JP5509594B2 - 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
0.0028≦ψ≦0.0043であり、
0.3≦θa≦0.8であり、
上記ハードコート層B上に更に、厚みが3μm以上15μm以下の表面調整層が設けられており、上記クリアハードコート層Aと光透過性基材との界面が実質的に存在しないことを特徴とする光学積層体である。
上記Rzは、0.3〜0.51μmであり、
Smは、60〜200μmであり、
0.3≦θa≦0.8であることが好ましい。
本発明は、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、上記透過性表示体の表面に、上記光学積層体又は上記偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール(IPA)、n−ブタノール、t−ブタノール、ジエチルケトン、PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)等である。
その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコールなどのアルコール類や、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類も、上記溶剤と混合して用いることができる。上記浸透性溶剤を使用することにより、光透過性基材とクリアハードコート層Aとの間の界面による干渉縞が防止でき、かつ密着性が高まり好ましい。
上記クリアハードコート層A用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。
本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター(Sm、θa、Rz)を測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。
1)表面粗さ検出部の触針:
型番/SE2555N(2μ標準)(株)小坂研究所製
(先端曲率半径2μm/頂角:90度/材質:ダイヤモンド)
2)表面粗さ測定器の測定条件:
基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.8mm
評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):4.0mm
触針の送り速さ:0.1mm/s
ハードコート層B中における上記(メタ)アクリレート系化合物及び上記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物の合計の含有割合(固形分)としては特に限定されないが、例えば、10〜100質量%が好ましく、20〜100質量%がより好ましい。これらの化合物以外の成分として、後記の添加剤のほか、3未満の官能基を有する化合物等が含まれていても良い。
また、ハードコート層Bにおける上記(メタ)アクリレート系化合物と上記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物との割合としては特に限定されないが、上記(メタ)アクリレート系化合物と上記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物との合計100質量%中、上記(メタ)アクリレート系化合物が0〜90質量%(特に5〜90質量%)とし、上記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物が100〜10質量%(特に95〜10質量%)とすることが望ましい。
上記方法1によって使用される微粒子は、球状、例えば真球状、楕円状等のものであってよく、真球状であることがより好ましい。また、何種類かの微粒子を同時に用いることもできる。上記微粒子の各種類毎の平均粒子径(μm)は、1.0μm以上20μm以下であることが好ましく、上限が15.0μmであり下限が、3.5μmであるものがより好ましい。なお、上記微粒子の平均粒子径は、レーザー回折法やコールター法(電気抵抗法)などによって測定した値である。また、上記微粒子は、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒子径が上記範囲内であることが好ましい。
0.25R(好ましくは0.50)≦r≦1.0R(好ましくは0.75) (I)
を満たすものが好ましい。
rが0.25R以上であることにより、塗布液の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。第三微粒子の平均粒子径をr’(μm)とした場合に、第二微粒子rと第三微粒子r’においても、上記と同じ関係が好ましい。(0.25r(好ましくは0.50r)≦r’≦1.0r(好ましくは0.75r))但し、第一、第二、第三微粒子とも、同じ成分からなる場合には、粒子径は必ず異なることが好ましい。
0.08≦(M1+M2)/M≦0.36 (II)
0≦M2≦4.0M1 (III)
を満たすものが好ましい。
上記方法は、ポリマーと硬化性樹脂前駆体とからなる群から選択される少なくとも二種の成分を組合せ、適切な溶媒を用いて混合したハードコート層B用組成物をクリアハードコート層A上に付与して形成する方法である。
方法3は、樹脂からなる被膜層を形成し、被膜層表面に対して、凹凸形状を付与する賦型処理を行って凹凸形状を有するハードコート層Bを形成する方法である。このような方法は、ハードコート層Bが有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いた賦型処理によって好適に行うことができる。逆の凹凸形状を有する型はエンボス版、エンボスロール等が挙げられる。
共焦点レーザー顕微鏡(LeicaTCS−NT:ライカ社製:倍率「300〜1000倍」)にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率1.518のオイルを約2ml乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。凹凸形状を有するハードコート層Bは、測定によって得られた1画面につき 最表面の凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの膜厚を1点ずつ計2点測定し、それを5画面分、計10点測定し、平均値を算出した。クリアハードコート層Aの膜厚は、1画面につき、膜厚を1点ずつ測定し、5画面分、計5点測定し、平均値を算出することにより測定した。
上記レーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察できる。よって、もし、屈折率差が不明瞭であったり、差が0に近い場合には、クリアハードコート層A及びハードコート層Bの厚みは、各層の組成の違いで層を観察できるSEM及びTEM断面写真観察によっても、同様に5画面分を観察し、各平均値を求めることができる。
「表面ヘイズ」は、以下のように求められる。ハードコート層B(表面調整層、又は、後述する任意の層が形成されている場合は、その任意の層のうち最外層)の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレート等のアクリルモノマーとその他オリゴマーやポリマーを適宜混合したものをトルエン等で希釈し、適宜開始剤等を添加し、固形分60%としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が8μmとなるように塗布、乾燥、硬化する。これによって、ハードコート層B(任意の層が形成されている場合は、その任意の層のうち最外層)の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、このハードコート層Bや任意の層を形成する組成物中にレベリング剤等が入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理(2mol/l のNaOH(又はKOH)溶液 55度 3分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、50度オーブンで1分乾燥)により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ(全体ヘイズ)から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ(表面ヘイズ)として求められる。
また、低屈折率層の乾燥厚みは限定されないが、通常は30nm〜1μm程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
dA=mλ/(4nA) (V)
(上記式中、
nAは低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
120<nAdA<145 (VI)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
なかでも、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰イオンを、ドーパント(電子供与剤)として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチオフェンは透明性、帯電防止性が高く、好ましい。上記ポリチオフェンとしては、オリゴチオフェンも好適に使用することができる。上記導電性ポリマーの誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。
このような本発明の光学積層体の製造方法によると、トリアセチルセルロースを原料とする光透過性基材と、該光透過性基材上に形成したクリアハードコート層Aとの界面を実質的に存在しないものとすることができる。
41 光透過性基材
42 凹凸形状
43 コーティングヘッド
44 ハードコート層B用組成物
45a ニップローラー
45b 剥離ローラ
46 パイプ
47 エンボスローラー
48 硬化装置
49 スリット
クリアハードコート層A用組成物1
ポリエステルアクリレート(東亞合成社製;M9050、3官能、分子量418) 10質量部
重合開始剤(イルガキュア184:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.4質量部
メチルエチルケトン(以下、「MEK」という) 10質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層A用組成物1を調製した。
ポリエステルアクリレート 5質量部
(東亞合成社製;M9050、3官能、分子量418)
ウレタンアクリレート 5質量部
(日本化薬社製;DPHA40H、10官能、分子量約7000)
重合開始剤(イルガキュア184) 0.4質量部
MEK 10質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層A用組成物2を調製した。
ポリエチレングリコールジアクリレート 2質量部
(東亞合成社製;M240、2官能、分子量302)
ウレタンアクリレート 6質量部
(日本化薬社製;DPHA40H、10官能、分子量約7000)
ウレタンアクリレート 2質量部
(荒川化学社製;BS371、10官能以上、分子量約4万)
重合開始剤(イルガキュア184) 0.4質量部
MEK 10質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層A用組成物3を調製した。
ウレタンアクリレート 10質量部
(日本合成社製;紫光UV3520−TL、2官能、分子量14000)
重合開始剤(イルガキュア184) 0.4質量部
MEK 10質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してクリアハードコート層A用組成物4を調製した。
ハードコート層B用組成物1
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレートUV1700B(日本合成化学工業(株)10官能、分子量2000、屈折率1.51) 0.9質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51) 2.1質量部
ポリメチルメタクリレート(分子量75,000) 0.22質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.126質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.021質量部
(透光性第一微粒子)
単分散アクリルビーズ(粒子径5μm、屈折率1.535) 0.44質量部
(透光性第二微粒子)
不定形シリカ(平均粒子径1.5μm、粒子表面に疎水有機処理あり) 0.044質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.011質量部
上記材料に、トルエン/シクロヘキサノン=8/2の混合溶剤を添加し、十分混合し、固形分40.5質量%の組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層B用組成物1を調製した。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレートUV1700B(日本合成化学工業(株)10官能、分子量2000、製屈折率1.51) 1.10質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51) 1.10質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレート M215(日本化薬(株)製、屈折率1.51) 1.21質量部
ポリメチルメタクリレート(分子量75,000) 0.34質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.22質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.04質量部
(透光性第一微粒子)
単分散アクリルビーズ(粒子径9.5μm、屈折率1.535) 0.82質量部
(透光性第二微粒子)
不定形シリカインキ(平均粒子径1.5μm、固形分60%、シリカ成分は全固形分の15%) 1.73質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.02質量部
(溶剤)
トルエン 5.88質量部
シクロヘキサノン 1.55質量部
上記材料を十分混合し、固形分40.5質量%の組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層B用組成物2を調製した。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレートUV1700B(日本合成化学工業(株)10官能、分子量2000、製屈折率1.51) 30質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(日本化薬(株)製、屈折率1.51) 70質量部
(ポリマー)
ポリメチルメタクリレート(分子量75000) 10質量部
(透光性第一微粒子)
単分散アクリルビーズ(粒径7.0μm、屈折率1.535) 20質量部
(透光性第二微粒子)
単分散スチレンビーズ(粒径3.5μm、屈折率1.60) 2.5質量部
(透光性第三微粒子)
不定形シリカ(平均粒子径2.5μm 粒子表面に有機疎水処理あり) 2質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 6質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.045質量部
(溶剤)
トルエン 158質量部
シクロヘキサノン 39.5質量部
上記材料を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分40.5質量%のハードコート層B用組成物3とした。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレートUV1700B(日本合成化学工業(株)製、10官能、分子量2000、屈折率1.51) 30質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(日本化薬(株)製、屈折率1.51) 70質量部
(ポリマー)
ポリメチルメタクリレート(分子量75000) 10質量部
(透光性第一微粒子)
単分散アクリルビーズ(粒径7.0μm、屈折率1.535) 20質量部
(透光性第二微粒子)
単分散スチレンビーズ(粒径3.5μm、屈折率1.60) 16.5質量部
(透光性第三微粒子)
不定形シリカ(平均粒子径2.5μm) 2質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 6質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.045質量部
(溶剤)
トルエン 174.4質量部
シクロヘキサノン 43.6質量部
上記材料を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分40.5質量%のハードコート層B用組成物4とした。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレート BS371(荒川化学製、10官能以上、分子量約4万、屈折率1.51) 6質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51) 14質量部
セルロースアセテートプロピオネート(分子量50,000) 0.4質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.2質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.2質量部
(微粒子)
不定形シリカ(平均粒径1.5μm) 0.88質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.012質量部
(溶剤)
トルエン 35.4質量部
メチルイソブチルケトン 6.7質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分35質量%のハードコート層B用組成物5を調製した。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレートUV1700B(日本合成化学工業(株)製、屈折率1.51) 16質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレートM215(東亞合成(株)製) 2質量部
ポリメチルメタクリレート(分子量75,000) 2質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.2質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.2質量部
(微粒子)
単分散スチレンビーズ(粒径3.5μm、屈折率1.60) 0.5質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.0132質量部
上記材料と、トルエン:シクロヘキサノンが6:4の溶剤を、全固形分が40%となるように添加して十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層B用組成物6を調製した。
(樹脂)
酢酸プロピオン酸セルロースエステル(イーストマンケミカル社製、CAP482−20) 0.95質量部
反応性オリゴマー[(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートを付加させた化合物;ダイセル・ユーシービー(UCB)(株)製、サイクロマーP] 16.25質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 15.8質量部
(光重合開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 1.25質量部
(溶剤)
メチルエチルケトン 51質量部
ブタノール 17質量部
上記材料を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分33.5質量%のハードコート層B用組成物7とした。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレート BS371(荒川化学製 10官能以上、分子量約4万、屈折率1.51) 8質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51) 12質量部
セルロースアセテートプロピオネート(分子量50,000) 0.4質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.2質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.2質量部
(微粒子)
不定形シリカ(平均粒径1.5μm、シランカップリング剤による表面疎水処理あり) 0.46質量部
不定形シリカ(平均粒径1.0μm、シランカップリング剤による表面疎水処理あり) 0.46質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.012質量部
(溶剤)
トルエン 15.6質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20.3質量部
メチルイソブチルケトン 6.3質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分35質量%ハードコート層B用組成物8を調製した。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレートUV1700B(日本合成化学工業(株)製屈折率1.51) 18質量部
ポリメチルメタクリレート(分子量75,000) 2質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.32質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.22質量部
(微粒子)
単分散アクリルスチレンビーズ(粒径7.0μm、屈折率1.55) 1.5質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.09質量部
上記材料と、トルエン:シクロヘキサノンが8:2の溶剤を、全固形分が45質量%となるように添加して十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層B用組成物9を調製した。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレート HDP(根上工業社製、10官能、分子量4500、屈折率1.51) 10質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51) 40質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.50質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.50質量部
PETAを40℃オーブン中で1時間温めた後、2種類の光硬化開始剤をゆっくりと添加しながら攪拌し、40℃オーブンで更に1時間温め、その後、再攪拌し光硬化開始剤を完全に溶解させ、固形分100質量%のハードコート層B用組成物10として調製した。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレートUV6300B(日本合成化学工業(株)製屈折率1.51) 20質量部
MEK分散コロイダルシリカ(粒径10〜20nm、固形分30%) 20質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.2質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.2質量部
(微粒子)
単分散スチレンビーズ(粒径3.5μm、屈折率1.60) 1.9質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 10−28(大日精化(株)製) 0.09質量部
上記材料と、トルエン:シクロヘキサノンが8:2の溶剤を、全固形分が40質量%となるように添加して十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層B用組成物11を調製した。
(紫外線硬化型樹脂)
多官能ウレタンアクリレート HDP(根上工業社製、10官能、分子量4500、屈折率1.51) 10質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51) 10質量部
セルロースアセテートプロピオネート(分子量50,000) 0.4質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.2質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.2質量部
(微粒子)
不定形シリカ(平均粒径1.5μm、シランカップリング剤による表面疎水処理あり) 0.88質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 0.012質量部
(溶剤)
トルエン 35質量部
メチルイソブチルケトン 6.7質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分35質量%のハードコート層B用組成物12を調製した。
(熱硬化型樹脂)
ポリエステル樹脂 バイロン200(東洋紡(株)製、屈折率1.55) 100質量部
(硬化剤)
イソシアネート系XEL硬化剤(ザ・インクテック(株)製) 2.7質量部
(微粒子)
アクリルビーズ (積水化成工業(株)製、MBX−8、平均粒径8μm、屈折率 1.49) 180質量部
(溶剤)
トルエン 130質量部
メチルエチルケトン 100質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分50質量%のハードコート層B用組成物13を調製した。
(熱硬化型樹脂)
ポリエステル樹脂 バイロン200(東洋紡(株)製、屈折率1.55) 100質量部
(硬化剤)
イソシアネート系XEL硬化剤(ザ・インクテック(株)製) 2.7質量部
(微粒子)
アクリルビーズ(積水化成工業(株)製、MBX−5、平均粒径5μm、屈折率 1.49) 120質量部
(溶剤)
トルエン 130質量部
メチルエチルケトン 100質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分50質量%のハードコート層B用組成物14を調製した。
表面調整層用組成物1
(紫外線硬化型樹脂)
UV1700B(日本合成化学工業(株)製、屈折率1.51) 31.1質量部
アロニックスM315(商品名、東亞合成(株)製イソシアヌール酸のエチレンオキサイド3モル付加物のトリアクリレート) 10.4質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1.49質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.41質量部
(防汚剤)
UT−3971(日本合成化学工業(株)製) 2.07質量部
(溶剤)
トルエン 525.18質量部
シクロヘキサノン 60.28質量部
上記成分を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径10μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分40.5質量%の表面調整層用組成物1を調製した
コロイダルシリカスラリー(MIBK分散;固形分40%、平均粒径20nm) 2.91質量部
UV−1700B(紫外線硬化型樹脂;日本合成化学工業製 固形分60%MIBK) 6.10質量部
アロニックスM215(紫外線硬化型樹脂;東亞合成(株)製イソシアヌール酸のエチレンオキサイド2モル付加物のジアクリレート固形分60%MIBK) 1.52質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.018質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 0.003質量部
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 10−28(大日精化製) 0.0085質量部
(溶剤)
MIBK:メチルイソブチルケトン 2.06質量部
シクロヘキサノン 0.41質量部
上記成分を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分約45質量%の表面調整層用組成物2を調製した。
中空シリカスラリー(IPA,MIBK分散、固形分20%、粒径50nm) 9.57質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート PET30(紫外線硬化型樹脂;日本化薬製) 0.981質量部
AR110(フッ素ポリマー;固形分15%MIBK溶液;ダイキン工業製) 6.53質量部
イルガキュア184(光硬化開始剤;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.069質量部
シリコーン系レベリング剤 0.157質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 28.8質量部
メチルイソブチルケトン 53.9質量部
上記成分を攪拌の後、孔径10μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分4質量%の低屈折率層用組成物を調製した。これは、屈折率が1.40である。
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物1を約12μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物1をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#10を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が30mJになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層Bを形成した。
表面調整層の形成
さらにハードコート層Bの上に、表面調整層用組成物1を、コーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#6を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約19μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物2を、約6μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物2をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#14を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が30mJになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層Bを形成した。
表面調整層の形成
さらにハードコート層Bの上に、表面調整層用組成物1を、コーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#14を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約22.5μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物3を、約12μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物3をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#24を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約25μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物3を、約12μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物3をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#24を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が40mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層した。
低屈折率層の形成
さらにハードコートB層の上に、低屈折率層用組成物を、コーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#2を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層を積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の防眩層の総厚:約25μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物1を、約12μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物4をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#14を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が30mJになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層Bを形成した。
表面調整層の形成
さらにハードコート層Bの上に、表面調整層用組成物2を、コーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#10を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約24μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物2を、約12μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物5をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#6を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約15μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物3を、約10μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物6をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#10を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約16μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物2を、約10μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物7をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#24を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約18μm)
プライマー層の形成
アートンフィルム(膜厚100μm、JSR(株)製)に、変性ポリオレフィン系プライマー(ユニストールP901、三井化学(株)製)を、3μmの膜厚で塗工し、プライマー層を形成した。
クリアハードコート層Aの形成
さらに、上記プライマー層の上に、クリアハードコート層A用組成物1を、約10μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物8をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#6を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約16μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物3を、約5μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物9をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#34を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約25μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物1を、約5μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
エンボスローラーの調製
鉄製のローラーを準備し、ローラーの表面に、100メッシュ(粒径分布;106μm〜150μm)のガラスビーズを用いて、ビーズショットを行なうことにより、凹凸を形成し、得られた凹凸面にクロムを厚みが5μmになるようメッキして、エンボスローラとした。ビーズショットの際の吹付け圧力、吹付けノズルとローラーとの間隔等を調整することにより、本発明の光学積層体が有する防眩層の凹凸形状の光学特性に合致したエンボスローラーを作成した。
プライマー層の形成
ポリウレタン樹脂系のプライマー塗料(ザ・インクテック(株)製、ケミカルマットニス用メジウム主剤、硬化剤;XEL硬化剤(D))を、主剤/硬化剤/溶剤の質量比を、10/1/3.3の割合で混合した組成物を用いて、ハードコートA層上へグラビアコーティングを行ない、乾燥して、厚み3μmのプライマー層を形成した。溶剤としては、トルエン/メチルエチルケトン=1/1のものを用いた。
ハードコートB層の形成
図1で表した製造装置(エンボス装置40)に、調製したエンボスローラーを装着し、また、調製したハードコート層B用組成物10をコーティングヘッドの液溜めに供給した。液溜めは40℃で常に保温した。上記クリアハードコート層A及びプライマー層を有する基材を、エンボスローラに供給した。ハードコート層B用組成物10をエンボスローラに塗布し、上記基材をその組成物上に重ね、ゴムローラでラミネートし、続いて、フィルム側より、紫外線光源を用いて紫外線を200mj照射し硬化させ、エンボスローラより剥離し、防眩性光学積層体を形成した。(基材上の防眩層の総厚:約20μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物2を、約12μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物11をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#12を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約18μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物1を、約12μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物12をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#6を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、紫外線を照射線量が100mJになるよう照射して塗膜を硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約15μm)
クリアハードコート層Aの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、クリアハードコート層A用組成物4の組成物樹脂を、約6μm塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線40mJ/cm2を照射して下地用のクリアハードコート層Aを形成した。
ハードコート層Bの形成
さらに、クリアハードコート層Aの上に、ハードコート層B用組成物13をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#24を用いて塗布し、80℃のオーブン中で2分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させ、塗膜を熱硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約24μm)
ハードコート層Bの形成
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、ハードコート層B用組成物14をコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#28を用いて塗布し、80℃のオーブン中で2分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、塗膜を熱硬化させ、ハードコート層Bを積層し、防眩性光学積層体を得た。(基材上の積層体の総厚:約20μm)
(1)干渉縞有無試験
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を、30W三波長管灯下で目視により観察し、下記評価基準にて評価した。
評価基準
評価○:干渉縞の発生はなかった。
評価×:干渉縞の発生があった。
作製した光学積層体を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛筆(硬度4H)を用いて、JIS−K−5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、4.9Nの荷重にて実施した。
評価基準
評価○:傷なし/測定回数=4/5,5/5
評価×:傷なし/測定回数=0/5,1/5,2/5,3/5
Claims (5)
- 光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、
前記ハードコート層は、クリアハードコート層A及びハードコート層Bの二層からなり、
前記ハードコート層B上に更に、厚みが3μm以上15μm以下の表面調整層が設けられており、前記表面調整層の最表面が凹凸形状を有するものであり、凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとし、ψをRz/Smとした場合に、
0.0028≦ψ≦0.0043であり、
0.3≦θa≦0.8であり、
前記クリアハードコート層Aと光透過性基材との界面が実質的に存在しないことを特徴とする光学積層体。 - Rzは、0.3〜0.51μmであり、
Smは、60〜200μmであり、
0.3≦θa≦0.8である請求項1記載の光学積層体。 - 最表面に請求項1又は2記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
- 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子の表面に、請求項1又は2記載の光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に備えることを特徴とする偏光板。 - 最表面に請求項1又は2記載の光学積層体、又は、請求項4記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
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