CN102947897B - 具有抗反射涂层的高透射传导膜、触摸面板及制造方法 - Google Patents

具有抗反射涂层的高透射传导膜、触摸面板及制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜，通过在传导膜上涂覆具有高折射率和低反射率的多个抗反射涂层，使得能够提高ITO膜的透射率，并且本发明根据示例性实施例能够有利地应用到ITO膜/ITO膜组合的触摸面板上并且由于足够的透射率而得到清晰的图像，其中，本发明的示例性实施例包括形成有透明电极图案的传导膜，以及形成在传导膜至少一个表面上的防止光的反射的多个抗反射膜。

Description

具有抗反射涂层的高透射传导膜、触摸面板及制造方法
技术领域
根据本发明的示例性实施例的教导主要涉及一种具有高透射率的传导膜。更具体地，根据本发明的实施例的教导涉及一种具有多个抗反射涂层以降低反射率且增加透射率的传导膜，一种使用此膜的触摸面板，及其制造方法。
背景技术
图1是示出根据现有技术的形成有ITO(氧化铟锡)膜和ITO玻璃的触摸面板的透射率的图表。一般地，因为ITO玻璃的透射率比ITO膜的透射率高，所以形成有ITO膜和ITO玻璃的触摸面板具有实际使用范围的透射率。
然而，由于实际上ITO膜的透射率在85～89％水平，ITO膜/ITO玻璃的组合膜的面板结构可以具有算术上小于80％的透射率，这导致没有达到商业要求的透射率。因此，需要一种具有能够得到清晰图像的高光学透射率的传导膜，并需要具有这种膜的触摸面板。
发明内容
技术问题
本发明旨在全部或部分地解决至少一个或多个前述问题/缺点，并提供一种形成有多个抗反射(AR，antireflection)涂层的传导膜，该传导膜具有高折射率和低反射率以增加具有相对较低的透射率的ITO膜的透射率，并提供一种使用此传导膜的触摸面板，以及其制造方法。
本发明将解决的技术问题不局限于上述方面，本领域的技术人员可以从下面的描述中清楚地理解目前没有提到的其它任何技术问题。
技术方案
本发明的目的是全部或部分地克服以上问题/缺点中的至少一个或多个，和/或提供至少下文描述的优点，和/或对现有技术进行改进。为了全部或部分地达到至少以上目的，并与本发明的意图相一致，如具体和概括描述的，在本发明的一个总的方面，提供一种具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜，包括：形成有透明电极图案的传导膜；以及形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射膜，其中，所述多个抗反射膜是将基膜、第一二氧化钛膜、第一二氧化硅膜、第二二氧化钛膜和第二二氧化硅膜依次涂覆在所述传导膜的所述一个表面上而形成的，以及其中用一氧化硅和二氧化硅中的任意一种涂覆所述基膜。
在本发明的另一总的方面，提供一种具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜，包括：形成有透明电极图案的传导膜；以及形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射膜，其中所述多个抗反射涂层膜是将第一Al2O3膜、第一二氧化钛膜、第二Al2O3膜、第二二氧化钛膜以及第三Al2O3膜依次涂覆在所述传导膜的所述一个表面上形成的。
优选地，所述传导膜是ITO膜、ATO膜和AZO膜中的任意一种。
优选地，如果所涂覆的基膜是一氧化硅，那么所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜是以及所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
优选地，如果所涂覆的基膜是二氧化硅，那么所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
优选地，第一Al2O3膜的厚度是第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第二Al2O3膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是以及所涂覆的第三Al2O3膜的厚度是
优选地，所涂覆的基膜和所涂覆的第一Al2O3膜的与空气的相对折射率是1.4～2.1。
优选地，所述具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜是通过真空沉积法、喷射法和湿法之一的方法涂覆的膜。
优选地，光的波长是450nm～650nm。
在本发明的另一总的方面，提供一种使用具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜的触摸面板，所述触摸面板包括：形成有透明电极图案的传导膜；以及形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射涂层；以及形成在下面形成有所述传导膜的所述多个抗反射涂层膜上的光学胶膜，或形成在所述传导膜的上表面上的光学透明压敏粘合剂膜，其中形成在所述传导膜的上表面上的所述光学胶膜被插置在所述多个抗反射涂层膜之间，其中，所述多个抗反射涂层是将基膜，第一二氧化钛膜、第一二氧化硅膜、第二二氧化钛膜以及第二二氧化硅膜依次涂覆在所述传导膜的所述一个表面上而形成的，以及其中所述基膜由一氧化硅、二氧化硅和Al2O3中的任意一种涂覆。
优选地，所述光学胶膜是减压型压敏粘合剂。
优选地，以多种方式提供所述传导膜、所述多个抗反射膜和所述光学胶膜。
优选地，所述多个传导膜包括上部传导膜，其中每个透明电极图案面对着另一透明电极图案，和底部传导膜，其中每个透明电极图案面对着另一透明电极图案。
优选地，预定尺寸的空气间隙形成并保持在所述上部传导膜和所述底部传导膜之间。
优选地，触摸面板还包括插置在所述上部传导膜和所述底部传导膜之间的垫片以熔合所述上部传导膜和所述底部传导膜。
优选地，触摸面板还包括形成在所述上部传导膜或底部传导膜上的多个点垫片。
优选地，如果所涂覆的基膜是一氧化硅，那么所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是以及所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
优选地，如果所涂覆的基膜是二氧化硅，那么所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是
在本发明的另一总的方面，提供一种制造具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜(20)的方法，该方法包括：在传导膜上形成透明电极图案；以及在所述传导膜的至少一个表面上形成用于防止光的反射的多个抗反射涂层膜，其中，形成所述多个抗反射涂层膜的步骤包括使用一氧化硅和二氧化硅中的任意一种涂覆基膜，在所述基膜上涂覆第一二氧化钛膜，在所述第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜，在所述第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜，在所述第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜。
在本发明的另一总的方面，提供一种使用具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜制造触摸面板的方法，该方法包括：在传导膜上形成透明电极图案；以及在所述传导膜的至少一个表面形成用于防止光的反射的多个抗反射涂层膜；以及在所述多个抗反射涂层膜的上表面上形成光学胶膜，其中所述多个抗反射涂层膜被插置在所述传导膜之间，或在所述传导膜的上表面上形成光学胶膜膜，其中所述传导膜被插置在所述多个抗反射涂层膜之间，其中，形成所述多个抗反射涂层膜的步骤包括用一氧化硅和二氧化硅中的任一涂覆基膜，在所述基膜上涂覆第一二氧化钛膜，在所述第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜，在所述第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜，在所述第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜。
有益效果
根据示例性实施例的本发明的有益效果在于通过在传导膜上涂覆多个具有高折射率和低反射率的抗反射涂层膜可以提高了ITO膜的透射率，以及根据示例性实施例的本发明能够有利地应用于ITO膜/ITO膜组合的触摸面板上并由于足够的透射率而得到清晰的图像。
附图说明
通过结合附图考虑以下详细描述能够容易地理解本发明的教导，其中：
图1是示出根据现有技术的形成有ITO膜和ITO玻璃的触摸面板的透射率的图表；
图2a，2b和2c是示出根据本发明的第一、第二和第三示例性实施例的具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜的截面图；
图3是示出根据本发明的具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜的各个示例性实施例的光透射率的图表；
图4是顺序地示出制造根据本发明的具有高透射率和多个抗反射(AR)涂层膜的传导膜的方法的流程图；
图5a到5c是示出形成有根据本发明第一、第二和第三示例性实施例的具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜的触摸面板的截面图；以及
图6是顺序地示出根据本发明示例性实施例的制造形成有具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜的触摸面板的方法的流程图。
具体实施方式
以下描述不意在将本发明限制于此处公开的形式。因此，与相关领域的与以下教导、技术和知识相对应的变型和修改都落在本发明的范围内。此处描述的实施例还意在解释实践本发明的已知模式并使得本领域的其他技术人员能够以这样的或其它实施例以及本发明的特定应用或用途所需的各种修改来利用本发明。
参照图1-6能够更好地理解本公开的实施例和其优点，相同的标记用于表示各个附图的相同或相应的部分。通过查阅以下附图和详细描述，对本领域的普通技术人员而言本公开的实施例的其他特点和优点将会或将变得显然。
所有的这些附加的特点和优点意在都包含在公开的实施例的范围之内，并且被附图保护。此外，示出的附图仅仅是示例性的并且不意在声明或暗示任何对于执行不同实施例的环境、机构、或过程的限制。因此，这些描述的方面意在包含落在本发明的范围和新构思之内的所有的改动、修改和变型。
应该理解，用于本说明书的术语“包括”表示存在所陈述的特点、区域、整体、步骤、操作、元件、和/或组件，但并不排除存在或增加一个或多个其他特点、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其结合。也就是说，术语“包括”、“具有”、“带有”、或其变形可以被用于详细描述和/或权利要求中以与术语“包含”类似的方式表示非排他地包括。
此外，“示例性”仅仅意味着表示例子，而不是最好。应该理解，为了简洁和容易理解，此处描述的特点、层和/或元件用特定尺寸和/或彼此相关的方位来进行说明，并且实际的尺寸和/或方位可以实质上不同于此处的说明。也就是说，为了清楚，可以放大或缩小附图中层、区域和/或其他元件的尺寸或相对尺寸。相同的标记始终表示相同的元件并且将省略重复的说明。现在，将参照附图详细地描述本发明。
在说明书和权利要求中，涂层膜和涂层可以交换使用。
当在说明书和权利要求中使用时，除了上下文清楚地指示，否则单数形式的“一”包括复数项。
<具有高透射率的传导膜>
图2a、2b和2c是示出根据本发明的第一、第二和第三示例性实施例的具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜的截面图。
现在，将参照附图详细地描述本发明的各个示例性实施例。
<第一示例性实施例>
根据本发明的第一示例性实施例的具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜包括：形成有透明电极图案110的传导膜10，以及涂覆在传导膜10上的多个抗反射涂层膜20。
具体地，该多个抗反射涂层膜20包括：第一层膜210、第二层膜220、第三层膜230、第四层膜240以及第五层膜250，各层膜从与传导膜接触的表面顺序地形成，用于防止光反射。更具体地，第一示例性实施例阐述了被涂覆在形成有透明电极图案110的传导膜10前表面上的多个抗发射涂层膜20。
通过在特定的波段引导消除光干涉，形成在传导膜10的至少一个表面上的多个抗反射涂层膜20交替地层叠有高折射率涂覆材料和低折射率涂覆材料以增加光透射率(T％)和降低反射率。
传导膜10可以是ITO(氧化铟锡)膜、ATO(氧化锑锡)膜和AZO(氧化锑锌)膜中的一种。各种透明电极图案可以通过包括刻蚀过程等的加工而形成，并通过接触法(例如，静电电容方法或电阻方法)在触摸面板上使用。
第一层膜210是基膜，与空气的相对折射率为1.4～2.1，并且可以由一氧化硅、二氧化硅和Al2O3涂覆而成。
在基膜是一氧化硅或二氧化硅的情况下，氧化钛和二氧化硅交替地从第二层膜220层叠以涂覆第二层膜220到第五层膜250。
也就是说，第二层膜220用第一二氧化钛涂覆，第三层膜230用第一二氧化硅涂覆，第四层膜240用第二二氧化钛涂覆，以及第五层膜250用第二氧化硅涂覆。这时，涂覆材料的次序的规定(如第一和第二)是为了区别一层与另一层，以及因此，其涂覆材料是相同的材料。相同的应用用在其后的其他次序中。
在第一Al2O3用于第一层膜210的情况下，第二层膜被二选一地用二氧化钛和Al2O3层叠以涂覆第二层膜220到第五层膜250。也就是说，第二层膜220被涂覆第一二氧化钛，第三层膜230被涂覆第二Al2O3，第四层膜240被涂覆第二二氧化钛，以及第五层膜250被涂覆第三Al2O3。
各层膜的厚度可以通过光的波长来确定以防止光的反射，使得为防止光反射的光波长被限制在450nm～650nm的可见光波长范围内以确保对使用者的透明度。
因此，优选地，通过在透明电极图案110的上表面和刻蚀表面120的上表面设置相同厚度的膜层来实现防止相同光波长的光的反射。将基于示例性实施例在之后描述各个膜的厚度。
<第二示例性实施例>
如图2b所示，具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜的第二示例性实施例包括：形成有透明电极图案110的传导膜10和从传导膜10上的透明电极图案110沿相反方向涂覆的多个抗反射涂层膜20。
与在第一示例性实施例中相同，多个抗发射涂层膜20包括：第一层膜210、第二层膜220、第三层膜230、第四层膜240和第五层膜250，各层膜从与传导膜10接触的表面顺序地形成，用于防止光反射，其中相同的标记被用于相同和相应的同一层的膜。
在第二示例性实施例中，多个抗反射涂层膜20形成在形成有透明电极图案110的传导膜10的后表面上，使得各层的膜的材料、各个膜的层数、以及各个膜的厚度与第一示例性实施例相同。
<第三示例性实施例>
具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜10的第三示例性实施例是这样一种构造，其中多个抗反射涂层膜20被涂覆到所有前表面和后表面以进一步增加透射率和降低反射率，如图2c所示。
在第三示例性实施例中，多个抗反射涂层膜20形成在形成有透明电极图案110的传导膜10的前表面和后表面上，使得各层的膜的材料、各个膜的层数、以及各个膜的厚度(稍后描述)与第一和第二示例性实施例相同。
<试验例>
图3示出根据本发明的具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜的各个示例性实施例的光透射率的图表。
在示例性实施例中，透明电极图案110形成在传导膜10上作为测试图案，其中透明电极图案110和刻蚀表面120均被设置为具有3cm的厚度。如图3所示，可以注意到，在表1到6的条件下，高透射率(T％)几乎全出自于从光波长是450nm～650nm。
在作为传导膜的基膜的第一层膜210由一氧化硅制成的情况下，在具有高透射率的传导膜(传导膜10的前涂覆)的第一示例性实施例中的抗反射膜的各层的各个膜的厚度提供在下表1中，其中膜的次序是基于该层的膜的厚度变化的试验性次序。
<表1>
此外，在作为传导膜的基膜的第一层膜210由二氧化硅制成的情况下，在具有高透射率的传导膜(传导膜10的前涂覆)的第一示例性实施例中的抗反射膜的各层的各个膜的厚度提供在下表2中，其中膜的次序是基于该层的膜的厚度变化的试验性次序。
<表2>
此外，在作为传导膜的基膜的第一层膜210由Al2O3制成的情况下，在具有高透射率的传导膜(传导膜10的前涂覆)的第一示例性实施例中的抗反射膜的各层的各个膜的厚度提供在下表3中，其中膜的次序是基于该层的膜的厚度变化的试验性次序。
<表3>
此外，在作为传导膜的基膜的第一层膜210由一氧化硅制成的情况下，在具有高透射率的传导膜(传导膜10的后涂覆)的第二示例性实施例中的抗反射膜的各层的各个膜的厚度提供在下表4中，其中膜的次序是基于该层的膜的厚度变化的试验性次序。
<表4>
此外，在作为传导膜的基膜的第一层膜210由二氧化硅制成的情况下，在具有高透射率的传导膜(传导膜10的后涂覆)的第二示例性实施例中的抗反射膜的各层的各个膜的厚度提供在下表5中，其中膜的次序是基于在各层的膜的厚度变化的试验性的次序。
<表5>
此外，在作为传导膜的基膜的第一层膜210是Al2O3的情况下，在具有高透射率的传导膜(传导膜10的后涂覆)的第二示例性实施例中的抗反射膜的各层的各个膜的厚度提供在下表6中，其中膜的次序是基于该层的膜的厚度变化的试验性次序。
<表6>
<制造具有高透射率传导膜的方法>
图4是顺序地示出制造根据本发明的具有高透射率和多个抗反射涂层膜20的传导膜的方法的流程图。
参照图4，在传导膜10上形成透明电极图案110传导膜(S100)。然后，在传导膜10的至少一个表面(前表面或/和后表面)上形成多个抗反射涂层膜20传导膜(S200)，由此，执行制造根据本发明的具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜方法。
然而，多个抗反射涂层膜20可以通过从以下组中选择的任意一种方法涂覆：真空沉积法(溅射法、电子束法)、喷射法和湿法，并且具体地，在使用真空沉积法的情况下，必须仔细注意，因为所涂覆的膜的厚度随基板(如ITO膜)的温度而变化。
这时，形成多个抗反射涂层膜的步骤(S200)包括：用一氧化硅和二氧化硅中的任意一种涂覆基膜(S210)，在基膜上涂覆第一二氧化钛膜(S220)，在第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜(S230)，在第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜(S240)，以及最后在第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜(S250)，由此，根据本发明进行了在传导膜10上涂覆多个抗反射膜20。
<具有高透射率的触摸面板>
图5a到5c是示出形成有根据本发明的第一、第二和第三示例性实施例的具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜20的触摸面板，其中显而易见的是，因为图5a到5c示出的使用具有高透射率的传导膜的各种示例性实施例中的一些示例性实施例制造的触摸面板，所以可以进行各种修改。
也就是说，光学胶(OCA)膜30可以形成在多个抗反射涂层膜20上，其中传导膜10在多个抗反射涂层膜20之间，或形成在传导膜10上，其中传导膜10在抗反射涂层膜20之中。如图5a所示的触摸面板的第一示例性实施例，通过静电电容法，光学胶30可以被熔合在多个抗反射涂层膜20上以作为触摸面板的第一层。
当然，透明电极图案110形成在沿一个方向的轴和与所述沿一个方向的轴垂直的轴上，从而基于触摸位置所引起的静电电容改变而知道触摸位置。此外，OCA30是光学胶并且同时是减压压敏粘合剂。
如图5b所示的触摸面板的第二示例性实施例，各个透明电极图案110形成在传导膜10的沿一个方向的轴和与所述沿一个方向的轴垂直的轴上，多个抗反射涂层膜210、220、230、240、250形成在各个透明电极图案上，并通过OCA30熔合以配置静电电容法的触摸面板的第二层。
如图5c所示的触摸面板的第三示例性实施例，形成有透明电极图案110的传导膜10形成在空气间隙A上和下，并且空气间隙A插置在其间，以实现静电电容法的触摸面板。当然，显而易见的是，多个抗反射涂层膜210、220、230、240、250被涂覆在各个传导膜10上以通过防止光的反射实现具有高透射率的触摸面板。
此外，图5c的触摸面板的第三示例性实施例可以包括垫片S，为了使形成有透明电极图案110的传导膜10可以保持空气间隙A，可以包括垫片S，垫片S通过被插置在传导膜10的顶部和底部之间熔合传导膜10的顶部和底部。
此外，垫片S可以包括银电极(未示出)和双面OCA(未示出)。其详细配置由于是现有技术而被省略。另外，形成在传导膜的顶部或传导膜底部的点垫片D可以被增加以使得传导膜10对外部触摸力更排斥。
<制造具有高透射率的触摸面板的方法>
图6是顺序地示出根据本发明的示例性实施例制造的形成有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜20的触摸面板的方法的流程图。
参照图6，传导膜10形成有透明电极图案110(S300)。然后，在传导膜10的至少一个表面上形成多个抗反射涂层膜以防止光的反射(S400)。
最后，在多个抗反射涂层膜的上表面上形成光学胶(OCA)膜，其中多个抗反射涂层膜插置在传导膜之间，或在传导膜的上表面形成OCA膜，其中传导膜插置在多个抗反射涂层膜之间(S500)，其中形成抗反射涂层膜的步骤(S400)还包括用一氧化硅和二氧化硅之一涂覆基膜(S410)，在基膜上涂覆第一二氧化钛膜(S420)，在第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜(S430)，以及在第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜(S440)，和在第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜(S450)。
提供本发明的以上描述，以使本领域的任意技术人员能够制造或使用本发明。本法明的各种修改对本领域的技术人员是显而易见的，并且在不脱离本发明的精神和范围的情况下，本文限定的一般原理可以用于其它变型。因此，本发明不意在限制本文描述的例子，而是符合与本文公开的原理和新颖特征一致的最宽的范围。
工业应用性
本发明的工业应用性在于可以实现能够提高ITO膜的透射率的传导膜以及触摸面板。

Claims (19)

1.一种具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜，包括：
形成有透明电极图案的传导膜；以及
形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射膜，
其中，所述多个抗反射膜是将基膜、第一二氧化钛膜、第一二氧化硅膜、第二二氧化钛膜和第二二氧化硅膜依次涂覆在所述一个表面上而形成的，以及其中用一氧化硅涂覆所述基膜，
其中，所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜是以及所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
2.一种具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜，包括：
形成有透明电极图案的传导膜；以及
形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射膜，
其中，所述多个抗反射膜是将基膜、第一二氧化钛膜、第一二氧化硅膜、第二二氧化钛膜和第二二氧化硅膜依次涂覆在所述一个表面上而形成的，以及其中用二氧化硅涂覆所述基膜，
所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
3.一种具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜，包括：
形成有透明电极图案的传导膜；以及
形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射膜，
其中所述多个抗反射膜是将第一Al2O3膜、第一二氧化钛膜、第二Al2O3膜、第二二氧化钛膜以及第三Al2O3膜依次涂覆在所述一个表面上形成的，
其中，第一Al2O3膜的厚度是第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第二Al2O3膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是以及所涂覆的第三Al2O3膜的厚度是
4.根据权利要求1或2或3所述的传导膜，其中所述传导膜是ITO膜、ATO膜和AZO膜中的任意一种。
5.根据权利要求1或2或3所述的传导膜，其中所涂覆的基膜和所涂覆的第一Al2O3膜的与空气的相对折射率是1.4～2.1。
6.根据权利要求1或2或3所述的传导膜，其中，所述具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜是通过真空沉积法、喷射法和湿法之一的方法涂覆的膜。
7.根据权利要求1或2或3所述的传导膜，其中光的波长是450nm～650nm。
8.一种使用具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜的触摸面板，所述触摸面板包括：
形成有透明电极图案的传导膜；以及
形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射涂层；以及
形成在下面形成有所述传导膜的所述多个抗反射涂层膜上的光学胶膜，或形成在所述传导膜的上表面上的光学透明压敏粘合剂膜，其中形成在所述传导膜的上表面上的所述光学胶膜被插置在所述多个抗反射涂层膜之间，
其中，所述多个抗反射涂层是将基膜，第一二氧化钛膜、第一二氧化硅膜、第二二氧化钛膜以及第二二氧化硅膜依次涂覆在所述一个表面上而形成的，以及其中所述基膜由一氧化硅涂覆而成，
所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是以及所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
9.一种使用具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜的触摸面板，所述触摸面板包括：
形成有透明电极图案的传导膜；以及
形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射涂层；以及
形成在下面形成有所述传导膜的所述多个抗反射涂层膜上的光学胶膜，或形成在所述传导膜的上表面上的光学透明压敏粘合剂膜，其中形成在所述传导膜的上表面上的所述光学胶膜被插置在所述多个抗反射涂层膜之间，
其中，所述多个抗反射涂层是将基膜，第一二氧化钛膜、第一二氧化硅膜、第二二氧化钛膜以及第二二氧化硅膜依次涂覆在所述一个表面上而形成的，以及其中所述基膜由二氧化硅涂覆而成，
所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
10.根据权利要求8或9所述的触摸面板，其中所述光学胶膜是减压型压敏粘合剂。
11.根据权利要求8或9所述的触摸面板，其中以多种方式提供所述传导膜、所述多个抗反射膜和所述光学胶膜。
12.根据权利要求11所述的触摸面板，其中所述多个传导膜包括上部传导膜，其中每个透明电极图案面对着其他透明电极图案，和底部传导膜，其中每个透明电极图案面对着其他透明电极图案。
13.根据权利要求12所述的触摸面板，其中预定尺寸的空气间隙形成并保持在所述上部传导膜和所述底部传导膜之间。
14.根据权利要求13所述的触摸面板，还包括插置在所述上部传导膜和所述底部传导膜之间的垫片以熔合所述上部传导膜和所述底部传导膜。
15.根据权利要求13所述的触摸面板，还包括形成在所述上部传导膜或底部传导膜上的多个点垫片。
16.一种制造具有高透射率和多个抗反射涂层膜(20)的传导膜的方法，该方法包括：
在传导膜上形成透明电极图案；以及
在所述传导膜的至少一个表面上形成用于防止光的反射的多个抗反射涂层膜，
其中，形成所述多个抗反射涂层膜的步骤包括使用一氧化硅涂覆基膜，在所述基膜上涂覆第一二氧化钛膜，在所述第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜，在所述第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜，在所述第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜，
其中，所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜是以及所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
17.一种制造具有高透射率和多个抗反射涂层膜(20)的传导膜的方法，该方法包括：
在传导膜上形成透明电极图案；以及
在所述传导膜的至少一个表面上形成用于防止光的反射的多个抗反射涂层膜，
其中，形成所述多个抗反射涂层膜的步骤包括使用二氧化硅涂覆基膜，在所述基膜上涂覆第一二氧化钛膜，在所述第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜，在所述第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜，在所述第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜，
所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
18.一种使用具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜制造触摸面板的方法，该方法包括：
在传导膜上形成透明电极图案；以及
在所述传导膜的至少一个表面形成用于防止光的反射的多个抗反射涂层膜；以及
在所述多个抗反射涂层膜的上表面上形成光学胶膜，其中所述多个抗反射涂层膜被插置在所述传导膜之间，或在所述传导膜的上表面上形成光学胶膜，其中所述传导膜被插置在所述多个抗反射涂层膜之间，
其中，形成所述多个抗反射涂层膜的步骤包括用一氧化硅涂覆基膜，在所述基膜上涂覆第一二氧化钛膜，在所述第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜，在所述第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜，在所述第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜，
其中，所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜是以及所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
19.一种使用具有高透射率和多个抗反射涂层膜的传导膜制造触摸面板的方法，该方法包括：
在传导膜上形成透明电极图案；以及
在所述传导膜的至少一个表面形成用于防止光的反射的多个抗反射涂层膜；以及
在所述多个抗反射涂层膜的上表面上形成光学胶膜，其中所述多个抗反射涂层膜被插置在所述传导膜之间，或在所述传导膜的上表面上形成光学胶膜，其中所述传导膜被插置在所述多个抗反射涂层膜之间，
其中，形成所述多个抗反射涂层膜的步骤包括用二氧化硅涂覆基膜，在所述基膜上涂覆第一二氧化钛膜，在所述第一二氧化钛膜上涂覆第一二氧化硅膜，在所述第一二氧化硅膜上涂覆第二二氧化钛膜，在所述第二二氧化钛膜上涂覆第二二氧化硅膜，
所涂覆的基膜的厚度是所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第一二氧化硅膜的厚度是所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是
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