TWI695184B - 附有低反射膜之基體 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種附有低反射膜之基體，其特徵在於：其具備透明基體、形成於上述透明基體之第1主面之低反射膜、及形成於在上述第1主面之相反側之上述透明基體之第2主面之一部分的黑色印刷部；且於上述透明基體之具有上述黑色印刷部之區域，相對於來自上述低反射膜側之入射光，上述附有低反射膜之基體之視感反射率R為2%以下，並且上述低反射膜之表面之視感反射率R1、與上述黑色印刷部之與上述透明基體之界面處之視感反射率R2之比R1/R2為1/6以上。

Description

附有低反射膜之基體
本發明係關於一種附有低反射膜之基體。
近年來，於平板型PC(Personal Computer，個人電腦)、智慧型手機、汽車導航裝置、觸控面板等顯示器裝置中，為了保護顯示面板，而於顯示面板之視認側設置有如覆蓋玻璃般之前面基板。並且，該前面基板中，為了抑制因光之反射而引起之映入、提高顯示之視認性，而於視認側之面設置有抑制了光之反射之低反射膜。又，此種附有低反射膜之前面基板中，為了提高設計性或美觀，於未設置有低反射膜之非視認側之面之周邊部設置如黑色印刷部之遮光部(例如參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2005-242265號公報
然而，於具備低反射膜及黑色印刷部之顯示器用前面基板中，由於光之反射被低反射膜抑制，故而自設置有低反射膜之面側觀察黑色印刷部之情形時，存在黑色印刷部之印刷不均被視認之問題。可認為此情況係起因於印刷材料之混練狀態之不良、因前面基板之透明基體之印刷面之變質而引起之印刷不良、印刷時之塗佈不均等。並且， 為了解決混練不良或印刷不良之問題，必須實現製造印刷材料之裝置或印刷裝置之改良、透明基體表面之改質、印刷精度之提高等，於印刷技術或成本之方面難以解決。
本發明係應對上述問題而完成者，其目的在於提供一種難以視認黑色印刷部之印刷不均，具備較高之顯示性及美觀，且適於顯示器裝置等之前面基板之附有低反射膜之基體。
一種附有低反射膜之基體，其特徵在於：其具備透明基體、形成於上述透明基體之第1主面之低反射膜、及形成於在上述第1主面之相反側之上述透明基體之第2主面之一部分的黑色印刷部，且於上述透明基體之具有上述黑色印刷部之區域中，相對於來自上述低反射膜側之入射光，上述附有低反射膜之基體之視感反射率R為2%以下，並且上述低反射膜之表面之視感反射率R1、與上述黑色印刷部之與上述透明基體之界面處之視感反射率R2之比R1/R2為1/6以上。
於本發明之附有低反射膜之基體中，上述附有低反射膜之基體之視感反射率R較佳為1.2%以下。又，上述低反射膜之表面之視感反射率R1較佳為1%以下。又，上述黑色印刷部之與上述透明基體之界面處之視感反射率R2較佳為0.8%以下。又，上述透明基體較佳為於上述第1主面具有凹凸形狀。又，上述凹凸形狀之表面粗糙度RMS較佳為0.01μm以上且0.5μm以下。又，上述凹凸形狀之粗糙度曲線之要素之平均長度RSm較佳為5μm以上且30μm以下。又，上述透明基體之由JIS K 7136所規定之霧度值較佳為1%以上且30%以下。又，上述附有低反射膜之基體較佳為進而具備形成於上述低反射膜上且具有2nm以上且20nm以下之膜厚之防污膜。又，上述低反射膜較佳為分別具有至少1層之包含氧化鈮或氮化矽之層、及至少1層之包含氧化矽之層。又，上述透明基體較佳為玻璃基板。
於本發明中，所謂「上述透明基體之具有上述黑色印刷部之區域」，係指附有低反射膜之基體於垂直剖面(沿厚度方向之剖面)中具有黑色印刷部之區域。以下之記載中，亦將「具有黑色印刷部之區域」稱為「具備黑色印刷部之區域」。又，亦將附有低反射膜之基體於垂直剖面中不具有黑色印刷部之區域稱為「無黑色印刷部之區域」。
本發明之附有低反射膜之基體由於具有對於來自具有黑色印刷部之區域之低反射膜側之入射光的視感反射率得以調整之低反射膜，故而難以視認黑色印刷部之印刷不均，於顯示性及美觀之方面優異。因此，藉由將此種附有低反射膜之基體用作前面基板，可提高顯示器裝置之顯示之視認性，並且可賦予優異之設計性及美觀。
1‧‧‧附有低反射膜之基體
2‧‧‧透明基體
3‧‧‧第1主面
4‧‧‧低反射膜
5‧‧‧第2主面
6‧‧‧黑色印刷部
L1‧‧‧入射光
L2‧‧‧反射光
L3‧‧‧透射光
L4‧‧‧出射光
L5‧‧‧入射光
L6‧‧‧反射光
L7‧‧‧透射光
L8‧‧‧出射光
圖1係模式性地表示本發明之附有低反射膜之基體之一實施形態之剖視圖。
圖2係模式性地表示於本發明之附有低反射膜之基體中，自低反射膜側入射之光路之圖。
以下，對用於實施本發明之形態加以說明。本發明不受下述實施形態限定，亦可於不脫離本發明之範圍之情形下，對下述實施形態進行添加各種變化及置換。
圖1係模式性地表示本發明之附有低反射膜之基體之一實施形態之剖視圖。如圖1所示，實施形態之附有低反射膜之基體1具備透明基體2、形成於作為透明基體2之其一主面之第1主面3之低反射膜4、及形成於作為透明基體2之另一主面之第2主面5之一部分的黑色印刷部6。第1主面3及第2主面5相對向。並且，於實施形態之附有低反射膜 之基體1中，透明基體2之具有黑色印刷部6之區域之對於來自低反射膜4側之入射光的附有低反射膜之基體1之視感反射率R為2%以下，且低反射膜4之表面之視感反射率R1、與黑色印刷部6之與透明基體2之界面處之視感反射率R2之比(R1/R2)為1/6以上。
此處，所謂視感反射率，係由JIS Z8701所規定之反射之刺激值Y。本發明中，使用分光測色計(柯尼卡美能達公司製造，型號：CM-2600d)，於D65之光源下，藉由一同測定正反射光及擴散反射光之SCI(Specular Component Include，包含鏡面正反射光)方式測定反射光，使用測得之反射率，算出視感反射率。
於本發明之附有低反射膜之基體1中，由於對來自低反射膜4側之入射光所測得之附有低反射膜之基體1之視感反射率(以下亦稱為視感反射率R)為2%以下，且R1/R2成為1/6以上，故而難以自低反射膜4側視認黑色印刷部6之印刷不均。
視感反射率R較佳為1.5%以下，更佳為1.2%以下，進而較佳為1%以下。又，就抑制光之反射而提高顯示之視認性之觀點而言，視感反射率R1較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.7%以下。
以下基於圖2對R1及R2之算出方法加以說明。圖2係模式性地表示來自低反射膜4側之入射光入射至本發明之附有低反射膜之基體1之路線(光路)之圖。圖2中，與圖1相同之構成要素賦予同一符號。
於附有低反射膜之基體1之無黑色印刷部6之區域中，自第1主面3側入射至低反射膜4之入射光L1，其一部分於低反射膜4之表面發生反射而成為反射光L2，剩餘部分成為依序透射低反射膜4、透明基體2之透射光L3。透射光L3之一部分於透明基體2之第2主面5發生反射，該反射光依序透射透明基體2、低反射膜4後，作為出射光L4出射至外部。將該光路(L1→L2及L1→L3→L4)作為第1路線。
第1路線之光之視感反射率RG係反射光L2之視感反射率、即低反射膜4之視感反射率R1、與出射光L4之視感反射率R4之和。
此處，視感反射率R4係以使用沿光路之各反射率之式(I)表示，第1路線之光之視感反射率RG係以式(II)表示。其中，R0係自透明基體2之第2主面5之單面視感反射率。
R4=(1-R1)×R0×(1-R1)........................(I)
RG=R1+(1-R1)×R0×(1-R1)..................(II)
另一方面，於附有低反射膜之基體1之具備黑色印刷部6之區域中，自第1主面3側入射至低反射膜4之入射光L5，其一部分於低反射膜4之表面發生反射而成為反射光L6，剩餘部分成為依序透射低反射膜4、透明基體2之透射光L7。透射光L7之一部分於透明基體2之第2主面5及黑色印刷部6之界面處反射，該反射光依序透射透明基體2、低反射膜4後，作為出射光L8出射至外部。將該光路(L5→L6與L5→L7→L8)作為第2路線。
第2路線之光之視感反射率Rtot係反射光L6之視感反射率、即低反射膜4之視感反射率R1、與出射光L8之視感反射率R8之和。
此處，視感反射率R8係以使用沿光路之各反射率之式(III)表示，第2路線之光之視感反射率Rtot係以式(IV)表示。其中，R2係與透明基體2之界面處之黑色印刷部6之視感反射率。
R8=(1-R1)×R2×(1-R1)........................(III)
Rtot=R1+(1-R1)×R2×(1-R1)..................(IV)
於附有低反射膜之基體1中，無黑色印刷部6之區域之視感反射率RG、與具備黑色印刷部6之區域之視感反射率Rtot係能夠測定之量。因此，可以所提供之透明基體2之視感反射率R0為前提，利用上述式(II)及式(IV)算出R1及R2。再者，如上所述，Rtot相當於對來自具有黑色印刷部6之區域之低反射膜4側之入射光測得之視感反射率R，本發 明之附有低反射膜之基體1成為2%以下。又，視感反射率R0例如可藉由利用橢圓偏光計，求出無黑色印刷部6之區域之透明基體2之背面、即無低反射膜4之側之透明基體2之屈折率而算出。
又，於低反射膜4具有吸收率A1之吸收之情形時，式(II)、(IV)中，藉由將(1-R1)設為(1-R1-A1)，可與上述同樣地算出R1及R2。低反射膜4之吸收率A1可藉由透明基體2之第2主面5不具有黑色印刷部6之區域之透射率Tg與僅透明基體2之透射率T0之比較而算出。
再者，實際上，例如透射光L3中於透明基體2之第2主面5發生反射，依序透射透明基體2、低反射膜4之光中，其一部分作為出射光L4自透明基體2之內部射出，一部分於低反射膜4/空氣界面反射而返回透明基體2之內部，透射透明基體2，於透明基體2之第2主面5一部分發生反射，一部分光沿著該路線前進，而自透明基體2之內部射出。又，亦可認為係將該循環重複任意次之路線，但若R1、R2為上述之範圍，則來自L8之後之路線之影響小到可忽略。
低反射膜4之視感反射率R1可藉由構成低反射膜4之各層之構成材料、積層數、各層之厚度、積層順序等進行任意調整。與透明基體2之界面之黑色印刷部6之視感反射率R2可藉由構成黑色印刷部6之材料(黑色墨水等)之種類或膜厚等進行調整。其中，R2通常處於0.3%以上且0.8%以下之範圍，難以藉由墨水之種類或膜厚等進行調整，又，有損壞黑色之色調之虞，故而較佳為藉由調整R1之值來調整R1/R2之值。
於低反射膜4使用吸收性膜之情形時，與使用R1及R2為相同值之無吸收之膜之情形相比，Rtot下降，因此使用者觀看時之黑感提高。因此，於不為要求開口部(無印刷之部分)之透射率較高之成品之情形時，可較佳地使用。於該情形時，可較佳地使用依序積層例如以鈦、鋯等之氮化膜為主材料之光吸收膜、及氧化矽膜而成之膜。光吸收膜 之幾何學膜厚較佳為5~25nm，氧化矽膜之幾何學膜厚較佳為70~110nm。於光吸收膜與氧化矽膜之間，亦可設置有以幾何學膜厚為1~20nm之矽或氮化矽為主成分之層。再者，所謂此處以某些成分為主材料之膜，係該成分之比率為50質量%以上之膜。
其次，對構成實施形態之附有低反射膜之基體1之各要素加以說明。
(透明基體)
透明基體2只要為包含一般要求賦予由低反射膜4所得之低反射性之透明材料者，則並無特別限制，較佳為使用例如包含玻璃、樹脂、或該等之組合(複合材料、積層材料等)者。又，透明基體2之形態亦並無特別限制，例如可製成具有剛性之板狀、具有柔性之膜狀等。
作為用作透明基體2之樹脂基板，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂基板、雙酚A之碳酸鹽等芳香族聚碳酸酯系樹脂基板、聚對苯二甲酸乙二酯等芳香族聚酯系樹脂基板等。
作為高分子膜(膜狀之透明基體2)，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系膜、聚丙烯等聚烯烴系膜、聚氯乙烯膜、丙烯酸樹脂系膜、聚醚碸膜、聚芳酯膜、聚碳酸酯膜等。
作為用作透明基體2之玻璃基板，可列舉包含以二氧化矽為主成分之普通玻璃、例如鈉鈣矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃、石英玻璃等玻璃之基板。
於將玻璃基板用作透明基體2之情形時，玻璃之組成較佳為能夠成形或基於化學強化處理之強化之組成，較佳為含有鈉。
玻璃之組成並無特別限定，可利用具有各種組成之玻璃。例如可列舉以氧化物基準之莫耳%表示，具有以下之組成之鋁矽酸鹽玻璃。
(i)含有50%以上且80%以下之SiO2、2%以上且25%以下之Al2O3、0%以上且10%以下之Li2O、0%以上且18%以下之Na2O、0%以上且10%以下之K2O、0%以上且15%以下之MgO、0%以上且5%以下之CaO及0%以上且5%以下之ZrO2之玻璃
(ii)含有50%以上且74%以下之SiO2、1%以上且10%以下之Al2O3、6%以上且14%以下之Na2O、3%以上且11%以下之K2O、2%以上且15%以下之MgO、0%以上且6%以下之CaO及0%以上且5%以下之ZrO2，且SiO2及Al2O3之含量之合計為75%以下、Na2O及K2O之含量之合計為12%以上且25%以下、MgO及CaO之含量之合計為7%以上且15%以下之玻璃
(iii)含有68%以上且80%以下之SiO2、4%以上且10%以下之Al2O3、5%以上且15%以下之Na2O、0%以上且1%以下之K2O、4%以上且15%以下之MgO及0%以上且1%以下之ZrO2之玻璃
(iv)含有67%以上且75%以下之SiO2、0%以上且4%以下之Al2O3、7%以上且15%以下之Na2O、1%以上且9%以下之K2O、6%以上且14%以下之MgO及0%以上且1.5%以下之ZrO2，且SiO2及Al2O3之含量之合計為71%以上且75%以下、Na2O及K2O之含量之合計為12%以上且20%以下，於含有CaO之情形時CaO之含量未達1%之玻璃
作為透明基體2，較佳為玻璃基板。
玻璃基板之製造方法並無特別限定。可將所需之玻璃原料投入熔融爐中，於1500℃以上且1600℃以下之溫度下進行加熱熔融而澄清後，供給至成形裝置，將熔融玻璃成形為板狀，並進行緩冷，藉此製造玻璃基板。再者，玻璃基板之成形方法並無特別限定，例如可利用下拉法(例如溢流下拉法、流孔法、再曳引法等)、浮式法、滾壓成形法、壓製法等。
於將玻璃基板用作透明基體2之情形時，為了提高所得之附有低 反射膜之基體1之強度，較佳為對玻璃基板之主面(例如進行過下述防眩處理之主面)實施化學強化處理。
化學強化處理之方法並無特別限定，對玻璃基板之主面進行離子交換，於玻璃基板形成壓縮應力殘留之表面層。具體而言，以玻璃轉移點以下之溫度，將玻璃基板之主面附近之玻璃中所含之離子半徑較小之鹼金屬離子(例如Li離子、Na離子)置換為離子半徑更大之鹼金屬離子(例如對於Li離子為Na離子或K離子，對於Na離子為K離子)。藉此，於玻璃基板之主面殘留壓縮應力，提高玻璃基板之強度。
作為透明基體2之玻璃基板，較佳為滿足如下所示之條件。藉由進行上述化學強化處理，可滿足此種條件。
即，玻璃基板之表面壓縮應力(以下稱為CS)較佳為400MPa以上且1200MPa以下，更佳為700MPa以上且900MPa以下。若CS為400MPa以上，則實際使用上之強度充分。又，若CS為1200MPa以下，則可耐受基板自身之壓縮應力，無需擔心會自然破壞。於將本發明之附有低反射膜之基體1用作顯示器裝置之前面基板(覆蓋玻璃)之情形時，玻璃基板之CS特佳為700MPa以上且850MPa以下。
進而，玻璃基板之應力層之深度(以下稱為DOL)較佳為15μm以上且50μm以下，更佳為20μm以上且40μm以下。若DOL為15μm以上，則即便使用玻璃切割機等鋒利之冶具，亦無需擔心易出現傷痕而被破壞。又，若DOL為50μm以下，則可耐受基板自身之壓縮應力，無需擔心會自然破壞。於將本發明之附有低反射膜之基體1用作顯示器裝置等之前面基板(覆蓋玻璃)之情形時，玻璃基板之DOL特佳為25μm以上且35μm以下。
透明基體2之厚度可根據用途進行適當選擇。例如，於樹脂基板、玻璃基板等板狀之透明基體2之情形時，厚度較佳為0.1mm以上且5mm以下，更佳為0.2mm以上且2mm以下。於透明基體2為高分子 膜等膜狀之情形時，其厚度較佳為50μm以上且200μm以下，更佳為75μm以上且150μm以下。於將玻璃基板用作透明基體2而進行上述化學強化處理之情形時，為了有效地進行化學強化處理，玻璃基板之厚度通常較佳為5mm以下，更佳為3mm以下。
又，於透明基體2為玻璃基板之情形時之尺寸可根據用途進行適當地選擇。於將透明基體2用作移動式機器之覆蓋玻璃之情形時，尺寸為30mm×50mm~300mm×400mm，厚度為0.1mm以上且2.5mm以下，於將透明基體2用作顯示器裝置之覆蓋玻璃之情形時，尺寸較佳為50mm×100mm~2000mm×1500mm，厚度較佳為0.5mm以上且4mm以下。
(防眩處理)
為了對附有低反射膜之基體1賦予防眩性，透明基體2較佳為於主面具有凹凸形狀。再者，具有凹凸形狀之主面係透明基體2之至少一主面，作為至少具備低反射膜4之側之面的第1主面較佳為設為具有凹凸形狀之面。
作為於透明基體2之主面形成凹凸形狀之方法，可應用公知之方法，例如可應用防眩處理。作為防眩處理，可利用公知之方法，例如可利用於將玻璃基板用作透明基體2之情形時對玻璃基板之主面實施化學或物理表面處理而形成所需之表面粗糙度之凹凸形狀之方法、或濕式塗佈等。
作為進行化學防眩處理之方法，具體而言可列舉實施凍結處理之方法。凍結處理例如可藉由將作為被處理體之玻璃基板浸漬於氟化氫與氟化銨之混合溶液中而實施。
又，作為進行物理防眩處理之方法，例如可利用藉由加壓空氣將晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等吹向玻璃基板之主面之所謂噴砂處理、或使用將附著有晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等之刷子用水沾濕者 擦拭玻璃基板之主面之方法等。
該等之中，凍結處理由於難以產生被處理體表面之微裂，且難以發生機械強度之降低，故而作為對玻璃基板進行防眩處理之方法較佳。
如此實施過化學或物理防眩處理後之玻璃基板之主面較佳為進行蝕刻處理旨在調整表面形狀。作為蝕刻處理，例如可利用將玻璃基板浸漬於作為氟化氫之水溶液之蝕刻溶液中進行化學蝕刻之方法。蝕刻溶液除了含有氟化氫以外，亦可含有鹽酸、硝酸、檸檬酸等酸。藉由含有該等酸，不僅可抑制因玻璃基板中所含有之Na離子、K離子等陽離子與氟化氫之反應而引起之析出物之局部產生，而且可於被處理體之處理面內均勻地進行蝕刻。
於進行蝕刻處理之情形時，可藉由調節蝕刻溶液之濃度、或玻璃基板於蝕刻溶液中之浸漬時間等，而調節蝕刻量，藉此將玻璃基板之防眩處理面之霧度值調整為期望值。又，於利用噴砂等物理表面處理進行防眩處理之情形時，有產生裂痕之情況，但可藉由蝕刻處理去除此種裂痕。又，藉由蝕刻處理，亦可獲得抑制附有低反射膜之基體1之眩光之效果。
如此，進行防眩處理及蝕刻處理後之玻璃基板之主面、換言之凹凸形狀之表面其表面粗糙度(均方根粗糙度，RMS)較佳為0.01μm以上且0.5μm以下。表面粗糙度(RMS)更佳為0.01μm以上且0.3μm以下，進而較佳為0.01μm以上且0.2μm以下。藉由將玻璃基板之主面之表面粗糙度(RMS)設為上述範圍，可將防眩處理後之玻璃基板之霧度值調整為1%以上且30%以下，其結果可對所得之附有低反射膜之基體1賦予優異之防眩性。再者，霧度值係由JIS K 7136所規定之值。
表面粗糙度(RMS)可依據JIS B 0601：(2001)所規定之方法進行測定。具體而言，藉由雷射顯微鏡(商品名：VK-9700，基恩士公司製 造)，對於作為試樣之防眩處理後之玻璃基板之測定面，設定300μm×200μm之視野範圍，測定玻璃基板之高度資訊。藉由對於測定值進行截止校正，可求出所得之高度之均方根，算出表面粗糙度(RMS)。作為該截止值，較佳為使用0.08mm。
又，關於防眩處理後之玻璃基板之主面、換言之凹凸形狀之表面，作為粗糙度曲線之要素之平均長度之RSm較佳為設為5μm以上且30μm以下。此處，所謂粗糙度曲線之要素之平均長度RSm，係指於基準面上所取之基準長度所包含之粗糙度曲線中，將產生一週期之凹凸之基準面上之長度進行平均後之長度。粗糙度曲線之要素之平均長度RSm可藉由依據JIS B 0601(2001)所規定之方法之方法而測定。
根據本發明者等人之研究，藉由表面粗糙度RMS為上述範圍，並且粗糙度曲線之要素之平均長度RSm為5μm以上且30μm以下，從而可更有效地抑制附有低反射膜之基體1之眩光，並且亦可抑制黑色印刷部6之印刷不均之視認性，因此較佳。
實施防眩處理及蝕刻處理後之玻璃基板之表面具有凹凸形狀，凹凸形狀係若自玻璃基板表面之上方開始觀察，則看起來為圓形狀之孔。如此觀察到之圓形狀之孔之大小(直徑)較佳為1μm以上且10μm以下。藉由孔之大小處於該範圍內，可同時實現附有低反射膜之基體1之防眩光及防眩性。
再者，於通常之使用環境中，光自各種角度入射至附有低反射膜之基體1。黑色印刷部6之印刷不均之視認性之評估亦於此種情況下進行。發現通常之使用環境下之印刷不均之視認性與藉由上述SCI方式所測定之視感反射率相關。又，該視感反射率不會隨著透明基體2之防眩處理之有無而發生變化。因此，可認為黑色印刷部6之印刷不均之視認性不受對透明基體2之防眩處理之有無之影響。
(低反射膜)
於本發明之附有低反射膜之基體1中，低反射膜4形成於透明基體2之第1主面3。於對透明基體2進行上述防眩處理之情形時，較佳為於進行了防眩處理之主面形成低反射膜4。
作為低反射膜4之構成，只要為可將光之反射抑制於特定範圍之構成，則並無特別限定，例如可設為積層有高折射率層及低折射率層之構成。此處，高折射率層係指例如波長為550nm之光之折射率為1.9以上之層，低折射率層係指波長為550nm之光之折射率為1.6以下之層。
低反射膜4之高折射率層與低折射率層之層數既可為分別包含各1層之形態，亦可為分別包含2層以上之構成。於高折射率層及低折射率層分別包含1層之構成之情形時，較佳為於透明基體2之主面依序積層有高折射率層、低折射率層者。又，於高折射率層及低折射率層分別包含2層以上之構成之情形時，較佳為依序交替積層有高折射率層、低折射率層之形態。
為了提高低反射性能，低反射膜4較佳為積層有複數層之積層體，該積層體，例如較佳為整體積層有2層以上且8層以下之層者，更佳為積層有2層以上且6層以下之層者，進而較佳為積層有2層以上且4層以下之層者。此處之積層體較佳為如上所述般交替積層有高折射率層與低折射率層者，較佳為高折射率層與低折射率層之層數之合計為上述範圍。又，亦可於無損光學特性之範圍內追加膜。例如，為了防止來自玻璃基體之Na擴散，亦可於玻璃與構成低反射膜4之第1層之間插入SiO2膜。
為了將低反射膜4之視感反射率R1控制於所需之範圍內，並且將對來自具有黑色印刷部6之區域之低反射膜4側之入射光測得之附有低反射膜之基體1之視感反射率R控制於2%以下，低反射膜4之高折射率層之層厚及低折射率層之層厚較佳為適當地調整。
構成高折射率層、低折射率層之材料並無特別限定，可考慮所要求之低反射性之程度或生產性等進行選擇。作為構成高折射率層之材料，例如可列舉氧化鈮(Nb2O5)、氧化鈦(TiO2)、氧化鋯(ZrO2)、氧化鉭(Ta2O5)、氧化鋁(Al2O3)、氮化矽(SiN)等。可較佳地使用選自該等材料中之1種以上之材料。作為構成低折射率層之材料，可列舉氧化矽(特別是二氧化矽SiO2)、包含Si與Sn之混合氧化物之材料、包含Si與Zr之混合氧化物之材料、包含Si與Al之混合氧化物之材料等。可較佳地使用選自該等材料中1種以上之材料。
就生產性或折射率之觀點而言，較佳為高折射率層係包含選自氧化鈮、氧化鉭、氮化矽中之1種材料之層，且低折射率層包含氧化矽之層之構成。
使構成低反射膜4之各層成膜之方法並無特別限定，可使用各種成膜方法。例如，可使用真空蒸鍍法、離子束輔助蒸鍍法、離子鍍敷法、濺鍍法、電漿CVD法等。該等成膜方法中，藉由使用濺鍍法，可形成緻密且耐久性高之膜，故而較佳。尤佳為藉由脈衝濺鍍法、AC濺鍍法、數位濺鍍法等濺鍍法進行成膜。
例如，於藉由脈衝濺鍍法成膜之情形時，於惰性氣體與氧氣之混合氣體環境之腔室內，配置如玻璃基板般之透明基體2，以成為所需組成之方式選擇靶進行成膜。此時，腔室內之惰性氣體之氣體種類並無特別限制，可使用氬氣或氦氣等各種惰性氣體。
並且，由惰性氣體與氧氣之混合氣體產生之腔室內之壓力並無特別限定，但藉由設為0.5Pa以下之範圍，容易將所形成之膜之表面粗糙度設為較佳範圍。可認為其原因在於如下所示內容。即，若由惰性氣體與氧氣之混合氣體產生之腔室內之壓力為0.5Pa以下，則成膜分子之平均自由行程得以確保，成膜分子持有更多之能量到達透明基體2。因此，可認為成膜分子之再配置得以促進，可形成具有相對緊 密且平滑之表面之膜。由惰性氣體與氧氣之混合氣體產生之腔室內之壓力之下限值並無特別限定，較佳為例如0.1Pa以上。
於藉由脈衝濺鍍法使高折射率層及低折射率層成膜之情形時，各層之層厚之調整例如可藉由放電電力之調整、成膜時間之調整等進行。
(防污膜)
於本發明之附有低反射膜之基體1中，較佳為進而具備形成於低反射膜4上之防污膜。作為防污膜之成膜方法，可使用真空蒸鍍法、離子束輔助蒸鍍法、離子鍍敷法、濺射法、電漿CVD法等乾式法、旋轉塗佈法、浸漬塗佈法、澆鑄法、狹縫式塗佈法、噴霧法等濕式法中之任一種。就耐擦傷性之觀點而言，較佳為使用乾式之成膜方法。
防污膜之構成材料可自能夠賦予防污性、撥水性、撥油性之材料中適當地選擇。具體而言，可列舉含氟有機矽化合物。含氟有機矽化合物只要為賦予防污性、撥水性及撥油性者，則可無特別限定地使用。
作為含氟有機矽化合物，例如可較佳地使用具有選自由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基、及聚氟烷基所組成之群中1種以上之基之有機矽化合物。再者，所謂聚氟聚醚基，係指具有聚氟伸烷基與醚性氧原子交替鍵結而成之結構之2價基。
作為具有選自由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基、及聚氟烷基所組成之群中1種以上之基之含氟有機矽化合物之市售品，可較佳地使用KP-801、KY178、KY-130、KY185(均為商品名，信越化學公司製造)、Optool DSX及Optool AES(均為商品名，大金公司製造)。
再者，為了抑制因與大氣中之水分之反應而引起之劣化等，含氟有機矽化合物一般與氟系等溶劑混合而保存，但若直接以包含該等溶劑之狀態供給至成膜步驟中，則有對所得之薄膜之耐久性等產生不 良影響之情況。因此，於根據下述順序，藉由真空蒸鍍法使防污膜成膜之情形時，較佳為使用於藉由加熱容器進行加熱之前預先進行溶劑去除處理之含氟有機矽化合物。
此處，作為用於保存上述含氟有機矽化合物時之溶劑，例如可列舉：聚氟己烷、間二三氟甲苯(C6H4(CF3)2)、氫氟聚醚、HFE7200/7100(商品名，住友3M公司製造，HFE720係式：C4F9C2H5表示，HFE7100係式：C4F9CH3表示)等氟系溶劑。例如作為含氟有機矽化合物之溶液中所含之溶劑之濃度，較佳為1mol%以下，更佳為0.2mol%以下。尤佳為使用不含溶劑之含氟有機矽化合物。
自包含上述氟系溶劑之含氟有機矽化合物溶液中去除氟系溶劑之去除處理，例如可藉由將裝有含氟有機矽化合物之溶液之容器進行真空排氣而實施。關於進行真空排氣之時間，由於因其會根據排氣線、真空泵等之排氣能力、溶液之量等而變化，故而並無特別限定，例如只要進行10小時以上之真空排氣即可。
於形成包含上述含氟有機矽化合物之防污膜之情形時，成膜較佳為使用真空蒸鍍法。於使用真空蒸鍍法之情形時，上述溶劑之去除處理亦可藉由於使防污膜成膜之成膜裝置之加熱容器中導入含氟有機矽化合物溶液後，於升溫之前，在室溫條件下將加熱容器內進行真空排氣而實施。又，導入至加熱容器之前，可預先藉由蒸發器等去除溶劑。
再者，與含有溶劑者相比，上述溶劑之含量較少、或不含溶劑之含氟有機矽化合物容易因與大氣接觸而劣化。因此，作為溶劑含量較少(或不含)之含氟有機矽化合物之保管容器，使用容器中經氮氣等惰性氣體置換、密閉者，較佳為使處理時暴露於大氣之暴露時間縮短。
具體而言，將保管容器開封後，較佳為立即將含氟有機矽化合 物導入至使防污膜成膜之成膜裝置之加熱容器中。並且，導入後，較佳為將加熱容器內抽真空，或藉由氮氣、稀有氣體等惰性氣體置換，去除加熱容器內所含之大氣(空氣)。更佳為以不與大氣接觸而可自保管容器(儲存容器)導入至成膜裝置之加熱容器中之方式例如保管容器與加熱容器藉由附有閥門之配管而連接。
並且，較佳為將含氟有機矽化合物導入至加熱容器後，將容器內以真空或惰性氣體置換之後，直接開始用以成膜之加熱。
於本發明中，成膜於低反射膜4上之防污膜之膜厚並無特別限定，較佳為2nm以上且20nm以下，更佳為2nm以上且15nm以下，進而較佳為2nm以上且10nm以下。若防污膜之膜厚為2nm以上，則成為低反射膜4之表面被防污膜均勻覆蓋之狀態，就耐摩擦性之觀點而言成為能經受住實用者。又，若防污膜之膜厚為20nm以下，則積層有防污膜之狀態下之透明基體2之霧度值等光學特性良好。
(黑色印刷部)
本發明之附有低反射膜之基體1於透明基體2之第2主面5之一部分具備黑色印刷部6。該黑色印刷部6既可為遮蔽如配置於顯示面板之外側周邊部之配線電路般之觀看顯示時進入視野而成為障礙之部分，而提高顯示之視認性及美觀之遮光部，亦可為文字或花紋等印刷部。
上述黑色印刷部6係藉由印刷黑色墨水之方法而形成者。作為印刷法，有棒式塗佈法、反向塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法、輥塗法、網版印刷法等，但就不僅可簡便地印刷，且可於各種基材上進行印刷，又，可根據透明基體2之尺寸進行印刷之方面而言，較佳為網版印刷法。
黑色墨水可無特別限定地利用。作為黑色墨水，可使用包含陶瓷煅燒體等之無機系墨水、及包含如染料或顏料般之色料及有機樹脂之有機系墨水。
作為黑色之無機系墨水中所含有之陶瓷，有氧化鉻、氧化鐵等氧化物、碳化鉻、碳化鎢等碳化物、碳黑、雲母等。黑色印刷部6係將包含上述陶瓷及二氧化矽之墨水熔融，以所需之圖案進行印刷後加以煅燒而獲得。該無機系墨水需要熔融、煅燒步驟，通常用作玻璃專用墨水。
有機系墨水係包含黑色之染料或顏料及有機系樹脂之組合物。作為有機系樹脂，可列舉環氧系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚芳酯、聚碳酸酯、透明ABS樹脂、酚系樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂、包含聚胺基甲酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯、聚乙烯丁醛、聚醚醚酮、聚乙烯、聚酯、聚丙烯、聚醯胺、聚醯亞胺等均聚物、及可與該等樹脂之單體共聚合之單體之共聚物之樹脂。又，染料或顏料只要為黑色，則可無特別限定地利用。
無機系墨水及有機系墨水就煅燒溫度較低之方面而言，較佳為使用有機系墨水。又，就耐藥品性之觀點而言，較佳為包含顏料之有機系墨水。
其中，所謂印刷為黑色，係指以上述方法對黑色印刷部6算出之視感反射率R2為1%以下，較佳為0.8%以下，進而較佳為0.6%以下，於D65之光源下所測得之由JIS Z8781-4：2013所規定之色度之值(a＊b＊)為(0±2，0±2)。黑色印刷部6之色度之值(a＊b＊)較佳為(0±1.5，0±1.5)，進而較佳為(0±1，0±1)。
本發明之附有低反射膜之基體由於具有視感反射率得以調整之低反射膜，故而對於外側周邊部之用於遮蔽光之黑色印刷部，難以視認印刷不均。因此，於將本發明之附有低反射膜之基體用作如顯示器裝置之覆蓋玻璃般之前面基板之情形時，可使顯示之視認性提高，並且可賦予良好之設計性及美觀。
[實施例]
以下，使用實施例對本發明詳細地進行說明。但本發明並不限定於此。
以下，首先對玻璃基板之處理順序進行說明。實施例及比較例中，均使用作為化學強化用玻璃基板之Dragontrail(商品名，旭硝子公司製造，厚度1.3mm，以下亦稱為「DT」)作為玻璃基板。
(1)防眩處理
於DT之一主面貼附耐酸性之保護膜後，將DT於3重量%之氟化氫溶液中浸漬3分鐘進行蝕刻，藉此去除附著於DT表面之污垢。其次，將去除污垢之玻璃基板於15重量%之氟化氫與15重量%之氟化鉀之混合溶液中浸漬3分鐘進行凍結處理後，於10重量%之氟化氫溶液中浸漬6分鐘，藉此調整霧度值。其次，將耐酸性之保護膜剝離，而獲得對單側之主面實施過防眩處理之玻璃基板。
再者，DT之霧度值係根據JIS K 7136，使用霧度計(商品名：HZ-V3，須賀試驗機公司製造)進行測定。
(2)化學強化處理
於實施過上述防眩處理之玻璃基板、或未進行防眩處理之情形時，將DT裁斷為250mm×150mm之尺寸後，如下述般進行化學強化處理。
即，將玻璃基板或DT於加熱至450℃而熔融之硝酸鉀(熔融鹽)中浸漬2小時後，將其自熔融鹽中提拉，緩冷1小時至室溫。如此獲得表面壓縮應力(CS)為30MPa，應力層之深度(DOL)為30μm之經化學強化之玻璃基板。
(3)黑色印刷部之形成
於實施過上述化學強化處理之玻璃基板中，於未實施防眩處理之主面之外側周邊部，藉由網版印刷形成外框狀之黑色印刷部。再者，於進行了防眩處理之玻璃基板中，於任一主面形成外框狀之黑色 印刷部。
再者，亦可在將實施過上述化學強化處理之玻璃基板於鹼溶液(商品名：Sunnwash TL-75，LION公司製造)中浸漬4小時之處理(以下亦稱為鹼處理)後，形成黑色印刷部。
具體而言，按照以下之順序，於玻璃基板之上述主面之外側周邊部之四邊，印刷為2cm寬之黑框狀，形成黑色印刷部。首先，利用網版印刷機，以厚度5μm塗佈黑色墨水後，於150℃下保持10分鐘使之乾燥，形成第1印刷層。其次，於第1印刷層上，按照與上述相同之順序，以厚度5μm塗佈黑色墨水後，於150℃下保持40分鐘使之乾燥，形成第2印刷層。如此形成積層有第1印刷層與第2印刷層之黑色印刷部，獲得於一主面之外側周邊部具備黑色印刷部之玻璃基板。
實施例及比較例所使用之黑色墨水之種類記載於下述關於各例之說明及表1中。
(4)低反射膜之形成
於未形成玻璃基板之黑色印刷部之面(第1主面)之整個面，形成交替積層有高折射率層與低折射率層之構造之低反射膜。
再者，若於上述化學強化處理後依序進行鹼處理、黑色印刷部形成之基板上，如上述般形成低反射膜，則反射率降低，此外亦可抑制色調之分佈。
以下，分別記載包含氧化鈮(Nb2O5)之高折射率層之形成方法、包含氮化矽(SiN)之高折射率層之形成方法、及包含氧化矽(SiO2)之低折射率層之形成方法。
(A)包含氧化鈮之高折射率層之形成
於真空腔室內，一面導入以成為10體積%之方式將氧氣混合至氬氣中所得之混合氣體，一面於壓力0.3Pa、頻率20kHz、電力密度3.8W/cm2、反相脈衝寬度5μsec之條件下，使用氧化鈮靶(商品名：NBO TARGET，AGC Ceramics股份有限公司製造)進行脈衝濺鍍，於欲形成玻璃基板之高折射率層之整個面形成包含氧化鈮之高折射率層。
(B)包含氮化矽之高折射率層之形成
於真空腔室內，一面導入以成為50體積%之方式將氮氣混合至氬氣中所得之混合氣體，一面於壓力0.3Pa、頻率20kHz、電力密度3.8W/cm2、反相脈衝寬度5μsec之條件下，使用矽靶進行脈衝濺鍍，於欲形成玻璃基板之高折射率層之整個面形成包含氮化矽之高折射率層。
(C)包含氧化矽之低折射率層之形成
於真空腔室內，一面導入以成為40體積%之方式將氧氣混合至氬氣中所得之混合氣體，一面於壓力0.3Pa、頻率20kHz、電力密度3.8W/cm2、反相脈衝寬度5μsec之條件下，使用矽靶進行脈衝濺鍍，於欲形成低折射率層之整個面形成包含氧化矽之低折射率層。
於實施例及比較例中，藉由以先進行(A)或(B)後再進行(C)之順序交替進行上述(A)或(B)之高折射率層之形成、及(C)之低折射率層之形成，而交替地積層高折射率層與低折射率層，從而形成低反射膜。
關於實施例及比較例中之低反射膜之構成(各層之構成材料及厚度)，記載於後述之各例之說明及表1中。再者，表1中，將氧化鈮(Nb2O5)記作NBO。
(5)防污膜之形成
於形成於玻璃基板之低反射膜上，按照以下之順序形成防污膜。
首先，將作為防污膜之材料之含氟有機矽化合物膜之形成材料導入至加熱容器內。之後，利用真空泵對加熱容器內脫氣10小時以上，而去除溶液中之溶劑，製成含氟有機矽化合物膜之形成用組合物(以下，稱為防污膜形成用組合物)。
其次，將裝有上述防污膜形成用組合物之加熱容器加熱至270℃，達到270℃後，將該狀態保持10分鐘直至溫度穩定。接著，將形成有低反射膜之玻璃基板設置於真空腔室內後，自與裝有上述防污膜形成用組合物之加熱容器連接之噴嘴朝上述玻璃基板之低反射膜供給防污膜形成用組合物，而進行成膜。
成膜係一面藉由設置於真空腔室內之石英晶體振子監測器測定膜厚一面進行，直至低反射膜上之含氟有機矽化合物膜之膜厚成為4nm。接著，將自真空腔室取出之玻璃基板，使含氟有機矽化合物膜面朝上設置於加熱板，於大氣中、150℃之條件下加熱處理60分鐘。
如此於玻璃基板之低反射膜上之整個面形成防污膜。
關於實施例及比較例中所使用之含氟有機矽化合物膜之形成材料之種類，記載於後述之各例之說明及表1中。
以下之實施例及比較例中，將具體所使用之材料或順序之組合記載於主體。例1~例5為實施例，例6為比較例。
(例1)
針對於DT，(1)不進行防眩處理，(2)進行化學強化處理。接著，使用作為黑色墨水之GLSHF(商品名，帝國Ink公司製造)，(3)形成黑色印刷部。其次，以積層數成為4層之方式，交替進行(A)包含氧化鈮之高折射率層之形成與(C)包含氧化矽之低折射率層之形成，而(4)形成低反射膜。關於各層之層厚，將第1層之氧化鈮層設為13nm，將第2層之氧化矽層設為35nm，將3層之氧化鈮層設為120nm，將第4層之氧化矽層設為85nm。之後，(5)不形成防污膜。如此獲得附有低反射膜之基體。
(例2)
針對於DT，(1)進行防眩處理，將霧度值調整至25%後，(2)進行化學強化處理。接著，與例1同樣地，(3)形成黑色印刷部。其次，(4) 形成低反射膜。關於各層之層厚，將第1層之氧化鈮層設為10nm，將第2層之氧化矽層設為41nm，將第3層之氧化鈮層設為115nm，將第4層之氧化矽層設為90nm。
其次，使用作為形成含氟有機矽化合物膜之材料之KY185(商品名，信越化學公司製造)，(5)形成防污膜。如此獲得附有低反射膜之基體。
(例3)
針對於DT，(1)進行防眩處理，將霧度值調整至2%之後，(2)進行化學強化處理。接著，使用作為黑色墨水之HFGV3RX01(商品名，精工公司製造)，(3)形成黑色印刷部。其次，(4)形成低反射膜。關於各層之層厚，將第1層之氧化鈮層設為14nm，將第2層之氧化矽層設為20nm，將第3層之氧化鈮層設為80nm，將第4層之氧化矽層設為80nm。接著，使用作為形成含氟有機矽化合物膜之材料之OPTOOL(商品名，大金公司製造)，(5)形成防污膜。如此獲得附有低反射膜之基體。
(例4)
針對於DT，(1)不進行防眩處理，(2)進行化學強化處理。接著，與例1同樣地，(3)形成黑色印刷部。其次，以積層數成為8層之方式，交替進行(B)包含氮化矽之高折射率層之形成與(C)包含氧化矽之低折射率層之形成，而(4)形成低反射膜。關於各層之層厚，將第1層之氮化矽層設為13nm，將第2層之氧化矽層設為68nm，將第3層之氮化矽層設為17nm，將第4層之氧化矽層設為105nm，將第5層之氮化矽層設為13nm，將第6層之氧化矽層設為51nm，將第7層之氮化矽層設為120nm，將第8層之氧化矽層設為80nm。接著，使用作為形成含氟有機矽化合物膜之材料之KY178(商品名，信越化學公司製造)，(5)形成防污膜。如此獲得附有低反射膜之基體。
(例5)
針對於DT，(1)進行防眩處理，將霧度值調整至25%後，(2)進行化學強化處理。其次，與例1同樣地，(3)形成黑色印刷部後，依序進行(A)包含氧化鈮之高折射率層之形成與(C)包含氧化矽之低折射率層之形成，以積層數成為2層之方式(4)形成低反射膜。關於各層之層厚，將第1層之氧化鈮層設為13nm，將第2層之氧化矽層設為120nm。接著，使用作為形成含氟有機矽化合物膜之材料之KY178(商品名，信越化學公司製造)，(5)形成防污膜。如此獲得附有低反射膜之基體。
(例6)
針對於DT，(1)不進行防眩處理，(2)進行化學強化處理。其次，使用作為黑色墨水之HFGV3RX01(商品名，精工公司製造)，(3)形成黑色印刷部。接著，以積層數成為4層之方式，交替進行(A)包含氧化鈮之高折射率層之形成與(C)包含氧化矽之低折射率層之形成，(4)形成低反射膜。關於各層之層厚，將第1層之氧化鈮層設為14nm，將第2層之氧化矽層設為30nm，將第3層之氧化鈮層設為110nm，將第4層之氧化矽層設為90nm。之後，(5)不形成防污膜。如此獲得附有低反射膜之基體。
對例1~例6所獲得之附有低反射膜之基體進行如下之評估。該等結果分別顯示於表1下欄。
(視感反射率)
利用橢圓偏光計(商品名：M-2000，J.A.Woollam公司製造)測定附有低反射膜之基體之無黑色印刷部之區域之背面，即無低反射膜之側之折射率，算出反射率R0。又，利用分光測色計(商品名：CM-2600d，柯尼卡美能達公司製造)對附有低反射膜之基體測定反射率，根據所測得之反射率，求出視感反射率RG、Rtot(JIS Z8701：1999所規 定之反射之刺激值Y)。如此，根據上述方法算出R1及R2。再者，例1~例6之低反射膜之吸收大致為零。
(印刷不均)
於螢光燈下(1500 Lx)，自具有低反射膜之側以各種角度目視附有低反射膜之基體。此時，於外側周邊部之具有黑色印刷部之區域，將確認到因印刷之深淺而引起之不均者評估為B，將未確認者評估為A。
(水之接觸角)
利用接觸角計(協和界面科學製造，裝置名：PCA-1)測定附有低反射膜之基體之低反射膜側之最表面的水之接觸角。具體而言，於具有防污膜之附有低反射膜之基體係在防污膜之表面利用滴管滴加純水1μL，於不具有防污膜者則於低反射膜之表面利用滴管滴加純水1μL，藉由3點法根據液滴之影像求出水之接觸角。
Figure 105114772-A0202-12-0025-1
Figure 105114772-A0202-12-0026-2
根據表1，於視感反射率Rtot為2%以下且R1/R2之值為1/6以上的例1~例5之附有低反射膜之基體中，未見黑色印刷部之印刷不均。相對於此，於即使視感反射率Rtot為2%以下，R1/R2之值亦未達1/6的例6之附有低反射膜之基體中，可見黑色印刷部之印刷不均。
[產業上之可利用性]
關於本發明之附有低反射膜之基體，於用於光遮蔽等之黑色印刷部難以視認印刷不均。因此，本發明之附有低反射膜之基體作為顯示器裝置之前面基板較佳，可賦予良好之顯示視認性並且可賦予優異之設計性及美觀。
1‧‧‧附有低反射膜之基體
2‧‧‧透明基體
3‧‧‧第1主面
4‧‧‧低反射膜
5‧‧‧第2主面
6‧‧‧黑色印刷部

Claims (9)

  1. 一種附有低反射膜之基體，其特徵在於：其具備透明基體、形成於上述透明基體之第1主面之低反射膜、及形成於在上述第1主面之相反側之上述透明基體之第2主面之一部分的黑色印刷部；且上述透明基體於上述第1主面具有凹凸形狀，於上述透明基體之具有上述黑色印刷部之區域，相對於來自上述低反射膜側之入射光，上述附有低反射膜之基體之視感反射率R為2%以下，並且上述低反射膜之表面之視感反射率R1、與上述黑色印刷部之與上述透明基體之界面處之視感反射率R2之比R1/R2為1/6以上，R2為0.3%~0.8%。
  2. 如請求項1之附有低反射膜之基體，其中上述附有低反射膜之基體之視感反射率R為1.2%以下。
  3. 如請求項1或2之附有低反射膜之基體，其中上述低反射膜之表面之視感反射率R1為1%以下。
  4. 如請求項1之附有低反射膜之基體，其中上述凹凸形狀之表面粗糙度RMS為0.01μm以上且0.5μm以下。
  5. 如請求項1或4之附有低反射膜之基體，其中上述凹凸形狀之粗糙度曲線之要素之平均長度RSm為5μm以上且30μm以下。
  6. 如請求項4之附有低反射膜之基體，其中上述透明基體之由JIS K 7136所規定之霧度值為1%以上且30%以下。
  7. 如請求項1或2之附有低反射膜之基體，其進而具備形成於上述低反射膜上且具有2nm以上且20nm以下之膜厚之防污膜。
  8. 如請求項1或2之附有低反射膜之基體，其中上述低反射膜分別具有至少1層之包含氧化鈮或氮化矽之層、及至少1層之包含氧化矽之層。
  9. 如請求項1或2之附有低反射膜之基體，其中上述透明基體為玻璃基板。
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