JP2009086329A - 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】優れたギラツキ防止性と鮮明性を画像表示装置に付与し得る光学積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材及び防眩層を有する光学積層体であって、上記防眩層は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３である有機粒子を含む光学積層体。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置の最表面には、反射防止性能等の各種機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。

そのような機能層の一つとして、光の散乱や干渉による像の写り込みを抑制したり、反射率を低減したり、ギラツキを防止したりするための防眩層が知られている。上記防眩層の形成方法としては、防眩剤として粒子を添加した樹脂組成物を使用して表面に凹凸形状を有する層を形成する方法が従来より知られている。

特許文献１には、微粒子を使用して表面に凹凸形状を形成する方法が開示されている。しかしながら、防眩剤としてシリカ粒子等を使用した防眩層を有する光学積層体を画像表示装置に設置した場合、表示画面の反射防止性やギラツキ防止性は改善されるものの、画像の鮮明性は不充分であった。

このように、従来の光学積層体においては、画像表示装置に設置した場合のギラツキ防止性と鮮明性とを両立することは困難であり、鮮明性の高いタイプ又は反射防止性やギラツキ防止性の高いタイプ等の各性能に特化した形で製造するか、高性能ではないものの両特性のバランスをとった形で製造する方法がとられていた。
しかし、近年の画像表示装置において要求される表示性能の高度化に伴い、鮮明性とギラツキ防止等の両性能に優れる画像表示装置とすることができる光学積層体が求められていた。
特開２００１−２８１４０２号公報

本発明は、上記現状に鑑みて、優れたギラツキ防止性と鮮明性を画像表示装置に付与し得る光学積層体を提供することを目的とする。

本発明は、光透過性基材及び防眩層を有する光学積層体であって、上記防眩層は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３である有機粒子を含むことを特徴とする光学積層体である。
上記有機粒子は、ポリエチレン粒子であることが好ましい。
上記有機粒子は、扁平状であることが好ましい。
上記有機粒子は、平均粒径が１．０〜２０．０μｍであることが好ましい。
上記有機粒子は、厚さに対する直径の比の平均が２．０〜６．０であることが好ましい。
上記防眩層は、有機粒子を２〜１０質量％含むことが好ましい。

本発明はまた、光透過性基材上に防眩層形成用組成物を使用して防眩層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、上記防眩層形成用組成物は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３の有機粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
本発明はまた、最表面に上述の記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。

本発明は、光透過性基材及び防眩層を有する光学積層体であって、上記防眩層は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３である有機粒子を含むことを特徴とする。このため、本発明の光学積層体を画像表示装置に設置した場合、該画像表示装置は、表示画面のギラツキ防止性と画像の鮮明性とに優れたものとなる。これは以下に挙げる理由によると考えられる。

すなわち、本発明の光学積層体は、従来防眩剤として使用されていた粒子より密度の低い有機粒子を使用して表面に凹凸形状を形成した防眩層を有する。防眩剤として密度の低い有機粒子を使用して、防眩層を形成するための樹脂組成物を基材等上に塗布して被膜を形成した場合、上記有機粒子が被膜表面に浮遊することにより、被膜表面に所望の凹凸形状を容易に形成することができる。また、少量の添加で所望の凹凸形状を形成することができるので、ヘイズの低い防眩層を形成することができる。このようにして、本発明の光学積層体は、画像表示装置に優れたギラツキ防止性と鮮明性を付与することができると推察される。

本発明の光学積層体は、更に、上述したように所望の凹凸形状を容易に形成することができるものであるため、製造工程が簡便になり、製造コストを低減することができるものである。

本発明の光学積層体における防眩層は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３である有機粒子を含む。
０．８９ｇ／ｃｍ^３未満であると、電離放射線硬化型樹脂等他の成分との相分離を起こし、安定なインキ形成が困難となる恐れがある。１．０３ｇ／ｃｍ^３を超えると、基材上に形成した被膜中で粒子が浮遊することによる効率的な凹凸形成ができないおそれがある。 上記密度は、下限が０．９０ｇ／ｃｍ^３、上限が１．００ｇ／ｃｍ^３であることが好ましい。
なお、上記密度は、ＪＩＳ−Ｚ−８９０１に準拠した方法により測定することができる。

上記有機粒子としては、例えば、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子等を挙げることができる。なかでも、安価で、粒子成形が容易である点で、ポリエチレン粒子であることが好ましい。

上記有機粒子の形状は、特に限定されず、球状、中空状、扁平状等であってもよいが、なかでもギラツキ防止性能を向上させると共に鮮明性にも優れる点で、扁平状であることが好ましい。
なお、「扁平状」とは、球状粒子を押しつぶして扁平にした様態の形状等が含まれ、例えば、円板類似形状（例えば、楕円形、円形などの円板など）等を挙げることができる。なお、上記球状粒子とは、形状が球形又はほぼ球形である粒子をいう。
上記扁平状の有機粒子を使用すると、扁平粒子の湾曲面（得に端部）において、光を拡散反射して効果的に防眩性、ギラツキ防止性能を付与でき、また、扁平粒子の平坦面（特に中央部）において、光透過性を向上させることができ、従来困難であった、ギラツキ防止機能と、高鮮明性を同時に発現可能となる。

上記有機粒子は、平均粒径（＝度数分布の累積値が５０％となるときの粒径）が１．０〜２０．０μｍであることが好ましい。１．０μｍ未満であると、凹凸形状を形成した際、形状が緻密となりすぎ、白化してしまうおそれがある。２０．０μｍを超えると、凹凸形状を形成した際に、形状が平坦となり、防眩性の効果が薄れてしまうおそれがある。上記平均粒径は、１．５〜１５．０μｍであることがより好ましい。なお上記平均粒径は、粒度分布測定装置より測定して得られる値である。

上記有機粒子は、厚さに対する直径の比の平均が２．０〜６．０であることが好ましい。上記の厚さに対する直径の比の平均が２．０未満であると、形状が真球形状に近づき、本発明の求める、ギラツキ防止性能と透過鮮明性の両立が困難となるおそれがある。６．０を超えると、安定な分散性が確保できず、塗布膜形成が困難となるおそれがある。上記のの厚さに対する直径の比の平均は、２．５〜５．５であることがより好ましい。

上記防眩層は、上記密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３である有機粒子を２〜１０質量％含むことが好ましい。２質量％未満であると、ギラツキ防止性能が不充分となるおそれがある。１０質量％を超えると、鮮明性が低下するおそれがある。上記防眩層は、上記有機粒子を３〜９質量％含むことがより好ましい。

上記防眩層は、上記密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３である有機粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含む防眩層形成用組成物を使用して形成することができる。
上記防眩層形成用組成物は、バインダー樹脂を含む。
上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、上記樹脂は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた鮮明性を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。

上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

本発明の光学積層体において、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、上記光透過性基材との密着性を向上させることができる。更に、上述のセルロース系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。

上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

なかでも、上記バインダー樹脂としては、一定の強度を有する膜形成が容易である点で、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。

上記防眩層形成用組成物は、溶剤を含む。
上記溶剤としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

上記防眩層は、上述した成分の他に、本発明の効果を損なわない程度に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、防眩剤等を挙げることができる。

上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、防眩剤は、公知のものを使用するとよい。

上記防眩層は、上述した有機粒子、バインダー樹脂及びその他の成分を溶剤と混合して分散処理することにより得られる防眩層形成用組成物を用いて形成することができる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用するとよい。

上記防眩層は、上記防眩層形成用組成物を、後述する光透過性基材上等に塗布し、必要に応じて乾燥し、活性エネルギー線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記防眩層形成用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。

上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

上記防眩層の厚みとしては、１．０〜７．５μｍであることが好ましい。
１．０μｍ未満であると十分な防眩性が得られないおそれがある。７．５μｍを超えると、透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記厚みの下限は、２．０μｍであることがより好ましい。また、上限は、６．０μｍであることがより好ましい。

本発明の光学積層体は、光透過性基材を有するものである。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又はポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。

上記光透過性基材としては、また、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられている基材であり、例えば、日本ゼオン社製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト社製 スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ社製 アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学社製 アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製 Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成社製 オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。

上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。

上記光透過性基材の厚みは、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さ３００μｍ〜５０００μｍであってもよい。基材は、その上に防眩層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

本発明の光学積層体は、光透過性基材及び防眩層を有するものであるが、他にも必要に応じて、任意の層として帯電防止層、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層又は防汚層等を備えているものであってよい。上記帯電防止層、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層又は防汚層は、一般に使用される帯電防止剤、低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤、防汚剤又は樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。

本発明の光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、画像表示装置に装着した場合において、画像の鮮明性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。

本発明の光学積層体は、表面ヘイズ値が、１０％以下であることが好ましい。１０％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記ヘイズは、０．２〜５％であることがより好ましい。上記表面ヘイズ値は、反射・透過率計ＨＭ−１５０（村上色彩技術研究所製）により測定して得られた値である。

上記光学積層体の内部ヘイズ値は、７０％以下であることが好ましい。上記内部ヘイズ値が上記範囲内にあると、本発明の光学積層体をＬＣＤ用等に使用する場合の面ギラ（シンチレーション）を改善する効果が得られる。

上記表面ヘイズ値および、内部ヘイズ値は、後述した方法によって得られる値である。すなわち、光学積層体の最表層（例えば、防眩層または低屈折率層）の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂（モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布する。これによって、最表層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この最表層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌのＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液 ５５度 ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元の光学積層体のヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。

本発明の光学積層体の製造方法は、光透過性基材上に、防眩層形成用組成物を使用して防眩層を形成する工程を有する。上記防眩層形成用組成物は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３の有機粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含む。
上記防眩層の形成は、上述した防眩層の形成方法と同様の方法を挙げることができる。このような光学積層体の製造方法もまた、本発明の一つである。

本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を、上記光学積層体における帯電防止層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。

上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。

本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。

上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。

上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴ等の画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、ギラツキ防止性及び鮮明性に優れるものである。従って、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。

以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。
本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

＜製造例１ 防眩層用組成物１の調製＞
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ２．１質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ０．９質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ０．２２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．１２６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．０２１質量部
（透光性第一微粒子）
扁平ポリエチレンビーズ（住友精化（株）製、密度０．９２ｇ／ｃｍ^３、粒子径１２μｍ、扁平率４） ０．５０質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤 ０．０１１質量部
上記材料に、トルエン／シクロヘキサノン＝８／２の混合溶剤を添加し、十分混合し、固形分４０．５％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層用組成物１を調製した。

（製造例２ 防眩層用組成物２の調製）
上記製造例１記載の扁平ポリエチレンビーズを、同量のアクリルビーズ（日本触媒（株）製、密度１．２１ｇ／ｃｍ^３、粒子径３．５μｍ、扁平率ほぼ１）に変えた他は、製造例１と同様にして防眩層用組成物２を調製した。

（実施例１）
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、上記防眩層用組成物１を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を積層した。

低屈折率層の形成
さらに上記防眩層の上に、下記低屈折率層用組成物１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃４を用いて塗布し、５０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層を積層し、防眩性光学積層体１を得た（基材上の防眩層の総厚：約４μｍ）。
（低屈折率層用組成物１）
中空シリカスラリー ９．５７質量部
（ＩＰＡ，ＭＩＢＫ分散、固形分２０％、粒径５０ｎｍ）
ペンタエリスリトールトリアクリレート ＰＥＴ３０ ０．９８１質量部
（紫外線硬化型樹脂；日本化薬製）
ＡＲ１１０ ６．５３質量部
（フッ素ポリマー；固形分１５％ＭＩＢＫ溶液；ダイキン工業製）
イルガキュア１８４ ０．０６９質量部
（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
シリコーン系レベリング剤 ０．１５７質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ２８．８質量部
メチルイソブチルケトン ５３．９質量部
上記成分を十分混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分４％の低屈折率層用組成物を調製した。

（比較例１）
実施例における防眩層用組成物１を防眩層用組成物２に変えた他は、実施例と同様にして防眩性光学積層体２を得た。

上記実施例及び比較例で得られた防眩性光学積層体について、下記の評価を行った。結果を表１に示す。

（全体ヘイズ、表面ヘイズ）
実施例と比較例の光学積層体について、上述した方法に従って、ヘイズ値（％）を測定した。

（防眩性評価試験）
実施例及び比較例で得られた光学積層体の裏面を粘着処理し、黒アクリル板に貼付したものを評価用サンプルとした。幅２０ｍｍの白黒ストライプ板を用意し、上記サンプル（サンプル面は、３０度くらい上方に傾ける）にこのストライプをサンプル面法線から２０度の角度で写り込ませ、観察した。このときサンプル面の照度は２５０ｌｘ（ルクス）で、ストライプの輝度（白）は６５ｃｄ／ｍ^２とした。またストライプ板とサンプルの距離は１．５ｍで、サンプルと観察者の距離は１ｍとした。これを観察者が見たときのストライプの見え方により次のように定義し評価した。
評価基準
評価○：ストライプが認識できない
評価×：ストライプが認識できる

（透過鮮明性試験）
写像性測定器（スガ試験機（株）、品番「ＩＣＭ−１ＤＰ」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠し、４種類の光学櫛（０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、および２ｍｍ）で測定した数値の合計をもって評価した。
評価基準
評価○：数値２００以上で、透過鮮明性が高い
評価×：数値２００以下で、透過鮮明性が低い

（ギラツキ防止性）
HAKUBA製ビュアー（ライトビュアー７０００PRO）上に、0.7mm厚みのガラスに形成されたブラックマトリクスパターン板（１０５ｐｐｉ）を、パターン面を下にして置き、その上に得られた光学積層体フィルムを、凹凸面を空気側にして載せて、フィルムが浮かないようにフィルムの縁を指で軽く押さえながら、暗室にてギラツキを目視観察し、評価した。
評価基準
評価○：１０５ｐｐｉでギラツキがなく良好
評価×：１０５ｐｐｉでギラツキがみえ不良

表１より、密度０．９２ｇ／ｃｍ^３の扁平ポリエチレンビーズを用い、防眩層を形成することにより、形成した防眩性光学積層体に、防眩性と低ヘイズ性、透過鮮明性を同時に付与させることができることが分かる。

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。

Claims (10)

1. 光透過性基材及び防眩層を有する光学積層体であって、前記防眩層は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３である有機粒子を含むことを特徴とする光学積層体。
2. 有機粒子は、ポリエチレン粒子である請求項１記載の光学積層体。
3. 有機粒子は、扁平状である請求項１又は２記載の光学積層体。
4. 有機粒子は、平均粒径が１．０〜２０．０μｍである請求項１、２又は３記載の光学積層体。
5. 有機粒子は、厚さに対する直径の比の平均が２．０〜６．０である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
6. 防眩層は、有機粒子を２〜１０質量％含む請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
7. 光透過性基材上に防眩層形成用組成物を使用して防眩層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、
   前記防眩層形成用組成物は、密度が０．８９ｇ／ｃｍ^３〜１．０３ｇ／ｃｍ^３の有機粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含む
   ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
8. 最表面に請求項１、２、３、４、５又は６記載の記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
9. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
   前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
10. 最表面に請求項１、２、３、４、５若しくは６記載の光学積層体、又は、請求項９記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。