KR101141232B1 - 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름, 이를 이용한 터치 패널 및 이들의 제조방법 - Google Patents

다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름, 이를 이용한 터치 패널 및 이들의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전도성 필름에 고 굴절률 및 저 굴절률을 갖는 다수의 반사 방지 박막을 코팅함으로써 ITO 필름의 투과율을 개선할 수 있을 뿐만 아니라, ITO 필름 / ITO 필름 조합의 터치 패널에 적용함으로써 상용 가능한 투과율의 선명한 화상을 얻을 수 있는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명의 일 실시예는 투명전극 패턴이 형성된 전도성 필름; 및 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름의 적어도 일면에 형성된 다수의 반사 방지 박막;을 포함한다.

Description

다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름, 이를 이용한 터치 패널 및 이들의 제조방법{CONDUCTIVE FILM WITH HIGH TRANSMITTANCE HAVING A NUMBER OF ANTI REFLECTION COATING, TOUCH PANEL USING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 고 투과율의 전도성 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는 다수의 반사 방지 박막을 형성하여 반사율을 낮추고 투과율을 높일 수 있는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름, 이를 이용한 터치 패널 및 이들의 제조방법에 관한 것이다.
도 1은 종래 ITO 필름 및 ITO 글라스가 구비된 터치 패널의 투과율을 표로서 나타낸 도면이다. 여기서, ITO 필름 및 ITO 글라스가 구비된 터치 패널은 일반적으로 ITO 글라스가 ITO 필름보다 광 투과율(Transmittance, T%)이 높으므로, 도 1에 도시된 바와 같은 실제 응용 범위의 투과율을 가질 수 있다.
그러나, ITO 필름의 경우 투과율이 85~89% 수준이기 때문에, ITO 필름 / ITO 필름 조합의 터치 패널 구조에서는 산술적으로도 80% 에 못 미치는 투과율을 가질 수 있어 상용 가능한 투과율에 미치지 못하는 결과가 된다.
따라서, ITO 필름 / ITO 필름 조합의 터치 패널 구조에서도 광 투과율이 높아 선명한 화상을 얻을 수 있는 전도성 필름 및 이를 포함한 터치 패널의 필요성이 대두된다.
본 발명은 상기와 같은 필요성에 의해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 전도성 필름에 고 굴절률 및 저 굴절률을 갖는 다수의 반사 방지(AR, Anti Reflection) 박막을 코팅하여 비교적 투과율이 낮은 ITO 필름의 투과율을 개선함으로써 고 투과율의 전도성 필름, 이를 이용한 터치 패널 및 이들의 제조방법을 제공하는 데 있다.
상기와 같은 본 발명의 목적은, 투명전극 패턴이 형성된 전도성 필름; 및 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름의 적어도 일면에 형성된 다수의 반사 방지 박막;을 포함하되, 다수의 반사 방지 박막은 기저 박막, 제 1 이산화티타늄(TiO2) 박막, 제 1 이산화규소(SiO2) 박막, 제 2 이산화티타늄 박막 및 제 2 이산화규소 박막이 일면에 순차적으로 코팅된 것이며, 기저 박막은 일산화규소(SiO) 및 이산화규소 중 어느 하나가 코팅된 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름을 제공함으로써 달성될 수 있다.
또한, 투명전극 패턴이 형성된 전도성 필름; 및 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름의 적어도 일면에 형성된 다수의 반사 방지 박막;을 포함하되, 다수의 반사 방지 박막은 제 1 삼산화이알루미늄(Al2O3) 박막, 제 1 이산화티타늄 박막, 제 2 삼산화이알루미늄 박막, 제 2 이산화티타늄 박막 및 제 3 삼산화이알루미늄 박막이 일면에 순차적으로 코팅된 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름을 제공함으로써 달성될 수 있다.
전도성 필름은 ITO 필름(Indium Tin Oxide), ATO 필름(Antimony Tin Oxide) 및 AZO 필름(Antimony Zinc Oxide) 중 어느 하나일 수 있다.
코팅된 기저 박막이 일산화규소인 경우, 코팅된 기저 박막은 두께가 110 Å 내지 140 Å이고, 코팅된 제 1 이산화티타늄 박막은 두께가 190 Å 내지 230 Å이며, 코팅된 제 1 이산화규소 박막은 두께가 130 Å 내지 210 Å이고, 코팅된 제 2 이산화티타늄 박막은 두께가 730 Å 내지 870 Å이며, 코팅된 제 2 이산화규소 박막은 두께가 890 Å 내지 1010 Å인 것이 바람직하다.
또한, 코팅된 기저 박막이 이산화규소인 경우, 코팅된 기저 박막은 두께가 1590 Å 내지 1670 Å이고, 코팅된 제 1 이산화티타늄 박막은 두께가 130 Å 내지 170 Å이며, 코팅된 제 1 이산화규소 박막은 두께가 330 Å 내지 380 Å이고, 코팅된 제 2 이산화티타늄 박막은 두께가 1190 Å 내지 1210 Å이며, 코팅된 제 2 이산화규소 박막은 두께가 960 Å 내지 980 Å인 것이 바람직하다.
그리고, 제 1 삼산화이알루미늄 박막은 두께가 970 Å 내지 1030 Å이고, 코팅된 제 1 이산화티타늄 박막은 두께가 220 Å 내지 260 Å이며, 코팅된 제 2 삼산화이알루미늄 박막은 두께가 190 Å 내지 230 Å이고, 코팅된 제 2 이산화티타늄 박막은 두께가 550 Å 내지 610 Å이며, 코팅된 제 3 삼산화이알루미늄 박막은 두께가 760 Å 내지 820 Å인 것이 바람직하다.
코팅된 기저 박막 및 제 1 삼산화이알루미늄은 공기에 대한 상대 굴절률이 1.4 내지 2.1인 것이 바람직하다.
다수의 반사 방지 박막은, 진공 증착법, 스프레이법 및 습식법 중 선택된 어느 하나의 코팅법으로 코팅된 박막인 것이 바람직하다.
광은 파장이 450 nm 내지 650 nm인 것이 바람직하다.
한편, 본 발명의 목적은, 투명전극 패턴이 형성된 전도성 필름; 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름의 적어도 일면에 형성된 다수의 반사 방지 박막; 및 다수의 반사 방지 박막을 전도성 필름과의 사이에 두고 다수의 반사 방지 박막의 상부에 형성되거나 전도성 필름을 다수의 반사 방지 박막과의 사이에 두고 전도성 필름의 상부에 형성된 광투명 점착필름(OCA, Optical Clear Adhesives);을 포함하되, 다수의 반사 방지 박막은 기저 박막, 제 1 이산화티타늄 박막, 제 1 이산화규소 박막, 제 2 이산화티타늄 박막 및 제 2 이산화규소 박막이 일면에 순차적으로 코팅된 것이며, 기저 박막은 일산화규소, 이산화규소 및 삼산화이알루미늄 중 어느 하나가 코팅된 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 터치 패널을 제공함으로써 달성될 수 있다.
그리고, 광투명 점착필름은 감압식 점착제인 것이 바람직하다.
또한, 전도성 필름, 다수의 반사 방지 박막 및 광투명 점착필름은 각각 복수로 구비될 수 있다.
복수로 구비된 전도성 필름은 각각의 투명전극 패턴이 상호 대면하는 상부 전도성 필름 및 하부 전도성 필름을 포함하고, 상부 전도성 필름 및 하부 전도성 필름 사이에 일정 간격의 에어갭이 유지될 수 있도록 다수의 도트 스페이서가 더 포함될 수 있다.
한편, 본 발명의 목적은 다른 카테고리로서, 전도성 필름에 투명전극 패턴이 형성되는 단계(S100); 및 다수의 반사 방지 박막이 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름의 적어도 일면에 형성되는 단계(S200);를 포함하되, 다수의 반사 방지 박막 형성단계(S200)는, 일산화규소 및 이산화규소 중 어느 하나로 기저 박막이 코팅되는 단계(S210); 제 1 이산화티타늄 박막이 기저 박막상으로 코팅되는 단계(S220);제 1 이산화규소 박막이 제 1 이산화티타늄 박막상으로 코팅되는 단계(S230); 제 2 이산화티타늄 박막이 제 1 이산화규소 박막상으로 코팅되는 단계(S240); 및 제 2 이산화규소 박막이 제 2 이산화티타늄 박막상으로 코팅되는 단계(S250);로 구성되는 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름의 제조방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.
또한, 본 발명의 목적은, 전도성 필름에 투명전극 패턴이 형성되는 단계(S300); 다수의 반사 방지 박막이 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름의 적어도 일면에 형성되는 단계(S400); 및 광투명 점착필름이 다수의 반사 방지 박막을 전도성 필름과의 사이에 두고 다수의 반사 방지 박막의 상부에 형성되거나 전도성 필름을 다수의 반사 방지 박막과의 사이에 두고 전도성 필름의 상부에 형성되는 단계(S500);를 포함하되, 다수의 반사 방지 박막 형성단계(S400)는, 일산화규소 및 이산화규소 중 어느 하나로 기저 박막이 코팅되는 단계(S410); 제 1 이산화티타늄 박막이 기저 박막상으로 코팅되는 단계(S420); 제 1 이산화규소 박막이 제 1 이산화티타늄 박막상으로 코팅되는 단계(S430); 제 2 이산화티타늄 박막이 제 1 이산화규소 박막상으로 코팅되는 단계(S440); 및 제 2 이산화규소 박막이 제 2 이산화티타늄 박막상으로 코팅되는 단계(S450);로 구성되는 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름을 이용한 터치 패널의 제조방법의 제조방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 일 실시예에 의하면, 전도성 필름에 고 굴절률 및 저 굴절률을 갖는 다수의 반사 방지 박막을 코팅함으로써 ITO 필름의 투과율을 개선하는 효과가 있다.
뿐만 아니라, ITO 필름 / ITO 필름 조합의 터치 패널에 적용함으로써 충분한 투과율에 따른 선명한 화상을 얻을 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래 ITO 필름 및 ITO 글라스가 구비된 터치 패널의 투과율을 나타낸 도면,
도 2a 내지 도 2c는 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름 제 1 실시예 내지 제 3 실시예의 단면을 나타낸 단면도,
도 3은 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름 각 실시예에 대한 광 투과율을 나타낸 도면,
도 4는 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름 제조 방법의 일 실시예를 순차적으로 나타낸 순서도,
도 5a 내지 도 5c는 본 발명인 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름이 구비된 터치 패널 제 1 실시예 내지 제 3 실시예의 단면을 나타낸 단면도,
도 6은 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름을 이용한 터치 패널 제조 방법의 일 실시예를 순차적으로 나타낸 순서도이다.
<고 투과율의 전도성 필름>
도 2a 내지 도 2c는 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름 제 1 실시예 내지 제 3 실시예의 단면을 나타낸 단면도이다. 이하 도면을 참고하여 각 실시예에 대해 설명한다.
<제 1실시예 >
다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름의 제 1실시예는 도 2a에 도시된 바와 같이, 투명전극 패턴(110)이 형성된 전도성 필름(10)과 전도성 필름(10) 상으로 코팅된 다수의 반사 방지 박막(20)으로 구성된다. 특히, 다수의 반사 방지 박막(20)은 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름(10)과 접하는 면에서부터 순차적으로 형성되는 제 1층 박막(210), 제 2층 박막(220), 제 3층 박막(230), 제 4층 박막(240), 제 5층 박막(250)으로 구성된다. 특히, 제 1실시예는 투명전극 패턴(110)이 형성된 전도성 필름(10)의 전면에 다수의 반사 방지 박막(20)을 코팅한 것이다.
전도성 필름(10)의 적어도 일면에 형성되는 다수의 반사 방지 박막(20)은 고 굴절률의 코팅재와 저 굴절률의 코팅재를 번갈아 적층하여 특정 파장대 광의 간섭 소멸을 유도함으로써 반사율을 낮추고 광투과율(T%)을 높이게 된다.
전도성 필름(10)은 ITO(Indium Tin Oxide) 필름, ATO(Antimony Tin Oxide) 필름 및 AZO(Antimony Zinc Oxide) 필름 중 어느 하나를 사용할 수 있으며, 투명전극 패턴은 사용될 터치 패널의 터치 방식(예: 정전용량 방식 또는 저항막 방식)에 따라 다양한 패턴이 에칭 등의 공정을 통해 형성될 수 있다.
제 1층 박막(210)은 공기에 대한 상대 굴절률이 1.4 내지 2.1에 해당하는 기저 박막으로서 일산화규소, 이산화규소 및 삼산화이알루미늄이 코팅될 수 있으며, 기저 박막이 일산화규소 또는 이산화규소인 경우에 제 2층 박막(220)부터는 이산화티타늄 및 이산화규소를 번갈아 적층함으로써 제 2층 박막(220) 내지 제 5층 박막(250)을 코팅하게 된다.
즉, 제 2층 박막(220)은 제 1 이산화티타늄, 제 3층 박막(230)은 제 1 이산화규소, 제 4층 박막(240)은 제 2 이산화티타늄, 제 5층 박막(250)은 제 2 이산화규소가 코팅된다. 여기서, 코팅재에 순위(제 1 및 제 2, 이하 동일한 취지임)를 부여한 것은 층 구분을 위한 것으로서 동일한 코팅재임을 밝혀둔다.
또한, 제 1층 박막(210)으로 제 1 삼산화이알루미늄이 사용되는 경우에는 제 2층 박막(220)부터는 이산화티타늄 및 삼산화이알루미늄을 번갈아 적층함으로써 제 2층 박막(220) 내지 제 5층 박막(250)을 코팅하게 된다.
즉, 제 2층 박막(220)은 제 1 이산화티타늄, 제 3층 박막(230)은 제 2 삼산화이알루미늄, 제 4층 박막(240)은 제 2 이산화티타늄, 제 5층 박막(250)은 제 3 삼산화이알루미늄이 코팅된다.
각각의 박막층 두께는 반사 방지를 위한 광의 파장대를 고려하여 결정될 수 있는데 사용자에 대한 투명성을 보장하기 위한 것이므로 반사 방지되는 광의 파장대는 주로 가시광선이 분포하는 450 nm 내지 650 nm의 파장대로 한정한다.
투명전극 패턴(110) 상부와 에칭면(120) 상부는 박막층의 두께를 동일하게 설정하여 동일한 파장대의 광에 대하여 반사 방지를 수행함이 바람직하다.
각각의 박막 층 두께는 실험예를 기초로 후술한다.
<제 2실시예 >
다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름의 제 2실시예는 도 2b에 도시된 바와 같이, 투명전극 패턴(110)이 형성된 전도성 필름(10)과 전도성 필름(10)의 투명전극 패턴(110)과 반대 방향으로 코팅된 다수의 반사 방지 박막(20)으로 구성된다. 제 1실시예와 마찬가지로 다수의 반사 방지 박막(20)은 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름(10)과 접하는 면에서부터 순차적으로 형성되는데, 제 1층 박막(210), 제 2층 박막(220), 제 3층 박막(230), 제 4층 박막(240), 제 5층 박막(250)으로 순서로 구성되며 동일 층의 박막에 대한 도면 부호는 동일하게 사용하였다.
제 2실시예는 다수의 반사 방지 박막(20)을 투명전극 패턴(110)이 형성된 전도성 필름(10)의 배면에 형성한 것으로서 각 층 박막의 재질 및 각 층 박막의 층수, 그리고 후술할 각 층 박막의 두께는 제 1실시예와 동일하다.
<제 3실시예 >
다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름의 제 3실시예는 도 2c에 도시된 바와 같이, 전후면 모두에 다수의 반사 방지 박막(20)을 코팅함으로써 한층 더 반사율을 낮추고 투과율을 높이는 구성이다. 제 3실시예는 다수의 반사 방지 박막(20)을 투명전극 패턴(110)이 형성된 전도성 필름(10)의 전면 및 배면에 형성한 것으로서 각 층 박막의 재질 및 각 층 박막의 개수, 그리고 후술할 각 층 박막의 두께는 제 1, 2실시예와 동일하다.
< 실험예 >
도 3은 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름 각 실시예에 대한 광 투과율을 나타낸 도면이다. 본 실험예는 전도성 필름(10) 상에 투명전극 패턴(110)을 테스트 패턴으로 형성하되, 투명전극 패턴(110) 및 에칭면(120) 각각 3 cm 폭을 갖도록 형성하였다. 도 3에 도시된 바와 같이, 아래의 표 1 내지 표 6에 따른 조건에서 450 nm ~ 650 nm의 파장대의 광에 대하여 대부분 고 투과율(Transmittance, T%)을 보이고 있음을 알 수 있다.
고 투과율 전도성 필름의 제 1실시예(전도성 필름(10)의 전면 코팅의 경우임)에서 반사 방지 박막의 각 층 박막 두께는 전도성 필름의 기저 박막인 제 1층 박막(210)을 일산화규소로 한 경우에 있어 아래의 표 1과 같다. 여기서 차수는 각 층 박막의 두께 변화에 따른 실험 횟수이다.
차수 1층/SiO 2층/TiO2 3층/SiO2 4층/TiO2 5층/SiO2
1차 119Å 195Å 158Å 740Å 899Å
2차 119Å 195Å 138Å 740Å 899Å
3차 130Å 219Å 170Å 829Å 970Å
4차 130Å 200Å 170Å 829Å 970Å
5차 130Å 200Å 200Å 829Å 970Å
또한, 고 투과율 전도성 필름의 제 1실시예(전도성 필름(10)의 전면 코팅의 경우임)에서 반사 방지 박막의 각 층 박막 두께는 전도성 필름의 기저 박막인 제 1층 박막(210)을 이산화규소로 한 경우에 있어 아래의 표 2와 같다. 여기서 차수는 각 층 박막의 두께 변화에 따른 실험 횟수이다.
차수 1층/SiO2 2층/TiO2 3층/SiO2 4층/TiO2 5층/SiO2
1차 1600Å 143Å 367Å 1200Å 968Å
2차 1660Å 143Å 367Å 1200Å 968Å
3차 1660Å 143Å 342Å 1200Å 968Å
4차 1660Å 173Å 342Å 1200Å 968Å
그리고, 고 투과율 전도성 필름의 제 1실시예(전도성 필름(10)의 전면 코팅의 경우임)에서 반사 방지 박막의 각 층 박막 두께는 전도성 필름의 기저 박막인 제 1층 박막(210)을 삼산화이알루미늄으로 한 경우에 있어 아래의 표 3과 같다. 여기서 차수는 각 층 박막의 두께 변화에 따른 실험 횟수이다.
차수 1층/Al2O3 2층/TiO2 3층/Al2O3 4층/TiO2 5층/Al2O3
1차 1021Å 246Å 214Å 596Å 808Å
2차 1000Å 246Å 214Å 596Å 808Å
3차 1000Å 240Å 209Å 581Å 791Å
고 투과율 전도성 필름의 제 2실시예(전도성 필름(10)의 배면 코팅의 경우임)에서 반사 방지 박막의 각 층 박막 두께는 전도성 필름의 기저 박막인 제 1층 박막(210)을 일산화규소로 한 경우에 있어 아래의 표 4와 같다. 여기서 차수는 각 층 박막의 두께 변화에 따른 실험 횟수이다.
차수 1층/SiO 2층/TiO2 3층/SiO2 4층/TiO2 5층/SiO2
1차 130Å 219Å 170Å 829Å 970Å
2차 130Å 199Å 170Å 767Å 970Å
3차 135Å 206Å 175Å 857Å 994Å
4차 115Å 187Å 154Å 709Å 875Å
5차 119Å 195Å 158Å 740Å 899Å
또한, 고 투과율 전도성 필름의 제 2실시예(전도성 필름(10)의 배면 코팅의 경우임)에서 반사 방지 박막의 각 층 박막 두께는 전도성 필름의 기저 박막인 제 1층 박막(210)을 이산화규소로 한 경우에 있어 아래의 표 5와 같다. 여기서 차수는 각 층 박막의 두께 변화에 따른 실험 횟수이다.
차수 1층/SiO2 2층/TiO2 3층/SiO2 4층/TiO2 5층/SiO2
1차 1600Å 143Å 367Å 1200Å 968Å
2차 1660Å 143Å 367Å 1200Å 968Å
3차 1660Å 153Å 367Å 1200Å 968Å
4차 1660Å 163Å 367Å 1200Å 968Å
그리고, 고 투과율 전도성 필름의 제 2실시예(전도성 필름(10)의 배면 코팅의 경우임)에서 반사 방지 박막의 각 층 박막 두께는 전도성 필름의 기저 박막인 제 1층 박막(210)을 삼산화이알루미늄으로 한 경우에 있어 아래의 표 6과 같다. 여기서 차수는 각 층 박막의 두께 변화에 따른 실험 횟수이다.
차수 1층/Al2O3 2층/TiO2 3층/Al2O3 4층/TiO2 5층/Al2O3
1차 1000Å 246Å 214Å 596Å 808Å
2차 1021Å 246Å 214Å 596Å 808Å
3차 979Å 234Å 205Å 566Å 775Å
<고 투과율의 전도성 필름 제조 방법>
도 4는 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름 제조 방법의 일 실시예를 순차적으로 나타낸 순서도이다. 도 4를 참조하면, 우선 투명전극 패턴(110)이 전도성 필름(10)에 형성된다(S100).
다음, 다수의 반사 방지 박막(20)이 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름(10)의 적어도 일면(전면 또는/및 배면)에 형성됨으로써(S200) 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름의 제조방법이 수행될 수 있다.
다만, 다수의 반사 방지 박막(20)은, 진공 증착법(Sputtering 법, 전자빔 법), 스프레이법 및 습식법 중 선택된 어느 하나의 코팅법으로 코팅될 수 있으며, 특히 진공 증착법을 이용하는 경우 기판(예: ITO 필름) 온도에 따라 코팅 막의 두께가 달라질 수 있음에 주의하여 수행한다.
여기서, 다수의 반사 방지 박막(20) 형성단계(S200)는, 우선, 일산화규소 및 이산화규소 중 어느 하나로 기저 박막이 코팅된다(S210).
다음, 제 1 이산화티타늄 박막이 기저 박막상으로 코팅된다(S220).
다음, 제 1 이산화규소 박막이 제 1 이산화티타늄 박막상으로 코팅된다(S230).
다음, 제 2 이산화티타늄 박막이 제 1 이산화규소 박막상으로 코팅된다(S240).
마지막으로 제 2 이산화규소 박막이 제 2 이산화티타늄 박막상으로 코팅됨으로써(S250) 전도성 필름(10)에 다수의 반사 방지 박막(20)이 코팅이 수행될 수 있다.
<고 투과율의 터치 패널>
도 5a 내지 도 5c는 본 발명인 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름이 구비된 터치 패널 제 1 실시예 내지 제 3 실시예의 단면을 나타낸 단면도이다. 여기서는 상술한 고 투과율 전도성 필름의 각 실시예 중 일부 실시예만을 이용하여 제조된 터치 패널의 실시예를 나타낸 것이므로 다양한 변형예가 가능함은 물론이다. 즉, 광투명 점착필름(30)이 합착되는 구성은 다수의 반사 방지 박막(20)을 전도성 필름(10)과의 사이에 두고 다수의 반사 방지 박막(20)의 상부에 형성되거나 전도성 필름(10)을 다수의 반사 방지 박막(20)과의 사이에 두고 전도성 필름(10)의 상부에 형성될 수 있다.
터치 패널의 제 1실시예의 경우 도 5a에 도시된 바와 같이, 다수의 반사 방지 박막(20)의 상부로 광투명 점착필름(30)이 합착되어 1 레이어의 정전용량 방식 터치 패널로 구성될 수 있다. 물론, 투명전극 패턴(110)은 일 방향의 축과 이에 수직하는 방향의 축으로 형성되어 터치 위치에 따른 정전용량 변화에 기반하여 터치 위치를 알 수 있다. 또한, 광투명 점착필름은 광투명 점착제(OCA, Optical Clear Adhesives)임과 동시에 감압성 점착제이다.
터치 패널의 제 2실시예의 경우 도 5b에 도시된 바와 같이, 일 방향의 축과 이에 수직하는 수직축으로 각각의 투명전극 패턴(110)이 전도성 필름(10) 상에 형성되어 있으며, 그 각각의 투명전극 패턴(110) 상부로 다수의 반사 방지 박막(210, 220, 230, 240, 250)이 코팅되어 있고, 광투명 점착필름(30)이 합착되어 2 레이어의 정전용량 방식 터치 패널이 구성될 수 있다.
터치 패널의 제 3실시예의 경우 도 5c에 도시된 바와 같이, 투명전극 패턴(110)이 형성된 전도성 필름(10)이 상하로 에어갭(A)을 두고 대면하도록 구성하여 저항막 방식의 터치 패널을 구현할 수 있다. 물론, 다수의 반사 방지 박막(210, 220, 230, 240, 250)이 각각의 전도성 필름(10)에 코팅되어 광 반사 방지를 통한 고 투과율의 터치 패널을 구현함을 물론이다.
또한, 추가 구성으로 에어갭(A)을 유지하고 상하부 전도성 필름(10)의 합착을 위해 스페이서(S)를 포함할 수 있으며, 스페이서(S)의 세부 구성은 실버 전극(미도시) 및 양면점착제(미도시)를 포함할 수 있으나 기 공지된 구성으로서 자세한 설명은 생략한다. 이 밖에도 전도성 필름(10)에 외부 터치힘에 잘 반발할 수 있도록 도트 스페이서(D)를 더 추가할 수 있다.
<고 투과율의 터치 패널 제조 방법>
도 6은 본 발명에 따른 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름을 이용한 터치 패널 제조 방법의 일 실시예를 순차적으로 나타낸 순서도이다. 도 6을 참조하면, 우선, 전도성 필름(10)에 투명전극 패턴(110)이 형성된다(S300).
다음, 다수의 반사 방지 박막(20)이 광의 반사 방지를 위해 전도성 필름(10)의 적어도 일면에 형성된다(S400).
마지막으로, 광투명 점착필름(30)이 다수의 반사 방지 박막(20)을 전도성 필름(10)과의 사이에 두고 다수의 반사 방지 박막(20)의 상부에 형성되거나 전도성 필름(10)을 다수의 반사 방지 박막(20)과의 사이에 두고 전도성 필름(10)의 상부에 형성됨으로써(S500) 고 투과율의 터치 패널의 제조 방법이 수행될 수 있다.
여기서, 다수의 반사 방지 박막(20) 형성단계(S400)는 우선, 일산화규소 및 이산화규소 중 어느 하나로 기저 박막이 코팅된다(S410).
다음, 제 1 이산화티타늄 박막이 기저 박막상으로 코팅된다(S420).
다음, 제 1 이산화규소 박막이 제 1 이산화티타늄 박막상으로 코팅된다(S430).
다음, 제 2 이산화티타늄 박막이 제 1 이산화규소 박막상으로 코팅된다(S440).
마지막으로 제 2 이산화규소 박막이 제 2 이산화티타늄 박막상으로 코팅됨으로써(S450) 전도성 필름(10)에 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기의 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
A: 에어갭
S: 스페이서
D: 도트 스페이서
10: 전도성 필름
20: 다수의 반사 방지 박막
30: 광투명 점착필름
110: 투명전극 패턴
120: 에칭면
210: 제 1층 박막
220: 제 2층 박막
230: 제 3층 박막
240: 제 4층 박막
250: 제 5층 박막

Claims (15)

  1. 투명전극 패턴이 형성된 전도성 필름; 및
    광의 반사 방지를 위해 상기 전도성 필름의 적어도 일면에 형성된 다수의 반사 방지 박막;을 포함하되,
    상기 다수의 반사 방지 박막은 기저 박막, 제 1 이산화티타늄 박막, 제 1 이산화규소 박막, 제 2 이산화티타늄 박막 및 제 2 이산화규소 박막이 상기 일면에 순차적으로 코팅된 것이며,
    상기 기저 박막은 일산화규소 및 이산화규소 중 어느 하나가 코팅되고, 상기 코팅된 기저 박막은 공기에 대한 상대 굴절률이 1.4 내지 2.1인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  2. 투명전극 패턴이 형성된 전도성 필름; 및
    광의 반사 방지를 위해 상기 전도성 필름의 적어도 일면에 형성된 다수의 반사 방지 박막;을 포함하되,
    상기 다수의 반사 방지 박막은 제 1 삼산화이알루미늄 박막, 제 1 이산화티타늄 박막, 제 2 삼산화이알루미늄 박막, 제 2 이산화티타늄 박막 및 제 3 삼산화이알루미늄 박막이 상기 일면에 순차적으로 코팅된 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 전도성 필름은 ITO 필름(인듐주석산화물, indium tin oxide), ATO 필름(Antimony Tin Oxide) 및 AZO 필름(Antimony Zinc Oxide) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막(20)이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 코팅된 기저 박막이 상기 일산화규소인 경우, 상기 코팅된 기저 박막은 두께가 110 Å 내지 140 Å이고, 상기 코팅된 제 1 이산화티타늄 박막은 두께가 190 Å 내지 230 Å이며, 상기 코팅된 제 1 이산화규소 박막은 두께가 130 Å 내지 210 Å이고, 상기 코팅된 제 2 이산화티타늄 박막은 두께가 730 Å 내지 870 Å이며, 상기 코팅된 제 2 이산화규소 박막은 두께가 890 Å 내지 1010 Å인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 코팅된 기저 박막이 상기 이산화규소인 경우, 상기 코팅된 기저 박막은 두께가 1590 Å 내지 1670 Å이고, 상기 코팅된 제 1 이산화티타늄 박막은 두께가 130 Å 내지 170 Å이며, 상기 코팅된 제 1 이산화규소 박막은 두께가 330 Å 내지 380 Å이고, 상기 코팅된 제 2 이산화티타늄 박막은 두께가 1190 Å 내지 1210 Å이며, 상기 코팅된 제 2 이산화규소 박막은 두께가 960 Å 내지 980 Å인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  6. 제 2항에 있어서,
    상기 제 1 삼산화이알루미늄 박막은 두께가 970 Å 내지 1030 Å이고, 상기 코팅된 제 1 이산화티타늄 박막은 두께가 220 Å 내지 260 Å이며, 상기 코팅된 제 2 삼산화이알루미늄 박막은 두께가 190 Å 내지 230 Å이고, 상기 코팅된 제 2 이산화티타늄 박막은 두께가 550 Å 내지 610 Å이며, 상기 코팅된 제 3 삼산화이알루미늄 박막은 두께가 760 Å 내지 820 Å인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  7. 제 2항에 있어서,
    상기 제 1 삼산화이알루미늄은 공기에 대한 상대 굴절률이 1.4 내지 2.1인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  8. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 다수의 반사 방지 박막은,
    진공 증착법, 스프레이법 및 습식법 중 선택된 어느 하나의 코팅법으로 코팅된 박막인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  9. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 광은 파장이 450 nm 내지 650 nm인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름.
  10. 투명전극 패턴이 형성된 전도성 필름;
    광의 반사 방지를 위해 상기 전도성 필름의 적어도 일면에 형성된 다수의 반사 방지 박막; 및
    상기 다수의 반사 방지 박막을 상기 전도성 필름과의 사이에 두고 상기 다수의 반사 방지 박막의 상부에 형성되거나 상기 전도성 필름을 상기 다수의 반사 방지 박막과의 사이에 두고 상기 전도성 필름의 상부에 형성된 광투명 점착필름;을 포함하되,
    상기 다수의 반사 방지 박막은 기저 박막, 제 1 이산화티타늄 박막, 제 1 이산화규소 박막, 제 2 이산화티타늄 박막 및 제 2 이산화규소 박막이 상기 일면에 순차적으로 코팅된 것이며,
    상기 기저 박막은 일산화규소, 이산화규소 및 삼산화이알루미늄 중 어느 하나가 코팅된 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 터치 패널.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 광투명 점착필름은 감압식 점착제인 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 터치 패널.
  12. 제 10항에 있어서,
    상기 전도성 필름, 상기 다수의 반사 방지 박막 및 상기 광투명 점착필름은 각각 복수로 구비되는 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 터치 패널.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 복수로 구비된 전도성 필름은 각각의 투명전극 패턴이 상호 대면하는 상부 전도성 필름 및 하부 전도성 필름을 포함하고,
    상기 상부 전도성 필름 및 상기 하부 전도성 필름 사이에 일정 간격의 에어갭이 유지될 수 있도록 다수의 도트 스페이서가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 터치 패널.
  14. 삭제
  15. 전도성 필름에 투명전극 패턴이 형성되는 단계(S300);
    다수의 반사 방지 박막이 광의 반사 방지를 위해 상기 전도성 필름의 적어도 일면에 형성되는 단계(S400); 및
    광투명 점착필름이 상기 다수의 반사 방지 박막을 상기 전도성 필름과의 사이에 두고 상기 다수의 반사 방지 박막의 상부에 형성되거나 상기 전도성 필름을 상기 다수의 반사 방지 박막과의 사이에 두고 상기 전도성 필름의 상부에 형성되는 단계(S500);를 포함하되,
    상기 다수의 반사 방지 박막 형성단계(S400)는,
    일산화규소 및 이산화규소 중 어느 하나로 기저 박막이 코팅되는 단계(S410);
    제 1 이산화티타늄 박막이 상기 기저 박막상으로 코팅되는 단계(S420);
    제 1 이산화규소 박막이 상기 제 1 이산화티타늄 박막상으로 코팅되는 단계(S430);
    제 2 이산화티타늄 박막이 상기 제 1 이산화규소 박막상으로 코팅되는 단계(S440); 및
    제 2 이산화규소 박막이 상기 제 2 이산화티타늄 박막상으로 코팅되는 단계(S450);로 구성되는 것을 특징으로 하는 다수의 반사 방지 박막이 형성된 고 투과율의 전도성 필름을 이용한 터치 패널의 제조방법.
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