JP2014084234A - 電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法 - Google Patents
電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014084234A JP2014084234A JP2012231719A JP2012231719A JP2014084234A JP 2014084234 A JP2014084234 A JP 2014084234A JP 2012231719 A JP2012231719 A JP 2012231719A JP 2012231719 A JP2012231719 A JP 2012231719A JP 2014084234 A JP2014084234 A JP 2014084234A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- symbol
- glass
- cover glass
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とする視認性を有し、しかも充分な機械的強度を備えた電子機器用カバーガラスのガラス基板を提供する。
【解決手段】たとえばタッチパネル式の携帯電話機等の携帯機器に用いられるカバーガラスのガラス基板1であって、少なくともいずれかの主表面11,12に該主表面11,12上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域2が設けられている。このシンボル領域2は例えばエッチング処理により形成された領域である。
【選択図】図5
【解決手段】たとえばタッチパネル式の携帯電話機等の携帯機器に用いられるカバーガラスのガラス基板1であって、少なくともいずれかの主表面11,12に該主表面11,12上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域2が設けられている。このシンボル領域2は例えばエッチング処理により形成された領域である。
【選択図】図5
Description
本発明は、例えば携帯電話機、携帯型ゲーム機、PDA(PersonalDigital Assistant)、デジタルスティルカメラ、ビデオカメラ、またはスレートPC(Personal Computer)等の電子機器の表示画面等に用いられる電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法に関するものである。
従来、携帯電話機、携帯型ゲーム機、PDA等の携帯機器(電子機器)では、その表示画面を保護するために、透明性に優れ且つ軽量なアクリル樹脂板が一般に用いられていたが、近年、従来のアクリル樹脂板に替わって、薄くても高い強度を有し、従来のアクリル樹脂板と比べると表面平滑性、保護性(耐候性、防汚性)、見栄え・高級感などの点で優位であるガラス材料からなるカバーガラスが多く使用されるようになってきている。
また従来、このカバーガラスには、例えば社名や製品名のロゴ、操作ボタンのマークなどの文字や図形等のパターンを印刷法により形成していた。
また従来、このカバーガラスには、例えば社名や製品名のロゴ、操作ボタンのマークなどの文字や図形等のパターンを印刷法により形成していた。
最近、従来の印刷法に代わって、カバーガラスに文字や図形等のパターンを直接彫り込むことで形成する方法が提案されている(上記特許文献1)。カバーガラスに文字や図形等のパターンを直接彫り込むことにより、携帯機器の表示画面を表側から見たときに、これら文字、図形等のパターンに奥行きのある立体感を持たせることができ、意匠性の高い装飾を施すことが可能になる。
上記特許文献1には、全体または一部が実質的に透明な第1の板状体と、この第1の板状体の一方の面に形成された溝と、該溝内に着色剤を入れて着色した着色部とで構成された第1の装飾部と、上記第1の板状体の一方の面側に接合され、全体または一部が実質的に透明な第2の板状体と、この第2の板状体の上記第1の板状体と反対側の面に装飾を施した第2の装飾部とを備え、上記第1の装飾部と第2の装飾部とは、上記第1の板状体の他方の面側から見ると、たとえば少なくとも一部が重なり合って視認される装飾品について開示されている。また、この装飾品をカバーガラスとして用いた時計や、この装飾品を携帯電話機、ポケットベル、電卓などの電子機器の液晶表示部のカバー部材として用いることについても記載されている。
ところで、近年、タッチパネル方式の携帯機器が主流を占めるようになってきている。タッチパネル方式では、主に、表示画面の所定部位(例えば画面に表示されているアイコンなど)を押圧することによって携帯機器の操作を行うが、頻繁に、繰り返し押圧されるため、このタッチパネル機能対応のための表示画面の強度向上が求められており、そのためには薄型、軽量、大画面(大面積)であっても充分な機械的強度を持つカバーガラスが求められている。
上記特許文献1に記載されているような溝(凹部)をカバーガラスに形成する場合、利用者が携帯機器の表側から見たときに認識しうる視認性を確保するためには溝の深さをある程度深くする必要がある。しかし、溝の深さを深くすると、溝形成部分では、溝の深さ(深さ方向の厚み)を除いた残りの板厚が小さくなり、カバーガラス自体の機械的強度が低下してしまい、タッチパネルとして要求される強度を満たすことができない。現在、携帯機器をはじめとする電子機器用のカバーガラスは更なる軽量化が求められており、そのためにはカバーガラスの板厚を更に薄くする必要がある。カバーガラスの板厚を薄くした場合、上記溝の深さを深くしようとすると、カバーガラスに要求される強度を確保できなくなる。要するに、従来技術では、カバーガラスの表面に形成する文字又は図形等のシンボルの視認性の向上とカバーガラスの強度の確保を両立させることが困難であった。
本発明はこのような従来の課題を解決すべくなされたものであって、その目的は、文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とする視認性を有し、しかも充分な機械的強度を備えた電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の構成を有する発明によれば上記課題を解決できることを見い出した。
すなわち、本発明は以下の構成を有する。
(構成1)
一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板であって、少なくともいずれかの主表面には、該主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域が設けられていることを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
すなわち、本発明は以下の構成を有する。
(構成1)
一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板であって、少なくともいずれかの主表面には、該主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域が設けられていることを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成2)
前記シンボル領域と他の領域の表面粗さ(Ra)の差が、0.05μm〜2.0μmであることを特徴とする構成1に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
前記シンボル領域と他の領域の表面粗さ(Ra)の差が、0.05μm〜2.0μmであることを特徴とする構成1に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成3)
一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板であって、少なくともいずれかの主表面には、該主表面上の他の領域との間の光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域が設けられていることを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板であって、少なくともいずれかの主表面には、該主表面上の他の領域との間の光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域が設けられていることを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成4)
JIS K7136に従って測定した前記シンボル領域と他の領域のヘーズ値の差が10%以上であることを特徴とする構成3に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
JIS K7136に従って測定した前記シンボル領域と他の領域のヘーズ値の差が10%以上であることを特徴とする構成3に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成5)
前記シンボル領域はエッチング処理により形成された領域であることを特徴とする構成1乃至4のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成6)
前記ガラス基板は、イオン交換法により化学強化されたガラスからなることを特徴とする構成1乃至5のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
前記シンボル領域はエッチング処理により形成された領域であることを特徴とする構成1乃至4のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成6)
前記ガラス基板は、イオン交換法により化学強化されたガラスからなることを特徴とする構成1乃至5のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成7)
前記シンボル領域の少なくとも1つが、所定部位を押圧することにより電子機器の操作を行うタッチパネルに相当する領域に存在することを特徴とする構成1乃至6のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
前記シンボル領域の少なくとも1つが、所定部位を押圧することにより電子機器の操作を行うタッチパネルに相当する領域に存在することを特徴とする構成1乃至6のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板である。
(構成8)
一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法であって、少なくともいずれかの主表面に、該主表面上の他の領域との間の表面粗さ又は光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域を形成するシンボル領域形成工程を有することを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法である。
一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法であって、少なくともいずれかの主表面に、該主表面上の他の領域との間の表面粗さ又は光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域を形成するシンボル領域形成工程を有することを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法である。
(構成9)
前記シンボル領域形成工程は、前記ガラス基板を、析出物の発生を抑制しないエッチング条件によりエッチング処理する工程であることを特徴とする構成8に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法である。
前記シンボル領域形成工程は、前記ガラス基板を、析出物の発生を抑制しないエッチング条件によりエッチング処理する工程であることを特徴とする構成8に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法である。
(構成10)
前記シンボル領域形成工程を行った後、ガラス基板の化学強化処理を行うことを特徴とする構成8又は9に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法である。
前記シンボル領域形成工程を行った後、ガラス基板の化学強化処理を行うことを特徴とする構成8又は9に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法である。
本発明によれば、文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とする視認性を有し、しかも充分な機械的強度を備えた電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、タッチパネル式の電子機器に好適にカバーガラスのガラス基板及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、タッチパネル式の電子機器に好適にカバーガラスのガラス基板及びその製造方法を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳述する。
図1は、本発明に関わる携帯機器の一例を示す全体斜視図である。
図1には、携帯機器の一例として、操作を主にタッチパネルにおいて行う携帯電話機100の場合を示している。この携帯電話機100は、筐体部101と表面側の表示画面102とを備えており、この表示画面102にはカバーガラスが組み込まれている。
より詳細には、表示画面を保護するようにカバーガラスが組み込まれており、携帯電話機100の表面にカバーガラスが配置されている。
図1は、本発明に関わる携帯機器の一例を示す全体斜視図である。
図1には、携帯機器の一例として、操作を主にタッチパネルにおいて行う携帯電話機100の場合を示している。この携帯電話機100は、筐体部101と表面側の表示画面102とを備えており、この表示画面102にはカバーガラスが組み込まれている。
より詳細には、表示画面を保護するようにカバーガラスが組み込まれており、携帯電話機100の表面にカバーガラスが配置されている。
上記カバーガラスは、外部からの衝撃によって表示画面102が破損しないように保護する必要があるため強度が要求されている。特に、タッチパネルの場合、表示画面102の所定部位(例えば画面に表示されているアイコンなど)を押圧することによって携帯電話機100の操作を行うが、頻繁に、繰り返し押圧されるため、このタッチパネル機能対応のためには薄型、軽量、大画面(大面積)であっても充分な強度を持つカバーガラスが要求される。
図2の(a)〜(d)は、このようなカバーガラスに用いるガラス基板の外形形状の例を示す平面図である。
この図2の(a)〜(d)はいずれもガラス基板の外形形状が矩形状の例を示しており、(a)は単純矩形のガラス基板1A、(b)、(c)はそれぞれ各コーナーに丸み(アール)を付けた矩形状のガラス基板1B、1C、(d)は各コーナーに丸み(アール)を付けるとともに一部を切り欠いた矩形状のガラス基板1Dの例を示している。カバーガラスのガラス基板の外形形状は、それが組み込まれる携帯機器の形状、構造等に由来するものであり、図2に示す例はほんの一例に過ぎない。本発明のガラス基板においても、図2に示す例に限定する趣旨ではないことは勿論である。また、例えば、レシーバーホールやボタン部等の用途として、ガラスの表面に開口が形成されているものも本発明に係るカラス基板に含まれる。
この図2の(a)〜(d)はいずれもガラス基板の外形形状が矩形状の例を示しており、(a)は単純矩形のガラス基板1A、(b)、(c)はそれぞれ各コーナーに丸み(アール)を付けた矩形状のガラス基板1B、1C、(d)は各コーナーに丸み(アール)を付けるとともに一部を切り欠いた矩形状のガラス基板1Dの例を示している。カバーガラスのガラス基板の外形形状は、それが組み込まれる携帯機器の形状、構造等に由来するものであり、図2に示す例はほんの一例に過ぎない。本発明のガラス基板においても、図2に示す例に限定する趣旨ではないことは勿論である。また、例えば、レシーバーホールやボタン部等の用途として、ガラスの表面に開口が形成されているものも本発明に係るカラス基板に含まれる。
本発明に係る電子機器用カバーガラスのガラス基板においては、文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域が、対向する主表面の少なくとも一方の表面に形成されている。文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域とは、たとえば利用者が電子機器としての携帯機器の表側から見たときに文字または図形を含むシンボルとして認識しうる領域のことである。これら文字または図形は、例えば社名や製品名のロゴ、操作ボタンのマークなどのパターンである。
図3は、ガラス基板1の主表面に文字として認識しうるシンボル領域を形成した例を示す平面図であり、図4の(a)と(b)は、それぞれガラス基板の主表面に形成される図形として認識しうるシンボル領域の例を示す図である。
図3では、ガラス基板1の裏面側(図3における裏面側)の主表面に、表側から見たときに例えば「ABC」の文字として認識しうるシンボル領域が形成されている。文字に限らず、例えば図4の(a)のような四角形や、(b)のような三角形などの図形も挙げられる。
図3では、ガラス基板1の裏面側(図3における裏面側)の主表面に、表側から見たときに例えば「ABC」の文字として認識しうるシンボル領域が形成されている。文字に限らず、例えば図4の(a)のような四角形や、(b)のような三角形などの図形も挙げられる。
ガラス基板の主表面に、例えば該主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域を設けることにより、携帯機器の表示画面を表側から見たときに、これら文字、図形等のシンボルのパターンを視覚により認識することができる(視認性)。
また、図5は、本発明に係る電子機器用カバーガラスのガラス基板の断面図である。
図5に示す実施形態のガラス基板においては、例えば携帯機器の表側から見たときに文字または図形を含むシンボルとして認識しうるシンボル領域2が、ガラス基板1の対向する表裏の主表面11,12の両方の表面にそれぞれ形成されている。携帯機器の表側に向いたガラス基板表面に形成されたシンボル領域は視覚で認識することができ、ガラス基板の上記と反対側の表面に形成されたシンボル領域についても視覚で認識することが可能である。
図5に示す実施形態のガラス基板においては、例えば携帯機器の表側から見たときに文字または図形を含むシンボルとして認識しうるシンボル領域2が、ガラス基板1の対向する表裏の主表面11,12の両方の表面にそれぞれ形成されている。携帯機器の表側に向いたガラス基板表面に形成されたシンボル領域は視覚で認識することができ、ガラス基板の上記と反対側の表面に形成されたシンボル領域についても視覚で認識することが可能である。
本発明に係る電子機器用カバーガラスのガラス基板の構成において特徴的な点は、上記シンボル領域が、主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者に認識可能とした点である。
すなわち、上記シンボル領域2の表面2aが適度に、つまり主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識できる程度に粗面化されている。
すなわち、上記シンボル領域2の表面2aが適度に、つまり主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識できる程度に粗面化されている。
このように上記シンボル領域2の表面2aを粗面化するためには、後述するように、たとえば析出物の発生を抑制しないエッチング条件を選択することにより、シンボル領域2の表面2aが好ましく粗面化されたエッチング面に仕上げることができる。
ガラス基板1の主表面11,12にエッチング処理(エッチング法)で上記シンボル領域2を形成し、出来たシンボル領域2の表面2aが粗面化されたエッチング面である場合、エッチング処理時に微小の傷やクラック等が発生するのを抑制できるため、ガラスの強度を損うことなく、例えば化学強化処理によって得られるカバーガラスの高い強度を維持することが可能である。
なお、上記表面粗さは、JIS B0601:2001により規定される算術平均粗さRaであり、例えば、(株)ミツトヨ製、表面粗さ測定機SV−624で計測し、算出できる。
前記シンボル領域2の表面粗さは、Raが、0.05μm〜2.0μmの範囲であることが好ましい。シンボル領域の表面粗さRaが0.05μmよりも小さいと、主表面上の他の領域(平坦部)との間の表面粗さの差が小さくなり、視認性が十分に得られない。一方、シンボル領域の表面粗さRaが2.0μmよりも大きいと、十分な強度が得られない場合がある。
また、前記シンボル領域と他の領域である平坦部の表面粗さ(Ra)の差については、平坦部の表面粗さ(Ra)が0.01μm以下としたときに、0.05μm〜2.0μmであることが好ましい。シンボル領域と主表面上の他の領域(平坦部)との間の表面粗さの差が0.05μmよりも小さいと、視認性が十分に得られない。一方、この表面粗さの差が2.0μmよりも大きいと、十分な強度が得られない場合がある。
また、前記シンボル領域と他の領域である平坦部の表面粗さ(Ra)の差については、平坦部の表面粗さ(Ra)が0.01μm以下としたときに、0.05μm〜2.0μmであることが好ましい。シンボル領域と主表面上の他の領域(平坦部)との間の表面粗さの差が0.05μmよりも小さいと、視認性が十分に得られない。一方、この表面粗さの差が2.0μmよりも大きいと、十分な強度が得られない場合がある。
また、シンボル領域2の表面2aの粗面化によって、視認した際の外光の散乱によりヘーズ値が大きくなる。
すなわち、上記シンボル領域は、ガラス基板の主表面上の他の領域との間の光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とする領域である。この場合の光学特性は例えばヘーズ値によって特定される特性である。
このシンボル領域2のヘーズ値が主表面11,12の他の領域(平坦部)のヘーズ値よりも大きいことにより、シンボル領域2は主表面の他の領域よりも曇り度合が大きくなり、シンボル領域2をたとえば視覚で認識し易くなる。
すなわち、上記シンボル領域は、ガラス基板の主表面上の他の領域との間の光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とする領域である。この場合の光学特性は例えばヘーズ値によって特定される特性である。
このシンボル領域2のヘーズ値が主表面11,12の他の領域(平坦部)のヘーズ値よりも大きいことにより、シンボル領域2は主表面の他の領域よりも曇り度合が大きくなり、シンボル領域2をたとえば視覚で認識し易くなる。
なお、このヘーズ値とは、曇り度とも呼ばれているものであり、日本工業規格(JIS)K7136に従って測定することができる特性値である。
本発明においては、JIS K7136に従って測定した前記シンボル領域のヘーズ値が10%以上であることが好ましく、更に好ましくは20%以上である。シンボル領域のヘーズ値が10%未満であると、十分な視認性を持たせることが難しい。
本発明においては、JIS K7136に従って測定した前記シンボル領域のヘーズ値が10%以上であることが好ましく、更に好ましくは20%以上である。シンボル領域のヘーズ値が10%未満であると、十分な視認性を持たせることが難しい。
また、本発明においては、JIS K7136に従って測定した前記シンボル領域と他の領域である平坦部のヘーズ値の差について、平坦部のヘーズ値が1%以下であるときに、10%以上であることが好ましい。シンボル領域と他の領域のヘーズ値の差が10%よりも小さいと、十分な視認性を持たせることが難しい。
本発明は、たとえばガラス基板1の主表面11,12がタッチパネルに相当する領域を有し、上記シンボル領域2の少なくとも1つが上記タッチパネルに相当する領域に存在する形態において特に好適である。
本発明によれば、対向する主表面の少なくとも一方の表面に形成された文字又は図形等のシンボルを利用者に認識させるためのシンボル領域の視認性を持たせ、しかも充分な強度を持つカバーガラス用ガラス基板を提供することができる。
本発明によれば、対向する主表面の少なくとも一方の表面に形成された文字又は図形等のシンボルを利用者に認識させるためのシンボル領域の視認性を持たせ、しかも充分な強度を持つカバーガラス用ガラス基板を提供することができる。
また、本発明によれば、薄型、軽量、大画面(大面積)であっても充分な強度を持つカバーガラス用ガラス基板を提供することができる。本発明においては、ガラス基板の全板厚は、例えば0.3mm〜1.5mmの薄型にすることができる。また、本発明においては、ガラス基板の外形形状が例えば矩形状で、その主表面を例えば30cm2以上の大面積とすることが可能である。
また、本発明によれば、特に表示画面の高い強度を要求されるタッチパネル式の携帯機器等の電子機器に好適にカバーガラスのガラス基板を提供することができる。
また、本発明によれば、特に表示画面の高い強度を要求されるタッチパネル式の携帯機器等の電子機器に好適にカバーガラスのガラス基板を提供することができる。
次に、上述の本発明に係る電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法について説明する。
図6は、本発明の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法の一実施形態に係る工程を順に示す断面図である。
本発明に係る電子機器用カバーガラスのガラス基板は、通常、シート状に成形された板状ガラス(大判サイズ)を所定の大きさ(製品サイズ)に切断(小片化)して作製される。ダウンドロー法やフロート法等で製造されたシート状ガラス素材(板状ガラス)を所定の大きさに切断する際においては、機械加工による切断法、あるいはエッチング法を用いることができる。
図6は、本発明の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法の一実施形態に係る工程を順に示す断面図である。
本発明に係る電子機器用カバーガラスのガラス基板は、通常、シート状に成形された板状ガラス(大判サイズ)を所定の大きさ(製品サイズ)に切断(小片化)して作製される。ダウンドロー法やフロート法等で製造されたシート状ガラス素材(板状ガラス)を所定の大きさに切断する際においては、機械加工による切断法、あるいはエッチング法を用いることができる。
こうして製品サイズに小片化されたガラス基板1の表裏の両主表面にそれぞれレジスト(感光性有機材料、特に感光性樹脂材料)3を塗布形成し(図6(a)参照)、所定の露光、現像を行って、対向する主表面の両方の表面にそれぞれ文字又は図形を含むシンボルを利用者に認識させるためのシンボル領域2を形成するためのシンボル領域形成用レジストパターン3aを有するレジスト3(つまりシンボル領域2を形成する領域のレジストが除去されている)を形成する(図6(b)参照)。
そして、このレジスト3をマスクとして、ガラス素材を溶解可能なエッチング液を用いてウェットエッチングすることにより、例えば表側から見たときに文字または図形等のシンボルとして認識しうるシンボル領域2をガラス基板1の表裏両主表面のそれぞれに形成する(図6(c)参照)。
この場合のエッチング処理は、析出物の発生を抑制しないエッチング条件を選択して行うことが肝要である。以下、上記のシンボル領域形成用のエッチングを「フロスト加工用エッチング」と呼ぶ。この析出物の発生を抑制しないフロスト加工用エッチング条件でエッチング処理をすることにより、形成されるシンボル領域2の表面2aは、適度に粗面化されたエッチング面に仕上がる。そのため、シンボル領域2の表面粗さ(Ra)は主表面の他の領域の表面粗さ(Ra)よりも大きくなる。また、シンボル領域2のヘーズ値は主表面の他の領域のヘーズ値よりも大きくなる。
上記のフロスト加工用エッチング条件とは、例えば、2〜40重量%のフッ化物(例えばフッ化水素、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウム、フッ化ナトリウム、およびフッ化水素カリウム等)と2〜80重量%の水混和性有機溶媒(例えば、グリセリン、エチレングリコールやポリエチレングリコール等のグリコール類、メチルアルコールやエチルアルコール等のアルコール類、ショ糖等)を含有する水溶液を用いる条件のことである。ここでフロスト加工用エッチングは、上記フッ化物を含有する溶液に酸性溶液を混合しないことが好ましい。
また、水混和性有機溶媒の濃度を調整することで、溶液の粘度を調整することができる。ここで、溶液がガラス基板表面に留まるように溶液を適正な粘度にすることで、レジストを省略してフロスト加工用エッチング液をガラス基板表面の所定領域(シンボル形成領域)に直接塗布し、所定領域だけをフロスト加工することが可能である。
また、水混和性有機溶媒の濃度を調整することで、溶液の粘度を調整することができる。ここで、溶液がガラス基板表面に留まるように溶液を適正な粘度にすることで、レジストを省略してフロスト加工用エッチング液をガラス基板表面の所定領域(シンボル形成領域)に直接塗布し、所定領域だけをフロスト加工することが可能である。
このようなシンボル領域2を形成するためのフロスト加工用エッチングによる処理時間は適宜設定すればよいが、処理時間が短いと十分な視認性を備えたシンボル領域を形成することができない。一方、処理時間が長すぎると、ガラス基板の厚さ方向にもエッチングが進行して表面粗さが大きくなるために、十分な強度が得られない原因となる。
そして、残ったレジスト3を剥離し、洗浄する(図6(d)参照)。
そして、残ったレジスト3を剥離し、洗浄する(図6(d)参照)。
こうして、前述の図5に示す実施形態のガラス基板が完成する。なお、ここでは、カバーガラスの両主表面にそれぞれシンボル領域を形成する場合を説明したが、カバーガラスの何れか一方の主表面にシンボル領域を形成してもよい。
また、レジストパターンを用いてマスキングする方法を説明したが、レジストパターン以外のマスキングでもよく、また、上記フロスト加工用エッチング液をガラス基板表面の所定領域(シンボル形成領域)に直接塗布してもよい。
また、上記のエッチング法によらず、例えば研削やブラスト加工などの機械加工によって、ガラス基板表面を適度に粗面化したシンボル領域を形成するようにしてもよい。
また、レジストパターンを用いてマスキングする方法を説明したが、レジストパターン以外のマスキングでもよく、また、上記フロスト加工用エッチング液をガラス基板表面の所定領域(シンボル形成領域)に直接塗布してもよい。
また、上記のエッチング法によらず、例えば研削やブラスト加工などの機械加工によって、ガラス基板表面を適度に粗面化したシンボル領域を形成するようにしてもよい。
また、本発明においては、シンボル領域が形成されていない部分の板厚に対し、シンボル形成領域部との板厚の差が10%未満であることが好ましい。シンボル形成領域の板厚がシンボル形成されていない部分の板厚より10%以上薄くなった場合は、カバーガラスに要求される強度が得られない恐れがある。なお、この板厚の差について、(株)ミツトヨ製 表面粗さ測定機SV−624を用いてガラス基板の両主表面の粗さ曲線を取得し、シンボル領域が形成されていない面の粗さ曲線の最大点と、シンボル形成領域凸凹面の凹(谷)側の粗さ曲線の最小点との差により測定することができる。
本発明のカバーガラス用のガラス基板の厚さ(板厚)は、最近の携帯機器等の薄型化・軽量化のマーケットニーズに応える観点から例えば0.3mm〜1.5mm程度の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは0.3mm〜0.5mm程度の範囲である。ここで、本実施形態のようなシンボル領域を形成することにより、ガラス基板の板厚減少量が比較的少ないため、利用者に対する視認性を発揮しつつ、ガラス基板の強度低下を抑えることができる。このため、本実施形態のようなシンボル領域の形成は、特に0.5mm以下の板厚のガラス基板に好適である。
本発明においては、ガラス基板を構成するガラスは、SiO2を主成分とするガラスに、Li2O、Na2O等のアルカリ金属を少なくとも1種類含有し、MgO、CaO等のアルカリ土類金属を含有しないもしくは、1種類以上含有するガラスを用いることが好ましい、更には、化学強化特性を向上させるためにAl2O3を添加しても良い。このようなガラス基板は、化学強化後の強度が高く良好である。
本発明の電子機器用カバーガラスのガラス基板においては強度を向上させるため、上記シンボル領域形成の後に、ガラス基板に対して化学強化処理を行うことが好ましい。
化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏300度以上500度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。化学強化処理とは、溶融させた化学強化塩とガラス基板とを接触させることにより、化学強化塩中の相対的に大きな原子半径のアルカリ金属元素と、ガラス基板中の相対的に小さな原子半径のアルカリ金属元素とをイオン交換し、ガラス基板の表層に該イオン半径の大きなアルカリ金属元素を浸透させ、ガラス基板の表面に圧縮応力を生じさせる処理のことである。化学強化塩としては、硝酸カリウムや硝酸ナトリウムなどのアルカリ金属硝酸を好ましく用いることができる。化学強化処理されたガラス基板は強度が向上し耐衝撃性に優れているので、衝撃、押圧が加わり高い強度が必要な電子機器に用いられるカバーガラス用に好適である。
なお、本発明においては、上述のシンボル領域形成の前に化学強化処理を行ってもよい。
化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏300度以上500度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。化学強化処理とは、溶融させた化学強化塩とガラス基板とを接触させることにより、化学強化塩中の相対的に大きな原子半径のアルカリ金属元素と、ガラス基板中の相対的に小さな原子半径のアルカリ金属元素とをイオン交換し、ガラス基板の表層に該イオン半径の大きなアルカリ金属元素を浸透させ、ガラス基板の表面に圧縮応力を生じさせる処理のことである。化学強化塩としては、硝酸カリウムや硝酸ナトリウムなどのアルカリ金属硝酸を好ましく用いることができる。化学強化処理されたガラス基板は強度が向上し耐衝撃性に優れているので、衝撃、押圧が加わり高い強度が必要な電子機器に用いられるカバーガラス用に好適である。
なお、本発明においては、上述のシンボル領域形成の前に化学強化処理を行ってもよい。
本発明の電子機器用カバーガラスのガラス基板は、主表面に形成された例えば文字または図形等のシンボルを視覚により認識しうる視認性を備え、しかも充分な機械的強度を有している。
本発明においては、例えばタッチパネル機能に対応可能な強度を担保する観点から、化学強化されたガラス基板の静圧強度が、200N以上であることが好ましい。
本発明においては、例えばタッチパネル機能に対応可能な強度を担保する観点から、化学強化されたガラス基板の静圧強度が、200N以上であることが好ましい。
以上説明したように、本発明によれば、主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形等のシンボルを例えば視覚により利用者に認識させるためのシンボル領域が設けられており、視認性とともに充分な強度を持つ電子機器用カバーガラスのガラス基板を提供することができる。
従って、薄型、軽量、大画面(大面積)であっても充分な強度を持つ、とくに高い強度が要求されるタッチパネル式の電子機器に好適にカバーガラス用のガラス基板を提供することができる。
従って、薄型、軽量、大画面(大面積)であっても充分な強度を持つ、とくに高い強度が要求されるタッチパネル式の電子機器に好適にカバーガラス用のガラス基板を提供することができる。
以下に具体的実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
以下の(1)板ガラス切断加工工程、(2)シンボル領域形成工程、(3)化学強化工程、を経て本実施例のカバーガラス用ガラス基板を製造した。
(実施例1)
以下の(1)板ガラス切断加工工程、(2)シンボル領域形成工程、(3)化学強化工程、を経て本実施例のカバーガラス用ガラス基板を製造した。
(1)板ガラス切断加工工程
ダウンドロー法やフロート法で製造された厚さ0.5mmの板状ガラスをガラスカッターを用いて切断して所定の大きさ(10cm×5cm)のカバーガラス用ガラス基板を作製した。この板状ガラスとしては、SiO2:72重量%、Al2O3:1重量%、MgO:4重量%、CaO:9重量%、Na2O:14重量%を含有するソーダライムガラスを使用した。
ダウンドロー法やフロート法で製造された厚さ0.5mmの板状ガラスをガラスカッターを用いて切断して所定の大きさ(10cm×5cm)のカバーガラス用ガラス基板を作製した。この板状ガラスとしては、SiO2:72重量%、Al2O3:1重量%、MgO:4重量%、CaO:9重量%、Na2O:14重量%を含有するソーダライムガラスを使用した。
(2)シンボル領域形成工程
次に、上記で得られたガラス基板の一方の主表面に、レジストを塗布し、所定の露光、現像を行って、1mm×1mmの大きさのシンボル領域形成用レジストパターンを有するレジストを形成した。
次に、上記で得られたガラス基板の一方の主表面に、レジストを塗布し、所定の露光、現像を行って、1mm×1mmの大きさのシンボル領域形成用レジストパターンを有するレジストを形成した。
そして、このレジストをマスクとして、析出物の発生を抑制しないエッチング条件(フロスト加工用エッチング)、具体的には、15重量%のフッ化水素アンモニウム、35重量%のグリセリン、50重量%の水を混合した水溶液で2分間ウェットエッチングすることにより、ガラス基板の主表面に1mm×1mmの大きさのシンボル領域を形成した。
そして、ガラス基板上に残ったレジストを剥離し、洗浄した。
そして、ガラス基板上に残ったレジストを剥離し、洗浄した。
(3)化学強化工程
次に、上記のシンボル領域形成を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は硝酸カリウム100%の化学強化液を用意し、この化学強化溶液を430℃に加熱し、上記ガラス基板を約4時間浸漬して化学強化処理を行なった。化学強化を終えたガラス基板を硫酸、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
次に、上記のシンボル領域形成を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は硝酸カリウム100%の化学強化液を用意し、この化学強化溶液を430℃に加熱し、上記ガラス基板を約4時間浸漬して化学強化処理を行なった。化学強化を終えたガラス基板を硫酸、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
こうして本実施例のカバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さを測定した。測定方法は以下のとおりである。
上記表面粗さは、JIS B0601:2001により規定される算術平均粗さRaであり、(株)ミツトヨ製、表面粗さ測定機SV−624で計測した。
また、上記ヘーズ値は、(有)東京電色製、オートマーキングヘーズメータTC−HIIIDPK/IIで計測し、JIS K7136に従って測定した。なお、上記ヘーズメータについては、直径が1mmとなるように、開口付き遮光板を用いて入射光を調整し、その上で、シンボル領域の形成されていないガラス基板主表面平坦部を用いて上記ヘーズメータを校正した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さを測定した。測定方法は以下のとおりである。
上記表面粗さは、JIS B0601:2001により規定される算術平均粗さRaであり、(株)ミツトヨ製、表面粗さ測定機SV−624で計測した。
また、上記ヘーズ値は、(有)東京電色製、オートマーキングヘーズメータTC−HIIIDPK/IIで計測し、JIS K7136に従って測定した。なお、上記ヘーズメータについては、直径が1mmとなるように、開口付き遮光板を用いて入射光を調整し、その上で、シンボル領域の形成されていないガラス基板主表面平坦部を用いて上記ヘーズメータを校正した。
これらの結果は表1に示した。なお、表1には、シンボル領域とシンボル領域の形成されていない主表面平坦部のヘーズ値の差(Δヘーズ値)、および表面粗さRaの差(ΔRa)をそれぞれ示した(以下の実施例についても同様)。
また、本実施例のガラス基板のシンボル領域の視認性について評価した。この視認性の評価は、ガラス基板を、被験者5人に50cm離れた所から視認できるかどうかで判定した。5人中4人以上が視認可能と判断した場合を視認性ありとした。
また、本実施例のガラス基板の静圧強度について、強度測定機(アイコーエンジニアリング(株)、大型卓上荷重測定器 MODEL−1311VRW)と、図7に示すような受け治具21と押し治具22とを組み合わせたものを用いて測定した。具体的には、図7(a)に示す外径45mm、内径35mmのリング状のステンレス製受け冶具21の上に、ガラス基板1のシンボル領域が形成された部分がリング状の受け治具21の中心に平面視において位置するように測定対象のガラス基板1を載置し、その上方から、ガラス基板1のシンボル領域形成箇所を、図7(b)に示す外径13mm、内径3mmの円筒状のステンレス製の押し冶具22で押圧し(図7(c)参照)、ガラス基板が割れた際の破壊加重(N)を静圧強度として測定した。本実施例のガラス基板は、タッチパネルに要求される200N以上の強度を有していた。
これらの結果についても表1に示した。
これらの結果についても表1に示した。
(実施例2)
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程におけるエッチング処理時間を3分としたこと以外は、実施例1と同様にしてシンボル領域形成工程を行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程におけるエッチング処理時間を3分としたこと以外は、実施例1と同様にしてシンボル領域形成工程を行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
(実施例3)
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程におけるエッチング処理時間を5分としたこと以外は、実施例1と同様にしてシンボル領域形成工程を行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程におけるエッチング処理時間を5分としたこと以外は、実施例1と同様にしてシンボル領域形成工程を行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
(実施例4)
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程におけるエッチング処理時間を10分としたこと以外は、実施例1と同様にしてシンボル領域形成工程を行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程におけるエッチング処理時間を10分としたこと以外は、実施例1と同様にしてシンボル領域形成工程を行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
(実施例5)
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程において、ブラスト加工によって上記シンボル領域を形成した。これ以外の工程は実施例1と同様にして行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程において、ブラスト加工によって上記シンボル領域を形成した。これ以外の工程は実施例1と同様にして行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
(比較例1)
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程を省いたこと以外は実施例1と同様にして行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板表面におけるヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
なお、上記実施例1〜5のガラス基板におけるシンボル領域を除く領域(平坦部)のヘーズ値及び表面粗さは、比較例1の測定値と同等であった。
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程を省いたこと以外は実施例1と同様にして行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板表面におけるヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
なお、上記実施例1〜5のガラス基板におけるシンボル領域を除く領域(平坦部)のヘーズ値及び表面粗さは、比較例1の測定値と同等であった。
(比較例2)
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程において、フッ化水素酸を用いて、1mm×1mmの大きさで深さ0.25mmの凹みを形成したこと以外は実施例1と同様にして行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
なお、上記比較例1においてはシンボル領域が形成されておらず、また比較例2においては、シンボル領域のヘーズ値及び表面粗さは、シンボル領域を除く領域(平坦部)の測定値と同等であるため、表1中のΔヘーズ値及びΔRaについては記載を省略した。
上記実施例1の(2)シンボル領域形成工程において、フッ化水素酸を用いて、1mm×1mmの大きさで深さ0.25mmの凹みを形成したこと以外は実施例1と同様にして行い、カバーガラス用ガラス基板を作製した。
作製したガラス基板におけるシンボル領域のヘーズ値及び表面粗さ、視認性、並びに静圧強度を実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示した。
なお、上記比較例1においてはシンボル領域が形成されておらず、また比較例2においては、シンボル領域のヘーズ値及び表面粗さは、シンボル領域を除く領域(平坦部)の測定値と同等であるため、表1中のΔヘーズ値及びΔRaについては記載を省略した。
上記表1の実施例の結果から、平坦部との差として、表面粗さRaが0.05μm以上、又はヘーズ値が10%以上のシンボル領域を形成することにより、強度維持と視認性確保の両立を図ることができることがわかる。
1、1A〜1D カバーガラスのガラス基板
2 シンボル領域
2a シンボル領域の表面
3 レジスト
3a シンボル領域形成用レジストパターン
11、12 ガラス基板の主表面
100 携帯機器(携帯電話機)
101 筐体部
102 表示画面
2 シンボル領域
2a シンボル領域の表面
3 レジスト
3a シンボル領域形成用レジストパターン
11、12 ガラス基板の主表面
100 携帯機器(携帯電話機)
101 筐体部
102 表示画面
Claims (10)
- 一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板であって、
少なくともいずれかの主表面には、該主表面上の他の領域との間の表面粗さの差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域が設けられていることを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板。 - 前記シンボル領域と他の領域の表面粗さ(Ra)の差が、0.05μm〜2.0μmであることを特徴とする請求項1に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板。
- 一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板であって、
少なくともいずれかの主表面には、該主表面上の他の領域との間の光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域が設けられていることを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板。 - JIS K7136に従って測定した前記シンボル領域と他の領域のヘーズ値の差が、10%以上であることを特徴とする請求項3に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板。
- 前記シンボル領域はエッチング処理により形成された領域であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板。
- 前記ガラス基板は、イオン交換法により化学強化されたガラスからなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板。
- 前記シンボル領域の少なくとも1つが、所定部位を押圧することにより電子機器の操作を行うタッチパネルに相当する領域に存在することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板。
- 一対の主表面を有する電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法であって、
少なくともいずれかの主表面に、該主表面上の他の領域との間の表面粗さ又は光学特性の差異により文字又は図形を含むシンボルを利用者が認識可能とするシンボル領域を形成するシンボル領域形成工程を有することを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。 - 前記シンボル領域形成工程は、前記ガラス基板を、析出物の発生を抑制しないエッチング条件によりエッチング処理する工程であることを特徴とする請求項8に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。
- 前記シンボル領域形成工程を行った後、ガラス基板の化学強化処理を行うことを特徴とする請求項8又は9に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012231719A JP2014084234A (ja) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | 電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012231719A JP2014084234A (ja) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | 電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014084234A true JP2014084234A (ja) | 2014-05-12 |
Family
ID=50787649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012231719A Pending JP2014084234A (ja) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | 電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014084234A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016043572A1 (ko) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 크루셜텍(주) | 커버글라스 및 이의 제조방법 |
WO2017111078A1 (ja) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | パナソニック株式会社 | ガラス用研磨液および研磨方法 |
JP2018106147A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用のマスクブランク用基板、マスクブランク及びマスク、並びにそれらの製造方法 |
JP2018169883A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | Agc株式会社 | 電子デバイス |
WO2019225450A1 (ja) * | 2018-05-21 | 2019-11-28 | Agc株式会社 | 防眩性透明基体およびそれを備える表示装置 |
-
2012
- 2012-10-19 JP JP2012231719A patent/JP2014084234A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016043572A1 (ko) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 크루셜텍(주) | 커버글라스 및 이의 제조방법 |
WO2017111078A1 (ja) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | パナソニック株式会社 | ガラス用研磨液および研磨方法 |
JP2018106147A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用のマスクブランク用基板、マスクブランク及びマスク、並びにそれらの製造方法 |
JP7220980B2 (ja) | 2016-12-22 | 2023-02-13 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用のマスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 |
JP2018169883A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | Agc株式会社 | 電子デバイス |
WO2019225450A1 (ja) * | 2018-05-21 | 2019-11-28 | Agc株式会社 | 防眩性透明基体およびそれを備える表示装置 |
JPWO2019225450A1 (ja) * | 2018-05-21 | 2021-07-01 | Agc株式会社 | 防眩性透明基体およびそれを備える表示装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5881414B2 (ja) | 携帯機器用カバーガラス | |
JP5952869B2 (ja) | 携帯端末用カバーガラス及び携帯端末装置 | |
TWI503292B (zh) | 行動型電子機器用保護玻璃之玻璃基板、行動型電子機器用畫像顯示裝置、行動型電子機器、以及行動型電子機器用保護玻璃之玻璃基板之製造方法 | |
US20120214004A1 (en) | Method of manufacturing a glass substrate for use as a cover glass for a mobile electronic device, glass substrate for use as a cover glass for a mobile electronic device, and mobile electronic device | |
KR101895591B1 (ko) | 휴대형 전자기기용 커버 유리의 유리기판, 휴대형 전자기기용 화상표시장치, 휴대형 전자기기, 및 휴대형 전자기기용 커버 유리의 유리기판 제조방법 | |
JP5066626B2 (ja) | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材及び携帯機器用カバーガラス | |
JP5878562B2 (ja) | 電子機器用カバーガラス及びその製造方法、並びに電子機器用タッチセンサモジュール | |
JP2014084234A (ja) | 電子機器用カバーガラスのガラス基板及びその製造方法 | |
KR20130135879A (ko) | 압축 응력 평형을 갖는 눈부심 방지 유리 시트 | |
JPWO2013027651A1 (ja) | 強化ガラス基板の製造方法および強化ガラス基板 | |
JP2013137383A (ja) | 携帯機器用カバーガラス及びその製造方法 | |
JP2009208983A (ja) | ガラス基材及びその製造方法 | |
JP2012250905A (ja) | 電子機器用カバーガラスの製造方法および電子機器用カバーガラスのガラス基板保持具 | |
JP5183320B2 (ja) | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法 | |
JP5066625B2 (ja) | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材及び携帯機器用カバーガラス | |
JP2014001101A (ja) | カバーガラスの形成方法 | |
JP5926736B2 (ja) | 携帯機器用カバーガラスの製造方法 | |
JP5462224B2 (ja) | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法 | |
JP2014001100A (ja) | カバーガラス | |
JP6749609B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP6279271B2 (ja) | 電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法 | |
JP2013077083A (ja) | 携帯機器用カバーガラス及びその製造方法、並びに携帯機器用タッチセンサモジュール |