JPS62143846A

JPS62143846A - 透明基板の反射防止処理方法

Info

Publication number: JPS62143846A
Application number: JP60284660A
Authority: JP
Inventors: Minoru Yamamoto; 稔山本; Tadashi Hattori; 正服部; Yoshiki Ueno; 上野　祥樹
Original assignee: Nippon Soken Inc
Current assignee: Soken Inc
Priority date: 1985-12-18
Filing date: 1985-12-18
Publication date: 1987-06-27

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、ガラス板や樹脂板等の透明基板に反射防止処
理を行なう場合、その反射防止効果を大きくするための
方法に関し、例えば、車両のメータパネル用の透過基板
の防止方法に好適である。

〔従来の技術〕

一般に、無反射処理は、ガラス等の透明基板表面に薄膜
を形成し、反射光の干渉により反射率を低減する方法が
行われており、古くはカメラのレンズの光透過率向上の
ため使用されたり、最新ではコンピュータ等のＣＲＴな
ど、ディスプレイに利用されている。又、自動車におい
ても、メータディスプレイを見易（するため、メータア
クリルに反射防止処理を行なうようになってきている。

該薄膜は、単層又は複数層で構成されており、その膜厚
および屈折率の構成を、ある決められた条件（反射防止
条件）とすることにより、反射率を大きく低減できる。

例えば、三層反射防止膜をガラス基板の両面に設けると
、ガラスのみでは、両面で８％の反射であるものが、１
％以下におさえることができる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、実際の場合、上記性能を得るには、前記、反射
防止条件を満たす膜厚に、各薄膜を正確に制御しなけれ
ばならず大変困難であり、製作コストも大きくなるとい
う問題がある。

（問題点を解決するための手段〕そこで、本発明はこの従来の薄膜による反射防止処理を
行なう前に、透明基板の表面を凹凸処理するという技術
手段を採用する。

〔実施例〕

以下本発明を図に示す実施例に基づいて詳細に説明する
。

第１図は、本発明の一実施例を示し、透明基板１の上面
１ａおよび下面１ｂには、凹凸処理が施されており、上
下面１ａ、ｌｂにはそれぞれ反射防止用の薄膜層２．３
が形成されている。該薄膜層２，３は、３層から成り立
っており、第一層目（２ａ、３ａ）は、ＭｇＯ（反射率
ｎ−１，７２、膜厚ｄ＝８００人）、第二層目（２ｂ、
３ｂ）は、Ｔｉ０ｚ（反射率ｎ＝２．４２、膜厚ｄ＝１
０００人）、第三層目（２ｃ、　　３　ｃ）は、５ｉＯ
ｚ（反射率ｎ＝１．４６、膜厚ｄ＝９５０人）である。

上記透明基板１の表面上に形成された凹凸は例えばガラ
ス基板の場合、沸化水素等による化学エツチングで作る
か、硬度の高い物質（ダイヤモンド、石英等）でこする
ことによって製作する。アクリル等の樹脂では、その樹
脂より硬度の高い物質をこすり付けることで作ることが
できる。

また、Ａｒイオン等のイオンビームを透明基板の表面に
照射して、エツチングする方法でもよい。

上記のように、透明基板１の表面１ａ、ｌｂに凹凸処理
を施した後、上述の薄膜層２，３を形成する。この形成
方法としては、電子ビーム薄着等の蒸着法、スパッタ法
、ＣＶＤ法などの薄膜物質を物理的に又は化学的にディ
ポジットする方法を用いる。この方法によれば、各層は
、ディポジットされる際に、透明基板１の表面１ａの凹
凸に沿ってディポジットされるため、特別な凹凸処理を
施すことなく、各層の境界には、第１図に示されるよう
に凹凸が形成される。

てお、積層方法は、上記物理的なディポジットに限らず
、例えば、薄膜物質を溶液にて透明基板に塗布するよう
にしてもよい。

次に、上記構成を有する本例の作用について説明する。

まず、上記薄膜層２．３の反射防止効果について説明す
る。上記各薄膜２ａ−ｃ、３ａ−ｃば上記した反射率お
よび薄膜にすることにより、光の干渉を生しさせ可視域
の光（波長４００　ｎ　ｍ〜８００ｎｍ）の透過率を向
上させている。これによって入射した光の反射率を低下
させる。

第２図は、本例における薄膜層を設けた場合の反射率の
測定例を示している。この第２図かられかるように可視
域４００ｎｍ〜８００　ｎｍで１％以下の反射率に押さ
えることができる。

ここで、本例では、上記反射防止膜に加えて、透明基板
１の表面および各薄膜１ａ〜ｂ、’　　２ａ〜ｂの境界
には凹凸が形成されているため、第１図に示す如く、入
射光Ｉは、各層の境界部に形成された凹凸部によって乱
反射されるため、みかけ上の反射率が低下する。

この効果は、分光特性等で調べても、１・−タルの光量
は変わらないため、測定できないが、１視により従来の
反射率のさらに１０〜３０％程度まで低下できる。これ
以上、反射率を低下させるには、基板１の透過率犠牲に
しなければならないが、光の透過性があまり必要でない
のなら、もっと下げることができる。

以上の実施例は、第１図に基づいて説明したものである
が、本発明は上述の実施例に限定されることな（種々の
変形が可能である。

例えば、透明基板１の表面に施す凹凸処理は、上述のエ
ツチングに限定されず、第３図、第４図に示すような形
状に機械加工等によって形成してもよい。薄膜による反
射防止膜部は、実施例ではＭｇ０−ＴｉＯ□−３ｉｎ２
系で行ったが、他の構成、例えば、ＭｇＦ２−Ｚｒ０□
−ＣｅＦ３等の構成でも、本効果は十分満足できる。

また、実施例では、３層構造を取り扱ったが、１層、２
層又はもっと多い多層膜でも、本効果は十分満足できる
ものである。

〔発明の効果〕

上述したように、本発明では反射防止膜によって可視光
の透過率が向上することにより反射率が低下するという
効果に加えて、透明基板の表面におよび反射防止膜の表
面に形成された凹凸によって入射光を乱反射させ、みか
け上の反射率を低下されるため、これらの相乗効果によ
り、透明基板の視認性が従来に比べて大きく向上する。

また、本発明では、透明基板の表面に凹凸処理を施して
おけば、その上に形成される反射防止膜の表面にも特別
な処理を施すことなく凹凸が自動的に形成されるため、
非常に節４ｉな製造工程で安価に製造できるという効果
がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一例を示す構造断面図、第２図は、
第１図に示す反射防止膜による反射率低下を示す特性図
、第３図および第４図は、本発明の透明基板の他側を示
す断面図である。１　・・・透明基板、２ａ、３ａ・・・Ｍｇ０．２ｂ、
３ｂ”Ｔ　ｉ　０２　、　２　ｃ、　　３　ｃ−３ｉ　
Ｏｚ。代理人弁理士　岡　　部　　　隆第１図；ｔ　長　（ｍｍ）第２図第３図第４図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）透明基板上に、可視光を吸収することなく透過せ
しめる反射防止薄膜を形成する透明基板の反射防止処理
方法において、前記反射防止薄膜を形成する前に、前記透明基板の表面
を凹凸処理することを特徴とする透明基板の反射防止処
理方法。
（２）前記凹凸処理は、沸化水素等の化学エッチングで
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の透明
基板の反射防止処理方法。
（３）前記凹凸処理は、Ａｒイオン等のイオンビーム前
記透明基板表面に照射することであることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の透明基板の反射防止処理方
法。
（４）前記透明基板上には、ＭｇＯ、ＴｉＯ＿２、Ｓｉ
Ｏ＿２を順次積層することを特徴とする透明基板の反射
防止処理方法。