JP2008203835A - 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】帯電防止性能及び防眩性を維持したままで、ギラツキ防止性、艶黒感、色再現性（着色防止、干渉縞防止）を改善した光学積層体光学積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材上４に帯電防止層３、防眩層２及び低屈折率層１を順に備えてなる光学積層体であって、上記帯電防止層３は、アンチモンドープ酸化錫及びマット剤を含有し、表面に凹凸形状を有する樹脂薄膜層である光学積層体。前記マット剤は、シリカ及び／又は有機樹脂ビーズであることが好ましい。
【選択図】図２

Description

本発明は、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置の最表面には、種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている（特許文献１〜４）。このような光学積層体としては、基材上に帯電防止層、防眩層及び低屈折率層を順次設けた、図１のような積層構造を有するものが知られている。これは、帯電防止性、反射防止性、防眩性において優れた性能を有するものである。
このような光学積層体における帯電防止層においては、帯電防止剤としてアンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）が汎用されている。

また近年、画像表示装置においてはギラツキ防止性を始めとし、艶黒感（黒〜灰色の階調が良好で、動画がクリアに見える）のある、すなわち、白ぼけのない、表示性能の向上が求められており、これに対応するため、現行保持する表面性能を劣化させない範囲で、防眩層の凹凸形状を微細化する調整や、塗膜内部に内部散乱性を付与させる構成が更に求められている。このような鋭意努力の結果得られた防眩層は、総じてフィルムとしての透過性、鮮明性が高くなる効果を生んでいる。

しかしながら、ＡＴＯを含む帯電防止層上に、このような透過性、鮮明性が高い防眩層や低屈折率層を積層して光学積層体を形成した場合、従来は透明性等の低さゆえに問題にならなかったが、画像の色再現性を低下させる問題が明るみに出ることとなった。この画像の色再現性を低下させる問題とは、光を照射し、透過又は反射させた際に、ＡＴＯを含む帯電防止層と他の層との相互作用により、着色や干渉縞が起こり、その結果、ディスプレイ表面に光学積層体を装着した場合、画像の色再現性を低下させ、縞模様が目立つようになるというものであった。
特開２００６−１２６８０８号公報 特開２００４−６９８６７号公報 特開２００５−１０７００５号公報 特開２００６−９５９９７号公報

本発明は、上記現状に鑑みて、帯電防止性能及び防眩性を維持したままで、ギラツキ防止性、艶黒感、色再現性（着色防止、干渉縞防止）を改善した光学積層体を提供することを目的とするものである。

本発明は、光透過性基材上に帯電防止層、防眩層及び低屈折率層を順に備えてなる光学積層体であって、上記帯電防止層は、アンチモンドープ酸化錫及びマット剤を含有し、表面に凹凸形状を有する樹脂薄膜層であることを特徴とする光学積層体である。
上記マット剤は、シリカ及び／又は有機樹脂ビーズであることが好ましい。
上記有機樹脂ビーズは、アクリルビーズ、ポリエチレンビーズ、ポリスチレンビーズ、スチレン−アクリル共重合体ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、メラミンビーズ、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記マット剤の平均粒径は、０．５〜１０．０μｍであることが好ましい。
上記マット剤は、上記帯電防止層の樹脂固形分１００質量部に対して、５．０〜２０．０質量部含有するものであることが好ましい。
本発明の光学積層体において、上記帯電防止層の表面の凹凸形状は、マット剤で形成されており、上記防眩層は、表面に防眩剤で形成された凹凸形状を有し、かつ、上記帯電防止層の凹凸形状と上記防眩層の凹凸形状とは、各々独立して形成されるものであり、更に、上記帯電防止層の表面の凹凸形状が上記防眩層で完全に被覆されていることが好ましい。
上記帯電防止層の凹凸形状は、凹凸の平均間隔Ｓｍが２０μｍ以上６０μｍ以下であり、凹凸部の平均傾斜角θａが０．５度以上３．０度以下であり、凹凸の十点平均粗さＲｚが０．４μｍ以上１．５μｍ以下であり、かつ、上記防眩層の凹凸形状は、上記Ｓｍが３０μｍ以上２００μｍ以下であり、上記θａが０．２度以上１．５度以下であり、上記Ｒｚが０．３μｍ以上１．２μｍ以下であることが好ましい。

本発明はまた、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置である。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。

本発明は、光透過性基材上に帯電防止層、防眩層及び低屈折率層を順に備えてなる光学積層体であって、上記帯電防止層は、アンチモンドープ酸化錫及びマット剤を含有し、表面に凹凸形状を有するものであることを特徴とする光学積層体である。このため、優れた帯電防止性能及び防眩性を有し、かつ、ディスプレイに設置した場合のギラツキ防止性、艶黒感及び色再現性を改善したものである。

本発明の光学積層体において、帯電防止層は、表面に凹凸形状を有する。このため、帯電防止剤としてアンチモンドープ酸化錫を含有した場合であっても、防眩層や低屈折率層との相互作用による干渉光着色を生じることなく、帯電防止性能や防眩性に優れたものとすることができる。
このような効果が得られるのは、帯電防止層界面での、光干渉が、凹凸形状により抑制され、結果として干渉による干渉光着色が解消されることによるものと推察される。

上記光干渉による干渉光着色及び干渉縞が防止できる凹凸形状範囲としては、例えば、帯電防止層表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、（Ｓｍ、θａ、Ｒｚの定義は、ＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠する）
Ｓｍが２０μｍ以上６０μｍ以下であり、
θａが０．５度以上３．０度以下であり、
Ｒｚが０．４μｍ以上１．５μｍ以下であるものが好ましい。
なお、これらＳｍ、θａ、Ｒｚを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、以下の通りである。
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ標準）（株）小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
但し、上記測定条件で適正な測定値が得られない場合は、適宜基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）を０．０８ｍｍ、０．２５ｍｍ、２．５ｍｍ、８ｍｍなどの値に選択する事ができる。各測定条件での測定値の適正範囲はＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠する。
上記凹凸形状の形成方法としては、マット剤を含有する組成物を用いて形成する方法が挙げられる。

上記帯電防止層は、帯電防止剤として、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）を含有する。
上記ＡＴＯとしては、導電性材料として使用できる性能を有するものであれば特に限定されない。
上記ＡＴＯの平均粒径は、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。１０ｎｍ未満であると、凝集性が増し、均一な帯電防止層形成が困難となり、安定した帯電防止性能が得られないおそれがある。１００ｎｍを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記平均粒径は２０〜５０ｎｍであることがより好ましい。

本発明で使用することのできる上記ＡＴＯの市販品としては、例えば、三菱マテリアル社製ＡＴＯ分散体、日本ペルノックス社製ＡＴＯ分散体等を挙げることができる。

上記ＡＴＯの含有量は、帯電防止層中の樹脂固形分１００質量部に対して２０〜１２０質量部であることが好ましい。２０質量部未満であると、十分な帯電防止性能が得られないおそれがある。１２０質量部を超えると、膜質が脆化するおそれがある。上記含有量は、２５〜８０質量部であることがより好ましい。

上記帯電防止層は、更に、マット剤を含有する。
上記マット剤は、帯電防止層を形成するバインダー樹脂と混和しない粒子であって、皮膜に対して凹凸を付与することができる粒子である。本発明では、マット剤を含有することにより、帯電防止層の表面に凹凸形状を形成する。

上記マット剤は、シリカ及び／又は有機樹脂ビーズであることが好ましい。シリカ及び／又は有機樹脂ビーズを使用することにより容易に表面に凹凸形状を形成することができる。また、帯電防止性能に影響を与えないので、優れた防眩性や色再現性と帯電防止性能を両立させることができる。なかでも、安定した帯電防止性能を確保でき、比較的透明である点で、絶縁性の有機樹脂ビーズであることがより好ましい。

上記シリカとしては、特に限定されず、結晶性、ゾル状、ゲル状のいずれの状態であってもよい。また、上記シリカとしては、市販品を使用することができ、例えば、不定形シリカ含有インキ（大日精化工業社製）、アエロジル（デグサ社製）、コロイダルシリカ（日産化学工業製）等、を挙げることができる。

上記有機樹脂ビーズとしては、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５０）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、スチレン−アクリル共重合体ビーズ（屈折率１．５４〜１．５５）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ（屈折率１．６６）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ（屈折率１．６６）、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ（屈折率１．６６）、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズ（屈折率１．６６）からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。なかでも、ＡＴＯ分散体と混合した際に凝集を起こさず、扱い易い点で、スチレン−アクリル共重合体ビーズであることがより好ましい。

上記マット剤として、シリカ又は有機樹脂ビーズを単独で使用してもよいし、これらを併用してもよい。
上記マット剤は、帯電防止層を形成する樹脂と屈折率が異なるものであることが好ましい。混合により、干渉縞、干渉色発生の原因となる、屈折率差の大きな界面が乱され、干渉縞、干渉色着色を抑制できるからである。

上記マット剤の平均粒径は、０．５〜１０．０μｍであることが好ましい。０．５μｍ未満であると、干渉抑制の効果が低下し、大量に添加する必要が生じるおそれがある。１０．０μｍを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記平均粒径は、１．０〜５．０μｍであることがより好ましい。
上記平均粒径は、トルエン５質量％の分散液として、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を使用して測定して得られた値である。

上記マット剤の含有量は、帯電防止層の樹脂固形分１００質量部に対して５．０〜２０．０質量部であることが好ましい。５．０質量部未満であると、十分な干渉抑制の効果が得られないおそれがある。２０．０質量部を超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記含有量は、７．０〜１０．０質量部であることがより好ましい。

上記帯電防止層に使用することのできるバインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、上記樹脂は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

本発明の光学積層体において、上記光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材との密着性と透明性とを向上させることができる。更に、上述のセルロース系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。

上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

上記帯電防止層は、光重合開始剤を含むことが好ましい。上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。

上記帯電防止層は、上述した成分の他に、本発明の効果に影響を与えない程度において、必要に応じてその他の成分を添加することができる。上記その他の成分としては、上述した以外の樹脂、防眩剤、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、顔料又は染料等の着色剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を挙げることができる。これらは、帯電防止層に通常使用される公知のものを使用することができる。

上記帯電防止層は、上述したアンチモンドープ酸化錫、マット剤、バインダー樹脂及びその他の成分を溶媒と混合して分散処理することにより得られる帯電防止層形成用組成物を用いて形成することができる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用するとよい。

上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。なかでも、分散性、分散安定性、安全性の点において、ケトン系溶剤であることが好ましい。

上記帯電防止層は、上記帯電防止層形成用組成物を、光透過性基材上に塗布し、必要に応じて乾燥し、活性エネルギー線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記帯電防止層形成用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。

上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

上記帯電防止層の層厚み（乾燥時）は、１００ｎｍ〜２μｍであることが好ましい。本発明では、例えば、添加する上記マット剤の平均粒径よりも上記層厚みを小さくすることにより、表面に凹凸形状を形成することができる。
１００ｎｍ未満であると十分な帯電防止性能が得られないおそれがある。２μｍを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記層厚みは、１５０ｎｍ〜１μｍであることが好ましい。

なお、上記層厚みは、レーザー顕微鏡、ＳＥＭ、ＴＥＭによる断面観察で測定することができる。例えば、レーザー顕微鏡での膜厚測定方法としては、共焦点レーザー顕微鏡（ＬｅｉｃａＴＣＳ−ＮＴ：ライカ社製：倍率 ２００〜１０００倍）を用いて、帯電防止層の断面を透過観察する。例えば具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に湿式の対物レンズを使用し、かつ、対物レンズと帯電防止層断面との間の空気層を消失させるために帯電防止層断面の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察することができる。そして、顕微鏡の観察１画面につき 凹凸のＭａｘ部、Ｍｉｎ部の膜を１点ずつ、計２点測定する。５画面分、計１０点測定値し、平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。ＳＥＭ、ＴＥＭの断面観察においても、上記のように５画面分観察し、平均値を求めることができる。

上記帯電防止層は、表面抵抗率が１０^１０Ω／□以下であることが好ましい。上記範囲内の値でないと、十分な帯電防止性能を発揮することができないおそれがある。上記表面抵抗率は、１０^９Ω／□以下であることがより好ましい。

本発明の光学積層体は、光透過性基材上に上記帯電防止層を有するものである。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又はポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。

上記光透過性基材としては、また、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられている基材であり、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製 スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製 アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製 アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製 オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。

上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。

上記光透過性基材の厚さは、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さ３００μｍ〜５０００μｍであってもよい。基材は、その上に帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

本発明の光学積層体は、防眩層を有する。
上記防眩層は、表面に凹凸形状を有し、外光による像の映り込みや反射、ギラツキ防止性（シンチレーション）等による視認性の低下を抑制するための層である。
上記表面に凹凸形状を形成する方法としては、粒子によって凹凸を形成する方法やエンボス賦型処理を施すことにより形成する方法を挙げることができる。

上記防眩層は、防眩剤、バインダー樹脂、溶媒及び任意成分を含む防眩層形成用樹脂組成物を調製して形成することができる。上記防眩層は、上記帯電防止層の上に形成される。

上記防眩剤は、層表面に凹凸を形成し得る微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状、不定形など、特に限定されず、無機系、有機系のものが使用することができ、好ましくは透明性のものがよい。これらは単独で用いても複数用いてもよい。有機系材料により形成されてなる微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．６６）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物（屈折率１．６６）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５０）、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ（屈折率１．６６）、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズ（屈折率１．６６）等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、ポリスチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、不定形シリカ、無機シリカビーズ等を挙げることができる。上記微粒子の添加量は、樹脂組成物１００質量部に対し、１〜４０質量部が好ましく、１〜２０質量部がより好ましい。

上記不定形シリカは、分散性が良好な粒径０．５〜５μｍのシリカビーズを使用することが好ましい。以下で詳述する防眩層形成用組成物の粘度上昇を生じることなく上記不定形シリカの分散性を良好なものとするために、粒子表面に有機物処理を施して疎水化した不定形シリカを使用することが好ましい。上記有機物処理には、ビーズ表面に化合物を化学的に結合させる方法や、ビーズ表面とは化学的な結合なしに、ビーズを形成する組成物にあるボイドなどに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。
一般的には、水酸基またはシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。処理に使用する化合物としては、上述活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料などが用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ−ｎ−ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。
必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。
これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。

また、上記防眩層は、更に内部散乱粒子を含有するものであることが好ましい。上記内部散乱粒子は、内部ヘイズを付与し、ギラツキ防止性（シンチレーション）等を抑制し得るものである。
上記内部散乱粒子としては、防眩層を構成するバインダー樹脂との屈折率の差が比較的大きい有機粒子が挙げられ、例えば、スチレン−アクリル共重合体ビーズ（屈折率１．５４）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．６６）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物（屈折率１．６６）、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ（屈折率１．６６）、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズ（屈折率１．６６）等のプラスチックビーズを挙げることができる。
上記内部散乱粒子の添加量は、樹脂組成物１００質量部に対して１．０〜２０．０質量部が好ましく、５．０〜１０．０質量部がより好ましい。
上記添加する粒子は、上記防眩剤としての性質と内部散乱粒子としての性質を兼ね備えたものを使用してもよい。

上記バインダー樹脂としては、上記帯電防止層で使用できるバインダー樹脂と同様のものを使用することができる。
上記溶媒としては、上記帯電防止層で使用できるものと同様のものを使用することができる。なかでも、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類であることが好ましく、特にケトン系溶媒を用いることが好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンであることがより好ましい。

上記任意成分としては、上記帯電防止層で使用することができるものと同様のものを挙げることができる。
上記防眩層は、上述した成分からなる防眩層形成用組成物を任意の方法で調製し、帯電防止層の上に、任意の方法にて形成するとよい。

上記防眩層の層厚みは、１．０〜８．０μｍであることが好ましく、２．０〜６．０μｍであることがより好ましい。上記防眩層の層厚みは、上記帯電防止層の層厚みの測定方法と同様の方法にて得られる値である。

上記防眩層の凹凸形状としては、上記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、（Ｓｍ、θａ、Ｒｚの定義は、ＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠する）
Ｓｍが３０μｍ以上２００μｍ以下であり、
θａが０．２度以上１．５度以下であり、
Ｒｚが０．３μｍ以上１．２μｍ以下であるものが好ましい。
なお、これらＳｍ、θａ、Ｒｚを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、以下の通りである。
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ標準）（株）小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
但し、上記測定条件で適正な測定値が得られない場合は、適宜基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）を０．０８ｍｍ、０．２５ｍｍ、２．５ｍｍ、８ｍｍなどの値に選択する事ができる。各測定条件での測定値の適正範囲は、ＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠する。

本発明の光学積層体は、更に、低屈折率層を有する。
上記低屈折率層は、防眩層の表面に形成されてなり、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。

低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。

上記フッ素系材料とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。

フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル‐１，３‐ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。

フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。

フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。

また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。

上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系材料として用いることができる。

低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、防眩剤等の添加剤は、例えば、帯電防止層で上述したものが挙げられる。

溶剤も帯電防止層で上述したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。

上記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、帯電防止層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。

塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、帯電防止層の形成で上述した各種方法を用いることができる。

得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。

上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は防眩層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。

空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。特開平７−１３３１０５、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍであり上限が１００ｎｍであり、より好ましくは下限が１０ｎｍであり上限が８０ｎｍである。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、防眩層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法などという方法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。

低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。

樹脂の硬化手段は、防眩層の項で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。

低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄ_Ａは、下記式（Ｉ）：
ｄ_Ａ＝ｍλ／（４ｎ_Ａ） （Ｉ）
（上記式中、
ｎ_Ａは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。

また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎ_Ａｄ_Ａ＜１４５ （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

本発明の光学積層体は、光透過性基材上に帯電防止層、防眩層及び低屈折率層を有するものであるが、上述した層の他にも必要に応じて、任意の層として防汚染層、高屈折率層又は中屈折率層等を備えているものであってよい。上記防汚染層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、高屈折率剤、中屈折率剤、帯電防止剤又は樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。

本発明の光学積層体は、表面に凹凸形状を有するものであることが好ましい。上記凹凸形状としては、光学積層体の最表面の層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、（Ｓｍ、θａ、Ｒｚの定義は、ＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠する）、
Ｓｍが３０μｍ以上２００μｍ以下であり、
θａが０．２度以上１．５度以下であり、
Ｒｚが０．３μｍ以上１．２μｍ以下であるものが好ましい。
なお、これらＳｍ、θａ、Ｒｚを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、上述した防眩層における表面粗さ測定器の測定条件と同様の条件である。

本発明の光学積層体の可視光透過率は、９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記可視光透過率は、９５％以上であることがより好ましい。

上記光学積層体の表面ヘイズ値は、１０％以下であることが好ましい。１０％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記ヘイズは、０．２〜５％であることがより好ましい。上記表面ヘイズ値は、反射・透過率計ＨＭ−１５０（村上色彩技術研究所製）により測定して得られた値である。

上記光学積層体の内部ヘイズ値は、０．１〜７０％であることが好ましく、３〜４０％であることがより好ましい。上記内部ヘイズ値が上記範囲内にあると、本発明の光学積層体をＬＣＤ用等に使用する場合のギラツキ防止性（シンチレーション）を改善する効果が得られる。

上記表面ヘイズ値および、内部ヘイズ値は、後述した方法によって得られる値である。すなわち、光学積層体の最表層（例えば、低屈折率層）の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂（モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布する。これによって、最表層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この最表層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌのＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液 ５５度 ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元の光学積層体のヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。

本発明の光学積層体の一態様について、図を用いて説明する。図２は、上から順に、低屈折率層１、防眩層２、帯電防止層３、光透過性基材４を備えてなる光学積層体を示す。本発明の光学積層体は、目的に応じて任意の層からなるものであってもよく、上述した態様に限定されないものである。

図３に示すように、本発明の光学積層体において、帯電防止層３の表面凹凸形状はマット剤８で形成されており、防眩層２は表面に防眩剤（例えば、不定形シリカ５、有機系微粒子６、７）で形成された凹凸形状を有し、かつ、上記帯電防止層３の凹凸形状と上記防眩層２の凹凸形状は、独立して形成されるものであることが好ましい。
上記帯電防止層３の凹凸形状は、上層の防眩層２により完全に被覆されていることが好ましい。このような態様の本発明の光学積層体は、帯電防止層３の凹凸形状と、防眩層２の凹凸形状は、独立して形成されたものであり、上層の防眩層２の凹凸形状は、上記帯電防止層３の凹凸形状には反映されない。このため、帯電防止性能及び防眩性を維持したままで、ギラツキ防止性、艶黒感、色再現性に優れる光学積層体とすることができる。なお、図３は、本発明の光学積層体の一態様についての部分拡大断面図である。
なお、図３において、帯電防止層のマット剤が存在しない部分は、平坦な態様となっているが、本発明の効果を損なわない範囲であれば、完全に平坦な状態である必要はなく、微視的な凹凸形状が存在していてもよい。

偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を、上記光学積層体における帯電防止層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。

上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。

本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。

上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。

上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、帯電防止性能、防眩性及び色再現性に優れるものである。このため、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。

以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

（実施例１）
＜帯電防止層形成用組成物の調製＞
下記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して帯電防止層形成用組成物を調製した。
帯電防止剤：
アンチモンドープ酸化スズ分散液
（日本ペルノックス社製、メチルエチルケトン分散液） 固形分 ６０質量部
マット剤（シリカ粒子）：
不定形シリカ（平均粒径２．０μｍ） ８．５質量部
紫外線硬化樹脂：
ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ） １５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ８５質量部
光重合開始剤：
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ５．０質量部
溶剤：
シクロヘキサノン ３０質量部
メチルイソブチルケトン ７０質量部

＜防眩層形成用組成物の調製＞
下記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物を調製した。
紫外線硬化型樹脂：
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ９８．８質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０，０００） １．２質量部
光重合開始剤：
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ５．０質量部
微粒子（無機ビーズ）：
不定形シリカＡ（平均粒径２．０μｍ） １．００質量部
不定形シリカＢ（平均粒径１．２μｍ） ５．００質量部
微粒子（有機粒子）：
スチレンビーズ（平均粒径３．５μｍ） ６．００質量部
ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズ（平均粒径１．８μｍ） ３．００質量部
シリコン系レベリング剤 ０．１９質量部
溶剤：
トルエン ８０質量部
メチルイソブチルケトン ２０質量部

＜低屈折率層形成用組成物の調製＞
下記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して低屈折率層形成用組成物を調製した。
紫外線硬化型樹脂：
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） １００質量部
処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０重量％、溶剤；メチルイソブチルケトン） １５質量部
光重合開始剤：
イルガキュア３６９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ３．５質量部
変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） １．０質量部
溶剤：
メチルイソブチルケトン ７０質量部
プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３０質量部

帯電防止層及び防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム社製）を光透過性基材として用い、上記の帯電防止層形成組成物を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で３０秒間加熱乾燥し、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が２７ｍＪ／ｃｍ^２になるよう照射して膜厚約２５０ｎｍの帯電防止層を形成した。続いて、上記帯電防止層上に、上記の防眩層形成用組成物を、メイヤーズバー♯１０にて塗布し、７０℃のオーブン中で３０秒間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１５ｍＪ／ｃｍ^２になるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。この時の防眩層の総厚は約３．７μｍであった。

低屈折率層の形成
次に、上記防眩層の表面に、上記の低屈折率層形成用組成物を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃４を用いて塗布し、自然乾燥約１分後、５０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１４７ｍＪ／ｃｍ^２になるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層積層の防眩性光学積層体を形成した。ここで、検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞は生じておらず、干渉による着色もないことを確認した。

（実施例２）
実施例１記載の、帯電防止層形成用組成物において、マット剤（不定形シリカ粒子）を下記組成を十分に混合した混合系マット剤に変えたことを除いては、実施例１と同様にして光透過性基材、帯電防止層、防眩層及び低屈折率層からなる防眩性光学積層体を形成し、同様にして検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞は生じておらず、干渉による着色もないことを確認した。
マット剤（シリカ粒子、有機樹脂ビーズ）：
不定形シリカ（平均粒径２．０μｍ） ３．５質量部
スチレン−アクリル共重合体ビーズ（粒子径３．５μｍ） ５．０質量部

（比較例１）
実施例１記載の、帯電防止層形成用組成物において、マット剤（不定形シリカ粒子）を加えないことを除いては、実施例１と同様にして光透過性基材、帯電防止層、防眩層及び低屈折率層からなる防眩性光学積層体を形成し、同様にして検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞を確認した。

（参考例１）
実施例１記載の、帯電防止層形成用組成物において、マット剤（不定形シリカ粒子）を２２質量部添加したことを除いては、実施例１と同様にして光透過性基材、帯電防止層、防眩層及び低屈折率層からなる防眩性光学積層体を形成し、同様にして検査照明下、光学積層体を目視観察した結果、干渉縞は生じておらず、干渉による着色もないことを確認した。

また上記実施例１及び２、比較例１、参考例１の光学積層体について、帯電防止層を形成した際に、帯電防止層の表面凹凸の平均間隔Ｓｍ、凹凸部の平均傾斜角θａ、及び凹凸の十点平均粗さＲｚについて、本明細書に規定する上述の方法、すなわちＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠した方法で測定し、表面粗さについて評価した。また、実施例１の光学積層体については、最表面の上記Ｓｍ、θａ、Ｒｚについても測定した。これらの結果を表１に示す。

また、干渉縞が発生しなかった上記実施例１及び２、参考例１の光学積層体について、全光線透過率の測定及び塵埃付着防止試験を下記の方法にて行った。結果を表１に示す。
＜全光線透過率＞
上記光学積層体の全光線透過率（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に従い測定した。

＜塵埃付着防止試験＞
偏光版の片面のみＴＡＣを張り合わせた片面保護フィルムつきの偏光板（もう片面は、偏光子のまま）の偏光子側面に、透明粘着材（日立化成工業社製ＤＡ−１０００の光学フィルム用のアクリル系粘着剤）にて、上記光学積層体の光透過性基材側面を張り合わせ偏光板を作製した。評価方法としては偏光素子よりも上面に光学積層体が形成された状態を仮定し、低屈折率層面をポリエステル布にて２０往復こすり、そのこすった面をタバコの灰に近づけて塵埃付着防止を下記基準にて評価した。
評価基準
評価○：灰の付着がなく、塵埃付着防止効果があった。
評価×：灰の付着が多数あり、塵埃付着防止効果が無かった。

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。

従来技術の光学積層体の概要図の一例である。 本発明の光学積層体の概要図の一例である。 本発明の光学積層体の一態様についての部分拡大断面図である。

符号の説明

１ 低屈折率層
２ 防眩層
３ 帯電防止層
４ 光透過性基材
５ 不定形シリカ
６、７ 有機系微粒子
８ マット剤

Claims (10)

1. 光透過性基材上に帯電防止層、防眩層及び低屈折率層を順に備えてなる光学積層体であって、前記帯電防止層は、アンチモンドープ酸化錫及びマット剤を含有し、表面に凹凸形状を有する樹脂薄膜層であることを特徴とする光学積層体。
2. マット剤は、シリカ及び／又は有機樹脂ビーズである請求項１記載の光学積層体。
3. 有機樹脂ビーズは、アクリルビーズ、ポリエチレンビーズ、ポリスチレンビーズ、スチレン−アクリル共重合体ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、メラミンビーズ、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体ビーズ、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビーズ、及び、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビーズからなる群より選択される少なくとも１種である請求項２記載の光学積層体。
4. マット剤の平均粒径は、０．５〜１０．０μｍである請求項１、２又は３記載の光学積層体。
5. マット剤は、前記帯電防止層の樹脂固形分１００質量部に対して、５．０〜２０．０質量部含有するものである請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
6. 帯電防止層の表面の凹凸形状は、マット剤で形成されており、防眩層は、表面に防眩剤で形成された凹凸形状を有し、かつ、前記帯電防止層の凹凸形状と前記防眩層の凹凸形状とは、各々独立して形成されるものであり、
   更に、前記帯電防止層の表面の凹凸形状が前記防眩層で完全に被覆されている請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
7. 帯電防止層の凹凸形状は、凹凸の平均間隔Ｓｍが２０μｍ以上６０μｍ以下であり、凹凸部の平均傾斜角θａが０．５度以上３．０度以下であり、凹凸の十点平均粗さＲｚが０．４μｍ以上１．５μｍ以下であり、かつ、
   防眩層の凹凸形状は、前記Ｓｍが３０μｍ以上２００μｍ以下であり、前記θａが０．２度以上１．５度以下であり、前記Ｒｚが０．３μｍ以上１．２μｍ以下である請求項６記載の光学積層体。
8. 最表面に請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
9. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
   前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
10. 最表面に請求項１、２、３、４、５、６若しくは７記載の光学積層体、又は、請求項９記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。

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