JPH08165144A - 透明導電性硝子および透明タブレット - Google Patents
透明導電性硝子および透明タブレットInfo
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- JPH08165144A JPH08165144A JP30760894A JP30760894A JPH08165144A JP H08165144 A JPH08165144 A JP H08165144A JP 30760894 A JP30760894 A JP 30760894A JP 30760894 A JP30760894 A JP 30760894A JP H08165144 A JPH08165144 A JP H08165144A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】透明導電性硝子および該硝子を用いて得られる
透明タブレットに関する。 【構成】少なくとも片面が、中心面平均粗さ（ＳＲａ）
が０．０５〜０．４０μｍの範囲になる様に粗面化され
た硝子基板において、該粗面化された面上に透明導電膜
を形成してなる透明導電性硝子。
透明タブレットに関する。 【構成】少なくとも片面が、中心面平均粗さ（ＳＲａ）
が０．０５〜０．４０μｍの範囲になる様に粗面化され
た硝子基板において、該粗面化された面上に透明導電膜
を形成してなる透明導電性硝子。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は透明導電性硝子および該
硝子を用いて得られる透明タブレットに関する。
硝子を用いて得られる透明タブレットに関する。
【０００２】
【従来の技術】最近種々の機器にマイクロコンピュータ
ーが利用される様になり、同機器には情報の入力部であ
るタブレット（タッチスイッチ、タッチパネル、フラッ
トスイッチとも称される）と出力部であるディスプレー
が搭載されている。タブレットとしては、従来の机上に
置くタイプの他にディスプレー上に取り付けられる透明
タブレットがある。透明タブレットは、ディスプレーの
表示画面を見ながらタブレット表面を指またはペン等で
押すことにより入力できるため、入力操作が簡単であ
り、またディスプレーとタブレットを一体型にできるた
め省スペースにもなり、利用が増えつつある。
ーが利用される様になり、同機器には情報の入力部であ
るタブレット（タッチスイッチ、タッチパネル、フラッ
トスイッチとも称される）と出力部であるディスプレー
が搭載されている。タブレットとしては、従来の机上に
置くタイプの他にディスプレー上に取り付けられる透明
タブレットがある。透明タブレットは、ディスプレーの
表示画面を見ながらタブレット表面を指またはペン等で
押すことにより入力できるため、入力操作が簡単であ
り、またディスプレーとタブレットを一体型にできるた
め省スペースにもなり、利用が増えつつある。
【０００３】透明タブレットは、少なくとも片面に透明
導電膜が設けられた２枚の透明電極基板が互いの透明導
電膜同士が向かい合う様に配置されてなり、透明電極基
板に外力を加えた部分でのみ透明導電膜同士が接触して
スイッチとして動作するものであり、例えばディスプレ
ー画面上のメニューの選択あるいは図形、手書き文字の
入力等を行なうことができる。
導電膜が設けられた２枚の透明電極基板が互いの透明導
電膜同士が向かい合う様に配置されてなり、透明電極基
板に外力を加えた部分でのみ透明導電膜同士が接触して
スイッチとして動作するものであり、例えばディスプレ
ー画面上のメニューの選択あるいは図形、手書き文字の
入力等を行なうことができる。
【０００４】従来の透明タブレットの構成例を図１に示
す。透明タブレットは、硝子基板１の上面に透明導電膜
２、ドットスペーサ３を設けてなる下部電極基板Ａおよ
び透明プラスチックフィルム基板４の上面にハードコー
ト層５、下面に透明導電膜６を設けてなる上部電極基板
Ｂを、互いの透明導電膜同士が向かい合う様に配置し、
周囲で２枚の基板Ａ、Ｂが貼り合わされて構成される。
なお、本図は構成の一部であり、周囲の絶縁層、粘着
層、外部への引き出し回路は省略してある。
す。透明タブレットは、硝子基板１の上面に透明導電膜
２、ドットスペーサ３を設けてなる下部電極基板Ａおよ
び透明プラスチックフィルム基板４の上面にハードコー
ト層５、下面に透明導電膜６を設けてなる上部電極基板
Ｂを、互いの透明導電膜同士が向かい合う様に配置し、
周囲で２枚の基板Ａ、Ｂが貼り合わされて構成される。
なお、本図は構成の一部であり、周囲の絶縁層、粘着
層、外部への引き出し回路は省略してある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】透明タブレットの主要
な利用分野には携帯情報端末があるが、携帯情報端末に
は消費電力の点で反射型ＬＣＤが用いられており、同Ｌ
ＣＤ上に取り付けられる透明タブレットには視認性が良
いことが要求される。ところが、従来の透明タブレット
では環境変化により上部電極基板に弛みが生じ、その結
果両電極基板間で干渉縞が発生して視認性が損なわれる
問題があった。
な利用分野には携帯情報端末があるが、携帯情報端末に
は消費電力の点で反射型ＬＣＤが用いられており、同Ｌ
ＣＤ上に取り付けられる透明タブレットには視認性が良
いことが要求される。ところが、従来の透明タブレット
では環境変化により上部電極基板に弛みが生じ、その結
果両電極基板間で干渉縞が発生して視認性が損なわれる
問題があった。
【０００６】本発明者は干渉縞の発生について検討した
結果、両電極基板の透明導電膜面の反射光同士が干渉し
て干渉縞が発生することが分かり、少なくとも一方の反
射光を散乱させれば干渉縞が防止できると推定した。そ
こで、先ず透明プラスチックフィルム基板表面にシリカ
粒子を含んだ樹脂を塗工することにより粗面化した後
に、透明導電膜を形成する方法により、上部電極基板側
の透明導電膜面を粗面化する方法を試みた。干渉縞の発
生には効果があり、マトリクス型透明タブレットでは十
分な打鍵耐久性を有しているが、アナログ型透明タブレ
ットでは、筆記耐久性が透明導電膜面を粗面化しないも
のに比較して低下する問題があった。筆記耐久性の低下
は、上部電極基板の粗面突起部でのＩＴＯ膜の剥離が原
因と推定された。
結果、両電極基板の透明導電膜面の反射光同士が干渉し
て干渉縞が発生することが分かり、少なくとも一方の反
射光を散乱させれば干渉縞が防止できると推定した。そ
こで、先ず透明プラスチックフィルム基板表面にシリカ
粒子を含んだ樹脂を塗工することにより粗面化した後
に、透明導電膜を形成する方法により、上部電極基板側
の透明導電膜面を粗面化する方法を試みた。干渉縞の発
生には効果があり、マトリクス型透明タブレットでは十
分な打鍵耐久性を有しているが、アナログ型透明タブレ
ットでは、筆記耐久性が透明導電膜面を粗面化しないも
のに比較して低下する問題があった。筆記耐久性の低下
は、上部電極基板の粗面突起部でのＩＴＯ膜の剥離が原
因と推定された。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、透明導電膜
面を粗面化することにより干渉縞を防止する方法を検討
するに当たり、表面粗さの基準として、先ず中心線平均
粗さ（Ｒａ）を採用した。ところが、中心線平均粗さ
（Ｒａ）と干渉縞防止効果には相関がなく、干渉縞防止
効果を論ずる場合には、表面粗さを３次元として把握す
る必要があることが分かった。
面を粗面化することにより干渉縞を防止する方法を検討
するに当たり、表面粗さの基準として、先ず中心線平均
粗さ（Ｒａ）を採用した。ところが、中心線平均粗さ
（Ｒａ）と干渉縞防止効果には相関がなく、干渉縞防止
効果を論ずる場合には、表面粗さを３次元として把握す
る必要があることが分かった。
【０００８】本発明者は、表面粗さの基準として後述の
中心面平均粗さ（ＳＲａ）を採用し鋭意検討した結果、
下部電極基板側の透明導電膜面を粗面化する方法によ
り、干渉縞の発生がなくしかも筆記耐久性の優れた透明
タブレットが得られることが分かり、本発明に到達し
た。 すなわち、本発明は、少なくとも片面が粗面化さ
れた硝子基板において、中心面平均粗さ（ＳＲａ）が
０．０５〜０．４０μｍの範囲にある面に透明導電膜を
形成してなる透明導電性硝子および該透明導電性硝子を
用いた透明タブレットである。筆記耐久性が向上する理
由は明らかでないが、硝子基板の場合通常エッチングに
より表面を粗面化するために、透明プラスチックフィル
ム基板を前述の様な方法で粗面化する場合と比較して、
滑らかな表面が得られること、あるいは粗面化された基
板表面と透明導電膜との相性が良いこと等が考えられ
る。
中心面平均粗さ（ＳＲａ）を採用し鋭意検討した結果、
下部電極基板側の透明導電膜面を粗面化する方法によ
り、干渉縞の発生がなくしかも筆記耐久性の優れた透明
タブレットが得られることが分かり、本発明に到達し
た。 すなわち、本発明は、少なくとも片面が粗面化さ
れた硝子基板において、中心面平均粗さ（ＳＲａ）が
０．０５〜０．４０μｍの範囲にある面に透明導電膜を
形成してなる透明導電性硝子および該透明導電性硝子を
用いた透明タブレットである。筆記耐久性が向上する理
由は明らかでないが、硝子基板の場合通常エッチングに
より表面を粗面化するために、透明プラスチックフィル
ム基板を前述の様な方法で粗面化する場合と比較して、
滑らかな表面が得られること、あるいは粗面化された基
板表面と透明導電膜との相性が良いこと等が考えられ
る。
【０００９】ここで、中心面平均粗さ（ＳＲａ）とは、
ＪＩＳ Ｂ ０６０１の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、３
次元に拡張したものであり、次の様に定義される。
ＪＩＳ Ｂ ０６０１の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、３
次元に拡張したものであり、次の様に定義される。
【００１０】粗さ曲面から、その中心面上に面積Ｓｍの
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心面上に直交座
標軸、Ｘ軸、Ｙ軸を置き、中心面に直交する軸をＺ軸と
し粗さ曲面をｚ＝ｆ（ｘ，ｙ）で表したときに、次の式
（１）によって求められる値をμｍで表したものを言
う。但し、Ｌｘ・Ｌｙ＝Ｓｍ。
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心面上に直交座
標軸、Ｘ軸、Ｙ軸を置き、中心面に直交する軸をＺ軸と
し粗さ曲面をｚ＝ｆ（ｘ，ｙ）で表したときに、次の式
（１）によって求められる値をμｍで表したものを言
う。但し、Ｌｘ・Ｌｙ＝Ｓｍ。
【００１１】
【数１】
【００１２】ＳＲａ＝本発明に用いられる硝子基板は、
透明な硝子板であれば特に材質は限定しない。厚さは、
透明タブレットの強度、重量の点から、０．４〜２ｍｍ
が好ましい。
透明な硝子板であれば特に材質は限定しない。厚さは、
透明タブレットの強度、重量の点から、０．４〜２ｍｍ
が好ましい。
【００１３】硝子基板表面を粗面化する方法には、サン
ドブラスト法等の物理的方法やエッチング法等の化学的
方法があるが、表面粗さを制御し易い点や不純物混入の
ない点から、化学的方法が好ましい。通常、ＨＦ2 - イ
オンを含有する水溶液中に所定時間浸漬することによ
り、中心面平均粗さ（ＳＲａ）が０．０５〜０．４０μ
ｍの範囲にある粗面化硝子基板が得られる。中心面平均
粗さ（ＳＲａ）が０．０５μｍ未満では十分な干渉縞防
止効果が得られない。また、０．４０μｍを越えるとヘ
ーズが増加して視認性が悪くなる。
ドブラスト法等の物理的方法やエッチング法等の化学的
方法があるが、表面粗さを制御し易い点や不純物混入の
ない点から、化学的方法が好ましい。通常、ＨＦ2 - イ
オンを含有する水溶液中に所定時間浸漬することによ
り、中心面平均粗さ（ＳＲａ）が０．０５〜０．４０μ
ｍの範囲にある粗面化硝子基板が得られる。中心面平均
粗さ（ＳＲａ）が０．０５μｍ未満では十分な干渉縞防
止効果が得られない。また、０．４０μｍを越えるとヘ
ーズが増加して視認性が悪くなる。
【００１４】硝子基板表面を粗面化後、透明導電膜を形
成する前に ＳｉＯ2 ディップコートをすることが好ま
しい。
成する前に ＳｉＯ2 ディップコートをすることが好ま
しい。
【００１５】本発明に用いられる透明プラスチックフィ
ルム基板は、透明タブレットをスイッチとして動作させ
るための可撓性と、平坦性を保つための強度の点から、
基板材料としては厚さ７５〜４００μｍのポリエステル
フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルサ
ルフォンフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリアリ
レートフィルム等が好ましく用いられる。
ルム基板は、透明タブレットをスイッチとして動作させ
るための可撓性と、平坦性を保つための強度の点から、
基板材料としては厚さ７５〜４００μｍのポリエステル
フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルサ
ルフォンフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリアリ
レートフィルム等が好ましく用いられる。
【００１６】透明プラスチック基板の外力が加わる方の
面には、ハードコート層を設けることが好ましい。ハー
ドコート層を形成するための材料としては、オルガノシ
ラン系、メラミン系等の熱硬化型樹脂、多官能アクリレ
ート系の紫外線硬化型樹脂等があり、必要に応じて、シ
リカ粒子を混合したものを用いることができる。ハード
コート層の厚さは、可撓性、耐摩耗性の点から２〜５μ
ｍが好ましい。
面には、ハードコート層を設けることが好ましい。ハー
ドコート層を形成するための材料としては、オルガノシ
ラン系、メラミン系等の熱硬化型樹脂、多官能アクリレ
ート系の紫外線硬化型樹脂等があり、必要に応じて、シ
リカ粒子を混合したものを用いることができる。ハード
コート層の厚さは、可撓性、耐摩耗性の点から２〜５μ
ｍが好ましい。
【００１７】また、透明導電膜を形成する方の面には、
透明導電膜を形成する前にアンダーコート層を設けても
良い。アンダーコート層としては、有機ケイ素化合物
（特に官能基としてアミノ基を含むもの）の加水分解に
より生成された層が好ましく用いられる。
透明導電膜を形成する前にアンダーコート層を設けても
良い。アンダーコート層としては、有機ケイ素化合物
（特に官能基としてアミノ基を含むもの）の加水分解に
より生成された層が好ましく用いられる。
【００１８】本発明の透明導電膜としては、ＩＴＯ膜や
アンチモンまたはフッ素等をドープした酸化錫膜があ
る。透明導電膜の形成方法としては、スパッタリング
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法
あるいは塗工法、印刷法、ＣＶＤ法があるがＰＶＤ法ま
たはＣＶＤ法が好ましい。ＰＶＤ法またはＣＶＤ法の場
合、透明導電膜の厚さは、透明性と導電性の点から５〜
３０ｎｍが好ましい。
アンチモンまたはフッ素等をドープした酸化錫膜があ
る。透明導電膜の形成方法としては、スパッタリング
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法
あるいは塗工法、印刷法、ＣＶＤ法があるがＰＶＤ法ま
たはＣＶＤ法が好ましい。ＰＶＤ法またはＣＶＤ法の場
合、透明導電膜の厚さは、透明性と導電性の点から５〜
３０ｎｍが好ましい。
【００１９】
【実施例１〜２、比較例１〜２】厚さ１．１ｍｍの硝子
板の片面を、フッ化水素およびフッ化アンモニウムを含
むエッチング溶液を用い、条件を変えて粗面化処理し
た。次に、ＳｉＯ2 ディップコートを行なった後、粗面
化面側にスパッタリング法により、厚さ１８ｎｍのＩＴ
Ｏ膜を形成した。次に、ＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径
７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを形成す
ることにより、透明導電膜面の表面粗さが異なった下部
電極基板を作製した。
板の片面を、フッ化水素およびフッ化アンモニウムを含
むエッチング溶液を用い、条件を変えて粗面化処理し
た。次に、ＳｉＯ2 ディップコートを行なった後、粗面
化面側にスパッタリング法により、厚さ１８ｎｍのＩＴ
Ｏ膜を形成した。次に、ＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径
７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを形成す
ることにより、透明導電膜面の表面粗さが異なった下部
電極基板を作製した。
【００２０】一方、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面にシリカ粒子を混合した紫外
線硬化型ウレタンアクリレート樹脂を用いて厚さ３μｍ
のハードコート層を形成した。次に反対面側に、スパッ
タリング法により、厚さ１８ｎｍのＩＴＯ膜を形成する
ことにより、上部電極基板を作製した。
フタレートフィルムの片面にシリカ粒子を混合した紫外
線硬化型ウレタンアクリレート樹脂を用いて厚さ３μｍ
のハードコート層を形成した。次に反対面側に、スパッ
タリング法により、厚さ１８ｎｍのＩＴＯ膜を形成する
ことにより、上部電極基板を作製した。
【００２１】上部電極基板および下部電極基板を用いて
図２に示すアナログ型透明タブレットを作製した。な
お、本図は構成の一部であり、周囲の絶縁層、粘着層、
外部への引き出し回路は省略してある。上部電極基板、
下部電極基板の中心面平均粗さ（ＳＲａ）および透明タ
ブレットの全光線透過率、ヘーズの測定結果、透明タブ
レットの干渉縞の観察結果、筆記耐久性の評価結果を表
１に示す。なお、筆記耐久性試験方法は、以下の通りで
ある。
図２に示すアナログ型透明タブレットを作製した。な
お、本図は構成の一部であり、周囲の絶縁層、粘着層、
外部への引き出し回路は省略してある。上部電極基板、
下部電極基板の中心面平均粗さ（ＳＲａ）および透明タ
ブレットの全光線透過率、ヘーズの測定結果、透明タブ
レットの干渉縞の観察結果、筆記耐久性の評価結果を表
１に示す。なお、筆記耐久性試験方法は、以下の通りで
ある。
【００２２】〈筆記耐久性試験方法〉先端が０．８Ｒの
ポリアセタール製のペンを用いて、透明タブレット上部
電極基板のハードコート面の中央２０ｍｍ角の範囲に、
カタカナ文字を５０音順に筆記する。荷重は、２５０
ｇ。３万文字毎にペン交換とリニアリティの測定を行な
う。リニアリティが１．５％を越えるまでの筆記回数を
筆記耐久性とする。
ポリアセタール製のペンを用いて、透明タブレット上部
電極基板のハードコート面の中央２０ｍｍ角の範囲に、
カタカナ文字を５０音順に筆記する。荷重は、２５０
ｇ。３万文字毎にペン交換とリニアリティの測定を行な
う。リニアリティが１．５％を越えるまでの筆記回数を
筆記耐久性とする。
【００２３】
【比較例３】厚さ１．１ｍｍの硝子板の表面を粗面化処
理しない以外は、実施例１と全く同様な方法で下部電極
基板を作製した。
理しない以外は、実施例１と全く同様な方法で下部電極
基板を作製した。
【００２４】一方、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの両面にシリカ粒子を混合した紫外
線硬化型ウレタンアクリレート樹脂を用いて、それぞれ
厚さ３μｍのハードコート層、厚さ１μｍの粗面化層を
形成した。次に粗面化層側に、スパッタリング法によ
り、厚さ１８ｎｍのＩＴＯ膜を形成することにより、上
部電極基板を作製した。
フタレートフィルムの両面にシリカ粒子を混合した紫外
線硬化型ウレタンアクリレート樹脂を用いて、それぞれ
厚さ３μｍのハードコート層、厚さ１μｍの粗面化層を
形成した。次に粗面化層側に、スパッタリング法によ
り、厚さ１８ｎｍのＩＴＯ膜を形成することにより、上
部電極基板を作製した。
【００２５】実施例１と全く同様な方法で図３に示すア
ナログ型透明タブレットを作製した。なお、本図は構成
の一部であり、周囲の絶縁層、粘着層、外部への引き出
し回路は省略してある。
ナログ型透明タブレットを作製した。なお、本図は構成
の一部であり、周囲の絶縁層、粘着層、外部への引き出
し回路は省略してある。
【００２６】上部電極基板、下部電極基板の中心面平均
粗さ（ＳＲａ）および透明タブレットの全光線透過率、
ヘーズの測定結果、透明タブレットの干渉縞の観察結
果、筆記耐久性の評価結果を表１に示す。本発明の透明
電極基板を用いた透明タブレットは干渉縞の発生がなく
また筆記耐久性に優れていることが分かる。表面粗さが
本発明の範囲を越えたものは、ヘーズが高く視認性が悪
くなる。また、上部電極基板側の透明導電膜面を粗面化
したものは、筆記耐久性が劣っている。
粗さ（ＳＲａ）および透明タブレットの全光線透過率、
ヘーズの測定結果、透明タブレットの干渉縞の観察結
果、筆記耐久性の評価結果を表１に示す。本発明の透明
電極基板を用いた透明タブレットは干渉縞の発生がなく
また筆記耐久性に優れていることが分かる。表面粗さが
本発明の範囲を越えたものは、ヘーズが高く視認性が悪
くなる。また、上部電極基板側の透明導電膜面を粗面化
したものは、筆記耐久性が劣っている。
【００２７】本発明は、実施例に示したアナログ型透明
タブレットに限定されることなく、マトリクス型透明タ
ブレットにも実施し得るものである。
タブレットに限定されることなく、マトリクス型透明タ
ブレットにも実施し得るものである。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【発明の効果】以上説明した様に、少なくとも片面が粗
面化された硝子基板において、中心面平均粗さ（ＳＲ
ａ）が、０．０５〜０．４０μｍの範囲にある面に透明
導電膜を形成してなる透明導電性硝子を用いた透明タブ
レットは、干渉縞の発がなく視認性に優れかつ筆記耐久
性も良好であり、実用上の意義は極めて大きい。
面化された硝子基板において、中心面平均粗さ（ＳＲ
ａ）が、０．０５〜０．４０μｍの範囲にある面に透明
導電膜を形成してなる透明導電性硝子を用いた透明タブ
レットは、干渉縞の発がなく視認性に優れかつ筆記耐久
性も良好であり、実用上の意義は極めて大きい。
【図１】従来の透明タブレットの概略を説明するための
図
図
【図２】実施例１、２および比較例１、２の透明タブレ
ットの概略
ットの概略
【図３】比較例３の透明タブレットの概略
１ 硝子基板 ２ 透明導電膜 ３ ドットスペーサ ４ 透明プラスチックフィルム基板 ５ ハードコート層 ６ 透明導電膜 ７ 粗面化層
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも片面が、中心面平均粗さ（Ｓ
Ｒａ）が０．０５〜０．４０μｍの範囲になる様に粗面
化された硝子基板において、該粗面化された面上に透明
導電膜を形成してなる透明導電性硝子。 - 【請求項２】 請求項１の透明導電性硝子を用いたこと
を特徴とする透明タブレット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30760894A JPH08165144A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | 透明導電性硝子および透明タブレット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30760894A JPH08165144A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | 透明導電性硝子および透明タブレット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08165144A true JPH08165144A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=17971092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30760894A Pending JPH08165144A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | 透明導電性硝子および透明タブレット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08165144A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007074610A1 (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | フラットディスプレイ用ガラス基板 |
| JP2010070445A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-04-02 | Nippon Electric Glass Co Ltd | タッチパネル用ガラスの製造方法 |
| JP2013504514A (ja) * | 2009-09-15 | 2013-02-07 | コーニング インコーポレイテッド | 防眩性を有するガラスおよびディスプレイ |
| JP2013525253A (ja) * | 2010-04-30 | 2013-06-20 | コーニング インコーポレイテッド | 防眩表面処理方法およびその物品 |
| JPWO2014061612A1 (ja) * | 2012-10-17 | 2016-09-05 | 旭硝子株式会社 | 導電性薄膜付きガラス基板、薄膜太陽電池、低放射ガラス基板、導電性薄膜付きガラス基板の製造方法 |
| US10550032B2 (en) | 2014-02-24 | 2020-02-04 | Pilkington Group Limited | Coated glazing |
-
1994
- 1994-12-12 JP JP30760894A patent/JPH08165144A/ja active Pending
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