JPH08281856A - 透明導電性フィルム又はシート - Google Patents
透明導電性フィルム又はシートInfo
- Publication number
- JPH08281856A JPH08281856A JP11133195A JP11133195A JPH08281856A JP H08281856 A JPH08281856 A JP H08281856A JP 11133195 A JP11133195 A JP 11133195A JP 11133195 A JP11133195 A JP 11133195A JP H08281856 A JPH08281856 A JP H08281856A
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- JP
- Japan
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- conductive film
- transparent conductive
- rough surface
- sheet
- transparent
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 タッチパネルを押圧した際に、干渉縞（ニュ
ートンリング）の発生が抑制され、かつ表示体の視認性
を損なわない透明導電性フィルム又はシートを提供する
ことを目的とする。 【構成】 透明基板（１）のいずれか一方の面に凹凸を
有する粗面（２）を設け、粗面の上に透明導電膜（３）
を設けた構成とする。
ートンリング）の発生が抑制され、かつ表示体の視認性
を損なわない透明導電性フィルム又はシートを提供する
ことを目的とする。 【構成】 透明基板（１）のいずれか一方の面に凹凸を
有する粗面（２）を設け、粗面の上に透明導電膜（３）
を設けた構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抵抗膜式タッチパネル
等に用いられる透明導電性フィルム又はシートに係わ
り、詳しくは、特に、該フィルム又はシートより形成さ
れたタッチパネルを押圧した際に、干渉縞（ニュートン
リング）の発生が抑制され、タッチパネルの下面に設置
した表示体の視認性を損なわない透明導電性フィルム又
はシートに関するものである。
等に用いられる透明導電性フィルム又はシートに係わ
り、詳しくは、特に、該フィルム又はシートより形成さ
れたタッチパネルを押圧した際に、干渉縞（ニュートン
リング）の発生が抑制され、タッチパネルの下面に設置
した表示体の視認性を損なわない透明導電性フィルム又
はシートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より知られている抵抗膜式タッチパ
ネルの構成を、図２に示す。上部基材（Ｂ）は可撓性を
有し、絶縁性の透明な上部基板（１ａ）と、透明導電膜
（３ａ）で構成された透明導電性シートからなり、下記
基材（Ｃ）は絶縁性の透明な下部基板（１ｂ）と、透明
導電膜（３ｂ）で構成された透明導電性シートよりなり
たっている。両基材は絶縁スペーサー（４）を介して対
向配置され、透明なタッチスイッチを構成している。上
部基材を押圧することにより、対向する導電膜（３
ａ）、（３ｂ）が接触し、スイッチが作動する。
ネルの構成を、図２に示す。上部基材（Ｂ）は可撓性を
有し、絶縁性の透明な上部基板（１ａ）と、透明導電膜
（３ａ）で構成された透明導電性シートからなり、下記
基材（Ｃ）は絶縁性の透明な下部基板（１ｂ）と、透明
導電膜（３ｂ）で構成された透明導電性シートよりなり
たっている。両基材は絶縁スペーサー（４）を介して対
向配置され、透明なタッチスイッチを構成している。上
部基材を押圧することにより、対向する導電膜（３
ａ）、（３ｂ）が接触し、スイッチが作動する。
【０００３】前記抵抗膜式のタッチパネルの上部基材及
び下部基材には一般に、ポリエチレンテレフタレートな
どの透明なプラスチックフィルム又はシート、もしくは
ガラス板上に透明導電膜としてインジウム・錫酸化物
（ＩＴＯ）等の金属酸化物の薄膜を形成した、透明導電
性フィルム又はシートが使用されている。
び下部基材には一般に、ポリエチレンテレフタレートな
どの透明なプラスチックフィルム又はシート、もしくは
ガラス板上に透明導電膜としてインジウム・錫酸化物
（ＩＴＯ）等の金属酸化物の薄膜を形成した、透明導電
性フィルム又はシートが使用されている。
【０００４】また、下部基材の下方には例えば液晶や、
エレクトロルミネッセンス等の表示体が配置される為、
上部基材、及び下部基材に使用される透明導電性フィル
ム又はシートには、表示体の視認性を損なわない程度の
透過率が必要とされる。
エレクトロルミネッセンス等の表示体が配置される為、
上部基材、及び下部基材に使用される透明導電性フィル
ム又はシートには、表示体の視認性を損なわない程度の
透過率が必要とされる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の透明導電性フィ
ルム又はシートは透明導電膜の面が平滑であるため、こ
れより構成したタッチパネルを押圧した際に上部基材と
下部基材の間で干渉縞（ニュートンリング）が発生する
という問題があった。
ルム又はシートは透明導電膜の面が平滑であるため、こ
れより構成したタッチパネルを押圧した際に上部基材と
下部基材の間で干渉縞（ニュートンリング）が発生する
という問題があった。
【０００６】そこで本発明は、前述の課題を解決し、タ
ッチパネルを押圧した際に、干渉縞（ニュートンリン
グ）の発生が抑制され、かつ視認性の良い透明導電性フ
ィルム又はシートを提供することを目的とする。
ッチパネルを押圧した際に、干渉縞（ニュートンリン
グ）の発生が抑制され、かつ視認性の良い透明導電性フ
ィルム又はシートを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたものであって、透明導電性フィル
ム又はシート（Ａ）において、図１に示すように透明基
板（１）に凹凸を有する粗面（２）を設け、更に粗面の
上部に透明導電層（３）を設けたことを特徴とする。
成するためになされたものであって、透明導電性フィル
ム又はシート（Ａ）において、図１に示すように透明基
板（１）に凹凸を有する粗面（２）を設け、更に粗面の
上部に透明導電層（３）を設けたことを特徴とする。
【０００８】ここで、透明基板としては、ガラスや透明
な合成樹脂等の光を通す透光性物質をフィルム又はシー
ト状に成形したもの、またこれらの透光性物質を重ね合
わせ、フィルム又はシート状に成形したものをいう。特
に、透明な合成樹脂、例えばポリエステル、セルロース
系合成樹脂、ポリカーボネイト、透明なアクリル樹脂な
どのフィルム又はシートが好適である。
な合成樹脂等の光を通す透光性物質をフィルム又はシー
ト状に成形したもの、またこれらの透光性物質を重ね合
わせ、フィルム又はシート状に成形したものをいう。特
に、透明な合成樹脂、例えばポリエステル、セルロース
系合成樹脂、ポリカーボネイト、透明なアクリル樹脂な
どのフィルム又はシートが好適である。
【０００９】また、粗面の形成方法としては、サンドブ
ラスト、エンボス等で、透明基板を粗面化する方法、透
明な合成樹脂と顔料からなる塗料を透明基板に塗工し粗
面層を形成する方法等がある。粗面を形成する合成樹脂
としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコー
ンアクリル樹脂、フッ素樹脂等の、透明性の良い樹脂が
好適である。顔料としては、二酸化珪素、二酸化チタ
ン、炭酸カルシウム等の無機顔料、合成樹脂微粉末、ガ
ラスビーズ等の絶縁性の粉体、特に透明導電性フィルム
又はシートの透光性を損なわないために前記合成樹脂と
屈折率が近い顔料が好適である。なお粗面の形成方法と
しては透明基板上に光の透過を阻害しない粗面を形成で
きるならば、必ずしも上記方法に限定するものではな
い。
ラスト、エンボス等で、透明基板を粗面化する方法、透
明な合成樹脂と顔料からなる塗料を透明基板に塗工し粗
面層を形成する方法等がある。粗面を形成する合成樹脂
としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコー
ンアクリル樹脂、フッ素樹脂等の、透明性の良い樹脂が
好適である。顔料としては、二酸化珪素、二酸化チタ
ン、炭酸カルシウム等の無機顔料、合成樹脂微粉末、ガ
ラスビーズ等の絶縁性の粉体、特に透明導電性フィルム
又はシートの透光性を損なわないために前記合成樹脂と
屈折率が近い顔料が好適である。なお粗面の形成方法と
しては透明基板上に光の透過を阻害しない粗面を形成で
きるならば、必ずしも上記方法に限定するものではな
い。
【００１０】また本発明において、透明基板上に形成す
る粗面の凹凸は、高さが 0.3μｍを越える突起間の平均
距離が10μｍ〜 300μｍであることが好適であり、かつ
粗面の最大高さは 0.5μｍ以上５μｍ以下が好適であ
る。高さが 0.3μｍを越える突起間の距離が 300μｍを
越えると、押圧したとき干渉縞が発生し、10μｍ未満で
あると透明導電性フィルム又はシートの透過率が低下す
る為、下部に設置される表示体の視認性が悪くなる。ま
た、粗面の最大高さは 0.5μｍ以上５μｍ以下が好適で
あり、 0.5μｍ未満であると、押圧したとき干渉縞が発
生し、５μｍを越えると、透明導電性フィルム又はシー
トのきめが粗くなる為、透明導電性フィルム又はシート
の下部に設置される表示体の解像度が落ち、視認性が悪
くなる。
る粗面の凹凸は、高さが 0.3μｍを越える突起間の平均
距離が10μｍ〜 300μｍであることが好適であり、かつ
粗面の最大高さは 0.5μｍ以上５μｍ以下が好適であ
る。高さが 0.3μｍを越える突起間の距離が 300μｍを
越えると、押圧したとき干渉縞が発生し、10μｍ未満で
あると透明導電性フィルム又はシートの透過率が低下す
る為、下部に設置される表示体の視認性が悪くなる。ま
た、粗面の最大高さは 0.5μｍ以上５μｍ以下が好適で
あり、 0.5μｍ未満であると、押圧したとき干渉縞が発
生し、５μｍを越えると、透明導電性フィルム又はシー
トのきめが粗くなる為、透明導電性フィルム又はシート
の下部に設置される表示体の解像度が落ち、視認性が悪
くなる。
【００１１】粗面の突起間の平均距離に関しては、触針
粗さ計などで得られた粗面の粗さ曲線（ＪＩＳ Ｂ ０
６０１）において、測定長Ｌ、所定の高さを越える突起
の個数をＮとした時、Ｌ／Ｎで表される。また粗面の最
大高さに関しては、ＪＩＳＢ ０６０１に準じて測定さ
れる。透明導電膜は、低抵抗、高透過率で化学的に安定
である金属酸化物の薄膜であり、一般の蒸着法にて基板
状に形成される。その厚さは数10オングストロームと極
めて薄いため、これによって透明基板に形成された粗面
の凹凸の状態が阻害されるようなことはない。
粗さ計などで得られた粗面の粗さ曲線（ＪＩＳ Ｂ ０
６０１）において、測定長Ｌ、所定の高さを越える突起
の個数をＮとした時、Ｌ／Ｎで表される。また粗面の最
大高さに関しては、ＪＩＳＢ ０６０１に準じて測定さ
れる。透明導電膜は、低抵抗、高透過率で化学的に安定
である金属酸化物の薄膜であり、一般の蒸着法にて基板
状に形成される。その厚さは数10オングストロームと極
めて薄いため、これによって透明基板に形成された粗面
の凹凸の状態が阻害されるようなことはない。
【００１２】なお、用途に応じて前記透明導電性フィル
ム又はシートの粗面上又は、前記粗面と反対側の透明基
板面上に耐擦傷性、耐光性、反射率抑制等の機能の付与
を目的とする層を設けても良い。
ム又はシートの粗面上又は、前記粗面と反対側の透明基
板面上に耐擦傷性、耐光性、反射率抑制等の機能の付与
を目的とする層を設けても良い。
【００１３】図３に本発明の透明導電性フィルム又はシ
ートを用いたタッチパネルの構成図を示す。
ートを用いたタッチパネルの構成図を示す。
【００１４】
（実施例１）透明基板として、 188μｍ厚さのポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用い、ポリエ
ステル樹脂（東洋紡、バイロン２０ＳＳ） 100重量部に
対し無定型シリカ（平均粒径 2.0μｍ）を５重量部配合
した塗料を塗工量５ｇ／ｍ2となるよう塗工し、粗面を
形成した。この粗面の高さ 0.3μｍを越える突起間の平
均距離は下記の方法で測定した結果、 120μｍであっ
た。また、粗面の最大高さは下記の方法で測定した結
果、１μｍであった。この粗面上に厚さ 200オングスト
ロームの透明導電膜（ＩＴＯ）を真空蒸着法にて形成
し、全光線透過率が、92％（ＪＩＳ Ｋ ７１０５のＡ
法に準ずる）の透明導電性フィルムを得た。
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用い、ポリエ
ステル樹脂（東洋紡、バイロン２０ＳＳ） 100重量部に
対し無定型シリカ（平均粒径 2.0μｍ）を５重量部配合
した塗料を塗工量５ｇ／ｍ2となるよう塗工し、粗面を
形成した。この粗面の高さ 0.3μｍを越える突起間の平
均距離は下記の方法で測定した結果、 120μｍであっ
た。また、粗面の最大高さは下記の方法で測定した結
果、１μｍであった。この粗面上に厚さ 200オングスト
ロームの透明導電膜（ＩＴＯ）を真空蒸着法にて形成
し、全光線透過率が、92％（ＪＩＳ Ｋ ７１０５のＡ
法に準ずる）の透明導電性フィルムを得た。
【００１５】これをタッチパネルの上部基材とし、ガラ
ス上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した下部基材と絶縁
スペーサーを介して対向配置し、上部基材側から指で押
圧したところ干渉縞（ニュートンリング）は見られなか
った。また、下部基材下面に設置した表示体の視認性も
良好であった。
ス上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した下部基材と絶縁
スペーサーを介して対向配置し、上部基材側から指で押
圧したところ干渉縞（ニュートンリング）は見られなか
った。また、下部基材下面に設置した表示体の視認性も
良好であった。
【００１６】（比較例１）透明基板として、 188μｍ厚
さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用い、直接このフィルム面上に、実施例１と同様に透明
導電膜（ＩＴＯ）を形成した。これをタッチパネルの上
部基材とし、ガラス上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成し
た下部基材と絶縁スペーサーを介して対向配置し、上部
基材側から指で押圧したところ明らかに干渉縞（ニュー
トンリング）が発生した。
さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用い、直接このフィルム面上に、実施例１と同様に透明
導電膜（ＩＴＯ）を形成した。これをタッチパネルの上
部基材とし、ガラス上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成し
た下部基材と絶縁スペーサーを介して対向配置し、上部
基材側から指で押圧したところ明らかに干渉縞（ニュー
トンリング）が発生した。
【００１７】（実施例２）透明基板として、 188μｍ厚
さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用い、ポリエステル樹脂（東洋紡、バイロン２０ＳＳ）
100重量部に対し炭酸カルシウム（平均粒径 3.0μｍ）
を３重量部配合した塗料を塗工量５ｇ／ｍ2 となるよう
塗工し、粗面を形成した。この粗面上に透明導電膜（Ｉ
ＴＯ）を実施例１と同様に形成し、タッチパネルの上部
基材とした。この粗面の高さ 0.3μｍを越える突起間の
平均距離は50μｍであった。また、粗面の最大高さは４
μｍであった。この粗面上に透明導電膜（ＩＴＯ）形成
し、全光線透過率が、90％（ＪＩＳ Ｋ ７１０５のＡ
法に準ずる）の透明導電性フィルムを得た。
さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用い、ポリエステル樹脂（東洋紡、バイロン２０ＳＳ）
100重量部に対し炭酸カルシウム（平均粒径 3.0μｍ）
を３重量部配合した塗料を塗工量５ｇ／ｍ2 となるよう
塗工し、粗面を形成した。この粗面上に透明導電膜（Ｉ
ＴＯ）を実施例１と同様に形成し、タッチパネルの上部
基材とした。この粗面の高さ 0.3μｍを越える突起間の
平均距離は50μｍであった。また、粗面の最大高さは４
μｍであった。この粗面上に透明導電膜（ＩＴＯ）形成
し、全光線透過率が、90％（ＪＩＳ Ｋ ７１０５のＡ
法に準ずる）の透明導電性フィルムを得た。
【００１８】これをタッチパネルの上部基材とし、ガラ
ス上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した下部基材と絶縁
スペーサーを介して対向配置し、上部基材側から指で押
圧したところ干渉縞（ニュートンリング）は見られなか
った。また、下部基材下面に設置した表示体の視認性も
良好であった。
ス上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した下部基材と絶縁
スペーサーを介して対向配置し、上部基材側から指で押
圧したところ干渉縞（ニュートンリング）は見られなか
った。また、下部基材下面に設置した表示体の視認性も
良好であった。
【００１９】（実施例３）透明基板として、 188μｍ厚
さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用い、ポリエステル樹脂（東洋紡、バイロン２０ＳＳ）
100重量部に対し炭酸カルシウム（平均粒径10μｍ）を
10重量部配合した塗料を塗工量５ｇ／ｍ2となるよう塗
工し、粗面を形成した。この粗面上に実施例１と同様に
透明導電膜（ＩＴＯ）を形成し、タッチパネルの上部基
材とした。この粗面の高さ 0.3μｍを越える突起間の平
均距離は８μｍであった。また、粗面の最大高さは10μ
ｍであった。この粗面上に透明導電膜（ＩＴＯ）形成
し、全光線透過率が、60％（ＪＩＳ Ｋ ７１０５のＡ
法に準ずる）の透明導電性フィルムを得た。
さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用い、ポリエステル樹脂（東洋紡、バイロン２０ＳＳ）
100重量部に対し炭酸カルシウム（平均粒径10μｍ）を
10重量部配合した塗料を塗工量５ｇ／ｍ2となるよう塗
工し、粗面を形成した。この粗面上に実施例１と同様に
透明導電膜（ＩＴＯ）を形成し、タッチパネルの上部基
材とした。この粗面の高さ 0.3μｍを越える突起間の平
均距離は８μｍであった。また、粗面の最大高さは10μ
ｍであった。この粗面上に透明導電膜（ＩＴＯ）形成
し、全光線透過率が、60％（ＪＩＳ Ｋ ７１０５のＡ
法に準ずる）の透明導電性フィルムを得た。
【００２０】この粗面上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成
したフィルムをタッチパネルの上部基材とし、ガラス上
に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した下部基材と絶縁スペ
ーサーを介して対向配置してできたタッチパネルは、下
部基材下面に設置した表示体はやや不鮮明で視認性が悪
くなったものの、上部基材側から指で押圧しても干渉縞
（ニュートンリング）は見られなかった。
したフィルムをタッチパネルの上部基材とし、ガラス上
に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した下部基材と絶縁スペ
ーサーを介して対向配置してできたタッチパネルは、下
部基材下面に設置した表示体はやや不鮮明で視認性が悪
くなったものの、上部基材側から指で押圧しても干渉縞
（ニュートンリング）は見られなかった。
【００２１】実施例の粗面の突起間の距離は、表面粗さ
計（小坂研究所ＳＥ３０Ｋ）にてＪＩＳ Ｂ ０６０１
に準じ、粗さ曲線を求め算出した。また粗面の最大高さ
は同表面粗さ計にてＪＩＳ Ｂ ０６０１に準じ測定し
た。
計（小坂研究所ＳＥ３０Ｋ）にてＪＩＳ Ｂ ０６０１
に準じ、粗さ曲線を求め算出した。また粗面の最大高さ
は同表面粗さ計にてＪＩＳ Ｂ ０６０１に準じ測定し
た。
【００２２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、抵抗膜式タッチパネル等に用いられる透明導電性
フィルム又はシートにおいて、透明基板上に設けた粗面
の上部に透明導電膜を設けたことで、タッチパネルを押
圧した際に、干渉縞（ニュートンリング）の発生を抑制
することができた。また、前記の粗面を高さ 0.3μｍを
越える突起間の平均距離が10μｍ以上 300μｍ以下で、
かつ粗面の最大高さが0.5 μｍ以上５μｍ以下にするこ
とで、タッチパネルの下部基材下面に設置する表示体の
視認性を損なわない一層優れた透明導電性フィルム又は
シートを得ることができた。
れば、抵抗膜式タッチパネル等に用いられる透明導電性
フィルム又はシートにおいて、透明基板上に設けた粗面
の上部に透明導電膜を設けたことで、タッチパネルを押
圧した際に、干渉縞（ニュートンリング）の発生を抑制
することができた。また、前記の粗面を高さ 0.3μｍを
越える突起間の平均距離が10μｍ以上 300μｍ以下で、
かつ粗面の最大高さが0.5 μｍ以上５μｍ以下にするこ
とで、タッチパネルの下部基材下面に設置する表示体の
視認性を損なわない一層優れた透明導電性フィルム又は
シートを得ることができた。
【図１】本発明の透明導電性フィルム又はシートの断面
図である。
図である。
【図２】従来の透明導電性フィルム又はシートを使用し
たタッチパネルの断面図である。
たタッチパネルの断面図である。
【図３】本発明の透明導電性フィルム又はシートを使用
したタッチパネルの１例を示す断面図である。
したタッチパネルの１例を示す断面図である。
１、１ａ、１ｂ 透明基板 ２ 粗面 ３、３ａ、３ｂ 透明電極 ４ スペーサー Ａ 本発明の透明導電性フィルム又はシート Ｂ、Ｃ 従来の透明導電性フィルム又はシート
Claims (2)
- 【請求項１】 粗面の上に透明導電膜を設けたことを特
徴とする透明導電性フィルム又はシート。 - 【請求項２】 高さが 0.3μｍを越える突起間の平均距
離が10μｍ以上 300μｍ以下で、かつ粗面の最大高さが
0.5μｍ以上５μｍ以下である粗面の上に透明導電膜を
設けたことを特徴とする透明導電性フィルム又はシー
ト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11133195A JPH08281856A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 透明導電性フィルム又はシート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11133195A JPH08281856A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 透明導電性フィルム又はシート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08281856A true JPH08281856A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=14558506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11133195A Pending JPH08281856A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 透明導電性フィルム又はシート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08281856A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999066391A1 (fr) * | 1998-06-18 | 1999-12-23 | Kaneka Corporation | Ecran tactile transparent et affichage a cristaux liquides avec ecran tactile transparent |
| KR20020061538A (ko) * | 2001-01-17 | 2002-07-24 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 터치 패널 및 전자기기 |
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-
1995
- 1995-04-12 JP JP11133195A patent/JPH08281856A/ja active Pending
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