JP2009069427A - 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

光学積層体、偏光板及び画像表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2009069427A
JP2009069427A JP2007237204A JP2007237204A JP2009069427A JP 2009069427 A JP2009069427 A JP 2009069427A JP 2007237204 A JP2007237204 A JP 2007237204A JP 2007237204 A JP2007237204 A JP 2007237204A JP 2009069427 A JP2009069427 A JP 2009069427A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
resin
acrylate
mass
antiglare layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007237204A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4967943B2 (ja
Inventor
Tomoyuki Horio
智之 堀尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2007237204A priority Critical patent/JP4967943B2/ja
Publication of JP2009069427A publication Critical patent/JP2009069427A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4967943B2 publication Critical patent/JP4967943B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

【課題】良好な光散乱性能及び光拡散性能を発揮することができる表面凹凸形状及び内部ヘイズ値を有する防眩層を設けた光学積層体、偏光板及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】光透過性基材及び該光透過性基材上に設けられた防眩層を有する光学積層体であって、上記防眩層は、表面が凹凸形状を有するものであり、内部ヘイズ値が0.05〜35であり、上記防眩層は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体、及び、内部ヘイズ形成フィラーを含む防眩層用組成物により形成されたものであり、かつ、前記防眩層用組成物において、前記内部ヘイズ形成フィラーは、含有量が0.5〜10質量%(固形分基準)であり、セルロース系樹脂は、含有量が0.5〜10質量%(固形分基準)である光学積層体。
【選択図】なし

Description

本発明は、新規な光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止のための光学積層体が設けられている。このような反射防止用光学積層体は、光の散乱や干渉によって、像の写り込みを抑制したり反射率を低減したりするものである。
このような反射防止用光学積層体の一つとして、透明性基材の表面に防眩層や光散乱層、光拡散層等を形成した防眩性積層体が知られている。このような防眩性積層体としては、表面に凹凸形状を設けることにより外光を散乱させて外光の反射や像の写り込みによる視認性の低下を防止するものや、樹脂フィルム内部に樹脂と屈折率差のある内部散乱粒子を配合して拡散性を付与したものが知られている。
表面に凹凸形状を設ける防眩性積層体としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、セルロース誘導体等の互いに屈折率が異なる少なくとも2種以上のポリマーを使用し、相分離構造を有する光散乱層を設けた光学積層体が開示されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、このような光散乱層は、その表面凹凸が小さく、また、内部ヘイズ値も小さいために充分な反射防止性能を発揮することはできなかった。
また、特許文献1に開示された光拡散層は、親水性の樹脂と疎水性の樹脂との分離により凹凸を設けているが、親水性の樹脂は、通常、硬化物の鉛筆硬度、耐擦傷性(SW性)に劣るものが多い。従って、このような親水性の樹脂を用いて凹凸を形成した光拡散層を設けた光学積層体も鉛筆硬度、SW性に劣ることが多かった。更に、特許文献1に開示された光拡散層は、トリアセチルセルロース(TAC)等からなる基材シートに対する密着性に劣るものであった。
更に、内部散乱粒子として透光性拡散剤を含有する拡散層を設けた光拡散フィルムも開示されている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、このような拡散層は、内部ヘイズ値は充分であるものの、表面凹凸形状を有するものではなく、充分な光拡散性能を有するものではなかった。
特開2001−124908号公報 特開平11−160505号公報
従って、本発明の主な目的は、良好な光散乱性能及び光拡散性能を発揮することができる表面凹凸形状及び内部ヘイズ値を有する防眩層を設けた光学積層体、偏光板及び画像表示装置を提供することにある。
本発明は、光透過性基材及び該光透過性基材上に設けられた防眩層を有する光学積層体であって、上記防眩層は、表面が凹凸形状を有するものであり、内部ヘイズ値が0.05〜35であり、上記防眩層は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体、内部ヘイズ形成フィラー、及び、浸透性溶媒を含む防眩層用組成物により形成されたものであり、かつ、前記防眩層用組成物において、前記内部ヘイズ形成フィラーは、含有量が0.5〜10質量%(固形分基準)であり、セルロース系樹脂は、含有量が0.5〜10質量%(固形分基準)であることを特徴とする光学積層体である。
内部ヘイズ形成フィラーは、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、及び、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物からなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。
上記防眩層は、表面の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが40〜600μmであり、θaが0.05〜4.5度であり、Rzが0.05〜3.5μm以下であることが好ましい。
上記光学積層体は、反射防止用積層体として用いられることが好ましい。
本発明は、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明は、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
以下、本発明において使用する基材、組成物を具体的に説明する。なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。
本発明の光学積層体は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体、内部ヘイズ形成フィラー、及び、浸透性溶剤を必須とした相分離型の防眩層用組成物により得られる防眩層を設けたものであり、上記防眩層は、内部ヘイズ形成フィラーを含有することによって、良好な表面凹凸形状を有し、高い内部ヘイズ値を有するものである。これによって、本発明の光学積層体は、良好な光拡散性能を発揮することができる。
上記防眩層は、上記防眩層用組成物により得られるものであるため、良好な表面凹凸形状を有するものである。すなわち、セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体の少なくとも二種の成分と、後述の内部ヘイズ形成フィラーとを適切な溶媒を用いて混合した防眩層形成用組成物を、光透過性基材上に付与して得ることができるものである。このような方法においては、上記セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体の少なくとも二種の成分を、適切な溶媒と共に混合した防眩層用組成物を用いることにより、液相からのスピノーダル分解により、相分離構造を有する被膜を形成することができる。
上記防眩層用組成物は、光透過性基材上に塗布した後、溶媒を乾燥等により蒸発又は除去する過程で、上記少なくとも二種の成分の間でスピノーダル分解による相分離が生じ、相間距離が比較的規則的な相分離構造を形成させることができる。
上記スピノーダル分解は、溶媒の除去に従って発生する相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、更に相分離が進行すると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造(球状、真球状、円盤状や楕円体状等の独立相の海島構造)となる。従って、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造(上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造)も形成できる。このようなスピノーダル分解による、海島構造(液滴相構造又は一方の相が独立又は孤立した相構造)、共連続相構造(又は網目構造)、又は、共連続相構造と液滴相構造とが混在した中間的構造によって、溶媒乾燥後には防眩層の表面に微細な凹凸が形成されるものである。
特に本発明の光学積層体では、上記防眩層用組成物が後述する内部ヘイズ形成フィラーを含有するものであるため、形成する防眩層の表面に充分な数及び大きさの凹凸を形成することができる。この理由については後述する。
このような溶媒の蒸発を伴うスピノーダル分解は、相分離構造のドメイン間の平均距離が規則性又は周期性を有するものとなるため、最終的に形成される凹凸形状も規則性又は周期性を有するものとすることができる点で好ましいものである。スピノーダル分解により形成された相分離構造は、セルロース系樹脂中の硬化性官能基又は(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体を硬化させることにより固定化できる。上記セルロース系樹脂中の硬化性官能基又は(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体の硬化は、(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体の種類に応じて、加熱、光照射等、あるいはこれらの方法の組み合わせにより行うことができる。加熱温度は、上記スピノーダル分解によって形成された相分離構造を維持できる条件である限り、特に限定されず、例えば、50〜150℃であることが好ましい。光照射による硬化は、紫外線硬化等で行うことができる。光硬化性を有する防眩層用組成物においては、光重合開始剤を含有することが好ましい。上記硬化性を有する成分は、硬化性官能基を有するセルロース系樹脂であっても、(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体であってもよい。
相分離構造において、防眩層の表面に凹凸形状が形成され、かつ表面硬度を高める点からは、少なくとも島状ドメインを有する液滴相構造であるのが有利である。なお、上記相分離構造が海島構造である場合、セルロース系樹脂が海相を形成してもよいが、表面硬度の観点から、セルロース系樹脂が島状ドメインを形成するのが好ましい。島状ドメインの形成により、乾燥後には防眩層の表面に所望の光学特性を発揮する凹凸形状が形成される。
上記相分離構造のドメイン間の平均距離は、通常、実質的に規則性又は周期性を有しており、後述する防眩層の表面の凹凸の平均間隔Smに相当する。上記相分離構造のドメイン間の平均距離は、例えば、50〜100μm程度であってもよい。上記相分離構造のドメイン間の平均距離は、樹脂の組み合わせの選択(特に溶解性パラメータに基づく樹脂の選択)等によって調整することができる。このようにドメイン間の平均距離を調整することによって、最終的に得られる防眩層表面の凹凸間の距離を好適な値とすることができる。
上記セルロース系樹脂としては特に限定されず、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセルロースアセテート類;セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のC1−6有機酸エステル;セルロースフタレート、セルロースベンゾエート等のC7−12芳香族カルボン酸エステル等の芳香族有機酸エステル;リン酸セルロース、硫酸セルロース等の無機酸エステル;酢酸・硝酸セルロースエステル等の混合酸エステル;セルロースフェニルカーバメート等のセルロースカーバメート類;シアノエチルセルロース等のセルロースエーテル類;ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシC2−4アルキルセルロース;メチルセルロース、エチルセルロース等のC1−6アルキルセルロース;カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセルロース、アセチルアルキルセルロース等を挙げることができる。上記セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材と防眩層との密着性及び透明性を向上させることができる。
硬化後の耐擦傷性の観点から、上記セルロース系樹脂は、(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体と反応可能な官能基を側鎖に有してもよい。
上記(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体としては特に限定されず、例えば、単量体、オリゴマー(又は樹脂、特に低分子量樹脂)であってよく、単量体としては、例えば、単官能性単量体[(メタ)アクリル酸エステル等の(メタ)アクリル系単量体、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート等の架橋環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレート等]、少なくとも2つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体[エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、アダマンタンジ(メタ)アクリレート等の架橋環式炭化水素基を有するジ(メタ)アクリレート]、3〜6程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体[トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等]が挙げられる。また、これらの(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体は、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。なかでも、形成する防眩層の硬度に優れることから上述した3〜6程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体が好適に用いられる。
オリゴマー又は樹脂としては、ビスフェノールA−アルキレンオキサイド付加体の(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート(ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート等)、ポリエステル(メタ)アクリレート(例えば、脂肪族ポリエステル型(メタ)アクリレート、芳香族ポリエステル型(メタ)アクリレート等)、(ポリ)ウレタン(メタ)アクリレート(例えば、ポリエステル型ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル型ウレタン(メタ)アクリレート)、シリコーン(メタ)アクリレート等が例示できる。これらの(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
上記(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体は、短時間で硬化できる光硬化性化合物が好ましく、例えば、紫外線硬化性化合物(モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂等)、EB硬化性化合物である。特に、実用的に有利な(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体は、紫外線硬化性樹脂である。さらに、耐擦傷性等の耐性を向上させるため、光硬化性化合物は、分子中に2以上(好ましくは2〜6、更に好ましくは2〜4程度)の重合性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。
本発明の光学積層体において、上記(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体としては、分子量1000以上で6官能以上の、ウレタン(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル(メタ)アクリレート及びエポキシ(メタ)アクリレートからなる群より選択される少なくとも1種(以下、これらの樹脂を樹脂(A)ともいう)や、分子量1000未満で2官能以上の(メタ)アクリレート(以下、樹脂(B)ともいう)であることが好ましい。充分な表面硬度を有する防眩層を得ることができるからである。なかでも、上記(メタ)アクリレート系樹脂前駆体は、上記樹脂(A)と樹脂(B)とを併用することが好ましい。なお、上記樹脂(A)は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本明細書において、上記分子量とは「重量平均分子量」を意味し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算にて得られた値である。
上記分子量1000以上で6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ、例えば、UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600B等が挙げられ;根上工業社製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンHDP、アートレジンUN9000H、アートレジンUN3320HA、アートレジンUN3320HB、アートレジンUN3320HC、アートレジンUN3320HS、アートレジンUN901M、アートレジンUN902MS、アートレジンUN903等が挙げられ;新中村化学社製のUA100H、U4H、U4HA、U6H、U6HA、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMI等が挙げられ;ダイセル・ユーシービー社製のEbecrylシリーズ、例えば、1290、5129、254、264、265、1259、1264、 4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450等が挙げられ;荒川化学社製のビームセットシリーズ、例えば、371、577等が挙げられ;三菱レーヨン社製のRQシリーズ。大日本インキ社製のユニディックシリーズ等が挙げられ;DPHA40H(日本化薬社製)、CN9006(サーマー社製)、CN968等が挙げられる。この中でも、好ましくは、UV1700B(日本合成社製)、DPHA40H(日本化薬社製)、アートレジンHDP(根上工業社製)、ビームセット371(荒川化学社製)、ビームセット577(荒川化学社製)U15HA(新中村化学社製)等が挙げられる。
また、上記分子量1000未満で2官能以上の(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、日本化薬社製のKAYARAD、KAYAMERシリーズ、例えば、DPHA、PET30、GPO303、TMPTA、THE330、TPA330、D310、D330、PM2、PM21、DPCA20、DPCA30、DPCA60、DPCA120等が挙げられ;東亞合成社製のアロニックスシリーズ、例えば、M305、M309、M310、M315、M320、M327、M350、M360、M402、M408、M450、M7100、M7300K、M8030、M8060、M8100、M8530、M8560、M9050等が挙げられ;新中村化学社製のNKエステルシリーズ、例えば、TMPT、A−TMPT、A−TMM−3、A−TMM3L、A−TMMT、A−TMPT−6EO、A−TMPT−3CL、A−GLY−3E、A−GLY−6E、A−GLY−9E、A−GLY−11E、A−GLY−18E、A−GLY−20E、A−9300、AD−TMP−4CL、AD−TMP等が挙げられ;新中村化学社製のNKエコノマーシリーズ、例えば、ADP51、ADP33、ADP42、ADP26、ADP15等が挙げられ;第一工業製薬社製のニューフロンティアシリーズ、例えば、TMPT、TMP3、TMP15、TMP2P、TMP3P、PET3、TEICA等が挙げられ;ダイセル・ユーシービー社製のEbecrylシリーズ、例えばTMPTA、TMPTAN、160、TMPEOTA、OTA480、53、PETIA、2047、40、140、1140、PETAK、DPHA等が挙げられ;サーマー社製のCD501、CD9021、CD9052、SR351、SR351HP、SR351LV、SR368、SR368D、SR415、SR444、SR454、SR454HP、SR492、SR499、SR502、SR9008、SR9012、SR9020、SR9020HP、SR9035、CD9051、SR350、SR9009、SE9011、SR295、SR355、SR399、SR399LV、SR494、SR9041、共栄社製のTMP等が挙げられる。
上記(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体として、上記樹脂(A)と樹脂(B)とを併用する場合、これらの配合比としては特に限定されず、本発明の光学積層体の防眩層の表面硬度に合わせて任意に調整される。
上記セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体は、ガラス転移温度が、例えば、−100〜250℃、好ましくは−50〜230℃、更に好ましくは0〜200℃程度(例えば、50〜180℃程度)であることが好ましい。なお、表面硬度の観点から、ガラス転移温度は、50℃以上(例えば、70〜200℃程度)、好ましくは100℃以上(例えば、100〜170℃程度)であるのが有利である。セルロース系樹脂の質量平均分子量は、例えば、100万以下、好ましくは1000〜50万程度の範囲から選択できる。
スピノーダル分解により生成された相分離構造は、活性光線(紫外線、電子線等)や熱等により最終的に硬化し、硬化樹脂を形成する。そのため、防眩層に耐擦傷性を付与でき、耐久性を向上できる。
上記セルロース系樹脂と(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体との割合(質量比)としては特に制限されず、例えば、セルロース系樹脂/(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体が、0.5/99.5〜10/90程度であることが好ましい。
上述したセルロース系樹脂と(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体とは、液相でのスピノーダル分解によって相分離する組み合わせを適宜選択して使用することが好ましい。このようなセルロース系樹脂と(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体とを選択してなる防眩層用組成物を用いることで、良好な光拡散性能を発揮できる表面凹凸形状が形成された防眩層を得ることができる。
また、上記選択したセルロース系樹脂と(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体との相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程で上記二種の成分同士が有効に相分離し、防眩層としての機能が向上する。なお、上記二種の成分の相分離性は、双方の成分に対する良溶媒を用いて均一溶液を調製し、溶媒を徐々に蒸発させる過程で、残存固形分が白濁するか否かを目視にて確認することにより簡便に判定できる。
通常、相分離した二相の成分は互いに屈折率が異なる。上記相分離した二相の成分の屈折率の差は、例えば、0.001〜0.2であることが好ましく、より好ましくは0.05〜0.15である。
上記防眩層用組成物は、上記セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体以外のポリマー及び/又は硬化性樹脂前駆体を含有するものであってもよい。
上記ポリマーとしては、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂(脂環式オレフィン系樹脂を含む)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂(例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン)、ポリフェニレンエーテル系樹脂(例えば、2,6−キシレノールの重合体)、シリコーン樹脂(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン)、ゴム又はエラストマー(例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン等のジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム)等が挙げられる。これらは、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。複数のポリマーのうち、少なくとも1つのポリマーが、硬化性樹脂前駆体の硬化反応に関与する官能基、例えば、(メタ)アクリロイル基等の重合性基を有していてもよい。上記ポリマーは、熱硬化性であっても熱可塑性であってもよいが、熱可塑性樹脂であることがより好ましい。
上記ポリマーは、非結晶性で有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶なものであることが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ましい。
上記スチレン系樹脂としては、スチレン系単量体の単独又は共重合体(例えば、ポリスチレン、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体)、スチレン系単量体と他の重合性単量体[例えば、(メタ)アクリル系単量体、無水マレイン酸、マレイミド系単量体、ジエン類]との共重合体等が含まれる。スチレン系共重合体としては、例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体(AS樹脂)、スチレンと(メタ)アクリル系単量体との共重合体[例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体等]、スチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。好ましいスチレン系樹脂としては、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル系単量体との共重合体[例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体等のスチレンとメタクリル酸メチルを主成分とする共重合体]、AS樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体等が含まれる。
上記(メタ)アクリル系樹脂としては、(メタ)アクリル系単量体の単独又は共重合体、(メタ)アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体等が使用できる。(メタ)アクリル系単量体の具体例としては、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸C1−10アルキル;(メタ)アクリル酸フェニル等の(メタ)アクリル酸アリール;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート;N,N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリロニトリル;トリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレート等が例示できる。共重合性単量体の具体例としては、上記スチレン系単量体、ビニルエステル系単量体、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等が例示でき、これらの単量体は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
上記(メタ)アクリル系樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル等のポリ(メタ)アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸エステル−スチレン共重合体(MS樹脂等)等が挙げられる。好ましい(メタ)アクリル系樹脂の具体例としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル等のポリ(メタ)アクリル酸C1−6アルキル、特にメタクリル酸メチルを主成分(50〜100質量%、好ましくは70〜100質量%程度)とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。
上記有機酸ビニルエステル系樹脂の具体例としては、ビニルエステル系単量体の単独又は共重合体(ポリ酢酸ビニル、ポリプロピオン酸ビニル等)、ビニルエステル系単量体と共重合性単量体との共重合体(エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体等)又はそれらの誘導体が挙げられる。ビニルエステル系樹脂の誘導体の具体例としては、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール樹脂等が含まれる。
上記ビニルエーテル系樹脂の具体例としては、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルt−ブチルエーテル等のビニルC1−10アルキルエーテルの単独又は共重合体;ビニルC1−10アルキルエーテルと共重合性単量体との共重合体(ビニルアルキルエーテル−無水マレイン酸共重合体等)等を挙げることができる。
上記ハロゲン含有樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
上記オレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィンの単独重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体等の共重合体が挙げられる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、環状オレフィン(例えば、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン)の単独又は共重合体(例えば、立体的に剛直なトリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する重合体)、上記環状オレフィンと共重合性単量体との共重合体(例えば、エチレン−ノルボルネン共重合体、プロピレン−ノルボルネン共重合体)等が例示できる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、商品名「アートン(ARTON)」、商品名「ゼオネックス(ZEONEX)」等として入手できる。
上記ポリエステル系樹脂としては、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸を用いた芳香族ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリC2−4アルキレンテレフタレートやポリC2−4アルキレンナフタレート等のホモポリエステル、C2−4アルキレンアリレート単位(C2−4アルキレンテレフタレート及び/又はC2−4アルキレンナフタレート単位)を主成分(例えば、50質量%以上)として含むコポリエステル等、を挙げることができる。コポリエステルの具体例としては、ポリC2−4アルキレンアリレートの構成単位のうち、C2−4アルキレングリコールの一部を、ポリオキシC2−4アルキレングリコール、C6−10アルキレングリコール、脂環式ジオール(シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールA等)、芳香環を有するジオール(フルオレノン側鎖を有する9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン、ビスフェノールA、ビスフェノールA−アルキレンオキサイド付加体等)等で置換したコポリエステル、芳香族ジカルボン酸の一部を、フタル酸、イソフタル酸等の非対称芳香族ジカルボン酸、アジピン酸等の脂肪族C6−12ジカルボン酸等で置換したコポリエステルが含まれる。ポリエステル系樹脂の具体例としては、ポリアリレート系樹脂、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸を用いた脂肪族ポリエステル、ε−カプロラクトン等のラクトンの単独又は共重合体も含まれる。好ましいポリエステル系樹脂は、通常、非結晶性コポリエステル(例えば、C2−4アルキレンアリレート系コポリエステル等)等のように非結晶性である。
上記ポリアミド系樹脂としては、ナイロン46、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12等の脂肪族ポリアミド、ジカルボン酸(例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸等)とジアミン(例えば、ヘキサメチレンジアミン、メタキシリレンジアミン)とから得られるポリアミド等が挙げられる。ポリアミド系樹脂の具体例としては、ε−カプロラクタム等のラクタムの単独又は共重合体であってもよく、ホモポリアミドに限らずコポリアミドであってもよい。
上記ポリカーボネート系樹脂としては、ビスフェノール類(ビスフェノールA等)をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が含まれる。
上記ポリマーとしては、硬化性官能基を有するポリマーを用いることもできる。上記硬化性官能基は、ポリマー主鎖中に存在するものであっても、側鎖に存在するものであってもよいが、側鎖に存在することがより好ましい。上記硬化性官能基としては、縮合性基や反応性基(例えば、ヒドロキシル基、酸無水物基、カルボキシル基、アミノ基又はイミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基)、重合性基(例えば、ビニル、プロペニル、イソプロペニル基、ブテニル、アリル等のC2−6アルケニル基、エチニル、プロピニル、ブチニル等のC2−6アルキニル基、ビニリデン等のC2−6アルケニリデン基、又はこれらの重合性基を有する基(例えば、(メタ)アクリロイル基)等が挙げられる。これらの官能基のうち、重合性基が好ましい。
上記硬化性官能基を側鎖に導入する方法としては、例えば、反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂と、上記官能基との反応性基を有する重合性化合物とを反応させる方法等を挙げることができる。
上記反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂(例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂)、ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂(例えば、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂)、アミノ基を有する熱可塑性樹脂(例えば、ポリアミド系樹脂)、エポキシ基を有する熱可塑性樹脂(例えば、エポキシ基を有する(メタ)アクリル系樹脂やポリエステル系樹脂)等が例示できる。また、スチレン系樹脂やオレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂に、上記官能基を共重合やグラフト重合で導入した樹脂であってもよい。
上記重合性化合物は、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、エポキシ基やヒドロキシル基、アミノ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等を用いることができる。ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やイソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。アミノ基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル又はその酸無水物基やエポキシ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。エポキシ基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やアミノ基等を有する重合性化合物等が挙げられる。
上記重合性化合物のうち、エポキシ基を有する重合性化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキセニル(メタ)アクリレート等のエポキシシクロC5−8アルケニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が例示できる。ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシC1−4アルキル(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のC2−6アルキレングリコール(メタ)アクリレート等が例示できる。アミノ基を有する重合性化合物としては、例えば、アミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノC1−4アルキル(メタ)アクリレート、アリルアミン等のC3−6アルケニルアミン、4−アミノスチレン、ジアミノスチレン等のアミノスチレン類等が例示できる。イソシアネート基を有する重合性化合物としては、例えば、(ポリ)ウレタン(メタ)アクリレートやビニルイソシアネート等が例示できる。カルボキシル基又はその酸無水物基を有する重合性化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸や無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸又はその無水物等が例示できる。
代表的な例としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂とエポキシ基含有化合物、特に(メタ)アクリル系樹脂((メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体等)とエポキシ基含有(メタ)アクリレート(エポキシシクロアルケニル(メタ)アクリレートやグリシジル(メタ)アクリレート等)の組み合わせが挙げられる。具体的には、(メタ)アクリル系樹脂のカルボキシル基の一部に重合性不飽和基を導入したポリマー、例えば、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートのエポキシ基を反応させて、側鎖に光重合性不飽和基を導入した(メタ)アクリル系ポリマー(サイクロマーP、ダイセル化学工業(株)製)等が使用できる。
熱可塑性樹脂に対する硬化反応に関与する官能基(特に重合性基)の導入量は、熱可塑性樹脂1kgに対して、0.001〜10モルであることが好ましく、より好ましくは0.01〜5モル、更に好ましくは0.02〜3モル程度である。
上記防眩層用組成物は、光透過性基材に対して浸透性のある浸透性溶媒を含有する。本発明において、浸透性溶媒の「浸透性」とは、光透過性基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。このような浸透性溶媒が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、上記防眩層用組成物の一部が光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、高い強度を得ることができる。
上記浸透性溶媒を含有することで、上記セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体が、例えば、TAC等の光透過性基材に対して密着性を有さないような場合であっても、該光透過性基材に対する密着性に優れた防眩層を形成することができる。
上記浸透性溶媒の具体例としては、例えば、ケトン類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、含窒素化合物;ニトロメタン、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、グリコール類;メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、エーテル類;テトラヒドロフラン、1,4―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素;塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。
上記防眩層用組成物中の浸透性溶媒の含有量としては、溶媒全量中10〜100質量%、特に50〜100質量%となることが好ましい。
また、上記防眩層用組成物には浸透性でない溶剤が含まれていてもよい。上記浸透性でない溶剤としては、上記セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分(複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤)を均一に溶解できる溶媒であればよく、湿式スピノーダル分解において使用することができる。そのような浸透性でない溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、水、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、シクロヘキサノール等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が挙げられる。これらは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記防眩層用組成物中の溶質(ポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤)の濃度は、相分離が生じる範囲及び流延性やコーティング性等を損なわない範囲で選択でき、例えば、1〜80質量%、好ましくは5〜60質量%、更に好ましくは15〜40質量%(特に20〜40質量%)程度である。
更に、上記防眩層用組成物は、内部ヘイズ形成フィラーを含有する。
上記内部ヘイズ形成フィラーを含有することにより、高い内部ヘイズ値を得ることができる。具体的には、上記内部ヘイズ値は0.05〜35である。上記内部ヘイズ値が上記範囲内であることにより、防眩層の表面凹凸の形成を促進し、かつ、本発明の光学積層体を用いてなる画像表示装置が、ギラツキやコントラストの低下等を抑制することができるため好ましい。
上記内部ヘイズ値は、防眩層の上にクリヤー層(例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート)を乾燥膜厚9g/mとなるように被膜を設け、それを硬化し防眩層の表面を平滑としたものを得て、JIS K7136に準じたヘイズ測定を行って得られた値をHz(A)とし、光透過性基材に直接上記と同様にしてクリヤー層を設け、同様にヘイズ測定を行って得られた値をHz(B)とすると、内部ヘイズ値=Hz(A)−Hz(B)として得ることができる。
更に、上記防眩層用組成物が上記内部ヘイズ形成フィラーを含有することで、形成する防眩層に充分な数及び大きさの表面凹凸を形成することが可能となる。これは、以下の理由によると考えられる。
すなわち、上述したとおり、上記セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体とのスピノーダル分解によって生じた相分離構造により、形成する防眩層表面に凹凸を形成することができるが、上記防眩層用組成物が内部ヘイズ形成フィラーを含有しない場合、形成される凹凸は小さく充分なものとは言い難い。
これに対し、上記防眩層用組成物が内部ヘイズ形成フィラーを含有すると、該内部ヘイズ形成フィラーは、上記スピノーダル分解による相分離構造の核になると考えられる。その結果、上記スピノーダル分解によって形成された相分離構造により形成される防眩層表面の凹凸を充分に成長させることが可能になるからであると考えられる。
上記内部ヘイズ形成フィラーは、上記セルロース系樹脂及び(メタ)アクリレート系硬化性樹脂よりも高い屈折率のものであるため、高い内部ヘイズを発生させることができる。
上記内部ヘイズ形成フィラーは、平均粒子径が好ましくは0.1μm〜7.5μmである。上記平均粒子径は、コールターカウンター法(電気抵抗法)等により計測することができる。また、レーザー回折法やSEM観察などによっても測定できる。また、上記内部ヘイズ形成フィラーは、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒子径が上記範囲内であることが好ましい。平均粒子径とは、単分散型の粒子(形状が単一な粒子)であれば、その平均粒子径を表し、ブロードな粒度分布を持つ不定形型の粒子であれば、粒度分布測定により、最も多く存在する粒子の粒径を平均粒子径として表している。
具体的な内部ヘイズ形成フィラーの素材としては、プラスチックビーズが好適であり、ポリスチレン系樹脂、ホルムアルデヒド系樹脂、アミノ系樹脂、ユリア系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、キシレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の樹脂からなる微粒子が好ましく、具体的には、ポリスチレン樹脂ビーズ(屈折率1.59)、メラミン樹脂ビーズ(屈折率1.57)、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物ビーズ(屈折率1.57)、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物ビーズ(屈折率1.57)、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物ビーズ(屈折率1.57)、アクリル樹脂ビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレン共重合樹脂ビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネート樹脂ビーズ、ポリエチレン樹脂ビーズ、ポリ塩化ビニル樹脂ビーズ等が用いられる。なかでも、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物ビーズを含むことが好ましい。上記内部ヘイズ形成フィラーは、1種類のみ用いても、2種類以上を混合して用いてもよい。
上記防眩層用組成物において、上記内部ヘイズ形成フィラーは、含有量が0.5〜10質量%であり、上記セルロース系樹脂は、含有量が0.5〜10質量%である。
上記内部ヘイズ形成フィラーの含有量が0.5質量%未満であると、防眩層の表面への凹凸の形成が不充分となり、10質量%を超えると、防眩層の強度低下や光透過基材との密着性低下を引き起こす。
一方、上記セルロース系樹脂の含有量が0.5質量%未満であると、防眩層の透明性低下や光透過性基材との密着性低下を引き起こし、10質量%を超えると、防眩層上に更に別層を積層する場合、該別層との密着性が低下する。
上記内部ヘイズ形成フィラーの含有量の好ましい下限は1質量%、好ましい上限は8質量%であり、上記セルロース系樹脂の含有量の好ましい下限は1質量%、好ましい上限は8質量%である。
上述した防眩層用組成物により形成された防眩層は、表面の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが40〜600μmであり、θaが0.05〜4.5度であり、Rzが0.05〜3.5μm以下であることが好ましい。このような数値を満たすものとすることによって、特に好適に効果を得ることができる。
なお、これらの数値は、防眩層の形成に使用する樹脂種や内部ヘイズ形成フィラーの粒子径や配合量等、形成する防眩層の膜厚、及び、防眩層用組成物を乾燥させる際の乾燥温度等を調整することによって、適宜所望の範囲のものとすることができる。
上記Sm(μm)とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θa(度)は凹凸部の平均傾斜角を表すものであり、(Rz)は、10点平均粗さを表すものであり、その定義は、JIS B 0601−1994に従い、表面粗さ測定器:SE−3400/(株)小坂研究所製取り扱い説明書(1995.07.20改訂)にも記載されている。
θaは角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、
Δa=tanθa=(各凹凸の極小部と極大部の差(各凸部の高さに相当)の総和/基準長さ)で求められる。基準長さは、測定条件に記載の通り。
上記光学積層体の表面粗さを表すパラメータ(Sm、θa、Rz)を測定する場合、例えば、表面粗さ測定器(型番:SE−3400/(株)小坂研究所製)を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。表面粗さ測定器の測定条件:JIS B0601 1994に準拠する。
1)表面粗さ検出部の触針:
型番/SE2555N(2μ標準)(株)小坂研究所製
(先端曲率半径2μm/頂角:90度/材質:ダイヤモンド)
2)表面粗さ測定器の測定条件:
基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):
1:0.25または2:0.8または3:1.25または4:2.5mm
評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):
1:1.25または2:4.0または3:6.25または4:12.5mm
触針の送り速さ:0.1mm/s
(基準長さ1、2、3、4のとき、評価長さは対応して1、2、3、4となる)
Rz、Smの基準長さや評価長さの選択については、Rz及びSmの範囲毎に、JIS B 0601−1994により定められた方法で決定した。Rzを求める場合の、Rz範囲に対応する基準長さ及び評価長さの標準値の区分を表1に、Smを求める場合の、Sm範囲に対応する基準長さ及び評価長さの標準値の区分を表2に示した。( )内は参考値である。
Figure 2009069427
Figure 2009069427
上記防眩層の膜厚は、0.5〜20μmであることが好ましい。上記防眩層の膜厚がこの範囲であることで、該防眩層表面に上述したパラメータを満たすような凹凸を好適に形成することができ、本発明の光学積層体に良好な光散乱性能及び光拡散性能を付与できる。
上記防眩層の膜厚は、以下の方法により測定することができる。
共焦点レーザー顕微鏡(LeicaTCS−NT:ライカ社製:倍率「300〜1000倍」)にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の測定基準により測定することができる。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率1.518のオイルを約2mL乗せて観察し判断する。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いる。
測定手順
1:レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
2:測定条件は、上記の通りであった。
3:1画面につき 凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの層厚を1点ずつ計2点測定し、それを5画面分、計10点測定し、平均値を算出し、これを、防眩層の膜厚とする。このレーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察をすることができる。また、各層の組成の違いで観察できるSEM及びTEM断面写真の観察を用いて、5画面分の観察を行うことで同様に求めることができる。
光透過性基材
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系化合物が挙げられる。なかでも、発明の効果を発揮しやすいというの観点からトリアセチルセルロース(TAC)であることがより好ましい。
光透過性基材の厚さは、20〜300μm以下であることが好ましく、より好ましくは上限が200μmであり、下限が30μmである。
また、上記光透過性基材は、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。また、上記光透過性基材がトリアセチルセルロースの場合、ケン化処理をあらかじめ行ってもよい。上記ケン化処理は既知の方法・条件で行ってよい。
本発明の光学積層体は、必要に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、低屈折率層、防汚層、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層等の通常の光学積層体に使用されるものであれば限定されない。
低屈折率層
低屈折率層は、外部からの光(例えば蛍光灯、自然光等)が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。これらの低屈折率層は、その屈折率が1.45以下、特に1.42以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の乾燥厚みは限定されないが、通常は30nm〜1μm程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
低屈折率層としては、好ましくは1)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、4)シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかにより構成される。上記フッ素系樹脂以外の樹脂については、上記内部散乱層形成用組成物を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。上記重合性化合物としては特に限定されず、例えば、電離放射線硬化性基、熱硬化性極性基等の硬化反応性基を有するものが好ましい。また、これらの反応性基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、上記重合体とは、上記のような反応性基等を一切もたないものである。
電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)を例示することができる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとして、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、含フッ素(メタ)アクリレート化合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物などもある。
熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、4−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体;フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体;エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;上記含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。
上記シリコーン成分としては特に限定されず、例えば、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
上記ジメチルシロキサン構造としてより具体的には、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル、又は、ポリアリールシロキサンに各種架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラアルコキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラン、テトライソプロペニルシラン等の四官能シラン、さらにはアルキル又はアルケニルトリアセトキシシラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシラントリアルコキシシランなどの3官能シランなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ反応させたものが挙げられる。
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも1個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物とを反応させて得られる化合物;フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、内部散乱層形成用組成物に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物(屈折率層用組成物)を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分(樹脂等)及び必要に応じて添加剤(例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等)を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、特に限定されず、公知のものを挙げることができる。
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を1.30〜1.45に調節することが可能である。
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開2001−233611号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平7−133105、特開2002−79616号公報、特開2006−106714号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
被膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒径の範囲内のものを利用することが可能である。
「空隙を有する微粒子」の平均粒径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。微粒子の平均粒径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒径は、動的光散乱法等によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中に樹脂100質量部に対して、通常0.1〜500質量部程度、好ましくは10〜200質量部程度とするのが好ましい。
上記溶剤としては特に限定されず、例えば、内部散乱層形成用組成物で例示したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール(IPA)、n−ブタノール、t−ブタノール、ジエチルケトン、PGME等である。
上記低屈折率層用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、内部散乱層形成用組成物において上述した公知の装置を使用して混合することができる。
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、内部散乱層の形成で上述した各種方法を用いることができる。
低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる0.5〜5cps(25℃)、好ましくは0.7〜3cps(25℃)の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤が添加されることが好ましい。
低屈折率層の膜厚(nm)dは、下記式(I):
=mλ/(4n) (I)
(上記式中、nは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)を満たすものが好ましい。
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式(II):
120<n<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
防汚層
防汚層は、光学積層体の最表面に汚れ(指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等)が付着しにくく、又は付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良く、特に低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の両側に防汚層が設けることが好ましい。防汚層の形成により、光学積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。低屈折率層がない場合でも、最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良い。
防汚層は、一般的には、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とするものであり、光学積層体の耐擦傷性を付与することもできる。上記防汚染剤としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、又はこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、2−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述の内部散乱層形成用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。
防汚層は、例えば内部散乱層の上に形成することができる。特に、防汚層が最表面になるように形成することが望ましい。防汚層は、例えば、防眩層自身に防汚性能を付与することにより代替することもできる。
帯電防止層
本発明の光学積層体は、更に帯電防止層を有するものであってもよい。上記帯電防止層は、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述の内部散乱層形成用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。
上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性化合物;スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物;アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物;アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物;スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物;上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ(パラフェニレン)、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。
上記帯電防止剤は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子としては特に限定されず、例えば、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。)、Sb(1.71)、SnO(1.997)、CeO(1.95)、酸化インジウム錫(略称 ITO;1.95)、In(2.00)、Al(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称ATO;2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称AZO;2.0)等を挙げることができる。
偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における内部散乱層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置とすることもできる。上記画像表示装置は、LCD等の非自発光型画像表示装置であっても、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等の自発光型画像表示装置であってもよい。
上記非自発光型の代表的な例であるLCDは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がLCDである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は上述の偏光板が形成されてなるものである。
上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
上記自発光型画像表示装置であるPDPは、表面ガラス基板(表面に電極を形成)と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板(電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成)とを備えてなるものである。上記画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上述した光学積層体を備えるものでもある。
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質:発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRTなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
上記画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、CRT、液晶パネル、PDP、ELD、FEDなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
本発明の光学積層体は、好適な表面凹凸形状及び内部ヘイズ値を有する防眩層を設けた光学積層体であって、良好な光散乱性能及び光拡散性能を発揮することができるものである。従って、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等に好適に適用することができる。
以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。
<製造例1>
下記材料を十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分60質量%の防眩層用組成物1〜5、1’〜7’を調製した。
防眩層用組成物1
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 94質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 3質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)3質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物2
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 94質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 1質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)1質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物3
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 94質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 10質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)
10質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物4
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 94質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 10質量部
メラミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターS12;日本触媒社製) 10質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物5
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PET30;日本化薬社製) 94質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 10質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)
10質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルイソブチルケトン 100質量部
防眩層用組成物1’
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製、10官能) 97質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 3質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物2’
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 80質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 20質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物3’
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 97質量部
メラミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製) 3質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物4’
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 80質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)
20質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物5’
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 79.9質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 20質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)
0.1質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物6’
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 79.9質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 0.1質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)
20質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
防眩層用組成物7’
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 94質量部
セルロースポリマー(エチルセルロース) 3質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)
3質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
トルエン 100質量部
防眩層用組成物8’
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PET30;日本化薬社製) 93質量部
アクリル微粒子(平均粒径5μm) 3質量部
シリカ微粒子(平均粒径3μm) 1質量部
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(エポスターMS;日本触媒社製)3質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 4質量部
トルエン 100質量部
実施例1
トリアセテートセルロース(TAC)フィルム(富士写真フィルム製、TF80UL、厚さ80ミクロン)を用意し、このフィルムの表面に防眩層用組成物1を、湿潤質量20g/m(乾燥質量10g/m)塗布(バーコーティング)し、次いで、70℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株))を用いて、照射線量100mJ/cmで紫外線照射を行うことにより、組成物を硬化させて、防眩層を形成して光学積層体を得た。
実施例2〜5、比較例1〜7、参考例1
防眩層用組成物を防眩層用組成物2〜5、防眩層用組成物1’〜7’及び防眩層用組成物8’に変更したこと以外は実施例1と同様にして、実施例2〜5、比較例1〜7及び参考例1に係る光学積層体を得た。
各光学積層体について、下記評価を行った。
評価1 表面凹凸
光学積層体を、粘着フィルムを貼りつけたガラス基材の上に貼りつけ、蛍光灯の映り込みを目視にて確認した。
評価×;蛍光灯がはっきり映り込んだ。
評価○;蛍光灯の映り込みが少なくぼやけて見える。
評価2 内部ヘイズ
内部ヘイズ値は、JIS K−7136に従って測定した。なお、測定機器として、反射・透過率計HM−150(村上色彩技術研究所)を使用した。
評価3 耐SW性
光学積層体のハードコート層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重200g/cmで10往復摩擦し、その後の塗膜の剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した
評価基準
評価○:塗膜の剥がれが全くなかった。
評価×:塗膜の剥がれがあった。
評価4 基材との密着性
塗布密着性(JIS K 5600):1mm角で合計100目のゴバン目を入れ、ニチバン製工業用24mmセロテープ(登録商標)を用いて5回連続剥離試験を行い、残っているマス目の数量を表示する。
Figure 2009069427
表3より、実施例により得られた光学積層体は、優れた光散乱性能及び光拡散性能を有し、かつ、密着性及び耐SW性にも優れたものであることが示された。
本発明により、優れた光散乱性能及び光拡散性能を有する光学積層体を得ることができる。本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等に好適に適用することができる。

Claims (7)

  1. 光透過性基材及び該光透過性基材上に設けられた防眩層を有する光学積層体であって、
    前記防眩層は、表面が凹凸形状を有するものであり、
    内部ヘイズ値が0.05〜35であり、
    前記防眩層は、セルロース系樹脂、(メタ)アクリレート系硬化性樹脂前駆体、内部ヘイズ形成フィラー、及び、浸透性溶媒を含む防眩層用組成物により形成されたものであり、かつ、
    前記防眩層用組成物において、前記内部ヘイズ形成フィラーは、含有量が0.5〜10質量%(固形分基準)であり、セルロース系樹脂は、含有量が0.5〜10質量%(固形分基準)である
    ことを特徴とする光学積層体。
  2. 内部ヘイズ形成フィラーは、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、及び、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む請求項1記載の光学積層体。
  3. 防眩層は、表面の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、Smが40〜600μmであり、θaが0.05〜4.5度であり、Rzが0.05〜3.5μm以下である請求項1又は2記載の光学積層体。
  4. 反射防止用積層体として用いられる、請求項1、2又は3記載の光学積層体。
  5. 最表面に請求項1、2、3又は4記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
  6. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
    前記偏光素子の表面に、請求項1、2、3又は4記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
  7. 最表面に請求項1、2、3若しくは4記載の光学積層体、又は、請求項6記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
JP2007237204A 2007-09-12 2007-09-12 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 Active JP4967943B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007237204A JP4967943B2 (ja) 2007-09-12 2007-09-12 光学積層体、偏光板及び画像表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007237204A JP4967943B2 (ja) 2007-09-12 2007-09-12 光学積層体、偏光板及び画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009069427A true JP2009069427A (ja) 2009-04-02
JP4967943B2 JP4967943B2 (ja) 2012-07-04

Family

ID=40605760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007237204A Active JP4967943B2 (ja) 2007-09-12 2007-09-12 光学積層体、偏光板及び画像表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4967943B2 (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010102309A (ja) * 2008-09-26 2010-05-06 Daicel-Cytec Co Ltd 偏光板及びその製造方法
WO2011065446A1 (ja) * 2009-11-27 2011-06-03 大日本印刷株式会社 光学積層体及び光学積層体の製造方法
CN102193130A (zh) * 2010-03-10 2011-09-21 大赛璐-氰特株式会社 偏振片和其制备方法
JP2012206502A (ja) * 2011-03-16 2012-10-25 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
WO2013042653A1 (ja) * 2011-09-22 2013-03-28 凸版印刷株式会社 積層体及びその製造方法並びにガスバリア材
WO2013047184A1 (ja) * 2011-09-29 2013-04-04 株式会社きもと 防眩性フィルム及び表示装置
JP2013065421A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 Konica Minolta Advanced Layers Inc 面光源装置及びそれが具備された液晶表示装置
CN103245982A (zh) * 2012-02-14 2013-08-14 大日本印刷株式会社 光学层叠体、偏振片和图像显示装置
CN103245981A (zh) * 2012-02-14 2013-08-14 大日本印刷株式会社 光学层叠体、偏振片和图像显示装置
JP2013195813A (ja) * 2012-03-21 2013-09-30 Nitto Denko Corp 光拡散素子および光拡散素子の製造方法
JP2013246371A (ja) * 2012-05-28 2013-12-09 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2014026123A (ja) * 2012-07-26 2014-02-06 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2014048345A (ja) * 2012-08-29 2014-03-17 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
WO2014167663A1 (ja) * 2013-04-10 2014-10-16 日東電工株式会社 光拡散素子の製造方法および光拡散素子
WO2015050273A1 (ja) * 2013-10-04 2015-04-09 住友化学株式会社 防眩フィルム
WO2015050272A1 (ja) * 2013-10-04 2015-04-09 住友化学株式会社 防眩フィルム

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102018287B1 (ko) 2015-09-11 2019-09-05 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004126495A (ja) * 2001-12-17 2004-04-22 Daicel Chem Ind Ltd 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置
WO2006088205A1 (ja) * 2005-02-21 2006-08-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 防眩性光学積層体
WO2007032170A1 (ja) * 2005-09-16 2007-03-22 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 帯電防止防眩フィルム
JP2007169330A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Fujifilm Corp 透明フィルム、光学フィルム、透明フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置
JP2008058723A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Sharp Corp 防眩性フィルム及び液晶表示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004126495A (ja) * 2001-12-17 2004-04-22 Daicel Chem Ind Ltd 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置
WO2006088205A1 (ja) * 2005-02-21 2006-08-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 防眩性光学積層体
WO2007032170A1 (ja) * 2005-09-16 2007-03-22 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 帯電防止防眩フィルム
JP2007169330A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Fujifilm Corp 透明フィルム、光学フィルム、透明フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置
JP2008058723A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Sharp Corp 防眩性フィルム及び液晶表示装置

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010102309A (ja) * 2008-09-26 2010-05-06 Daicel-Cytec Co Ltd 偏光板及びその製造方法
WO2011065446A1 (ja) * 2009-11-27 2011-06-03 大日本印刷株式会社 光学積層体及び光学積層体の製造方法
JP2011112964A (ja) * 2009-11-27 2011-06-09 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体及び光学積層体の製造方法
CN102640020A (zh) * 2009-11-27 2012-08-15 大日本印刷株式会社 光学层积体及光学层积体的制造方法
KR101798354B1 (ko) * 2009-11-27 2017-11-15 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체 및 광학 적층체의 제조 방법
CN102193130A (zh) * 2010-03-10 2011-09-21 大赛璐-氰特株式会社 偏振片和其制备方法
JP2012206502A (ja) * 2011-03-16 2012-10-25 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
JP2013065421A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 Konica Minolta Advanced Layers Inc 面光源装置及びそれが具備された液晶表示装置
EP2759402A4 (en) * 2011-09-22 2016-01-13 Toppan Printing Co Ltd LAMINATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF AND GAS BARRIER MATERIAL
US9994726B2 (en) 2011-09-22 2018-06-12 Toppan Printing Co., Ltd. Laminate, method for producing same, and gas barrier material
JP2016185711A (ja) * 2011-09-22 2016-10-27 凸版印刷株式会社 積層体及びその製造方法並びにガスバリア材
WO2013042653A1 (ja) * 2011-09-22 2013-03-28 凸版印刷株式会社 積層体及びその製造方法並びにガスバリア材
JPWO2013042653A1 (ja) * 2011-09-22 2015-03-26 凸版印刷株式会社 積層体及びその製造方法並びにガスバリア材
CN103917366A (zh) * 2011-09-22 2014-07-09 凸版印刷株式会社 层压体、该层压体的制备方法以及气体阻隔材料
JPWO2013047184A1 (ja) * 2011-09-29 2015-03-26 株式会社きもと 防眩性フィルム及び表示装置
TWI571651B (zh) * 2011-09-29 2017-02-21 Kimoto Co Ltd Anti - glare film and display device
WO2013047184A1 (ja) * 2011-09-29 2013-04-04 株式会社きもと 防眩性フィルム及び表示装置
KR20130093553A (ko) * 2012-02-14 2013-08-22 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치
KR101992496B1 (ko) * 2012-02-14 2019-06-24 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치
JP2013167697A (ja) * 2012-02-14 2013-08-29 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
CN106886065A (zh) * 2012-02-14 2017-06-23 大日本印刷株式会社 光学层叠体、偏振片和图像显示装置
TWI618942B (zh) * 2012-02-14 2018-03-21 大日本印刷股份有限公司 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置
CN106886065B (zh) * 2012-02-14 2019-11-22 大日本印刷株式会社 光学层叠体、偏振片和图像显示装置
CN103245981A (zh) * 2012-02-14 2013-08-14 大日本印刷株式会社 光学层叠体、偏振片和图像显示装置
CN103245982A (zh) * 2012-02-14 2013-08-14 大日本印刷株式会社 光学层叠体、偏振片和图像显示装置
JP2013195813A (ja) * 2012-03-21 2013-09-30 Nitto Denko Corp 光拡散素子および光拡散素子の製造方法
JP2013246371A (ja) * 2012-05-28 2013-12-09 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2014026123A (ja) * 2012-07-26 2014-02-06 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2014048345A (ja) * 2012-08-29 2014-03-17 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
KR20150143469A (ko) * 2013-04-10 2015-12-23 닛토덴코 가부시키가이샤 광 확산 소자의 제조 방법 및 광 확산 소자
US9891353B2 (en) 2013-04-10 2018-02-13 Nitto Denko Corporation Light-diffusing-element manufacturing method and light-diffusing element
WO2014167663A1 (ja) * 2013-04-10 2014-10-16 日東電工株式会社 光拡散素子の製造方法および光拡散素子
KR102091901B1 (ko) * 2013-04-10 2020-03-20 닛토덴코 가부시키가이샤 광 확산 소자의 제조 방법 및 광 확산 소자
WO2015050272A1 (ja) * 2013-10-04 2015-04-09 住友化学株式会社 防眩フィルム
WO2015050273A1 (ja) * 2013-10-04 2015-04-09 住友化学株式会社 防眩フィルム

Also Published As

Publication number Publication date
JP4967943B2 (ja) 2012-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4967943B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP5103824B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP5509594B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP5181692B2 (ja) 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
JP5139781B2 (ja) 機能性フィルム及び表示装置
JP4377578B2 (ja) 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置
KR101408637B1 (ko) 방현성 광학 적층체
JP4217097B2 (ja) 防眩性フィルム
KR101418946B1 (ko) 방현성 광학 적층체
JP4901914B2 (ja) 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置
JP5024287B2 (ja) 光学積層体及び光学積層体の製造方法
KR101200200B1 (ko) 광학 적층체
JP5098571B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP4739720B2 (ja) 防眩性膜の製造方法
JPWO2007142142A1 (ja) 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置
WO2008020587A1 (fr) Stratifié optique antireflet
JP4709520B2 (ja) 防眩性フィルム
JPWO2006088205A1 (ja) 防眩性光学積層体
TW200533951A (en) Process for the production of antireflective film, antireflective film, polarizing plate, and image display device
WO2008020610A1 (fr) Stratifié optique, polariseur et unité d'affichage d'image
JP2008203835A (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP5408991B2 (ja) 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP2009265651A (ja) 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP4962192B2 (ja) 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置
JP5096069B2 (ja) 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100520

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111213

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120213

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20120213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120306

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120319

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4967943

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150