JPS62143846A - 透明基板の反射防止処理方法 - Google Patents
透明基板の反射防止処理方法Info
- Publication number
- JPS62143846A JPS62143846A JP60284660A JP28466085A JPS62143846A JP S62143846 A JPS62143846 A JP S62143846A JP 60284660 A JP60284660 A JP 60284660A JP 28466085 A JP28466085 A JP 28466085A JP S62143846 A JPS62143846 A JP S62143846A
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- JP
- Japan
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- transparent substrate
- antireflection
- reflectance
- treatment
- plate
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- Pending
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス板や樹脂板等の透明基板に反射防止処
理を行なう場合、その反射防止効果を大きくするための
方法に関し、例えば、車両のメータパネル用の透過基板
の防止方法に好適である。
理を行なう場合、その反射防止効果を大きくするための
方法に関し、例えば、車両のメータパネル用の透過基板
の防止方法に好適である。
一般に、無反射処理は、ガラス等の透明基板表面に薄膜
を形成し、反射光の干渉により反射率を低減する方法が
行われており、古くはカメラのレンズの光透過率向上の
ため使用されたり、最新ではコンピュータ等のCRTな
ど、ディスプレイに利用されている。又、自動車におい
ても、メータディスプレイを見易(するため、メータア
クリルに反射防止処理を行なうようになってきている。
を形成し、反射光の干渉により反射率を低減する方法が
行われており、古くはカメラのレンズの光透過率向上の
ため使用されたり、最新ではコンピュータ等のCRTな
ど、ディスプレイに利用されている。又、自動車におい
ても、メータディスプレイを見易(するため、メータア
クリルに反射防止処理を行なうようになってきている。
該薄膜は、単層又は複数層で構成されており、その膜厚
および屈折率の構成を、ある決められた条件(反射防止
条件)とすることにより、反射率を大きく低減できる。
および屈折率の構成を、ある決められた条件(反射防止
条件)とすることにより、反射率を大きく低減できる。
例えば、三層反射防止膜をガラス基板の両面に設けると
、ガラスのみでは、両面で8%の反射であるものが、1
%以下におさえることができる。
、ガラスのみでは、両面で8%の反射であるものが、1
%以下におさえることができる。
しかし、実際の場合、上記性能を得るには、前記、反射
防止条件を満たす膜厚に、各薄膜を正確に制御しなけれ
ばならず大変困難であり、製作コストも大きくなるとい
う問題がある。
防止条件を満たす膜厚に、各薄膜を正確に制御しなけれ
ばならず大変困難であり、製作コストも大きくなるとい
う問題がある。
(問題点を解決するための手段〕
そこで、本発明はこの従来の薄膜による反射防止処理を
行なう前に、透明基板の表面を凹凸処理するという技術
手段を採用する。
行なう前に、透明基板の表面を凹凸処理するという技術
手段を採用する。
以下本発明を図に示す実施例に基づいて詳細に説明する
。
。
第1図は、本発明の一実施例を示し、透明基板1の上面
1aおよび下面1bには、凹凸処理が施されており、上
下面1a、lbにはそれぞれ反射防止用の薄膜層2.3
が形成されている。該薄膜層2,3は、3層から成り立
っており、第一層目(2a、3a)は、MgO(反射率
n−1,72、膜厚d=800人)、第二層目(2b、
3b)は、Ti0z(反射率n=2.42、膜厚d=1
000人)、第三層目(2c、 3 c)は、5iO
z(反射率n=1.46、膜厚d=950人)である。
1aおよび下面1bには、凹凸処理が施されており、上
下面1a、lbにはそれぞれ反射防止用の薄膜層2.3
が形成されている。該薄膜層2,3は、3層から成り立
っており、第一層目(2a、3a)は、MgO(反射率
n−1,72、膜厚d=800人)、第二層目(2b、
3b)は、Ti0z(反射率n=2.42、膜厚d=1
000人)、第三層目(2c、 3 c)は、5iO
z(反射率n=1.46、膜厚d=950人)である。
上記透明基板1の表面上に形成された凹凸は例えばガラ
ス基板の場合、沸化水素等による化学エツチングで作る
か、硬度の高い物質(ダイヤモンド、石英等)でこする
ことによって製作する。アクリル等の樹脂では、その樹
脂より硬度の高い物質をこすり付けることで作ることが
できる。
ス基板の場合、沸化水素等による化学エツチングで作る
か、硬度の高い物質(ダイヤモンド、石英等)でこする
ことによって製作する。アクリル等の樹脂では、その樹
脂より硬度の高い物質をこすり付けることで作ることが
できる。
また、Arイオン等のイオンビームを透明基板の表面に
照射して、エツチングする方法でもよい。
照射して、エツチングする方法でもよい。
上記のように、透明基板1の表面1a、lbに凹凸処理
を施した後、上述の薄膜層2,3を形成する。この形成
方法としては、電子ビーム薄着等の蒸着法、スパッタ法
、CVD法などの薄膜物質を物理的に又は化学的にディ
ポジットする方法を用いる。この方法によれば、各層は
、ディポジットされる際に、透明基板1の表面1aの凹
凸に沿ってディポジットされるため、特別な凹凸処理を
施すことなく、各層の境界には、第1図に示されるよう
に凹凸が形成される。
を施した後、上述の薄膜層2,3を形成する。この形成
方法としては、電子ビーム薄着等の蒸着法、スパッタ法
、CVD法などの薄膜物質を物理的に又は化学的にディ
ポジットする方法を用いる。この方法によれば、各層は
、ディポジットされる際に、透明基板1の表面1aの凹
凸に沿ってディポジットされるため、特別な凹凸処理を
施すことなく、各層の境界には、第1図に示されるよう
に凹凸が形成される。
てお、積層方法は、上記物理的なディポジットに限らず
、例えば、薄膜物質を溶液にて透明基板に塗布するよう
にしてもよい。
、例えば、薄膜物質を溶液にて透明基板に塗布するよう
にしてもよい。
次に、上記構成を有する本例の作用について説明する。
まず、上記薄膜層2.3の反射防止効果について説明す
る。上記各薄膜2a−c、3a−cば上記した反射率お
よび薄膜にすることにより、光の干渉を生しさせ可視域
の光(波長400 n m〜800nm)の透過率を向
上させている。これによって入射した光の反射率を低下
させる。
る。上記各薄膜2a−c、3a−cば上記した反射率お
よび薄膜にすることにより、光の干渉を生しさせ可視域
の光(波長400 n m〜800nm)の透過率を向
上させている。これによって入射した光の反射率を低下
させる。
第2図は、本例における薄膜層を設けた場合の反射率の
測定例を示している。この第2図かられかるように可視
域400nm〜800 nmで1%以下の反射率に押さ
えることができる。
測定例を示している。この第2図かられかるように可視
域400nm〜800 nmで1%以下の反射率に押さ
えることができる。
ここで、本例では、上記反射防止膜に加えて、透明基板
1の表面および各薄膜1a〜b、’ 2a〜bの境界
には凹凸が形成されているため、第1図に示す如く、入
射光Iは、各層の境界部に形成された凹凸部によって乱
反射されるため、みかけ上の反射率が低下する。
1の表面および各薄膜1a〜b、’ 2a〜bの境界
には凹凸が形成されているため、第1図に示す如く、入
射光Iは、各層の境界部に形成された凹凸部によって乱
反射されるため、みかけ上の反射率が低下する。
この効果は、分光特性等で調べても、1・−タルの光量
は変わらないため、測定できないが、1視により従来の
反射率のさらに10〜30%程度まで低下できる。これ
以上、反射率を低下させるには、基板1の透過率犠牲に
しなければならないが、光の透過性があまり必要でない
のなら、もっと下げることができる。
は変わらないため、測定できないが、1視により従来の
反射率のさらに10〜30%程度まで低下できる。これ
以上、反射率を低下させるには、基板1の透過率犠牲に
しなければならないが、光の透過性があまり必要でない
のなら、もっと下げることができる。
以上の実施例は、第1図に基づいて説明したものである
が、本発明は上述の実施例に限定されることな(種々の
変形が可能である。
が、本発明は上述の実施例に限定されることな(種々の
変形が可能である。
例えば、透明基板1の表面に施す凹凸処理は、上述のエ
ツチングに限定されず、第3図、第4図に示すような形
状に機械加工等によって形成してもよい。薄膜による反
射防止膜部は、実施例ではMg0−TiO□−3in2
系で行ったが、他の構成、例えば、MgF2−Zr0□
−CeF3等の構成でも、本効果は十分満足できる。
ツチングに限定されず、第3図、第4図に示すような形
状に機械加工等によって形成してもよい。薄膜による反
射防止膜部は、実施例ではMg0−TiO□−3in2
系で行ったが、他の構成、例えば、MgF2−Zr0□
−CeF3等の構成でも、本効果は十分満足できる。
また、実施例では、3層構造を取り扱ったが、1層、2
層又はもっと多い多層膜でも、本効果は十分満足できる
ものである。
層又はもっと多い多層膜でも、本効果は十分満足できる
ものである。
上述したように、本発明では反射防止膜によって可視光
の透過率が向上することにより反射率が低下するという
効果に加えて、透明基板の表面におよび反射防止膜の表
面に形成された凹凸によって入射光を乱反射させ、みか
け上の反射率を低下されるため、これらの相乗効果によ
り、透明基板の視認性が従来に比べて大きく向上する。
の透過率が向上することにより反射率が低下するという
効果に加えて、透明基板の表面におよび反射防止膜の表
面に形成された凹凸によって入射光を乱反射させ、みか
け上の反射率を低下されるため、これらの相乗効果によ
り、透明基板の視認性が従来に比べて大きく向上する。
また、本発明では、透明基板の表面に凹凸処理を施して
おけば、その上に形成される反射防止膜の表面にも特別
な処理を施すことなく凹凸が自動的に形成されるため、
非常に節4iな製造工程で安価に製造できるという効果
がある。
おけば、その上に形成される反射防止膜の表面にも特別
な処理を施すことなく凹凸が自動的に形成されるため、
非常に節4iな製造工程で安価に製造できるという効果
がある。
第1図は、本発明の一例を示す構造断面図、第2図は、
第1図に示す反射防止膜による反射率低下を示す特性図
、第3図および第4図は、本発明の透明基板の他側を示
す断面図である。 1 ・・・透明基板、2a、3a・・・Mg0.2b、
3b”T i 02 、 2 c、 3 c−3i
Oz。 代理人弁理士 岡 部 隆 第1図 ;t 長 (mm) 第2図 第3図 第4図
第1図に示す反射防止膜による反射率低下を示す特性図
、第3図および第4図は、本発明の透明基板の他側を示
す断面図である。 1 ・・・透明基板、2a、3a・・・Mg0.2b、
3b”T i 02 、 2 c、 3 c−3i
Oz。 代理人弁理士 岡 部 隆 第1図 ;t 長 (mm) 第2図 第3図 第4図
Claims (4)
- (1)透明基板上に、可視光を吸収することなく透過せ
しめる反射防止薄膜を形成する透明基板の反射防止処理
方法において、 前記反射防止薄膜を形成する前に、前記透明基板の表面
を凹凸処理することを特徴とする透明基板の反射防止処
理方法。 - (2)前記凹凸処理は、沸化水素等の化学エッチングで
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の透明
基板の反射防止処理方法。 - (3)前記凹凸処理は、Arイオン等のイオンビーム前
記透明基板表面に照射することであることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の透明基板の反射防止処理方
法。 - (4)前記透明基板上には、MgO、TiO_2、Si
O_2を順次積層することを特徴とする透明基板の反射
防止処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60284660A JPS62143846A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 透明基板の反射防止処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60284660A JPS62143846A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 透明基板の反射防止処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62143846A true JPS62143846A (ja) | 1987-06-27 |
Family
ID=17681332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60284660A Pending JPS62143846A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 透明基板の反射防止処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62143846A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01180333A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 金属膜を含む反射防止膜付着透明体 |
JPH01200952A (ja) * | 1988-02-05 | 1989-08-14 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 金属膜を有する反射防止膜付着透明板 |
JPH01249330A (ja) * | 1988-03-30 | 1989-10-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 金属膜を含む反射防止膜付着透明体 |
US6245493B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-06-12 | Bhanwar Singh | Method for reducing surface reflectivity by increasing surface roughness |
JP2002333502A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示部を有する携帯可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板および携帯可能な機器 |
US7553552B2 (en) * | 2005-11-10 | 2009-06-30 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Ornament |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP60284660A patent/JPS62143846A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01180333A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 金属膜を含む反射防止膜付着透明体 |
JPH01200952A (ja) * | 1988-02-05 | 1989-08-14 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 金属膜を有する反射防止膜付着透明板 |
JPH01249330A (ja) * | 1988-03-30 | 1989-10-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 金属膜を含む反射防止膜付着透明体 |
US6245493B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-06-12 | Bhanwar Singh | Method for reducing surface reflectivity by increasing surface roughness |
JP2002333502A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示部を有する携帯可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板および携帯可能な機器 |
US7553552B2 (en) * | 2005-11-10 | 2009-06-30 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Ornament |
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