JP5098662B2 - 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
このような光学積層体における帯電防止層においては、帯電防止剤としてアンチモンをドープした酸化錫(ATO)が汎用されている。
上記マット剤は、シリカ及び/又は有機樹脂ビーズであることが好ましい。
上記有機樹脂ビーズは、アクリルビーズ、ポリエチレンビーズ、ポリスチレンビーズ、スチレン−アクリル共重合体ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、メラミンビーズ、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
上記マット剤の平均粒径は、0.5〜10.0μmであることが好ましい。
上記マット剤は、上記帯電防止層の樹脂固形分100質量部に対して、5.0〜20.0質量部含有するものであることが好ましい。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
このような効果が得られるのは、帯電防止層界面での、光干渉が、凹凸形状により抑制され、結果として干渉による干渉光着色が解消されることによるものと推察される。
Smが20μm以上60μm以下であり、
θaが0.5度以上3.0度以下であり、
Rzが0.4μm以上1.5μm以下であるものが好ましい。
なお、これらSm、θa、Rzを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、以下の通りである。
表面粗さ測定器(型番:SE−3400/(株)小坂研究所製)
1)表面粗さ検出部の触針:
型番/SE2555N(2μ標準)(株)小坂研究所製
(先端曲率半径2μm/頂角:90度/材質:ダイヤモンド)
2)表面粗さ測定器の測定条件:
基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.8mm
評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):4.0mm
触針の送り速さ:0.1mm/s
但し、上記測定条件で適正な測定値が得られない場合は、適宜基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc)を0.08mm、0.25mm、2.5mm、8mmなどの値に選択する事ができる。各測定条件での測定値の適正範囲はJIS B0601 1994に準拠する。
上記凹凸形状の形成方法としては、マット剤を含有する組成物を用いて形成する方法が挙げられる。
上記ATOとしては、導電性材料として使用できる性能を有するものであれば特に限定されない。
上記ATOの平均粒径は、10〜100nmであることが好ましい。10nm未満であると、凝集性が増し、均一な帯電防止層形成が困難となり、安定した帯電防止性能が得られないおそれがある。100nmを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記平均粒径は20〜50nmであることがより好ましい。
上記マット剤は、帯電防止層を形成するバインダー樹脂と混和しない粒子であって、皮膜に対して凹凸を付与することができる粒子である。本発明では、マット剤を含有することにより、帯電防止層の表面に凹凸形状を形成する。
上記マット剤は、帯電防止層を形成する樹脂と屈折率が異なるものであることが好ましい。混合により、干渉縞、干渉色発生の原因となる、屈折率差の大きな界面が乱され、干渉縞、干渉色着色を抑制できるからである。
上記平均粒径は、トルエン5質量%の分散液として、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を使用して測定して得られた値である。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分100質量部に対して、0.1〜10質量部であることが好ましい。
上記帯電防止層形成用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。
100nm未満であると十分な帯電防止性能が得られないおそれがある。2μmを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記層厚みは、150nm〜1μmであることが好ましい。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート)、トリアセチルセルロース(TAC)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又はポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、トリアセチルセルロース(TAC)が挙げられる。
上記防眩層は、表面に凹凸形状を有し、外光による像の映り込みや反射、ギラツキ防止性(シンチレーション)等による視認性の低下を抑制するための層である。
上記表面に凹凸形状を形成する方法としては、粒子によって凹凸を形成する方法やエンボス賦型処理を施すことにより形成する方法を挙げることができる。
一般的には、水酸基またはシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。処理に使用する化合物としては、上述活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料などが用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ−n−ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。
必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。
これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。
上記内部散乱粒子としては、防眩層を構成するバインダー樹脂との屈折率の差が比較的大きい有機粒子が挙げられ、例えば、スチレン−アクリル共重合体ビーズ(屈折率1.54)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、ポリスチレンビーズ(屈折率1.60)、ポリ塩化ビニルビーズ(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ(屈折率1.66)、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物(屈折率1.66)、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ(屈折率1.66)、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズ(屈折率1.66)等のプラスチックビーズを挙げることができる。
上記内部散乱粒子の添加量は、樹脂組成物100質量部に対して1.0〜20.0質量部が好ましく、5.0〜10.0質量部がより好ましい。
上記添加する粒子は、上記防眩剤としての性質と内部散乱粒子としての性質を兼ね備えたものを使用してもよい。
上記溶媒としては、上記帯電防止層で使用できるものと同様のものを使用することができる。なかでも、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類であることが好ましく、特にケトン系溶媒を用いることが好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンであることがより好ましい。
上記防眩層は、上述した成分からなる防眩層形成用組成物を任意の方法で調製し、帯電防止層の上に、任意の方法にて形成するとよい。
Smが30μm以上200μm以下であり、
θaが0.2度以上1.5度以下であり、
Rzが0.3μm以上1.2μm以下であるものが好ましい。
なお、これらSm、θa、Rzを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、以下の通りである。
表面粗さ測定器(型番:SE−3400/(株)小坂研究所製)
1)表面粗さ検出部の触針:
型番/SE2555N(2μ標準)(株)小坂研究所製
(先端曲率半径2μm/頂角:90度/材質:ダイヤモンド)
2)表面粗さ測定器の測定条件:
基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.8mm
評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):4.0mm
触針の送り速さ:0.1mm/s
但し、上記測定条件で適正な測定値が得られない場合は、適宜基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc)を0.08mm、0.25mm、2.5mm、8mmなどの値に選択する事ができる。各測定条件での測定値の適正範囲は、JIS B0601 1994に準拠する。
上記低屈折率層は、防眩層の表面に形成されてなり、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が1.5以上であり、低屈折率層の屈折率が1.5未満であり、好ましくは1.45以下で構成されてなるものが好ましい。
dA=mλ/(4nA) (I)
(上記式中、
nAは低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
120<nAdA<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
Smが30μm以上200μm以下であり、
θaが0.2度以上1.5度以下であり、
Rzが0.3μm以上1.2μm以下であるものが好ましい。
なお、これらSm、θa、Rzを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、上述した防眩層における表面粗さ測定器の測定条件と同様の条件である。
上記帯電防止層3の凹凸形状は、上層の防眩層2により完全に被覆されていることが好ましい。このような態様の本発明の光学積層体は、帯電防止層3の凹凸形状と、防眩層2の凹凸形状は、独立して形成されたものであり、上層の防眩層2の凹凸形状は、上記帯電防止層3の凹凸形状には反映されない。このため、帯電防止性能及び防眩性を維持したままで、ギラツキ防止性、艶黒感、色再現性に優れる光学積層体とすることができる。なお、図3は、本発明の光学積層体の一態様についての部分拡大断面図である。
なお、図3において、帯電防止層のマット剤が存在しない部分は、平坦な態様となっているが、本発明の効果を損なわない範囲であれば、完全に平坦な状態である必要はなく、微視的な凹凸形状が存在していてもよい。
<帯電防止層形成用組成物の調製>
下記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して帯電防止層形成用組成物を調製した。
帯電防止剤:
アンチモンドープ酸化スズ分散液
(日本ペルノックス社製、メチルエチルケトン分散液) 固形分 60質量部
マット剤(シリカ粒子):
不定形シリカ(平均粒径2.0μm) 8.5質量部
紫外線硬化樹脂:
ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA) 15質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 85質量部
光重合開始剤:
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 5.0質量部
溶剤:
シクロヘキサノン 30質量部
メチルイソブチルケトン 70質量部
下記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物を調製した。
紫外線硬化型樹脂:
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 98.8質量部
セルロースアセテートプロピオネート(分子量50,000) 1.2質量部
光重合開始剤:
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 5.0質量部
微粒子(無機ビーズ):
不定形シリカA(平均粒径2.0μm) 1.00質量部
不定形シリカB(平均粒径1.2μm) 5.00質量部
微粒子(有機粒子):
スチレンビーズ(平均粒径3.5μm) 6.00質量部
ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズ(平均粒径1.8μm) 3.00質量部
シリコン系レベリング剤 0.19質量部
溶剤:
トルエン 80質量部
メチルイソブチルケトン 20質量部
下記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して低屈折率層形成用組成物を調製した。
紫外線硬化型樹脂:
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51) 100質量部
処理シリカゾル含有溶液(シリカゾル固形分20重量%、溶剤;メチルイソブチルケトン) 15質量部
光重合開始剤:
イルガキュア369(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 3.5質量部
変性シリコーンオイル(X22164E;信越化学工業社製) 1.0質量部
溶剤:
メチルイソブチルケトン 70質量部
プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート 30質量部
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TD80U、富士写真フィルム社製)を光透過性基材として用い、上記の帯電防止層形成組成物を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#4を用いて塗布し、70℃のオーブン中で30秒間加熱乾燥し、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が27mJ/cm2になるよう照射して膜厚約250nmの帯電防止層を形成した。続いて、上記帯電防止層上に、上記の防眩層形成用組成物を、メイヤーズバー♯10にて塗布し、70℃のオーブン中で30秒間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が15mJ/cm2になるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。この時の防眩層の総厚は約3.7μmであった。
次に、上記防眩層の表面に、上記の低屈折率層形成用組成物を、コーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#4を用いて塗布し、自然乾燥約1分後、50℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が147mJ/cm2になるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層積層の防眩性光学積層体を形成した。ここで、検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞は生じておらず、干渉による着色もないことを確認した。
実施例1記載の、帯電防止層形成用組成物において、マット剤(不定形シリカ粒子)を下記組成を十分に混合した混合系マット剤に変えたことを除いては、実施例1と同様にして光透過性基材、帯電防止層、防眩層及び低屈折率層からなる防眩性光学積層体を形成し、同様にして検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞は生じておらず、干渉による着色もないことを確認した。
マット剤(シリカ粒子、有機樹脂ビーズ):
不定形シリカ(平均粒径2.0μm) 3.5質量部
スチレン−アクリル共重合体ビーズ(粒子径3.5μm) 5.0質量部
実施例1記載の、帯電防止層形成用組成物において、マット剤(不定形シリカ粒子)を加えないことを除いては、実施例1と同様にして光透過性基材、帯電防止層、防眩層及び低屈折率層からなる防眩性光学積層体を形成し、同様にして検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞を確認した。
実施例1記載の、帯電防止層形成用組成物において、マット剤(不定形シリカ粒子)を22質量部添加したことを除いては、実施例1と同様にして光透過性基材、帯電防止層、防眩層及び低屈折率層からなる防眩性光学積層体を形成し、同様にして検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞は生じておらず、干渉による着色もないことを確認した。
<全光線透過率>
上記光学積層体の全光線透過率(%)は、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7361に従い測定した。
偏光版の片面のみTACを張り合わせた片面保護フィルムつきの偏光板(もう片面は、偏光子のまま)の偏光子側面に、透明粘着材(日立化成工業社製DA−1000の光学フィルム用のアクリル系粘着剤)にて、上記光学積層体の光透過性基材側面を張り合わせ偏光板を作製した。評価方法としては偏光素子よりも上面に光学積層体が形成された状態を仮定し、低屈折率層面をポリエステル布にて20往復こすり、そのこすった面をタバコの灰に近づけて塵埃付着防止を下記基準にて評価した。
評価基準
評価○:灰の付着がなく、塵埃付着防止効果があった。
評価×:灰の付着が多数あり、塵埃付着防止効果が無かった。
2 防眩層
3 帯電防止層
4 光透過性基材
5 不定形シリカ
6、7 有機系微粒子
8 マット剤
Claims (8)
- 光透過性基材上に帯電防止層、防眩層及び低屈折率層を順に備えてなる光学積層体であって、
前記帯電防止層は、アンチモンドープ酸化錫及びマット剤を含有し、表面に凹凸形状を有する樹脂薄膜層であり、
前記帯電防止層の表面の凹凸形状は、前記マット剤で形成されており、凹凸の平均間隔Smが20μm以上60μm以下であり、凹凸部の平均傾斜角θaが0.5度以上3.0度以下であり、凹凸の十点平均粗さRzが0.4μm以上1.5μm以下であり、
前記防眩層は、表面に防眩剤で形成された凹凸形状を有し、前記防眩層の凹凸形状は、前記Smが30μm以上200μm以下であり、前記θaが0.2度以上1.5度以下であり、前記Rzが0.3μm以上1.2μm以下であり、かつ、
前記帯電防止層の凹凸形状と前記防眩層の凹凸形状とは、各々独立して形成されるものであり、
更に、前記帯電防止層の表面の凹凸形状が前記防眩層で完全に被覆されている
ことを特徴とする光学積層体。 - マット剤は、シリカ及び/又は有機樹脂ビーズである請求項1記載の光学積層体。
- 有機樹脂ビーズは、アクリルビーズ、ポリエチレンビーズ、ポリスチレンビーズ、スチレン−アクリル共重合体ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、メラミンビーズ、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズからなる群より選択される少なくとも1種である請求項2記載の光学積層体。
- マット剤の平均粒径は、0.5〜10.0μmである請求項1、2又は3記載の光学積層体。
- マット剤は、前記帯電防止層の樹脂固形分100質量部に対して、5.0〜20.0質量部含有するものである請求項1、2、3又は4記載の光学積層体。
- 最表面に請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
- 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。 - 最表面に請求項1、2、3、4若しくは5記載の光学積層体、又は、請求項7記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008011546A JP5098662B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007012055 | 2007-01-22 | ||
JP2007012055 | 2007-01-22 | ||
JP2008011546A JP5098662B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008203835A JP2008203835A (ja) | 2008-09-04 |
JP5098662B2 true JP5098662B2 (ja) | 2012-12-12 |
Family
ID=39640927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008011546A Active JP5098662B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7839570B2 (ja) |
JP (1) | JP5098662B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI409169B (zh) * | 2005-02-21 | 2013-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Anti-glare optical laminate |
KR101476462B1 (ko) * | 2006-08-18 | 2014-12-24 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 광학 적층체의 제조 방법, 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치 |
JP4997147B2 (ja) * | 2007-03-08 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止積層体、偏光板及び画像表示装置 |
JP5531509B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2014-06-25 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
JP5175672B2 (ja) * | 2008-09-26 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 防眩フィルム、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
US9671528B2 (en) * | 2008-10-07 | 2017-06-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical sheet, surface light source device and transmission type display device |
KR20110110240A (ko) * | 2008-12-30 | 2011-10-06 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 반사방지 용품 및 이의 제조 방법 |
CN102325719A (zh) * | 2008-12-30 | 2012-01-18 | 3M创新有限公司 | 纳米结构化制品和制备纳米结构化制品的方法 |
CN102325718B (zh) | 2008-12-30 | 2013-12-18 | 3M创新有限公司 | 制备纳米结构化表面的方法 |
JP2010191412A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-09-02 | Toppan Printing Co Ltd | 防眩フィルム |
JP2010181429A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
US8325296B2 (en) | 2009-03-30 | 2012-12-04 | Fujifilm Corporation | Light-transmitting substrate, optical film, polarizing plate and image display device |
JP5427454B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2014-02-26 | 富士フイルム株式会社 | 光透過性基材及びその製造方法、光学フィルム、偏光板、並びに画像表示装置 |
JP5297861B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 透過性基材及びその製造方法、光学フィルム、偏光板、並びに画像表示装置 |
KR101167708B1 (ko) * | 2010-02-18 | 2012-07-20 | 주식회사 미성포리테크 | 상부에 렌즈와 하부로 패턴이 형성된 사출레진을 포함한 입체시트 및 그 입체시트 제조방법 |
KR101273789B1 (ko) * | 2012-04-19 | 2013-06-11 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 방현성 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 |
JP5304939B1 (ja) | 2012-05-31 | 2013-10-02 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板、偏光板の製造方法、画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の視認性改善方法 |
KR102070207B1 (ko) * | 2013-03-05 | 2020-01-28 | 엘지전자 주식회사 | 전도성 필름 및 이의 제조 방법, 그리고 이를 포함하는 전자 장치 |
CN105008131B (zh) * | 2013-03-29 | 2016-10-26 | 东丽株式会社 | 层合膜 |
KR102159150B1 (ko) * | 2014-01-07 | 2020-09-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
TWI628457B (zh) * | 2014-04-17 | 2018-07-01 | 日商大日本印刷股份有限公司 | 防眩膜、偏光板、液晶面板以及影像顯示裝置 |
CN107003529B (zh) * | 2014-12-04 | 2020-11-13 | 大日本印刷株式会社 | 半透过型反射片、导光板和显示装置 |
JP6880829B2 (ja) * | 2016-03-04 | 2021-06-02 | 大日本印刷株式会社 | 加飾成形品、加飾成形品の製造方法及び転写シート |
JP6790524B2 (ja) * | 2016-07-08 | 2020-11-25 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネルペン用筆記シートの選別方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10111401A (ja) * | 1996-08-14 | 1998-04-28 | Daikin Ind Ltd | 反射防止処理物品 |
JP4187477B2 (ja) | 2002-08-05 | 2008-11-26 | 大日本印刷株式会社 | 低反射フィルム |
JP4395349B2 (ja) | 2003-09-29 | 2010-01-06 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムおよびこの光学フィルムを具備する光学表示装置 |
KR100648220B1 (ko) * | 2004-05-14 | 2006-11-24 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정표시장치용 도전성 편광판 |
JP2006078710A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 防眩フィルム |
US7087351B2 (en) * | 2004-09-29 | 2006-08-08 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer for electrically modulated display |
JP2006293279A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-10-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体 |
JP4390674B2 (ja) | 2004-09-30 | 2009-12-24 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体 |
JP2006126808A (ja) | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体 |
US20080095997A1 (en) * | 2006-10-19 | 2008-04-24 | Tien-Hon Chiang | Function-Enhancing Optical Film |
-
2008
- 2008-01-22 US US12/017,772 patent/US7839570B2/en active Active
- 2008-01-22 JP JP2008011546A patent/JP5098662B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7839570B2 (en) | 2010-11-23 |
US20080174875A1 (en) | 2008-07-24 |
JP2008203835A (ja) | 2008-09-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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