JPWO2019225450A1 - 防眩性透明基体およびそれを備える表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、第１主面および第２主面を備える化学強化ガラスからなる透明基体を備え、前記第１主面は、算術平均粗さＲａが０．０５ｎｍ以上２ｎｍ以下の第１平滑領域と、前記第１平滑領域の算術平均粗さＲａよりも大きい算術平均粗さＲａを有する第１粗面領域を備え、前記第２主面は、前記第１平滑領域と対向する領域の少なくとも一部に、算術平均粗さＲａが０．０５ｎｍ以上２ｎｍ以下の第２平滑領域を備えることを特徴とする、防眩性透明基体に関する。

Description

本発明は、防眩性透明基体およびそれを備える表示装置に関する。

カーナビゲーションシステムや、オーディオ等の車載用情報機器や、携帯通信機器は、表示装置を備える。
表示装置には、表示パネルの前面に接着層を介して板状の透明基体である保護カバーが設けられる。保護カバーは、外光反射を低減したり、表示パネルを外部衝撃から保護したりする機能を備える。
保護カバーには、強度、美観、視認性の観点から化学強化ガラスが用いられる場合がある。一方で、保護カバーには入射光により、周囲の景色が映り込むことがある。
入射光による映り込みを防ぐためには、防眩処理（ＡＧ処理）を保護カバーの表面に施して防眩性透明基体とすることが有効である。防眩処理は、保護カバーの表面に微細な凹凸を形成する処理である。防眩処理が施された表面により、入射した光を散乱させ、映り込んだ周囲の景色をぼかすことができる。

防眩処理は、映り込みを防ぐ観点からは有用であるが、平滑な面が必要となる領域には設けない方が好ましい場合がある。これは指紋認証のように、認証対象の立体的な形状を読み取る機能を表示装置が備える場合、防眩処理により形成された微細な凹凸を、認証対象の立体形状の一部と認証部が誤認する恐れがあるためである。

そこで、防眩処理後の表面の一部を砥石で研磨することにより、微細な凹凸を除去する方法が提案されている（特許文献１）。

日本国特開２０１７−１１６５７３号公報

しかしながら、化学強化ガラスに防眩処理を施した領域と施さない領域とを両方とも設けると、ガラス基板が反り易いという問題があった。
これは、防眩処理後に化学強化を行った場合、表面形状の違いに起因して、防眩処理を施す領域と施さない領域とで、化学強化により交換されるイオンの物質移動係数が変わるため、化学強化が不均一となり、主表面間での応力分布が不均一になるためである。
また、化学強化後に防眩処理を行った場合でも、防眩処理後の熱処理の際に、表面形状の違いに起因して防眩処理を施す面と施さない面とで、ガラス中の成分の物質移動係数が変わり、主表面間での応力分布が不均一になるためである。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、防眩処理を施した領域と施さない領域とを両方とも透明基体に設ける場合であっても、反りを抑制できる防眩性透明基体の提供を目的とする。

本発明の防眩性透明基体は、第１主面および第２主面を備える化学強化ガラスからなる透明基体を備え、前記第１主面は、算術平均粗さＲａが０．０５ｎｍ以上２ｎｍ以下の第１平滑領域と、前記第１平滑領域の算術平均粗さＲａよりも大きい算術平均粗さＲａを有する第１粗面領域とを備え、前記第２主面は、前記第１平滑領域と対向する領域の少なくとも一部に、算術平均粗さＲａが０．０５ｎｍ以上２ｎｍ以下の第２平滑領域を備えることを特徴とする。
本発明によれば、第１粗面領域の位置によらず、第１平滑領域と第２平滑領域の少なくとも一部が対向している。そのため、対向した領域では、主表面間の表面形状の違いに起因する、応力分布の差が生じ難い。よって、防眩処理を施した領域と施さない領域を両方とも透明基体に設ける場合であっても、反りを抑制できる。

本発明では、前記第１粗面領域は、算術平均粗さＲａが２ｎｍ超１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。
第１粗面領域が、算術平均粗さＲａが２ｎｍ超１０００ｎｍ以下である場合、第１主面側から第１粗面領域に入射した可視光を散乱させ、映り込みをぼかすことができる。そのため、防眩処理を施した面として、第１粗面領域を好適に利用できる。

本発明では、前記第２主面は、さらに、前記第２平滑領域の算術平均粗さＲａよりも大きい算術平均粗さＲａを有する第２粗面領域を備えるのが好ましい。
第２主面にも粗面領域を備える場合、第２主面側から入射した可視光に対しても防眩性を発揮できる。

本発明では、前記第２粗面領域は、算術平均粗さＲａが２ｎｍ超１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。
第２粗面領域の表面粗さが、算術平均粗さＲａで２ｎｍ超１０００ｎｍ以下である場合、第２主面側から第２粗面領域に入射した可視光を散乱させ、映り込みをぼかすことができる。そのため、防眩処理を施した面として、第２粗面領域を好適に利用できる。

本発明ではＳｉとＡｌ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔｉからなる群より選ばれる元素Ｘとの原子組成比Ｘ／ＳｉをＺ、前記第１粗面領域における原子組成比ＺをＺ_１、前記第１平滑領域における原子組成比ＺをＺ_０と定義したとき、Ｚ_１とＺ_０との比Ｚ_１／Ｚ_０が０〜１．１となるのが好ましい。
上記の比Ｚ_１／Ｚ_０が０〜１．１である場合、表面に反射防止層などを堆積しても光学的異質層となりにくく、優れた防眩性透明基体が得られる

本発明では、前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０以上であってもよい。
Ｓｓｋが０以上である場合、第１粗面領域の凸部のピーク幅が狭くなり、指すべり性の向上や指紋が付着しにくい効果が期待できる。

本発明では、前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０．２以上であってもよい。
Ｓｓｋが０．２以上である場合、ガラス表面での光の散乱が多くなるため、ガラス表面のギラツキを抑制する効果がある。

本発明では、前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０未満であってもよい。
Ｓｓｋが０未満である場合、第１粗面領域の凹部のピーク幅が狭くなり、耐擦傷性が向上できる。

本発明では、前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が−０．２未満であってもよい。
Ｓｓｋが−０．２未満である場合、ガラス表層の光沢や艶を消す効果があり、アンチグレア効果が向上する。

本発明では、引張応力を正値、圧縮応力を負値とした場合、前記第１平滑領域の板厚方向応力積分値Ｓが、０ＭＰａ未満であるのが好ましい。
板厚方向応力積分値Ｓが０ＭＰａ未満である場合、第１平滑領域を含む透明基体の板厚方向に圧縮応力が生じる。
そのため、第１平滑領域への衝撃に対して透明基体が割れにくくなる。

本発明では、前記第１平滑領域の板厚方向応力積分値Ｓが−３ＭＰａ未満となるのが好ましい。
板厚方向応力積分値Ｓが−３ＭＰａ未満である場合、第１平滑領域を含む透明基体の板厚方向に、さらに強い圧縮応力が生じる。
そのため、第１平滑領域への衝撃に対して、さらに透明基体が割れにくくなる。

本発明では、前記第１平滑領域の表面圧縮応力ＣＳが、前記第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳよりも大きいことが好ましい。
前記第１平滑領域の表面圧縮応力ＣＳが、前記第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳよりも大きい場合、防眩性透明基体に衝撃が加えられた場合に、第１平滑領域の方が第１粗面領域よりも割れにくい。そのため、第１平滑領域を指紋認証等に用いる場合に、外部からの衝撃で認証不能になりにくい。

本発明では、前記第１平滑領域の表面圧縮応力ＣＳが、前記第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳよりも大きい場合、前記第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳが、５００ＭＰａ以上であるのが好ましい。
第１平滑領域および第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳが５００ＭＰａ以上となる場合、防眩性透明基体に衝撃が加えられた場合に、より透明基体が割れにくくなる。

本発明では、前記透明基体の厚さが２ｍｍ以下であるのが好ましい。
透明基体の厚さが２ｍｍ以下である場合、防眩性透明基体の質量を減らせ軽量化でき、さらに防眩性透明基体と表示パネルの間に指紋認証部等を設けた場合に、認証精度を向上させられる。

本発明では、前記第１粗面領域の少なくとも一部に屈曲部を有するのが好ましい。
前記第１粗面領域の少なくとも一部に屈曲部を有する場合、防眩性透明基体を取り付ける相手側部材が屈曲形状を有していても、取り付けの精度が下がるのを防げる。

本発明の表示装置は、上記いずれかに記載の防眩性透明基体を備える。
本発明によれば、防眩性透明基体で保護された表示装置を得られる。

図１は本実施形態に係る防眩性透明基体を示す図であって、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は、（Ａ）の１Ａ−１Ａ断面図、（Ｃ）は（Ｂ）の点線で囲んだ領域の拡大図である。 図２は本実施形態に係る防眩性透明基体の変形例を示す断面図である。 図３は本実施形態に係る防眩性透明基体の変形例を示す図であって、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は（Ａ）の点線で囲んだ領域の拡大図である。 図４は本実施形態に係る防眩性透明基体の変形例を示す図であって、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）の４Ａ−４Ａ断面図である。 図５は本実施形態に係る防眩性透明基体の変形例を示す図であって、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）の５Ａ−５Ａ断面図、（Ｃ）は（Ａ）の５Ａ’−５Ａ’断面図である。 図６は本実施形態に係る防眩性透明基体の変形例を示す断面図である。 図７は本実施形態に係る防眩性透明基体を備える表示装置を示す断面図である。 図８は実施例において、全体形状を示すグラフである。 図９は実施例において、認証部に相当する領域の形状を示すグラフである。 図１０は実施例において、表面圧縮応力ＣＳの分布を示すグラフである。 図１１は実施例において、断面応力分布を示すグラフである。

以下、本発明の一実施形態について説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されることはない。また、本発明の範囲を逸脱することなく、以下の実施形態に種々の変形および置換等を加えられる。

（防眩性透明基体の構成）
まず、図１を参照して、防眩性透明基体の構造について説明する。
本実施形態に係る防眩性透明基体は、化学強化ガラスからなる透明基体を備え、任意の保護対象を保護するために用いられる。

図１に示すように、防眩性透明基体１は、板状の化学強化ガラスからなる透明基体２を備える。
透明基体２は、第１主面２１および第２主面２２を備える。第１主面２１は、第１平滑領域２５および第１粗面領域２７を備える。第２主面２２は第２平滑領域２９を備える。
透明基体２は化学強化ガラスであるため、圧縮応力層２６および引張応力層２８を備える。圧縮応力層２６は圧縮応力が作用する層（圧縮応力が０ＭＰａ以上の層）である。圧縮応力層２６は第１主面２１および第２主面２２の表面から、板厚方向の所定の深さまでの範囲に設けられる。圧縮応力層２６は端面にも設けられるが、ここでは説明を省略する。
引張応力層２８は、引張応力が作用する層（圧縮応力が０ＭＰａ未満の層）である。引張応力層２８は、圧縮応力層２６の間に設けられる。

第１平滑領域２５は、平滑面を備えた領域である。防眩性透明基体１の保護対象が、スマートフォンである場合、第１平滑領域２５は、指紋認証センサ等のセンサに対向する位置に設けられる。

第１平滑領域２５は、表面粗さが、算術平均粗さＲａで０．０５ｎｍ以上２ｎｍ以下である。
Ｒａが２ｎｍ以下であることにより、平滑面が得られ、センサの検出精度を向上させられる。Ｒａが０．０５ｎｍ以上であることにより、表面仕上げに要するコストを抑制できる。
なお、算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２０１３）で規定される値である。

Ｒａは、０．０６ｎｍ以上１．８ｎｍ以下が好ましく、０．０７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下がより好ましく、０．０８ｎｍ以上１．２ｎｍ以下がさらに好ましい。

第２平滑領域２９は、平滑面を備えた領域である。第２平滑領域２９は、第１平滑領域２５に対向する領域２９Ａを少なくとも一部に有する。ここでいう「対向」とは、第１平滑領域２５と、領域２９Ａの平面上の位置、ここでは第１主面２１または第２主面２２から見た位置が重なっていることを意味する。
第２平滑領域２９の表面粗さは、第１平滑領域２５と同程度であり、算術平均粗さＲａで０．０５ｎｍ以上２．０ｎｍ以下である。

第１粗面領域２７は、表面粗さが、算術平均粗さで第１平滑領域２５よりも大きい領域である。防眩性透明基体１の保護対象が、スマートフォンである場合、第１粗面領域２７は、表示部に対向する防眩処理が施された領域に該当する。

第１粗面領域２７は、表面粗さが、算術平均粗さＲａで２ｎｍ超１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。
算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ超であることにより、第１主面２１側から防眩性透明基体１に入射した光を散乱させ、入射光による映り込みをぼかすことができる。
算術平均粗さＲａが１０００ｎｍ以下であることにより、第１粗面領域２７が覆う表示部の視認性を確保できる。

第１粗面領域２７は、表面粗さが、算術平均粗さＲａで、２ｎｍ超１０００ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以上７５ｎｍ以下がさらに好ましい。算術平均粗さＲａを上記範囲とすることで、第１粗面領域２７のヘイズ値を１％以上３０％以下に調整できる。ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）で規定される値である。

算術平均粗さが上記範囲を満たせば、第１粗面領域２７の表面形状は特に限定しない。該表面形状はガラス表面に静電スプレー等で微粒子を吹き付けて凸部を形成してなる形状でもよい。該表面形状はエッチングにより、ガラス表面に凹部を形成してなる形状でもよい。

第１平滑領域２５の面積をＳ_１、第１粗面領域２７の面積をＳ_２としたとき、面積比Ｓ_１／Ｓ_２×１００は特に規定しないが、０．５％以上１０％以下程度である。第１平滑領域２５の面積Ｓ_１と第２平滑領域２９の面積Ｓ_３の面積比（Ｓ_１／Ｓ_３×１００）も特に規定しないが、９０％以上９９．５％以下程度である。

表面形状が凸部や凹部を形成してなる形状の場合、ＳｉとＡｌ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔｉからなる群より選ばれる元素Ｘとの原子組成比Ｘ／ＳｉをＺ、前記第１粗面領域における原子組成比ＺをＺ_１、前記第１平滑領域における原子組成比ＺをＺ_０と定義したとき、Ｚ_１とＺ_０との比Ｚ_１／Ｚ_０が０〜１．１となるのが好ましい。スプレーコートのように第１粗面領域２７に含まれるＳｉが多い場合は、Ｚ_１／Ｚ_０が１未満であることが好ましい。一方で、第１粗面領域２７に含まれるＳｉが少ない場合は、Ｚ_１／Ｚ_０が１〜１．１であることが好ましい。
Ｓｉおよび元素Ｘの含有量はＥＤＸ（Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ−ｒａｙ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）等の公知の手法で測定できる。
第１粗面領域２７や第１平滑領域２５のＳｉ含有量は、第１主面２１の表面から板厚方向に深さ１μｍ程度、あるいは透明基体２の全厚に対して０．１％程度の深さまでのＳｉ含有量に相当する。

表面形状が凸部を形成してなる形状の場合、第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０以上であるのが好ましい。Ｓｓｋが０以上であることにより、凸部のピーク幅が狭くなり、指すべり性の向上や指紋が付着しにくい効果が期待できる。第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）は０．２以上がより好ましい。
なお、面の偏り度（Ｓｓｋ）は、ＩＳＯ ２５１７８−２（２０１２）で規定される値である。

表面形状が凹部を形成してなる形状の場合、第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０未満であるのが好ましい。Ｓｓｋが０未満であることにより、凹部のピーク幅が狭くなり、耐擦傷性が向上できる。第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）は−０．２未満がより好ましい。

防眩性透明基体１は、引張応力を正値、圧縮応力を負値とした場合、第１平滑領域２５の板厚方向応力積分値Ｓが、０ＭＰａ未満であるのが好ましい。
第１平滑領域２５の板厚方向応力積分値Ｓが０ＭＰａ未満となると、第１平滑領域２５を含む板厚方向に圧縮応力が生じる。そのため、第１平滑領域２５を含む領域の板厚が薄くても衝撃に対して割れにくくなり、必要な強度を備える。

ここでいう板厚方向応力積分値Ｓは、フォトニックラティス社のＷＰＡ１００等の位相差評価装置により位相差Ｒを求め、以下の式（１）によりＳ値に変換した値である。
Ｓ＝位相差Ｒ÷ガラスの光弾性定数Ｃ ・・・（１）

測定位置は、第１平滑領域２５内であれば、特に限定されないが、例えば重心位置である。式（１）における位相差Ｒと光弾性定数Ｃの関係は、内部応力（正確には主応力の差）をσ、板厚をｔとすると、Ｒ／Ｃ＝σｔで表されるため、式（１）の板厚方向応力積分値Ｓは内部応力の積分値相当であるσｔに相当する。

板厚方向応力積分値Ｓが−３ＭＰａ未満であると、さらに強い圧縮応力が生じるので、好ましく、−５ＭＰａ未満がより好ましい。これにより防眩性透明基体１の主面に発生したクラックなどが伸展しにくくなるため、防眩性透明基体１の耐衝撃性が向上する。板厚方向応力積分値Ｓの下限値は特に制限はないが、−２０ＭＰａ以上が好ましく、−１０ＭＰａ以上がより好ましい。これにより、防眩性透明基体１の光学的ひずみを示すリタデーションが下がり、防眩性透明基体１を透過する光が偏光しにくくなるため、光学的センサ等を使用する場合は認証精度を向上できる。

板厚方向応力積分値Ｓを０ＭＰａ未満にするための具体的な方法としては、第１平滑領域２５を含む領域の板厚をなるべく薄くしたうえで化学強化する方法がある。化学強化時間は長い方が好ましい。また、第１平滑領域２５を選択的に化学強化する方法もある。

防眩性透明基体１は、第１平滑領域２５の表面圧縮応力ＣＳが、第１粗面領域２７の表面圧縮応力ＣＳよりも大きいことが好ましい。これにより、防眩性透明基体１に衝撃が加えられた場合に、第１平滑領域２５の方が割れにくくなる。そのため、第１平滑領域２５を指紋認証等に用いる場合に、外部からの衝撃で認証不能になりにくくなり、好ましい。
第１平滑領域の表面圧縮応力ＣＳが、第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳよりも大きい場合、第１粗面領域２７の表面圧縮応力ＣＳは、５００ＭＰａ以上が好ましく、６００ＭＰａ以上がより好ましい。第１平滑領域２５および第１粗面領域２７の表面圧縮応力ＣＳは５００ＭＰａ以上であることにより、防眩性透明基体１が、より衝撃に強くなり、より割れにくくなる。表面圧縮応力ＣＳの上限値は特に制限はないが、９００ＭＰａ以下が好ましく。８００ＭＰａ以下がより好ましい。これにより、防眩性透明基体１が割れた時の破砕片が細かくなりすぎずに、仮に防眩性透明基体１が割れても認証機能を維持できる場合がある。
表面圧縮応力ＣＳは、表面応力計（例えば、折原製作所製ＦＳＭ−６０００）等を用いて測定できる。

第１平滑領域２５の圧縮応力深さＤＯＬは１０μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上が好ましく、３０μｍ以上がより好ましく、５０μｍ以上がさらに好ましい。ＤＯＬが１０μｍ以上であることにより、防眩性透明基体１の耐擦傷性を向上できる。圧縮応力深さＤＯＬは１５０μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。これにより、プロセス時間短縮が可能となり、より現実的なコストで強化できるため好ましい。
圧縮応力層深さＤＯＬは、任意の方法により測定できる。例えばＥＰＭＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｚｅｒ、電子線マイクロアナライザー）にてガラスの深さ方向のアルカリイオン濃度分析（この例の場合はカリウムイオン濃度分析）を行い、測定で得られたイオン拡散深さを圧縮応力層深さＤＯＬとみなせる。
圧縮応力層深さＤＯＬは表面応力計（例えば、折原製作所製ＦＳＭ−６０００）等を用いても測定できる。またガラス表層のリチウムイオンと溶融塩中のナトリウムイオンとをイオン交換する場合、ＥＰＭＡにてガラスの深さ方向のナトリウムイオン濃度分析を行い、測定により得られたイオン拡散深さを圧縮応力層深さＤＯＬとみなすこともできる。

第１平滑領域２５の内部引張応力ＣＴは１０ＭＰａ〜１００ＭＰａが好ましい。ＣＴが１０ＭＰａ以上であることにより、第１平滑領域２５へのクラックの進展を阻止できる。ＣＴが１００ＭＰａ以下であることにより、ガラスが割れた際にガラスが細かく飛散することを防止できる。
内部引張応力ＣＴは一般に、板厚ｔと、圧縮応力層２６の表面圧縮応力ＣＳと、圧縮応力層深さＤＯＬと、によって、関係式ＣＴ＝（ＣＳ×ＤＯＬ）／（ｔ−２×ＤＯＬ）により近似的に求められる。
以上が、防眩性透明基体１の構成の説明である。

〔製造方法〕
次に、製造方法の例について説明する。

まず、化学強化ガラスを製造する。
化学強化ガラスは、一般的なガラス製造方法によって製造された化学強化用ガラスを、化学強化処理して製造される。
化学強化処理は、ガラスの表面にイオン交換処理を施し、圧縮応力を有する表面層を形成させる処理である。具体的には、化学強化用ガラスのガラス転移点以下の温度でイオン交換処理を行い、ガラス板表面付近に存在するイオン半径が小さな金属イオン（典型的には、ＬｉイオンまたはＮａイオン）を、イオン半径のより大きいイオン（典型的には、Ｌｉイオンに対してはＮａイオンまたはＫイオンであり、Ｎａイオンに対してはＫイオン）に置換する。

化学強化ガラスは、化学強化用ガラスを、化学強化処理して製造できる。
なお、下記の製造方法は、板状の化学強化ガラスを製造する場合の例である。

まず、ガラス原料を調合し、ガラス溶融窯で加熱溶融する。その後、バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、従来公知の成形法により所定の厚さのガラス板に成形し、徐冷する。またはブロック状に成形して徐冷した後に切断する方法で板状に成形してもよい。

板状に成形する方法としては、例えば、フロート法、プレス法、フュージョン法及びダウンドロー法が挙げられる。特に、大型のガラス板を製造する場合は、フロート法が好ましい。また、フロート法以外の連続成形法、たとえば、フュージョン法及びダウンドロー法も好ましい。

その後、成形したガラスを所定の大きさに切断し、面取りを行う。平面視での面取り部の寸法が、０．０５ｍｍ以上０．５ｍｍ以下となるように面取りを行うことが好ましい。

次に、ガラス板を１回または２回（１段階または２段階）イオン交換処理することにより、化学強化を行い、圧縮応力層２６および引張応力層２８を形成する。
化学強化工程では、処理に供するガラスを、そのガラス中に含まれるアルカリ金属イオン（例えば、ナトリウムイオン、または、リチウムイオン）より、イオン半径の大きなアルカリ金属イオンを含む溶融塩（例えば、カリウム塩、または、ナトリウム塩）と、ガラスの転移温度を超えない温度域で接触させる。

ガラス中のアルカリ金属イオンと、アルカリ金属塩のイオン半径の大きなアルカリ金属イオンとを、イオン交換させ、アルカリ金属イオンの占有面積の差により、ガラス表面に圧縮応力を発生させ、圧縮応力層２６を形成する。ガラスを溶融塩と接触させる温度域はガラスの転移温度を超えない温度域であればよいが、ガラス転移点より５０℃以上低いことが好ましい。これによりガラスの応力緩和を防げる。

化学強化処理において、ガラスとアルカリ金属イオンを含む溶融塩とを接触させる処理温度および処理時間は、ガラスおよび溶融塩の組成に応じて適宜調整できる。溶融塩の加熱温度は、通常３５０℃以上が好ましく、３７０℃以上がより好ましい。また、通常５００℃以下が好ましく、４５０℃以下がより好ましい。

溶融塩の加熱温度を３５０℃以上とすることにより、イオン交換速度の低下により化学強化が入りにくくなるのを防ぐ。また、加熱温度を５００℃以下とすることにより溶融塩の分解及び劣化を抑制できる。

ガラスを溶融塩に接触させる処理時間は１回あたり、十分な圧縮応力を付与するためには、通常１０分以上が好ましく、１５分以上がより好ましい。また、長時間のイオン交換では、生産性が落ちるとともに、緩和により圧縮応力値が低下するため、処理時間は１回あたり、通常２０時間以下が好ましく、１６時間以下がより好ましい。

化学強化の回数は、１回または２回を例示したが、目標とする圧縮応力層２６および引張応力層２８の物性（ＤＯＬ、ＣＳ、ＣＴ）が得られるのであれば、特に回数は限定されない。化学強化の回数は３回以上でもよい。また、２回の強化の間に、熱処理工程を行ってもよい。以下の説明では、３回化学強化を行う場合、および２回の強化の間に、熱処理工程を行う場合を３段階の強化と呼ぶ。
３段階の強化の場合、例えば以下に説明する強化処理方法１または強化処理方法２を用いて製造できる。

（強化処理方法１）
強化処理方法１においては、まず、ナトリウム（Ｎａ）イオンを含む金属塩（第一の金属塩）に、Ｌｉ_２Ｏを含有する化学強化用ガラスを接触させて、金属塩中のＮａイオンと、ガラス中のＬｉイオンとの、イオン交換を起こさせる。以下ではこのイオン交換処理を「１段目の処理」と呼ぶことがある。
１段目の処理は、たとえば化学強化用ガラスを、３５０〜５００℃程度のＮａイオンを含む金属塩（例えば硝酸ナトリウム）に、０．１〜２４時間程度浸漬する。生産性を向上するためには、１段目の処理時間は１２時間以下が好ましく、６時間以下がより好ましい。

１段目の処理によって、ガラス表面に深い圧縮応力層２６が形成され、ＣＳが２００ＭＰａ以上、圧縮応力深さＤＯＬが、板厚の１／８以上となるような応力プロファイルを形成できる。また、１段目の処理を終えた段階のガラスは、内部引張応力ＣＴが大きいので破砕性が大きい。しかし、後の処理によって破砕性が改善されるので、この段階でのＣＴが大きいことはむしろ好ましい。１段目の処理を終えたガラスの内部引張応力ＣＴは、９０ＭＰａ以上が好ましく、１００ＭＰａ以上がより好ましく、１１０ＭＰａ以上がさらに好ましい。圧縮応力層２６の表面圧縮応力ＣＳが大きくなるからである。

第一の金属塩はアルカリ金属塩であり、アルカリ金属イオンとしては、Ｎａイオンを最も多く含有する。Ｌｉイオンを含有してもよいが、アルカリイオンのモル数１００％に対して、Ｌｉイオンは２％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、０．２％以下がさらに好ましい。また、Ｋイオンを含有してもよい。第一の金属塩に含まれるアルカリ金属イオンのモル数１００％に対して、Ｋイオンは２０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。

次に、リチウム（Ｌｉ）イオンを含有する金属塩（第二の金属塩）に、１段目の処理を終えたガラスを接触させ、金属塩中のＬｉイオンとガラス中のＮａイオンとのイオン交換により、表層近傍の圧縮応力値を減少させる。この処理を「２段目の処理」と呼ぶことがある。
具体的には、たとえば、３５０〜５００℃程度のＮａとＬｉを含む金属塩（例えば硝酸ナトリウムと硝酸リチウムの混合塩）に、ガラスを０．１〜２４時間程度浸漬する。生産性を向上するためには、２段目の処理時間は１２時間以下が好ましく、６時間以下がより好ましい。

２段目の処理を終えたガラスは、内部の引っ張り応力を下げることができ、割れた際に激しい割れ方をしなくなる。

第２の金属塩は、アルカリ金属塩であり、アルカリ金属イオンとしてＮａイオンとＬｉイオンを含有することが好ましい。また硝酸塩が好ましい。第二の金属塩に含まれるアルカリ金属イオンのモル数１００％に対して、ＮａイオンとＬｉイオンの合計のモル数は、５０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上がさらに好ましい。Ｎａ／Ｌｉモル比を調整することで、ＤＯＬの１／４〜１／２の深さにおける応力プロファイルを制御できる。
第２の金属塩のＮａ／Ｌｉモル比の最適値は、ガラス組成によって異なるが、０．３以上が好ましく、０．５以上がより好ましく、１以上がより好ましい。ＣＴを小さくしつつ、圧縮応力層２６の圧縮応力値を大きくするためには、第２の金属塩のＮａ／Ｌｉモル比は１００以下が好ましく、６０以下がより好ましく、４０以下がさらに好ましい。

第２の金属塩が、硝酸ナトリウム−硝酸リチウム混合塩の場合、硝酸ナトリウムと硝酸リチウムの質量比は、たとえば２５：７５〜９９：１が好ましく、５０：５０〜９８：２がより好ましく、７０：３０〜９７：３が、さらに好ましい。

次に、カリウム（Ｋ）イオンを含む金属塩（第３の金属塩）に、２段目の処理を終えたガラスを接触させ、金属塩中のＫイオンとガラス中のＮａイオンとのイオン交換により、ガラス表面に大きな圧縮応力を発生させる。このイオン交換処理を「３段目の処理」と呼ぶことがある。
具体的には、たとえば３５０〜５００℃程度のＫイオンを含む金属塩（例えば硝酸カリウム）にガラスを０．１〜１０時間程度浸漬する。このプロセスにより、ガラス表層の０〜１０μｍ程度の領域に大きな圧縮応力を形成できる。

３段目の処理はガラス表面の浅い部分の圧縮応力だけを大きくし、内部にはほとんど影響しないので、内部の引っ張り応力を抑制したままで、表層に大きな圧縮応力を形成できる。
第３の金属塩はアルカリ金属塩であり、アルカリ金属イオンとして、Ｌｉイオンを含んでもよいが、アルカリ金属イオンのモル数１００％に対してＬｉイオンは２％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、０．２％以下がさらに好ましい。また、Ｎａイオンの含有量は２％以下が好ましく、１％以下がより好ましく０．２％以下がさらに好ましい。

強化処理方法１では、１〜３段目の処理時間の総和を２４時間以下にできるので、生産性が高く好ましい。処理時間の総和は１５時間以下がより好ましく、１０時間以下がさらに好ましい。

（強化処理方法２）
強化処理方法２においては、まず、ナトリウム（Ｎａ）イオンを含む第一の金属塩に、Ｌｉ_２Ｏを含有する化学強化用ガラスを接触させて、金属塩中のＮａイオンと、ガラス中のＬｉイオンとのイオン交換を起こさせる、１段目の処理を行う。
１段目の処理については、強化処理方法１の場合と同様なので説明を省略する。

次に、１段目の処理を終えたガラスを金属塩に接触させずに熱処理する。これを２段目の処理と呼ぶ。
２段目の処理は、たとえば１段目の処理を終えたガラスを、大気中で３５０℃以上の温度に一定時間保持して行う。保持温度は化学強化用ガラスの歪点以下の温度であり、１段目の処理温度より１０℃高い温度以下が好ましく、１段目の処理温度と同じ温度がより好ましい。
この処理によれば、１段目の処理でガラス表面に導入されたアルカリイオンが、熱拡散することでＣＴが低下すると考えられる。

次に、カリウム（Ｋ）イオンを含む第３の金属塩に、２段目の処理を終えたガラスを接触させ、金属塩中のＫイオンとガラス中のＮａイオンとのイオン交換により、ガラス表面に大きな圧縮応力を発生させる。このイオン交換処理を「３段目の処理」と呼ぶことがある。
３段目の処理については、強化処理方法１の場合と同様なので説明を省略する。

強化処理方法２では、１〜３段目の処理時間の総和を２４時間以下にできるので、生産性が高く好ましい。処理時間の総和は１５時間以下がより好ましく、１０時間以下がさらに好ましい。

強化処理方法１によれば、２段目の処理に用いる第２の金属塩の組成や処理温度の調整により、応力プロファイルを精密に制御できる。
強化処理方法２によれば、比較的簡単な処理により低コストで優れた特性の化学強化ガラスが得られる。

化学強化処理の処理条件は、ガラスの特性及び組成や溶融塩の種類などを考慮して、時間及び温度等を適切に選択すればよい。
以上の手順で化学強化ガラスが製造される。

次に、上記化学強化ガラスに防眩処理を行って凹凸形状を形成し、第１粗面領域２７を形成する。防眩処理を行わなかった面は、通常のガラスの製造方法では、第１平滑領域２５および第２平滑領域２９となる。

凹凸形状は、公知の方法で形成できる。ガラス基板の表面に化学的または物理的に表面処理を施してエッチング層を形成し、所望の表面粗さの凹凸形状を形成する方法や、防眩フィルムや静電スプレーによりコーティング層を形成する方法が利用できる。
防眩層がエッチング層であると、防眩用の材料を別途被覆する必要がない点で有利である。防眩層がコーティング層であると、材料の選択により、防眩性の制御が容易な点で有利である。
なお、化学強化処理前に凹凸形状を形成してもよいし、化学強化処理後に凹凸形状を形成しても良い。化学強化処理前にエッチング層を作った場合、強化層表面のエッチングによるＣＳの低下を抑制できるため、強度のコントロールが容易となる。化学強化処理前にスプレー層を作った場合、認証部をより大きく変形させることができ、認証部の指での認識が容易になる。化学強化処理後にエッチング層を作った場合、エッチング後の表面形状の微小な変形を抑制できるため、表面特性のコントロールが容易である。化学強化処理後にスプレー層を作った場合、本体の変形を抑制できるためより平坦なカバーガラスが得られる。

化学的に防眩処理を行う方法としては、フロスト処理が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、被処理体であるガラス基板を浸漬することで実現できる。この際、混合溶液の比率や浸漬時間をコントロールすることで、Ｓｓｋを０未満にできる。
物理的に防眩処理を行う方法としては、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気でガラス基板の主面に吹き付けるサンドブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を付着させたブラシを水で湿らせたものを用いて擦る方法等を利用できる。この際、サンドブラストなどの場合は粉の粒径や加圧力を制御することで、ブラシで擦る方法の場合は使用する粉末の粒径や擦る力を制御することで、Ｓｓｋを０以上にできる。

〔作用効果〕
防眩性透明基体１は、第１粗面領域２７の位置によらず、第１平滑領域２５と第２平滑領域２９の少なくとも一部が対向しているため、対向した領域では、第１主面２１と第２主面２２間の表面形状の違いに起因する、応力分布の差が生じ難い。そのため、防眩処理を施した面と施さない面を両方とも設ける場合であっても、反りを抑制できる。

第１粗面領域２７の表面粗さは、算術平均粗さＲａで２ｎｍ超１０００ｎｍ以下であるため、第１主面側２１から第１粗面領域２７に入射した可視光を散乱させ、入射光による映り込みをぼかすことができる。そのため、防眩処理を施した面として、第１粗面領域２７を好適に利用できる。

防眩性透明基体１は、第１粗面領域２７の原子組成比Ｚ_１と、第１平滑領域２５の原子組成比Ｚ_０との比率Ｚ_１／Ｚ_０が１未満の場合、表面がＳｉリッチとなるため、表面硬度が上がり、耐擦傷性を向上できる。また、Ｚ_１／Ｚ_０が１〜１．１の場合、アルカリ金属組成比Ｋ／（Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ）が防眩性透明基体１の厚さ方向断面視中央部に比べ、表面処理層の方が大きい反射防止層を堆積する際に、光学的異質層となりにくく優れた防眩性透明基体１が得られる。

第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０以上であることにより、第１粗面領域２７の凸部のピーク幅が狭くなり、指すべり性の向上や指紋が付着しにくい効果が期待できる。

第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０．２以上であることにより、ガラス表面での光の散乱が多くなるため、ガラス表面のギラツキを抑制する効果がある。

第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０未満であることにより、第１粗面領域２７の凹部のピーク幅が狭くなり、耐擦傷性が向上できる。

第１粗面領域２７の面の偏り度（Ｓｓｋ）が−０．２未満であることにより、ガラス表層の光沢や艶を消す効果があり、アンチグレア効果が向上する。

引張応力を正値、圧縮応力を負値とした場合、第１平滑領域２５の板厚方向応力積分値Ｓが、０ＭＰａ未満であるため、第１平滑領域２５を含む透明基体２の板厚方向に圧縮応力が生じる。そのため、第１平滑領域２５への衝撃に対して透明基体２が割れにくくなる。

第１平滑領域２５の板厚方向応力積分値Ｓが−３ＭＰａ未満であるため、第１平滑領域２５を含む透明基体２の板厚方向に、さらに強い圧縮応力が生じる。そのため、第１平滑領域２５への衝撃に対して、さらに透明基体２が割れにくくなる。

第１平滑領域２５の表面圧縮応力ＣＳが、第１粗面領域２７の表面圧縮応力ＣＳよりも大きいため、防眩性透明基体１に衝撃が加えられた場合に、第１平滑領域２５の方が割れにくい。そのため、第１平滑領域２５を指紋認証等に用いる場合に、外部からの衝撃で認証不能になりにくい。

第１平滑領域２５および第１粗面領域２７の表面圧縮応力ＣＳが５００ＭＰａ以上であるため、防眩性透明基体１に衝撃が加えられた場合に、より割れにくい。

［変形例］
本発明は上記実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の改良ならびに設計の変更等が可能である。本発明の実施の際の具体的な手順、および構造等は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。

透明基体２としては、用途に応じて、種々の形状、材料からなるものを使用できる。
形状としては、例えば、平坦面のみを有する板のみならず、少なくとも一部に曲面を有する板、凹部を有する板であってもよい。屈曲ガラスを用いることで、防眩性透明基体１を取り付ける相手側部材が屈曲形状を有していても、取り付けの精度が下がるのを防げる。例えば、図２に示すように、第１粗面領域２７に屈曲部４２を備える屈曲ガラスを用いてもよい。それにより、認証部が平坦性を保つため、認証部の装置が組み付けやすい。また、第１平滑領域２５に屈曲部４２を備える屈曲ガラスでも良い。それにより、認証部を指で認識することがより容易になる。さらに、その両方を備える屈曲ガラスでも良い。それにより、より見栄えが良くなる。また、防眩性透明基体１はフィルム状であってもよい。防眩性透明基体１は孔部を有してもよく、部分的に切り欠いた領域を有してもよい。

材料としては、引張応力層２８の組成が、例えば、以下の（ｉ）〜（ｖｉｉ）のいずれか一つの要件を満たすガラスが挙げられる。なお、以下の（ｉ）〜（ｖ）のガラス組成は、酸化物基準のモル％で表示した組成であり、（ｖｉ）〜（ｖｉｉ）のガラス組成は、酸化物基準の質量％で表示した組成である。引張応力層２８の組成は、ガラスの板厚方向中央の組成をＥＤＸ、ＩＣＰ等の公知の方法で分析すればよい。
（ｉ）ＳｉＯ_２を５０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を２〜２５％、Ｌｉ_２Ｏを０〜１０％、Ｎａ_２Ｏを０〜１８％、Ｋ_２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜５％およびＺｒＯ_２を０〜５％を含むガラス。
（ｉｉ）ＳｉＯ_２を５０〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１０％、Ｎａ_２Ｏを６〜１４％、Ｋ_２Ｏを３〜１１％、ＭｇＯを２〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計が１２〜２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７〜１５％であるガラス。
（ｉｉｉ）ＳｉＯ_２を６８〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜１０％、Ｎａ_２Ｏを５〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜１％、ＭｇＯを４〜１５％およびＺｒＯ_２を０〜１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が８０％以下であるガラス。
（ｉｖ）ＳｉＯ_２を６７〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜４％、Ｎａ_２Ｏを７〜１５％、Ｋ_２Ｏを１〜９％、ＭｇＯを６〜１４％、ＣａＯを０〜１％およびＺｒＯ_２を０〜１．５％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が７１〜７５％、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計が１２〜２０％であるガラス。
（ｖ）ＳｉＯ_２を６０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．５〜８％、Ｎａ_２Ｏを１０〜１８％、Ｋ_２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを６〜１５％、ＣａＯを０〜８％含むガラス。
（ｖｉ）ＳｉＯ_２を６３〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１２％、ＭｇＯを３〜１０％、ＣａＯを０．５〜１０％、ＳｒＯを０〜３％、ＢａＯを０〜３％、Ｎａ_２Ｏを１０〜１８％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＺｒＯ_２を０〜３％、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．００５〜０．２５％含有し、Ｒ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３（式中、Ｒ_２ＯはＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏである）が２．０以上４．６以下であるガラス。
（ｖｉｉ）ＳｉＯ_２を６６〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜３％、ＭｇＯを１〜９％、ＣａＯを１〜１２％、Ｎａ_２Ｏを１０〜１６％、Ｋ_２Ｏを０〜５％含有するガラス。

防眩性透明基体１の厚さは２ｍｍ以下が好ましい。２ｍｍ以下の厚さであれば、防眩性透明基体１の質量を減らせ軽量化でき、さらに防眩性透明基体１と表示パネルの間に指紋認証部等を設けた場合に、認証精度を向上させられる。該厚さは０．１ｍｍ以上が好ましい。０．１ｍｍ以上の厚さを備えたガラスであれば、高い強度と良好な質感を兼ね備えた防眩性透明基体１を得られる利点がある。該厚さは、０．２ｍｍ以上１．５ｍｍ以下がより好ましく、０．３ｍｍ以上１．５ｍｍ以下がさらに好ましい。

図３に示すように第２主面２２は、表面粗さが、算術平均粗さで第２平滑領域２９よりも大きい、第２粗面領域４１を備えてもよい。第２粗面領域４１は、第１粗面領域２７と同様に、防眩性透明基体１の保護対象が、スマートフォンである場合、表示部に対向する防眩処理が施された領域に該当する。
第２主面２２にも粗面領域として第２粗面領域４１を備えることにより、第２主面２２側から入射した可視光に対しても防眩性を発揮できる。また、第２主面２２にも第２粗面領域４１を備えることにより、接着層や印刷層がアンカー効果により剥離しにくくなる。

第２粗面領域４１の表面粗さは、第１粗面領域２７と同程度であり、例えば算術平均粗さＲａで２ｎｍ超１０００ｎｍ以下であるのが好ましく、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下がより好ましい。理由は第１粗面領域２７と同様である。第２主面２２側から第２粗面領域４１に入射した可視光を散乱させ、入射光による映り込みをぼかすことができる。そのため、防眩処理を施した面として、第２粗面領域４１を好適に利用できる。
第２粗面領域４１の凹凸形状は、第１粗面領域２７に適用可能な凹凸形状であれば、特に限定されない。Ｓｓｋも、第１粗面領域２７と同程度の値であればよい。

図４に示すように、防眩性透明基体１は、第２主面２２上に設けられた遮光層３１を備えてもよい。遮光層３１は可視光を遮蔽する層であり、具体的には、例えば波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光の視感透過率が５０％以下の層である。遮光層３１を備えることにより、表示装置側の配線を隠蔽したり、バックライトの照明光を隠蔽して、表示装置の周囲から照明光が漏れるのを防止したりできる。
遮光層３１が設けられる第２主面２２には、遮光層３１との密着性をさらに向上させるため、プライマー処理やエッチング処理等が施されていてもよい。

遮光層３１を設ける方法は特に限定しないが、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法、インクジェット法、オフセット法等によりインクを印刷することにより設ける方法が挙げられる。厚さの制御の容易差を考慮すると、スクリーン法やインクジェット法が好ましい。
遮光層３１に使用するインクは、無機系インクでも有機系インクであってもよい。無機系のインクとしては、例えば、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、Ｂ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される１種以上、ＣｕＯ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＳｎＯ_２およびＣｅＯ_２から選択される１種以上、Ｆｅ_２Ｏ_３およびＴｉＯ_２からなる組成物であってもよい。

有機系のインクとしては、樹脂を溶剤に溶解した種々の印刷材料を使用できる。例えば、樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、オレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリウレタンポリオール等の樹脂からなる群から選ばれる、少なくとも１種を選択して使用してよい。溶剤としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤を用いてもよい。例えば、アルコール類としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等を使用でき、エステル類としては酢酸エチル、ケトン類としてはメチルエチルケトンを使用できる。芳香族炭化水素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベッソ（登録商標）１００、ソルベッソ（登録商標）１５０等を使用でき、脂肪族炭化水素系溶剤としてはヘキサン等を使用できる。なお、これらは例として挙げたものであり、その他、種々の印刷材料を使用できる。前記有機系の印刷材料は、透明基体２に塗布した後、溶剤を蒸発させて樹脂の遮光層３１を形成できる。印刷材料は加熱により硬化できる熱硬化性インクでもよく、ＵＶ硬化性インクでもよく、特に制限はない。

遮光層３１に用いられるインクには、着色剤が含まれてもよい。着色剤としては、例えば、遮光層３１を黒色とする場合、カーボンブラック等の黒色の着色剤を使用できる。その他、所望の色に応じて適切な色の着色剤を使用できる。
遮光層３１は、所望の回数だけ積層してもよく、印刷に用いるインクは、各層異なるものを使用してもよい。また、遮光層３１は、一方の主面だけでなく、他方の主面にも印刷してよく、端面に印刷してもよい。
遮光層３１を所望の回数だけ積層する場合、各層で異なるインクを用いてもよい。例えば、利用者が防眩性透明基体１を第１主面２１側から見たときに、遮光層３１を白く見せたい場合には、１層目を白色で印刷し、続いて２層目を黒色で印刷すればよい。これにより使用者が第１主面２１側から遮光層３１を見た際、遮光層３１の背面の視認性に関わる、いわゆる「透け感」を抑制した白色の遮光層３１を形成できる。

遮光層３１の平面形状は、図４では枠形であり、枠の内側が表示領域を構成するが、枠形ではなく、第２主面２２の一辺に沿う線状、連続する二辺に沿うＬ字状、対向する二辺に沿う２本の直線状でもよい。遮光層３１は、第２主面２２が四角形以外の多角形や円形あるいは異形の場合、これらの形状に対応する枠状、多角形の一辺に沿う直線状、円形の一部に沿う円弧状でもよい。
防眩性透明基体１を表示装置に用いる場合、遮光層３１は、表示装置が非表示の場合の色彩に対応した色彩を有するのが好ましい。例えば、非表示の場合の色彩が黒色系の場合は、遮光層３１も黒色系であるのが好ましい。

防眩性透明基体１が遮光層３１を備える場合、図５（Ａ）、（Ｂ）に示すように遮光層３１は開口部３３を有してもよい。開口部３３を設けることにより、開口部３３が可視光を透過させるため、開口部３３の形状を、製品のロゴマークを構成する文字、図形、記号に対応させることにより、表示装置の照明光が点灯している時のみ、開口部３３にロゴマークを表示させられる。
図５（Ａ）、（Ｃ）に示すように、開口部３３には、赤外線透過率が遮光層３１よりも高い赤外線透過層３５を設けてもよい。赤外線透過層３５を設けることにより、赤外線センサを遮光層３１の裏側に設けられ、かつ赤外線透過層３５を目立たなくできる。
赤外線透過層３５を形成するインクは、無機系インクでも有機系インクであってもよい。無機系インクに含まれる顔料としては、例えば、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、Ｂ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される１種以上、ＣｕＯ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＳｎＯ_２およびＣｅＯ_２から選択される１種以上、Ｆｅ_２Ｏ_３およびＴｉＯ_２からなる組成物であってもよい。

有機系インクとしては、樹脂と顔料とを溶剤に溶解した種々の印刷材料を使用できる。例えば、樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、オレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリウレタンポリオール等の樹脂からなる群から選ばれる、少なくとも１種を選択して使用してよい。溶剤としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤を用いてもよい。例えば、アルコール類としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等を使用でき、エステル類としては酢酸エチル、ケトン類としてはメチルエチルケトンを使用できる。芳香族炭化水素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベッソ（登録商標）１００、ソルベッソ（登録商標）１５０等を使用でき、脂肪族炭化水素系溶剤としてはヘキサン等を使用できる。なお、これらは例として挙げたものであり、その他、種々の印刷材料を使用できる。前記有機系の印刷材料は、透明基体２に塗布した後、溶剤を蒸発させて樹脂の赤外線透過層３５を形成できる。印刷材料は加熱により硬化できる熱硬化性インクでもよく、ＵＶ硬化性インクでもよく、特に制限はない。

赤外線透過層３５に用いられるインクには、顔料が含まれてもよい。顔料としては、例えば、赤外線透過層３５を黒色とする場合、カーボンブラック等の黒色顔料を使用できる。その他、所望の色に応じて適切な色の顔料を使用できる。

赤外線透過層３５中の顔料の含有割合は、所望の光学特性に応じて自由に変更できる。赤外線透過層３５の全質量に対する、顔料の含有量の比である含有割合は０．０１〜１０質量％が好ましい。含有割合は、インクの質量全体に対する、赤外線透過材料の含有割合を調整することで実現できる。

赤外線透過層３５を形成するインクは、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂に赤外線透過能を有する顔料を含む。顔料としては、無機顔料および有機顔料のいずれも使用できる。無機顔料としては、酸化鉄、酸化チタン、複合酸化物系顔料などが挙げられる。有機顔料としては、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、アゾ系顔料等の金属錯体系顔料などが挙げられる。赤外線透過層３５の色彩は、遮光層３１と同じであることが好ましい。遮光層３１が黒色の場合は、赤外線透過層３５も黒色であるのが好ましい。

赤外線透過層３５を形成する方法としては、特に限定はされないが、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法、インクジェット法、オフセット法が挙げられる。製法の連続性を考慮すると、遮光層３１と同じ形成方法が好ましい。

図６に示すように、防眩性透明基体１の第１主面２１および第２主面２２のうち少なくとも一方の面には、反射防止層、防汚層等を有する機能層８１を備えてもよい。

＜反射防止層＞
反射防止層とは、反射率の低減の効果をもたらし、光の映り込みによる眩しさを低減するほか、表示装置に使用した場合には、表示装置からの光の透過率を向上でき、表示装置の視認性を向上できる層を示す。機能層８１が反射防止層を備えることにより、いずれかの主面に反射防止層が設けられるので、第２主面２２側から入射した光の反射を防止でき、入射光による映り込みを防止できる。

機能層８１が反射防止層である場合、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．９以上の高屈折率層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６以下の低屈折率層を、積層した構造が好ましい。反射防止層が高屈折率層と低屈折率層を積層した構造により、可視光の反射を、より確実に防止できる。

反射防止層における高屈折率層と低屈折率層との層数は、それぞれを１層ずつ含む形態でよいが、それぞれを２層以上含む構成でもよい。高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ１層含む構成の場合は、防眩性透明基体１の第２主面２２に、高屈折率層、低屈折率層の順に積層したものが好ましい。また、高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ２層以上含む構成の場合は、高屈折率層、低屈折率層の順に交互に積層した積層体が好ましい。積層体は、全体で２層以上８層以下が好ましく、２層以上６層以下がより好ましく、２層以上４層以下がさらに好ましい。また、光学特性を損なわない範囲での層の追加を行ってもよい。例えば、ガラス板からのＮａ拡散を防ぐために、ガラスと第１層との間にＳｉＯ_２膜を挿入しても良い。

高屈折率層、低屈折率層を構成する材料は、特に制限はなく、要求される反射防止性の程度や生産性を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）等が挙げられる。これらの材料から選択される１種以上を好ましく使用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（特に、二酸化ケイ素ＳｉＯ_２）、ＳｉとＳｎとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＺｒとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＡｌとの混合酸化物を含む材料等が挙げられる。これら材料から選択される１種以上を好ましく使用できる。

反射防止層は、表面に無機薄膜を直接形成する方法、エッチング等の手法により表面処理する方法や、乾式法、例えば、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により好適に形成できる。

反射防止層の厚さは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましい。反射防止層の厚さを１００ｎｍ以上とすることで、効果的に外光の反射を抑制できるため好ましい。

反射防止層は、ＣＩＥ（国際照明委員会）色差式において、Ａ^＊が−６〜１であり、Ｂ^＊が−８〜１であるのが好ましい。
反射防止層の、Ａ^＊が−６〜１であり、Ｂ^＊が−８〜１であると、反射防止層が危険色（警告色）に着色する恐れがなく、反射防止層の色彩が目立つのを防止できる。

＜防汚層＞
防汚層とは、有機物や無機物の付着を抑制する層、または有機物や無機物が付着した場合においても、拭き取り等のクリーニングにより付着物が容易に除去できる効果をもたらす層を示す。機能層８１として防眩層を設けることにより、いずれかの主面に人間の指が触れても、指紋、皮脂、汗等による汚れが付着するのを低減できる。

防汚層の形成方法としては、フッ素含有有機化合物等を真空槽内で蒸発させて、反射防止層の表面に付着させる真空蒸着法（乾式法）や、フッ素含有有機化合物等を有機溶剤に溶解させ、所定の濃度になるように調整し、反射防止層の表面に塗布する方法（湿式法）等を利用できる。

乾式法としては、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタ法、プラズマＣＶＤ法等、湿式法としては、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレー法等から適宜選択できる。乾式法、湿式法のどちらも使用できる。耐擦傷性の観点からは、乾式の成膜方法を用いることが好ましい。

防汚層の構成材料は、防汚性、撥水性、撥油性を付与できるフッ素含有有機化合物等から適宜選択できる。具体的には、含フッ素有機ケイ素化合物や、含フッ素加水分解性ケイ素化合物が挙げられる。フッ素含有有機化合物は、防汚性、撥水性および撥油性を付与できれば、特に制限なく使用できる。

防汚層を形成する含フッ素有機ケイ素化合物被膜は、透明基体２の主面または防眩層の処理面に反射防止層が形成される場合には、当該反射防止層の表面に形成されることが好ましい。また、透明基体２として、反射防止層が形成されないガラス板を用いる場合には、含フッ素有機ケイ素化合物被膜は、これら表面処理の施された面に直接形成されることが好ましい。

含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成する方法としては、パーフルオロアルキル基；パーフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖を含む、フルオロアルキル基等のフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤の組成物を、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレーコート法等により塗布した後加熱処理する方法、または、含フッ素有機ケイ素化合物を気相蒸着させた後加熱処理する、真空蒸着法等が挙げられる。密着性の高い含フッ素有機ケイ素化合物被膜を得るには、真空蒸着法により形成することが好ましい。真空蒸着法による含フッ素有機ケイ素化合物被膜の形成は、含フッ素加水分解性ケイ素化合物を含有する、被膜形成用組成物を用いることが好ましい。

防汚層において、含フッ素有機ケイ素化合物被膜の形成に用いる含フッ素加水分解性ケイ素化合物は、得られる含フッ素有機ケイ素化合物被膜が、撥水性、撥油性等の防汚性を有するものであれば特に制限はない。具体的には、パーフルオロポリエーテル基、パーフルオロアルキレン基、およびパーフルオロアルキル基からなる群から選ばれる、１つ以上の基を有する、含フッ素加水分解性ケイ素化合物が挙げられる。

防汚層の層厚は、特に制限されないが、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、２ｎｍ以上１５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以上１０ｎｍ以下がさらに好ましい。防汚層の層厚が下限値以上であれば、防汚層によって反射防止層の表面が均一に覆われた状態となり、耐擦傷性の観点で防眩性透明基体１が実用に耐えるものとなる。また、防汚層の層厚が上限値以下であれば、防汚層が積層された状態での視感反射率やヘイズ値等の光学特性が良好である。

機能層８１は、反射防止層、防汚層のいずれかの単層には限定されない。２種以上を積層してもよい。機能層８１上に、さらに保護層を設けてもよい。

本発明の防眩性透明基体１は、例えば、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のパネルディスプレイや、車載用情報機器、携帯機器のカバーガラスといった表示装置用のカバー部材に使用できる。本発明の防眩性透明基体１を表示装置用カバーに用いることで、視認性を確保しつつ被対象物を保護できる。
防眩性透明基体１を表示装置に用いる場合で、遮光層３１を設ける場合、表示装置が非表示の場合の色彩に対応した色彩を遮光層３１が有するのが好ましい。例えば、非表示の場合の色彩が黒色系の場合は、遮光層３１も黒色系が好ましい。
遮光層３１は、防眩性透明基体１が用いられる物品の模様を構成し、当該物品の意匠性を向上させるものでもよい。

ここで、防眩性透明基体１を備える表示装置の一例について説明する。
図７に示す表示装置１０は、フレーム５０を備える。フレーム５０は、底部５１と、底部５１に対して交差する側壁部５２と、底部５１に対向する開口部５３とを備える。底部５１と側壁部５２とで囲まれた空間には、液晶モジュール６が配置されている。液晶モジュール６は、底部５１側に配置されたバックライト６１、バックライト６１上に配置された液晶パネル６２Ａ（表示パネル）、赤外線センサ６２Ｂ、および指紋認証センサ７１を備える。
フレーム５０の上端には、第２主面２２が液晶モジュール６側を向くように防眩性透明基体１が設けられる。防眩性透明基体１は、開口部５３および側壁部５２の上端面に設けられた接着層７を介して、遮光層３１の一部がフレーム５０に、遮光層３１の一部および第２主面２２の表示部４が、液晶モジュール６に、それぞれ貼合されている。赤外線透過層３５は、赤外線センサ６２Ｂと対向する位置に配置される。第１平滑領域２５は、指紋認証センサ７１と対向する位置に配置される。

接着層７は、透明で、防眩性透明基体１との屈折率差が小さいことが好ましい。
接着層７としては、例えば、液状の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる透明樹脂からなる層が挙げられる。硬化性樹脂組成物としては、例えば、光硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等が挙げられ、その中でも、硬化性化合物および光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物が好ましい。硬化性樹脂組成物を、例えば、ダイコータ、ロールコータ等の方法を用いて塗布し、硬化性樹脂組成物膜を形成する。
接着層７は、ＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）フィルム（ＯＣＡテープ）であってもよい。この場合、防眩性透明基体１の第２主面２２側にＯＣＡフィルムを貼合すればよい。
接着層７の厚さは、５μｍ以上４００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以上２００μｍ以下がより好ましい。接着層７の貯蔵せん断弾性率は、５ｋＰａ以上５ＭＰａ以下が好ましく、１ＭＰａ以上５ＭＰａ以下がより好ましい。

表示装置１０を製造する際の、組立順序は特に限定されない。例えば、予め防眩性透明基体１に接着層７を配置した構造体を準備しておき、フレーム５０に配置し、その後、液晶モジュール６を貼合してもよい。
表示装置１０は、タッチセンサ等を備えていてもよい。タッチセンサを組み込む場合は、防眩性透明基体１の第２主面２２側に、図示しない別の接着層を介してタッチセンサを配置し、それに接着層７を介して液晶モジュール６を配置する。

次に、本発明の実施例について説明する。本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
種々の条件で化学強化のシミュレーションを行い、変形量と応力分布を比較した。具体的な手順は以下の通りである。例１および例２が実施例であり、例３、４は比較例であり、例５は、粗面領域を設けない場合の化学強化後の変形量と応力分布を把握するための参考例である。

（例１）
化学強化前のガラスとして、Ｚ方向厚さ（板厚）が０．７ｍｍ、主面が縦横１５０ｍｍ×７２ｍｍのガラス基板を想定した。なお、ガラス基板の長辺方向（縦方向）をｙ方向、短辺方向（横方向）をｘ方向とする。このガラス基板の第１主面２１に、図８に示すように、指紋認証部（図１１）を想定した領域Ｒ１を第１平滑領域２５（算術平均粗さＲａ＝１ｎｍと仮定）として想定した。領域Ｒ１は、短辺方向一端から横方向に３６ｍｍ、長辺方向下端から縦方向に６ｍｍの位置Ｐを中心に、縦横６ｍｍ×１７ｍｍ、角部の曲率半径が３ｍｍの領域とした。
次に、図８に示すように、ガラス基板の一方の面（第１主面２１）の、領域Ｒ１以外の面の全面に、第１粗面領域２７を想定した領域Ｒ２を設定した。第１粗面領域２７は、エッチングにより設けたものを想定した（算術平均粗さＲａ＝３００ｎｍと仮定）。裏面（第２主面２２）は第２平滑領域２９を想定して、全面を第１平滑領域２５と同じ粗さと想定した。図８では、斜線部分が粗面であり、白塗り部分が平滑面である。
ガラス基板の組成はＡＧＣ株式会社製Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標）に対応する組成を想定した。

（例２）
例１において、図８に示すように、第２主面２２側を、領域Ｒ１に対向する領域のみを第２平滑領域２９とし、他の領域は第２粗面領域４１と想定したこと以外は、例１と同じガラスを想定した。第２粗面領域４１の表面粗さは第１粗面領域２７と同じと想定した。

（例３）
例１において、図８に示すように、第２主面２２側の全面を第２粗面領域４１と想定したこと以外は、例１と同じガラスを想定した。
（例４）
例１において、図８に示すように、第１主面２１の全面を第１粗面領域２７とし、第２主面２２の全面を第２平滑領域２９と想定したこと以外は、例１と同じガラスを想定した。
（例５）
例１において、第１主面２１の全面を第１平滑領域２５とし、第２主面２２の全面を第２平滑領域２９と想定したこと以外は、例１と同じガラスを想定した。

例１〜５について、以下に示す化学強化シミュレーションモデルにより、化学強化を行う。

［化学強化シミュレーション］
化学強化のシミュレーションには、汎用構造解析「Ａｂａｑｕｓ」（Ｖｅｒ６．１３−２）を用いた。Ａｂａｑｕｓの熱伝導解析を用いて、「カリウムイオン濃度分布」を「温度分布」とみなして、例１〜例５のガラス基板を化学強化して防眩性透明基体１を製造する工程を、非定常計算によりシミュレーションした。なお、本シミュレーションに式（２）および式（３）を用い、表１に示す、４２５℃における硝酸カリウム１００ｍｏｌ％溶融塩での材料係数を使用して計算した。ただし、平滑領域と粗面領域で、カリウムイオンの物質移動係数を異なった値とすることで表面粗さの違いを模擬した。

ここで、式（２）におけるＣ_ｘはカリウムイオン濃度［ｍｏｌ％］、Ｃ_０は初期カリウムイオン濃度［ｍｏｌ％］、Ｃ_ｅｑは平衡カリウムイオン濃度［ｍｏｌ％］、Ｄはカリウムイオンの拡散係数［ｍ^２／ｓ］、Ｈはカリウムイオンの物質移動係数［ｍ／ｓ］、ｔは時間［ｓ］、ｘはガラス表面からの深さ［ｍ］である。

ここで、式（３）におけるσ_ｘは応力［Ｐａ］、Ｂは膨張係数、Ｅはヤング率［Ｐａ］、νはポアソン比、Ｃ_ａｖｇは平均カリウム濃度［ｍｏｌ％］であり、式（４）で求められる。

ここで、式（４）におけるＬは半厚さ［ｍ］、ｘはガラス表面からの深さ［ｍ］である。

化学強化温度は４２５℃、化学強化時間は２時間とし、全体形状、領域Ｒ１の形状、板厚方向応力積分値Ｓ、表面圧縮応力ＣＳ、断面応力、内部引張応力の最大値ＣＴ_ｍａｘを式（２）〜（４）に基づき求めた。
全体形状、領域Ｒ１の形状は、図８に示すように、ガラスの縦方向に平行で、領域Ｒ１の位置Ｐを通るＹ方向と平行となる線上でのＺ方向の変位量（図８のｌｉｎｅ Ａ参照）を求め、化学強化前との差を求めた。図９に示すように、領域Ｒ１の内部の値のみを求めたものも図示する。
表面圧縮応力ＣＳは、Ｙ方向は全体形状と同様に求め、Ｘ方向は、領域Ｒ１の位置Ｐから右端までの値を求めた。
断面応力およびＣＴの測定位置は、ガラスの重心位置（図１１では本体部と記載）、および領域Ｒ１の重心位置（図１１では認証部と記載）とした。初期値は以下の通りとした。
Ｓ＝０（ＭＰａ・ｍｍ）
ＣＳ＝０（ＭＰａ）
ＣＴ_ｍａｘ＝０（ＭＰａ）
ある時刻ｔ_１におけるＣＳは、（２）式においてｘ＝０，ｔ＝ｔ_１としてＡｂａｑｕｓで算出される。
ＣＴ_ｍａｘは、板厚方向各節点における応力算出値の最大値と定義した。
断面応力（主応力）は、各節点での主応力の最大値と最小値を比較したとき、その絶対値が大きい方と定義した。
以上の結果を図８〜図１１に示す。

図８は、位置Ｐを（ｘ，ｙ，ｚ）＝（０，０，０）とした場合の、ｌｉｎｅＡに沿った変位量を示したグラフである。図８に示すように、第１平滑領域２５に対向する領域の少なくとも一部に、第２平滑領域２９を設けた例１、２は、第１平滑領域２５に対向する領域の少なくとも一部に、第２平滑領域２９が設けられていない例３、４と比べてＺ方向の変位が小さかった。

図９は、位置Ｐを（ｘ，ｙ，ｚ）＝（０，０，０）とした場合の、領域Ｒ１におけるｌｉｎｅ Ａに沿った変位量およびｌｉｎｅ Ｂに沿った変位量を示したグラフである。図９に示すように、例１、２は、領域Ｒ１内での変位がほとんどなかったのに対し、例３、４は領域Ｒ１内での変位が見られた。

この結果から、第１平滑領域２５に対向する領域の少なくとも一部に、第２平滑領域２９を設けることにより、特に第１平滑領域２５と第２平滑領域２９の反りを防止できることが分かった。

図１０に示すように、表面圧縮応力ＣＳは、絶対値として、全て５００ＭＰａ以上であった。例１〜例３は、領域Ｒ１の表面圧縮応力ＣＳが領域Ｒ２よりも絶対値として大きかった。

図１１に示すように、断面応力分布は例１〜５で大きな差は見られなかった。
そのため、第１平滑領域２５に対向する領域の少なくとも一部に、第２平滑領域２９を設ける場合であっても、従来と同様の範囲で断面応力分布を制御できることが分かった。

なお、断面応力分布を基にＳ値を求めた所、例１は−０．５ＭＰａであり、０ＭＰａ未満となり、例２は−３．４ＭＰａであり、−３ＭＰａ未満であった。また、例３は０．４ＭＰａ、例４は０．０ＭＰａ、例５は０．０ＭＰａであった。
この結果から、第１平滑領域２５に対向する領域の少なくとも一部に、第２平滑領域２９を設ける場合であっても、Ｓ値を０ＭＰａ未満、さらには−３ＭＰａ未満に制御できることが分かった。

以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明は、上述した実施の形態に制限されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない範囲において、上述した実施の形態に種々の変形及び置換を加えることができる。

本出願は、２０１８年５月２１日出願の日本国特許出願２０１８−０９６９８１に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

１…防眩性透明基体
２…透明基体
２１…第１主面
２２…第２主面
２５…第１平滑領域
２７…第１粗面領域
２９…第２平滑領域

Claims (16)

1. 第１主面および第２主面を備える化学強化ガラスからなる透明基体を備え、
   前記第１主面は、
   算術平均粗さＲａが０．０５ｎｍ以上２ｎｍ以下の第１平滑領域と、
   前記第１平滑領域の算術平均粗さＲａよりも大きい算術平均粗さＲａを有する第１粗面領域を備え、
   前記第２主面は、
   前記第１平滑領域と対向する領域の少なくとも一部に、算術平均粗さＲａが０．０５ｎｍ以上２ｎｍ以下の第２平滑領域を備えることを特徴とする、防眩性透明基体。
2. 前記第１粗面領域は、算術平均粗さＲａが２ｎｍ超１０００ｎｍ以下である、請求項１に記載の防眩性透明基体。
3. 前記第２主面は、さらに、
   前記第２平滑領域の算術平均粗さＲａよりも大きい算術平均粗さＲａを有する第２粗面領域を備える、請求項１または２に記載の防眩性透明基体。
4. 前記第２粗面領域は、算術平均粗さＲａが２ｎｍ超１０００ｎｍ以下である、請求項３に記載の防眩性透明基体。
5. ＳｉとＡｌ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔｉからなる群より選ばれる元素Ｘとの原子組成比Ｘ／ＳｉをＺ、前記第１粗面領域における原子組成比ＺをＺ_１、前記第１平滑領域における原子組成比ＺをＺ_０と定義したとき、Ｚ_１とＺ_０との比Ｚ_１／Ｚ_０が０〜１．１となる請求項１〜４のいずれか１項に記載の防眩性透明基体。
6. 前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の防眩性透明基体。
7. 前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０．２以上である、請求項６に記載の防眩性透明基体。
8. 前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が０未満である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の防眩性透明基体。
9. 前記第１粗面領域の面の偏り度（Ｓｓｋ）が−０．２未満である、請求項８に記載の防眩性透明基体。
10. 引張応力を正値、圧縮応力を負値とした場合、前記第１平滑領域の板厚方向応力積分値Ｓが、０ＭＰａ未満である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の防眩性透明基体。
11. 前記第１平滑領域の板厚方向応力積分値Ｓが−３ＭＰａ未満となる、請求項１０に記載の防眩性透明基体。
12. 前記第１平滑領域の表面圧縮応力ＣＳが、前記第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳよりも大きい、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の防眩性透明基体。
13. 前記第１粗面領域の表面圧縮応力ＣＳが、５００ＭＰａ以上である、請求項１２に記載の防眩性透明基体。
14. 前記透明基体の厚さが２ｍｍ以下である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の防眩性透明基体。
15. 前記第１粗面領域の少なくとも一部に屈曲部を有する、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の防眩性透明基体。
16. 請求項１から１５のいずれか一項に記載の防眩性透明基体を備える表示装置。

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