JPWO2006106758A1 - 偏光板 - Google Patents

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Abstract

本発明は、平坦性、耐水性、高硬度性を備えてなり、光学積層体内における界面反射と干渉縞の発生とを有効に防止した偏光板を開示する。本発明は、第1光透過性基材と、第1光透過性基材の上に、偏光子と、光学積層体とをこれらの順で備えてなる偏光板であって、第1光透過性基材が無延伸性基材であり、前記光学積層体を構成する第2光透過性基材が延伸性基材であり、前記光学積層体が、第2光透過性基材の上に、一又は二種以上の光学特性層を備えてなるものであり、第2光透過性基材と前記光学特性層とが界面防止接着層を介して接することにより、第2光透過性基材と前記光学特性層との界面が存在しないようにされてなるものである。

Description

発明の背景
関連出願
本願は、日本国特許出願2005−99009号を基礎とするパリ条約の優先権を伴うものである。従って、本願はこの特許出願の出願内容の全てを包含するものである。
本発明は、偏光板およびそれを用いた画像表示部材に関する。
液晶表示装置(LCD)、エレクトロルミネンセッス表示装置(EL)等の画像表示装置は、一様の光を一定方向の直線偏光に変換しうる偏光板が使用される。偏光板は、コントラスト、明度、彩度、色相等の光学表示品質において重要な役割を担うものである。偏光板は、通常、偏光子を二枚の光透過性基材で挟持して使用されるものが一般的である。特に、視認側の偏光板における光透過性基材は光学(反射防止)積層体の基材として使用され、その上に、ハードコート層等の光学特性層を形成することにより所望の光学特性を発揮させている。
偏光板に使用される偏光子はポリビニールアルコール(PVA)等を使用することが知られている。しかしながら、PVAは吸湿性の面で問題があり、さらにディスプレイ最表面で使用するには、強度の面で問題があるため、偏光子を挟持する光透過性基材には、優れた強度および耐水性が要求される。また、ディスプレイ表示画面の美観から、平坦性も必要である。このため、偏光板を形成する光透過性基材としては、ガラス等の無機材料、または高分子基材(無延伸性基材、例えば、トリアセテートセルロース)を使用することが一般的である(特開平9−61626号)。
一方、無延伸性基材、特にトリアセテートセルロース(TAC)は延伸性基材よりも高価であることから、この代わりに安価な基材を使用できればコストを削減することができ、安価な偏光板を大量に供給することが実現できる。また、トリアセテートセルロース基材は柔軟性を有するがその表面には窪み等が存在し平坦ではないことから、ディスプレイ表示画面の美観を若干損ねていた。特に、最表面に凹凸を施さないクリアーハードコートを処理した場合は、表面に映り込んだ蛍光灯などが歪んで見えることがあった。よって、理想的な表示画面にするために、光学特性層を形成する場合、予備処理が必要となる。さらに、トリアセテートセルロースが光透過性基材として利用される場合、この光透過性基材の上に光学特性層を形成する際に使用される電子ビーム硬化、加熱硬化等の処理に対して、耐久性、耐熱性等に劣ることがしばしば指摘されていた。
また、屈折率の差が大きい層を積層させた光学積層体にあっては、互いに重なり合った層の界面において、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見受けられる。特に、画面表示装置の画像表示面において黒色を再現した際に、干渉縞が顕著に発生し、その結果、画像の視認性を低下させ、また画像表示面の美観を損ねるとの指摘がなされている。特に、光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折率が相違する場合、干渉縞の発生が生じ易いとされている。
これに対して、特開2003−75605号公報では、透明基材フィルム上に、屈折率が1.5〜1.7の中屈折率層、屈折率が1.6〜1.8の高屈折率層、更に高屈折率層より低い屈折率材料よりなる低屈折率層を、この順で透明基材フィルム側から積層した反射防止ハードコートシートを使用し、界面反射および干渉縞等を解消することができるとの提案がなされている。
しかしながら、本発明者らが確認したところ、偏光板において、二種の光透過性基材の一方が延伸性基材(視認性側)であり、他方が無延伸性基材であって、延伸性基材(視認性側)の上に光学特性層(例えば、ハードコート層)を形成することで、ディスプレイ最表面での使用に良好な強度(硬度)と表面平坦性が得られ、また、延伸性基材(視認性側)の上に光学特性層(例えば、ハードコート層)を形成する際に、界面防止接着層を介在させることにより、延伸性基材と光学特性層との界面(光学的にみた場合の界面:干渉縞が発生しないような界面のこと)を実質的に存在させないようにし、反射界面と干渉縞を有効に防止した偏光板の提案は未だされていない。
従って、現在、優れた強度(硬度)、表面平坦性、および耐水性を発揮し、界面反射および干渉縞を有効に防止し、かつ、反射防止性能に優れた偏光板の開発が急務とされている。
本発明者等は、本発明時において、偏光板を構成する二種の光透過性基材を特定の高分子基材を用いることにより、硬度性、平坦性、および耐湿性を向上させ、かつ、界面反射と干渉縞とを有効に防止し、所望の光学特性を発揮させる偏光板が得られるとの知見を得た。よって、本発明は、偏光子を挟持する光透過性基材として、延伸性高分子基材と無延伸性高分子基材とを採用し、かつ、光学積層体を構成する光透過性基材と光学特性層とを界面防止接着層を介して密着させることにより、優れた光学特性と物理的強度とを発揮する偏光板の提供を目的とするものである。
従って、本発明による偏光板は、第1光透過性基材と、第1光透過性基材の上に、偏光子と、光学積層体とをこれらの順で備えてなる偏光板であって、
第1光透過性基材が無延伸性基材であり、
前記光学積層体を構成する第2光透過性基材が延伸性基材であり、
前記光学積層体が、第2光透過性基材の上に、一又は二種以上の光学特性層を備えてなるものであり、
第2光透過性基材の上に、界面防止接着層を介して前記光学特性層が形成されることにより、第2光透過性基材と前記光学特性層との界面(光学的にみた場合の界面)が存在しないようにされてなるものである。
本発明の別の態様によれば、第1偏光板と、第2偏光板との間に表示素子が挟持されてなる、画像表示部材が提案され、その画像表示部材は、
第1偏光板が、第1光透過性基材と、第1光透過性基材の上に、偏光子と、光学積層体とをこれらの順で備えてなるものであって、
第1光透過性基材が無延伸性基材であり、
前記光学積層体を構成する第2光透過性基材が延伸性基材であり、
前記光学積層体が、第2光透過性基材の上に、一又は二種以上の光学特性層を備えてなるものであり、
第2光透過性基材の上に、界面防止接着層を介して前記光学特性層が形成されることにより、第2光透過性基材と前記光学特性層との界面(光学的にみた場合の界面)が存在しないようにされてなるものであり、
第1偏光板が、視認性側に位置し、
第2偏光板が二つの光透過性基材とその間に挟持された偏光子とにより構成されてなるものである。
本発明による偏光板および画像表示部材は、視認性側(光学積層体側)の光透過性基材として、延伸性基材を用いることにより、表面処理後の硬度と平坦性、耐湿性とに優れ、かつ、製造が容易になるとの利点を有する。また、本発明による偏光板は、光学積層体を構成する光透過性基材(延伸性基材)の上に界面防止接着層を介して光学特性層が形成されることにより、界面の存在をなくし、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し高品位な画像形成を実現することが可能となる。
図1は本発明による偏光板の概略図を示す。 図2は本発明による画像表示部材の概略図を示す。
本発明の態様
本発明による偏光板を図1を用いて説明する。図1は本発明による偏光板1の概略図を示す。図1によれば、視認性側における第2光透過性基材5(延伸性基材)と、第1光透過性基材9(無延伸性基材)との間に偏光子7が挟持されている。本発明にあって、第2光透過性基材5は、光学積層体における基材として機能し、第2光透過性基材5の上に、一又は二以上の光学特性層3が界面防止接着層4を介して形成されてなる。
本発明による画像表示部材を図2を用いて説明する。図2は本発明による画像表示部材10の概略図を示す。本発明による画像表示部材は、本発明による(第1)偏光板1と、表示素子30と、(第2)偏光板20とを兼ね備えてなるものである。本発明の好ましい態様によれば、第2偏光板における一方の光透過性基材が無延伸性基材であり、第2偏光板における他方の光透過性基材が無延伸性基材または延伸性基材で形成されてなるものが好ましい。
1.偏光板
1)光透過性基材
偏光板は偏光子を挟持する二枚の光透過性基材を用いる。本発明にあっては、第1光透過性基材が無延伸性基材であり、その好ましい具体例として、トリアセテートセルロースが挙げられる。一方、光学積層体を構成する第2光透過性基材が延伸性基材である。第2光透過性基材である延伸性基材は一軸延伸基材(好ましい)または二軸延伸基材が好ましく、その好ましい具体例として、ポリエチレンテレフタレートが挙げられる。
第1光透過性基材および第2光透過性基材の厚さは、同一でも異なってよく、具体的には20μm以上500μm以下であり、好ましくは下限が40μm以上であり上限が250μm以下である。
2)偏光子
本発明における偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムそれ自体またはその調製物が用いられる。また、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して調製されてもよく、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の3〜7倍に延伸して調製されてよい。本発明の好ましい態様によれば、必要に応じて、ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。必要に応じて、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素による染色を行う前に水に浸漬して水洗してもよい。水洗することにより汚れを除去し、かつ、ポリビニルアルコールフィルムを膨潤させることで染色のムラを有効に防止することが可能となる。延伸処理はヨウ素染色の前後、または途中に行ってもよい。また、延伸はホウ酸若しくはヨウ化カリウムなどの水溶液中で、または水浴中でおこなってよい。
本発明の好ましい態様によれば、偏光子は、金属元素、好ましくはZn、Cu、B、Al、Ti、Zr、Sn、VおよびCrからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであってもよい。金属成分等を含有させる方法は一般的な方法によっておこなわれてよい。偏光子の厚さは、一般的に、5μm以上80μm以下である。
接着層(剤)
本発明にあっては、第1光透過性基材と第2光透過性基材との間に偏光子を介在させる場合、接着層(剤)によって形成されてよい。本発明にあっては、第1光透過性基材である無延伸基材と、偏光子と、第2光透過性基材である延伸基材とをそれぞれ密着させるには、通常光学的に等方性の接着層(剤)を用いることが好ましい。接着方法は、接着層(剤)を使用して貼合した後に溶媒を乾燥除去する、ウエットラミネーション、または接着層(剤)を使用し乾燥した後に貼合する、ドライラミネーション等が挙げられる。
このような接着層(剤)としては、ポリビニルアルコール系接着剤、ウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤等が挙げられる。本発明にあっては、上記接着剤だけでなく、一般に感圧性接着剤または粘着剤(粘着性を持った接着剤)が使用可能である。感圧性接着剤又は粘着剤の具体例としては、アクリル酸系、メタクリル酸系、ブチルゴム系、シリコーン系のベースポリマーが挙げられ、より具体的には、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸系のベースポリマー、またはこれらの(メタ)アクリル酸エステルを二種類以上用いた共重合系ベースポリマーが好適には挙げられる。粘着剤は、通常、これらのベースポリマー中に極性モノマーが共重合されたものとして調整されてよく、共重合される極性モノマーの具体例としては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル等の、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。架橋剤は、2価又は多価金属イオンとカルボン酸金属塩を生成するもの、ポリイソシアネート化合物とアミド結合を形成するものなどが挙げられ、これらの化合物の一種又は二種以上のものが、ベースポリマーに混合して用いられる。
本発明の好ましい態様によれば、粘着層(剤)は、第1光透過性基材および/または第2光透過性基材の表面に予めコロナ処理などの表面処理を施してもよい。粘着層(剤)の厚みは、0.1μm 以上50μm 以下程度である。
3)界面防止接着層
本発明にあっては、第2光透過性基材と前記光学特性層とが界面防止接着層を介して接することにより、第2光透過性基材と前記光学特性層との界面が存在しないようにされてなる。本発明にあって、「界面が(実質的に)存在しない」とは、二つの層面が重なり合ってはいるが実際に光学的に界面が存在しないこと、および屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断される場合をも含むものをいう。「界面が(実質的に)存在しない」との具体的な基準としては、例えば、目視観察にて、干渉縞観察用のライト(三波長蛍光灯)で干渉縞が見えない状態であることをいう。更には、光学積層体の断面を、レーザー顕微鏡により観察し、干渉縞が目視される積層体断面には界面が存在し、干渉縞が目視されない積層体断面には界面が存在しないことを観察することにより行うことができる。レーザー顕微鏡は屈折率に違いのあるものを非破壊的に断面観察できるものであることから、屈折率に大きな違いのない素材同士において界面が存在しないとの測定結果が生じる。このことから、屈折率からみても光透過性基材と光学特性層(例えば、ハードコート層)の間に界面が存在しないと判断しうる。
界面防止接着層は、樹脂と、分散液とを含んでなる組成物により形成されてなる。樹脂と、分散液との混合比は適宜定めることができるが、75:25以上92:8以下程度であり、好ましくは下限が80:20程度であり、より好ましくは85:15程度である。分散液の混合比が上記範囲内にあることにより、屈折率の上昇を有効に抑えて所望の屈折率特性を得ることができ、また、密着性を向上させることができるので好ましい。また、界面防止接着層全体の好ましい屈折率は、1.67以上1.69以下であり、界面防止接着層の膜厚は、好ましくは50nm以上150nm以下である。屈折率と膜厚がこの範囲であることにより、好ましい延伸性基材であるポリエチレンテレフタレートにおいて、干渉縞を良好に防止できるようになり、界面がない状態とできる。
樹脂
樹脂は、それが乾燥硬化した際の屈折率が1.50以上1.53以下であるものが好ましくは用いられる。樹脂の具体例としては、ポリエステル樹脂またはウレタン系樹脂が主要樹脂が好ましくは挙げられる。ポリエステル樹脂の具体例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、メチルフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、アジピン酸、セバシン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸およびこれらの反応性誘導体等の酸原料と、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、イソペンチルグリコール、ビスヒドロキシエチルテレフタレート、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールAAのアルキレンオキサイド付加物、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、2,2,4−トリメチルペンタン−1,3−ジオール等のアルコール原料から周知の方法で製造したものであり特に限定されるものではない。ポリエステル樹脂として最も好ましいものは、非結晶型共重合ポリエステルである。
ウレタン系樹脂の具体例としては、例えば、湿気硬化型(1液型)、熱硬化型(2液型)などの反応硬化型ウレタン系接着剤を用いることが好ましい。すなわち、湿気硬化型では、ポリイソシアネート化合物のオリゴマー、プレポリマー、熱硬化型では、ポリイソシアネート化合物のモノマー、オリゴマー、プレポリマーと、ポリオール化合物のオリゴマー、プレポリマーを混合して用いることができる。これらの反応硬化型ウレタン系接着剤を用いる場合、ラミネートの後に室温から40℃の温度下でエージング処理を施す。
その他の成分
本発明の好ましい態様によれば、界面防止接着層用組成物にイソシアネート基を有する化合物を添加することが好ましい。イソシアネート基を有する化合物の具体例としては、トリレンジイソシアネート(TDI)、3,3’−トリレン−4,4’−イソシアネート、ジフェニルメタン4,4’−ジイソシアネート(MDI)、トリフェニルメタンp,p' ,p" −トリイソシアネート(T.M)、2,4−トリレンダイマー(TT)、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、トリス(4−フェニルイソシアネート)チオホスフェート、クルード(MDI)、TDI三量体、ジシクロヘキサメタン4,4’−ジイソシアネート(HMDI)、水素添加TDI(HTDI)、メタキシリレンジイソシアネート(XDI)、ヘキサヒドロメタキシリレンジイソシアネート(HXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルプロパン−1−メチル−2−イソシアノ−4−カババメート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、3,3' −ジメトキシ4,4’−ジフェニルジイソシアネート、ジフェニルエーテル2,4,1’−トリイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート(MXDI)、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート(PAPI)等が挙げられる。イソシアネート基を有する化合物の添加量は好ましくは界面防止接着層用組成物全量に対して10重量%以上である。
本発明で使用される界面防止接着層用組成物には、他の樹脂を添加してよく、例えば、電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂を添加すると、界面防止接着層の上に積層される光学積層体(特に、ハードコート層)の密着性と柔軟性とを自由に調製することができるので好ましい。
電離放射線硬化型樹脂の中でも、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するものが好ましくは挙げられる。例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が好ましくは挙げることができる。
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。
分散液
分散液は、1〜30nmの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子、電離放射線硬化型樹脂と、アニオン性の極性基を有する分散剤と、有機溶剤と、チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤とを含んでなるものである。分散液は、それが乾燥硬化した際の屈折率が1.72以上1.80以下であるように調製されるのが好ましい。
金属酸化物微粒子
金属酸化物微粒子はその屈折率が中屈折率〜高屈折率(1.90〜2.55)と高く、且つ、無色又は不着色のものであり、またその形状はいずれのものであってもよい。本発明における金属酸化物微粒子の一次粒子径は1〜30nmである。好ましくは30nm以下のものを用いる。金属酸化物微粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)等により目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。
金属酸化物微粒子の具体例としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、酸化アンチモン、インジウム錫混合酸化物とアンチモン錫混合酸化物からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられ、好ましくは酸化チタンが挙げられる。酸化チタンの具体例としては、ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型が挙げられ、好ましくは、高屈折率であるルチル型酸化チタンが好ましく使用できる。
電離放射線硬化型樹脂
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、紫外線または電子線のような電離放射線の照射により直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を有するモノマー又はオリゴマーが挙げられる。本発明においては、主に、エチレン性二重結合を有するラジカル重合性のモノマーまたはオリゴマーを用いることができ、必要に応じて光開始剤を組み合わせてよい。また、その他の電離放射線硬化型樹脂を用いることも可能であり、例えば、エポキシ基含有化合物のような光カチオン重合性のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。光カチオン重合性の樹脂には、必要に応じて光カチオン重合開始剤が組み合わせて用いられる。樹脂の分子間で架橋結合が生じるように、樹脂であるモノマー又はオリゴマーは、重合性官能基を2個以上有する多官能性の樹脂であることが好ましい。従って、本明細書においては、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマーなどの硬化性樹脂前駆体を、「樹脂」と定義する。
エチレン性二重結合を有するラジカル重合性のモノマー及びオリゴマーの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプロピルアクリレート、カルボキシポリカプロラクトンアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等の単官能(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート等のジアクリレート;トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のトリ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールテトラアクリレート誘導体またはジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の多官能(メタ)アクリレート、或いは、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリゴマーを挙げることができる。本明細書中、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。
電離放射線硬化型樹脂の中でも、分子中に水酸基を残した樹脂を用いるのが好ましい。水酸基もアニオン性の極性基であることから、この樹脂は金属酸化物微粒子との親和性が高く、分散助剤として作用する。従って、この樹脂を用いることにより、分散液中の金属酸化物微粒子の分散性が向上し、また、分散剤の使用量を減らす効果がある。分散剤は樹脂としての機能は有しないので、分散剤の配合割合を減らすことによって塗膜強度の向上を図ることができる。
分子中に水酸基を残した樹脂の具体例としては、ペンタエリスリトール多官能(メタ)アクリレートまたはジペンタエリスリトール多官能(メタ)アクリレートをバインダー樹脂の骨格とし、該分子中に水酸基を残したものが挙げられる。このような樹脂は、一分子のペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールに2分子以上の(メタ)アクリル酸がエステル結合しているが、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールの分子中にもともとある水酸基の一部はエステル化されないまま残っているものであり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートを例示することができる。ペンタエリスリトール多官能アクリレート及びジペンタエリスリトール多官能アクリレートは、一分子中にエチレン性二重結合を2個以上有するので、重合時に架橋反応を起こし、高い塗膜強度が得られる。
光開始剤
ラジカル重合を開始させる光開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフオリノプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケトン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2 −ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ペンゾフエノン等が挙げられ、この中でも、1−ヒドロキシーシクロヘキシル−フェニル−ケトン、及び、2−メチル−1 [4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフオリノプロパン−1−オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。これらは、一種または二種以上を組合せて用いることができる。これらは市販品にも存在し、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンはイルガキュアー 184(Irgacure 184)の商品名で日本チバガイギー社から入手できる。
分散剤
アニオン性の極性基を有する分散剤は、金属酸化物微粒子、特に、酸化チタン微粒子に対して親和性の高いアニオン性の極性基を有しており、金属酸化物微粒子に対して分散性を付与するために配合される。アニオン性の極性基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、水酸基などが該当する。アニオン性の極性基を有する分散剤としては、具体的には、ビックケミー・ジャパン社がディスパービックの商品名で供給する製品群、すなわち、Disperbyk−1 11,Disperbyk −110 ,Disperbyk −116 ,Disperbyk −140 ,Disperbyk−161 ,Disperbyk −162 ,Disperbyk −163 ,Disperbyk −164 ,Disperbyk−170 ,Disperbyk −171 ,Disperbyk −174 ,Disperbyk −180,Disperbyk−182等を例示することができる。
これらのうちでも、エチレンオキサイド鎖の骨格を有する主鎖に、上記したようなアニオン性の極性基からなる側鎖又はアニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有し、数平均分子量が2,000から20,000の化合物を用いると、特に良好な分散性が得られ好ましい。数平均分子量は、GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)法により測定することができる。このような条件に合うものとして、上記ディスパービックシリーズの中ではディスパービック163(Disperbyk−163)が挙げられる。
有機溶剤
有機溶剤は分散液中の固形成分を溶解/分散させるために使用され、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;或いはこれらの混合物を用いることができる。
本発明においては、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましい。ケトン系溶剤としては、1種のケトンからなる単独溶剤、2種以上のケトンからなる混合溶剤、及び、1種又は2種以上のケトンと共に他の溶剤を含有しケトン溶剤としての性質を失っていないものを用いることができる。好ましくは、溶剤の70重量%以上、特に80重量%以上を1種又は2種以上のケトンで占められているケトン系溶剤が用いられる。
カップリング剤
チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤の使用は、金属酸化物微粒子の分散性の向上及びコーティング組成物の粘度低下、加工性の向上、金属酸化物微粒子の高充填化、界面空隙の減少(凝集塊の低下)させる効果を有する。
チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤の種類としては、カルボキシル型、ピロホスフェイト型、ホスファイト型、アミノ型が挙げられ、この順に疎水性から親水性に移行する性質がある。
チタネート系カップリング剤の具体例としては、金属酸化物微粒子と相互作用するTiを含む親水基と、樹脂または溶剤マトリックスと相互作用する疎水基とを持つものであり、例えば、味の素(株)社がチタネート系カップリング剤「プレンアクト」の商品名で提供する製品群(KR−TTS、KR−46B、KR−55、KR−41B、KR−38S、KR−138S、KR−238S、338X、KR−44、KR9SA)が挙げられる。例えば、アルキルチタネートの場合、アルキル鎖が長いもの、安定な錯体を形成するもの、ポリマーでは高分子量のものが望ましい。
アルミニウム系カップリング剤の具体例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノsec−ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムsec−ブチレート、アルミニウムエチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウム=モノイソプロポキシモノオレオキシエチルアセトアセテート、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレートが挙げられる。
その他の成分
分散液は、上記の必須成分以外に、必要に応じて電離放射線硬化型樹脂の重合開始剤を含有するが、さらに、その他の成分を配合してもよい。例えば、必要に応じて紫外線遮蔽剤、紫外線吸収剤、表面調整剤(レベリング剤)などを用いることができる。
分散液の調製法
金属酸化物微粒子は全固形分に対し、30〜65重量%が望ましい。カップリング剤は、全固形分に対して1〜15重量%含まれることが望ましく、さらに好ましくは3〜10重量%である。分散液は、全固形分0.5〜50重量部に対して、有機溶剤が50〜99.5重量部の割合で配合されていることが望ましい。分散剤は全固形分に対し、10〜20重量%が望ましい。樹脂は全固形分に対し、20〜60重量%が望ましい。
分散液は、必須成分とその他の成分を任意の順序で混合し、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティング組成物が得られる。より具体的には、特開2003−96400号に開示された方法で調整されて良い。よって、この公開公報に開示された明細書および図面の内容は本明細書の内容をなす。
4)光学積層体
光学積層体は、第2光透過性基材の上に一種または二種以上の光学特性層(例えば、ハードコート層)を界面防止接着層を介して形成させてなるものである。光学特性層は、ハードコート層、帯電防止層、防眩層、低屈折率層および防汚染層の群から選択される一又は二以上の層が挙げられる。
ハードコート層
本発明において、ハードコート層とは、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と任意成分とにより形成されてなる。ハードコート層に柔軟性を付与するために、二量体以上のオリゴマーやポリマーを添加することが好ましい。
樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂など、塗工時に固形分を調整するための溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホソフィン等が挙げられる。
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がTAC等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
帯電防止剤および/または防眩剤
本発明によるハードコート層は、帯電防止剤および/または防眩剤を含んでなるものが好ましい。帯電防止剤は後記する帯電防止層の項で、防眩剤は後記する防眩層の項で説明するのと同様であってよい。
溶剤
ハードコート層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合したハードコート層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類が挙げられる。
帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とを含んでなるものである。帯電防止層の厚さは、30nm〜1μm程度であることが好ましい。帯電防止剤と樹脂の混合重量比は、90:10以上10:90以下であり、好ましくは75:25以上50:50以下である。
帯電防止剤(導電剤)
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ(パラフェニレン)、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。
また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO(1.95)、Sb(1.71)、SnO(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In(2.00)、Al(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等を挙げることができる。微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が0.1nm〜0.1μmのものである。
樹脂
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物(有機反応性ケイ素化合物を含む)を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、もっと好ましいのが、電離放射線硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。
電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。
通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、1種若しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするのが好ましい。
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が1又は2のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が3つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が1のものとして、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が2のものとして、エチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が3以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しないポリマー樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。
電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100重量部に対し、0.1〜10重量部である。
電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
有機ケイ素化合物は、一般式:RSi(OR’)
(上記式中、RおよびR’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、
mとnとは、各々が、m+n=4の関係を満たす整数である。)
で表せるものが挙げられる。
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
防眩層
防眩層は、防眩剤と樹脂とを含んでなるものである。防眩層の厚さは、1μm〜10μm程度であることが好ましい。溶剤と樹脂はハードコート層で説明したのと同様であってよい。
防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.60)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物100重量部に対し、2〜30重量部、好ましくは10〜25重量部程度である。
防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μm程度のシリカビーズが挙げられる。
防眩層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜10μmの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
低屈折率層
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が1.46以下の、やはり30nm〜1μm程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが30〜90%、ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%(以降も含め、百分率は、いずれも質量基準)を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるものである。シリコーン成分としては、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが30〜90%、好ましくは40〜80%、特に好ましくは40〜70%であり、又ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%、好ましくは10〜50%、特に好ましくは15〜45%である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを0〜40%、好ましくは0〜35%、特に好ましくは10〜30%含有するものであってもよい。
上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、20%以下、好ましくは10%以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、1,2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエチレン、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロエチレン、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が60〜70%であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は62〜70%、特に好ましくは64〜68%である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で5,000〜200,000、特に10,000〜100,000であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が1.45以下、特に1.42以下、更に1.40以下であるものが好ましい。屈折率が1.45を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。
低屈折率剤の具体例としては、熱または電離放射線により硬化する含フッ素化合物を用いることが好ましい。この硬化物の動摩擦係数は好ましくは0.02〜0.18、より好ましくは0.03〜0.15である。動摩擦係数がこの範囲にあることにより、表面を擦った時の傷つきを有効に防止することができる。純水に対する接触角は好ましくは90〜130度、より好ましくは100〜120度である。純水に対する接触角がこの範囲にあることにより、指紋や油汚れ等の付着を有効に防止することができる。また本発明の低屈折率層には膜強度向上を目的として適宜シリカ粒子等のフィラーを添加しても良い。
低屈折率剤に用いられる硬化性の含フッ素化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン)等の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
硬化反応性付与のための構成単位としてはグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己硬化性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の硬化反応性基を導入した構成単位(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。
また、上記含フッ素モノマー単位、硬化反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
上記のポリマーに対しては特開平8−92323号、10−25388号、同10−147739号、同12−17028号公報に記載のごとく、適宜、硬化剤を併用しても良い。特に、ポリマーの硬化反応性基が水酸基、カルボキシル基のような単独で硬化反応性を持たない基の場合には、硬化剤を併用することが必須である。硬化剤としては、例えば、ポリイソシアネート系、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物などを挙げることができる。一方、硬化反応性基が自己硬化反応性の基である場合には、特に硬化剤を添加しなくても良いが、多官能(メタ)アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物等種々の硬化剤を適宜併用することもできる。
低屈折率剤に特に有用な含フッ素共重合体は、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基((メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等)を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5モル%以上70モル%以下を占めていることが好ましく、特に好ましくは30モル%以上60モル%以下の場合である。
また、本発明の低屈折率剤において、含フッ素ポリマーには、防汚性を付与する目的でポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが、例えば特開平11−189621号、同11−228631号、特開2000−313709号に記載されるように、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法や、特開平2−251555号、同2−308806号に記載されているようにシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらの場合、ポリシロキサン成分はポリマー中の0. 5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、特に好ましくは1質量%以上5質量%以下の場合である。
防汚性の付与に対しては、上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン(例えば、商品名;KF−100T,X−22−169AS,KF−102,X−22−3701IE,X−22−164B,X−22−5002,X−22−173B,X−22−174D,X−22−167B,X−22−161AS、以上信越化学工業(株)製、商品名;AK−5,AK−30,AK−32、以上東亜合成(株)製、商品名;サイラプレーンFM0275,サイラプレーンFM0721、以上チッソ(株)製等)を添加する手段も好ましい。この際、これらのポリシロキサンは、低屈折率層の全固形分の0. 5質量%以上10質量%以下の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは1質量%以上5質量%以下の場合である。
本発明における低屈折率剤では、市販の含フッ素化合物として、例えば、TEFRON(R) AF1600(デュポン社製:屈折率n=1.30)、CYTOP(旭硝子(株)社製:n=1.34)、17FM(三菱レーヨン(株)社製:n=1.35)、オプスターJN−7212(JSR(株)社製:n=1.40)、オプスターJN−7228(JSR(株)社製:n=1.42)、LR201(日産化学工業(株)社製:n=1.38)(いずれも商品名)等を利用することもできる。
このほか、低屈折率層は、SiOからなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマCVD法等により、またはSiOゾルを含むゾル液からSiOゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、SiO以外にも、MgFの薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、SiO薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマCVD法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。
本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
塗膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
微粒子の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。
低屈折率層の形成
フッ素含有共重合体と樹脂とを、必要に応じて光重合開始剤の存在下で活性エネルギー線を照射することにより、または熱重合開始剤の存在下で加熱されることにより重合して塗膜を形成することができる。使用する樹脂は、防眩層で説明したのと同様であってよい。
樹脂の添加量は、フッ素含有共重合体100重量部に対して30〜150重量部、好ましくは35〜100重量部、特に好ましくは40〜70重量部である。また、フッ素含有共重合体と樹脂とを含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が30〜55重量%、好ましくは35〜50重量%であることが好ましい。
添加量またはフッ素含有割合が、上記した範囲内にあることにより、低屈折率層は、基材に対する密着性が良好であり、また、屈折率が高く良好な反射防止効果を得ることが可能となる。
低屈折率層の形成に当たっては、必要に応じて適宜な溶剤を用い、粘度を、樹脂組成物として好ましい塗布性が得られる0.5〜5cps(25℃)、好ましくは0.7〜3cps(25℃)の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
樹脂の硬化手段は、防眩層の項で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
低屈折率層の膜厚(nm)dは、下記式(V):
=mλ/(4n) (V)
(上記式中、
は低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式(VI):
120<n<145 (VI)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
防汚層
本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けてもよく、好ましくは低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の面側に防汚層が設けられてなるものが好ましい。防汚層は、反射防止積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。
防汚層用剤の具体例としては、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加することが困難とされるフッ素系化合物および/またはケイ素系化合物、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物および微粒子に対して相溶性を有するフッ素系化合物および/またはケイ系化合物が挙げられる。
2.表示素子
表示素子は、液晶表示、EL表示、プラズマ表示、発光ダイオード表示、蛍光表示等のいずれであっても良く、好ましくは、液晶表示、EL表示が用いられる。これらは一般的に使用されるものを用いことができる。
3.画像表示部材
本発明の別の態様によれば、本発明による偏光板を利用した画像表示部材が提案される。具体的には、第1偏光板と、第2偏光板との間に表示素子が挟持されてなる、画像表示部材であって、
第1偏光板が先に説明した本発明による偏光板であり、かつ、視認性側に位置し、
第2偏光板が二つの光透過性基材とその間に挟持された偏光子とにより構成されてなるものである。
本発明の好ましい態様によれば、第2偏光板における一方の光透過性基材が無延伸性基材であり、第2偏光板における他方の光透過性基材が無延伸性基材または延伸性基材であるものが好ましい。より好ましくは、延伸性基材がポリエチレンテレフタレートであり、無延伸性基材がトリアセテートセルロースであるものが好ましい。
4.画像表示装置
本発明にあっては、本発明による偏光板または画像表示部材を備えた画像表示装置が提案される。本発明による画像表示装置は、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、CRT(陰極線管表示装置)、PDP、(プラズマディスプレイ)、LCD(液晶パネルディスプレイ)、ELD(エレクトロルミネッセンスディスプレイ)などのディスプレイの表面に用いられる。
本発明の内容を下記実施例を用いて詳細に説明するが、本発明の内容はこれら実施例に限定して解釈されるものではない。
偏光子の調製
厚み75μm、重合度2,400、ケン化度99.9%以上のポリビニルアルコールフィルムを、乾式で延伸倍率5倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水100重量部当たりヨウ素を0.03重量部及びヨウ化カリウムを5重量部それぞれ含有する28℃の水溶液に60秒間浸漬した。次いで、緊張状態を保ったまま、水100重量部あたりホウ酸を8.0重量部及びヨウ化カリウムを6.8重量部それぞれ含有する温度71℃のホウ酸水溶液に300秒間浸漬した。その後、28℃の純水で10秒間水洗した。水洗したフィルムを50℃で600秒間乾燥して、偏光子を調製した。
界面防止接着層用組成物の調製
界面防止接着層用組成物1
下記する樹脂と分散液とを88:12の配合により混合して調製した。
樹脂の組成
樹脂として、バイロン280(東洋紡社製)
溶剤として、トルエンとメチルエチルケトン:メチルエチルケトン(1:1)
分散液の組成
ルチル型酸化チタン:MT−500HD(テイカ製) 10重量部
分散剤 2重量部
ディスパービック163(ビックケミー・ジャパン社製)
光硬化性樹脂:PET30(日本化薬製) 4重量部
チタネートカップリング剤:TA−25(松本交商製) 1.28重量部
光開始剤:Irgacure184 0.2重量部
(日本チバガイギー製)
メチルイソブチルケトン 17.48重量部
界面防止接着層用組成物2
樹脂の組成において、バイロン280(東洋紡社製)を、二液熱硬化型ウレタン系接着剤であるLX660とKW75(4:3)(大日本インキ社)に、また、樹脂と分散液とを84:16の配合比に換えた以外は、界面防止接着層用組成物1と同様にして界面防止接着層用組成物2を調製した。
界面防止接着層用組成物3
樹脂の組成において、バイロン280(東洋紡社製)を、二液熱硬化型ウレタン系接着剤LX660(大日本インキ社製)とKW75(大日本インキ社製)とポリエステル樹脂のバイロン300(東洋紡社製)(10:1:1)に変更し、また、樹脂と分散液とを75:25の配合比に換えた以外は、界面防止接着層用組成物1と同様にして界面防止接着層用組成物3を調製した。
界面防止接着層用組成物4
界面防止接着層用組成物1の、樹脂と分散液の組成を68:32に変えた以外は、界面防止接着層用組成物1と同様にして界面防止接着層用組成物4を調製した。
界面防止接着層用組成物5
界面防止接着層用組成物1の、樹脂と分散液の組成を95:5に変えた以外は、界面防止接着層用組成物1と同様にして界面防止接着層用組成物5を調製した。
ハードコート層用組成物の調製
DPHAとアクリルポリマーとIrgacure184を80:20:6で混合したハードコート樹脂をトルエンで希釈しハードコート層用組成物を調製した。
接着剤の調製
接着剤1
5重量%ポリビニルアルコール水溶液
接着剤2
20重量%イソシアネート系樹脂水溶液
(三井武田ケミカル社製:タケネートWD−725)
偏光板の調製
実施例1
1)表面をケン化処理(2mol/lのNaOH(またはKOH)溶液:55度 に3分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、50度オーブンで1分乾燥)した厚み80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(無延伸基材:第1光透過性基材)上に、接着剤1を乾燥膜厚100nm塗工し、調整した偏光子と貼り合わせ、60℃で5分乾燥させて溶媒を除去し、偏光子の片面にTAC保護フィルムを積層した。
2)片面が易接着処理がされた100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡社製A4100)(延伸基材:第2光透過性基材)の不易接着処理面に、界面防止接着層用組成物1をグラビアコーティングにて膜厚100nmで塗工し、70℃で1分乾燥した。その後、界面防止接着層の上にハードコート層用組成物をグラビアコーターで6μmの膜厚で塗工後し、70℃で1分乾燥し、136mjUV照射により硬化し、光学積層体を作製した。
3)この光学積層体のPET(延伸基材:第2光透過性基材)の易接着処理された面に、接着剤2を乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗工し、TACフィルムが付着した偏光子のTACのない面と貼り合わせ、60℃5分乾燥させた後、40℃で72時間エージングし、偏光板を製造した。界面防止接着層の屈折率は1.57であり、干渉縞は発生しなかった。
実施例2
界面防止接着層用組成物1を界面防止接着層用組成物2に換えて、その塗工量を乾燥後の膜厚が50nmとなるように換え、40℃で96時間エージング処理した以外は実施例1と同じにして、偏光板を製造した。界面防止接着層の屈折率は1.58であり、干渉縞は発生しなかった。
実施例3
界面防止接着層用組成物1を界面防止接着層用組成物3に換えて、その塗工量を乾燥後の膜厚が150nmとなるように換え、40℃で96時間エージング処理した以外は実施例1と同じにして、偏光板を製造した。界面防止接着層の屈折率は1.59であり、干渉縞は発生しなかった。
比較例1
PETフィルム(延伸基材:第2光透過性基材)を、両面に易接着処理(屈折率1.56)が施された市販品のPETフィルム(100μm:A4300[東洋紡社製])に変更し、界面防止接着層1を使用しない以外は、実施例1と同様にして偏光板を得た。このPETフィルムとハードコート層との間に界面に生じ、強い干渉縞が発生した。
比較例2
界面防止接着層用組成物1を界面防止接着層用組成物4に換えた以外は実施例1と同じにして、偏光板を製造した。界面防止接着層の屈折率は1.65であり、干渉縞が発生し、また無機超微粒子含有量が多かったため、十分な密着性が得られなかった。
比較例3
界面防止接着層用組成物1を界面防止接着層用組成物5に換えた以外は実施例1と同じにして、偏光板を製造した。界面防止接着層の屈折率は1.54であり、干渉縞が発生した。
比較例4
1)表面をケン化処理(2mol/lのNaOH(またはKOH)溶液:55度 に3分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、50度オーブンで1分乾燥)した厚み80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(無延伸基材:第1光透過性基材)上に、接着剤1を乾燥膜厚100nm塗工し、調整した偏光子と貼り合わせ、60℃で5分乾燥させて溶媒を除去し、偏光子の片面にTAC保護フィルムを積層した。
2)厚み80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(無延伸基材:第2光透過性基材)にハードコート層用組成物をグラビアコーターで6μmの膜厚で塗工後し、70℃で1分乾燥し、136mjUV照射により硬化し、光学積層体を作製した。
3)この光学積層体をケン化処理し、ハードコートを塗工した面と逆面に、接着剤1を乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗工し、貼り合わせ、60℃で5分乾燥させて溶媒を除去し、さらに40℃で72時間エージングし、偏光板を製造した。界面防止接着層を使用していないため干渉縞が発生し、第2光透過性基材を無延伸タイプとしたため、表面の平坦性が損なわれ、硬度も出なかった。
評価試験
実施例および比較例の光学積層体について以下の評価試験を行い、その結果を表1に記載した。
評価1:強度(硬さ)評価
光学積層体の硬さについて鉛筆硬度を用いた。測定方法としては、JIS−K−5400に準拠して測定し、下記の基準で評価した。
評価基準
評価◎:3H以上の強度があった。
評価×:H未満の強度であった。
評価2:密着性評価試験
JIS−K−5400(クロスカット密着試験方法)に準じて光学積層体の最表面の塗膜の剥がれの有無を目視し下記の基準で評価した。
評価基準
評価◎:塗膜の剥がれが全くなかった。
評価○:塗膜の全てではないが剥がれ存在した。
評価×:塗膜の全てが剥がれた。
評価3:干渉縞有無試験
光学積層体のハードコート層と反対面に、裏面反射を防止するために黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を三波長蛍光下で目視しで観察し、下記基準で評価した。
評価基準
評価◎:全方位での目視観察にて干渉縞の発生はなかった。
評価○:全方位での目視観察にて干渉縞の発生が若干みられたが、製品としては問題な かった。
評価×:全方位での目視観察にて干渉縞の発生があった。
評価4:表面平坦性試験
光学積層体のハードコート面と反対面に、厚さ1mm以上の黒アクリル板を、透明粘着シート(巴川製紙所製 TD−06A など)で貼り、水平な机にサンプルをおいて、机より2.5m上方にある白色蛍光灯管(32ワット×2本)の、ハードコート面への映りこみを目視観察し、評価した。
評価基準
評価◎:映り込んだ蛍光灯管のラインが歪まず、まっすぐに見え、平坦性が良好。
評価×:映り込んだ蛍光灯管のラインが歪み、 平坦性が悪い。
評価5:耐湿性:透湿度試験
JIS Z0208に従って、実施例、比較例で用いた第2光透過性基材の透湿度測定を実施した。なお、ここでいう透湿度は、実際に使用した膜厚のフィルム基材の測定値である。その結果、無延伸性基材として用いたTACフィルムは、470g/m/24hrと耐湿度性が少なかったのに対し、延伸性基材として用いたPETフィルムは、7〜19g/m/24hrで、耐湿度性に優れることを確認した。
表1
界面防止接着層用組成物 評価1 評価2 評価3 評価4
樹脂:分散液
実施例1 88:12 ◎ ◎ ◎ ◎
実施例2 84:16 ◎ ◎ ◎ ◎
実施例3 75:25 ◎ ◎ ◎ ◎
比較例1 − × ◎ × ◎
比較例2 68:32 ◎ × × ◎
比較例3 95: 5 ◎ ◎ × ◎
比較例4 − × ◎ × ×

Claims (15)

  1. 第1光透過性基材と、第1光透過性基材の上に、偏光子と、光学積層体とをこれらの順で備えてなる偏光板であって、
    第1光透過性基材が無延伸性基材であり、
    前記光学積層体を構成する第2光透過性基材が延伸性基材であり、
    前記光学積層体が、第2光透過性基材の上に、一又は二種以上の光学特性層を備えてなるものであり、
    第2光透過性基材の上に、界面防止接着層を介して前記光学特性層が形成されることにより、第2光透過性基材と前記光学特性層との界面が存在しないようにされてなる、偏光板。
  2. 前記延伸性基材が一軸延伸基材または二軸延伸基材である、請求項1に記載の偏光板。
  3. 前記延伸性基材が、ポリエチレンテレフタレートである、請求項1に記載の偏光版。
  4. 前記無延伸性基材が、トリアセテートセルロースである、請求項1に記載の偏光版。
  5. 前記界面防止接着層が、樹脂と、分散液とにより形成されてなり、
    前記分散液が、1nm以上30nm以下の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子と、電離放射線硬化型樹脂と、アニオン性の極性基を有する分散剤と、有機溶剤と、チタネート系又はアルミニウム系のカップリング剤とを含んでなるものである、請求項1に記載の偏光版。
  6. 前記金属酸化物微粒子が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、酸化アンチモン、インジウム錫混合酸化物およびアンチモン錫混合酸化物からなる群から選択されてなる一種または二種以上の混合物である、請求項5に記載の偏光板。
  7. 前記樹脂と、前記分散液との混合比が75:25以上92:8以下である、請求項5に記載の偏光板。
  8. 前記樹脂が、ポリエステル樹脂またはウレタン樹脂である、請求項5に記載の偏光板。
  9. 前記界面防止接着層が、イソシアネート基を有する化合物をさらに含んでなる、請求項5に記載の偏光板。
  10. 前記光学特性層が、ハードコート層、帯電防止層、防眩層、低屈折率層および防汚染層の群から選択される一種又は二種以上のものである、請求項1に記載の偏光板。
  11. 第1偏光板と、第2偏光板との間に表示素子が挟持されてなる、画像表示部材であって、
    第1偏光板が請求項1〜10のいずれか一項に記載されたものであり、かつ、視認性側に位置し、
    第2偏光板が二つの光透過性基材とその間に挟持された偏光子とにより構成されてなる、画像表示部材。
  12. 第2偏光板における一方の光透過性基材が無延伸性基材であり、第2偏光板における他方の光透過性基材が無延伸性基材または延伸性基材である、請求項11に記載の画像表示部材。
  13. 前記延伸性基材が、ポリエチレンテレフタレートである、請求項11に記載の画像表示部材。
  14. 前記無延伸性基材が、トリアセテートセルロースである、請求項11に記載の画像表示部材。
  15. 請求項1〜10のいずれか一項に記載の偏光板、または請求項11〜14のいずれか一項に記載の画像表示部材を備えてなる、画像表示装置。
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