JP2010070445A - タッチパネル用ガラスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さRaを3〜50000Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。
【選択図】なし
Description
Claims (12)
- ガラス表面の全部または一部の表面粗さRaを3〜50000Åにする粗面化工程を含むことを特徴とするタッチパネル用ガラスの製造方法。
- 粗面化工程が、ガラスをエッチング液に浸漬する工程であることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
- エッチング液が、HF、HCl、H2SO4、HNO3、NH4F、NaOH、NH4HF2の群から選ばれる一種または二種以上を含むことを特徴とする請求項2に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
- 粗面化工程が、サンドブラスト工程であることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
- サンドブラスト工程後に、ガラスをエッチング液に浸漬する工程を実行することを特徴とする請求項4に記載のタッチパネルガラスの製造方法。
- ガラスが、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜70%、Al2O3 1〜30%、Li2O 0〜10%、Na2O 5〜20%、K2O 0〜10%、MgO+CaO+SrO+BaO 0.1〜15%含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
- 更に、ガラス表面近傍に圧縮応力層を形成する化学強化工程を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
- 化学強化工程が、圧縮応力層の圧縮応力値を200MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みを10μm以上にする工程であることを特徴とする請求項7に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
- 化学強化工程が、粗面化工程後に実行されることを特徴とする請求項7または8に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
- ガラス表面の全部または一部の表面粗さRaが3〜50000Åであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。
- ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜70%、Al2O3 1〜30%、Li2O 0〜10%、Na2O 5〜20%、K2O 0〜10%、MgO+CaO+SrO+BaO 0.1〜15%含有することを特徴とする請求項10に記載のタッチパネル用ガラス。
- ガラス表面近傍に圧縮応力層が形成されており、
圧縮応力層の圧縮応力値が200MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする請求項10または11に記載のタッチパネル用ガラス。
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