CN113805254B - 一种电子产品的显示屏和用于显示屏的量子隐藏盖板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种电子产品的显示屏和用于显示屏的量子隐藏盖板，属于显示屏面板技术领域。为了解决现有有仅有单一功能的问题，提供一种电子产品的显示屏和用于显示屏的量子隐藏盖板，该量子隐藏盖板包括用于盖设在显示模组上的玻璃基板，所述玻璃基板的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构；所述量子隐藏盖板的可见光透光率为38％～45％。本量子隐藏盖板用于显示屏的盖板时，熄屏时显示屏具有如镜子般的镜面银的效果，具有成像清晰的功能，而在亮屏时能保持具有透光显示的功能，整体上具有熄屏呈现镜面且亮屏呈现显透光示的双重功能。

Description

一种电子产品的显示屏和用于显示屏的量子隐藏盖板
技术领域
本发明涉及一种电子产品的显示屏和用于显示屏的量子隐藏盖板，属于显示屏面板技术领域。
背景技术
目前，电子产品如手机、平板电脑、智能手表等显示屏的表面视窗盖板大多进行功能性处理。而为了使透明玻璃盖板表面一般整面都镀有起装饰作用的银色膜层，但是，目前的银色膜的亮度不够，在起到装饰的同时，降低了透明盖板作为的显示功能下降，不能满足用户对产品的使用需要。为了改善这种性能，现有的如中国专利文献(公开号：CN207646082U)公开的一种带镜面反射效果的膜层结构，其主要是通过在玻璃基材与金属膜层之间镀设增反膜(五氧化三钛膜与二氧化硅膜交替镀设)，金属膜采用锗、锡或铟，是通过增加的金属膜来实现镜面银的效果，但是，其本身金属膜的银白色过深，透光性并不好，才通过在金属膜表面增设增反膜来提高透光性能，不利于整体功能的实现，金属膜层在使用时也会影响到手机信号的接收或发射。
另一方面，现有的电子产品如手机等显示屏在使用时通常都具有较好的透光性，且在熄屏时也仅是利用显示模组本身的黑色使具有一定反射功能，起到当镜子用的功能，但是，这种熄屏时仅仅是利用背景的黑色，其成像不清楚，无法达到真正当镜子使用的功能。
发明内容
本发明针对以上现有技术中存在的缺陷，提供一种电子产品的显示屏和用于显示屏的量子隐藏盖板，解决的问题是如何实现该量子隐藏盖板用于显示屏盖板时，能使显示屏在熄屏时呈现镜面和亮屏时呈现透光可视的双重功能。
本发明的目的之一是通过以下技术方案来实现的，一种用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板，包括用于盖设在显示模组上的玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构，所述量子隐藏膜系结构从内向外依次包括厚度为7nm～9nm的TiO2镀膜层一、厚度为33nm～34nm的SiO2镀膜层一、厚度为87nm～88nm的TiO2镀膜层二、厚度为118nm～120nm的SiO2镀膜层二、厚度为76nm～77nm的TiO2镀膜层三、厚度为66nm～67nm的SiO2镀膜层三、厚度为82nm～83nm的TiO2镀膜层四、厚度为73nm～74nm的SiO2镀膜层四、厚度为34nm～35nm的TiO2镀膜层五、厚度为51nm～52nm的SiO2镀膜层五、厚度为60nm～61nm的TiO2镀膜层六和厚度为114nm～115nm的SiO2镀膜层六；
所述量子隐藏盖板的可见光透光率为38％～45％。
本发明通过直接在玻璃基板的表面镀设量子隐藏膜系结构，使采用特定范围厚度的TiO2膜层材料和SiO2膜层材料进行交替镀设，并对总层数及每层的厚度进行控制，形成整体配合，对可见光的反射和折射的综合改善，并使整体的可见光透光率为38％～45％之间，且形成的膜系结构本身的白色并不深，本身并不会形成镜面银的深色功能，具有隐藏功能的效果，从而使形成的盖板在平时显示屏正常使用时，仍具有较好的光透过率不影响使用的功能，具有透光显示的功能效果；而在熄屏时，通过利用熄屏后显示模组的黑色背景与本量子隐藏盖板的膜系结构的浅白色组合后，能够使形成镜面银的背景，从而使熄屏时显示屏具有如镜子般的镜面银的效果，具有成像清晰的功能，从而使整体上具有熄屏呈现镜面且亮屏呈现透光可视(显示)的双重功能。另一方面，本发明无需另外镀设金属膜来实现镜面银的功能，直接通过采用膜系结构和透光率的协同作用，并考虑到使用时显示模组的黑色背景的功能，整体上实现用于盖在显示模组上在熄屏时呈镜面的效果，本领域常规的对于显示面板的透光率的改善主要是提升透光率的功能，使显示面板具有高透光率，也没有通过对透光率的控制来形成熄屏时呈镜面银的镜面功能。
在上述用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板中，作为优选，所述TiO2镀膜层二在镀设时采用的TiO2材料中掺杂有质量百分数为0.2％～0.5％的纳米级的SnO2材料。通过在位于第三层的TiO2镀膜层二的材料进行适应性改进，通过掺杂入很少量的纳米级的SnO2，使整体上不会影响到量子隐藏膜系结构的透光性能和保证其显示功能，而熄屏时由于膜系中整体含有少量的SnO2材料，能够更好的改善膜层的色系，使熄屏时呈现更明显的偏银白色的色系，使与显示模组的黑色背景协合配合，实现更好的镜面效果；也不会影响到膜系结构与玻璃基板之间的附着能力，保证具有高结合力的效果。
在上述用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板中，作为优选，所述量子隐藏盖板的可见光透光率为的可见光透光率为40％～43％。可通过在上述的各镀膜层的厚度范围内进行适当的调整，能够使形成的膜系结构具有更好的功能效果，更进一步的提升其用于显示屏的盖板时，与显示模组的黑色配合形成镜面银的效果，而在亮屏时仍能保证具有较好的光透过率的效果。
在上述用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板中，作为优选，所述量子隐藏膜系结构从内向外依次包括厚度为7.97nm的TiO2镀膜层一、厚度为33.32nm的SiO2镀膜层一、厚度为87.66nm的TiO2镀膜层二、厚度为118.56nm的SiO2镀膜层二、厚度为75.86nm的TiO2镀膜层三、厚度为66.84nm的SiO2镀膜层三、厚度为82.52nm的TiO2镀膜层四、厚度为73.42nm的SiO2镀膜层四、厚度为34.38nm的TiO2镀膜层五、厚度为51.30nm的SiO2镀膜层五、厚度为60.16nm的TiO2镀膜层六和厚度为114.7nm的SiO2镀膜层六。能够使形成的膜系结构具有对可见光较完全的透光率的改进，使在可见光的波长380nm～780nm范围内能够完全平稳的控制在40％的透光率(透过率)的性能，且还能够使整体对近红外光频段内940nm处的红外光具有较好的透过率，使能够用于人脸识别功能的效果。
在上述用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板中，作为优选，所述SiO2镀膜层六的表面还镀设有防指纹AF镀膜层。能够提高整体的防指纹污染的效果，提升防污效果。作为更进一步的优选，所述防指纹AF镀膜层的厚度为10nm～15nm。
本发明的目的之二是通过以下技术方案来实现的，一种电子产品的显示屏，包括显示模组和覆盖在显示模组上的量子隐藏盖板，所述量子隐藏盖板包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构，所述量子隐藏膜系结构从内向外依次包括厚度为7nm～9nm的TiO2镀膜层一、厚度为33nm～34nm的SiO2镀膜层一、
厚度为87nm～88nm的TiO2镀膜层二、厚度为118nm～120nm的SiO2镀膜层二、厚度为76nm～77nm的TiO2镀膜层三、厚度为66nm～67nm的SiO2镀膜层三、厚度为82nm～83nm的TiO2镀膜层四、厚度为73nm～74nm的SiO2镀膜层四、厚度为34nm～35nm的TiO2镀膜层五、厚度为51nm～52nm的SiO2镀膜层五、厚度为60nm～61nm的TiO2镀膜层六和厚度为114nm～115nm的SiO2镀膜层六；
所述量子隐藏盖板的可见光透光率为38％～45％。
本发明通过在用于覆盖在显示模组上的量子隐藏盖板的膜系进行改进，直接在玻璃基板的表面镀设上述量子隐藏膜系结构，使采用特定范围厚度的TiO2膜层材料和SiO2膜层材料进行交替镀设，并对总层数及每层的厚度进行控制，形成整体配合，对可见光的反射和折射的综合改善，并使整体的可见光透光率(透过率)为38％～45％之间，且形成的膜系结构本身的白色并不深，本身并不会形成镜面银的深色功能，具有隐藏功能的效果。从而使形成的显示屏在正常使用时，即亮屏后仍具有较好的光透过率，不影响使用的功能，保持有透光显示的效果；在熄屏时，通过利用熄屏后显示模组的黑色背景与本量子隐藏盖板的膜系结构的浅白色组合后，能够使形成很好的镜面银的背景，从而使熄屏时显示屏具有如镜子般的镜面银的效果，具有成像清晰的功能，从而使整体上具有熄屏呈现镜面且亮屏呈现显示优良的双重功能。
在上述的电子产品的显示屏中，作为优选，所述TiO2镀膜层二在镀设时采用的TiO2材料中掺杂有质量百分数为0.2％～0.5％的纳米级的SnO2材料。
综上所述，本发明与现有技术相比，具有以下优点：
1.本发明采用特定范围厚度的TiO2膜层材料和SiO2膜层材料进行交替镀设，并对总层数及每层的厚度进行控制，形成整体配合，对可见光的反射和折射的综合改善，并使整体的可见光透光率为38％～45％之间，当本量子隐藏盖板用于显示屏的盖板时，使熄屏时显示屏具有如镜子般的镜面银的效果，具有成像清晰的功能，而在亮屏时能保持具有透光显示的功能，不影响作用显示屏的显示功能，从而使整体上具有熄屏呈现镜面且亮屏呈现显透光示的双重功能。
2.通过在位于第三层的TiO2镀膜层二的材料进行适应发改进，通过掺杂入很少量的纳米级的SnO2，使整体上不会影响到量子隐藏膜系结构的透光性能和保证其显示功能，能够更好的改善功能，使熄屏时呈现更明显的偏银白色的色系，使与显示模组的黑色背景协同效应，实现更好的镜面效果。
附图说明
图1是本发明用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板的剖示结构示意图。
图2是本发明用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板中量子隐藏膜系结构的具体膜层示意图。
图3是本发明的电子产品的显示屏的剖示结构示意图。
图4是本发明实施例3中用于电子产品显示屏的量子隐藏盖板的可见光透光率分析图。
图中，1、显示模组；2、玻璃基板；3、量子隐藏膜系结构；31、TiO2镀膜层一；32、SiO2镀膜层一；33、TiO2镀膜层二；34、SiO2镀膜层二；35、TiO2镀膜层三；36、SiO2镀膜层三；37、TiO2镀膜层四；38、SiO2镀膜层四；39、TiO2镀膜层五；40、SiO2镀膜层五；41、TiO2镀膜层六；42、SiO2镀膜层六；4、防指纹AF镀膜层。
具体实施方式
下面通过具体实施例和附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明，但是本发明并不限于这些实施例。
实施例1
结合图1和图2所示，本用于显示屏的量子隐藏盖板包括用于盖设在显示模组1上的玻璃基板2，这里的显示模组1可采用LCM显示模组，更重要的是，玻璃基板2的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构3，具体镀设方法可采用一般的真空镀膜方法进行加工，对于具体量子隐藏膜系结构从内向外依次(相当于从靠近玻璃基板2的正面向外的方向)包括厚度为7nm～9nm的TiO2镀膜层一31、厚度为33nm～34nm的SiO2镀膜层一32、厚度为87nm～88nm的TiO2镀膜层二33、厚度为118nm～120nm的SiO2镀膜层二34、厚度为76nm～77nm的TiO2镀膜层三35、厚度为66nm～67nm的SiO2镀膜层三36、厚度为82nm～83nm的TiO2镀膜层四37、厚度为73nm～74nm的SiO2镀膜层四38、厚度为34nm～35nm的TiO2镀膜层五39、厚度为51nm～52nm的SiO2镀膜层五40、厚度为60nm～61nm的TiO2镀膜层六41、厚度为114nm～115nm的SiO2镀膜层六42、且通过各膜层的厚度的控制和改进、使量子隐藏盖板的可见光透光率为38％～45％。通过对各层的厚度范围的限制和改进，并结合使其对可见光的透光率在上述范围内，在单独以量子隐藏盖板使用时，对可见光仍具有一定的透过性，相当于能对可见光进行部分的截止，而又保证其一定的可见光透光率，实现不影响其作用显示屏盖板使用的可视功能，且形成的是浅白色的色系特性，能够有效的实现用于显示屏的盖板，在亮屏时具有透光显示的功能，而熄屏时具有形成镜面的功能，即熄屏时能与显示模组1的黑色背景协同配合能够形成镜面银的特性，从而达到镜面银的效果，实现无需另外镀设金属膜来实现镜面银的功能，也能更有效的避免金属膜的存在对其用于手机等电子产品的盖板时，影响信号的接收或发射的功能。最好使上述的量子隐藏盖板对可见光透光率为40％～43％。通过对可见光透光率的更精准的控制，能够更有利于改善膜系结构的色系组成，形成浅白色的透光的膜层结构，具有量子隐藏的功能，当其在用于显示屏的盖板时，覆盖在显示模组上，使熄屏时，显示模组的黑色背景与该量子隐藏盖板的组合，能够显现出镜面银的特性，使达到当作镜子使用的功能。
作为进一步的方案，最好使上述TiO2镀膜层二33在镀设时采用的TiO2材料中掺杂有质量百分数为0.2％～0.5％的纳米级的SnO2材料。相当于通过在从内向外的第三层的膜层TiO2镀膜层二33进行掺杂，能够更有效的保证膜层与玻璃基板2之间的附着力，更好的防止出现脱落的效果，同时，更重要的是，通过少量的SnO2的掺杂能够更好的改善量子隐藏膜系结构3的色系特性，在作为显示屏盖板与显示模组给合使用后，亮屏时具有较好的透光率，而熄屏时呈现更明显的偏银白色的色系，与显示模组的黑色背景协合配合，形成很好的镜面效果。进一步的在SiO2镀膜层六42的表面还镀设有防指纹AF镀膜层4。提高整体的防指纹抗污能力，最好使防指纹AF镀膜层4的厚度为10nm～15nm，优选使厚度选用12nm。
实施例2
结合图1-2和4所示，将上述实施例1中的用于显示屏的量子隐藏盖板与显示模组1组合形成相应的显示屏，这里的显示模组1可采用LCM显示模组，具体用作电子产品的显示屏，如电子产品可以是智能手机，结合图3，本电子产品的显示屏包括显示模组1和覆盖在显示模组1上的量子隐藏盖板，对于它们之间的组合可按照本领域一般常用组合方式进行组装即可，主要的改进在于上述量子隐藏盖板包括玻璃基板2，玻璃基板2的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构3，量子隐藏膜系结构3从内向外依次包括厚度为7nm～9nm的TiO2镀膜层一31、厚度为33nm～34nm的SiO2镀膜层一32、
厚度为87nm～88nm的TiO2镀膜层二33、厚度为118nm～120nm的SiO2镀膜层二34、厚度为76nm～77nm的TiO2镀膜层三35、厚度为66nm～67nm的SiO2镀膜层三36、厚度为82nm～83nm的TiO2镀膜层四(37)、厚度为73nm～74nm的SiO2镀膜层四38、厚度为34nm～35nm的TiO2镀膜层五39、厚度为51nm～52nm的SiO2镀膜层五40、厚度为60nm～61nm的TiO2镀膜层六41，厚度为114nm～115nm的SiO2镀膜层六42；量子隐藏盖板对可见光透光率为38％～45％。最好使量子隐藏盖板对可见光透光率为40％～43％。
进一步的方案，最好使上述TiO2镀膜层二33在镀设时采用的TiO2材料中掺杂有质量百分数为0.2％～0.5％的纳米级的SnO2材料，最好使掺杂量为0.4％。
在使用过程的结果表明，能够有效的实现在亮屏时，且也具有一定的可见光透光率，不影响显示的功能；在熄屏时，能够与显示模组1的黑色背景组合形成镜面银的色系特性，使具有当镜子使用的功能效果,且成像清晰。
实施例3
本实施例对量子隐藏盖板各膜层的厚度进行具体的镀设实施。
结合图1-2和4所示，本用于显示屏的量子隐藏盖板包括用于盖设在显示模组1上的玻璃基板2，这里的显示模组1可采用LCM显示模组，具体用作电子产品的显示屏，如电子产品可以是智能手机，结合图3，本电子产品的显示屏包括显示模组1和覆盖在显示模组1上的量子隐藏盖板。更重要的是，玻璃基板2的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构3，具体镀设方法可采用一般的真空镀膜方法进行加工，对于具体量子隐藏膜系结构从内向外依次(相当于从靠近玻璃基板2的正面向外的方向)包括量子隐藏膜系结构3从内向外依次包括厚度为7.97nm的TiO2镀膜层一31、厚度为33.32nm的SiO2镀膜层一32、厚度为87.66nm的TiO2镀膜层二33、厚度为118.56nm的SiO2镀膜层二34、厚度为76.86nm的TiO2镀膜层三35、厚度为66.84nm的SiO2镀膜层三36、厚度为82.52nm的TiO2镀膜层四37、厚度为73.42nm的SiO2镀膜层四38、厚度为34.38nm的TiO2镀膜层五39、厚度为51.30nm的SiO2镀膜层五40、厚度为60.16nm的TiO2镀膜层六41、厚度为114.7nm的SiO2镀膜层六42、且在SiO2镀膜层六42的表面蒸镀有厚度为13nm的防指纹的AF镀膜层；使量子隐藏盖板对可见光透光率基本保持在40％的特性，对可见光透光率(透过率)如图4所示，且从图4也可以看出，对可见光380nm-780nm的波长范围的截止效果能保持很稳定的特性，从而能更有效的保证其形成的色系的分布均匀性，也有利于后续与显示模组1装配后，在熄屏时形成的镜面银的背景的均匀性，避免出现不完整的斑点而影响镜面银效果,且成像清晰；对近红外光频段内940nm处的红外光具有较好的透过率，红外光的透光率达到90％以上。
本量子隐藏盖板能够保持具有一定的透光性，形成的膜系呈浅白色，保证不会形成不透光的颜色系，仍能保持作为显示屏用时的显示功能，在与LCM显示模组组装成显示屏后，能够有效的实现熄屏时形成镜面银的效果，而在亮屏时能够形成显示的功能，保持具有透光性的双重功能效果。
实施例4
本实施例对量子隐藏盖板各膜层的厚度进行具体的镀设实施。
结合图1-2所示，本用于显示屏的量子隐藏盖板包括用于盖设在显示模组1上的玻璃基板2，这里的显示模组1可采用LCM显示模组，更重要的是，玻璃基板2的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构3，具体镀设方法可采用一般的真空镀膜方法进行加工，对于具体量子隐藏膜系结构从内向外依次(相当于从靠近玻璃基板2的正面向外的方向)包括量子隐藏膜系结构3从内向外依次包括厚度为7.56nm的TiO2镀膜层一31、厚度为33.54nm的SiO2镀膜层一32、厚度为87.24nm的TiO2镀膜层二33、厚度为119.2nm的SiO2镀膜层二34、厚度为76.41nm的TiO2镀膜层三35、厚度为66.46nm的SiO2镀膜层三36、厚度为82.83nm的TiO2镀膜层四37、厚度为73.25nm的SiO2镀膜层四38、厚度为34.64nm的TiO2镀膜层五39、厚度为51.62nm的SiO2镀膜层五40、厚度为60.55nm的TiO2镀膜层六41、厚度为114.5nm的SiO2镀膜层六42、且在SiO2镀膜层六42的表面蒸镀有厚度为15nm的防指纹的AF镀膜层；使量子隐藏盖板对可见光380nm-780nm范围的波长的透光率均能在42％左右；对近红外光频段内940nm处的红外光具有较好的透过率，红外光的透光率达到90％以上。
实施例5
本实施例对量子隐藏盖板各膜层的厚度进行具体的镀设实施。
结合图1-2所示，本用于显示屏的量子隐藏盖板包括用于盖设在显示模组1上的玻璃基板2，这里的显示模组1可采用LCM显示模组，更重要的是，玻璃基板2的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构3，且在下面镀TiO2镀膜层二33时使掺杂有质量百分数为0.3％的量，具体镀设方法可采用一般的真空镀膜方法进行加工，对于具体量子隐藏膜系结构从内向外依次(相当于从靠近玻璃基板2的正面向外的方向)包括量子隐藏膜系结构3从内向外依次包括厚度为8.12nm的TiO2镀膜层一31、厚度为33.67nm的SiO2镀膜层一32、厚度为87.11nm的TiO2镀膜层二33、TiO2镀膜层二33中掺杂有质量百分数为0.3％的SnO2成分、厚度为119.14nm的SiO2镀膜层二34、厚度为76.16nm的TiO2镀膜层三35、厚度为66.12nm的SiO2镀膜层三36、厚度为82.02nm的TiO2镀膜层四37、厚度为73.41nm的SiO2镀膜层四38、厚度为34.61nm的TiO2镀膜层五39、厚度为51.62nm的SiO2镀膜层五40、厚度为60.43nm的TiO2镀膜层六41和厚度为115nm的SiO2镀膜层六42；且在SiO2镀膜层六42的表面蒸镀有厚度为10nm的防指纹的AF镀膜层；经测试，量子隐藏盖板对可见光透光率基本保持在38％左右的特性，对可见光380nm-780nm的波长范围的截止效果能保持很稳定的特性，从而能更有效的保证其形成的色系的分布均匀性，也有利于后续与显示模组1装配后，在熄屏时形成的镜面银的背景的均匀性，避免出现不完整的斑点而影响镜面银效果,且成像清晰。对近红外光频段内940nm处的红外光具有较好的透过率，红外光的透光率达到90％以上。
本发明中所描述的具体实施例仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
尽管对本发明已作出了详细的说明并引证了一些具体实施例，但是对本领域熟练技术人员来说，只要不离开本发明的精神和范围可作各种变化或修正是显然的。

Claims (8)

1.一种用于显示屏的量子隐藏盖板，包括用于盖设在显示模组(1)上的玻璃基板(2)，其特征在于，所述玻璃基板(2)的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构(3)，所述量子隐藏膜系结构(3)从内向外依次包括厚度为7nm～9nm的TiO2镀膜层一(31)、厚度为33nm～34nm的SiO2镀膜层一(32)、厚度为87nm～88nm的TiO2镀膜层二(33)、厚度为118nm～120nm的SiO2镀膜层二(34)、厚度为76nm～77nm的TiO2镀膜层三(35)、厚度为66nm～67nm的SiO2镀膜层三(36)、厚度为82nm～83nm的TiO2镀膜层四(37)、厚度为73nm～74nm的SiO2镀膜层四(38)、厚度为34nm～35nm的TiO2镀膜层五(39)、厚度为51nm～52nm的SiO2镀膜层五(40)、厚度为60nm～61nm的TiO2镀膜层六(41)和厚度为114nm～115nm的S iO2镀膜层六(42)；
所述量子隐藏盖板对可见光透光率为38％～45％。
2.根据权利要求1所述用于显示屏的量子隐藏盖板，其特征在于，所述TiO2镀膜层二(33)在镀设时采用的TiO2材料中掺杂有质量百分数为0.2％～0.5％的纳米级的SnO2材料。
3.根据权利要求2所述用于显示屏的量子隐藏盖板，其特征在于，所述量子隐藏盖板对可见光透光率为40％～43％。
4.根据权利要求1或2或3所述用于显示屏的量子隐藏盖板，其特征在于，所述量子隐藏膜系结构(3)从内向外依次包括厚度为7.97nm的TiO2镀膜层一(31)，厚度为33.32nm的SiO2镀膜层一(32)、厚度为87.66nm的TiO2镀膜层二(33)、厚度为118.56nm的SiO2镀膜层二(34)、厚度为76.86nm的TiO2镀膜层三(35)、厚度为66.84nm的SiO2镀膜层三(36)、厚度为82.52nm的TiO2镀膜层四(37)、厚度为73.42nm的SiO2镀膜层四(38)、厚度为34.38nm的TiO2镀膜层五(39)、厚度为51.30nm的SiO2镀膜层五(40)、厚度为60.16nm的TiO2镀膜层六(41)和厚度为114.7nm的SiO2镀膜层六(42)。
5.根据权利要求1或2或3所述用于显示屏的量子隐藏盖板，其特征在于，所述SiO2镀膜层六(42)的表面还镀设有防指纹AF镀膜层(4)。
6.根据权利要求5所述用于显示屏的量子隐藏盖板，其特征在于，所述防指纹AF镀膜层(4)的厚度为10nm～15nm。
7.一种电子产品的显示屏，包括显示模组(1)和覆盖在显示模组(1)上的量子隐藏盖板，所述量子隐藏盖板包括玻璃基板(2)，其特征在于，所述玻璃基板(2)的正面镀设有由TiO2和SiO2交替镀设形成的量子隐藏膜系结构(3)，所述量子隐藏膜系结构(3)从内向外依次包括厚度为7nm～9nm的TiO2镀膜层一(31)、厚度为33nm～34nm的SiO2镀膜层一(32)、厚度为87nm～88nm的TiO2镀膜层二(33)、厚度为118nm～120nm的SiO2镀膜层二(34)、厚度为76nm～77nm的TiO2镀膜层三(35)、厚度为66nm～67nm的SiO2镀膜层三(36)、厚度为82nm～83nm的TiO2镀膜层四(37)、厚度为73nm～74nm的SiO2镀膜层四(38)、厚度为34nm～35nm的TiO2镀膜层五(39)、厚度为51nm～52nm的SiO2镀膜层五(40)、厚度为60nm～61nm的TiO2镀膜层六(41)和厚度为114nm～115nm的SiO2镀膜层六(42)；
所述量子隐藏盖板对可见光透光率为38％～45％。
8.根据权利要求7所述电子产品的显示屏，其特征在于，所述TiO2镀膜层二(33)在镀设时采用的TiO2材料中掺杂有质量百分数为0.2％～0.5％的纳米级的SnO2材料。
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