TW202406873A - 玻璃積層體、覆蓋玻璃、及顯示裝置 - Google Patents

玻璃積層體、覆蓋玻璃、及顯示裝置 Download PDF

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浅田和規
前重和伸
真下尚洋
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日商Ａｇｃ股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種具有表面凹凸、且實現了防污層之耐磨性提高之玻璃積層體、覆蓋玻璃、及顯示裝置。本實施方式之玻璃積層體包含具有第1主面及第2主面之玻璃基板、凹凸層、氧化矽層、及防污層，於玻璃基板之第1主面側，從靠近第1主面一側依序配置有凹凸層、氧化矽層及防污層，氧化矽層包含選自由Zr、Al、Sn及Zn所組成之群中之至少1種金屬。

Description

玻璃積層體、覆蓋玻璃、及顯示裝置
本發明係關於一種玻璃積層體、覆蓋玻璃、及顯示裝置。
汽車導航裝置、智慧型手機等顯示裝置中，使用覆蓋玻璃作為觸控面板、顯示面板之前面板。作為此種覆蓋玻璃，已知一種玻璃積層體，其具備形成於玻璃基板之一個主面側之防眩層、以及分別積層於防眩層之表面而形成之抗反射層及防污層(例如，參照專利文獻1)。此種玻璃積層體中，防污層具有抑制因使用者之觸控操作而引起之污漬附著，且於附著污漬之情形時能夠藉由擦拭等清潔而容易地除去附著物之功能。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第5839134號公報
[發明所欲解決之問題]
然，防眩層具有為了賦予防眩性而形成為規定之表面粗糙度之凹凸結構，抗反射層及防污層之厚度形成得較薄。以積層於防眩層之表面之方式設置有抗反射層及防污層之此種玻璃積層體中，防污層之表面出現與防眩層相同之凹凸結構，因此防污層之耐磨性易降低，期望提高耐磨性。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於提供一種於玻璃表面具有防眩層等凹凸層、且實現了防污層之耐磨性之提高之玻璃積層體、覆蓋玻璃、及顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
為解決上述問題從而達成目的，本發明之玻璃積層體包含具有第1主面及第2主面之玻璃基板、凹凸層、氧化矽層、及防污層，於上述玻璃基板之上述第1主面側，從靠近上述第1主面一側依序配置有上述凹凸層、上述氧化矽層及上述防污層，氧化矽層包含選自由Zr、Al、Sn及Zn所組成之群中之至少1種金屬。
本發明之覆蓋玻璃具備上述構成之玻璃積層體。本發明之顯示裝置具備上述覆蓋玻璃。 [發明之效果]
根據本發明，具有防眩層等凹凸層，且實現防污層之耐磨性之提高。
以下，參照隨附圖式，詳細地說明本發明之較佳實施方式。再者，本發明不限於該實施方式，又，於具有複數個實施方式之情形時，組合各實施方式而構成者亦包含於本發明內。又，關於數值，包含四捨五入之範圍。又，本說明書中，記為「α～β」之數值範圍意指「α以上β以下」。
(車載用顯示裝置) 圖1係表示具備本實施方式之玻璃積層體之車載用顯示裝置之模式圖。如圖1所示，車載用顯示裝置2係設置於車輛之顯示裝置，例如，設置於車內之轉向軸1之前側。車載用顯示裝置2具備顯示器面板3及玻璃積層體10。顯示器面板3上顯示例如汽車導航畫面、速度表等各種儀錶等、及開始按鈕等圖像。玻璃積層體10用作顯示器面板3之表面(前面)之覆蓋玻璃。然而，圖1之構成為一例，應用玻璃積層體10之車載用顯示裝置可為任意構成。又，玻璃積層體10不限於用作車載用顯示裝置之表面之覆蓋玻璃，亦可用於包含智慧型手機、平板PC(Personal Computer，個人電腦)等顯示裝置之覆蓋玻璃等之任意用途。
(玻璃積層體) 圖2係表示玻璃積層體之概略之剖視圖。如圖2所示，玻璃積層體10係透明之板狀玻璃構件，包含玻璃基體(玻璃基板)11、防眩層12、抗反射層13、防污層14、及印刷層15。玻璃基體11具備相互對向之第1主面11A及第2主面11B。第1主面11A上依序積層有防眩層12、抗反射層13、防污層14。又，第2主面11B之周緣部積層有印刷層15。於玻璃積層體10例如搭載於車載用顯示裝置2(被搭載物)之情形時，第1主面11A側於外部露出，第2主面11B側與被搭載物(顯示器面板3)對向。再者，此處所謂透明，係指透過可見光。
玻璃基體11由一般之玻璃形成。具體而言，作為玻璃基體11，可使用無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、鈉鈣矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸鹽玻璃、鋰鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃等。又，於用於玻璃積層體10之情形時，作為玻璃基體11，較佳為即使厚度較薄，亦可藉由強化處理而容易地產生較大應力從而獲得高強度之玻璃之鋁矽酸鹽玻璃、鋰鋁矽酸鹽玻璃。玻璃基體11例如較佳為藉由化學強化處理而進行強化。此種化學強化處理通常藉由將成形為規定形狀之玻璃基體11浸漬於包含鹼金屬之熔鹽中而進行。
用於玻璃積層體10之玻璃基體11之形狀並不僅限於如圖2所示之平坦形狀，亦可為包含具有一處以上之彎曲部或彎折部之複雜之三維曲面形狀之形狀。所謂曲面，係指曲率半徑為10000 mm以下之面。於玻璃基體11具有曲面之情形時，曲率半徑較佳為50 mm以上，更佳為100 mm以上，進而較佳為200 mm以上。又，曲率半徑為10000 mm以下，較佳為5000 mm以下，更佳為3000 mm以下。具體而言，曲率半徑較佳為50～10000 mm，較佳為100～5000 mm，更佳為200～3000 mm。於玻璃基體11具有曲面之情形時，積層於玻璃基體11之防眩層12、抗反射層13、防污層14、及印刷層15分別成為追隨玻璃基體11之形狀之形狀。
玻璃基體11之厚度較佳為0.2 mm以上5.0 mm以下，更佳為0.8 mm以上3.0 mm以下，進而較佳為1.0 mm以上2.5 mm以下。藉由使厚度為該範圍，可實現玻璃基體11之輕量化與強度之兼顧，可構成設計性得以提高之車載用顯示裝置之覆蓋玻璃。再者，玻璃基體11之厚度係指法線方向上之第1主面11A與第2主面11B間之距離。
(防眩層) 防眩層12亦稱為AG(Anti-Glare)層，設置於玻璃基體11之第1主面11A側而賦予玻璃積層體10防眩性。防眩層12係於玻璃基體11之第1主面11A側形成為規定之表面粗糙度之凹凸形狀之凹凸層。此處，本實施方式中，由於抗反射層13及防污層14之厚度分別形成得較薄，因此防眩層12之表面之凹凸結構被原樣描印而形成於防污層14之表面。關於該凹凸結構，第1主面11A之表面粗糙度RMS、即防污層14之表面之表面粗糙度RMS較佳為滿足0.03 μm～0.25 μm，更佳為滿足0.08 μm～0.20 μm。又，關於凹凸結構，第1主面11A之粗糙度曲線之要素之平均長度RSm、即防污層14之表面之粗糙度曲線之要素之平均長度RSm較佳為滿足10 μm～40 μm，更佳為滿足15 μm～35 μm。本實施方式中，由於防眩層12形成為第1主面11A之表面粗糙度RMS滿足0.03 μm～0.25 μm、粗糙度曲線之要素之平均長度RSm滿足10 μm～40 μm之凹凸形狀，因此可使防污層14之表面粗糙度RMS、粗糙度曲線之要素之平均長度RSm為期望範圍。
此處，所謂表面粗糙度RMS，係指凹凸距離基準面(此處為表面處理前之基體表面)之平均深度。再者，亦稱為均方根粗糙度，有時以Rq表示。又，所謂粗糙度曲線之要素之平均長度RSm，係指在取於基準面上之基準長度中所包含之粗糙度曲線中，將產生一個週期之凹凸之基準面上之長度平均後所得之長度。表面粗糙度RMS及粗糙度曲線之要素之平均長度RSm可藉由基於JIS B 0601(2001)規定方法之方法而測定。再者，表面粗糙度之測定中，於在防眩層之面內無偏差地選擇之複數點進行測定，取其平均值。測定點數較佳為取5點以上。
本實施方式中，防眩層12藉由凹凸形狀來實現，該凹凸形狀係藉由對玻璃基體11之第1主面11A實施防眩處理及蝕刻處理而直接形成於該第1主面11A。作為防眩處理，例如可列舉對玻璃基體11之第1主面11A實施磨砂處理之方法。磨砂處理例如可藉由將作為被處理體之玻璃基體11浸漬於氟化氫與氟化銨之混合溶液中並對浸漬面進行化學表面處理而進行。
又，除此種化學處理之方法以外，例如亦可利用如下物理處理之方法：利用加壓空氣將結晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等吹送至透明基體表面之所謂噴砂處理；以水潤濕附著有結晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等之毛刷後，使用該毛刷進行研磨之方法等。尤其，實施使用氟化氫等藥液進行化學表面處理之磨砂處理之方法由於不易使被處理體表面產生微裂紋，而不易發生機械強度之降低，因此可較佳地用作實施透明基體之表面處理之方法。
以此方式製作凹凸後，為調整表面形狀，較佳為對玻璃基體11之第1主面11A進行化學蝕刻處理。藉此，可藉由蝕刻量將霧度調整為所期望之值，可除去因噴砂處理等而產生之裂紋，又，可抑制眩光。作為蝕刻處理，較佳為使用將作為被處理體之玻璃基體11浸漬於以氟化氫為主成分之溶液之方法。作為氟化氫以外之成分，可含有鹽酸、硝酸、檸檬酸等。藉由含有該等，可抑制因玻璃中含有之鹼成分與氟化氫反應所致之析出反應之局部發生，從而於面內均勻地進行蝕刻。
又，防眩層12之凹凸結構亦可由不同於玻璃基體11之材料構成之層形成。例如，可將分散有具有任意折射率之粒子之塗膜用於玻璃基體11之第1主面11A，或者可於所貼合之透明樹脂膜之主面形成凹凸形狀。
(抗反射層) 圖3係抗反射層之放大圖。抗反射層13亦稱為AR(Anti-Reflection)層，帶來反射率降低之效果，降低因光之映入而引起之眩光。因此，於將抗反射層13用於顯示裝置之情形時，可提高來自顯示裝置之光之透過率，可提高顯示裝置之視認性。
抗反射層13至少包含氧化矽層。作為抗反射層13之構成，若最表層131為氧化矽層，則無特別限定。作為可抑制光反射之構成，例如可採用波長550 nm下之折射率為2.0以上之高折射率層及波長550 nm下之折射率為1.3～1.9之低折射率層交替地積層而成之構成。低折射率層與高折射率層各自之層數並無限定，但低折射率層較佳為1層以上6層以下，高折射率層較佳為包含與低折射率層相同之層數。再者，圖3中，例示了低折射率層與高折射率層分別由2層構成之情形。本實施方式中，低折射率層與高折射率層亦可分別由1層構成。
於低折射率層與高折射率層分別由複數層構成之情形時，以最遠離玻璃基體11之層(與防污層14相接之層)為最表層131，以最表層131為第1層而向玻璃基體11側數層時，包含最表層131之奇數層，即圖3中之最表層131與第3層之層133，由低折射率層構成。若以自最表層131起與玻璃基體11側鄰接之層為第2層之層132，則包含第2層之層132之偶數層，即圖3中之第2層之層132與第4層之層134，由高折射率層構成。最遠離最表層131之高折射率層，即圖3中之第4層之層134，與防眩層12(玻璃基體11)相接。於低折射率層與高折射率層分別由1層構成之情形時，低折射率層為最表層131，高折射率層為第2層之層132。
抗反射層13之厚度較佳為5 nm以上300 nm以下，該厚度係具備低折射率層及高折射率層之抗反射層13之所有層之合計厚度。藉由使抗反射層13之厚度為5 nm以上300 nm以下，可形成具有期望之抗反射特性之實用之抗反射層13。抗反射層13之厚度更佳為60 nm以上，又，上限更佳為120 nm以下。
作為抗反射層13之厚度之測定，可列舉：利用SEM(Scanning Electron Microscopy，掃描式電子顯微鏡)或TEM(Transmission Electron Microscopy，穿透式電子顯微鏡)之剖面觀察而進行之實際膜厚之測定、或利用偏光解析法而進行之光學測定。於進行防眩處理之情形時，較佳為使用SEM或TEM測定實際膜厚。
作為低折射率層之最表層131形成為於SiO 2(氧化矽)中包含規定之金屬元素(以下簡稱為金屬)之氧化矽層。本實施方式中，採用於SiO 2中添加選自由Zr(鋯)、Al(鋁)、Sn(錫)及Zn(鋅)所組成之群中之至少一種金屬而形成之氧化矽層。已知於添加了上述金屬中之至少一種金屬之氧化矽層中，該氧化矽層之表面之羥基(OH基)之數增加。藉由將添加了上述金屬之氧化矽層作為最表層131，最表層131經由OH基與防污層14共價鍵結，因此可提高最表層131與防污層14之密接性。因此，可提高設置於最表層131上之防污層14對低強度摩擦之耐磨性。如後所述，認為於具備包含凹凸形狀之防眩層12之玻璃積層體10中，提高對低強度摩擦之耐磨性較為重要，可藉由添加金屬提高耐磨性。另一方面，關於由各OH基形成之各自之共價鍵，認為藉由添加金屬，與僅為單一之SiO 2之情形之OH基相比鍵結強度降低，因此對高強度之摩擦之耐久性降低。因此，於不具備凹凸形狀之平坦之玻璃積層體中，若於整個平坦面產生高強度(一定以上之強度)之摩擦，則藉由添加金屬，防污層之耐磨性反而降低。與此相對，於具備包含凹凸形狀之防眩層12之玻璃積層體10中，除與凹凸形狀之凸類似之突出區域以外，藉由降低摩擦強度，可提高防污層14之耐磨性。
從防污層14之耐磨性之觀點出發，上述金屬中，特佳為Zr。由於Zr為離子化能量較小之原子，因此於在SiO 2中添加了Zr之情形時，於氧化矽層中，不形成共價鍵而易成為OH基之狀態之氧增加。藉此，於添加了Zr之氧化矽層之表面生成多個OH基，可特別提高防污層14之耐磨性。此處，作為與防污層14相接之抗反射層13之最表層131，對由向SiO 2中添加Zr而得之氧化矽層(SiZrO)所形成者進行說明。
於添加了Zr之氧化矽層(SiZrO)中，Zr相對於Zr與Si(矽)之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)較佳為0.05以上。藉由使上述組成比Zr/(Zr＋Si)為0.05以上，可充分地提高以與最表層131相接之方式設置有防污層14之玻璃積層體10之接觸角之耐磨性，獲得期望之防污性能。又，上述組成比Zr/(Zr＋Si)較佳為未達0.25。藉由使上述組成比Zr/(Zr＋Si)未達0.25，可抑制抗反射層13之反射率之降低而獲得期望之抗反射特性。即，藉由使上述組成比Zr/(Zr＋Si)為0.05以上且未達0.25，可實現抗反射層13之抗反射特性與防污層14之防污性能之兼顧。又，若上述組成比Zr/(Zr＋Si)未達0.25，則可抑制最表層131(氧化矽層)之膜強度之降低，進而可使最表層131之色範圍(色度(色度座標)a ＊、b ＊之範圍)處於規定範圍(例如製品之標準範圍)內。因此，從該等觀點出發，上述組成比Zr/(Zr＋Si)較佳為未達0.25。上述組成比Zr/(Zr＋Si)更佳為0.09以上且未達0.20。
由添加了Zr之氧化矽層(SiZrO)形成之最表層131較佳為5 nm以上300 nm以下，更佳為60 nm以上120 nm以下。藉由使最表層131為5 nm以上，可由氧化矽層(SiZrO)完全覆蓋抗反射層13之表面，可表現出形成於最表層131上之防污層14之耐磨性。又，藉由使最表層131為300 nm以下，可表現對於可見光區域(例如波長400～750 nm左右)之光之抗反射特性。
添加了Zr之氧化矽層(SiZrO)與未添加金屬之氧化矽層(SiO 2)相比折射率變高。因此，本實施方式中，3以後之奇數層，即圖3中之第3層之層133，較佳為形成為不含任何金屬之氧化矽層(SiO 2)。即，若將添加了Zr之氧化矽層(SiZrO)用於低折射率層，則雖然會改善與防污層14之密接性，但存在低折射率層之折射率變高、抗反射層13之反射特性降低之傾向。因此，藉由僅使用更低折射率之氧化矽層(SiO 2)作為3以後之奇數層，可實現抗反射層13之反射率之降低。另一方面，為了簡化抗反射層13之製造步驟，3以後之奇數層，即圖3中之第三層之層133，可與最表層131同樣地形成為添加了Zr之氧化矽層(SiZrO)。
於上述氧化矽層中添加Zr、Al、Sn、Zn之方法並無特別限定，例如於下述濺鍍法之情形時，可藉由用Si與各種金屬元素之混合物或其氧化物製作濺鍍靶而添加。此時，藉由調整靶材料元素之混合比，可調整成膜後之氧化矽層中之金屬元素與Si之比率。另一方面，於確認成膜後之氧化矽層中之Zr、Al、Sn、Zn之添加之情形時，較佳為稱作X射線光電子光譜法(XPS)、二次離子質譜法(SIMS)之測定方法。藉由該等測定方法，亦可特定膜中之元素數比。
第2層之層132為高折射率層，其材料並無特別限定，例如，較佳為從氮化矽、氧化鈦、氧化鈮、氧化鉭及氧化鋯中選擇1種以上作為主成分。藉由使用該等材料，即使低折射率層與高折射率層分別為1層之膜構成，亦可有效地防止反射。進而，該等材料之中，從生產性、折射率之觀點出發，更佳為氮化矽、氧化鈮、氧化鉭，特佳為氧化鈮。
又，4以後之偶數層，即圖3中之第4層之層134，可與第2層之層132同樣，係主成分由氧化鈮形成者，亦可由不同於第2層之層132之材料形成。 抗反射層具備1層以上6層以下之低折射率層、及與低折射率層相同層數之高折射率層，高折射率層較佳為以氮化矽、氧化鈦、氧化鈮、氧化鉭及氧化鋯中之任意1種為主成分之構成。
抗反射層13例如可使用真空蒸鍍法、離子束輔助蒸鍍法、離子電鍍法、濺鍍法、電漿CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法等成膜方法而形成。該等成膜方法之中，較佳為濺鍍法，其原因在於藉由使用濺鍍法，可形成緻密且耐久性高之膜(層)。尤佳為藉由脈衝濺鍍法、AC(Alternating Current，交流)濺鍍法、數位濺鍍法等濺鍍法成膜。
抗反射層13形成為如上所述之高折射率層與低折射率層積層而成之結構。抗反射層13之原料以每層中含有上述材料之方式進行選擇。積層方法並無特別限定，例如可列舉如下方法：於圓筒之筒外表面設置形成有防眩層12之玻璃基體11，於以包圍筒之方式設置之圓筒狀側壁之內表面設置各層之原料，一面使筒旋轉一面製造膜，從而於玻璃基體11之防眩層12上積層各層(以下稱為旋轉方式)。
又，於藉由脈衝濺鍍法形成高折射率層及低折射率層之情形時，各層之層厚之調整例如可藉由放電功率之調整、成膜時間之調整等來實現。
(防污層) 防污層14亦稱為AFP(Anti-Finger-Print)層，具有抑制指紋痕跡、汗、灰塵等各種污漬之附著，使污漬不易顯眼之功能，保持顯示面乾淨。從其特性之觀點出發，防污層14形成於玻璃積層體10之最表面。
防污層14較佳為包含可賦予防污性、撥水性、撥油性之氟化合物。作為氟化合物，較佳為包含含氟有機化合物(含有含氟有機基之化合物)。含氟有機化合物例如為含氟有機矽化合物。作為此種含氟有機矽化合物，例如可列舉具有選自由多氟聚醚基、多氟伸烷基、及多氟烷基所組成之群中之1個以上之基之含氟有機矽化合物。再者，所謂多氟聚醚基，係指具有多氟伸烷基與醚性氧原子交替地鍵結所得之結構之2價基。
作為防污層14之具體例，例如可列舉下述文獻中記載者。 日本專利第4138936號公報中記載之氟化改性含氫聚合物。 國際公開第2012/064649號中記載之含氟有機矽烷化合物。 日本專利特開2012-72272號公報中記載之含有氟氧伸烷基之聚合物。 國際公開第2013/042732號中記載之含氟醚化合物。 國際公開第2013/121984號中記載之含氟醚化合物。 國際公開第2013/121985號中記載之含氟醚化合物。 國際公開第2013/121986號中記載之含氟醚化合物。 國際公開第2014/126064號中記載之化合物。 國際公開第2014/163004號中記載之含氟醚化合物。 日本專利特開2014-080473號公報中記載之含氟醚化合物。 日本專利特開2014-218639號公報中記載之含全氟(聚)醚之矽烷化合物。 國際公開第2015/087902號中記載之含氟醚化合物。 日本專利特開2015-199906號公報中記載之含有氟聚醚基之聚合物改性矽烷。 日本專利特開2016-204656號公報中記載之含有氟聚醚基之聚合物改性矽烷。 日本專利特開2016-210854號公報中記載之含有氟聚醚基之聚合物改性矽烷。 日本專利特開2016-222859號公報中記載之含有氟聚醚基之聚合物改性矽烷。 國際公開第2017/038830號中記載之含氟醚化合物。 國際公開第2017/038832號中記載之含氟醚化合物。 國際公開第2017/187775號中記載之含氟醚化合物。 國際公開第2018/143433號中記載之含氟醚化合物。
又，作為市售之具有選自由多氟聚醚基、多氟伸烷基、及多氟烷基所組成之群中之1個以上之基之含氟有機矽化合物，可較佳地使用KP-801(信越化學公司製造)、KY-100系列(KY-178、KY-185、X-71-195、KY-1900等，信越化學公司製造)、OPTOOL DSX、OPTOOL UD、及OPTOOL AES系列(Daikin公司製造)、SURECO AF系列(SURECO3320N等，AGC公司製造)等。
防污層14之厚度並無特別限定，於防污層14包含含氟有機矽化合物之情形時，較佳為2 nm～20 nm，更佳為2 nm～10 nm，進而較佳為2 nm～4 nm。若厚度為2 nm以上，則為玻璃基體11之第1主面11A由防污層14均勻地覆蓋之狀態，就耐擦傷性之觀點而言為耐實用者。又，若厚度為20 nm以下，則形成有防污層14之狀態下之玻璃積層體10之霧度值等光學特性良好。
本實施方式中，由於抗反射層13及防污層14之厚度分別形成得較薄，因此防眩層12之表面之凹凸結構被原樣描印而形成於防污層14之表面。因此，初始狀態下之防污層14之表面特性與防眩層12之表面粗糙度RMS、粗糙度曲線之要素之平均長度RSm相同，即，防污層14之表面粗糙度RMS為0.05 μm～0.25 μm、粗糙度曲線之要素之平均長度RSm為10 μm～40 μm。該初始狀態係指玻璃積層體10未使用、防污層14未磨耗之狀態。又，防污層14之表面粗糙度RMS更佳為0.08 μm～0.20 μm，粗糙度曲線之要素之平均長度RSm更佳為15 μm～35 μm。
作為防污層14之形成方法，例如亦可使用真空蒸鍍法、離子束輔助蒸鍍法、離子電鍍法、濺鍍法、電漿CVD法等乾式法、旋轉塗佈法、浸漬塗佈法、流延法、狹縫式塗佈法、噴霧法等濕式法中之任一種成膜方法。較佳為使用真空蒸鍍法。
(印刷層) 印刷層15並非必需要件，例如如圖2所示，設置於玻璃基體11之第2主面11B上。印刷層15設置於第2主面11B之周緣部之至少一部分，由此對玻璃基體11進行遮光。所謂第2主面11B之周緣部，係指從遠離第2主面11B之中央之緣部朝向第2主面11B之中央部具有規定寬度之帶狀區域。印刷層15可形成於該周緣部之整周或周緣部之至少一部分。通常，印刷層15與玻璃基體11之外周端相接，形成為具有規定寬度之帶狀。印刷層15隱藏例如配置於顯示器面板3之周緣部之配線構件等，使得顯示區域以外之部分無法從觀察者側視認。又，印刷層15係為了提高顯示裝置之設計性而形成，提昇顯示之視認性與美觀。
印刷層15例如藉由印刷黑色油墨之方法形成。作為印刷法，並無特別限定，作為較佳之方法，可列舉噴墨法、轉印加飾法、網版印刷法等。黑色油墨可無特別限定地利用。作為黑色油墨，可使用包含陶瓷燒成體等之無機系油墨、及包含染料或顏料之類之色料及有機樹脂之有機系油墨。再者，印刷層15通常形成為黑色，但若遮光性高，則不限於黑色。
(玻璃積層體之水接觸角) 接觸角係評估固體表面之污染難度之指標。水接觸角係相對於水之接觸角之值，例如，可於玻璃積層體10之第1主面11A側之最表面(防污層14之表面)滴加約1 μL之純水水滴，使用接觸角儀(例如，協和界面科學公司製造，裝置名：DM-501)進行測定。玻璃積層體10之初始水接觸角較佳為90°以上，更佳為100°以上，進而較佳為115°以上。又，摩擦5萬次後之水接觸角較佳為84°以上，更佳為100°以上。藉由使水接觸角為上述範圍，玻璃積層體10(防污層14)可發揮優異之防污性。
(效果) 如以上所說明，本實施方式之玻璃積層體10包含具有第1主面11A及第2主面11B之玻璃基體11、形成於第1主面11A側之防眩層12、形成於防眩層12之表面上之抗反射層13、及形成於抗反射層13之表面上之防污層14，抗反射層13於與防污層14相接之面具有形成為氧化矽層之最表層131，該最表層131包含選自由Zr、Al、Sn及Zn所組成之群中之至少1種金屬。根據此構成，具備防眩層12、抗反射層13及防污層14之玻璃積層體10中之防污層14之耐磨性提高，因此具有防眩性且實現防污層14之耐磨性之提高。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，形成為氧化矽層之最表層131包含Zr，因此可更有效地發揮防污層14之耐磨性。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，形成為氧化矽層之最表層131中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.05以上，因此可獲得防污層14之期望之防污性能。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，形成為氧化矽層之最表層131中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)未達0.25，因此可獲得抗反射層13之期望之抗反射特性。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，防眩層12例如包含藉由實施防眩處理及蝕刻處理而直接形成於第1主面11A之凹凸結構，因此可於玻璃基體11之第1主面11A簡易地形成防眩層12。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，關於凹凸結構，第1主面11A之表面粗糙度RMS滿足0.03 μm～0.25 μm，粗糙度曲線之要素之平均長度RSm滿足10 μm～40 μm，因此可有效地提高設置於該凹凸結構上之防污層14之耐磨性。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，抗反射層13由折射率為2.0以上之高折射率層與折射率為1.3～1.9之低折射率層交替地積層而成，因此可實現具有所期望之反射特性之抗反射層13。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，抗反射層13具備1層以上6層以下之作為低折射率層之最表層131及第3層之層133、及與低折射率層層數相同之作為高折射率層之第2層之層132及第4層之層134，作為高折射率層之第2層之層132及第4層之層134以氮化矽、氧化鈦、氧化鈮、氧化鉭及氧化鋯中之任意1種為主成分，因此例如即使低折射率層與高折射率層分別為1層之膜構成，亦可有效地防止反射。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，抗反射層13之厚度滿足5 nm～300 nm，因此防眩層12之表面形狀被原樣描印而成為抗反射層13之表面形狀。因此，可有效地提高設置於抗反射層13之表面上之防污層14之耐磨性。
又，本實施方式之玻璃積層體10中，防污層14例如包含含氟有機基，因此可有效地發揮防污性、撥水性、撥油性。
(變化例) 其次，對本實施方式之變化例進行說明。本實施方式中，抗反射層13之作為低折射率層之最表層形成為添加了Zr之氧化矽層(SiZrO)。然而，如上所述，若添加Zr，則存在最表層之折射率變高之傾向。因此，為實現抗反射層13之最表層131之低折射率化，可使最表層為添加了Zr之SiZrO與SiO 2之積層結構。例如，藉由如SiZrO(5 nm)/SiO 2(90 nm)一般在基於SiO 2形成最表層之基礎上僅於最上層之表皮形成添加了Zr之SiZrO，可實現抗反射層13之最表層131之低折射率化。
又，本實施方式之玻璃積層體10為玻璃基體11、防眩層12、抗反射層13、防污層14之積層結構，但其他實施方式中，可將防眩層12置換為凹凸層、抗反射層13置換為至少1層之氧化矽層，凹凸層不限於具有防眩性者，氧化矽層不限於具有抗反射性者。於具有此種玻璃基體11、凹凸層及氧化矽層之玻璃積層體10中，亦可應用上述(防眩層)中敍述之較佳之態樣、上述(抗反射層)中敍述之較佳之態樣。
本發明係記載以下發明者。再者，並不限於此。
(1)一種玻璃積層體，其包含具有第1主面及第2主面之玻璃基板、凹凸層、氧化矽層、及防污層，於玻璃基板之第1主面側從靠近第1主面一側依序配置有凹凸層、氧化矽層及防污層，氧化矽層包含選自由Zr、Al、Sn及Zn所組成之群中之至少1種金屬。
(2)如(1)中記載之玻璃積層體，其中氧化矽層包含Zr。
(3)如(2)中記載之玻璃積層體，其中氧化矽層中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.05以上。
(4)如(2)或(3)中記載之玻璃積層體，其中氧化矽層中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)未達0.25。
(5)如(1)至(4)中任一項中記載之玻璃積層體，其中凹凸層具有防眩性。
(6)如(1)至(5)中任一項中記載之玻璃積層體，其中凹凸層包含直接形成於第1主面之凹凸結構。
(7)如(1)至(6)中任一項中記載之玻璃積層體，其中防污層之表面之RMS滿足0.03 μm～0.25 μm，粗糙度曲線之要素之平均長度RSm滿足10 μm～40 μm。
(8)如(1)至(7)中任一項中記載之玻璃積層體，其於凹凸層之表面上具有抗反射層，抗反射層由折射率為2.0以上之高折射率層與該折射率為1.3～1.9之低折射率層交替地積層而成，抗反射層之最表層為氧化矽層。
(9)如(8)中記載之玻璃積層體，其中抗反射層具備1層以上6層以下之低折射率層、及與低折射率層相同層數之高折射率層，高折射率層以氮化矽、氧化鈦、氧化鈮、氧化鉭及氧化鋯中之任意1種為主成分。
(10)如(1)至(9)中任一項中記載之玻璃積層體，其於凹凸層之表面上具有包含氧化矽層之抗反射層，抗反射層之厚度滿足5 nm～300 nm。
(11)如(1)至(10)中任一項中記載之玻璃積層體，其中防污層包含氟。
(12)如(1)至(11)中任一項中記載之玻璃積層體，其中玻璃基板為具有曲面之形狀。
(13)一種顯示器用覆蓋玻璃，其具備如上述(1)至(12)中任一項中記載之玻璃積層體。
(14)一種顯示裝置，其具備如上述(13)中記載之覆蓋玻璃。 [實施例]
其次，對實施例進行說明。再者，只要起到發明效果，亦可改變實施態樣。於例1至例9中，分別對複數種玻璃積層體進行關於初始狀態及50000次摩擦時之防污層之耐久性之評估。又，於例10至例15中，分別對複數種玻璃積層體進行關於抗反射層之反射特性之評估。例1至例2、例7至例8、例10至例13為本發明之實施例，例3至例6、例9、例14至例15為比較例。例1至例9示於表1，例10至例15示於表2。
(防污層之耐久性：例1至例9) 於例1之玻璃積層體中，使用厚度1.3 mm且一對相對向之主面為四邊形之板狀玻璃作為玻璃基體，並於第1主面側形成防眩層、抗反射層及防污層。防眩層係於第1主面上實施包含磨砂處理及蝕刻處理之防眩處理而直接形成於該第1主面之凹凸結構。關於該凹凸結構，第1主面之表面粗糙度RMS為0.07 μm，粗糙度曲線之要素之平均長度RSm為23 μm。
抗反射層包含1層單層之低折射率層。於防眩層上形成以於SiO 2中添加Zr(鋯)而得之SiZrO(氧化矽)為主成分之低折射率層(相當於圖3中之最表層131)。將抗反射層整體之厚度調整為100 nm。又，於以SiZrO為主成分之最表層131中，Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.15。
防污層形成於抗反射層上。使用含氟有機矽化合物(X-71-195(信越化學工業股份有限公司製造)，記為材料A)作為防污層之材料。將防污層之厚度調整為8.1 nm。
例2之玻璃積層體中，抗反射層之最表層131為以於SiO 2中添加Al(鋁)而得之SiAlO(氧化矽)為主成分之低折射率層。於此情形時，於以SiAlO為主成分之最表層131中，Al相對於Al與Si之合計之組成比Al/(Si＋Al)為0.12。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
例3之玻璃積層體中，抗反射層之最表層131為以SiO 2(氧化矽)為主成分之低折射率層。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
例4之玻璃積層體為於玻璃基體之第1主面側不具備防眩層之平坦之構成。即，不對第1主面執行防眩處理。除此以外，以與例3相同之條件形成玻璃積層體。
例5之玻璃積層體與例4同樣，亦為於玻璃基體之第1主面側不具備防眩層之平坦之構成。除此以外，以與例2相同之條件形成玻璃積層體。
例6之玻璃積層體與例4同樣，亦為於玻璃基體之第1主面側不具備防眩層之平坦之構成。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
又，例7之玻璃積層體與例1相比防污層之材料不同。使用含氟有機矽化合物(SURECO3320N(AGC股份有限公司製造)，記為材料B)作為防污層之材料。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
例8之玻璃積層體與例7同樣，使用材料B作為防污層之材料。除此以外，以與例2相同之條件形成玻璃積層體。
例9之玻璃積層體與例7同樣，使用材料B作為防污層之材料。除此以外，以與例3相同之條件形成玻璃積層體。
(初始水接觸角測定) 針對例1至例9中獲得之玻璃積層體，以如下方式測定水接觸角，以此作為關於防污層之耐久性之評估。於未使用之初期階段之玻璃積層體之防污層之表面滴加約2 μL之純水水滴，使用接觸角儀(協和界面科學公司製造，裝置名：DM-501)測定水接觸角。防污層表面之水接觸角之測定部位為5處，算出其平均值用於評估。其結果示於表1。
(摩擦5萬次後之水接觸角測定) 首先，於底面為10 mm×10 mm之平面金屬壓頭之表面安裝平紋棉布3號，作為摩擦樣品之摩擦元件。其次，使用該摩擦元件，利用平面磨耗試驗機3連式(大榮科學精器製作所公司製造)進行磨耗試驗。具體而言，以上述壓頭之底面與樣品之防污層之表面接觸之方式安裝於磨耗試驗機，以對摩擦元件之負荷為600 g之方式載重，以平均速度3600 mm/min、單程40 mm進行往返滑動。以往返1次、摩擦2次進行試驗，以與上述相同之方式測定摩擦次數50000次結束後之防污層之表面之水接觸角。其結果示於表1。
[表1]
[表1]
   例1 例2 例3 例4 例5 例6 例7 例8 例9
防眩層之有無 有 有 有 無 無 無 有 有 有
RMS[μm] 0.07 0.07 0.07 - - - 0.07 0.07 0.07
RSm[μm] 23 23 23 - - - 23 23 23
抗反射層之厚度[nm] 100 100 100 100 100 100 100 100 100
抗反射層之最表層 SiZrO SiAlO SiO2 SiO2 SiAlO SiZrO SiZrO SiAlO SiO2
金屬/(Si＋金屬) 0.15 0.12 - - 0.12 0.15 0.15 0.12 -
防污層之材料 A A A A A A B B B
初始水接觸角[°] 111.2 112.2 112.1 111.9 110.8 111.0 113.9 113.5 113.7
50000次摩擦時之水接觸角[°] 99.6 85.5 83.4 78.5 81.6 49.9 102.3 84.5 76.2
(關於防污層之耐久性之評估結果) 如表1所示，防污層使用材料A之例1至例6之玻璃積層體中，於實施例之例1至例2之玻璃積層體中，將抗反射層之最表層設為以於SiO 2中添加金屬(Zr、Al)而得之氧化矽(SiZrO、SiAlO)為主成分之低折射率層，因此50000次摩擦時之水接觸角分別為84°以上，可獲得防污層之良好之耐磨性。尤其，例1之玻璃積層體中，藉由添加金屬Zr，50000次摩擦時之水接觸角成為99°以上，可獲得格外良好之耐磨性。另一方面，於比較例之例3中，抗反射層之最表層為以SiO 2(氧化矽)為主成分之低折射率層，因此50000次摩擦時之水接觸角分別未達84°，無法獲得防污層之良好之耐磨性。此處，認為藉由於形成抗反射層之最表層之SiO 2中添加金屬(Zr、Al)，防污層之耐磨性提高。
然而，如比較例之例4～6所示，不具備防眩層之玻璃積層體中，比起直接使用SiO 2之例4之玻璃積層體之情形，於在SiO 2中添加了Zr之例6之玻璃積層體之情形時，50000次摩擦時之水接觸角大幅降低。
根據該等結果，推測如下，藉由將抗反射層之最表層設為以於SiO 2中添加金屬(Zr、Al)而得之氧化矽(SiZrO、SiAlO)為主成分之低折射率層，且於抗反射層下具備防眩層，可獲得上述之防污層之良好之耐磨性。
即，於防眩層上設置有抗反射層及防污層之情形時，如圖4所示，抗反射層13(防眩層)之表面之凹凸結構被原樣描印而形成於防污層14之表面。因此，如圖5所示，當防污層14之表面被壓頭(未圖示)摩擦時，抗反射層13之凸部14A(圖4)被優先削掉，且凸部14A中之防污層14亦受到磨耗。其結果，認為於長期摩擦之情形時，殘存於凹部14B之防污層14有助於防污性能。
於在SiO 2中添加Zr、Al等金屬而形成抗反射層之最表層的玻璃積層體之情形時，於不具備防眩層之玻璃積層體中防污層之耐磨性反而降低，但於具備防眩層之玻璃積層體中可獲得良好之耐磨性。即，於在SiO 2中添加Zr、Al等金屬而形成抗反射層之最表層之情形時，防污層之對於高強度之摩擦之耐磨性未提高，而對於低強度之摩擦之耐磨性提高。因此，圖5中，於比起凸部壓頭僅以低強度接觸之凹部14B中，防污層14之磨耗被抑制，長期摩擦後，與最表層僅為SiO 2之情形相比凹部之防污層殘存較多。推測其結果為可獲得防污層之良好之耐磨性。
又，例7至例9之玻璃積層體中，防污層之材料變更為B材料，於此情形時，同樣地，於實施例之例7至例8之玻璃積層體中，抗反射層之最表層為以於SiO 2中添加金屬(Zr、Al)而得之氧化矽(SiZrO、SiAlO)為主成分之低折射率層，因此50000次摩擦時之水接觸角分別為84°以上，可獲得防污層之良好之耐磨性。尤其，於例7之玻璃積層體中，藉由添加金屬Zr，50000次摩擦時之水接觸角成為102°以上，可獲得格外良好之耐磨性。另一方面，比較例之例9中，抗反射層之最表層為以SiO 2(氧化矽)為主成分之低折射率層，因此50000次摩擦時之水接觸角未達77°，無法獲得防污層之良好之耐磨性。如此，於將防污層之材料變更為B材料之情形時，同樣地，藉由將抗反射層之最表層設為以於SiO 2中添加金屬(Zr、Al)而得之氧化矽(SiZrO、SiAlO)為主成分之低折射率層，且於抗反射層下具備防眩層，可獲得上述之防污層之良好之耐磨性。
(抗反射層之反射特性：例10至例15) 於例10之玻璃積層體中，抗反射層包含3層高折射率層與3層低折射率層之合計6層。以NbO(氧化鈮)為主成分之高折射率層(第6層、第4層、第2層之各層)與以SiO 2(氧化矽)為主成分之低折射率層(第5層、第3層之各層)交替地積層而形成於防眩層上。又，以於SiO 2中添加Zr(鋯)而得之SiZrO(氧化矽)為主成分之低折射率層(圖3中之最表層131)形成於以NbO(氧化鈮)為主成分之第2層之層(圖3中之第2層之層132)上。從第6層之層到最表層之各層之厚度為表2所示之值。又，於以SiZrO為主成分之最表層131中，Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.10。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
[表2]
[表2]
   例10 例11 例12 例13 例14 例15
抗反射層之層構成/各層厚度[nm] 編號 基板    基板    基板    基板    基板    基板   
6 NbO 3.8 NbO 1.9 NbO 1.9 - - - - - -
5 SiO2 52.6 SiO2 62.5 SiO2 55 SiO2 113.5 SiO2 113.5 SiO2 131.4
4 NbO 23.6 NbO 18.9 NbO 18.9 NbO 14.3 NbO 14.3 NbO 14.3
3 SiO2 18.7 SiO2 23.9 SiO2 23.9 SiO2 34.5 SiO2 34.5 SiO2 34.5
2 NbO 60.5 NbO 67.9 NbO 67.9 NbO 63.8 NbO 63.8 NbO 63.8
1 SiZrO 85.5 SiZrO 79.9 SiZrO 80.5 SiZrO 83 SiZrO 83 SiZrO 84.3
Zr/(Zr＋Si) 0.10 0.19 0.20 0.24 0.25 0.30
反射率Rv 0.220 0.297 0.297 0.290 0.306 0.489
a ＊ 9.53 9.95 10.97 32.20 31.82 32.72
b ＊ 7.81 9.64 13.57 33.97 34.34 -39.17
如表2所示，於例11之玻璃積層體中，使抗反射層之各層之厚度與例10不同，且使以SiZrO為主成分之最表層131中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.19。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
如表2所示，於例12之玻璃積層體中，使抗反射層之各層之厚度與例10不同，且使以SiZrO為主成分之最表層131中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.20。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
於例13之玻璃積層體中，抗反射層包含2層高折射率層與3層低折射率層之合計5層。以SiO 2(氧化矽)為主成分之低折射率層(第5層、第3層之各層)與以NbO(氧化鈮)為主成分之高折射率層(第4層、第2層之各層)交替地積層而形成於防眩層上。又，以於SiO 2中添加Zr(鋯)而得之SiZrO(氧化矽)為主成分之低折射率層(圖3中之最表層131)形成於以NbO(氧化鈮)為主成分之第2層之層(圖3中之第2層之層132)上。從第5層之層到最表層之各層之厚度為表2所示之值。又，於以SiZrO為主成分之最表層131中，Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.24。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
如表2所示，於例14之玻璃積層體中，使抗反射層之各層之厚度與例13不同，且使以SiZrO為主成分之最表層131中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.25。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
如表2所示，於例15之玻璃積層體中，使抗反射層之各層之厚度與例13不同，且使以SiZrO為主成分之最表層131中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.30。除此以外，以與例1相同之條件形成玻璃積層體。
(抗反射層之反射率與最表層之色度之測定) 針對例10至例15中獲得之玻璃積層體，以如下方式算出抗反射層之可見光反射率Rv與最表層之色度(CIE1976色空間中之色度座標a ＊、b ＊)，以此作為關於抗反射層之反射特性之評估。將該等之絕對值設為｜a｜、｜b｜。此時，光源為CIE標準光源D65，設定來自形成有抗反射層之面之入射光。又，來自未形成有抗反射層之基板面之反射光除外。其結果示於表2。
(關於抗反射層之反射特性之評估結果) 如表2所示，例10至例15之玻璃積層體中，於實施例之例10至例13之玻璃積層體中，抗反射層之最表層中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)未達0.25，因此反射率Rv分別未達0.3，可獲得抗反射層之良好之反射特性。尤其，於例10至例11之玻璃積層體中，上述組成比Zr/(Zr＋Si)未達0.20，因此反射率Rv未達0.3，且最表層之色度a ＊、b ＊均未達10，可獲得特別良好之反射特性。另一方面，於比較例之例14至例15之玻璃積層體中，抗反射層之最表層中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.25以上，因此反射率Rv分別為0.3以上，無法獲得抗反射層之良好之反射特性。
以上，對本發明之實施方式進行了說明，但實施方式並不受該實施方式之內容之限定。又，上述構成要素中包含業者能夠容易地設想者、實質上相同者、所謂均等範圍內者。進而，可適當地組合上述構成要素。進而，可於不脫離上述實施方式之主旨之範圍內進行構成要素之各種省略、置換或變更。
本申請案係基於2022年4月19日申請之日本專利申請案(日本專利特願2022-068769)者，且其內容以參照之形式併入本文中。
1:轉向軸 2:車載用顯示裝置 3:顯示器面板 10:玻璃積層體 11:玻璃基體(玻璃基板) 11A:第1主面 11B:第2主面 12:防眩層 13:抗反射層 14:防污層 14A:凸部 14B:凹部 15:印刷層 131:最表層 132:第2層之層 133:第3層之層 134:第4層之層
圖1係表示具備本實施方式之玻璃積層體之車載用顯示裝置之模式圖。 圖2係表示玻璃積層體之概略之剖視圖。 圖3係抗反射層之放大圖。 圖4係模式性地表示磨耗前之防污層及抗反射層之局部剖視圖。 圖5係模式性地表示磨耗後之防污層及抗反射層之局部剖視圖。
10:玻璃積層體
11:玻璃基體(玻璃基板)
12:防眩層
13:抗反射層
14:防污層
131:最表層
132:第2層之層
133:第3層之層
134:第4層之層

Claims (14)

  1. 一種玻璃積層體，其包含具有第1主面及第2主面之玻璃基板、凹凸層、氧化矽層、及防污層， 於上述玻璃基板之上述第1主面側，從靠近上述第1主面一側依序配置有上述凹凸層、上述氧化矽層及上述防污層， 上述氧化矽層包含選自由Zr、Al、Sn及Zn所組成之群中之至少1種金屬。
  2. 如請求項1之玻璃積層體，其中上述氧化矽層包含Zr。
  3. 如請求項2之玻璃積層體，其中上述氧化矽層中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)為0.05以上。
  4. 如請求項2或3之玻璃積層體，其中上述氧化矽層中之Zr相對於Zr與Si之合計之組成比Zr/(Zr＋Si)未達0.25。
  5. 如請求項1或2之玻璃積層體，其中上述凹凸層具有防眩性。
  6. 如請求項1或2之玻璃積層體，其中上述凹凸層包含直接形成於上述第1主面之凹凸結構。
  7. 如請求項1或2之玻璃積層體，其中上述防污層之表面之RMS滿足0.03 μm～0.25 μm，粗糙度曲線之要素之平均長度RSm滿足10 μm～40 μm。
  8. 如請求項1或2之玻璃積層體，其於上述凹凸層之表面上具有抗反射層，上述抗反射層由折射率為2.0以上之高折射率層與該折射率為1.3～1.9之低折射率層交替地積層而成，上述抗反射層之最表層為上述氧化矽層。
  9. 如請求項8之玻璃積層體，其中上述抗反射層具備1層以上6層以下之上述低折射率層、及與上述低折射率層相同層數之上述高折射率層，上述高折射率層以氮化矽、氧化鈦、氧化鈮、氧化鉭及氧化鋯中之任意1種為主成分。
  10. 如請求項1或2之玻璃積層體，其於上述凹凸層之表面上具有包含上述氧化矽層之抗反射層，上述抗反射層之厚度滿足5 nm～300 nm。
  11. 如請求項1或2之玻璃積層體，其中上述防污層包含氟。
  12. 如請求項1或2之玻璃積層體，其中上述玻璃基板為具有曲面之形狀。
  13. 一種顯示器用覆蓋玻璃，其具備如請求項1或2之玻璃積層體。
  14. 一種顯示裝置，其具備如請求項13之覆蓋玻璃。
TW112114478A 2022-04-19 2023-04-19 玻璃積層體、覆蓋玻璃、及顯示裝置 TW202406873A (zh)

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