JP2006123498A - 光学積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】 ポリエチレンテレフタレート基材とハードコート層との界面状態を改善した光学積層体を提供すること。
【解決手段】 ポリエチレンテレフタレート基材の上に、接着層を介してハードコート層を備えてなる光学積層体であって、前記接着層が、樹脂と、分散液とにより形成されてなり、前記分散液が、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子と、電離放射線硬化型樹脂と、アニオン性の極性基を有する分散剤と、有機溶剤と、チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤とを含んでなるものにより達成される。
【選択図】 なし

Description

本発明は、界面反射と干渉縞を防止した光学積層体に関する。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、防眩層または反射防止層を形成させた光学積層体（例えば、反射防止積層体）を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。

しかしながら、屈折率の差が大きい層を積層させた光学積層体にあっては、互いに重なり合った層の界面において、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見受けられた。特に、画面表示装置の画像表示面において黒色を再現した際に、干渉縞が顕著に発生し、その結果、画像の視認性を低下させ、また画像表示面の美観を損ねるとの指摘がしばしばなされていた。特に、光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折率が相違する場合、干渉縞の発生が生じやすいとされている。

これに対して、特開２００３−７５６０５号公報（特許文献１）では、透明基材フィルム上に、屈折率が１．５〜１．７の中屈折率層、屈折率が１．６〜１．８の高屈折率層、更に高屈折率層より低い屈折率材料よりなる低屈折率層を、この順で透明基材フィルム側から積層した反射防止ハードコートシートを使用することにより、界面反射および干渉縞等を解消することができるとの提案がなされている。この先行技術は各層を構成する材料自体に着目してなされたものといえる。また、特開２００３−２０５５６３号公報（特許文献２）によれば、基材の上に、基材を溶解する溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を形成する方法が提案されている。

しかしながら、本発明者らが確認したところ、ポリエチレンテレフタレート基材の上にハードコート層を形成する際に、特定の組成物を含んでなる接着層を介在させることにより、ポリエチレンテレフタレート基材とハードコート層との界面状態を改善し、反射界面と干渉縞を有効に防止することができたとする提案は未だなされていない。
特開２００３−７５６０５号公報 特開２００３−２０５５６３号公報

本発明者等は、本発明時において、ポリエチレンテレフタレート基材の上に、ハードコート層を形成する際に、特定の組成物を含んでなる接着層を介在させることにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止することができるとの知見を得た。よって、本発明はポリエチレンテレフタレート基材とハードコート層の界面における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、機械的強度と、視認性とを向上させた光学積層体の提供を目的とするものである。

従って、本発明による光学積層体は、
ポリエチレンテレフタレート基材の上に、接着層を介してハードコート層を備えてなるものであって、
前記接着層が、樹脂と、分散液とにより形成されてなり、
前記分散液が、１〜３０ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子と、電離放射線硬化型樹脂と、アニオン性の極性基を有する分散剤と、有機溶剤と、チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤とを含んでなるものである。

光学積層体
接着層
接着層は、樹脂と、分散液とを含んでなる組成物により形成されてなる。樹脂と、分散液との混合比は適宜定めることができるが、好ましくは７５：２５以上９２：８以下である。また、接着層全体の好ましい屈折率は、１．６７以上１．６９以下であり、接着層の膜厚は、好ましくは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。

１）樹脂
樹脂は、それが乾燥硬化した際の屈折率が１．５０以上１．５３以下であるものが好ましくは用いられる。樹脂の具体例としては、ポリエステル樹脂またはウレタン系樹脂が主要樹脂が好ましくは挙げられる。

ポリエステル樹脂の具体例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、メチルフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、アジピン酸、セバシン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸およびこれらの反応性誘導体等の酸原料と、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、イソペンチルグリコール、ビスヒドロキシエチルテレフタレート、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＡＡのアルキレンオキサイド付加物、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、２，２，４−トリメチルペンタン−１，３−ジオール等のアルコール原料から周知の方法で製造したものであり特に限定されるものではない。ポリエステル樹脂として最も好ましいものは、非結晶型共重合ポリエステルである。

ウレタン系樹脂の具体例としては、例えば、湿気硬化型（１液型）、熱硬化型（２液型）などの反応硬化型ウレタン系接着剤を用いることが好ましい。すなわち、湿気硬化型では、ポリイソシアネート化合物のオリゴマー、プレポリマー、熱硬化型では、ポリイソシアネート化合物のモノマー、オリゴマー、プレポリマーと、ポリオール化合物のオリゴマー、プレポリマーを混合して用いることができる。これらの反応硬化型ウレタン系接着剤を用いる場合、ラミネートの後に室温から４０℃の温度下でエージング処理を施す。

その他の成分
本発明の好ましい態様によれば、接着層用組成物にイソシアネート基を有する化合物を添加することが好ましい。イソシアネート基を有する化合物の具体例としては、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、３，３’−トリレン−４，４’−イソシアネート、ジフェニルメタン４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリフェニルメタンｐ，ｐ' ，ｐ" −トリイソシアネート（Ｔ．Ｍ）、２，４−トリレンダイマー（ＴＴ）、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート、トリス（４−フェニルイソシアネート）チオホスフェート、クルード（ＭＤＩ）、ＴＤＩ三量体、ジシクロヘキサメタン４，４’−ジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、水素添加ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）、メタキシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサヒドロメタキシリレンジイソシアネート（ＨＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルプロパン−１−メチル−２−イソシアノ−４−カババメート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、３，３' −ジメトキシ４，４’−ジフェニルジイソシアネート、ジフェニルエーテル２，４，１’−トリイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート（ＭＸＤＩ）、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート（ＰＡＰＩ）等が挙げられる。イソシアネート基を有する化合物の添加量は好ましくは接着層用組成物全量に対して１０重量％以上である。

本発明で使用される接着層用組成物には、他の樹脂を添加してよく、例えば、電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂を添加すると、接着層の上に積層されるハードコート層の密着性と柔軟性とを自由に調製することができるので好ましい。
電離放射線硬化型樹脂の中でも、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するものが好ましくは挙げられる。例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が好ましくは挙げることができる。

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。

２）分散液
分散液は、１〜３０ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子、電離放射線硬化型樹脂と、アニオン性の極性基を有する分散剤と、有機溶剤と、チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤とを含んでなるものである。分散液は、それが乾燥硬化した際の屈折率が１．７２以上１．８０以下であるように調製されるのが好ましい。

金属酸化物微粒子
金属酸化物微粒子はその屈折率が中屈折率〜高屈折率（１．９０〜２．５５）と高く、且つ、無色又は不着色のものであり、またその形状はいずれのものであってもよい。本発明における金属酸化物微粒子の一次粒子径は１〜３０ｎｍである。好ましくは３０ｎｍ以下のものを用いる。金属酸化物微粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等により目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。

金属酸化物微粒子の具体例としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、酸化アンチモン、インジウム錫混合酸化物とアンチモン錫混合酸化物からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられ、好ましくは酸化チタンが挙げられる。酸化チタンの具体例としては、ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型が挙げられ、好ましくは、高屈折率であるルチル型酸化チタンが好ましく使用できる。

電離放射線硬化型樹脂
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、紫外線または電子線のような電離放射線の照射により直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を有するモノマー又はオリゴマーが挙げられる。本発明においては、主に、エチレン性二重結合を有するラジカル重合性のモノマーまたはオリゴマーを用いることができ、必要に応じて光開始剤を組み合わせてよい。また、その他の電離放射線硬化型樹脂を用いることも可能であり、例えば、エポキシ基含有化合物のような光カチオン重合性のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。光カチオン重合性の樹脂には、必要に応じて光カチオン重合開始剤が組み合わせて用いられる。樹脂の分子間で架橋結合が生じるように、樹脂であるモノマー又はオリゴマーは、重合性官能基を２個以上有する多官能性の樹脂であることが好ましい。

エチレン性二重結合を有するラジカル重合性のモノマー及びオリゴマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フエノキシプロピルアクリレート、カルボキシポリカプロラクトンアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等の単官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート等のジアクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラアクリレート誘導体またはジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、或いは、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリゴマーを挙げることができる。本明細書中、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及び／又はメタクリレートを意味する。

電離放射線硬化型樹脂の中でも、分子中に水酸基を残した樹脂を用いるのが好ましい。水酸基もアニオン性の極性基であることから、この樹脂は金属酸化物微粒子との親和性が高く、分散助剤として作用する。従って、この樹脂を用いることにより、分散液中の金属酸化物微粒子の分散性が向上し、また、分散剤の使用量を減らす効果がある。分散剤は樹脂としての機能は有しないので、分散剤の配合割合を減らすことによって塗膜強度の向上を図ることができる。

分子中に水酸基を残した樹脂の具体例としては、ペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートまたはジペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートをバインダー樹脂の骨格とし、該分子中に水酸基を残したものが挙げられる。このような樹脂は、一分子のペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールに２分子以上の（メタ）アクリル酸がエステル結合しているが、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールの分子中にもともとある水酸基の一部はエステル化されないまま残っているものであり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートを例示することができる。ペンタエリスリトール多官能アクリレート及びジペンタエリスリトール多官能アクリレートは、一分子中にエチレン性二重結合を２個以上有するので、重合時に架橋反応を起こし、高い塗膜強度が得られる。

光開始剤
ラジカル重合を開始させる光開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフオリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２ −ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ペンゾフエノン等が挙げられ、この中でも、１−ヒドロキシーシクロヘキシル−フェニル−ケトン、及び、２−メチル−１ ［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフオリノプロパン−１−オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。これらは、一種または二種以上を組合せて用いることができる。これらは市販品にも存在し、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンはイルガキュアー １８４（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）の商品名で日本チバガイギー社から入手できる。

分散剤
アニオン性の極性基を有する分散剤は、金属酸化物微粒子、特に、酸化チタン微粒子に対して親和性の高いアニオン性の極性基を有しており、金属酸化物微粒子に対して分散性を付与するために配合される。アニオン性の極性基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、水酸基などが該当する。アニオン性の極性基を有する分散剤としては、具体的には、ビックケミー・ジャパン社がディスパービックの商品名で供給する製品群、すなわち、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１ １１，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１１０ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１１６ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１４０ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１６２ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１６３ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１６４ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７０ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１７１ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１７４ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ −１８０ ，Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２等を例示することができる。

これらのうちでも、エチレンオキサイド鎖の骨格を有する主鎖に、上記したようなアニオン性の極性基からなる側鎖又はアニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有し、数平均分子量が２，０００から２０，０００の化合物を用いると、特に良好な分散性が得られ好ましい。数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）法により測定することができる。このような条件に合うものとして、上記ディスパービックシリーズの中ではディスパービック１６３ （Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６３ ）が挙げられる。

有機溶剤
有機溶剤は分散液中の固形成分を溶解／分散させるために使用され、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；或いはこれらの混合物を用いることができる。

本発明においては、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましい。ケトン系溶剤としては、１種のケトンからなる単独溶剤、２種以上のケトンからなる混合溶剤、及び、１種又は２種以上のケトンと共に他の溶剤を含有しケトン溶剤としての性質を失っていないものを用いることができる。好ましくは、溶剤の７０重量％以上、特に８０重量％以上を１種又は２種以上のケトンで占められているケトン系溶剤が用いられる。

カップリング剤
チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤の使用は、金属酸化物微粒子の分散性の向上及びコーティング組成物の粘度低下、加工性の向上、金属酸化物微粒子の高充填化、界面空隙の減少（凝集塊の低下）させるとの効果を有する。

チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤の種類としては、カルボキシル型、ピロホスフェイト型、ホスファイト型、アミノ型が挙げられ、この順に疎水性から親水性に移行する性質がある。

チタネート系カップリング剤の具体例としては、金属酸化物微粒子と相互作用するＴｉを含む親水基と、樹脂または溶剤マトリックスと相互作用する疎水基とを持つものであり、例えば、味の素（株）社がチタネート系カップリング剤「プレンアクト」の商品名で提供する製品群（ＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、ＫＲ−４１Ｂ、ＫＲ−３８Ｓ、ＫＲ−１３８Ｓ、ＫＲ−２３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ−４４、ＫＲ９ＳＡ）が挙げられる。例えば、アルキルチタネートの場合、アルキル鎖が長いもの、安定な錯体を形成するもの、ポリマーでは高分子量のものが望ましい。

アルミニウム系カップリング剤の具体例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムｓｅｃ−ブチレート、アルミニウムエチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウム＝モノイソプロポキシモノオレオキシエチルアセトアセテート、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレートが挙げられる。

その他の成分
分散液は、上記の必須成分以外に、必要に応じて電離放射線硬化型樹脂の重合開始剤を含有するが、さらに、その他の成分を配合してもよい。例えば、必要に応じて紫外線遮蔽剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レベリング剤）などを用いることができる。

分散液の調製法
金属酸化物微粒子は全固形分に対し、３０〜６５重量％が望ましい。カップリング剤は、全固形分に対して１〜１５重量％含まれることが望ましく、さらに好ましくは３〜１０重量％である。分散液は、全固形分０．５〜５０重量部に対して、有機溶剤が５０〜９９．５重量部の割合で配合されていることが望ましい。分散剤は全固形分に対し、１０〜２０重量％が望ましい。樹脂は全固形分に対し、２０〜６０重量％が望ましい。

分散液は、必須成分とその他の成分を任意の順序で混合し、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティング組成物が得られる。より具体的には、特開２００３−９６４００号に開示された方法で調整されて良い。よって、この公開公報に開示された明細書および図面の内容は本明細書の内容をなす。

光透過性基材
本発明による光学積層体は、光透過性基材としてポリエチレンテレフタレート基材（屈折率が１．６０〜１．６５）を用いる。

ハードコート層
「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と任意成分とにより形成されてなる。ハードコート層に柔軟性を付与するために、二量体以上のオリゴマーやポリマーを添加することが好ましい。

樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

帯電防止剤および／または防眩剤
本発明によるハードコート層は、帯電防止剤および／または防眩剤を含んでなるものが好ましい。帯電防止剤は後記する帯電防止層の項で、防眩剤は後記する防眩層の項で説明するのと同様であってよい。

溶剤
ハードコート層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合したハードコート層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類が挙げられる。

その他の層
本発明による光学積層体は、上記した通り光透過性基材とその上に形成されてなる薄層とハードコート層とにより基本的には構成されてなる。しかしながら、光学積層体としての機能または用途を加味してハードコート層の上に、下記する一又は二以上の層を形成してもよい。
帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とを含んでなるものである。帯電防止剤と樹脂の混合重量比は、９０：１０以上１０：９０以下であり、好ましくは７５：２５以上５０：５０以下である。

帯電防止剤（導電剤）
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ_２（１．９５）、Ｓｂ_２Ｏ_２（１．７１）、ＳｎＯ_２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．００）、Ａｌ_２Ｏ_３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。

樹脂
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物を含む）を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、もっと好ましいのが、電離放射線硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。

電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。

電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。

電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。

通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しくは２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。

電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。

電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
有機ケイ素化合物の１は、一般式Ｒ_ｍＳｉ（ＯＲ’）_ｎで表せるもので、ＲおよびＲ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＯＲ’の添え字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。

電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。

帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。

防眩層
防眩層は、防眩剤と樹脂とを含んでなるものである。防眩層の厚さは、１μｍ〜１０μｍ程度であることが好ましい。溶剤と樹脂はハードコート層で説明したのと同様であってよい。

防眩剤
防眩剤としては微粒子がこのましく、無機系、有機系のいずれのものであってよい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは、透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系の場合には、シリカビーズが挙げられ、有機系の場合には、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。本発明の好ましい態様によればその表面に疎水性基を有したプラスチックビーズが好ましくは使用され、例えばスチレンビーズが好ましくは挙げられる。

低屈折率層
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が１．４６以下の、やはり３０ｎｍ〜１μｍ程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。

低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも質量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。

低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特に好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。

上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。

以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。

このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。

このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ_２からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、またはＳｉＯ_２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ_２ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、ＳｉＯ_２以外にも、ＭｇＦ_２の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ_２薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。

本発明の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。

空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。

光学積層体の製造方法
液体組成物の調整
帯電防止層、薄層、ハードコート層等用の各液体組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。

塗工
光透過性基材表面、帯電防止層の表面への各液体組成物の塗布法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。

光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。

実施例１
接着層用組成物の調製
１）樹脂の組成
樹脂として、バイロン２８０（東洋紡製）
溶剤として、トルエンとメチルエチルケトン：メチルエチルケトン（１：１）
２）分散液の組成
ルチル型酸化チタン：ＭＴ−０１（テイカ製） １０重量部
分散剤 ２重量部
ディスパービック１６３（ビックケミー・ジャパン社製）
光硬化性樹脂：ＰＥＴ３０（日本化薬製） ４重量部
チタネートカップリング剤：ＴＡ−２５（松本交商製） １．２８重量部
光開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４ ０．２重量部
（日本チバガイギー製）
メチルイソブチルケトン １７．４８重量部

ハードコート層用組成物の調製
ＤＰＨＡとアクリルポリマーとＩｒｇａｃｕｒｅ１８４を８０：２０：６で混合したハードコート樹脂をトルエンで希釈して調製した。

光学積層体の調製
接着層用組成物の調製に示す配合により混合し、接着層用組成物を調製し、トルエンとメチルエチルケトンを１：１とした溶剤により希釈した後、グラビアコーティングにて膜厚１００ｎｍでポリエチレンテレフタレート基材（１８８μｍ：「ＰＥＴ Ａ４１００」：東洋紡社製）の片面に塗工し、７０℃で１分乾燥した。その後、この接着層の上にハードコート層用組成物をグラビアコーターで６μｍの膜厚で塗工後し、７０℃で１分乾燥し、１３６ｍｊＵＶ照射により硬化し、ＰＥＴ基材に接着層およびハードコート層を設けた。この時に作製した接着層の屈折率は１．５７であり、干渉縞は発生しなかった。

実施例２
実施例１において、１）接着層用樹脂の組成の樹脂を二液熱硬化型ウレタン系接着剤、であるＬＸ６６０とＫＷ７５（４：３）［大日本インキ社］に変更し、表１に示す配合比、かつ、塗工膜厚を５０ｎｍに変えた以外は同じにして、光学積層体を得た。なお、接着層用組成物は、熱硬化が必要であるため、４０℃で４日間エージング処理を施した。この時に作製した接着層の屈折率は１．５９であり、干渉縞が発生しなかった。

実施例３
実施例１において、１）接着層用樹脂の組成の樹脂を二液熱硬化型ウレタン系接着剤とポリエステル樹脂であるＬＸ６６０（大日本インキ社製）とＫＷ７５（大日本インキ社製）とバイロン３００（東洋紡社製）（１０：１：１）に変更し、表１に示す配合比、かつ、膜厚を１５０ｎｍに変えた以外は同じにして、光学積層体を得た。この時に作製した接着層の屈折率は１．５８であり、干渉縞がみえない良好な光学積層体であった。接着層用組成物は、熱硬化が必要であるため、４０℃で４日間エージング処理を施した。

比較例１
実施例１の接着層は設けずに、既に両面易接着処理（屈折率１．５６）が施された市販品のＰＥＴ基材（１８８μｍ：Ａ４３００［東洋紡社製］）に変更し、実施例１と同様にしてハードコート層を形成した光学積層体を得た。この光学積層体は、強い干渉縞が発生した。

評価試験
実施例および比較例の光学積層体について以下の評価試験を行い、その結果を表１に記載した。

評価１：強度（硬さ）評価
光学積層体の硬さについて鉛筆硬度を用いた。測定方法としては、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠して測定し、下記の基準でた。
評価基準
評価◎：３Ｈ以上の強度があった。
評価×：Ｈ未満の強度であった。

評価２：密着性評価試験
ＪＩＳ−Ｋ−５４００（クロスカット密着試験方法）に準じて光学積層体の最表面の塗膜の剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。
評価基準
評価◎：塗膜の剥がれが全くなかった。
評価○：塗膜の全てではないが剥がれ存在した。
評価×：塗膜の全てが剥がれた。

評価３：干渉縞有無試験
光学積層体のハードコート層と反対面に、裏面反射を防止するために黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
評価基準
評価◎：干渉縞の発生はなかった。
評価○：干渉縞の発生が若干みられたが、製品としては問題なかった。
評価×：干渉縞の発生があった。

表１
接着層用組成物 評価１ 評価２ 評価３
樹脂：分散液
実施例１ ８８：１２ ◎ ◎ ○
実施例２ ８４：１６ ◎ ◎ ○
実施例３ ７５：２５ ◎ ◎ ◎
比較例１ − ◎ ◎ ×

Claims (9)

1. ポリエチレンテレフタレート基材の上に、接着層を介してハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
   前記接着層が、樹脂と、分散液とにより形成されてなり、
   前記分散液が、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子と、電離放射線硬化型樹脂と、アニオン性の極性基を有する分散剤と、有機溶剤と、チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤とを含んでなるものである、光学積層体。
2. 前記金属酸化物微粒子が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、酸化アンチモン、インジウム錫混合酸化物とアンチモン錫の混合酸化物からなる群から選択されてなる一種または二種以上の混合物である、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記樹脂と、前記分散液との混合比が７５：２５以上９２：８以下である、請求項１または２に記載の光学積層体。
4. 前記樹脂が、ポリエステル樹脂またはウレタン樹脂である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学積層体。
5. 前記接着層が、イソシアネート基を有する化合物をさらに含んでなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学積層体。
6. 前記ハードコート層が帯電防止剤および／または防眩剤を含んでなる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学積層体。
7. 前記ハードコート層の上に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、またはこれらの二種以上の層を形成してなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。
8. 反射防止積層体として利用される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学積層体。
9. 画像表示装置に利用される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学積層体。