CN102736294A - 一种基板、液晶显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种基板、液晶显示面板及其制造方法，所述基板制造方法包括：对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆；将基板功能层制备到所述碱离子阻挡层上。本发明通过对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆，实现了将化学钢化玻璃作为基板玻璃的目的，进而增加了基板和液晶显示面板的强度，使用上述基板制成的液晶显示面板可以独立使用而不需要额外的保护性覆盖物，提高了液晶显示面板防撞击、防刮伤和易维护的性能，减少了保护层的层数，降低了光损失，还原了液晶显示面板原来的色彩。

Description

一种基板、液晶显示面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种基板、液晶显示面板及其制造方法。

背景技术

随着现代科技的发展，近年来电子显示产品得到迅猛发展，先进的平板显示产品层出不穷，尺寸由小到大，小到手机、PDA产品，大到电视及平面广告媒体机。平板显示产品包括等离子电视、液晶电视、笔记本、提款机、手机、PDA、PSP、信息查询机、媒体广告播放机等，因此用于平板显示产品的平面显示面板的需求也在不断增加，平面显示面板包括液晶显示面板(LCD)、等离子显示面板(PDP)、以及有机发光二极管(OLED)等等，其中LCD在大批量生产工艺、操作方便的驱动方式、以及容易实现高质量等方面获得广泛认可。

平面显示面板都由玻璃材料作为其成像系统的关键材料，但是该类玻璃并没有进行玻璃强化处理，尤其在用薄玻璃制造的LCD中，由于跌落冲击或重量的压力，裂纹常常发生在玻璃中。国际上已经进行了长时间的研究，将LCD的玻璃基板改变为由塑料或聚合物薄膜制成的基板。然而，在塑料基板或薄膜基板上要形成的气体阻隔层的可靠性不够，难以形成大规模应用。

为了防止平面显示面板日益超薄所导致抗冲击能力下降的问题，现有技术中，可以采用透明触摸面板等透明盖板与平面显示面板结合，确保硬度，例如使用透明塑料或钢化玻璃作为透明盖板。

而在实际中，较常使用的透明盖板为通过化学钢化技术得到的钢化玻璃，其中化学钢化技术能够保证玻璃钢化后的光学质量，并可进行适当地裁切、磨边、钻孔等冷加工，是超薄玻璃唯一实用的增强技术。化学钢化玻璃较之物理钢化玻璃而言，即使它的内部张应力层破坏时，也不像物理钢化玻璃那样碎成小片。但是化学钢化玻璃随时间容易产生应力松弛的现象。

而面对平面显示面板日益超薄化的要求，若为了省去透明盖板对平面显示面板的保护，利用化学钢化玻璃进行超薄平面显示面板的制作时，由于化学钢化玻璃表面碱含量较高，会损害面板的寿命；而且，平面显示面板大生产线都是在大块玻璃板上直接作出多块显示面板，然后进行裁切得到多块单片显示面板，但化学钢化玻璃在实际使用时，为防止裁切后边部应力释放，强度丧失，往往会采用先裁切后化学钢化的处理流程，这与平面显示面板生产线相冲突，因此，现有技术中，化学钢化玻璃仍是较多作为平面显示面板的保护盖板玻璃进行使用。

但由于使用化学钢化玻璃作为透明盖板，虽然增加了平面显示面板的强度，但是当施加的压力增大时，平面显示面板可能在化学钢化玻璃断裂前已经断裂，而且，额外增加的化学钢化玻璃还会使平面显示面板的厚度和重量大大增加，生产成本较高。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种基板、液晶显示面板及其制造方法，能够在减少液晶显示面板厚度的同时，提高强度。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种基板，所述基板包括基板玻璃、碱离子阻挡层、及基板功能层；其中，

所述碱离子阻挡层，披覆于所述基板玻璃上，用于阻挡基板玻璃的碱离子扩散到所述基板功能层；

基板功能层，制备于所述碱离子阻挡层上。

优选地，所述碱离子阻挡层的膨胀系数低于所述基板玻璃的膨胀系数。

其中，所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃；和/或，

所述碱离子阻挡层为二氧化硅膜层或氮化硅膜层。

优选地，所述基板玻璃为化学钢化的浮法玻璃时，所述碱离子阻挡层披覆于所述浮法玻璃的锡面。

一种基板制造方法，所述方法包括：

对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆；

将基板功能层制备到所述碱离子阻挡层上。

优选地，所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为：

在温度介于室温和350摄氏度之间，对基板玻璃进行时间小于或等于30分钟的碱离子阻挡层的披覆；其中，所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃。

进一步地，在所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆之前，所述方法还包括：

对基板玻璃进行氢氟酸、氯化亚锡、或氯化锌处理，减弱所述基板玻璃的K⁺、Na⁺离子扩散到所述碱离子阻挡层的能力；其中，所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃。

进一步地，当基板玻璃为化学钢化浮法玻璃时，所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为：

在化学钢化浮法玻璃的锡面进行碱离子阻挡层的披覆。

进一步地，在将基板功能层制作到所述碱离子阻挡层上之前，所述方法还包括：

对所述碱离子阻挡层进行抛光。

其中，所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为：将膨胀系数低于所述基板玻璃膨胀系数的二氧化硅膜层或氮化硅膜层披覆于基板玻璃上。

一种液晶显示面板，包括前偏光膜、彩色滤光片CF基板、液晶层、薄膜晶体管TFT基板、后偏光膜，所述CF基板和/或TFT基板为上述基板。

进一步地，所述液晶显示面板还包括：前胶粘剂、后胶粘剂；其中，

所述前胶粘剂，用于将所述前偏光膜粘结在所述CF基板的CF基板玻璃上；

所述后胶粘剂，用于将后偏光膜粘结在所述TFT基板的TFT基板玻璃上。

优选地，所述前胶粘剂和/或后胶粘剂为光学用胶粘剂、光学用胶粘剂薄片、或静电吸附层。

进一步地，所述前偏光膜内置于CF基板的CF基板玻璃和CF功能层之间。

优选地，所述TFT基板的TFT基板玻璃远离所述TFT功能层的一面为磨砂面。

其中，所述前偏光膜进一步包括位于自身前表面的硬涂层，用于防止划伤所述前偏光膜。

一种液晶显示面板制造方法，所述方法包括：

对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆，将TFT功能层制备到所述碱离子阻挡层上，得到TFT基板；

基于所述TFT基板进行液晶显示面板的制备。

进一步地，所述方法还包括：

通过前胶粘剂将前偏光膜粘结在所述CF基板的CF基板玻璃上，或将前偏光膜内置于CF基板的CF基板玻璃和CF功能层之间；

通过后胶粘剂将后偏光膜粘结在所述TFT基板的TFT基板玻璃上；

其中，所述前胶粘剂和/或后胶粘剂为光学用胶粘剂、光学用胶粘剂薄片、或静电吸附层。

进一步地，所述方法还包括：

对所述前偏光膜进行防眩处理和/或自洁净处理，以防止镜面反射和/或防污。

这里，当所述基板玻璃的尺寸与液晶显示面板传统生产线上所用的无碱玻璃尺寸相同时，所述基于所述TFT基板进行液晶显示面板的制备为：

对CF基板和TFT基板构成的密封盒液晶滴注完成并封盒，利用激光对同一玻璃上的多块液晶显示面板进行裁切；

利用有机物将切割后得到的四边进行包覆。

进一步地，所述方法还包括：对TFT基板的TFT基板玻璃远离所述TFT功能层的一面进行磨砂处理。

本发明通过对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆，实现了将化学钢化玻璃作为基板玻璃的目的，进而增加了基板和液晶显示面板的强度，使用上述基板制成的液晶显示面板可以独立使用而不需要额外的保护性覆盖物，提高了液晶显示面板防撞击、防刮伤和易维护的性能，减少了保护层的层数，降低了光损失，还原了液晶显示面板原来的色彩。

附图说明

图1为本发明的基板制造方法的实现流程示意图；

图2为本发明的液晶显示面板的结构示意图；

图3为本发明的液晶显示面板制造方法的实现流程示意图。

具体实施方式

本发明的基本思想为：所述基板包括基板玻璃、碱离子阻挡层、及基板功能层；其中，所述碱离子阻挡层，披覆于所述基板玻璃上，用以阻挡基板玻璃的碱离子扩散到所述基板功能层；基板功能层，制备于所述碱离子阻挡层上。

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下举实施例并参照附图，对本发明进一步详细说明。

本发明提供了一种基板，所述基板包括基板玻璃、碱离子阻挡层、及基板功能层；其中，所述碱离子阻挡层，披覆于所述基板玻璃上，用以阻挡基板玻璃的碱离子扩散到所述基板功能层；基板功能层，制备于所述碱离子阻挡层上。

这里，当使用化学钢化后的玻璃作为上述基板玻璃，该基板玻璃可以用作薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板的基板玻璃，而碱离子阻挡层可以很好地阻挡碱离子对TFT基板造成的直接损害，进而延长TFT基板的使用寿命。

其中，化学钢化是一种离子交换技术，可以有效增强超薄异型玻璃的强度，玻璃表面引入大量钾离子后，强度有很大提高，但在大气中放置一段时间后，表面易形成一层薄的白色固体物质，致使玻璃表面的稳定性下降。此白色物质作为一种低表面能成分直接影响盖板玻璃的寿命。交换过程中，玻璃在KNO₃电解质中优先吸附K⁺，形成表面富聚K⁺的Stern紧密层。离子交换玻璃表面在大气中的风化反应过程为：

钾离子和水合氢离子具有相近的离子半径，水合氢离子在钾玻璃里比在钠玻璃里具有较高的活动性。生成的OH^-破坏玻璃网络结构中的桥氧键：

≡Si-O-Si≡+OH^-→≡Si-OH+≡Si-O^-

反应生成的产物与水反应产生新的OH^-：

≡Si-O^-+H₂O→≡Si-OH+OH^-

反应式产生的OH^-继续上述发生式的反应，新一轮的侵蚀又开始。K⁺浓度越高，生成OH^-的数量越多，玻璃表面侵蚀的程度越严重。还存在以下反应：

≡Si-OH→-Si-O^-+H⁺

反应使玻璃表面产生潜在的负电荷，这些负电荷通过库仑力吸引水中的H⁺，产生新的OH^-。在上述因素的综合作用下造成中期有加速现象，直到玻璃表面的白色析出物覆盖表面，阻止水与玻璃接触，反应速度减慢。离子交换玻璃表面的风化程度远远高于普通玻璃，玻璃表面吸附的K⁺是影响离子交换玻璃表面稳定性的重要原因。

本发明实施例中，基板玻璃披覆有碱离子阻挡层后，隔绝了空气与基板玻璃的接触，杜绝了上述风化现象的发生。

其中，所述碱离子阻挡层的膨胀系数低于所述基板玻璃的膨胀系数，优选为二氧化硅膜层或氮化硅膜层；这里选择膨胀系数低于所述基板玻璃的碱离子阻挡层，是因为：在高温下披覆于基板玻璃的碱离子阻挡层可以在所述基板玻璃表面形成膨胀系数低于玻璃本体膨胀系数的表面层，当基板玻璃被冷却后，由于内部的压缩变形大于表面层的收缩变形，从而在基板玻璃表面进一步形成压应力，使得基板玻璃的强度再次增加。

进一步地，本发明实施例中，上述基板玻璃既可以为上述化学钢化玻璃，也可以为普通含碱玻璃。

其中，当使用浮法玻璃作为基板玻璃时，对该浮法玻璃进行化学钢化后，只在浮法玻璃的锡面披覆有碱离子阻挡层，以防止基板玻璃的翘曲度增大，这里，玻璃的翘曲度是衡量玻璃质量的一项重要指标，尤其在显示面板领域，其翘曲度超标会影响到后续工艺，如曝光、显影、蚀刻、丝网印刷等，直接关系到显示面板玻璃表面电极电路图案的精确性。采用溢流下拉法工艺制成的玻璃的两面状态一样，没有“锡面”和“空气面”之分，因而化学钢化时两面的离子交换量一样，所产生的表面压应力也相同，因此化学钢化后不需要考虑翘曲度；但浮法玻璃成形时，有一面与熔融金属锡接触，因此所述浮法玻璃与金属锡接触的表面会渗入10μm-20μm的锡，这一面成为“锡面”，而另一面与空气接触，成为“空气面”，浮法玻璃在化学钢化过程中，由于“锡面”钠离子含量相对降低，影响离子交换；而“空气面”由于没有浸入锡，离子交换不受影响；故浮法玻璃两面的离子交换量会有所不同，进而两面产生的表面压应力也不一样，故浮法玻璃化学钢化后“空气面”会凸起，因此只在浮法玻璃的锡面披覆有碱离子阻挡层。

本发明还提供了一种上述基板的制造方法，所述方法的实现流程如图1所示，所述方法包括下述步骤：

步骤101，对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆；

这里，在温度介于室温和350摄氏度之间，对基板玻璃进行时间小于或等于30分钟的碱离子阻挡层的披覆；具体为将膨胀系数低于所述基板玻璃膨胀系数的二氧化硅膜层或氮化硅膜层披覆于基板玻璃上；其中，所述基板玻璃为普通含碱基板玻璃或化学钢化玻璃；其中，当基板玻璃为化学钢化浮法玻璃时，仅在所述化学钢化浮法玻璃的锡面进行碱离子阻挡层的披覆。

另外，在对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆之前，本步骤还可以包括当基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃时，对所述基板玻璃进行氢氟酸、氯化亚锡、或氯化锌处理，减弱所述基板玻璃的K⁺、Na⁺离子扩散到所述碱离子阻挡层的能力；

由于玻璃经过化学钢化后，表面粗糙度会有所增加，而当基板玻璃为TFT的基板玻璃时，要求表面粗糙度低，因此，本步骤中还可以包括对所述碱离子阻挡层进行抛光工序的处理等。

步骤102，将基板功能层制备到所述碱离子阻挡层上。

具体地，当基板作为CF基板时，将CF功能层制备到所述碱离子阻挡层上；当基板作为TFT基板时，将TFT功能层制备到所述碱离子阻挡层上。

本发明还提供了一种利用上述基板的液晶显示面板，所述液晶显示面板的结构示意参考图2，所述液晶显示面板包括前偏光膜21、CF基板、液晶层25、TFT基板、后偏光膜29，其中，所述CF基板和/或TFT基板使用的是上述基板。

具体地，CF基板包括CF基板玻璃23、CF功能层24；TFT基板包括TFT基板玻璃27和TFT功能层26；这里，当TFT基板使用上述基板时，所述TFT基板还包括位于TFT基板玻璃27和TFT功能层26之间的碱离子阻挡层，此时，CF基板可以使用上述基板，也可以使用普通基板；当CF基板使用上述基板时，所述CF基板还可以不进行碱离子阻挡层的披覆，即可以只包括CF基板玻璃23和CF功能层24，其中CF基板玻璃可以为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃，此时，TFT基板可以使用上述基板，也可以使用普通基板。

进一步地，所述液晶显示面板还包括：前胶粘剂22、后胶粘剂28；其中，所述前胶粘剂22，用于将所述前偏光膜21粘结在所述CF基板玻璃23上；所述后胶粘剂28，用于将后偏光膜29粘结在所述TFT基板玻璃27上。

其中，所述前胶粘剂22和/或后胶粘剂28可以为光学用胶粘剂、光学用胶粘剂薄片、或静电吸附层；这里，通过前胶粘剂22胶粘在CF基板玻璃23的前偏光膜21可以进一步提高液晶显示面板的强度，进而可以不需要添加额外的盖板玻璃来保证液晶显示面板或应用该液晶显示面板的触摸屏不易摔断或产生裂缝，减小了液晶显示面板的体积和重量。

进一步地，前偏光膜21还可以内置于CF基板的CF基板玻璃23和CF功能层24之间；

进一步地，所述TFT基板的TFT基板玻璃27远离所述TFT功能层26的一面为磨砂面，进而可以为液晶显示面板的背光源节省一片背光源用扩散膜，进一步减少液晶显示面板的厚度。

其中，所述前偏光膜21还可以进一步包括位于自身前表面的硬涂层，用于防止划伤所述偏光膜；其中，前偏光膜21还可以经过防眩处理以防止镜面反射；经过自洁净处理以防污；这里，前偏光膜21还可以集成触摸屏功能组件、或贴附电阻/电容触摸屏软膜；其中，触摸屏功能组件包括模拟电阻触摸屏、数字电阻触摸屏、电容触摸屏和超声波触摸屏等类型的功能组件。

根据采用36mm间隔的二点弯曲试验，使用具有0.35mm厚度的无碱玻璃的液晶面板在大约40N的力下翘曲大约1mm而断裂。在相同的试验中，具有0.5mm厚度的化学钢化玻璃在大约100N的力下翘曲大约2.5mm而断裂。在这个情况下的断裂载荷大约是150N。在本方案的结构中，当被压弯曲至断裂时，在这个情况下断裂强度大约是220N，这意味液晶显示面板的强度增加了。

这里，针对与本发明实施例提供的液晶显示面板集成在一起的移动终端进行了六次角坠落测试和落球冲击测试(坠落测试)，以确保液晶显示面板可以经得起用户将其摔落或其它不当使用而不会发生断裂或裂缝；根据测试结果统计得到，本发明的液晶显示面板可以承受的坠落测试下落高度比常规的面板可承受的坠落测试下落高度高50％。

测试结果表明本发明的液晶显示面板符合高标准耐用性的要求，并且不需要额外的聚丙烯类透镜或化学钢化玻璃盖板对液晶显示面板进行保护。而去除保护性透镜、盖板玻璃后，能够充分利用移动终端的屏幕显示特征，同时减少了移动终端的总体体积和重量，优化了整个产品。和普通显示面板相比，本方案的画面非常艳丽，这是一般显示面板所不能比拟的。由于省了至少0.5mm厚的盖板玻璃，在保持液晶组件同等厚度的情况下，液晶显示面板的前后基板可以用0.4mm-0.7mm的厚玻璃，减少了使用0.1mm基板玻璃生产TFT液晶面板的工艺难度，提高了成品率。

本发明还提供了一种液晶显示面板制造方法，所述方法的实现流程如图3所示，包括：

步骤301，对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆，制备得到TFT基板；

其中，对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆过程与上述步骤101中所描述的披覆过程相同，不再赘述；这里，将TFT功能层制备到所述碱离子阻挡层上，则得到用以制备液晶显示面板的TFT基板；其中，还包括对TFT基板的TFT基板玻璃远离所述TFT功能层的一面进行磨砂处理，从而为液晶面板的背光源节省一片背光源用扩散膜。

另外，本步骤还可以包括通过前胶粘剂将前偏光膜粘结在所述CF基板的CF基板玻璃上，或将前偏光膜内置于CF基板的CF基板玻璃和CF功能层之间；通过后胶粘剂将后偏光膜粘结在所述TFT基板的TFT基板玻璃上；其中，所述前胶粘剂和/或后胶粘剂为光学用胶粘剂、光学用胶粘剂薄片、或静电吸附层。

其中，对前偏光膜还可以进行防眩处理和/或自洁净处理，以防止镜面反射和/或防污。

步骤302，基于所述TFT基板进行液晶显示面板的制备。

具体地，本步骤中，当所述基板玻璃的尺寸与液晶显示面板传统生产线上所用的无碱玻璃尺寸相同时，对CF基板和TFT基板构成的密封盒液晶滴注完成并封盒，利用激光对同一玻璃上的多块液晶显示面板进行裁切；利用树脂等有机物将切割后新得到的四边进行包覆。

这里，玻璃为非晶态材料，在高温下存在应力松弛现象，而化学钢化玻璃的表面应力是表面离子浓度、离子扩散深度以及应力松弛三方面作用的结果，而化学钢化玻璃在进行裁切时，如果应力过大及应力层深度过高反而不好裁切，而前一步骤的碱离子阻挡层的披覆工艺可以在一定程度上实现退火的目的，减轻了裁切难度，而激光是一种无接触切割工具，无刀具磨损，工件无机械变形，无刀具的转换问题；激光切割的切缝窄，工件变形小，切边受热影响很小，基本没有工件变形。激光束可控性强，并有高的适应性和柔性，因而容易实现裁切过程自动化，采用激光加工工艺可实现出色的裁切边缘，光滑而又平整。激光加工过程中既不损耗材料，也不产生颗粒，而且切割质量非常高。激光切割技术避免了侧面裂缝，不仅边缘的冲击强度加强，整体组件强度通常也能提高80％，从而显著改善了部件避免加工损坏的能力。材料强度的提高减少了损坏与损失的可能性，也减少了由于潜在的产品瑕疵而过早的在现场出现故障的问题。

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (21)

1.一种基板，其特征在于，所述基板包括基板玻璃、碱离子阻挡层、及基板功能层；其中，

所述碱离子阻挡层，披覆于所述基板玻璃上，用于阻挡基板玻璃的碱离子扩散到所述基板功能层；

基板功能层，制备于所述碱离子阻挡层上。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述碱离子阻挡层的膨胀系数低于所述基板玻璃的膨胀系数。

3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，

所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃；和/或，

所述碱离子阻挡层为二氧化硅膜层或氮化硅膜层。

4.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板玻璃为化学钢化的浮法玻璃时，所述碱离子阻挡层披覆于所述浮法玻璃的锡面。

5.一种基板制造方法，其特征在于，所述方法包括：

对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆；

将基板功能层制备到所述碱离子阻挡层上。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为：

在温度介于室温和350摄氏度之间，对基板玻璃进行时间小于或等于30分钟的碱离子阻挡层的披覆；其中，所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆之前，所述方法还包括：

对基板玻璃进行氢氟酸、氯化亚锡、或氯化锌处理，减弱所述基板玻璃的K⁺、Na⁺离子扩散到所述碱离子阻挡层的能力；其中，所述基板玻璃为普通含碱玻璃或化学钢化玻璃。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，当基板玻璃为化学钢化浮法玻璃时，所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为：

在化学钢化浮法玻璃的锡面进行碱离子阻挡层的披覆。

9.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在将基板功能层制作到所述碱离子阻挡层上之前，所述方法还包括：

对所述碱离子阻挡层进行抛光。

10.根据权利要求5至9任一项所述的方法，其特征在于，所述对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆为：将膨胀系数低于所述基板玻璃膨胀系数的二氧化硅膜层或氮化硅膜层披覆于基板玻璃上。

11.一种液晶显示面板，包括前偏光膜、彩色滤光片CF基板、液晶层、薄膜晶体管TFT基板、后偏光膜，其特征在于，所述CF基板和/或TFT基板为权利要求1至4任一项所述的基板。

12.根据权利要求11所述的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板还包括：前胶粘剂、后胶粘剂；其中，

所述前胶粘剂，用于将所述前偏光膜粘结在所述CF基板的CF基板玻璃上；

所述后胶粘剂，用于将后偏光膜粘结在所述TFT基板的TFT基板玻璃上。

13.根据权利要求12所述的液晶显示面板，其特征在于，所述前胶粘剂和/或后胶粘剂为光学用胶粘剂、光学用胶粘剂薄片、或静电吸附层。

14.根据权利要求11所述的液晶显示面板，其特征在于，所述前偏光膜内置于CF基板的CF基板玻璃和CF功能层之间。

15.根据权利要求11所述的液晶显示面板，其特征在于，所述TFT基板的TFT基板玻璃远离所述TFT功能层的一面为磨砂面。

16.根据权利要求11所述的液晶显示面板，其特征在于，所述前偏光膜进一步包括位于自身前表面的硬涂层，用于防止划伤所述前偏光膜。

17.一种液晶显示面板制造方法，其特征在于，所述方法包括：

对基板玻璃进行碱离子阻挡层的披覆，将TFT功能层制备到所述碱离子阻挡层上，得到TFT基板；

基于所述TFT基板进行液晶显示面板的制备。

18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

通过前胶粘剂将前偏光膜粘结在所述CF基板的CF基板玻璃上，或将前偏光膜内置于CF基板的CF基板玻璃和CF功能层之间；

通过后胶粘剂将后偏光膜粘结在所述TFT基板的TFT基板玻璃上；

其中，所述前胶粘剂和/或后胶粘剂为光学用胶粘剂、光学用胶粘剂薄片、或静电吸附层。

19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

对所述前偏光膜进行防眩处理和/或自洁净处理，以防止镜面反射和/或防污。

20.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，当所述基板玻璃的尺寸与液晶显示面板传统生产线上所用的无碱玻璃尺寸相同时，所述基于所述TFT基板进行液晶显示面板的制备为：

对CF基板和TFT基板构成的密封盒液晶滴注完成并封盒，利用激光对同一玻璃上的多块液晶显示面板进行裁切；

利用有机物将切割后得到的四边进行包覆。

21.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：对TFT基板的TFT基板玻璃远离所述TFT功能层的一面进行磨砂处理。

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