseite 9 des Substrats ist die "Rückseiten- Schicht" (Bezugsziffer 10), bestehend aus TiNx, angeordnet,
Schichtdicke: 40-150 Ångström.
Es ist selbstverständlich, daß solche Werte für die jeweilige Schichtdicke innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.
Es folgt die Beschreibung zweier Beispiele von Schichtsystemen, bei denen die Reflexion und die Transmission im sichtbaren Wellenbereich des Lichts gemessen wurden. Die Messergebnisse sind grafisch anhand von Kurven in den Fig. 3 und 4 dargestellt.
Bei der Beschreibung der Schichtsysteme werden die Bezugsziffern der Beschreibung der Fig. 1 benutzt.
Das Schichtsystem des ersten Beispiels ist wie folgt aufgebaut:
Substrat: Glas (1), Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n = 1,52
Schicht (4) Material: SnO2, Dicke 170 Ångström
Brechungskoeffizient n=2,05
Schicht (5) Material: TiNx, Dicke 190 Ångström
Schicht (6) Material: SnO2, Dicke 500 Ångström
Brechungskoeffizient n=2,05
Schicht (7) Material: TiNx, Dicke 130 Ångström
Schicht (8) Material: Al2O3, Dicke 730 Ångström
Brechungskoeffizient n=1,6
Schicht (10) Material: TiNx, Dicke 70 Ångström
Der in Fig. 2 mit 11 bezeichnete Haftvermittler ist in diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.
Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.
Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Reflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:
Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 3 grafisch dargestellt. Auf der Abzisse 12 des Koordinatensystems in Fig. 3 sind die Wellenlängen in nm eingetragen.
Auf der linken Ordinate 13 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Reflexion eingetragen. Auf der rechten Ordinate 14 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Transmission eingetragen.
Aus den Kurven ist deutlich erkennbar, daß die Reflexionskurve 16 im Kernwellenlängenbereich des sichtbaren Lichts außerordentlich niedrig ist. Sie liegt weit unter 1%. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung in überraschend deutlicher Weise erzielt worden. Im gleichen Kernwellenlängenbereich hat die Transmissionskurve 15 relativ hohe Werte.
Das Schichtsystem des zweiten Beispiels ist wie folgt gekennzeichnet:
Substrat: Glas, Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n=1,52
Schicht (4) Material: SnO2, Dicke 170 Ångström
Brechungskoeffizient n=2,1
Schicht (5) Material: TiNx, Dicke 170 Ångström
Schicht (6) Material: SnO2, Dicke 500 Ångström
Brechungskoeffizient n=2,05
Schicht (7) Material: TiNx, Dicke 110 Ångström
Schicht (8) Material: SiO2, Dicke 730 Ångström
Brechungskoeffizient n=1,5
Schicht (10) Material: TiNx, Dicke 70 Ångström
Ein gesonderter Haftvermittler, siehe Bezugsziffer 11, ist bei diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.
Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.
Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Reflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:
Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 4 grafisch dargestellt. Die Abzisse und die Ordinaten tragen die im Zusammenhang mit Fig. 3 beschriebenen Maßeinheiten.
Aus der Reflexionskurve 18 ist deutlich erkennbar, daß die Reflexion im Bereich von ca. 500 nm Wellenlänge einen ausgesprochenen Tiefpunkt hat. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung auch durch dieses Beispiel in überzeugender Weise erzielt worden. Die Transmissionskurve 17 hat im Kernbereich des sichtbaren Lichts ihr Maximum.
Zu der Transmissionskurve 15 (Fig. 3) und zu der Transmissionskurve 17 (Fig. 4) ist grundsätzlich folgendes zu sagen:
Geringe Transmissionswerte einer Vorsatzscheibe können auf einfache Weise durch Verstärkung der Lichtquelle, z. B. durch Aufdrehen des Potentiometers bei einem LCD, kompensiert werden.
Die Schichtsysteme, mit denen die oben kommentierten Transmissions- und Reflexionswerte erzielt wurden, sind nach dem im folgenden beschriebenen Verfahren hergestellt worden:
Es wurde mit Magnetron gesputtert und zwar in reaktiver Gasatmosphäre.
Nachfolgend wird in der linken Spalte das Sputtermaterial und in der rechten Spalte das reaktive Sputtergemisch angegeben:
SnO₂
Ar + O₂
SiO₂ Ar + O₂
Al₂O₃ Ar + O₂
TiN Ar + N₂
NiCr Ar + O₂
Druck während des Sputtervorgangs: ca. 5×10-3 mbar.
Targetmaterial: Sn, Si, Ti, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr), Al.
Auf der Vorderseite der Schichtsysteme wurde ein Flächenwiderstand von 150 Ohm pro Quadrat gemessen, auf der Rückseite wurde ein Flächenwiderstand von 450 Ohm pro Quadrat gemessen. Dies sind relativ geringe Flächenwiderstände.
Durch Erdung der Flächen kann daher die statische Aufladung reduziert oder sogar aufgehoben werden. Damit wird der gewünschte Antistatikeffekt erreicht.
Liste der Einzelteile
 1 Substrat, Glas
 2 Vorderseite
 3 Pfeil, Blickrichtung
 4 "erste" Schicht
 5 "zweite" Schicht
 6 "dritte" Schicht
 7 "vierte" Schicht
 8 "fünfte" Schicht
 9 Rückseite
10 Rückseitenschicht
11 Haftvermittlerschicht
12 Abszisse
13 linke Ordinate
14 rechte Ordinate
15 Transmissionskurve
16 Reflexionskurve
17 Transmissionskurve
18 Reflexionskurve

Claims (36)

1. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (4) angeordnet ist, darauffolgend eine zweite Nitrid, vorzugsweise TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), aufweisende Schicht (5) angeordnet ist, darauffolgend eine dritte ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (6) angeordnet ist, darauffolgend eine vierte Nitrid, vorzugsweise TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), aufweisende Schicht (7) angeordnet ist, darauffolgend eine fünfte, eine Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (8) angeordnet ist.
2. Belag nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) Oxide aus der Gruppe: SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2), ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCr-Oxid, TiO2, Sb2O3, In2O3 oder Mischoxide von Oxiden aus dieser Gruppe umfaßt.
3. Belag nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schicht (5) Nitride aus der Gruppe TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), ZrN umfaßt.
4. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Schicht (6) Oxide aus der Gruppe: SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2), ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCrO-Oxid, TiO2, Sb2O3, In2O3 oder Mischoxide von Oxiden aus dieser Gruppe umfaßt.
5. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die vierte Schicht (7) Nitride aus der Gruppe TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), ZrN umfaßt.
6. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die fünfte Schicht (8) niederbrechende Materialien, insbesondere mit einem Brechungsindex n gleich oder kleiner als 1,7 umfaßt.
7. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche dadurch gekennzeichnet, daß die fünfte Schicht (8) Oxide aus der Gruppe SiO2, Al2O3, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO oder Oxidfluoride aus der gleichen Gruppe umfaßt.
8. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die fünfte Schicht (8) MgF2 umfaßt.
9. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der ersten (4) und der zweiten Schicht (5) eine Haftvermittlerschicht (Haftvermittler) (11) angeordnet ist.
10. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Haftvermittler (11) Ni oder NiOx mit x kleiner als 1 aufweist.
11. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Haftvermittler (11) Cr oder Cr-Suboxid aufweist.
12. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Haftvermittler (11) eine NiCr Legierung, vorzugsweise eine NiCr Legierung mit 80 Gewichtsprozent Ni und 20 Gewichtsprozent Cr als Metall oder Metallsuboxid (NiCrOx, durch unteroxidische Beschichtung aufgebracht) aufweist.
13. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) NiCr-Suboxid, durch unteroxidische Beschichtung aufgebracht, aufweist und Haftvermittlereigenschaft hat.
14. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNx-Schicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (10) aufgebracht ist.
15. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht (11) angeordnet ist, die NiCrOx, unteroxidisch beschichtet, aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNxSchicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (10) aufgebracht ist.
16. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) SiO2 aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht (11) angeordnet ist, die NiCr oder NiCr-Suboxid, aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNxSchicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (10) aufgebracht ist.
17. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) NiCr-Suboxid aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNx-Schicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (11) aufgebracht ist.
18. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) NiCr-Suboxid aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, die folgende vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) mit x größer als oder gleich 1 aufweist, die folgende fünfte Schicht (8) SiO2 aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiNx Schicht (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) (11) aufgebracht ist.
19. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) eine Dicke von 170 Ångström +/-20% aufweist, daß die zweite Schicht (5) eine Dicke von 170 Ångström +/-20% aufweist, daß die dritte Schicht (6) eine optische Dicke von 5550/4 Ångström +/-20% aufweist, daß die vierte Schicht eine Dicke von 110 Ångström +/-20% aufweist, daß die fünfte Schicht eine optische Dicke von 5550/4 Ångström +/-10% aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.
20. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat aus Glas mit vorzugsweise einem Brechungsindex von n=1,52 besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 170 Ångström besitzt, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 190 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 130 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist und eine Dicke von 730 Ångström besitzt.
21. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat aus Glas mit vorzugsweise einem Brechungsindex von n=1,52 besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 170 Ångström besitzt, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 175 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 110 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist und eine Dicke von 730 Ångström besitzt.
22. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, vorzugsweise nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (10), die TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05), aufweist, angeordnet ist.
23. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseitenschicht (10) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 70 Ångström besitzt, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von beispielsweise 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (4) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist, eine Dicke von 170 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=2,05 aufweist, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, eine Dicke von 190 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt und einen Brechungskoeffizient n=2,05 aufweist, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 130 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) Al2O3 aufweist, eine Dicke von 730 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=1,6 aufweist.
24. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseitenschicht (10) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von vorzugsweise 70 Ångström besitzt, daß das Substrat (1) aus Glas besteht,eine Dicke von beispielsweise 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (4) NiCr-Suboxid aufweist, eine Dicke von 170 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=2,1 aufweist, daß die zweite Schicht (5) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist, eine Dicke von 170 Ångström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) aufweist und eine Dicke von 500 Ångström besitzt und einen Brechungskoeffizient n=2,05 aufweist, daß die vierte Schicht (7) TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) aufweist und eine Dicke von 110 Ångström besitzt, daß die fünfte Schicht (8) SiO2 aufweist, und eine Dicke von 730 Ångström besitzt und einen Brechungsindex n=1,5 aufweist.
25. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Katodenzerstäubungsverfahren, insbesondere ein DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron zur Beschichtung eingesetzt wird.
26. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Sn-Target mit Magnetron eine Schicht aus SnOx (mit x gleich oder kleiner als 2, vorzugsweise x=2) bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
27. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Si-Target mit Magnetron eine Schicht aus SiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das durch reaktives Sputtern vom Si-Target mit Magnetron eine Schicht aus SiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
28. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Al-Target mit Magnetron eine Schicht aus Al2O3 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
29. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Ti-Target mit Magnetron eine Schicht aus TiNx (mit x gleich oder größer als 1, vorzugsweise x=1,05) bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und N2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
30. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern von einem Target, das NiCr, (vorzugsweise 80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr) aufweist, mit Magnetron eine Schicht aus NiCr-Suboxid bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
31. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Aufdampfverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
32. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Chemical Vapor Deposition-Verfahren (CVD) eingesetzt wird.
33. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Plasma-gestütztes Chemical Vapor Deposition-Verfahren (CVD) eingesetzt wird.
34. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Pyrolyse-Verfahren eingesetzt wird.
35. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dem Betrachter zugewandte Vorderseite des Schichtsystems einen Flächenwiderstand von 100 bis 400 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 150 Ohm pro Quadrat, aufweist.
36. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Betrachter abgewandte Rückseite des Schichtsystems eine Dicke im Bereich von 40 bis 200 Ångström besitzt und einen Flächenwiderstand von 150 bis 500 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 450 Ohm pro Quadrat, aufweist.
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