WO2019031325A1 - 反射防止フィルム - Google Patents

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金谷　実
智剛 梨木
佳史 高見
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日東電工株式会社
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    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements

Definitions

  • the present invention relates to an antireflective film.
  • an antireflective film disposed on the surface of the display screen is widely used.
  • the antireflective film for example, a multilayer film having a plurality of layers having different refractive indexes is known. It is known that high antireflection performance (low reflectance in a wide band) can be obtained by using such a multilayer film.
  • the antireflection performance of the antireflection film is generally evaluated by the luminous reflectance Y (%), and the lower the luminous reflectance, the better the antireflection performance.
  • luminous reflectance Y %
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and the object of the present invention is to provide an excellent reflection property (low reflectivity) in a wide band and a colored anti-reflection film To provide.
  • the antireflection film of the present invention includes a transparent substrate, in order from the transparent substrate, the adhesion layer and a first Nb 2 O 5 layer, a first SiO 2 layer and the second, the second Nb 2 It has an O 5 layer and a second SiO 2 layer in this order, the optical thickness of the first Nb 2 O 5 layer is 28 nm to 33 nm, and the optical thickness of the first SiO 2 layer is 46 nm.
  • the optical film thickness of the second Nb 2 O 5 layer is 262 nm to 286 nm, and the optical film thickness of the second SiO 2 layer is 122 nm to 135 nm.
  • the antireflection film has a maximum reflectance of 0.5% or less in a wavelength range of 420 nm to 660 nm.
  • the transparent substrate includes a hard coat layer.
  • the antireflective film further includes an antifouling layer on the surface of the second SiO 2 layer opposite to the second Nb 2 O 5 layer.
  • the above-mentioned antireflection film further comprises an optical film on the side of the above-mentioned transparent substrate opposite to the above-mentioned adhesion layer.
  • an image display device is provided. This image display apparatus is provided with the above-mentioned antireflection film.
  • the present invention by appropriately adjusting the optical film thickness of the plurality of Nb 2 O 5 layers and the SiO 2 layer, it has excellent reflection characteristics (low reflectivity) in a wide band and is colored.
  • a suppressed antireflective film can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an antireflective film according to one embodiment of the present invention. It is a reflectance spectrum of the anti-reflective film obtained by the Example and the comparative example.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an antireflective film according to one embodiment of the present invention.
  • the antireflective film 100 includes, in order from the transparent substrate 10, the transparent substrate 10, the adhesion layer 20, the first Nb 2 O 5 layer 30, the first SiO 2 layer 40, and the second Nb 2
  • the O 5 layer 50 and the second SiO 2 layer 60 are provided in this order.
  • reduced scales, such as thickness in drawing differ from the actual.
  • the optical film thickness (refractive index ⁇ physical film thickness) of the first Nb 2 O 5 layer is 28 nm to 33 nm.
  • the optical thickness of the first SiO 2 layer is 46 nm to 59 nm.
  • the optical thickness of the second Nb 2 O 5 layer is 262 nm to 286 nm.
  • the optical thickness of the second SiO 2 layer is 122 nm to 135 nm.
  • an antireflective film having excellent reflection properties (low reflectivity) can be obtained.
  • an antireflection film having a neutral reflection hue can be obtained.
  • an antireflection film having a specific range it is possible to obtain an antireflection film that exhibits low reflectance even for incident light of short wavelength and long wavelength. It is one of the achievements of the present invention that the excellent reflection characteristics (low reflection) in a wide band and the neutral reflection hue can be compatible.
  • the maximum value of the reflectance in the wavelength range of 420 nm to 660 nm of the antireflection film is 0.5% or less, preferably 0.4% or less, and more preferably 0.3% or less.
  • the lower the “maximum value of the reflectance in the wavelength range of 420 nm to 660 nm” is preferably as low as possible, but the lower limit thereof is, for example, 0.1% (preferably 0.05%).
  • the reflectance means the luminous reflectance Y. The measuring method will be described later.
  • the antireflective film may further comprise any other appropriate layer, film.
  • an antifouling layer may be disposed on the side of the second SiO 2 layer opposite to the second Nb 2 O 5 layer.
  • the antifouling layer is preferably provided on the outermost side of the antireflective film.
  • an optical film may be disposed on the side of the transparent substrate opposite to the adhesion layer.
  • an image display comprising the above antireflective film is provided. It does not specifically limit as an image display apparatus, For example, CRT, a liquid crystal display device, a plasma display etc. are mentioned.
  • the antireflection film is provided on the outermost side on the viewing side.
  • the transparent substrate may be made of any suitable resin film as long as the effects of the present invention can be obtained.
  • the resin constituting the resin film include polyolefin resin (for example, polyethylene, polypropylene), polyester resin (for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), polyamide resin (for example, nylon-6, nylon-66) ), Polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyimide resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol resin, (meth) acrylic resin, (meth) acrylonitrile resin, cellulose resin (for example, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellophane) It can be mentioned.
  • the transparent substrate may be a single layer, may be a laminate of a plurality of resin films, or may be a laminate of a resin film (single layer or laminate) and the following hard coat layer .
  • the transparent substrate (substantially, the composition for forming the transparent substrate) may contain any suitable additive. Specific examples of the additive include an antistatic agent, an ultraviolet light absorber, a plasticizer, a lubricant, a coloring agent, an antioxidant, and a flame retardant.
  • the material which comprises a transparent base material is well-known in this industry, detailed description is abbreviate
  • omitted since the material which comprises a transparent base material is well-known in this industry, detailed description is abbreviate
  • the transparent substrate can function as a hard coat layer in one embodiment. That is, as described above, the transparent substrate may be a laminate of a resin film (single layer or laminate) and a hard coat layer described below, and the hard coat layer alone constitutes the transparent substrate. May be When a transparent base material is comprised by the laminated body of a resin film and a hard-coat layer, a hard-coat layer may be arrange
  • the hard coat layer is a cured layer of any suitable ionizing radiation curable resin. Examples of ionizing radiation include ultraviolet light, visible light, infrared light, and electron beams. Preferably it is ultraviolet light, and thus the ionizing radiation curable resin is preferably a UV curable resin.
  • the ultraviolet curable resin examples include (meth) acrylic resins, silicone resins, polyester resins, urethane resins, amide resins, epoxy resins and the like.
  • (meth) acrylic resin a cured product (polymer) in which a polyfunctional monomer containing a (meth) acryloyloxy group is cured by ultraviolet light can be mentioned.
  • the polyfunctional monomers may be used alone or in combination of two or more. Any suitable photoinitiator may be added to the multifunctional monomer.
  • the material which comprises a hard-coat layer is well-known in this industry, detailed description is abbreviate
  • omitted since the material which comprises a hard-coat layer is well-known in this industry, detailed description is abbreviate
  • any suitable inorganic or organic fine particles can be dispersed in the hard coat layer.
  • the particle size of the fine particles is, for example, 0.01 ⁇ m to 3 ⁇ m.
  • the uneven shape can be formed on the surface of the hard coat layer.
  • a light diffusion function generally called antiglare.
  • silicon oxide (SiO 2 ) may be suitably used from the viewpoints of refractive index, stability, heat resistance and the like.
  • the hard coat layer may contain any suitable additive. Specific examples of the additive include leveling agents, fillers, dispersants, plasticizers, UV absorbers, surfactants, antioxidants, and thixotropic agents.
  • the hard coat layer preferably has a hardness of H or more, more preferably 3H or more in a pencil hardness test.
  • the pencil hardness test can be measured according to JIS K 5400.
  • the thickness of the transparent substrate can be appropriately set in accordance with the purpose, the configuration of the transparent substrate, and the like.
  • the thickness is, for example, 10 ⁇ m to 200 ⁇ m.
  • the transparent substrate contains a hard coat layer or is constituted by a hard coat layer alone, the thickness of the hard coat layer is, for example, 1 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the light transmittance of the transparent substrate is preferably 60% to 99%, more preferably 80% to 99%.
  • the refractive index of the transparent substrate is preferably 1.45 to 1.65, more preferably 1.50 to 1 It is .60.
  • “refractive index” refers to a refractive index measured based on JIS K 7105 at a temperature of 25 ° C. and a wavelength ⁇ of 580 nm, unless otherwise specified.
  • the adhesion layer is a layer that can be provided to enhance the adhesion between adjacent layers (for example, the transparent substrate and the first Nb 2 O 5 layer).
  • the adhesion layer may be made of, for example, silicon.
  • the thickness of the adhesion layer is, for example, 2 nm to 5 nm.
  • the adhesion layer is not only between the transparent substrate and the first Nb 2 O 5 layer, but also between the first Nb 2 O 5 layer and the first SiO 2 layer, the first SiO 2 layer and the second between Nb 2 O 5 layer, it may be formed anywhere between the second Nb 2 O 5 layer second SiO 2 layer.
  • the adhesion layer is typically formed by a dry process.
  • the dry process include a PVD (Physical Vapor Deposition) method and a CVD (Chemical Vapor Deposition) method.
  • PVD Physical Vapor Deposition
  • CVD Chemical Vapor Deposition
  • a PVD method a vacuum evaporation method, a reactive evaporation method, an ion beam assist method, a sputtering method, an ion plating method may be mentioned.
  • CVD method plasma CVD method is mentioned. In the case of performing in-line processing, sputtering may be suitably used.
  • the first Nb 2 O 5 layer is composed of Nb 2 O 5 (refractive index: 2.34).
  • the refractive index of the first Nb 2 O 5 layer (and the following first SiO 2 layer, second Nb 2 O 5 layer and second SiO 2 layer) is set to an appropriate value. Not only that, by specifying the material that constitutes the layer, it is possible to obtain an antireflective film in which the reflective hue is neutral.
  • the first Nb 2 O 5 layer (as well as the following first SiO 2 layer, second Nb 2 O 5 layer and second SiO 2 layer) can be formed by a so-called dry process.
  • the dry process include a PVD (Physical Vapor Deposition) method and a CVD (Chemical Vapor Deposition) method.
  • PVD Physical Vapor Deposition
  • CVD Chemical Vapor Deposition
  • a PVD method a vacuum evaporation method, a reactive evaporation method, an ion beam assist method, a sputtering method, an ion plating method may be mentioned.
  • a CVD method plasma CVD method is mentioned.
  • a sputtering method may be suitably used. By using the sputtering method, it is possible to reduce the variation in the reflection color tone.
  • the optical film thickness of the first Nb 2 O 5 layer is 28 nm to 33 nm.
  • the optical thickness of the first Nb 2 O 5 layer is preferably 28 nm to 32 nm, more preferably 28 nm to 30 nm. Within such a range, an antireflective film having a neutral reflection hue can be obtained.
  • the ratio of the optical thickness of the first Nb 2 O 5 layer to the optical thickness of the first SiO 2 layer is preferably 1.4 to 2.1, more preferably 1.7 to 2.1. is there. Within such a range, it is possible to obtain an antireflective film having excellent reflection characteristics and having a neutral reflection hue.
  • the thickness of the first Nb 2 O 5 layer is preferably 12.0 nm to 14.1 nm, more preferably 12.0 nm to 13.7 nm, and still more preferably 12.0 nm to 12.8 nm.
  • the first SiO 2 layer is composed of SiO 2 (refractive index: 1.46).
  • the optical film thickness of the first SiO 2 layer is 46 nm to 59 nm. Within such a range, an antireflective film having a neutral reflection hue can be obtained.
  • the ratio of the optical thickness of the first SiO 2 layer to the optical thickness of the second Nb 2 O 5 layer is preferably 4.8 to 6.2, more preferably 4.8 to 5.6. is there. Within such a range, it is possible to obtain an antireflective film having excellent reflection characteristics and having a neutral reflection hue.
  • the thickness of the first SiO 2 layer is preferably 31.5 nm to 40.4 nm.
  • the second Nb 2 O 5 layer is composed of Nb 2 O 5 (refractive index: 2.34).
  • the optical thickness of the second Nb 2 O 5 layer is 262 nm to 286 nm. Within such a range, an antireflective film having a neutral reflection hue can be obtained.
  • the ratio of the optical thickness of the second Nb 2 O 5 layer to the optical thickness of the second SiO 2 layer is preferably 0.43 to 0.51, and more preferably 0.44 to 0.48. is there. Within such a range, it is possible to obtain an antireflective film having excellent reflection characteristics and having a neutral reflection hue.
  • the thickness of the second Nb 2 O 5 layer is preferably 112.0 nm to 122.2 nm.
  • the second SiO 2 layer is composed of SiO 2 (refractive index: 1.46).
  • the optical film thickness of the second SiO 2 layer is 122 nm to 135 nm. Within such a range, an antireflective film having a neutral reflection hue can be obtained.
  • the thickness of the first SiO 2 layer is preferably 83.6 nm to 92.5 nm.
  • An antifouling layer provided as necessary is a layer capable of imparting water repellency, oil repellency, sweat resistance, antifouling properties, etc. to the surface of the antireflective film.
  • a fluorine-containing organic compound is used, for example.
  • the fluorine-containing organic compound may, for example, be a fluorocarbon, a perfluorosilane, or a polymer compound of these.
  • a method of forming the antifouling layer physical vapor deposition methods such as vapor deposition and sputtering, chemical vapor deposition methods, wet coating methods and the like can be used according to the material to be formed.
  • the thickness of the antifouling layer is preferably 1 nm to 50 nm, more preferably 3 nm to 35 nm.
  • optical film As an optical film provided as needed, a polarizing plate, retardation film, a brightness improving film, a diffusion film, a conductive film etc. are mentioned.
  • the optical film may be laminated to the transparent substrate via any suitable adhesive or adhesive.
  • ⁇ Evaluation method> (1) Physical Thickness The thickness of each layer was measured by TEM cross-sectional observation. (2) Refractive Index The refractive index of each layer was measured by a spectroscopic ellipsometer using samples for evaluation corresponding to each layer. (3) Optical Film Thickness The optical film thickness was calculated by multiplying the physical thickness by the refractive index. (4) Reflection characteristic E A light-shielding black acrylic plate was bonded to the transparent substrate side of the antireflective film through a pressure-sensitive adhesive to prepare a sample for evaluation.
  • the values of luminous reflectance Y, reflection L, reflection hue a * , and reflection hue b * of the reflection preventing surface are measured at 5 ° specular reflection (wavelength: 380 nm to 780 nm) using a spectrophotometer “U4100” manufactured by Hitachi, Ltd.
  • the measurement was carried out under the conditions of The E value was calculated by the following equation.
  • the E value is an index for evaluating the tint, and the lower the E value is, the closer the reflection hue is to neutral.
  • the spectrum of the reflectance acquired by the said evaluation is shown in FIG.
  • Example 1 (Creating a transparent substrate) 100 parts by weight of urethane acrylate resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., trade name “UNIDIC V4025", refractive index 1.52), nano silica particles as inorganic particles (trade name: MEK-ST-L, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) “The average particle diameter of 50 nm) was mixed with 50 parts by weight, and 5 parts by weight of“ Irgacure 184 ”(trade name) manufactured by BASF as a UV initiator.
  • urethane acrylate resin manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., trade name “UNIDIC V4025”, refractive index 1.52
  • nano silica particles as inorganic particles trade name: MEK-ST-L, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • the composition for forming a hard coat layer was coated on one surface of a resin film (TAC: manufactured by Fuji Film, trade name "TD80UL") to a dry thickness of 5 ⁇ m, and dried at 80 ° C for 2 minutes. Thereafter, using a high pressure mercury lamp, ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 of integrated light quantity were irradiated to cure the coated layer, and a hard coat layer was formed on the resin film.
  • TAC manufactured by Fuji Film, trade name "TD80UL”
  • a Si sputtering target was set in a magnetron sputtering apparatus, reactive sputtering was performed, and an adhesion layer (5 nm in thickness) composed of a SiOx layer was formed on the hard coat layer.
  • an Nb target was set in a magnetron sputtering apparatus, and reactive sputtering was performed to form a first Nb 2 O 5 layer (thickness 12 nm, refractive index 2.34) on the adhesion layer.
  • a Si target was set in a magnetron sputtering apparatus, reactive sputtering was performed, and a first SiO 2 layer (40 nm in thickness, refractive index 1.46) was formed on the first Nb 2 O 5 layer.
  • a second Nb 2 O 5 layer 120 nm in thickness, refractive index 2.34) is formed on the first SiO 2 layer by the same method as the first Nb 2 O 5 layer formation method. did.
  • a second SiO 2 layer (thickness: 84 nm, refractive index 1.46) was formed on the second Nb 2 O 5 layer by the same method as the method of forming the first SiO 2 layer.
  • Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 The same as Example 1 except that the thicknesses of the first Nb 2 O 5 layer, the first SiO 2 layer, the second Nb 2 O 5 layer, and the second SiO 2 layer are as shown in Table 1. To obtain an antireflective film. The obtained antireflective film was subjected to the above evaluation. The results are shown in Table 1.
  • Comparative Example 5 In the same manner as in Example 1, a transparent substrate was produced, and an adhesive layer was formed on the transparent substrate. Next, a Zr target was set in a magnetron sputtering apparatus, and reactive sputtering was performed to form a first ZrO 2 layer (13 nm in thickness, refractive index 2.22) on the adhesion layer. Next, an MgF 2 target was set in a magnetron sputtering apparatus, and sputtering was performed to form a first MgF 2 layer (34 nm in thickness, refractive index 1.38) on the first ZrO 2 layer.
  • a second ZrO 2 layer (thickness 118 nm, refractive index 2.22) was formed on the first MgF 2 layer by the same method as the method of forming the first ZrO 2 layer. Furthermore, a second MgF 2 layer (thickness 91 nm, refractive index 1.38) is formed on the second ZrO 2 layer by the same method as the method for forming the first MgF 2 layer, and an antireflection film is obtained. Obtained. The obtained antireflective film was subjected to the above evaluation. The results are shown in Table 1.
  • the antireflection film of the present invention has low reflection characteristics by providing a plurality of layers composed of specific inorganic substances and controlling the optical film thickness of each layer to a specific value.
  • the reflection hue is neutral.
  • the antireflective film of the present invention has excellent reflection characteristics in a wide band (specifically, the maximum value of reflectance in the wavelength range of 420 nm to 660 nm is 0.5% or less). Have.
  • the antireflective film of the present invention can be suitably used to prevent the reflection of external light in image display devices such as CRTs, liquid crystal display devices, plasma display panels and the like.

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Abstract

広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供する。 本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と第２と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層とをこの順に有し、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ～３３ｎｍであり、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４６ｎｍ～５９ｎｍであり、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６２ｎｍ～２８６ｎｍであり、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚が、１２２ｎｍ～１３５ｎｍである。

Description

反射防止フィルム
　本発明は、反射防止フィルムに関する。
　従来より、ＣＲＴ、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネルなどのディスプレイ画面への外光の映り込みを防止するため、ディスプレイ画面の表面に配置される反射防止フィルムが広く用いられている。反射防止フィルムとしては、例えば、屈折率が異なる複数の層を有する多層フィルムが知られている。このような多層フィルムを用いることにより高い反射防止性能（広帯域において低い反射率）を得ることができることが知られている。反射防止フィルムの反射防止性能は一般的には視感反射率Ｙ（％）で評価され、当該視感反射率が低いほど反射防止性能が優れている。しかし、視感反射率を低くしようとすると、反射色相が色付きやすいという問題がある。
特開平１１－２０４０６５号公報 特許５２４９０５４号
　本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することにある。
　本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と第２と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層とをこの順に有し、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ～３３ｎｍであり、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４６ｎｍ～５９ｎｍであり、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６２ｎｍ～２８６ｎｍであり、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚が、１２２ｎｍ～１３５ｎｍである。
　１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムは、波長４２０ｎｍ～６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値が、０．５％以下である。
　１つの実施形態においては、上記透明基材が、ハードコート層を含む。
　１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムは、上記第２のＳｉＯ２層の第２のＮｂ２Ｏ５層とは反対側の面に、防汚層をさらに備える。
　１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムは、上記透明基材の前記密着層とは反対側の面に、光学フィルムをさらに備える。
　本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記反射防止フィルムを備える。
　本発明によれば、複数配置されたＮｂ２Ｏ５層、ＳｉＯ２層の光学膜厚を適切に調整することにより、広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することができる。
本発明の１つの実施形態による反射防止フィルムの概略断面図である。 実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの反射率スペクトルである。
Ａ．反射防止フィルムの概要
　図１は、本発明の１つの実施形態による反射防止フィルムの概略断面図である。この反射防止フィルム１００は、透明基材１０と、透明基材１０から順に、密着層２０と、第１のＮｂ２Ｏ５層３０と、第１のＳｉＯ２層４０と、第２のＮｂ２Ｏ５層５０と、第２のＳｉＯ２層６０とをこの順に有する。なお、図１について、見やすくするために、図面における厚み等の縮尺は実際とは異なっている。
　本発明において、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚（屈折率×物理膜厚）は、２８ｎｍ～３３ｎｍである。また、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚は、４６ｎｍ～５９ｎｍである。また、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、２６２ｎｍ～２８６ｎｍである。また、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚は、１２２ｎｍ～１３５ｎｍである。
　本発明においては、第１のＮｂ２Ｏ５層３０と、第１のＳｉＯ２層４０と、第２のＮｂ２Ｏ５層５０と、第２のＳｉＯ２層６０とをこの順に積層することにより、優れた反射特性（低反射性）を有する反射防止フィルムを得ることができる。さらに、上記のように各層の光学膜厚を特定の範囲に調整することにより、ニュートラルな反射色相を有する反射防止フィルムとすることができる。また、各層の光学膜厚を特定の範囲に調整することにより、短波長、長波長の入射光に対しても低い反射率を示す反射防止フィルムとすることができる。広帯域において優れた反射特性（低反射性）と、ニュートラルな反射色相とを両立し得たことは、本発明の成果のひとつである。
　上記反射防止フィルムの波長４２０ｎｍ～６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値は、０．５％以下であり、好ましくは０．４％以下であり、さらに好ましくは０．３％以下である。「波長４２０ｎｍ～６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値」は低いほど好ましいが、その下限は、例えば、０．１％（好ましくは、０．０５％）である。なお、本明細書において、反射率とは、視感反射率Ｙを意味する。測定方法は、後述する。
　図示していないが、上記反射防止フィルムは、任意の適切なその他の層、フィルムをさらに備え得る。例えば、第２のＳｉＯ２層の第２のＮｂ２Ｏ５層とは反対側の面に、防汚層が配置され得る。防汚層は、反射防止フィルムの最外側に設けられることが好ましい。また、１つの実施形態においては、透明基材の密着層とは反対側の面に、光学フィルムが配置され得る。
　１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムを備える画像表示装置が提供される。画像表示装置としては、特に限定されず、例えば、ＣＲＴ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ等が挙げられる。１つの実施形態においては、上記画像表示装置において、反射防止フィルムは、視認側最外側に設けられる。
Ｂ．透明基材
　上記透明基材は、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。樹脂フィルムを構成する樹脂の具体例としては、ポリオレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン）、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリアミド系樹脂（例えば、ナイロン－６、ナイロン－６６）、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリロニトリル樹脂、セルロース系樹脂（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン）が挙げられる。透明基材は、単一層であってもよく、複数の樹脂フィルムの積層体であってもよく、樹脂フィルム（単一層または積層体）と下記のハードコート層との積層体であってもよい。透明基材（実質的には、透明基材を形成するための組成物）は、任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤の具体例としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤が挙げられる。なお、透明基材を構成する材料は当業界において周知であるので、詳細な説明は省略する。
　透明基材は、１つの実施形態においては、ハードコート層として機能し得る。すなわち、透明基材は、上記のとおり、樹脂フィルム（単一層または積層体）と以下に説明するハードコート層との積層体であってもよく、当該ハードコート層単独で透明基材を構成してもよい。透明基材が樹脂フィルムとハードコート層との積層体で構成される場合、ハードコート層は上記密着層に隣接して配置され得る。１つの実施形態においては、ハードコート層は、任意の適切な電離線硬化型樹脂の硬化層である。電離線としては、例えば、紫外線、可視光、赤外線、電子線が挙げられる。好ましくは紫外線であり、したがって、電離線硬化型樹脂は好ましくは紫外線硬化型樹脂である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。例えば、（メタ）アクリル系樹脂の代表例としては、（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーが紫外線により硬化した硬化物（重合物）が挙げられる。多官能性モノマーは単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。多官能性モノマーには、任意の適切な光重合開始剤が添加され得る。なお、ハードコート層を構成する材料は当業界において周知であるので、詳細な説明は省略する。
　ハードコート層には、任意の適切な無機または有機微粒子を分散させることができる。微粒子の粒径は、例えば０．０１μｍ～３μｍである。あるいは、ハードコート層の表面に凹凸形状を形成することができる。このような構成を採用することにより、一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性機能を付与することができる。ハードコート層に分散させる微粒子としては、屈折率、安定性、耐熱性等の観点から、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）が好適に用いられ得る。さらに、ハードコート層（実質的には、ハードコート層を形成するための組成物）は、任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤の具体例としては、レベリング剤、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤が挙げられる。
　ハードコート層は、鉛筆硬度試験で好ましくはＨ以上、より好ましくは３Ｈ以上の硬度を有する。鉛筆硬度試験は、ＪＩＳ　Ｋ　５４００に準じて測定され得る。
　透明基材の厚みは、目的、透明基材の構成等に応じて適切に設定され得る。透明基材が樹脂フィルムの単一層または積層体として構成される場合には、厚みは、例えば１０μｍ～２００μｍである。透明基材がハードコート層を含む場合またはハードコート層単独で構成される場合には、ハードコート層の厚みは、例えば１μｍ～５０μｍである。
　透明基材の光透過率は、好ましくは６０％～９９％であり、より好ましくは８０％～９９％である。
　透明基材の屈折率（透明基材が積層構造を有する場合には密着層に隣接する層の屈折率）は、好ましくは１．４５～１．６５であり、より好ましくは１．５０～１．６０である。なお、本明細書において「屈折率」は、特に言及しない限り、温度２５℃、波長λ＝５８０ｎｍにおけるＪＩＳ　Ｋ　７１０５に基づいて測定した屈折率をいう。
Ｃ．密着層
　上記密着層は、隣接する層間（例えば、透明基材と第１のＮｂ２Ｏ５層）の密着性を高めるために設けられ得る層である。密着層は、例えばケイ素（シリコン）で構成され得る。密着層の厚みは、例えば２ｎｍ～５ｎｍである。
　密着層は、透明基材と第１のＮｂ２Ｏ５層との間の他、第１のＮｂ２Ｏ５層と第１のＳｉＯ２層との間、第１のＳｉＯ２層と第２のＮｂ２Ｏ５層との間、第２のＮｂ２Ｏ５層第２のＳｉＯ２層との間のいずれかに形成されていてもよい。
　密着層は、代表的にはドライプロセスにより形成される。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。インライン処理を行う場合には、スパッタリング法が好適に用いられ得る。
Ｄ．第１のＮｂ ２ Ｏ ５ 層
　上記第１のＮｂ２Ｏ５層は、Ｎｂ２Ｏ５（屈折率：２．３４）から構成される。本発明においては、第１のＮｂ２Ｏ５層（ならびに、下記第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層および第２のＳｉＯ２層）について、屈折率を適切な値とすることのみならず、層を構成する材料を特定することにより、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第１のＮｂ２Ｏ５層（ならびに、下記第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層および第２のＳｉＯ２層）は、いわゆるドライプロセスにより形成され得る。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。１つの実施形態においては、スパッタリング法が好適に用いられ得る。スパッタリング法を用いれば、反射色味のバラツキを低減することができる。
　上記のとおり、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、２８ｎｍ～３３ｎｍである。第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、好ましくは２８ｎｍ～３２ｎｍであり、より好ましくは２８ｎｍ～３０ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚の第１のＳｉＯ２層の光学膜厚に対する比は、好ましくは１．４～２．１であり、より好ましくは１．７～２．１である。このような範囲であれば、反射特性に優れ、かつ、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第１のＮｂ２Ｏ５層の厚みは、好ましくは１２．０ｎｍ～１４．１ｎｍであり、より好ましくは１２．０ｎｍ～１３．７ｎｍであり、さらに好ましくは１２．０ｎｍ～１２．８ｎｍである。
Ｅ．第１のＳｉＯ ２ 層
　上記第１のＳｉＯ２層は、ＳｉＯ２（屈折率：１．４６）から構成される。
　上記のとおり、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚は、４６ｎｍ～５９ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第１のＳｉＯ２層の光学膜厚の第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚に対する比は、好ましくは４．８～６．２であり、より好ましくは４．８～５．６である。このような範囲であれば、反射特性に優れ、かつ、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第１のＳｉＯ２層の厚みは、好ましくは３１．５ｎｍ～４０．４ｎｍである。
Ｆ．第２のＮｂ ２ Ｏ ５ 層
　上記第２のＮｂ２Ｏ５層は、Ｎｂ２Ｏ５（屈折率：２．３４）から構成される。
　上記のとおり、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、２６２ｎｍ～２８６ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚の第２のＳｉＯ２層の光学膜厚に対する比は、好ましくは０．４３～０．５１であり、より好ましくは０．４４～０．４８である。このような範囲であれば、反射特性に優れ、かつ、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第２のＮｂ２Ｏ５層の厚みは、好ましくは１１２．０ｎｍ～１２２．２ｎｍである。
Ｇ．第２のＳｉＯ ２ 層
　上記第２のＳｉＯ２層は、ＳｉＯ２（屈折率：１．４６）から構成される。
　上記のとおり、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚は、１２２ｎｍ～１３５ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
　第１のＳｉＯ２層の厚みは、好ましくは８３．６ｎｍ～９２．５ｎｍである。
Ｈ．防汚層
　必要に応じて設けられる防汚層は、反射防止フィルムの表面に撥水性、撥油性、耐汗性、防汚性などを付与し得る層である。防汚層を構成する材料としては、例えば、フッ素含有有機化合物が用いられる。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物などが挙げられる。また、防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の厚さは、好ましくは１ｎｍ～５０ｎｍであり、より好ましくは３ｎｍ～３５ｎｍである。
Ｉ．光学フィルム
　必要に応じて設けられる光学フィルムとしては、偏光板、位相差フィルム、輝度向上フィルム、拡散フィルム、導電性フィルム等が挙げられる。光学フィルムは、任意の適切な粘着剤または接着剤を介して透明基材に積層され得る。
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例には限定されない。実施例における試験および評価方法は以下のとおりである。また、特に明記しない限り、実施例における「％」は重量基準である。
＜評価方法＞
（１）物理厚み
　各層の厚みを、ＴＥＭ断面観察により、測定した。
（２）屈折率
　各層に応じた評価用サンプルを用い、分光エリプソメーターにより各層の屈折率を測定した。
（３）光学膜厚
　物理厚みと屈折率とを乗算することで光学膜厚を算出した。
（４）反射特性Ｅ
　反射防止フィルムの透明基材側に、粘着剤を介して、遮光性の黒色アクリル板を貼り合せて評価用サンプルを作製した。
　次いで、反射防止面の視感反射率Ｙ、反射Ｌ、反射色相ａ＊、反射色相ｂ＊の値を日立製作所製分光光度計「Ｕ４１００」を用いて、５°正反射（波長：３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の条件で測定を実施した。
　Ｅ値を、下記式にて算出した。Ｅ値は、色味を評価するための指標であり、Ｅ値が低いほど反射色相がニュートラルに近くなることを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 　なお、上記評価で取得した反射率のスペクトルを図２に示す。
［実施例１］
（透明基材の作成）
　ウレタンアクリレート樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名「ＵＮＩＤＩＣ　Ｖ４０２５」、屈折率１．５２）１００重量部と、無機粒子としてナノシリカ粒子（日産化学工業社製、商品名「ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ」、平均粒子径５０ｎｍ）が５０重量部と、ＵＶ開始剤としてＢＡＳＦ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」５重量部とを混合した。次いで、希釈溶剤としてＭＥＫとＰＧＭの混合溶液を上記溶液に加え溶剤比率がＭＥＫ／ＰＧＭ＝４０／６０になるように調整し、ハードコート層形成用組成物を得た。
　該ハードコート層形成用組成物を、樹脂フィルム（ＴＡＣ：富士フィルム社製、商品名「ＴＤ８０ＵＬ」）の片面に乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布し、８０℃２分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、塗布層を硬化させ樹脂フィルム上にハードコート層を形成した。
（無機層の形成）
　Ｓｉスパッタリングターゲットを、マグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリングを行い、上記ハードコート層上にＳｉＯｘ層から構成される密着層（厚み５ｎｍ）を形成した。
　次いで、Ｎｂターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリングを行い、上記密着層上に、第１のＮｂ２Ｏ５層（厚み１２ｎｍ、屈折率２．３４）を形成した。
　次いで、Ｓｉターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリングを行い、第１のＮｂ２Ｏ５層上に、第１のＳｉＯ２層（厚み４０ｎｍ、屈折率１．４６）を形成した。
　次いで、上記第１のＳｉＯ２層上に、第１のＮｂ２Ｏ５層の形成方法と同様の方法にて、第２のＮｂ２Ｏ５層（厚み１２０ｎｍ、屈折率２．３４）を形成した。さらに、第２のＮｂ２Ｏ５層上に、第１のＳｉＯ２層の形成方法と同様の方法にて第２のＳｉＯ２層（厚み：８４ｎｍ、屈折率１．４６）を形成した。このようにして、透明基材（樹脂フィルム／ハードコート層）／密着層（ＳｉＯｘ層）／第１のＮｂ２Ｏ５層／第１のＳｉＯ２層／第２のＮｂ２Ｏ５層／第２のＳｉＯ２層）の反射防止フィルムを得た。得られた反射防止フィルムを上記評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例２～４、比較例１～４］
　第1のＮｂ２Ｏ５層、第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層、第２のＳｉＯ２層の厚みを表１に示す厚みとしたこと以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。得られた反射防止フィルムを上記評価に供した。結果を表１に示す。
［比較例５］
　実施例１と同様にして、透明基材を作製し、該透明基材上に密着層を形成した。
　次いで、Ｚｒターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリングを行い、上記密着層上に、第１のＺｒＯ２層（厚み１３ｎｍ、屈折率２．２２）を形成した。
　次いで、ＭｇＦ２ターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、スパッタリングを行い、上記第１のＺｒＯ２層上に、第１のＭｇＦ２層（厚み３４ｎｍ、屈折率１．３８）を形成した。
　次いで、上記第１のＭｇＦ２層上に、第１のＺｒＯ２層の形成方法と同様の方法にて、第２のＺｒＯ２層（厚み１１８ｎｍ、屈折率２．２２）を形成した。さらに、第２のＺｒＯ２層上に、第１のＭｇＦ２層の形成方法と同様の方法にて第２のＭｇＦ２層（厚み９１ｎｍ、屈折率１．３８）を形成し、反射防止フィルムを得た。
　得られた反射防止フィルムを上記評価に供した。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１から明らかなように、本発明の反射防止フィルムは、特定の無機物から構成された層を複数層設け、各層の光学膜厚を特定の値に制御することにより、低反射特性を有しながらも、反射色相がニュートラルである。また、図２から明らかなように、本発明の反射防止フィルムは、広帯域において優れた反射特性（具体的には、波長４２０ｎｍ～６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値が０．５％以下）を有する。
　本発明の反射防止フィルムは、ＣＲＴ、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネルなどの画像表示装置における外光の映り込み防止に好適に利用することができる。
　１０　　透明基材
　２０　　密着層
　３０　　第１のＮｂ２Ｏ５層
　４０　　第１のＳｉＯ２層
　５０　　第２のＮｂ２Ｏ５層
　６０　　第２のＳｉＯ２層
１００　　反射防止フィルム

Claims (6)

  1. 　透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と第２と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層とをこの順に有し、
    　第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ～３３ｎｍであり、
    　第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４６ｎｍ～５９ｎｍであり、
    　第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６２ｎｍ～２８６ｎｍであり、
    　第２のＳｉＯ２層の光学膜厚が、１２２ｎｍ～１３５ｎｍである、
    　反射防止フィルム。
  2. 　波長４２０ｎｍ～６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値が、０．５％以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  3. 　前記透明基材が、ハードコート層を含む、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
  4. 　前記第２のＳｉＯ２層の第２のＮｂ２Ｏ５層とは反対側の面に、防汚層をさらに備える、請求項１から３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  5. 　前記透明基材の前記密着層とは反対側の面に、光学フィルムをさらに備える、請求項１から４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  6. 　請求項１から５のいずれかに記載の反射防止フィルムを備える、画像表示装置。
     
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