JP7088186B2 - ガラス板 - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス板に関する。
近年、例えば、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）装置等の表示装置の表示面側には、該表示装置の保護のため、ガラスで構成されたカバーが配置される。しかしながら、表示装置上にこのようなガラス板を設置した場合、ガラス板を介して表示装置の表示画を視認しようとした際に、しばしば、周辺に置かれているものの映り込みが発生する場合がある。ガラス板にそのような映り込みが生じると、表示画の視認者は、表示画を視認することが難しくなる上、不快な印象を受けるようになる。
そこで、このような映り込みを抑制するため、例えば、ガラス板の表面に、凹凸形状を形成するアンチグレア処理を施すことが試みられている。
アンチグレア処理には、例えば、ガラス板表面をエッチングする（例えば、特許文献１参照。）、ガラス板表面に凹凸形状を有する膜を形成する（例えば、特許文献２参照。）等の手段が記載されている。
ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）装置等が普及する中、新たな機能が要求されてきている。たとえば、自動車や電車などの運転手の居眠り対策として運転者の状態をカメラで監視するシステムなどがインストルメントパネル、特に運転者の前に設置されるメーター等を収納するクラスター等に搭載されることがあり、その場合、カバーとなるガラス板のうち、カメラ視野に当たる部分にはアンチグレア処理が不要となってきた。
このようなアンチグレア処理が施された部位と施されていない部位とを備えたガラス板では、ガラス板上に異なる部位が存在することで、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる場合がある。
アンチグレア部と、非アンチグレア部とを有し、手触り感、および外観に優れたガラス板の提供を目的とする。
本発明の一形態に係るガラス板は、第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有し、前記第１の主面にアンチグレア部と非アンチグレア部とを有し、前記アンチグレア部および前記非アンチグレア部の粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）が、それぞれ１μｍ以上であり、前記アンチグレア部のＲＳｍと、前記非アンチグレア部のＲＳｍとの差が１００μｍ以下であることを特徴とする。
本発明の実施の形態によれば、手触り感、および外観に優れた、アンチグレア部と、非アンチグレア部とを有するガラス板を提供できる。
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
本明細書において、特に断りが無い限り、ＡＧとの用語はアンチグレアを意味し、非ＡＧとの用語は非アンチグレアを意味する。
本明細書において、特に断りが無い限り、ＡＧとの用語はアンチグレアを意味し、非ＡＧとの用語は非アンチグレアを意味する。
本実施形態のガラス板について図１を用いて説明する。図１は本実施形態のガラス板を模式的に表した斜視図である。図１に示すガラス板１０Ａにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。本実施形態のガラス板１０Ａは、第１の主面に、アンチグレア（ＡＧ）部２０と、非アンチグレア（非ＡＧ）部３０とを有する。
本願明細書では、アンチグレア性の指標の一つとして、可視光領域の透過光のヘイズ率を用いる。以下、本明細書において、ヘイズ率と記載した場合、可視光領域の透過光のヘイズ率を指す。
本実施形態のガラス板１０Ａでは、ＡＧ部２０が非ＡＧ部３０よりもヘイズ率が高い。ＡＧ部２０のヘイズ率は２％以上４０％以下であることが好ましい。ヘイズ率が２％以上であれば、光の映りこみを、防眩加工が施されていない基板に比べて目視で確認して有意に抑制できるが、４０％より大きいと光を乱反射するようになり、表示装置のカバー部材やタッチパネルと一体化した基板として用いた場合に、表示装置の表示の視認性を低下させる可能性がある。
ＡＧ部２０のヘイズ率は、２％以上３５％以下がより好ましく、３％以上３０％以下がさらに好ましい。
一方、非ＡＧ部３０のヘイズ率は０．０１％以上２％未満であることが好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下がさらに好ましい。ヘイズが２％未満であると防眩効果が認められず、ガラス板を通して見ても視界が良好となる。ヘイズ率０．０１％未満にするためには、徹底した製造工程のクリーン化が必要である。ヘイズ率０．０１％以上とすることにより、製造コストを低減できる。
ＡＧ部２０のヘイズ率は、２％以上３５％以下がより好ましく、３％以上３０％以下がさらに好ましい。
一方、非ＡＧ部３０のヘイズ率は０．０１％以上２％未満であることが好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下がさらに好ましい。ヘイズが２％未満であると防眩効果が認められず、ガラス板を通して見ても視界が良好となる。ヘイズ率０．０１％未満にするためには、徹底した製造工程のクリーン化が必要である。ヘイズ率０．０１％以上とすることにより、製造コストを低減できる。
上記のＡＧ部２０は、ガラス板の第１の主面の表面に表面処理を施して、凹凸形状を形成することによって形成できる。
図２は、図１におけるＡ－Ａ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。図２において、ＡＧ部２０では、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２が多数形成されて凹凸形状をなしている。一方、非ＡＧ部３０では、この凹部１２に可視光透過性のインク４０が塗布されて、凹部間の境界をなす凸部がわずかに表出している。
本実施形態のガラス板では、非ＡＧ部３０が平坦面ではなく、凹部１２間の境界をなす凸部が第１の主面から表出していることにより、ガラス板１０Ａの第１の主面に、防汚膜、低反射膜等の各種機能膜を形成することが容易になる。また、各種機能膜を形成した際に、光学特性にぶれが生じにくい。
さらに各種機能膜を形成しない場合も、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とで手触り感に差が生じにくい。
さらに各種機能膜を形成しない場合も、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とで手触り感に差が生じにくい。
図２に示すＡＧ部２０は、例えば、物理的或いは化学的な表面処理により、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を多数形成することにより、第１の主面を凹凸形状としたものである。上記の目的で実施する表面処理としては、たとえば、ガラス板１０Ａの第１の主面にフロスト処理を施す方法が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液、あるいは、フッ化水素酸とフッ化カリウムの混合溶液等に、被処理体であるガラス板１０Ａの第１の主面を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することでできる。特に、フッ化水素酸等の薬液を用いて化学的に表面処理するフロスト処理を施す方法では、被処理面にマイクロクラックが生じ難く、機械的強度の低下が生じ難いため、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を多数形成する表面処理方法として好ましく利用できる。
また、このような化学的処理による方法以外にも、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉、酸化アルミニウム粉等を加圧空気でガラス板１０Ａの第１の主面に吹きつけるいわゆるサンドブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉、酸化アルミニウム粉等を水に分散させ、加圧空気でガラス板１０Ａの第１の主面に吹きつけるいわゆるウェットブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉、酸化アルミニウム粉等を付着させたブラシを水で湿らせたもので磨く等の物理的な表面処理方法も、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を形成するための表面処理方法として利用できる。
このようにして、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を多数形成した後に、表面形状を整えるために、ガラス板１０Ａの第１の主面を化学的にエッチングしてもよい。こうすることで、エッチング量によりヘイズ率を所望の値に調整でき、サンドブラスト処理等で生じたクラックを除去でき、またギラツキを抑えることができる。
エッチングとしては、フッ化水素酸を主成分とする溶液に、被処理体であるガラス板を浸漬する方法が好ましく用いられる。フッ化水素酸以外の成分としては、塩酸、硝酸、クエン酸などを含有してもよい。これらを含有することで、ガラスに入っているアルカリ成分とフッ化水素とが反応して析出反応の局所的発生を抑えることができ、エッチングを面内均一に進行させることができる。
図２では、ガラス板１０Ａの第１の主面に多数の凹部１２を形成して、第１の主面を凹凸形状にしているが、本実施形態のガラス板はこれに限定されない。
図３は、本実施形態の別の一態様のガラス板を模式的に表した斜視図である。図３に示すガラス板１０Ｂにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。ガラス板１０Ｂは、第１の主面に、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とを有する。図３はガラス板１０Ｂの第１の主面に微細な凸部１３を多数形成したものであって、ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０のヘイズ率は、ガラス板１０Ａについて記載した範囲と同様である。
図４は、図３におけるＢ－Ｂ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。
図４に示すＡＧ部２０は、表面処理により、ガラス板１０Ｂの第１の主面に微細な凸部１３を多数形成することにより、第１の主面を凹凸形状としたものである。上記の目的で実施する表面処理としては、第１の主面にシリカを主成分とする微粒子を含有する塗布液を塗布する方法が挙げられる。本明細書中において、シリカを主成分とするとは、ＳｉＯ2を５０質量％以上含むことを意味し、より好ましくは９０質量％以上含む。
シリカを主成分とする微粒子は、シリカ以外の成分を少量含んでもよい。その成分としては、Ｌｉ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｆ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉおよびランタノイド元素からなる群より選ばれる１つもしくは複数のイオンおよび／または酸化物等の化合物が挙げられる。
また、シリカを主成分とする微粒子は、中実粒子であってもよく、中空粒子であってもよい。
図４に示すＡＧ部２０は、表面処理により、ガラス板１０Ｂの第１の主面に微細な凸部１３を多数形成することにより、第１の主面を凹凸形状としたものである。上記の目的で実施する表面処理としては、第１の主面にシリカを主成分とする微粒子を含有する塗布液を塗布する方法が挙げられる。本明細書中において、シリカを主成分とするとは、ＳｉＯ2を５０質量％以上含むことを意味し、より好ましくは９０質量％以上含む。
シリカを主成分とする微粒子は、シリカ以外の成分を少量含んでもよい。その成分としては、Ｌｉ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｆ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉおよびランタノイド元素からなる群より選ばれる１つもしくは複数のイオンおよび／または酸化物等の化合物が挙げられる。
また、シリカを主成分とする微粒子は、中実粒子であってもよく、中空粒子であってもよい。
図４に示す非ＡＧ部３０では、ガラス板１０Ｂの第１の主面に設けられた凸部１３間の境界をなす凹部１２に可視光透過性のインク４０が塗布されており、凸部１３の上部のみがわずかに第１の主面から表出している。なお、図４では、インク４０が他の構成要素との識別を容易にするため黒色で示されているが、可視光透過性のインクである。
図５は、本実施形態の別の一態様のガラス板を模式的に表した斜視図である。図５に示すガラス板１０Ｃにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。ガラス板１０Ｃは、第１の主面に、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とを有する。ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０のヘイズ率は、ガラス板１０Ａについて記載した範囲と同様である。
図６は、図５におけるＣ－Ｃ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。
図６に示すガラス板１０ＣのＡＧ部２０は、ガラス板１０Ａに施した表面処理と同様の方法によって、ガラス板１０Ｃの第１の主面に凹凸形状を形成したものである。一方、本実施形態の非ＡＧ部３０は、領域全体にわたって、可視光透過性のインク４０がガラス板１０Ｃの表面を覆っており、凹部１２間の境界をなすガラス板１０Ｃの表面の凸部１３が表出していない。また、非ＡＧ部３０は、図示しないが、ガラス板１０Ｃの表面の凹凸に倣って多少の凹凸を有する。
図６に示すガラス板１０ＣのＡＧ部２０は、ガラス板１０Ａに施した表面処理と同様の方法によって、ガラス板１０Ｃの第１の主面に凹凸形状を形成したものである。一方、本実施形態の非ＡＧ部３０は、領域全体にわたって、可視光透過性のインク４０がガラス板１０Ｃの表面を覆っており、凹部１２間の境界をなすガラス板１０Ｃの表面の凸部１３が表出していない。また、非ＡＧ部３０は、図示しないが、ガラス板１０Ｃの表面の凹凸に倣って多少の凹凸を有する。
本実施形態のガラス板では、非ＡＧ部３０において、領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることが以下の理由から好ましい。ガラス板１０Ｃ表面の凹部１２のみに可視光透過性のインクを塗布する場合と比べて、可視光透過性のインクの膜厚を厚くすることができ、表面形状の制御が容易である。とくに、粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）と、算術平均表面粗さ（Ｒａ）を所望の範囲に制御することができる。また、非ＡＧ部３０の領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることにより、表面反射率を均一にすることができ、非ＡＧ部にカメラを内蔵する場合には、カメラ視野の明るさの均一性を向上できる。
図７は、本実施形態の別の一態様のガラス板を模式的に表した斜視図である。図７に示すガラス板１０Ｄにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。ガラス板１０Ｄは、第１の主面に、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とを有する。ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０のヘイズ率は、ガラス板１０Ａについて記載した範囲と同様である。
図８は、図７におけるＤ－Ｄ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。
図８に示すガラス板１０ＤのＡＧ部２０は、ガラス板１０Ｂに施した表面処理と同様の方法によって、ガラス板１０Ｄの第１の主面の表面に凹凸形状を形成できる。一方、本実施形態の非ＡＧ部３０は、領域全体にわたって、可視光透過性のインク４０がガラス板１０Ｄの表面を覆っており、凸部１３が表出していない。また、非ＡＧ部３０は、図示しないが、ガラス板１０Ｄの表面の凹凸に倣って多少の凹凸を有する。
図８に示すガラス板１０ＤのＡＧ部２０は、ガラス板１０Ｂに施した表面処理と同様の方法によって、ガラス板１０Ｄの第１の主面の表面に凹凸形状を形成できる。一方、本実施形態の非ＡＧ部３０は、領域全体にわたって、可視光透過性のインク４０がガラス板１０Ｄの表面を覆っており、凸部１３が表出していない。また、非ＡＧ部３０は、図示しないが、ガラス板１０Ｄの表面の凹凸に倣って多少の凹凸を有する。
本実施形態のガラス板では、非ＡＧ部３０において、領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることが以下の理由から好ましい。凸部１３間の境界をなす凹部１２のみに可視光透過性のインクを塗布する場合と比べて、可視光透過性のインクの膜厚を厚くすることができ、表面形状の制御が容易である。とくに、粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）と、算術平均表面粗さ（Ｒａ）を所望の範囲に制御することができる。また、非ＡＧ部３０の領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることにより、表面反射率を均一にすることができ、非ＡＧ部にカメラを内蔵する場合には、カメラ視野の明るさの均一性を向上できる。
ガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄにおいて、非ＡＧ部３０を形成する目的でガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの第１の主面に塗布されるインクは可視光透過性のインクである限り特に限定されず、無機系でも有機系であってもよい。
無機系のインクとしては例えば、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、及びＫ2Ｏからなる群より選択される１種以上、ＣｕＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、及びＣｅＯ2からなる群より選択される１種以上、Ｆｅ2Ｏ3、及びＴｉＯ2を含む組成物であってもよい。
無機系のインクとしては例えば、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、及びＫ2Ｏからなる群より選択される１種以上、ＣｕＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、及びＣｅＯ2からなる群より選択される１種以上、Ｆｅ2Ｏ3、及びＴｉＯ2を含む組成物であってもよい。
有機系のインクとしては樹脂を溶剤に溶解した種々のインクを使用できる。例えば、樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、オレフィン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、天然ゴム、スチレン－ブタジエン共重合体、アクリルニトリル－ブタジエン共重合体、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリウレタンポリエール等の樹脂を選択して用いるようにしてよい。前記した樹脂は透明であることが好ましい。
これらインクの溶媒としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤を用いてもよい。例えば、アルコール類としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等を使用でき、エステル類としては酢酸エチル、ケトン類としてはメチルエチルケトンを使用できる。また、芳香族炭化水素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベッソ１００、ソルベッソ１５０等を用いることができ、脂肪族炭化水素系溶剤としてはヘキサン等を使用できる。なお、これらは例として挙げたものであり、その他、種々のインクを使用できる。
これらインクは、可視光透過性を損なわない限り、顔料や染料といった着色剤を含んでいてもよいが、これらの着色剤を含まないことが好ましい。
これらインクの溶媒としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤を用いてもよい。例えば、アルコール類としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等を使用でき、エステル類としては酢酸エチル、ケトン類としてはメチルエチルケトンを使用できる。また、芳香族炭化水素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベッソ１００、ソルベッソ１５０等を用いることができ、脂肪族炭化水素系溶剤としてはヘキサン等を使用できる。なお、これらは例として挙げたものであり、その他、種々のインクを使用できる。
これらインクは、可視光透過性を損なわない限り、顔料や染料といった着色剤を含んでいてもよいが、これらの着色剤を含まないことが好ましい。
ガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの第１の主面に可視光透過性のインクを塗布する手段は特に限定されないが、第１の主面に可視光透過性のインクを印刷することが好ましい。印刷方法としては、例えば、スプレー印刷やスクリーン印刷を使用できる。
本実施形態において、ガラス板１０の板厚方向における高さに着目した場合、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とのガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの板厚方向における高さの差の絶対値ｈが２０μｍ以下であることが好ましい。なお、本明細書において、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とのガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの板厚方向における高さの差の絶対値ｈとは、ＡＧ部２０において高さが最も高い部位と、非ＡＧ部３０において高さが最も低い部位との高さの差を指す。ＡＧ部２０における高さが最も高い部位を基準として、非ＡＧ部３０において高さが最も低い部位が前記最も高い部位よりも高い場合は負の値で、非ＡＧ部３０において高さが最も低い部位が前記最も高い部位よりも低い場合は正の値で、算出され、この絶対値を前記高さの差の絶対値ｈとする。
高さの差の絶対値ｈが２０μｍ超だと、指で触った時のさわり心地が悪くなり手触り感が悪化する。また境界が目立つため外観が悪くなる。これに対し、高さの差の絶対値ｈが２０μｍ以下であることにより、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０とを第１の主面に有しているにもかかわらず、手触り感、および外観を良好にできる。
高さの差の絶対値ｈは１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。
高さの差の絶対値ｈは、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、１μｍ以上がさらに好ましい。
なお、ガラス板１０Ａ、１０Ｂにおける非ＡＧ部３０では、凹部１２間の境界をなす凸部１３のみがわずかに第１の主面から表出する。ガラス板１０Ｃ、１０Ｄにおける非ＡＧ部３０では、領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われている。いずれの場合においても、高さの差の絶対値ｈは０μｍ超である。
高さの差の絶対値ｈは１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。
高さの差の絶対値ｈは、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、１μｍ以上がさらに好ましい。
なお、ガラス板１０Ａ、１０Ｂにおける非ＡＧ部３０では、凹部１２間の境界をなす凸部１３のみがわずかに第１の主面から表出する。ガラス板１０Ｃ、１０Ｄにおける非ＡＧ部３０では、領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われている。いずれの場合においても、高さの差の絶対値ｈは０μｍ超である。
本実施形態では、ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０の表面性状を特定するのに、これらの部位における粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）と、算術平均表面粗さ（Ｒａ）を用いる。
本実施形態において、ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０におけるＲＳｍがそれぞれ１μｍ以上である。すなわち、ＡＧ部２０について測定したＲＳｍが１μｍ以上であり、かつ非ＡＧ部３０について測定したＲＳｍが１μｍ以上である。ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０におけるＲＳｍがそれぞれ１μｍ以上であることが好ましい理由は以下に記載する通りである。
本実施形態において、ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０におけるＲＳｍがそれぞれ１μｍ以上である。すなわち、ＡＧ部２０について測定したＲＳｍが１μｍ以上であり、かつ非ＡＧ部３０について測定したＲＳｍが１μｍ以上である。ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０におけるＲＳｍがそれぞれ１μｍ以上であることが好ましい理由は以下に記載する通りである。
ＲＳｍが１μｍ未満である場合、ガラス板表面に指で触れた際、指とガラス板表面とが面接触となり、抵抗が大きくなり、その結果、指ざわり性が損なわれるおそれがある。一方、ＲＳｍが１μｍ以上であれば、指とガラス板表面とが点接触となり、指がガラス板の抵抗を感じにくくなる。
ＡＧ部２０のＲＳｍは、３μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上がさらに好ましい。また、ＡＧ部２０のＲＳｍは、４０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、２５μｍ以下がさらに好ましい。
非ＡＧ部３０のＲＳｍは５μｍ以上であることがより好ましく、１０μｍ以上であることがさらに好ましい。また、非ＡＧ部３０のＲＳｍは、１５０μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましく、７０μｍ以下がさらに好ましく、６０μｍ以下が特に好ましい。
ＡＧ部２０のＲＳｍは、３μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上がさらに好ましい。また、ＡＧ部２０のＲＳｍは、４０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、２５μｍ以下がさらに好ましい。
非ＡＧ部３０のＲＳｍは５μｍ以上であることがより好ましく、１０μｍ以上であることがさらに好ましい。また、非ＡＧ部３０のＲＳｍは、１５０μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましく、７０μｍ以下がさらに好ましく、６０μｍ以下が特に好ましい。
本実施形態において、ＡＧ部２０におけるＲＳｍと、非ＡＧ部３０におけるＲＳｍとの差が１００μｍ以下である。
両者のＲＳｍの差が上記範囲であることが好ましい理由は以下に記載する通りである。
ＲＳｍの差が１００μｍ超では、ＡＧ部と非ＡＧ部での光の散乱性が顕著に異なり、これらが見た目において顕著な差異が生じる。その結果、ガラス板のデザイン性を損なうおそれがある。ＲＳｍの差を１００μｍ以下とすることによって、ＡＧ部と非ＡＧ部での光の散乱性の差異を低減できる。また、ＡＧ部と非ＡＧ部での手触り感の差異を低減できる。
両者のＲＳｍの差は、５０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましい。なお、ＲＳｍの差の下限は、１μｍ以上が好ましい。
両者のＲＳｍの差が上記範囲であることが好ましい理由は以下に記載する通りである。
ＲＳｍの差が１００μｍ超では、ＡＧ部と非ＡＧ部での光の散乱性が顕著に異なり、これらが見た目において顕著な差異が生じる。その結果、ガラス板のデザイン性を損なうおそれがある。ＲＳｍの差を１００μｍ以下とすることによって、ＡＧ部と非ＡＧ部での光の散乱性の差異を低減できる。また、ＡＧ部と非ＡＧ部での手触り感の差異を低減できる。
両者のＲＳｍの差は、５０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましい。なお、ＲＳｍの差の下限は、１μｍ以上が好ましい。
非ＡＧ部３０は、例えば、本実施形態のガラス板が携帯用電子機器のカバーガラスに使用する場合には、カメラの前面に設けられる領域や指紋センサーが設けられる領域、その他のセンサー用の保護部材として使用する場合には、センシングのための可視光や電波が透過する領域に設けられるものである。そのため、本実施形態では、非ＡＧ部３０はＲａが１００ｎｍ未満であることが、カメラ機能、指紋センサー機能等に支障となることがないため好ましく、４０ｎｍ未満であることがより好ましく、２０ｎｍ未満であることがさらに好ましく、１５ｎｍ未満であることが特に好ましい。また、非ＡＧ部３０のＲａは、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、７ｎｍ以上がさらに好ましい。
一方、ＡＧ部２０はＲａが２０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。Ｒａが２０ｎｍ以上であれば、ＡＧ部の防眩性能を十分に発揮できる。
一方、ＡＧ部２０はＲａが２０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。Ｒａが２０ｎｍ以上であれば、ＡＧ部の防眩性能を十分に発揮できる。
本実施形態において、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０との境界は、平滑な線であることが外観上好ましい。そのため、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０との境界をなす非ＡＧ部３０の輪郭度が１０ｍｍあたり、０．５ｍｍ以下であることが好ましく、０．３ｍｍ以下であることがより好ましい。
なお、本明細書における輪郭度は、ＪＩＳＢ－０６２１（２００１）の線の輪郭度に準ずる。
なお、本明細書における輪郭度は、ＪＩＳＢ－０６２１（２００１）の線の輪郭度に準ずる。
上述したように、非ＡＧ部３０は、例えば、本実施形態のガラス板の用途により、カメラの前面に設けられる領域や指紋センサーが設けられる領域、センシングのための可視光や電波が透過する領域に設けられる。そのため、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度や平面度が低いと、ガラス板１０の外観が悪化する、非ＡＧ部３０の光学特性が悪化する等の問題が生じる。
本実施形態において、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。
非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度は、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、２０ｍｍあたり、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
本実施形態において、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平面度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。
非ＡＧ部３０と、第２の主面との平面度は、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、２０ｍｍあたり、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
なお、本明細書における平行度、および平面度は、ＪＩＳＢ－０６２１（２００１）の平行度、平面度に準ずる。
本実施形態において、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。
非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度は、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、２０ｍｍあたり、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
本実施形態において、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平面度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。
非ＡＧ部３０と、第２の主面との平面度は、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、２０ｍｍあたり、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
なお、本明細書における平行度、および平面度は、ＪＩＳＢ－０６２１（２００１）の平行度、平面度に準ずる。
上述したように、本実施形態における非ＡＧ部３０は、可視光透過性のインク４０を塗布して形成されるため、非ＡＧ部３０は可視光透過性が良好である。具体的には、非ＡＧ部３０は、可視光透過率が８８％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９２％以上であることが特に好ましい。
本実施形態において、ガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの第１の主面に各種機能膜が形成されていてもよい。この目的で形成する機能膜の一例としては、防汚膜が挙げられる。防汚膜は、例えば、含フッ素有機ケイ素化合物をガラス板の第１の主面上に被膜形成できる。被膜の形成に用いる含フッ素有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用できる。例えば、市販されているポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有する含フッ素有機ケイ素化合物として、ＫＰ－８０１（信越化学工業株式会社製の商品名）、ＫＹ－１７８（信越化学工業株式会社製の商品名）、ＫＹ－１３０（信越化学工業株式会社製の商品名）、ＫＹ－１８５（信越化学工業株式会社製の商品名）、オプツ－ル（登録商標）ＤＳＸおよびオプツールＡＥＳ（ダイキン工業株式会社製、いずれも商品名）、Ｓ－５５０（旭硝子株式会社製の商品名）などが好ましく使用できる。含フッ素有機ケイ素化合物被膜の膜厚は特に限定されないが、１～２０ｎｍであることが好ましく、２～１０ｎｍであることがより好ましい。
本実施形態のガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄは含フッ素有機ケイ素化合物被膜の形成するうえで好ましい特性を有する。
ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との板厚方向における高さの差の絶対値ｈが大きいと、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との境界において含フッ素有機ケイ素化合物の凝集が発生する可能性が高まる。含フッ素有機ケイ素化合物が凝集すると境界において含フッ素有機ケイ素化合物の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤としての機能が損なわれるおそれがある。加えて、含フッ素有機ケイ素化合物が凝集することによる外観の低下も懸念される。
本実施形態では、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とのガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの板厚方向における高さの差の絶対値ｈが２０μｍ以下であるため、ガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの第１の主面に含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成した際に、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との境界において、含フッ素有機ケイ素化合物の凝集が発生する可能性が低く、上記の問題が生じにくい。
ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との板厚方向における高さの差の絶対値ｈが大きいと、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との境界において含フッ素有機ケイ素化合物の凝集が発生する可能性が高まる。含フッ素有機ケイ素化合物が凝集すると境界において含フッ素有機ケイ素化合物の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤としての機能が損なわれるおそれがある。加えて、含フッ素有機ケイ素化合物が凝集することによる外観の低下も懸念される。
本実施形態では、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とのガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの板厚方向における高さの差の絶対値ｈが２０μｍ以下であるため、ガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの第１の主面に含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成した際に、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との境界において、含フッ素有機ケイ素化合物の凝集が発生する可能性が低く、上記の問題が生じにくい。
また、上記の目的で形成する機能膜の別の一例としては、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とすることができる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜（層）が積層された積層体であることが好ましい。例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の膜が積層されていることが好ましく、２層以上４層以下の膜が積層されていることがより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体であることが好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜（層）が積層された積層体であることが好ましい。例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の膜が積層されていることが好ましく、２層以上４層以下の膜が積層されていることがより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体であることが好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）から選択された１種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）を好ましく利用できる。高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体であることがより好ましい。膜厚としては４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。
ガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの第１の主面に、含フッ素有機ケイ素化合物被膜と、低反射膜の両方を形成してもよい。この場合、第１の主面側から、低反射膜、および含フッ素有機ケイ素化合物被膜の順に積層させる。
（実施例）
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。例１～６が実施例であり、例７～１１は比較例である。
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。例１～６が実施例であり、例７～１１は比較例である。
（１）試料作製
［例１］
以下の手順により、本実施形態のガラス板を製造した。
本例では、ガラス板として強化していないアルミノシリケートガラス（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍを用いた。
［例１］
以下の手順により、本実施形態のガラス板を製造した。
本例では、ガラス板として強化していないアルミノシリケートガラス（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍを用いた。
まず、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した。
次いで、以下の手順でアンチグレア処理を行い、ガラス板にＡＧ部を形成した。
ガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行い、ガラス板の主面に微細な凹部を多数形成した。フロスト処理後のガラス板を、１０質量％のフッ化水素酸溶液に３分間浸漬（エッチング時間４分）することで、ヘイズ率を１５％に調整した。
次いで、以下の手順でアンチグレア処理を行い、ガラス板にＡＧ部を形成した。
ガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行い、ガラス板の主面に微細な凹部を多数形成した。フロスト処理後のガラス板を、１０質量％のフッ化水素酸溶液に３分間浸漬（エッチング時間４分）することで、ヘイズ率を１５％に調整した。
その後、保護フィルムを剥がし、ガラス板を、４５０℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩に１時間浸漬し、その後、ガラス板を溶融塩より引き上げ、室温まで１時間で徐冷した。これにより、ガラス板の化学強化処理を行った。
次に、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面に、可視光透過性のインク（株式会社セイコーアドバンス製、商品名：ＨＦ－ＧＶ３ ＲＸ０１－８００メジューム）を、スクリーン印刷機を用いてスクリーン印刷法でφ１０ｍｍの円形状となるように１層塗布した。可視光透過性のインクを塗布した後、１５０℃で３０分間保持して硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例１のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
例１のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例２］
アンチグレア処理を以下のように行ったこと以外は、例１と同様にしてガラス板を得た。
ガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行い、ガラス板の主面に微細な凹部を多数形成した。フロスト処理後のガラス板を、１０質量％のフッ化水素酸溶液に２分間浸漬（エッチング時間３分）することで、ヘイズ率を２５％に調整した。
次に、可視光透過性インクをスクリーン印刷で２層だけ塗布すること以外は、例１と同様にしてガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例２のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
アンチグレア処理を以下のように行ったこと以外は、例１と同様にしてガラス板を得た。
ガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行い、ガラス板の主面に微細な凹部を多数形成した。フロスト処理後のガラス板を、１０質量％のフッ化水素酸溶液に２分間浸漬（エッチング時間３分）することで、ヘイズ率を２５％に調整した。
次に、可視光透過性インクをスクリーン印刷で２層だけ塗布すること以外は、例１と同様にしてガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例２のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例３］
例１と同様の方法で化学強化したガラス板（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）を用いた。このガラス板に対して、以下の手順でスプレーアンチグレア処理を実施した。
ガラス板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス板を表面温度が８０℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレー法にて、スプレー圧力：０．４ＭＰａ、塗布液量：７ｍＬ／分、ノズル移動速度：７５０ｍｍ／分、スプレーピッチ：２２ｍｍ、ノズル先端とガラス板との距離：１１５ｍｍ、液滴径：６．５９μｍで塗布して、ガラス板の主面に微細な凸部を多数形成した。塗布量は、凸部の高さが１０μｍとなる量とした。
例１と同様の方法で化学強化したガラス板（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）を用いた。このガラス板に対して、以下の手順でスプレーアンチグレア処理を実施した。
ガラス板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス板を表面温度が８０℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレー法にて、スプレー圧力：０．４ＭＰａ、塗布液量：７ｍＬ／分、ノズル移動速度：７５０ｍｍ／分、スプレーピッチ：２２ｍｍ、ノズル先端とガラス板との距離：１１５ｍｍ、液滴径：６．５９μｍで塗布して、ガラス板の主面に微細な凸部を多数形成した。塗布量は、凸部の高さが１０μｍとなる量とした。
次に、ガラス板のスプレーアンチグレア処理を行った側の主面に、例２と同様にして可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例３のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
例３のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例４］
スプレーアンチグレア処理の条件を以下に変更すること以外は例３と同様にしてガラス板を得た。
ガラス板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス板を表面温度が８０℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレー法にて、スプレー圧力：０．４ＭＰａ、塗布液量：７ｍＬ／分、ノズル移動速度：５００ｍｍ／分、スプレーピッチ：２２ｍｍ、ノズル先端とガラス板との距離：１１５ｍｍ、液滴径：６μｍで塗布して、ガラス板の主面に微細な凸部を多数形成した。塗布量は、凸部の高さが１０μｍとなる量とした。
例３と同様にして、可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例４のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
スプレーアンチグレア処理の条件を以下に変更すること以外は例３と同様にしてガラス板を得た。
ガラス板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス板を表面温度が８０℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレー法にて、スプレー圧力：０．４ＭＰａ、塗布液量：７ｍＬ／分、ノズル移動速度：５００ｍｍ／分、スプレーピッチ：２２ｍｍ、ノズル先端とガラス板との距離：１１５ｍｍ、液滴径：６μｍで塗布して、ガラス板の主面に微細な凸部を多数形成した。塗布量は、凸部の高さが１０μｍとなる量とした。
例３と同様にして、可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例４のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例５］
本例では、強化していないガラス板（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）を用いた。
このガラス板の一方の主面に、次のようにしてアンチグレア処理を行った。まず、ＡＧ部を形成する側の主面に、ウェットブラスト装置（マコー株式会社製、装置名：Ｗ８ＭＮ－Ｑ０６２ Ｊｒ.ＴｙｐｅII）を用いて、ウェットブラスト処理を実施した。砥粒にはホワイトアルミナ粒子（＃２０００）を使用し、圧力は０．２５ＭＰａとした。次に、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した後、１０質量％フッ化水素酸溶液に浸漬し、深さ４３μｍを目標としてエッチングした。
その後、保護フィルムを剥がし、ガラス板を、４５０℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩に１時間浸漬し、その後、ガラス板を溶融塩より引き上げ、室温まで１時間で徐冷した。これにより、ガラス板の化学強化処理を行った。
本例では、強化していないガラス板（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）を用いた。
このガラス板の一方の主面に、次のようにしてアンチグレア処理を行った。まず、ＡＧ部を形成する側の主面に、ウェットブラスト装置（マコー株式会社製、装置名：Ｗ８ＭＮ－Ｑ０６２ Ｊｒ.ＴｙｐｅII）を用いて、ウェットブラスト処理を実施した。砥粒にはホワイトアルミナ粒子（＃２０００）を使用し、圧力は０．２５ＭＰａとした。次に、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した後、１０質量％フッ化水素酸溶液に浸漬し、深さ４３μｍを目標としてエッチングした。
その後、保護フィルムを剥がし、ガラス板を、４５０℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩に１時間浸漬し、その後、ガラス板を溶融塩より引き上げ、室温まで１時間で徐冷した。これにより、ガラス板の化学強化処理を行った。
次に、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面に、可視光透過性のシリコーン系インクを、スクリーン印刷機を用いてスクリーン印刷法でφ１０ｍｍの円形状となるように１層塗布した。可視光透過性のインクを塗布した後、２００℃で６０分間保持して硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例５のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
例５のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例６］
アンチグレア処理を以下のように行ったこと以外は、例５と同様にしてガラス板を得た。まず、ＡＧ部を形成する側の主面に、ウェットブラスト装置（マコー株式会社製、装置名：Ｗ８ＭＮ－Ｑ０６２ Ｊｒ.ＴｙｐｅII）を用いて、ウェットブラスト処理を実施した。砥粒にはホワイトアルミナ粒子（＃１５００）を使用し、圧力は０．２５ＭＰａとした。次に、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した後、１０質量％フッ化水素酸溶液に浸漬し、深さ３８μｍを目標としてエッチングした。
次に、例５と同様にしてガラス板の化学強化処理を行い、次に、例５と同様にして可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例６のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
アンチグレア処理を以下のように行ったこと以外は、例５と同様にしてガラス板を得た。まず、ＡＧ部を形成する側の主面に、ウェットブラスト装置（マコー株式会社製、装置名：Ｗ８ＭＮ－Ｑ０６２ Ｊｒ.ＴｙｐｅII）を用いて、ウェットブラスト処理を実施した。砥粒にはホワイトアルミナ粒子（＃１５００）を使用し、圧力は０．２５ＭＰａとした。次に、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した後、１０質量％フッ化水素酸溶液に浸漬し、深さ３８μｍを目標としてエッチングした。
次に、例５と同様にしてガラス板の化学強化処理を行い、次に、例５と同様にして可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
例６のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例７］
耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成する側の主面のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した保護フィルムを貼った状態で例１と同様の手順でアンチグレア処理、および化学強化処理を実施した。
耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成する側の主面のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した保護フィルムを貼った状態で例１と同様の手順でアンチグレア処理、および化学強化処理を実施した。
次いで、このガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行った。フロスト処理後のガラス板を、１０％フッ化水素酸溶液に３分間浸漬（エッチング時間４分）することで、ヘイズ率を１５％に調整した。
例７のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、φ２０ｍｍの保護フィルムを貼った中央部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
例７のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、φ２０ｍｍの保護フィルムを貼った中央部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例８］
例１と同様の手順でアンチグレア処理を実施した後、アンチグレア処理を施した面のほぼ中央部を、φ５ｍｍの円錐形形状の研磨砥石、ヌープ硬度が３０００の酸化セリウムの研磨砥粒を用いて研磨を行い、φ２０ｍｍの範囲を１５μｍの深さでアンチグレア処理を施した面の除去を行った。その後、例１と同様に化学強化を行った。
例８のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、研磨を行った部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
例１と同様の手順でアンチグレア処理を実施した後、アンチグレア処理を施した面のほぼ中央部を、φ５ｍｍの円錐形形状の研磨砥石、ヌープ硬度が３０００の酸化セリウムの研磨砥粒を用いて研磨を行い、φ２０ｍｍの範囲を１５μｍの深さでアンチグレア処理を施した面の除去を行った。その後、例１と同様に化学強化を行った。
例８のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、研磨を行った部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例９］
例１と同様の手順でアンチグレア処理を実施した後、アンチグレア処理を施した面のほぼ中央部のφ２０ｍｍの範囲を除き、保護フィルムを貼り、＃１００００のセラミックス砥粒を用いてテープで研磨を行い１２μｍの深さでアンチグレア処理を施した面の除去を行った。その後、例１と同様に化学強化を行った。
例９のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、保護フィルムを貼らなかったφ２０ｍｍの中央部がＡＧ部で、ＡＧ部以外が非ＡＧ部となる。
例１と同様の手順でアンチグレア処理を実施した後、アンチグレア処理を施した面のほぼ中央部のφ２０ｍｍの範囲を除き、保護フィルムを貼り、＃１００００のセラミックス砥粒を用いてテープで研磨を行い１２μｍの深さでアンチグレア処理を施した面の除去を行った。その後、例１と同様に化学強化を行った。
例９のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、保護フィルムを貼らなかったφ２０ｍｍの中央部がＡＧ部で、ＡＧ部以外が非ＡＧ部となる。
［例１０］
耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成する側の主面のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した保護フィルムを貼った状態で例３と同様の手順でスプレーアンチグレア処理、および化学強化処理を実施した。
例１０のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を施した側の主面のうち、φ２０ｍｍの保護フィルムを貼った中央部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外がＡＧ部となる。
耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成する側の主面のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した保護フィルムを貼った状態で例３と同様の手順でスプレーアンチグレア処理、および化学強化処理を実施した。
例１０のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を施した側の主面のうち、φ２０ｍｍの保護フィルムを貼った中央部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外がＡＧ部となる。
［例１１］
例１と同様の手順でアンチグレア処理、および化学強化を実施した後、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面に、φ１０ｍｍの円形に加工した透明フィルムを貼り付けて非アンチグレア（ＡＧ）部を形成した。
例１１のガラス板は、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面のうち、透明フィルムを貼り付けた部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外がＡＧ部となる。
例１と同様の手順でアンチグレア処理、および化学強化を実施した後、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面に、φ１０ｍｍの円形に加工した透明フィルムを貼り付けて非アンチグレア（ＡＧ）部を形成した。
例１１のガラス板は、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面のうち、透明フィルムを貼り付けた部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外がＡＧ部となる。
（２）評価方法
上記の例１～１１で作製したガラス板の特性評価方法について以下に説明する。
上記の例１～１１で作製したガラス板の特性評価方法について以下に説明する。
（表面形状の測定）
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部を有する側の表面形状を、表面粗さ・輪郭形状測定器（株式会社東京精密製、商品名ＳＵＲＦＣＯＭ）にて測定して平面プロファイルを得た。そして、得られた平面プロファイルから、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００１）に基づいて、ＡＧ部と非ＡＧ部との高さの差の絶対値ｈ、ＡＧ部および非ＡＧ部のＲａおよびＲＳｍを得た。
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部を有する側の表面形状を、表面粗さ・輪郭形状測定器（株式会社東京精密製、商品名ＳＵＲＦＣＯＭ）にて測定して平面プロファイルを得た。そして、得られた平面プロファイルから、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００１）に基づいて、ＡＧ部と非ＡＧ部との高さの差の絶対値ｈ、ＡＧ部および非ＡＧ部のＲａおよびＲＳｍを得た。
（ヘイズ率）
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部における透過へイズ率（％）の測定を行った。ヘイズ率の測定は、ヘイズメーター（スガ試験機株式会社製、商品名：ＨＺ－Ｖ３）を用いて行った。
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部における透過へイズ率（％）の測定を行った。ヘイズ率の測定は、ヘイズメーター（スガ試験機株式会社製、商品名：ＨＺ－Ｖ３）を用いて行った。
（輪郭度）
例１～１１で作製したガラス板について、ＣＮＣ画像測定システム（株式会社ニコンインストルメント製、型式：ＣＮＣ画像測定システムＮＥＸＩＶ ＶＭＲ－１００８０）を用いて、非ＡＧ部の輪郭度の測定を行った。
例１～１１で作製したガラス板について、ＣＮＣ画像測定システム（株式会社ニコンインストルメント製、型式：ＣＮＣ画像測定システムＮＥＸＩＶ ＶＭＲ－１００８０）を用いて、非ＡＧ部の輪郭度の測定を行った。
(平行度）
例１～１１で作製したガラス板について、レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス製、商品名：レーザー変異計ＬＫ－ＧＤ５００）を用い、Ｃｕｔ Ｏｆｆ：０．８～８ｍｍとして、非ＡＧ部と第２の主面（ＡＧ部が形成された側の主面に対向する主面）との平行度の測定を行った。
例１～１１で作製したガラス板について、レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス製、商品名：レーザー変異計ＬＫ－ＧＤ５００）を用い、Ｃｕｔ Ｏｆｆ：０．８～８ｍｍとして、非ＡＧ部と第２の主面（ＡＧ部が形成された側の主面に対向する主面）との平行度の測定を行った。
（平面度）
例１～１１で作製したガラス板について、表面粗さ・輪郭形状測定器（株式会社東京精密製、商品名：ＳＵＲＦＣＯＭ）を用い、Ｆｉｌｔｅｒ：２ＲＣ、Ｃｕｔ Ｏｆｆ：０．８～８ｍｍ、Ｃｏｎｔｒｏｌ ｌｅｎｇｔｈ：２０ｍｍとして、非ＡＧ部と前記第２の主面との平面度の測定を行った。
例１～１１で作製したガラス板について、表面粗さ・輪郭形状測定器（株式会社東京精密製、商品名：ＳＵＲＦＣＯＭ）を用い、Ｆｉｌｔｅｒ：２ＲＣ、Ｃｕｔ Ｏｆｆ：０．８～８ｍｍ、Ｃｏｎｔｒｏｌ ｌｅｎｇｔｈ：２０ｍｍとして、非ＡＧ部と前記第２の主面との平面度の測定を行った。
（触り心地）
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部が形成された第１の主面の触り心地を１０人による、１：とても良い、２：良い、３：問題ない、４：悪い、５:非常に悪い、の５段階評価の平均値で評価した。
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部が形成された第１の主面の触り心地を１０人による、１：とても良い、２：良い、３：問題ない、４：悪い、５:非常に悪い、の５段階評価の平均値で評価した。
（映像度）
例１～１１で作製したガラス板について、非ＡＧ部を通してみた際の映像度を１０人による、○：良い、△：少し悪い、×：悪い、の３段階評価の平均値で評価した。
例１～１１で作製したガラス板について、非ＡＧ部を通してみた際の映像度を１０人による、○：良い、△：少し悪い、×：悪い、の３段階評価の平均値で評価した。
（指紋拭取りテスト）
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部が形成された第１の主面に以下の手順で含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成した。
まず、含フッ素有機ケイ素化合物被膜材料として（信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＹ－１８５）を加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで１０時間以上脱気して溶液中の溶媒除去を行って、含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物とした。
次いで、上記含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物が入った加熱容器を２７０℃まで加熱した。２７０℃に到達した後、温度が安定するまで１０分間その状態を保持した。そして、真空チャンバ内に設置したガラス板の第１の主面に対して、前記含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物が入った加熱容器と接続されたノズルから、含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物を供給し、成膜を行った。
例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部が形成された第１の主面に以下の手順で含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成した。
まず、含フッ素有機ケイ素化合物被膜材料として（信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＹ－１８５）を加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで１０時間以上脱気して溶液中の溶媒除去を行って、含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物とした。
次いで、上記含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物が入った加熱容器を２７０℃まで加熱した。２７０℃に到達した後、温度が安定するまで１０分間その状態を保持した。そして、真空チャンバ内に設置したガラス板の第１の主面に対して、前記含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物が入った加熱容器と接続されたノズルから、含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物を供給し、成膜を行った。
成膜の際には、真空チャンバ内に設置した水晶振動子モニタにより膜厚を測定しながら行い、ガラス板上に形成した含フッ素有機ケイ素化合物被膜の膜厚が１０ｎｍになるまで成膜を行った。含フッ素有機ケイ素化合物被膜の膜厚が１０ｎｍになった時点でノズルから原料の供給を停止し、その後真空チャンバから取り出した。取り出されたガラス板は、ホットプレートに膜面を上向きにして設置し、大気中で１５０℃、６０分間熱処理を行った。
その後、上記の手順で形成した含フッ素有機ケイ素化合物被膜に対して以下の手順により指紋拭き取り性の確認を行った。各試料の段差部に同等の押しつけ力で、人口汗を使用して指紋を付けた。その後、エタノールを付けたガーゼを用い、指紋が消えるまでの拭き取り回数を確認する拭き取り試験を実施した。１０回以内で指紋を拭き取れた場合○とし、１１回～５０回の拭き取りで取れたものを△とし、５０回拭き取りを実施しても取れなかった場合は×とした。
例１～１１の評価結果を下記表に示す。
表１、２から分かるように、ＡＧ部と非ＡＧ部のＲＳｍがいずれも１μｍ以上で、ＡＧ部と非ＡＧ部のＲＳｍの差が１００μｍ以下の例１～６は、触り心地、指紋拭き取りテスト、映像度が良好であった。これに対して、非ＡＧ部のＲＳｍが１μｍ未満の例７、１０および１１は触り心地がおよび指紋拭き取りテストの結果が悪かった。また、非ＡＧ部のＲＳｍが１μｍ以上であっても、ＡＧ部と非ＡＧ部のＲＳｍの差が１００μｍ超の例８および９は、は触り心地がおよび指紋拭き取りテストの結果が悪かった。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１７年６月２０日出願の日本特許出願２０１７－１２０１７０に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
本出願は、２０１７年６月２０日出願の日本特許出願２０１７－１２０１７０に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ ガラス板
１２ 凹部
１３ 凸部
２０ アンチグレア部
３０ 非アンチグレア部
４０ インク
１２ 凹部
１３ 凸部
２０ アンチグレア部
３０ 非アンチグレア部
４０ インク
Claims (15)
- 第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有し、
前記第１の主面にアンチグレア部と非アンチグレア部とを有し、
前記アンチグレア部および前記非アンチグレア部の粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）が、それぞれ１μｍ以上であり、前記アンチグレア部のＲＳｍと、前記非アンチグレア部のＲＳｍとの差が１００μｍ以下であり、
前記アンチグレア部と前記非アンチグレア部とのガラス板の板厚方向における高さの差の絶対値が２０μｍ以下である、ガラス板。 - 可視光領域の透過光のヘイズ率が、前記アンチグレア部において２％以上４０％以下、前記非アンチグレア部において２％未満である請求項１に記載のガラス板。
- 前記非アンチグレア部の算術平均表面粗さ（Ｒａ）が１００ｎｍ未満である請求項１または２に記載のガラス板。
- 前記アンチグレア部の算術平均表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ以上である請求項１乃至３の何れか一項に記載のガラス板。
- 前記非アンチグレア部の輪郭度が１０ｍｍあたり、０．５ｍｍ以下である請求項１乃至４の何れか一項に記載のガラス板。
- 前記非アンチグレア部と前記第２の主面との平行度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下である請求項１乃至５の何れか一項に記載のガラス板。
- 前記非アンチグレア部と前記第２の主面との平面度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下である請求項１乃至６の何れか一項に記載のガラス板。
- 前記非アンチグレア部が、可視光透過性のインクの塗布により形成されている請求項１乃至７の何れか一項に記載のガラス板。
- 前記第１の主面に、含フッ素有機ケイ素化合物被膜が形成されている請求項１乃至８の何れか一項に記載のガラス板。
- 前記第１の主面に、低反射膜及び含フッ素有機ケイ素化合物被膜がこの順に積層されている請求項１乃至８の何れか一項に記載のガラス板。
- 前記アンチグレア部は、前記第１の主面に凹部を有し、
前記非アンチグレア部は、前記凹部に可視光透過性のインクが塗布されて形成されており、
前記凹部間の境界をなす凸部が、前記インクから表出している、請求項１乃至１０の何れか一項に記載のガラス板。 - 前記非アンチグレア部が、カメラの前面に設けられる領域、指紋センサーが設けられる領域、または、センシングのための可視光もしくは電波が透過する領域として用いられる、請求項１乃至１１の何れか一項に記載のガラス板。
- カバーガラスを備える表示装置であって、
前記カバーガラスが、請求項１乃至１１の何れか一項に記載のガラス板であり、
前記非アンチグレア部が、カメラの前面に設けられる領域、指紋センサーが設けられる領域、または、センシングのための可視光もしくは電波が透過する領域として用いられる、表示装置。 - 請求項１乃至１２の何れか一項に記載のガラス板を製造する方法であって、
前記第１の主面にアンチグレア処理が施されたガラス板の前記第１の主面の一部に可視光透過性のインクを印刷して前記非アンチグレア部を形成する、ガラス板の製造方法。 - 前記インクが、樹脂を含み、顔料および／または染料を含まない、請求項１４に記載のガラス板の製造方法。
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