CN1328269A - 反射式液晶显示元件用基底 - Google Patents

Abstract

提供一种反射式液晶显示元件用基底,具有多层电介质膜(反射镜),其层数可比根据传统技术的少由此可在更短的时间内形成,并可在可见光范围内获得一期望平面的稳定的光学特性,此外还可防止用于反射引起的着色。该反射镜形成于一透光基底之上,其由一预定数目的交替层迭于所述透光基底上的高折射率第一透光膜和低折射率第二透光膜组成。

Description

反射式液晶显示元件用基底

本发明涉及反射式液晶显示元件用基底，更具体地，涉及不完全透射光的反射式液晶显示元件所用的基底。

近年来，为使便携式电子装置更薄更轻，还为延长电池作为电源的工作时间，已开始使用利用外部光和具有低功率消耗特点的反射式液晶显示元件。已提出的这样一种反射式液晶显示元件为半透射式液晶显示元件，其使用半透射板作为反射板，且既可在亮处用作反射式液晶显示元件，又可在暗处采用逆光用作透射式液晶显示元件(见日本公开专利号11-002709)。

在用于该半透射式液晶显示元件的液晶显示元件基底所具有的结构中，液晶层居于一对提供有液晶驱动电极的透光基底之间，且该液晶层的光散射通过施加于该液晶层上的电压的大小来控制。而且，在基底背面覆盖有多层半透明反射板，该多层半透明反射板的每一个都由一例如铝的金属薄膜形成。该薄金属膜被做得足够薄以便透射部分光线。

此外，最近，已由本申请的受让人提出一种用于反射式液晶显示元件的基底，该基底具有替代形成所述半透射反射板的薄金属膜的、由一预定数量的彼此层叠的透光膜(transparent film)构成的多层电介质膜，且这些透光膜由彼此具有不同折射率的两种电介质材料所制成(见申请号为2000-204952的日本专利，其基于申请号为11-32689的日本专利要求优先权。

然而，根据上述具有多层电介质膜的反射式液晶显示元件，在可见区的光反射频谱或光透射频谱上可能会出现波纹，所造成的问题是不能总是获得一所期望的平面的光学特性，且可能会由于出现反射光而着色(coloring)。

此外，通过制作例如量级为数十至数百的所述层数的多层电介质膜，可使设计光学特性的自由程度增加，由此有可能设定规范来抑制波纹的产生，但有一个问题是随着层数的增加，需要用来建层的时间会增加到工业上不切实际的程度。

本发明的目的是提供一种用于具有多层电介质膜的反射式液晶显示元件的基底，该反射式液晶显示元件的电介质膜的层数可比根据传统技术的少，由此可在更短的时间内制成，且该反射式液晶显示元件可在可见光范围内获得一期望平面的稳定的光学特性，此外还可防止由于反射和透射而出现着色。

为达到上述目的，本发明提供一种用于反射式液晶显示元件的基底，其包括一透光基底，一形成于该透光基底上的反光镜，其中，该反光镜由一预定数目的交替层积于所述透光基底的高折射率第一透光膜和低折射率第二透光膜组成，且其中该第一透光膜和第二透光膜中的一个或两者都制成为使得其薄膜厚度随距该透光基底的距离的增加而逐渐增加或逐渐减小。

根据上述构成，因为是由高折射率第一透光膜和低折射率第二透光膜交替层迭来形成多层电介质膜，从而可减小该多层电介质膜的层数，于是就可能在更短时间内制成该多层电介质膜，降低费用，并可很容易地开展大规模生产。而且，由于该高折射率透光膜和低折射率透光膜中的一个或两者都制成为使得其薄膜厚度随距该透光基底的距离的增加而逐渐增加或逐渐减小，因此可在可见光范围内平稳地获得一期望平面的光学特性，且还可防止出现由于反射引起的着色。

第一透光膜最好制成为使得其薄膜厚度随距该透光基底的距离的增加而逐渐增加或逐渐减小。

所述预定数目最好在3-14的范围内。

所述预定数目最好为3或4。

最好是每个第一透光膜在波长为550nm处的折射率至少为1.8，每个第二透光膜层迭于一第一透光膜之上且在波长为550nm处的折射率不超过1.5。结果是，可提高光的使用效率，而且由于在任一透光膜中均未使用薄金属膜，因此，对输入进该透光传导膜的信号来说，可消除引起信号延迟的可能性。

最好是第一透光膜由以二氧化钛为主要成分的高折射率材料制成，第二透光膜以二氧化硅为主要成分的低折射率材料制成。结果是，可增加高折射率透光膜和低折射率透光膜间的折射率的差值，从而可更加确信地获得一期望平面的光学特性。

最好是，该用于反射式液晶显示元件的基底还包括以二氧化硅为主要成分、层迭于透光基底上的基膜。结果是，可提高透光基底和最接近该透光基底的透光膜间的粘着力，截取从该透光基底浸出的杂质，由此可获得碱性钝化效应。

最好是，离该透光基底最远的一个第一透光膜为以二氧化钛为主要成分的光催化活性膜。结果是，可很容易地从该反射镜除去污垢，由此使该反射镜保持干净，而且能提高与滤色镜的粘着力。

最好是，用于反射式液晶显示元件的该基底还包括以二氧化硅为主要成分、覆盖于一个第一透光膜上的亲水薄膜。结果是，可减轻其疏水性，从而可有效地使用水洗涤液进行清洗。

最好是，用于反射式液晶显示元件的该基底还包括被轧成薄片置于该透光基底和基膜之间的透光粗糙散射层。结果是，该基底中的反射光被散射以在一特定范围的可视角内得到均匀的反射强度。

结合附图，根据以下的详细说明中，本发明的上述和其它的目的、特点和优点将会变得很明显。

图1A、1B为示出根据本发明的实施例的用于反射式液晶显示元件的基底的示意性结构的截面图；具体地：

图1A示出一用于反射式液晶显示元件的代表性的基底；

图1B示出一用于反射式液晶显示元件的基底的应用实例；

图2为示出使用该反射式液晶显示元件基底1制造的一彩色液晶显示元件的实例的示意性结构的截面图；

图3为示出用于制造反射式液晶显示元件用基底的制造装置的实例的结构的示意图；

图4A、4B为示出高折射率透光膜4和低折射率透光膜5随距表1所示实例中的透光基底2的距离的增加逐渐增加的情况的曲线图；具体地：

图4A示出例5的情形；

图4B示出例13的情形；

图5A、5B为示出高折射率透光膜4和低折射率透光膜5随距表1所示实例中的透光基底2的距离的增加而逐渐减小的情况的曲线图；具体地：

图5A示出例6的情形；

图5B示出例14的情形；

图6A、6B为示出表2中的比较例中的高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的膜厚的曲线图；具体地：

图6A示出比较例1的情形；

图6B示出比较例2的情形；

图7为示出表1所示的例5的光学特性的曲线图；

图8为示出表1所示的例6的光学特性的曲线图；

图9为示出表1所示的例13的光学特性的曲线图；

图10为示出表1所示的例14的光学特性的曲线图；

图11为示出表2所示的例27的光学特性的曲线图；

图12为示出表2所示的例28的光学特性的曲线图；

图13为示出表2所示的比较例1的光学特性的曲线图；

图14为示出表2所示的比较例2的光学特性的曲线图。

以下将参考附图描述本发明的实施例。

本发明的发明人经过刻苦的研究达到了上述目的，结果发现，在用于包括一在透光基底上形成的反射镜的反射式液晶显示元件的基底中，其中，该反射镜由交替层迭于该透光基底的一预定数目的高折射率透光膜(第一透光膜)和低折射率透光膜(第二透光膜)组成，如果该高折射率透光膜和低折射率透光膜中的一个或两者都制成为使得其薄膜厚度随距该透光基底的距离的增加而逐渐增加或逐渐减小，则在可见光范围内(400nm-700nm)的最大光反射率和最小光反射率间的差值会变小，并因此可在整个可见光范围内平稳地获得一期望平面的光学特性，且还可防止由于反射和透射而出现着色。

本发明是基于上述的发现而完成的。

以下将参考图1A、1B描述根据本发明实施例的用于反射式液晶显示元件的基底。

图1A、1B为示出根据本发明的实施例的用于反射式液晶显示元件的基底的示意性结构的截面图。图1A示出典型实例，而图1B示出其应用实例。

根据图1A所示的反射式液晶显示元件基底，一预定数目m(这里m为一正整数)的高折射率透光膜4(第一透光膜)和低折射率透光膜5(第二透光膜)交替层迭于透光基底2上，其中，透光膜4由为展现低光吸收特性的电介质的高折射率材料制成，透光膜5由为展现低光吸收特性的电介质的低折射率材料制成。

通常透光基底2使用在波长为550nm处的折射率大约为1.50到1.55的硅酸盐玻璃，也有使用钠钙硅酸盐玻璃、无碱玻璃(例如由NH Techno Glass公司生产的NA35玻璃或由旭硝子株式会社生产的AN635玻璃)或低碱玻璃的特殊实例，但并不限于这些种类，还可使用透光塑料或类似物。

通过将高折射率透光膜4和低折射率透光膜5交替层迭在透光基底2上形成多层电介质膜反射镜6，透镜膜4和5的总层数为m。该多层电介质膜反射镜6用作反射光的反射膜。通过适当地设定高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的厚度及该预定数目m，可将光透射率和光反射率设定为期望值。

该多层电介质膜反射镜6的透光膜4、5被制成为其膜厚度随距透光基底2的距离的增加逐渐增加。而且，作为替换例，还可将透光膜4、5排列为其膜厚度随距透光基底2的距离的增加逐渐减小，或者仅将高折射率透光膜4排列为其膜厚度随距透光基底2的距离的增加逐渐增加，或仅将高折射率透光膜4排列为其膜厚度随距透光基底2的距离的增加逐渐减小。通过以该方式排列透光膜4、5，在整个可见区域(400-700nm)的范围内，光反射率(light reflectance)和光透射率(light transmittance)的最大值与最小值间的差值变小，并有可能获得一期望平面的光学特性，防止由于反射和透射而引起的着色。考虑到该多层电介质膜反射镜6预防由于反射和透射而引起的着色的效果，且还为了降低需要用来建层的时间并由此易于进行大规模生产，该预定数目m最好在3-14的范围内。

由于上述原因，所层迭的高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的总数最好为3-14，但为使光反射率曲线更平且更进一步改进防止着色的效果，m最好至少为6，为更易于大规模生产，m最好不超过12。此外，如果注重于进一步降低建层所需的时间，由此来使大规模生产更易于进行的话，则m最好为3或4。

根据该用于反射式液晶显示元件的基底所要求的设计规范(其取决于应用等)设定上述的光透射率和光反射率。例如，光反射率设定在5-95％的范围内；如果该液晶显示元件被用作在相对较亮环境中的反射式液晶显示元件，则光反射率被设定为较高值(65-95％)，而如果该液晶显示元件被用作在相对较暗环境中的透射式液晶显示元件，则光反射率被设定为较低值(5-45％)。如果光反射率被设定在45-65％的范围，则可制作既适于用作反射式又适于用作透射式的液晶显示元件。

高折射率透光膜4和低折射率透光膜5之间的折射率的差值越大越好。在高折射率透光膜4中的高折射率材料最好使用具有低的光吸收性能且折射率至少为1.8的电介质材料。具体地，可使用二氧化钛(TiO₂)、二氧化锆、二氧化钽、二氧化铪及类似物，但在这些材料中，最好使用二氧化钛。注意：为降低形成该多层膜时产生的应变以及改进化学稳定性，还可使用二氧化钛作为主要成分，但还加入少量的一种或多种上述其它的电介质材料。

最好使用具有低的光吸收特性和不高于1.5的折射率的电介质材料作为用于低折射率透光膜5中的低折射率材料。具体地，使用二氧化硅(SiO₂)，但为降低形成该多层膜时产生的应变以及改进化学稳定性，还可使用二氧化硅作为主要成分，但还加入少量的二氧化铝或类似的材料。

离透光基底2最远的高折射率透光膜4最好是以二氧化钛为主要成分的光催化活性膜；该高折射率透光膜4用作光催化膜。二氧化钛通常具有污垢去除效应，其中有机物质通过该二氧化钛的光催化作用被分解(通过氧化作用)。由此产生以下结果，即使低折射率透光膜5被覆盖作为多层电介质膜反射镜6的最外层，在制作用于反射式液晶显示元件的基底期间，在将滤色镜8(见图2)覆盖于该多层电介质膜反射镜6之上以前，可使用紫外线进行辐射，由此，可容易地将污垢从该多层电介质膜反射镜6上去除，使该多层电介质膜反射镜6保持干净，还可提高到滤色镜8的粘着力。注意，除主要成分二氧化钛外，还可包括其它材料作为次要成分，如铁、铌和铝。

而且，如图1B所示，最好将以一二氧化硅为主要成分的亲水薄膜3覆盖于该多层电介质膜反射镜6的最外层之上。即使该高折射率透光膜被覆盖作为该多层电介质膜反射镜6的最外层，也有一个缺点在于当该多层电介质膜反射镜6的表面被空气中的有机物质污染后，难以使用水洗涤剂清洗干净。由此可通过在该最外层高折射率透光膜4之上覆盖该亲水薄膜3来减轻疏水性，由此，确保使用水洗涤剂清洗有效。为确保不丧失在紧邻该亲水薄膜3之下覆盖的高折射率透光膜4的光催化作用，该亲水薄膜的厚度最好不超过10nm。

也可将以二氧化硅作为主要成分的基膜3a覆盖于透光基底2之上，另外，也可将主要由松香，如丙烯酸松香、聚酰亚氨松香、环氧树脂松香或类似材料组成的透光粗糙散射层15覆盖于透光基底2和基膜3a之间。该基膜3a提高了透光基底2或透光粗糙散射层15与最内层高折射率透光膜4间的粘着力，且在透光基底2为钠钙玻璃材料的情况下，还可防止来自从该透光基底2浸出的钠离子的污染。此外，如果将一透光塑料基底用作该透光基底，则可能从该透光基底2中浸出水分，在这种情况下，所用的基膜3a最好覆盖于由聚硅氧烷形成的一硬涂层之上。

透光粗糙散射层15在其表面上有微小的不规则形成，通过这些表面的不规则性，可散射基底中的反射光以在一特定范围的可视角内得到均匀的反射强度。透光粗糙散射层15的折射率最好与透光基底2的折射率大体相同。

图2为示出使用图1B的反射式液晶显示元件基底1制作的彩色液晶显示元件的实例的结构的示意性截面图。

在图2中，由以马赛克工艺镶嵌的红、绿和蓝单元组成的滤色镜8覆盖于多层电介质膜反射镜6之上。在该滤色镜8之上覆盖有用于保护该滤色镜8的外涂层9，由ITO或类似材料制成的透光传导膜10覆盖于外涂层9之上。提供一玻璃面板12作为距透光基底12最远的最外层，且在该玻璃面板2之内覆盖有由ITO或类似材料制成的透光传导膜10a。一液晶层11位于透光传导膜10和透光传导膜10a之间。此外，在液晶层11的外围提供有密封剂13，使得液晶不会泄漏出去。注意，在本实施例中，在研究高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的层数和其膜厚度的取值时，使用一光学上等同于一由滤色镜8、外涂层9、透光传导膜10和10a、液晶层11和密封剂13组成的薄层的一假定层(匹配层14)替换该薄层。根据外涂层9、液晶层11等的类型在1.50-1.55的范围内任意选取该匹配层14的折射率的取值，但对本实施例来说，所计算的适当的值为1.52。

用于形成高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的主要方法为已知的汽相沉积法，已知的离子电镀法和已知的溅射法，当然，也可使其它的方法。当使用汽相沉积法形成高折射率透光膜4和低折射率透光膜5时，使用石英玻璃片、二氧化钛烧结体和二氧化锆烧结体作为沉积材料，同时从外部送进适当量的氧气来进行汽相沉积。使用溅射法时，使用石英玻璃作为靶子来进行射频溅射，或由钛金属与氧起化学反应来进行溅射。

图3为示出用于制造图1B的反射式液晶显示元件基底的制造装置的实例的结构的示意图。

图3所示的制造装置为一圆柱形溅射膜形成装置。一钛金属靶303插到一阴极302上，一石英玻璃靶插到另一阴极302上。为上述透光基底的多个玻璃基底305插到一具有旋转轴的圆柱形基底支架301的外围表面。通过旋转该基底支架301，就会在每个玻璃基底305上沉积多层电介质膜反射镜6。具体地，当玻璃基底305经过该钛金属靶303表面的前方时，会形成作为高折射率透光膜4的二氧化钛膜，当玻璃基底305经过石英玻璃靶304表面的前方时，会沉积作为低折射率透光膜5或亲水薄膜3的二氧化硅薄膜。通过交替向钛金属靶303和石英玻璃靶304施加电压，可交替层迭二氧化钛膜和二氧化硅膜。

对二氧化钛膜沉积来说，在总气压为0.4Pa的氧、氩各占50％体积的气体内使用直流反应溅射方法。该总压力可在0.1至1Pa的范围内变化。适当设置氧的百分比使所获得的二氧化钛不会大量地吸收光。对二氧化硅膜沉积来说，在总气压为0.4Pa的氩气气体中使用射频溅射方法。

在沉积高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的期间，不必加热玻璃基底305，但当其由加热时不退化的玻璃，如硅酸盐玻璃制成时，可被加热到大约400°。此外，可通过加热提高最外层高折射率透光膜4的光催化活性程度，为将光催化活性程度提高到一实际上有用的程度(即，可防止弄脏的程度)，较好的是所沉积的最外层的厚度至少为10nm，更好为至少20nm。实施例

以下将描述本发明的实施例。

首先，在一玻璃透光基底2(折射率152)上形成一多层电介质膜反射镜6，该玻璃透光基底2由钠钙玻璃材料(主要为质量占72％的SiO₂，13％Na₂O，8％的CaO，1.8％的Al₂O₃，0.9％的K₂O)制成，所述多层电介质膜反射镜6通过使用上述的制造设备在上述的膜沉积条件下沉积高折射率透光膜4和低折射率透光膜5而形成，对二氧化钛(TiO₂)膜来说为总气压为0.4Pa的体积占50％的氧气和体积占50％的氩气气体，对二氧化硅(SiO₂)来说为总气压为0.4Pa的氩气气体，且沉积的层数和其厚度如表1和表2所示。这样，就制备好了表1、2(例1至30和比较例1和2)所示的示例。

注意，在本实施例中，在表1和2中所示的实例为使用匹配层14(折射率1.52)形成的假定光学多层体，该匹配层替代应覆盖于多层电介质膜反射镜6之上的由滤色镜8、外涂层9、透光传导膜10和10a、液晶层11和密封剂13形成的薄层，其中，匹配层14在光学上与该薄层等效，然后在该匹配层14之上覆盖一玻璃面板12(折射率1.50)。以该方式形成的假设光学多层体大体等效于相应的实际反射式液晶显示元件。

表1

    (基底侧)←                                                                                              →<外侧>

表2

    <基底侧>←                                                                                     →<外侧>

在表1和表2中，“层数m”表示高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的总层数，“膜材料/膜厚(单位：nm)”表示沉积的膜的次序，及每层膜的材料和厚度。

在表1和2所示的实例1、3、5、7、9、11、13、15、18、19、20和29中，将高折射率透光膜4和低折射率透光膜5都排列为使得其膜厚度随距透光基底2的距离的增加而逐渐增加。特别地，这些膜厚的改变方式如例5的图4A和例13的图4B所示。另一方面，在表1和2所示的例2、4、6、8、10、12、14、16、17和30中，将高折射率透光膜4和低折射率透光膜5都排列为使得其膜厚度随距透光基底2的距离的增加而逐渐减小。特别地，这些膜厚的改变方式如例6的图5A和例14的图5B所示。

此外，在例21、23、25和27中，仅将高折射率透光膜4设置为使得其膜厚度随距透光基底2的距离的增加而逐渐增加，相反地，在例22、24、26和28中，仅将高折射率透光膜4设置为使得其膜厚度随距透光基底2的距离的增加而逐渐减小。

在表2中的比较例1和2中，不以任一特定的方式对其膜厚度加以控制地来建立高折射率透光膜4和低折射率透光膜5，。这些膜厚度的改变方式如图6A和图6B所示。

在例17和18中，以SiO₂为主要成分的基膜3a沉积于透光粗糙散射层15和多层电介质膜反射镜6之间。在例1、13至16、19、20、27和28中，建成TiO₂膜作为该多层电介质膜反射镜6的最外层。在这些实例中的实例19和20中，在最外层TiO₂之上建有薄SiO₂膜。在每个实例中，离透光基底2最远的TiO₂膜作为具有光催化作用的光催化膜。此外，在例19和20中，所建成的作为最外层的SiO₂膜用作亲水薄膜。

对上述每个示例，从一个表面辐射出可见光，在对应于红光成分、绿光成分和蓝光成分的波长处测量该可见光的光透射率(％)和光反射率(％)。测量结果如表3和4所示。

表3

表4

在表3和表4中，光透射率(％)表示在对应于红光(R)成分(640nm)、绿光(G)成分(530nm)和蓝光(B)成分(460nm)的波长处透射穿过该样品的可见光的百分比；光反射率(％)表示在对应于红光成分、绿光成分和蓝光成分的波长处由该样品反射的可见光的百分比。ΔR和ΔT分别表示光反射率和光透射率的最大值和最小值(即，波纹的尺寸)之间的差值。

由表3和4可以看出，通过如在表1和2中设定所重叠的高折射率透光膜4和低折射率透光膜5的层数及其厚度，对每个实例1至30，在对应于可见光的红光成分、绿光成分和蓝光成分的每一个的波长处，光学反射率的最大值和最小值间的差值不超过10％。

以下参考图7-14描述本发明的实例和比较例的用于反射式液晶显示元件的基底的光学特性。

图7为示出表1所示的实例5的光学特性的曲线图。同样，图8、9和10为示出分别示于表1的实例6、13和14的光学特性的曲线图。

图11为示出表2所示的实例27的光学特性的曲线图。同样，图12、13和14分别为示出表2所示的实例28、比较例1和比较例2的光学特性的曲线图。如在图7-14中所示的光学特性中，示出沿纵坐标绘出的0°入射角的光学反射率(％)和沿横坐标的波长(nm)的关系。

如图7-12所示，在可见光范围内，每个实例5、6、13、14、27和28的光学特性基本上是平的，没有明显的波纹出现。相反地，比较例1(图13)和比较例2(图14)的光学特性都不是平的，在这两种情况下，在可见光区域内都有波纹出现。

接着，测量上述实例1、13至16、19和20及上述比较例1的光催化作用的程度、亲水性及与滤色镜8的粘着力。结果如表5所示。

表5

将三油精施加于每个除去匹配层14和玻璃面板12的上述样品的多层电介质膜反射镜6的最外层的表面之上，使用黑光进行24小时的强度为3mW/cm²的紫外线辐射。表5中的“残留三油精”表示在辐射后在上述最外层的表面剩余的三油精的百分数。该图越低，则除去污垢及类似物的净化效果越好。表5中的“接触角”为使用黑光向该表面辐射30分钟强度为3mW/cm²的紫外线后，当水滴滴在多层电介质膜反射镜6的最外层的表面之上时的接触角。该图越低，则亲水性越高。

关于与滤色镜的粘着力，在每个上述示例的多层电介质膜反射镜6之上都形成一滤色镜8，然后使用带测试来估算多层电介质膜反射镜6和该滤色镜8间界面处的粘着力。有4个估算等级，具体地，“◎”表示一点都没有剥离，“○”表示总面积的0到1％被剥离，“△”表示总面积的1％到3％被剥离，“×”表示多于3％的总面积被剥离。

如表5所示，将实施例1和13-16的每一个与比较例1相比，前者的残留三油精的百分比较低，且可获得与滤色镜8的充分的粘着，其中，对于实施例1和13-16，光催化活性TiO₂膜被覆盖作为最外层。而且，将实施例19和20与比较例1相比，也是前者的残留三油精的百分比和接触角较小，且可获得与滤色镜8的充分的粘着，其中，对于实施例19和20，厚度不超过10nm的为亲水薄模的SiO₂被覆盖于光催化活性TiO₂膜之上。

Claims (10)

1、一种反射式液晶显示元件用基底，其包括：

一透光基底；和

一在所述透光基底上形成的反射镜；

其中，所述反射镜由一预定数目的交替层迭于所述透光基底上的高折射率第一透光膜和低折射率第二透光膜组成，且

其中，所述第一透光膜和第二透光膜中的任一个或两者都被排列为使得其膜厚度随距所述透光基底的距离的增加而逐渐增加或逐渐减小。

2、如权利要求1所述的反射式液晶显示元件用基底，其中，所述第一透光膜被排列为使得其膜厚度随距所述透光基底的距离的增加而逐渐增加或逐渐减小。

3、如权利要求1所述的反射式液晶显示元件用基底，其中所述预定数目在3至14的范围内。

4、如权利要求1所述的反射式液晶显示元件用基底，其中所述预定数目为3或4。

5、如权利要求1所述的反射式液晶显示元件用基底，其中每个所述第一透光膜在波长为550nm处的折射率至少为1.8，每个所述第二透光膜覆盖于一所述第一透光膜之上，且在波长为550nm处的折射率不超过1.5。

6、如权利要求1所述的反射式液晶显示元件用基底，其中所述第一透光膜由以二氧化钛为主要成分的高折射率材料制成，所述第二透光膜由以二氧化硅为主要成分的低折射率材料制成。

7、如权利要求1所述的反射式液晶显示元件用基底，还包括覆盖于所述透光基底之上以二氧化硅为主要成分的基膜。

8、如权利要求1所述的反射式液晶显示元件用基底，其中离所述透光基底最远的一个所述第一透光膜为一以二氧化钛为主要成分的光催化活性膜。

9、如权利要求8所述的反射式液晶显示元件用基底，还包括覆盖于所述一个所述第一透光膜之上的以二氧化硅为主要成分的亲水薄膜。

10、如权利要求7所述的反射式液晶显示元件用基底，还包括覆盖于所述透光基底和所述基膜之间的透光粗糙散射层。

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