JPWO2007142142A1 - 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置 - Google Patents

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智之 堀尾
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Abstract

本発明の主な目的は、高コストの原因となる帯電防止剤の添加量を減少させ、簡便にかつ低コストで、高い帯電防止性を付与できる光学積層体を提供することにある。本発明は、光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成され、１）前記低屈折率層が、最表面に形成され、２）前記低屈折率層が、帯電防止剤を含有する、光学積層体に関する。

Description

本発明は、光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置に関するものである。
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置には、ガラス、プラスチック等の板状の透明材料が使用されている。これらの透明材料は、静電気による塵埃の付着、汚れの付着、あるいは擦り傷や引っかき傷等によって、透明性が損なわれやすいという問題点がある。
そこで、透明材料上にハードコート層を形成したり、あるいはハードコート層上に所望の機能（例えば、帯電防止性、防汚性、反射防止性等）を付与するためにさらに他の層を形成させることが行われている（特許文献１〜３）。
例えば、特許文献１には、ハードコート層中に帯電防止剤を添加することにより、帯電防止性を付与する方法、特許文献２及び３には、１）基材とハードコート層との間、又は２）ハードコート層と低屈折率層との間に帯電防止層を設けて、帯電防止性を付与する方法等が提供されている。
しかしながら、特許文献１の方法では、通常ハードコート層は、所定の強度等を達成するために他の層に比べて厚くする必要があり、さらに帯電防止性能を発揮するには帯電防止剤を高密度となるように添加しなければならないため、高価な帯電防止剤が多量に必要となり、経済的に非常に不利となる。
一方、特許文献２及び３の方法では、帯電防止性能を付与するために、さらに一層設ける工程を得る必要があり、煩雑な工程になりやすい。また、帯電防止層上に他の層を積層するため、帯電防止性能も実質、帯電防止層自身が持つものよりも悪化することになる。
従って、低コストでかつ簡便な方法で得られる帯電防止性能を有した光学積層体の提供が望まれている。
特開２００４−３４５２２８号公報 特開２００４−９４００７号公報 特開２００６−１８２３３号公報
本発明の主な目的は、高コストの原因となる帯電防止剤の添加量を減少させ、簡便にかつ低コストで、高い帯電防止性を付与できる光学積層体を提供することにある。
本発明者らは、上記従来技術に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、特定の層構成を有する光学積層体を採用することにより、上記目的を達成することを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成され、
１）上記低屈折率層が、最表面に形成され、
２）上記低屈折率層が、帯電防止剤を含有する、
ことを特徴とする光学積層体に関する。
上記光学積層体において、低屈折率層中の帯電防止剤の含有量が０．１〜５０質量％であることが好ましい。
上記帯電防止剤が実質的に無色透明であることが好ましい。
上記光学積層体は、１）ハードコート層と光透過性基材との間、又は、２）ハードコート層と低屈折率層との間に、防眩層を形成してなることが好ましい。
上記光学積層体は、反射防止用積層体として用いられることが好ましい。
本発明は、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明は、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
これらの特徴により、本発明の光学積層体は、帯電防止性及び反射防止性を兼ね備えた光学積層体としては、低コストなものとなる。
本発明による光学積層体は、反射防止積層体（防眩性積層体としての利用を含む）として好適に用いることができる。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ等のディスプレイの表面に好ましく用いられる。
本発明の光学積層体は、光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成され、
１）上記低屈折率層が、最表面に形成され、
２）上記低屈折率層が、帯電防止剤を含有する、
ことを特徴とするものである。すなわち、新たな層を設ける必要がないため簡便な工程で得ることができる。また、最表面に帯電防止性能を付与するため、充分高い帯電防止性を発揮することができるものである。
以下、本発明において使用する基材、組成物を具体的に説明する。なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。
光透過性基材
上記光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。
その他、上記光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムを挙げることができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製のスミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製のアートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製のアペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製のオプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が３０μｍである。光透過性基材が板状体の場合には、これらの厚さを超える厚さ３００μｍ以上５０００μｍ以下であってもよい。基材は、その上にハードコート層、帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
ハードコート層
本発明における「ハードコート層」とは、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
ハードコート層の厚みは、所望の特性等に応じて適宜設定できるが、通常は０．１〜１００μｍ、特に０．８〜２０μｍとなるように形成することが望ましい。上記厚さは、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。
ハードコード層は、透明性を有する限り制限されないが樹脂からなることが好ましい。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。また、本発明の好ましい態様によれば、電離放射線硬化型樹脂と熱硬化型樹脂とを少なくとも含んでなる樹脂を用いることができる。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、２官能（メタ）アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１、１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ（メタ）アクリレート（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート）、２官能ウレタンアクリレート、２官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。３官能（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ（メタ）アクリレート、３官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。４官能（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。５官能以上の（メタ）アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
特に、高い硬度を有する光学積層体を作成するという面から、３官能以上のものが好ましい。３官能以上の（メタ）アクリレート樹脂としては、市販品を使用することができ、具体的には、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ、ＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（例えば、ＤＰＨＡ、ＰＥＴ３０、ＧＰＯ３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ３３０、ＴＰＡ３３０、Ｄ３１０、Ｄ３３０、ＰＭ２、ＰＭ２１、ＤＰＣＡ２０、ＤＰＣＡ３０、ＤＰＣＡ６０、ＤＰＣＡ１２０）；東亞合成社製のアロニックスシリーズ（例えば、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３２７、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０２、Ｍ４０８、Ｍ４５０、Ｍ７１００、Ｍ７３００Ｋ、Ｍ８０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９０５０）；新中村化学社製のＮＫエステルシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１１Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１８Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−９３００、ＡＤ−ＴＭＰ−４ＣＬ、ＡＤ−ＴＭＰ）；新中村化学社製のＮＫエコノマーシリーズ（例えば、ＡＤＰ５１、ＡＤＰ３３、ＡＤＰ４２、ＡＤＰ２６、ＡＤＰ１５）；第一工業製薬社製のニューフロンティアシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、ＴＭＰ３、ＴＭＰ１５、ＴＭＰ２Ｐ、ＴＭＰ３Ｐ、ＰＥＴ３、ＴＥＩＣＡ）；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、（例えば、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＡＮ、１６０、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＯＴＡ４８０、５３、ＰＥＴＩＡ、２０４７、４０、１４０、１１４０、ＰＥＴＡＫ、ＤＰＨＡ）；サーマー社製のＣＤ５０１、ＣＤ９０２１、ＣＤ９０５２、ＳＲ３５１、ＳＲ３５１ＨＰ、ＳＲ３５１ＬＶ、ＳＲ３６８、ＳＲ３６８Ｄ、ＳＲ４１５、ＳＲ４４４、ＳＲ４５４、ＳＲ４５４ＨＰ、ＳＲ４９２、ＳＲ４９９、ＳＲ５０２、ＳＲ９００８、ＳＲ９０１２、ＳＲ９０２０、ＳＲ９０２０ＨＰ、ＳＲ９０３５、ＣＤ９０５１、ＳＲ３５０、ＳＲ９００９、ＳＥ９０１１、ＳＲ２９５、ＳＲ３５５、ＳＲ３９９、ＳＲ３９９ＬＶ、ＳＲ４９４、ＳＲ９０４１等が挙げられる。
電離放射線硬化型樹脂としては、多官能ウレタン（メタ）アクリレートも挙げることができる。
多官能ウレタン（メタ）アクリレートとしては、２官能以上のもの、好ましくは４官能以上のものが使用できる。ウレタン（メタ）アクリレート系の官能基を有するものとしては、市販品を使用することができ、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ（例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ）；根上工業社製のアートレジンシリーズ（例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３）；新中村化学社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ４ＨＡ、Ｕ６Ｈ、Ｕ６ＨＡ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ（例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０）；荒川化学社製のビームセットシリーズ（例えば、３７１、５７７）；三菱レーヨン社製のＲＱシリーズ；大日本インキ社製のユニディックシリーズ；日本化薬社製のＤＰＨＡ４０Ｈ；サーマー社製のＣＮ９００６、ＣＮ９６８等が挙げられる。この中でも、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業社製）、ビームセット３７１（荒川化学社製）、ビームセット５７７（荒川化学社製）、Ｕ１５ＨＡ（新中村化学社製）が好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、多官能ウレタンアクリルアクリレートも使用でき、市販品としては、例えば、日立化成社製のヒタロイド７９７５等を挙げることができる。
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
具体的には、チバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シーベルヘグナー社製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６、日本化薬製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「ＴＡＣ」等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
上記樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。
上記ハードコート層は、上記樹脂及び必要に応じて添加剤（例えば、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤、防汚剤、レベリング剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、ハードコート層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。
上記溶剤としては、樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、重合開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶剤であればよい。そのような溶剤としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶剤であってもよい。好ましくは、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡなどである。
特に、上記組成物に用いる溶剤としては、用いる光透過性基材に対して浸透性を有するもの（基材を膨潤または溶解させることができる溶剤）を好適に用いることができる。例えば、光透過性基材としてセルロース系樹脂を用いる場合には、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサノン等を好適に用いることができる。
上記組成物で溶剤を用いる場合、溶剤の使用量は、組成物の固形分含有量が５〜８０質量％程度となるように適宜設定すれば良い。
上記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して混合することができる。
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
ハードコート層用組成物としては、透明性を有する上記樹脂の原料成分となるものを用いれば良く、上記樹脂の種類等に応じて適宜設定することができる。
上記ハードコート層は、高屈折樹脂を含んでもよい。高屈折樹脂の屈折率は１．５５以上、特に１．６０以上であることが好ましい。ハードコート層の中に含まれる高屈折樹脂は０．１％以上９９％以下であることが好ましく、特に、１％以上９０％以下であることが好ましい。ハードコート層を高屈折率化する場合、一般的にはハードコート層形成材料中に高屈折率化材料を添加すればよい。高屈折率化材料として、粒径数ｎｍ〜１００ｎｍの金属酸化物（例えばＴｉＯ２、ＺｒＯ２）微粒子を用いて分散させたり、その他フルオレン系、硫黄系、臭素系、カルバゾール系などの有機高屈折率樹脂材料を適宜添加使用することができる。
上記ハードコート層用組成物は、必要に応じて重合開始剤、防眩剤等の添加剤が含まれていても良い。
上記重合開始剤としては、上述のものを挙げることができる。
上記防眩剤としては、例えば各種の微粒子を用いることができる。その形状は、真球状、楕円状等のいずれであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、上記微粒子は無機系又は有機系のものが挙げられる。上記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。上記微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、アクリルースチレンビーズ（屈折率１．５４）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体（屈折率１．６８）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体（屈折率１．６８）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等の１種又は２種以上を用いることができる。
この場合、沈降防止剤を併用することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度のシリカビーズが挙げられる。
低屈折率層
本発明の光学積層体における低屈折率層は、最表面に形成されており、かつ帯電防止剤を含有する。
低屈折率層は、外部からの光（例えば蛍光灯、自然光等）が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。本発明の低屈折率層は、上記特徴を有していることにより、反射防止性に加え、帯電防止性に優れる。特に、最表面層に帯電防止性能が付与しているため、表面の帯電防止性能が効率良く発揮され、ほこりが付着しにくい。換言すれば、少量の帯電防止剤の添加でも、ほこりの付着を防止できる。
低屈折率層は、屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
低屈折率層に含有される帯電防止剤としては、導電性能を有する限り限定的でない。例えば第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系、ホウ素、リン系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。上記の化合物には、分子内にアクリレート系の官能基を有する電離放射線硬化型樹脂としてもよい。さらに、上記の化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマ一あるいは電離放射線により重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物も、帯電防止剤として使用できる。これらは、１種又は２種以上で使用することができ、また下記の導電性超微粒子とも併用することができる。
本発明では、帯電防止剤として導電性超微粒子を用いることもできる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、酸化インジウム錫（略称；ＩＴＯ、１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等が挙げられる。上記微粒子の粒子径は、１ミクロン以下のいわゆるサブミクロンの大きさのものが良く、特に平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍの微粒子が好ましい。なお、上記平均粒径は、動的光散乱法等によって測定した値である。
上記帯電防止剤としては、その他にも、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、フラーレンの炭素材料を挙げることができる。上記カーボンナノチューブは、炭素６員環構造を主構造とする黒鉛（グラファイト）シートが円筒状に閉じた構造を有する単層又は多層のチューブ状の炭素多面体である。上記カーボンナノホーンは、カーボンナノチューブの先端が閉じている円錐状の形状を有するものである。
さらに、例えば、電子伝導性高分子や、リチウム塩、有機ホウ素化合物等のイオン伝導性帯電防止剤を例示することができる。
上記電子伝導性高分子としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。なかでも、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰イオンを、ドーパント（電子供与剤）として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチオフェンは透明性、帯電防止性が高く、好ましい。上記ポリチオフェンとしては、オリゴチオフェンも好適に使用することができる。上記誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。
上記イオン伝導性帯電防止剤としてのリチウム塩としては、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウム、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミド、又は、過塩素酸リチウムが好ましく挙げられる。更に詳しくは、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウムとしては、トリフルオロメチルスルホン酸リチウム、ペンタフルオロエチルスルホン酸リチウム等を好ましく挙げることができ、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミドとしては、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド又はリチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド等を好ましく挙げることができる。中でも、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド又はリチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミドは、特に環境信頼性に優れるので好ましく適用される。
上記有機ホウ素化合物としては、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体が特に好ましい。
上記帯電防止剤は、実質的に無色透明であることが好ましい。このような帯電防止剤を使用することにより、低屈折率層のヘイズ値を下げることができる。
低屈折率層中の帯電防止剤の含有量は、帯電防止剤の種類等に応じて適宜決定すればよいが、通常、０．１〜５０質量％程度、好ましくは０．５〜３０質量％程度、より好ましくは１〜２０質量％程度である。
この範囲とすることにより、より効果的に帯電防止性能が発揮されるとともに、耐擦傷性にも優れ、さらにはヘイズ値を下げることもできる。
本発明の低屈折率層は、上記帯電防止剤のほか、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物やフッ素原子含有化合物（フッ素系樹脂として後述する）を含む）等の樹脂により形成されることが好ましい。これらのうち、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物が好ましい。特に、電離放射線硬化性樹脂及び／又は電離放射線硬化性化合物を用いることが最も好ましい。
電離放射線硬化性化合物は、これを含む電離放射線硬化性組成物として用いることができる。電離放射線硬化性化合物としては、分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー及びプレポリマーの少なくとも１種を用いることができる。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー又はオリゴマーとしては、例えば不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類；ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類のほか、カチオン重合型エポキシ化合物等が挙げられる。これらは１種又は２種以上で用いることができる。
電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー；アクリル酸メチル、アクリル酸−２一エチルへキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類；アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類；アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類；エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等のジアクリレート化合物；ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアタリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物（例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等）の少なくとも１種を挙げることができる。
電離放射線硬化型樹脂としては、多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、２官能（メタ）アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１、１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ（メタ）アクリレート（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート）、２官能ウレタンアクリレート、２官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。３官能（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ（メタ）アクリレート、３官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。４官能（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。５官能以上の（メタ）アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
特に、高い硬度を有する光学積層体を作成するという面から、３官能以上のものが好ましい。３官能以上の（メタ）アクリレート樹脂としては、市販品を使用することができ、具体的には、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ、ＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（例えば、ＤＰＨＡ、ＰＥＴ３０、ＧＰＯ３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ３３０、ＴＰＡ３３０、Ｄ３１０、Ｄ３３０、ＰＭ２、ＰＭ２１、ＤＰＣＡ２０、ＤＰＣＡ３０、ＤＰＣＡ６０、ＤＰＣＡ１２０）；東亞合成社製のアロニックスシリーズ（例えば、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３２７、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０２、Ｍ４０８、Ｍ４５０、Ｍ７１００、Ｍ７３００Ｋ、Ｍ８０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９０５０）；新中村化学社製のＮＫエステルシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１１Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１８Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−９３００、ＡＤ−ＴＭＰ−４ＣＬ、ＡＤ−ＴＭＰ）；新中村化学社製のＮＫエコノマーシリーズ（例えば、ＡＤＰ５１、ＡＤＰ３３、ＡＤＰ４２、ＡＤＰ２６、ＡＤＰ１５）；第一工業製薬社製のニューフロンティアシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、ＴＭＰ３、ＴＭＰ１５、ＴＭＰ２Ｐ、ＴＭＰ３Ｐ、ＰＥＴ３、ＴＥＩＣＡ）；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、（例えば、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＡＮ、１６０、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＯＴＡ４８０、５３、ＰＥＴＩＡ、２０４７、４０、１４０、１１４０、ＰＥＴＡＫ、ＤＰＨＡ）；サーマー社製のＣＤ５０１、ＣＤ９０２１、ＣＤ９０５２、ＳＲ３５１、ＳＲ３５１ＨＰ、ＳＲ３５１ＬＶ、ＳＲ３６８、ＳＲ３６８Ｄ、ＳＲ４１５、ＳＲ４４４、ＳＲ４５４、ＳＲ４５４ＨＰ、ＳＲ４９２、ＳＲ４９９、ＳＲ５０２、ＳＲ９００８、ＳＲ９０１２、ＳＲ９０２０、ＳＲ９０２０ＨＰ、ＳＲ９０３５、ＣＤ９０５１、ＳＲ３５０、ＳＲ９００９、ＳＥ９０１１、ＳＲ２９５、ＳＲ３５５、ＳＲ３９９、ＳＲ３９９ＬＶ、ＳＲ４９４、ＳＲ９０４１等が挙げられる。
電離放射線硬化型樹脂としては、多官能ウレタン（メタ）アクリレートも挙げることができる。
ウレタン（メタ）アクリレートとしては、２官能以上のもの、好ましくは４官能以上のものが使用できる。ウレタン（メタ）アクリレート系の官能基を有するものとしては、市販品を使用することができ、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ（例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ）；根上工業社製のアートレジンシリーズ（例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３）；新中村化学社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ４ＨＡ、Ｕ６Ｈ、Ｕ６ＨＡ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ（例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０）；荒川化学社製のビームセットシリーズ（例えば、３７１、５７７）；三菱レーヨン社製のＲＱシリーズ；大日本インキ社製のユニディックシリーズ；日本化薬社製のＤＰＨＡ４０Ｈ；サーマー社製のＣＮ９００６、ＣＮ９６８等が挙げられる。この中でも、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業社製）、ビームセット３７１（荒川化学社製）、ビームセット５７７（荒川化学社製）、Ｕ１５ＨＡ（新中村化学社製）が好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、多官能ウレタンアクリルアクリレートも使用でき、市販品としては、例えば、日立化成社製のヒタロイド７９７５等を挙げることができる。
通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、上記化合物を必要に応じて１種又は２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために上記モノマーのプレポリマー又はオリゴマーを５質量％以上とし、上記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５質量％以下とするのが好ましい。
低屈折率層にフレキシビリティーが要求される場合は、モノマー量を減らすか、あるいは官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用することが望ましい。また、低屈折率層に耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性等が要求される場合は、例えば官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使うことが好ましい。ここで、官能基数が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−へキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。官能基数が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基数が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
低屈折率層のフレキシビリティー、表面硬度等の物性を調整するため、必要に応じて、電離放射線照射で硬化しない樹脂を電離放射線硬化性組成物に添加することもできる。上記樹脂として、例えばポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂の１種又は２種以上が挙げられる。この中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の少なくとも１種がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。電離放射線硬化性組成物の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤又は光重合促進剤を添加すれば良い。光重合開始剤として、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等の単独又は２種以上を用いることができる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、例えば芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等の単独又は２種以上を用いることができる。
具体的には、チバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シーベルヘグナー社製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６、日本化薬製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。中でも、イルガキュア３６９、イルガキュア１２７、イルガキュア９０７、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓが好ましい。
光重合開始剤の添加量は、用いる光重合開始剤の種類等に応じて適宜設定すれば良いが、電離放射線硬化性組成物１００質量部に対して０．１〜１０質量部程度とすれば良い。
電離放射線硬化性組成物には、必要に応じて反応性の有機ケイ素化合物を併用することができる。例えば、一般式ＲｍＳｉ（ＯＲ’）ｎ（但し、Ｒ及びＲ’は、互いに同一又は異なって、炭素数１〜１０のアルキル基を示す。ｍ及びｎは、各々がｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数を示す。）で示される化合物を用いることができる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、へキシルトリメトキシシラン等の少なくとも１種が挙げられる。
この場合、シランカップリング剤を必要に応じて併用することができる。シランカップリング剤としては、具体的にはγ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロへキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等の少なくとも１種が挙げられる。
また、低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかにより構成されてもよい。上記フッ素系樹脂以外の樹脂については、上記ハードコート層用組成物を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。上記重合性化合物としては特に限定されず、例えば、電離放射線硬化性基、熱硬化性極性基等の硬化反応性基を有するものが好ましい。また、これらの反応性基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、上記重合体とは、上記のような反応性基等を一切もたないものである。
電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、含フッ素（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。
上記シリコーン成分としては特に限定されず、例えば、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
上記ジメチルシロキサン構造としてより具体的には、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル、又は、ポリアリールシロキサンに各種架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラアルコキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラン、テトライソプロペニルシラン等の四官能シラン、さらにはアルキル又はアルケニルトリアセトキシシラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシラントリアルコキシシランなどの３官能シランなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ反応させたものが挙げられる。
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、ハードコート層用組成物に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。
本発明では、上記帯電防止剤のほかに、「内部に空隙を有する微粒子」を含有することが好ましい。これにより、低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「内部に空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された中空構造体及び／又は微粒子の内部に気体を含む多孔質構造体であって、微粒子が空隙を有しない場合に比べて低い屈折率を有する微粒子を意味する。これは、一般に気体の占有率の増大に伴ってその屈折率が低下するものである。
上記微粒子のうち、無機系微粒子としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されているシリカ微粒子が挙げられる。その他、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってもよい。空隙を有するシリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に容易に調製することを可能とする。一方、有機系微粒子としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている中空ポリマー微粒子が挙げられる。
本発明にあっては、内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も、上記微粒子に含まれる。塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては、１）充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、２）触媒固定用に使用される多孔質微粒子、或いは３）断熱材又は低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子が挙げられる。具体的には、日本シリカ工業株式会社製の「Ｎｉｐｓｉｌ」（商品名）、日産化学工業（株）製の「コロイダルシリカＵＰシリーズ」（商品名）等を例示できる。
「内部に空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。上記微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定した値である。
「内部に空隙を有する微粒子」を含む場合は、その含有量は、樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とすればよい。
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（例えば、上記帯電防止剤、樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、上記「間隙を有する微粒子」、重合開始剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより、低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、防眩剤等の添加剤は、例えば、ハードコート層で上述したものが挙げられる。
特に、本発明では、低屈折率層を構成する成分と共に上記帯電防止剤を混合する。従って、帯電防止性能を付与するために別個の帯電防止層を製造及び積層する工程は必要としない。このため、より簡易な工程により、本発明の光学積層体を製造することができる。また、低屈折率層は光学積層体の最表面となるため、帯電防止性能が発現しやすい。また、ハードコート層に帯電防止剤を混合させる場合と比較し、低屈折率層の厚さが薄いため、より少量で帯電防止性能が発現される。
溶剤もハードコート層で上述したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、ＩＰＡ、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。
上記低屈折率層用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した各種方法を用いることができる。
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
その他の層
本発明の基本層構成として、光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成されており、当該低屈折率層が最表面に形成されていれば良い。例えば、光透過性基材上に隣接してハードコート層が形成されハードコート層に隣接して低屈折率層が形成されてなる３層構造が挙げられる。この場合、本発明積層体の光透過性等を損わない範囲内で、必要に応じて１）ハードコート層と低屈折率層の層間、又は２）ハードコート層の下に他の層（高屈折率層、防眩層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
防眩層
防眩層は、例えばハードコート層と透過性基材又は低屈折率層との間に形成されて良い。防眩層は、樹脂及び防眩剤を含む樹脂組成物から形成されて良い。
上記樹脂としては、ハードコート層の項で説明したものから適宜選択して使用することができる。
防眩剤としては、各種の微粒子を用いることができる。微粒子の平均粒径は限定的ではないが、一般的には０．０１〜２０μｍ程度とすれば良い。また、微粒子の形状は、真球状、楕円状等のいずれであっても良く、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、上記微粒子は、無機系又は有機系のものが挙げられる。なお、上記平均粒径は、動的光散乱法等によって測定した値である。
上記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。微粒子の具体例としては、ハードコート層において例示したものを挙げることができる。
上記微粒子は、その平均粒径をＲ（μｍ）とし、防眩層凹凸の十点平均粗さをＲｚ（μｍ）とし、防眩層の凹凸平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角をβａとした場合に、下記数式：
３０≦Ｓｍ≦６００
０．０５≦Ｒｚ≦１．６０
０．１≦θａ≦２．５
０．３≦Ｒ≦２０
を全て満たすものが好ましい。
Ｓｍ（μｍ）とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θａ（度）は凹凸部の平均傾斜角を表すものであり、（Ｒｚ）は、１０点平均粗さを表すものであり、その定義は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に従い、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製取り扱い説明書（１９９５．０７．２０改訂）に記載されている。
θａは角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔａである場合、Δａ＝ｔａｎθａ＝（各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和／基準長さ）で求められる。基準長さとは、測定機ＳＥ−３４００で粗さ曲線のカットオフ値λｃ、実際に触針する評価長さにあたる。表面粗さ測定器の測定条件は、ＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠する。
また、本発明の別の好ましい様態によれば、上記微粒子と上記樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、ｎ１、ｎ２とした場合に、Δｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜＜０．１５を満たし、かつ、防眩層内部のへイズ値（凹凸形状による外部のヘイズを、光学積層体全体のヘイズから差し引いて求める）が５５％以下である防眩層が好ましい。
微粒子の添加量は、用いる微粒子の種類、所望の防眩性等によるが、上記樹脂組成物１００質量部に対し、通常は２〜３０質量部、好ましくは１０〜２５質量部程度とすれば良い。
防眩層用組成物を調製する際に沈降防止剤を添加することもできる。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、シリカビーズ等のビーズ類を使用することができる。ビーズ類の平均粒径は限定されないが、一般的には０．５μｍ以下とし、好ましくは０．１〜０．２５μｍとする。なお、上記平均粒径は、動的光散乱法等によって測定した値である。
防眩層の膜厚（硬化時）は、一般的には０．１〜１００μｍ程度、特に０．８〜１０μｍの範囲とすることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
上記防眩層の膜厚は、以下の方法により測定することができる。
共焦点レーザー顕微鏡（ＬｅｉｃａＴＣＳ−ＮＴ：ライカ社製：倍率「３００〜１０００倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の測定基準により測定することができる。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察し判断する。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いる。
測定手順
１：レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
２：測定条件は、上記の通りであった。
３：１画面につき 凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの層厚を１点ずつ計２点測定し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出し、これを、防眩層の膜厚とする。このレーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察をすることができる。また、各層の組成の違いで観察できるＳＥＭ及びＴＥＭ断面写真の観察を用いて、５画面分の観察を行うことで同様に求めることができる。
高屈折率層
高屈折率層は、例えばハードコート層と低屈折率層との間に形成されて良い。ハードコート層よりも高い屈折率を付与することで、効果的な反射防止性能を得ることができる。
高屈折率層は、樹脂及び高屈折率化剤を含む樹脂組成物から形成されて良い。上記樹脂や高屈折率化剤としては、ハードコート層の項で説明したものから適宜選択して使用することができる。膜厚は、６０ｎｍ〜１０μｍと目的に応じて変更できる。上記膜厚は、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。
本発明の光学積層体は、反射防止用積層体として好適に用いることができる。
本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を、上記光学積層体における低屈折率層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
上記非自発発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
上記自発発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
本発明によれば、高コストの原因となる帯電防止剤の添加量を減少させることができる。
本発明によれば、低屈折率層のほかに帯電防止層を設ける必要がないため、帯電防止層を製造する工程及び積層する工程を省略でき、より簡便な工程で製造することができる。
また、光学積層体最上層に帯電防止層が積層されていることとなるので、帯電防止性も効率よく得られる。
以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。
＜製造例１＞
ハードコート層形成用組成物として、下記に示す組成物１〜６をそれぞれ調製した。
ハードコート層用組成物１
・ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製） ５質量部
・ポリエステルアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製） ５質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
ハードコート層用組成物２
・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬製） ０．１質量部
・帯電防止剤（ユニレジンＵＶＡＳＨ２６、新中村化学社製、４級アンモニウム塩（反応基含有）） １０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
ハードコート層用組成物３
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ０．１質量部
・ポリチオフェン（信越ポリマー社製） １０質量部（固形分１００％換算）
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・メチルイソブチルケトン １０質量部
ハードコート層用組成物４
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ０．１質量部
・帯電防止剤（ＤＭＡＡ、興人社製） １０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・メチルイソブチルケトン １０質量部
ハードコート層用組成物５
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ０．１質量部
・帯電防止剤（ニッカタイボーＵＶＡＳ−２０１、日本化成社製） １０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・メチルイソブチルケトン １０質量部
ハードコート層用組成物６
・帯電防止層材料 Ｃ−４４５６ Ｓ−７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％ 日本ペルノックス（株）製） １１．１１質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬（株）製、屈折率１．５１） ５質量部
・光硬化開始剤 イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．４質量部
・ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） ９質量部
・シクロヘキサノン １質量部
＜製造例２＞
低屈折率層形成用組成物として、下記に示す組成物１〜１１及び１’をそれぞれ調製した。
低屈折率層用組成物１
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン） １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・帯電防止剤（ＤＭＡＡ、興人社製，アンモニウム系（反応基含有）） ０．３質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物２
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・帯電防止剤（Ｐｈｏｓｍｅｒ Ｍ、ユニケミカル社製、リン系（反応基含有）） ０．３質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物３
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・帯電防止剤（ＨＩＢＯＲＯＮ ＡＳＡ５０１Ｍ５、ボロンインターナショナル社製、ホウ素イオン伝導型） ０．３質量部（固形分）
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物４
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・帯電防止剤（ユニレジンＵＶＡＳＨ２６、新中村化学社製、４級アンモニウム系（反応基含有）） ０．３質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物５
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・帯電防止剤（ホモゲノールＬ１８、花王社製，界面活性剤（ノニオン）（反応基なし）） ０．３質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物６
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・帯電防止材料 Ｃ−４４５６ Ｓ−７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％ 日本ペルノックス（株）製） ０．６６質量部
・メチルイソブチルケトン ８０．５質量部
・シクロヘキサノン ２．５質量部
低屈折率層用組成物７
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルエチルケトン」） １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １．６５質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・帯電防止材料（サンコノールＴＢＸ；三光化学工業社製 リチウムイオン伝導型） ０．３質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物８
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルエチルケトン」） １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １．６５質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・帯電防止材料（カーボンナノチューブ分散体；シグマアルドリッチ社製 直径２〜８ｎｍ、長さ５００〜１０００ｎｍ） ０．８質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物９
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・帯電防止剤（Ａ４００‐５０Ｒ、三光化学社製） ０．３質量部
リチウムイオン系
・重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２−４２７２；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物１０
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・ピリジニウム系帯電防止剤（ＣＩＬ５１３、日本カーリット社製） ０．３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２−４２７２；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物１１
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．６５質量部
・イミダゾリウム系帯電防止剤 ０．３質量部
・重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２−１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
低屈折率層用組成物１’
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０質量％「空隙を有する微粒子、溶液；メチルイソブチルケトン」 １４．３質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．９５質量部
・重合開始剤（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．１質量部
・変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．１５質量部
・メチルイソブチルケトン ８３．５質量部
＜製造例３＞
帯電防止層用組成物として、下記に示す組成物１〜２をそれぞれ調製した。
帯電防止層用組成物１
・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬製） ０．１質量部
・帯電防止剤（ユニレジンＵＶＡＳＨ２６、新中村化学社製，４級アンモニウム塩（反応基含有）） １０質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．４質量部
・メチルイソブチルケトン ９０質量部
帯電防止層用組成物２
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ０．１質量部
・帯電防止材料 Ｃ−４４５６ Ｓ−７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％ 日本ペルノックス（株）製） ２２．２２質量部
・メチルイソブチルケトン ４質量部
・シクロヘキサノン ４質量部
実施例１
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士写真フィルム製、ＴＦ８０ＵＬ、厚さ８０μｍ）を用意し、このフィルムの表面にハードコート層用組成物１を、湿潤質量２０ｇ／ｍ２（乾燥質量１０ｇ／ｍ２）塗布（バーコーティング）し、次いで、５０℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株））を用いて、照射線量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行うことにより、組成物を硬化させて、１０μｍのハードコート層を形成させた。
次に、ハードコート層の表面に、低屈折率層用組成物１を乾燥質量０．１ｇ／ｍ２塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株））を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い光学積層体を製造した。膜厚は、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近（膜厚０．１０μｍ）になるように形成させた。
実施例２
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物２を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例３
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物３を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例４
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物４を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例５
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物５を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例６
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物６を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例７
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物７を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例８
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物８を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例９
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物９を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例１０
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物１０を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
実施例１１
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物１１を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
比較例１
ハードコート層用組成物１の代わりにハードコート層用組成物２を、低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物１’を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
比較例２
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物１’を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
比較例３
ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物３を使用した以外は、比較例１と同様にして光学積層体を製造した。
比較例４
ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物４を使用した以外は、比較例１と同様にして光学積層体を製造した。
比較例５
ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物５を使用した以外は、比較例１と同様にして光学積層体を製造した。
比較例６
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＦ８０ＵＬ、厚さ８０μｍ、富士写真フィルム（株）製）を透明基材として用い、帯電防止層用組成物１を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、５０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が１μｍの帯電防止層を形成した。
次いで、この帯電防止層上に、ハードコート層用組成物１と低屈折率層組成物１’を使用して実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
比較例７
ハードコート層用組成物２の代わりにハードコート層用組成物６を使用した以外は、比較例１と同様にして光学積層体を製造した。
この比較例７の光学積層体においては実施例と同レベルの帯電防止性能を得るためには、帯電防止剤／バインダーマトリックスが１／１となるくらいに微粒子を添加しなければならなかった。これは、各微粒子同士がどこかで接触していないと帯電防止性能が発現しないためである。この光学積層体は、帯電防止性能は得られたが、ディスプレイ用に使用するにはヘイズが高く、不透明で使用できなかった。
比較例８
帯電防止層用組成物２を使用した以外は、比較例６と同様にして光学積層体を製造した。
なお、上記各比較例は、実施例と同等レベルの帯電防止性能を得るために必要な配合例を示したものである。下記に示す表１より、低屈折率層に帯電防止性能を付与することにより、添加すべき帯電防止剤量を大幅に減らすことが可能となることが分かる。
評価１ ほこり付着性
実施例および比較例で作製した光学積層体の、低屈折率層のない方のＴＡＣ表面をポリエステル布にて２０往復こすり、そのこすった面にタバコの灰を近づけて塵埃付着防止を下記基準にて評価した。これを表１に示す。
評価基準
評価 ○：灰の付着がなく、塵埃付着防止効果があった。
評価 ×：灰の付着が多数あり、塵埃付着防止効果が無かった。
評価２ 表面抵抗
表面抵抗値（Ω／□）は、表面抵抗率測定器（三菱化学製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて印加電圧１０００Ｖで測定した。
評価３ ヘイズ
ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定した。なお、測定機器として、反射・透過率計ＨＭ−１５０（村上色彩技術研究所）を使用した。
評価４ 帯電防止剤／バインダーマトリックス質量比
帯電防止剤を含有する層に含まれる樹脂質量（帯電防止剤含有層の質量から帯電防止剤及び溶剤を除いた質量）を１とした場合における、添加された帯電防止剤の質量の配合割合を測定した。
これにより実施例、比較例における帯電防止剤添加量の比較が可能となる。特に、有機系又は無機系の帯電防止剤として各々同じ材料系を用いた場合、添加しなければならない帯電防止剤含有量が比較できる。
Figure 2007142142
本発明により、高コストの原因となる帯電防止剤の添加量を減少させ、簡便にかつ低コストで、高い帯電防止性を付与できる光学積層体を形成することができる。得られる光学積層体は、好ましくは反射防止積層体として好適に用いることができる。従って、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。

Claims (8)

  1. 光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成され、
    １）前記低屈折率層が、最表面に形成され、
    ２）前記低屈折率層が、帯電防止剤を含有する、
    ことを特徴とする光学積層体。
  2. 低屈折率層中の帯電防止剤の含有量が０．１〜５０質量％である、請求項１記載の光学積層体。
  3. 帯電防止剤が実質的に無色透明である、請求項１又は２記載の光学積層体。
  4. １）ハードコート層と光透過性基材との間、又は、２）ハードコート層と低屈折率層との間に、防眩層を形成してなる、請求項１、２又は３記載の光学積層体。
  5. 反射防止用積層体として用いられる、請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
  6. 最表面に請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
  7. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
    前記偏光素子の表面に、請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
  8. 最表面に請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体、又は、請求項７記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
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