JP2007293303A - 光散乱フィルム、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ディスプレイの表面に用い、映り込み低減と明室コントラスト向上の両方を高いレベルで達成する光散乱フィルムの提供。また、該フィルムを用いた偏光板および画像表示装置の提供。
【解決手段】透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する光散乱フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射角５°で入射し、フィルム法線と入射方向を含む面内で測定した受光部の角度θに対する反射率をＲ（θ）とし、Ｒ（θ）を正反射の反射率で規格化した値をＲｒｅｌ（θ）とし、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより算出される値を散乱係数Ａ（式１）としたとき、散乱係数Ａと５°鏡面反射率Ｒｓより算出される反射係数Ｂ（式２）が２．０〜５．０である光散乱フィルム。（式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）（式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９
【選択図】図１

Description

本発明は、光散乱フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。

ＣＲＴ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（ＳＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置は、外光の反射によるディスプレイ表面への像の映り込みを防止することで、明室環境下での表示性能を向上することが可能である。

画像表示装置のディスプレイ表面への像の映り込みを防止する方法として、（１）表面散乱性により映り込む像の輪郭をぼかす性能（防眩性）を付与して、映り込む像を認識しづらくする方法と、（２）ディスプレイ表面の最表面に低屈折率層を設けることで反射光量を少なくする性能（反射防止性）を付与して、映り込む像を認識しづらくする方法とが開示されている（特許文献１及び２）。

近年、液晶テレビ等に代表されるような、大画面を有する表示装置を用い、比較的離れた位置から高画質で動画を鑑賞するアプリケーションの市場が急速に拡大している。このようなアプリケーションにおいては、ディスプレイはよりきれいな画像を表示することが求められる。防眩性が強いと、ディスプレイの周辺に置かれているものや蛍光灯、人間などがディスプレイ表面に映り込んだ際に、像の輪郭がボケて、ディスプレイの映像が認識し易くなる（映り込みが低減する）。しかし、ディスプレイ表面の白茶け感が増し、明室下でのコントラスト（明室コントラスト）が低下することがある。

一方、防眩性を付与しないクリアな表面を用いた場合、一層の低屈折率層の薄膜干渉による反射防止のみでは、十分に映り込み低減をできるレベルの低い屈折率を有する低屈折率層が実在せず、屈折率の異なる２層以上の薄膜干渉を用いる場合は、色味が強くなる、及びコストが高くなることがある。

従って、映り込みが低減され、かつ明室コントラストが向上した光散乱フィルムが望まれている。また大画面を有する画像表示装置に最適で、映り込みが低減され、かつ明室コントラストが向上した光散乱フィルムが望まれている。
特許第３５０７７１９号公報 特開２００３−２７０４０９号公報

本発明の一側面は、映り込みの低減と、明室コントラストの両方を高いレベルで達成する光散乱フィルムの提供にある。本発明の別の側面は、該光散乱フィルムを用いた、偏光板及び画像表示装置の提供にある。

本発明者らは、鋭意検討した結果、下記の構成にすることにより、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通りである。

（１）透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する光散乱フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射角５°で入射し、フィルム法線と入射方向を含む面内で測定した受光部の角度θに対する反射率をＲ（θ）とし、Ｒ（θ）を正反射の反射率で規格化した値をＲｒｅｌ（θ）とし、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより算出される値を散乱係数Ａ（式１）としたとき、散乱係数Ａと５°鏡面反射率Ｒｓより算出される反射係数Ｂ（式２）が２．０〜５．０である光散乱フィルム。

（式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）
（式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９

（２）前記反射係数Ｂが、３．５〜４．５である前記１に記載の光散乱フィルム。
（３）前記散乱係数Ａが、１．０〜３．０である前記１又は２に記載の光散乱フィルム。（４）前記５°鏡面反射率Ｒｓが、０．１〜２．０％である前記１〜３のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（５）前記光散乱フィルムの積分反射率が、０．２〜２．０％である前記１〜４のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（６）前記積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓとの差が、０．１〜１．０％である前記５に記載の光散乱フィルム。
（７）透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する光散乱フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射角５°で入射し、フィルム法線と入射方向を含む面内で測定した受光部の角度θに対する反射率をＲ（θ）とし、Ｒ（θ）を正反射の反射率で規格化した値をＲｒｅｌ（θ）とし、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより算出される値を散乱係数Ａ（式１）としたとき、散乱係数Ａと５°鏡面反射率Ｒｓより算出される反射係数Ｂ（式２）が２．０〜５．０であり、且つ、前記５°鏡面反射率Ｒｓが０．１〜２．０％であり、前記光散乱フィルムの積分反射率が０．２〜２．０％であり、前記積分反射率と５°鏡面反射率との差が０．１〜１．０％である光散乱フィルム。
（式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）
（式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９
（８） 波長３８０〜７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５°入射光に対する正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間のａ^＊ｂ^＊値が、それぞれ−７≦ａ^＊≦７、−１０≦ｂ^＊≦１０である前記１〜７のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（９） 前記光散乱層が透光性粒子を含有し、透光性粒子の平均粒子径に対する光散乱層の平均膜厚み比率が１．５〜２．５である前記１〜８のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１０） 前記光散乱層が透光性粒子を含有し、三次元の立体構造を有する透光性粒子の凝集部が複数存在し、表面凹凸形状を有する前記１〜９のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１１） 前記光散乱層が少なくとも２層であり、透光性粒子が下層に存在する前記１〜１０のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１２） 中心線平均粗さＲａが、０．０５〜０．１５μｍである前記１〜１１のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１３） 平均山谷距離Ｓｍが、５０〜１５０μｍである前記１〜１２のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１４） 表面の凹凸の平均傾斜角が、０．２〜２．０度である前記１〜１３のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１５） 前記光散乱層上に、直接または他の層を介して透明支持体より低屈折率である低屈折率層を有する前記１〜１４のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１６） 前記低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４０である前記１５に記載の光散乱フィルム。
（１７） 前記低屈折率層が、含フッ素化合物、及び屈折率１．４０以下の無機微粒子を含有する硬化性組成物を硬化してなる層であり、かつ該無機微粒子の量が全固形分濃度の３０〜５５質量％である前記１５又は１６に記載の光散乱フィルム。
（１８） 前記５°鏡面反射率Ｒｓが０．１〜１．５％、前記積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓの差が０．２５〜１．０％、前記積分反射率が０．２〜２．０％、前記低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４０である前記１５〜１７のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（１９） 中心線平均粗さＲａが０．０５〜０．１５μｍ、平均山谷距離Ｓｍが５０〜１５０μｍ、表面の凹凸の平均傾斜角が０．２〜２．０度である前記１８に記載の光散乱フィルム。
（２０） 透明支持体の上に光散乱層と低屈折率層とをこの順に有し、光散乱層は透光性粒子を含有し、透光性粒子の平均粒子径に対する光散乱層の平均膜厚み比率が１．５〜２．５である前記１〜１９のいずれかに記載の光散乱フィルム。
（２１） 一対の保護フィルムの間に偏光膜を有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、前記１〜２０のいずれかに記載の光散乱フィルムである偏光板。
（２２） 前記１〜２０のいずれかに記載の光散乱フィルム又は前記２１に記載の偏光板を有する画像表示装置。

本発明によれば、映り込みが低減され、明室コントラストが向上した光散乱フィルム及び偏光板が提供できる。また、ある態様では、画像表示装置表面に用いた時に映り込みが低減され、白茶け感が良好となる反射プロファイルおよび鏡面反射率を有する光散乱フィルムが提供できる。さらに本発明の光散乱フィルム及び該光散乱フィルムを用いた偏光板を、画像表示装置のディスプレイ部の表面に用いることで、映り込みが低減され、明室コントラストが向上した画像表示装置が提供できる。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また本明細書において「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。

本発明の光散乱フィルム（明細書において、本発明のフィルムと称することがある。）は、透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する光散乱フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射角５°で入射し、フィルム法線と入射方向を含む面内で測定した受光部の角度θに対する反射率をＲ（θ）とし、Ｒ（θ）を正反射の反射率で規格化した値をＲｒｅｌ（θ）とし、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより算出される値を散乱係数Ａ（式１）としたとき、散乱係数Ａと５°鏡面反射率Ｒｓより算出される反射係数Ｂ（式２）が２．０〜５．０である。

（式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）
（式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９

本発明の光散乱フィルムは、透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する。光散乱層は、光を散乱する機能を有していればよく、他の機能を有していてもよいが、内部散乱性及び／又は表面散乱性を有し、好ましくは表面散乱性に起因する防眩性とハードコート性を兼ね備える形態がよい。また、本発明の光散乱フィルムは、光散乱層のほかに光学干渉の原理を用いて反射率を低減する反射防止層を有する反射防止フィルムであることが好ましい。尚、以下の説明において、特に断りのない限りは、光散乱フィルムは上記構成の反射防止フィルムも含めて意味する。

本発明の光散乱フィルムについて、好適な一実施形態に基づき、図面を参照して説明する。なお、本発明はこの好適な一実施形態に限定されない。

図１（ａ）は、本発明のフィルムの好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。図１に示す本実施形態のフィルム１は、透明支持体２と、透明支持体２上に形成された光散乱層３と、そして光散乱層３上に形成された低屈折率層４とを有する。光散乱層の上に低屈折率層を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減する。また本発明の反射防止フィルムは、透明支持体２上に光散乱層３および低屈折率層４を少なくとも有することが更に好ましい。光散乱層３は、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性粒子５とからなることが好ましい。本発明の光散乱フィルムを構成する各層の屈折率は、以下の関係を満たすことが好ましい。

光散乱層の屈折率 ＞ 透明支持体の屈折率 ＞ 低屈折率層の屈折率

本発明では、光散乱層は、内部散乱性及び／又は表面散乱性を有し、好ましくは表面散乱性に起因する防眩性とハードコート性を兼ね備える形態がよい。図１（a）において、１層で形成されたものを例示しており、コスト、工程の単純化の面からは１層で形成されるのが好ましいが、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。表面凹凸による白茶け感を低減するためには、図１（ｂ）のように表面凹凸を有する光散乱層（透光性粒子を含む層）の上にオーバーコート層を設けることが好ましい。また、帯電防止のためには、光散乱層３と透明支持体２との間または光散乱層３と低屈折率層４との間に透明導電性層を有することが望ましく、光散乱層３と透明支持体２との間に透明導電性層を有することが特に望ましい。また、光散乱層３と透明支持体２の間に透明導電性層を有し、かつ、光散乱層内に通電性粒子を有することが更に望ましい。また、光散乱層３と透明支持体２との間には、透明導電性層以外に、防湿層等の機能層を設けてもよい。

図２（ａ）および（ｂ）は低屈折率層を設けない実施形態を模式的に示す断面図である。図２のような態様であっても、本発明の効果が得られる場合はあるが、図１のように低屈折率層を設けるのが好ましい。

本発明の光散乱フィルムは映り込みの低減効果が高い。映り込みは、防眩性と反射防止性の２つの光学物性が影響するが、これまでそれぞれの独立の範囲による規定のみであった。それでは十分な指標にならない。本発明では、映り込んだ像の輪郭の視認性には、防眩性と反射防止性性に基づく特性の関数の大きさによって、そのレベルが決まることが判った。即ち、防眩性に関連する表面散乱性を示す散乱係数Ａ（式１）と５°鏡面反射率Ｒｓより算出される反射係数Ｂ（式２）を特定の範囲にすることが好ましいことを発明者らは見出した。

（散乱係数Ａ）
図８（ａ）および（ｂ）は散乱係数Ａ算出時における反射光強度の角度依存性の測定法の一例を示す図である。また、図９は受光部の角度θに対する相対反射率ｄＲｒｅｌ（θ）を示すグラフの一例と｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘの算出の模式図である。
散乱係数Ａは、略平行な光を、透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する光散乱フィルム表面に入射角５°で入射し、フィルム法線と入射方向を含む面内で測定した受光部の角度θに対する反射率をＲ（θ）とし、Ｒ（θ）を正反射の反射率で規格化した値をＲｒｅｌ（θ）とし、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより算出される値を散乱係数Ａ（式１）により算出される。フィルム表面に映り込んだ反射像のボケ具合が小さいと、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘは大きくなり、逆にボケ具合が大きいと、変化量の最大値は小さくなる。散乱性はボケ具合の逆数にで表すことができ、式１より散乱係数Ａが算出される。なお、θは０〜４５°まで測定する。

（式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）

略平行な光とは、±３°の範囲で平行に進行する光のことを意味する。

散乱係数Ａは、フィルム表面に入射した光の散乱度合いを意味する１つのパラメーターである。特に、フィルム表面に映り込んだ反射像の輪郭のボケ具合を示す指標として、光沢度や表面ヘイズよりも相関が高い。即ち、映り込み低減の因子である反射像の輪郭のボケ具合を正確に表すパラメーターである。また、散乱係数Ａはフィルム表面の白茶け感と関係しており、明室コントラスト向上にも影響を及ぼすパラメーターである。

（反射係数Ｂ）
図１０は反射係数Ｂと散乱係数Ａおよび５°鏡面反射率Ｒｓとの関係を示す図である。
反射係数Ｂは、（式１）より求められる散乱係数Ａと、５°鏡面反射率Ｒｓとから（式２）を用いて算出される。

（式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９

反射係数Ｂは、映り込みの強度を意味するパラメーターである。映り込みの強度とは、画像表示装置表面に設けたフィルム表面に映り込んだ反射像を鑑賞者（画像表示装置を鑑賞する者）が認識する度合いを示す。反射像は、その輪郭がぼけるほど、及び／又は反射光量が少ないほど、認識しづらくなるが、その画面サイズ、鑑賞距離（画面から鑑賞者までの距離）などにより、輪郭のボケと反射光量の寄与の度合いが変わることが判った。

反射係数Ｂを算出する式は、散乱係数Ａと５°鏡面反射率Ｒｓの異なるサンプルを作製し、本発明の目的である大画面を有する画像表示装置に適したサイズ（２０インチ以上の大画面、特に３２インチ以上が好ましい）、鑑賞距離（２ｍ以上）で映り込み強度を評価することで得られる。反射係数Ｂの散乱係数Ａおよび５°鏡面反射率Ｒｓとの関係を図１０に示す。なお、反射係数Ｂ官能評価値であるため、「人間の感覚量は与えられる刺激量の対数に比例する」というＷｅｂｅｒ−Ｆｅｃｈｎｅｒの法則より、刺激値である散乱係数Ａと、５°鏡面反射率Ｒｓの対数と相関する。また、反射係数Ｂは、フィルム表面の白茶け感とも関係しており、明室コントラスト向上にも影響を及ぼすパラメーターである。

本発明において、反射係数Ｂは、２.０〜５．０の範囲であり、２．５〜４．８の範囲であることが好ましく、３．０〜４．５の範囲であることがより好ましく、３.５〜４．５の範囲であることが特に好ましい。反射係数が、５.０より大きすぎると光散乱フィルムの映り込み低減効果は十分でなく、２.０より小さすぎると光散乱フィルムの明室コントラストが悪化する傾向にある。

表面散乱による明室コントラストの悪化を防ぐためには、反射係数Ｂとともに、散乱係数Ａも特定の範囲にすることが好ましい。散乱係数Ａは、１．０〜３．０の範囲にあることが好ましく、１．３〜２．７がより好ましく、１．５〜２．５が特に好ましく、１.７〜２.３が更に好ましい。散乱係数が大きすぎると明室コントラストが悪化し、小さすぎると映り込み防止効果が低減する傾向がある。

映り込みを十分に低減するためには、５°鏡面反射率Ｒｓも特定の範囲にすることが好ましい。５°鏡面反射率Ｒｓは０．１％〜２．０％が好ましく、０．１％以上１．５％以下がより好ましく、０．１％以上１.２％以下が特に好ましく、０．１％以上１．０％以下が更に好ましい。最も好ましくは０．１％以上０．８％以下である。５°鏡面反射率Ｒｓが高すぎると、映り込みが悪化する。

大画面を有する画像表示装置に最適な表面フィルムを提供するためには、明室コントラストを向上させることが好ましい。明室コントラストを向上させるためには、積分反射率は、０．２〜２．０％が好ましく、０．２以上１．８％以下がより好ましく、０．２以上１．５％以下が特に好ましく、０．２以上１.３％以下が最も好ましい。積分反射率が高すぎると映り込み、明室コントラストが悪化する。特にディスプレイを鑑賞する者の正反射の位置から白っぽいものが映り込んでいる場合、明室コントラストの悪化が顕著である。

明室コントラストを向上させるためには、積分反射率に加え、積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓの差を特定の範囲にすることが好ましい。積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓの差は、０．１％〜１．０％が好ましく、０．１５％〜０．８％がより好ましく、０．２％〜０．６％がさらに好ましい。積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓの差が大きすぎると、コントラストが悪化する。特に、ディスプレイを鑑賞する者の正反射の位置から黒っぽいものがうつりこんでいる場合、明室コントラストの悪化が顕著である。また、積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓの差が小さすぎると表面散乱性が十分でなく映り込み低減効果が足りなくなる。

本発明では、ディスプレイの観察環境によらず明室コントラストを向上させることが好ましい。それには、前述の積分反射率と、積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓの差の好ましい範囲を同時に満たすことが好ましい。また、反射係数Ｂ、散乱係数Ａ、５°鏡面反射率Ｒｓを同時に満たすことが理想的であり、その場合に映り込み低減効果と明室コントラストの向上を同時に満たし、大画面を有する画像表示装置に最適な表面フィルムが提供できる。

大画面を有する画像表示装置に最適な表面フィルムを提供するためには、反射光の色味のニュートラルさを特定の範囲に設定することも好ましい。波長３８０〜７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５°入射光に対する正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間のａ^＊ｂ^＊値が、それぞれ−７≦ａ^＊≦７、−１０≦ｂ^＊≦１０であることが好ましく、−５≦ａ^＊≦５、−７≦ｂ^＊≦７であることがより好ましく、０≦ａ^＊≦５、−７≦ｂ^＊≦０の範囲にすることが更に好ましい。ａ^＊及びｂ^＊を好ましい範囲にすることで、外光が映り込んだ場合、反射色味がニュートラルになり、鑑賞者はそれを気にならなくなる。前述の各種反射性能と同時にａ^＊、ｂ^＊を好ましい範囲にすることが最も好ましい。

前述のような反射性能、色味を実現するためには、光散乱層の屈折率（ｎａ）と低屈折率層の屈折率（ｎｂ）を特定の範囲にすることが好ましい。光散乱層の屈折率（ｎａ）と低屈折率層の屈折率（ｎｂ）の差ｎａ−ｎｂは０．０４以上であり、０．０８以上０．３５以下であることが好ましく、０．１０以上０．３０以下であることがより好ましく、０．１４以上０．２５以下であることが特に好ましい。この屈折率の差の範囲内において、反射率を十分に下げることができ、表面への反射像の映り込みを十分に防止することができ、膜の強度が高くなり、色味が強くなることを防止できる。

光散乱層の屈折率（ｎａ）は、１．４８〜１．７０が好ましく、１．５０〜１．６０が特に好ましく、１．５０〜１．５５が特に好ましい。光散乱層の屈折率が小さすぎると、低屈折率層との屈折率差が小さくなり、反射防止性が低減する。一方、屈折率を高くしすぎると、使用できる素材が限定され、高コストになる、色味が強くなるなどで、好ましくない。なお、本発明において光散乱層の屈折率は透光性粒子を除いた固形分を含む塗膜の屈折率から求めた値である。

低屈折率層の屈折率（ｎｂ）は、１．２０〜１．４６が好ましく、１．２０〜１．４０がより好ましく、１．３０〜１．３８がさらに好ましく、大画面を有する表示装置に最適な表面フィルムを提供するためには、１．３１〜１．３７が特に好ましい。低屈折率層の屈折率が高すぎると、反射率が高くなる、反射率を低下するために光散乱層の屈折率を高くする必要が生じるなど、好ましくない。一方、屈折率を低くしすぎると、低屈折率層の強度が低下し、好ましくない。また、使用できる素材が限定され、高コストになるため、好ましくない。
さらに、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

数式（Ｉ）： （ｍλ／４）×０．７＜ｎ１×ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３

数式（Ｉ）中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。なお、前記数式（Ｉ）を満たすとは、前記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。

光散乱層の屈折率と低屈折率層の屈折率は同時に特定の範囲に制御することが好ましい。光散乱層の屈折率が１．５０〜１．６０、かつ低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４０であることが好ましく、光散乱層の屈折率が１．５０〜１．５５、かつ低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４０であることがより好ましく、光散乱層の屈折率が１．５０〜１．５５、かつ低屈折率層の屈折率が１．３０〜１．３８であることがさらに好ましく、光散乱層の屈折率が１．５０〜１．５５、かつ低屈折率層の屈折率が１．３１〜１．３７であることが特に好ましい。

本発明の光散乱フィルムでは、光散乱層より高屈折率の層（高屈折率層）と低屈折率層を積層した構成を用いてもよいし、光散乱層と高屈折率層に中間の屈折率を有する層（中屈折率層）と高屈折率層と低屈折率層を積層した構成を用いてもよい。中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層各層の膜厚はそれぞれ２００ｎｍ以下にすることが好ましく、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層各層の膜厚、屈折率に関しては、例えば特開２００３−１２１６０６に記載の層構成を用いることができる。但し、コスト、ムラ、生産性などの観点からは、光散乱層と低屈折率層の間に中屈折率層や高屈折率層を設けずに低屈折率層を前述の範囲にすることで、反射性能をコントロールすることが特に好ましい。

前述のような反射性能、色味を実現するためには、光散乱フィルムの表面の凹凸を特定の範囲に制御することが好ましい。本発明の光散乱フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０２〜０．３５μｍであり、好ましくは０．０２〜０．２０μｍ、より好ましくは、０．０３〜０．１５μｍ、さらに好ましくは０．０５〜０．１５μmである。Ｒａが大きすぎると明室コントラストが悪化し、Ｒａが小さすぎると映り込みが悪化する。１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが好ましくは３０〜２００μｍ、特に好ましくは５０〜１８０μｍ、更に好ましくは５０〜１５０μm、特に好ましくは８０〜１２０μmである。凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計するのが好ましい。

明室コントラストを良化するためには、平均傾斜角の制御も好ましい。平均傾斜角は好ましくは０．１度〜４．０度、特に好ましくは０．２度〜３．０度、更に好ましくは０．２〜２．０度、最も好ましくは０．２〜1．２度である。平均傾斜角が大きいと明室コントラストが悪化し、小さいと映り込みが悪化する。両者を良好な特性とするためには、平均傾斜角とともに、Ｓｍ値も上述の範囲を満たすことが好ましく、平均傾斜角が０．２〜１．２度で、Ｓｍ値が５０〜１２０μｍであることを同時に満たすことが特に好ましい。

大画面を有する画像表示装置に最適な明室コントラスト、映り込み低減効果の良好な表面フィルムを提供するためには、反射性能、色味を最適に設計する必要がある。そのためには、散乱層の屈折率と低屈折率層の屈折率と同時に表面の凹凸を特定の範囲にするのが最も好ましく、光散乱層の屈折率が１．５０〜１．５５、かつ低屈折率層の屈折率が１．３１〜１．３７、及びＲａが０．０８〜０．１３μｍを同時に満たすことが最も好ましく、更に好ましくは同時にＳｍ、平均傾斜角を前述の範囲に設定することである。

本発明の光散乱フィルムは、表面散乱に起因するヘイズ（以後、表面ヘイズと呼称する）は０．３％〜２０％が好ましく、０．５％〜１０％が特に好ましく、であり、０．５％〜５％であることが好ましく、０．５〜２％であることが特に好ましい。表面ヘイズが大きすぎると明室コントラストが悪化し、小さすぎると映り込みが悪化する。

本発明の光散乱フィルムは、その光学特性を内部散乱に起因するヘイズ（以後、内部ヘイズと呼称する）が０％〜６０％であることが好ましく、１％〜４０％であることがより好ましい、５％〜３５％であることが特に好ましく、７％〜３０％であることが更に好ましい。内部ヘイズが大きすぎると正面コントラストが低下し、白茶け感が増す。小さすぎると使用できる素材の組合せが限定され、防眩性その他の特性値の組合せることが困難となり、また、高コストとなる。

なお、表面ヘイズと内部ヘイズは以下の手順で測定することができる。
（１）ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じてフィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。
（２）フィルムの低屈折率層側の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板とフィルムを光学的に密着させ、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出する。
（３）上記（１）で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記（２）で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出する。

本発明の光散乱フィルムは、ＪＩＳ K７１０５に準じた像鮮明性が、光学くし幅０．
５ｍｍで測定した時に、好ましくは３０％〜９９％、より好ましくは４０％〜９５％、更に好ましくは５０％〜９０％、更に好ましくは６０％〜８０％である。像鮮明性が低いと明室コントラストが悪化し、高いと映り込みが悪化する。

〔光散乱層〕
光散乱層は、表面散乱による防眩性と、内部散乱性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、好ましくはハードコート性を付与することのできる透光性樹脂、防眩性、内部散乱性を付与するための透光性粒子を含有する。

（透光性粒子）
透光性粒子の平均粒径は０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは３〜１０μｍ、特に好ましくは５〜１０μｍ、更に好ましくは６〜８μｍである。平均粒径が小さいと表面の平均傾斜角が大きくなり、明室コントラストが悪化する傾向がある。また、光の内部散乱性に起因する高角度方向の散乱が大きくなり、暗室コントラストが悪化する、ディスプレイの文字ボケを引き起こすなどの点より好ましくない。また、粒径が大きすぎると、好ましい表面形態を得るためには、膜厚が大きくなり、カールが悪化する。材料コストが高くなるなどの点より好ましくない。

前記透光性粒子の具体例としては、例えばポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。中でも、架橋樹脂粒子が好ましく、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、特に好ましくは架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子が用いられる。粒子サイズと種類とともに、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより、中心線平均粗さとともに、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、を達成することができる。具体的には、後述するような本発明の光散乱層に好ましく用いられる３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート系重合体からなる透光性粒子の組合せが好ましく、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子との組合せがより好ましい。
また、透光性粒子としては、後述の凝集性シリカ等の無機微粒子も用いることができる。

本発明においては、透光性樹脂と透光性粒子との屈折率の差（透光性粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率）は、絶対値として好ましくは０．００１〜０．１００で、より好ましくは０．００１〜０．０５０であり、特に好ましくは０．００１〜０．０４０、さらに好ましくは０．００１〜０．０３０、最も好ましくは０．００１〜０．０２５である。上記範囲内であれば、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じずらい。架橋ポリ（メタ）アクリレート系重合体からなる平均粒径６〜８μｍの透光性粒子を用い、透光性樹脂と透光性粒子との屈折率の差を０．０１〜０．０２５にするのが特に好ましい。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。

また、本発明では２種類以上の異なる粒子を併用してもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で表面凹凸を形成し、防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減する、より大きな粒子径の透光性粒子で表面凹凸を形成し、防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で主に内部散乱性を付与する、２種類の粒子で内部散乱性の散乱角度分布を調節するなど、複数の粒子の特徴を生かした設計が可能である。２種以上の異なる粒子を用いる場合も、そのうちの１つには前述の粒子を用いることが好ましい。

前記透光性粒子は、光散乱層全固形分中に５〜４０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは５〜２５質量％、更に好ましくは７〜２０質量％である。５質量％未満であると、添加効果が不足し、４０質量％を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じ易い。

また、透光性粒子の塗布量は、好ましくは３０〜２５００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは１００〜２４００ｍｇ／ｍ^２、更に好ましくは６００〜２３００ｍｇ／ｍ^２、特に好ましくは、１０００〜２０００ｍｇ／ｍ^２である。

光散乱層の平均膜厚は、２〜３０μｍが好ましく、７．５〜３０μｍがより好ましく、８〜２０μｍが特に好ましく、１０〜１６μｍが更に好ましい。薄すぎるとハードコート性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。拡散層の平均膜厚は、電子顕微鏡で５０００倍に断面を拡大し、コクヨ社製トレーシングペーパー（セ−ＴＤ５８：５０ｇ／ｍ^２）で光散乱層を写し切り、質量を測定することで測定する。

光散乱層の平均膜厚は透光性粒子の平均粒子径の１．４〜３．５倍であり、１．５〜３．０倍が好ましく、１．５〜２．５倍がさらに好ましく、１．６〜２．０倍が特に好ましい。光散乱層の平均膜厚が透光性粒子の平均粒子径の１．４〜３．５倍の場合、防眩性の膜厚依存性、粒子径依存性が小さくなる。そのため、塗布時に発生するスジや乾燥ムラによる膜厚変動が生じたとしても、スジやムラ等の面状欠陥を認識しずらくできる。防眩性は複数の粒子の集合体で形成される３次元立体構造起因の突起により表面凹凸で形成されることが、膜厚や粒子径がわずかに変化しても、表面の凹凸の大きさがほとんど変化しないため、防眩性の変化は小さく好ましい。好ましい表面形態を得ることができる。平均膜厚み／平均粒子比率が小さすぎると、粒子は膜中１層で存在するため膜厚や粒子径がわずかに変化すると、表面の凹凸の大きさが変化し、防眩性が大きく変わる。また、明室コントラストが悪化し易い。また、大きすぎると、複数の粒子の集合体が膜中に埋没するため、表面の凹凸がほとんどなく、必要な防眩性を得ることができない。

平均膜厚み／平均粒子比率が１．４〜３．５の場合にすると粒子ロットにより平均粒子径が変動してフィルムの防眩性に変動が起こることが少なくなり、ロット変動の少ないフィルムを得ることもできる。また、本発明で目的とする映り込みと明室コントラストの点からは、平均膜厚み／平均粒子比率は小さすぎると明室コントラストが悪化し、大きすぎると映り込みが悪化する。

本発明の光散乱フィルムはディスプレイの表面に用いる場合、鉛筆硬度が高いことが好ましい。鉛筆硬度は、２Ｈ以上が好ましく、３Ｈ〜７Ｈがより好ましく、4Ｈ〜６Ｈが更に好ましい。

（透光性樹脂）
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。

飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーはエチレン性不飽和モノマーとして基材上に塗布された後、重合され、形成されることが特に好ましい。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは２種以上併用してもよい。

表面反射を十分に低減するため、または、内部散乱性を制御するために、光散乱層の屈折率を制御することも好ましく用いられる。光散乱層を高屈折率化するためには、後述のように高屈折率の無機微粒子を光散乱層のバインダー中に分散して高屈折率化する方法、バインダーポリマー自体を高屈折率化し、高屈折率の無機微粒子を用いずに光散乱層を高屈折率化する方法などが好ましく用いられる。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマー構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含む高屈折率モノマーまたはオリゴマーや、フルオレン骨格を分子内に有するモノマーまたはオリゴマー等を選択することもできる。高屈折率モノマーの具体例としては、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート類、ウレタン構造を有する（メタ）アクリレート類、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

また、透光性樹脂は、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなることが好ましい。このようなモノマーから透光性樹脂が形成されることにより、光散乱層の硬度が高くなり、より薄い膜厚でハードコート性を付与することができるという効果が得られる。
ここで、「３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂」とは、透光性樹脂中に３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーからなる樹脂成分が、４０〜１００モル％含まれていることを意味する。３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーからなる繰り返し単位の含有量は好ましくは６０〜１００モル％である。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、前記光散乱層は、上述したエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用のモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性粒子および必要に応じて後述するような無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後、電離放射線または熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。

光ラジカル（重合）開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル（重合）開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光ラジカル（重合）開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光ラジカル（重合）開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。

ポリエーテルを主鎖として有するバインダーポリマーは、多官能エポキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性粒子および無機微粒子を含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光散乱層を形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

（無機微粒子）
光散乱層には、硬度向上、層の屈折率を調整して内部散乱に起因するヘイズ値を本発明の範囲に調整するため、また、塗布液の粘度を調整して、好ましい表面形態を得るために、前記の透光性粒子に加えて、無機微粒子を用いることも可能である。無機微粒子を用いる場合には、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物を主成分とし、平均粒径が１μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下、特に好ましくは０．０６μｍ以下、更に好ましくは０．０２μｍ以下である無機微粒子が好ましい。これらの無機微粒子は、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布組成物の密度を高くできるため、透光性粒子の沈降速度を遅くする効果もある。

無機微粒子としては、高屈折率化のためには、チタン、ジルコニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物を主成分とする金属酸化物のうちより選ばれる少なくとも１種の金属酸化物を用いることが特に望ましく、チタン、ジルコニウムのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物を主成分とする金属酸化物のうちより選ばれる少なくとも１種の金属酸化物を用いることが特に望ましい。また両者のうちでは、光散乱層の耐光性の観点からは、光触媒作用のないジルコニウムが望ましいが、光触媒作用を抑制したチタンを用いることも望ましい。
また、帯電防止の観点からは、導電性の無機微粒子を用いることが望ましく、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子のうちより選ばれる少なくとも１種の金属酸化物を用いることが望ましい。

また、硬度向上、屈折率調整の目的で、前記透光性樹脂より屈折率が低い無機粒子を少なくとも１種を添加してもよい。屈折率が低い無機微粒子としては、シリカ粒子が好ましく用いられる。

シリカ粒子のもう一つの好ましい形態として、一次粒子径が数十ｎｍの粒子が凝集体を形成した凝集性のシリカが用いられる。凝集性のシリカは、適度な表面ヘイズを安定に付与でき、前述の防眩性を付与する透光性粒子として好ましく用いることもできる。凝集性のシリカは単独で用いてもよいし、他の透光性粒子、無機微粒子と併用することもできる。凝集性のシリカは、例えば、珪酸ナトリウムと硫酸の中和反応により合成された、いわゆる湿式法により得ることができるがこれに限らない。湿式法にはさらに沈降法、ゲル化法に大別させるが、本発明はどちらの方法であってもよい。凝集性シリカの二次粒径は、０．１〜１０．０μｍの範囲が好ましいが、粒子を含有する光散乱層の層厚と組み合わせて選択される。二次粒径の調整は、粒子の分散度（サンドミル等を用いた機械的な分散、分散剤等を用いた化学的な分散、による制御を行う）で行う。

光散乱層に用いられる無機微粒子は表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。表面処理剤は事前にカップリング処理せず、塗布組成物中に混合して用いることもできる。
これらの無機微粒子を用いる場合、その添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このような無機微粒子は、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
また、光散乱層に後述の低屈折率層で使用することのできるオルガノシラン化合物及びその誘導体を用いることができる。オルガノシラン化合物及びその誘導体の添加量は、光散乱層の全固形分の０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましく、３〜１５質量％が特に好ましい。

（レベリング剤）
光散乱層はムラ防止を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。レベリング剤としては、具体的にはフッ素系レベリング剤、又はシリコーン系レベリング剤が好ましく、特にフッ素系レベリング剤はムラ防止能が高く、好ましい。
また、レベリング剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。
光散乱層にレベリング剤を添加すると、塗布された液膜の表面にレベリング剤が速やかに偏在し、光散乱層の膜乾燥後もレベリング剤がそのまま表面に偏在することになるので光散乱層膜の表面エネルギーは、レベリング剤によって低下する。
従って光散乱層のムラを防止するという観点からは光散乱層の表面エネルギーが低いことが好ましい。

光散乱層の表面エネルギー（γs^v：単位、ｍJ/m²）とはD.K.Owens：J.Appl.Polym.Sci.,13,1741(1969)を参考に、防眩性光散乱層上で実験的に求めた純水Ｈ₂Ｏとヨウ化メチレ
ンＣＨ₂Ｉ₂のそれぞれの接触角θ_H2O、θ_CH2I2から以下の連立方程式（１）（２）より求めたγs^dとγs^hの和で表される値γs^v（＝γs^d＋γs^h）で定義する防眩性光散乱層の表面張力のエネルギー換算値である。（ｍN/m単位をｍJ/m²単位としたもの）サンプルは測定
する前に所定の温湿度条件で一定時間以上調湿を行うことが必要である。この際の温度は２０℃〜２７℃、湿度は５０ＲＨ％〜６５ＲＨ％の範囲であることが好ましく、調湿時間は２時間以上であることが好ましい。

（１）１＋cosθH₂O＝２√γs^d（√γH₂Od／γH₂Ov）＋２√γs^h（√γH₂Oh／γH₂Ov）
（２）１＋cosθCH₂I₂＝２√γs^d（√γCH₂I₂d／γCH₂I₂v）＋２√γs^h（√γCH₂I₂h／γCH₂I₂v）
ここで、γ_H2O ^d＝21.8°、γ_H2O ^h=51.0°、γ_H2O ^v=72.8°、γ_CH2I2 ^d＝49.5°、γ_CH2I2 ^h=1.3°、γ_CH2I2 ^v=50.8°である。

光散乱層の表面エネルギーは、４５ｍＪ／ｍ²以下の範囲であり、２０〜４５ｍＪ／ｍ^２の範囲が好ましく、２２〜４０ｍＪ／ｍ²の範囲がより好ましい。
光散乱層の表面エネルギーを４５ｍＪ／ｍ²以下とすることにより、光散乱層の塗布ムラが生じにくいという効果が得られる。
ただし、光散乱層の上にさらに低屈折率層などの上層を塗布するため、レベリング剤は上層へ溶出することが好ましく、光散乱層の上層塗布液の溶媒（例えばメチルエチルケトン）で光散乱層を浸漬した後の光散乱層の表面エネルギーは、むしろ高いことが好ましく、表面エネルギー３５〜７０ｍＪ／ｍ²であることが好ましい。

以下では光散乱層のレベリング剤として好ましいフッ素系レベリング剤について説明する。シリコーン系レベリング剤については後述する。

フッ素系レベリング剤としては、フルオロ脂肪族基を有する重合体が好ましく、さらに下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）の重合体、又は下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）および下記（ｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。このような単量体としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ２ｎｄ ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ ２，Ｐａｇｅ １〜４８３記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。

（ｉ）下記一般式１で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式１

上記一般式１において、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基が好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ¹²）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ¹²）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ¹²は水素原子または置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。Ｒ_fは−ＣＦ₃または−ＣＦ₂Ｈを表す。
一般式１中のｍは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。
一般式１中のｎは１〜１１の整数を表し、１〜９がより好ましく、１〜６が更に好ましい。Ｒ_fは−ＣＦ₂Ｈが好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式１で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される重合単位が２種類以上構成成分として含まれていても良い。

（ｉｉ）上記（ｉ）と共重合可能な下記一般式２で示されるモノマー
一般式２

上記一般式２において、Ｒ¹³は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ¹⁵）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ¹⁵）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ¹⁵は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
Ｒ¹⁴は、置換基を有しても良い炭素数１〜６０の直鎖、分岐状、あるいは環状のアルキル基、または置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。該アルキル基はポリ（アルキレンオキシ）基を含んでも良い。さらに、炭素数１〜２０の直鎖、分岐状あるいは環状のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜１０の直鎖、分岐状のアルキル基が極めて好ましい。

好ましいフッ素系ポリマーの製造に用いられる上記一般式１で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの単量体全量に基づいて、１０質量％以上であり、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは７０〜１００質量％であり、さらに好ましくは８０〜１００質量％の範囲である。

以下、好ましいフッ素系ポリマーの具体的な構造例を示すがこの限りではない。
なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。

フッ素系ポリマーを構成するフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位の量は、１０質量％を超えることが好ましく、５０〜１００質量％であることがより好ましく、光散乱層のムラを防止するという観点を重視すれば、７５〜１００質量％であることが最も好ましく、光散乱層の上に低屈折率層を塗布する場合は、５０〜７５質量％であることが最も好ましい。（該フッ素系ポリマーを構成する全重合単位で記載した）

シリコーン系レベリング剤について、説明する。シリコーン系レベリング剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で、側鎖、主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられ、信越化学社製のＫＦ−９６、Ｘ−２２−９４５などがある。

その他、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤も好ましく用いることができる。
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤 ＳＩＬＷＥＴ Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１があり、さらにＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましく、特開平６−４９４８６号が参考にできる。
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤 ＡＢＮ ＳＩＬＷＥＴ ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。

塗布液に対する上記含フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤の添加量は、０．００１質量％〜１．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１質量％〜０．２質量％である。

光散乱層塗布時には、含フッ素系レベリング剤やシリコーン系レベリング剤を用いて塗布液の表面張力を下げて面状均一性を高め、高速塗布による高生産性を維持し、光散乱層塗布後にコロナ処理、ＵＶ処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理といった表面処理、特に好ましくはコロナ処理を行って、表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の光散乱層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。

フッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。
更に、フッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が０．００１質量％未満では効果が不十分であり、また５質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなり、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）に悪影響を及ぼすことがある。

本発明のフィルムは、塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして好ましくは１〜５０ｃＰであり、さらに好ましくは３〜２０ｃＰであり、最も好ましくは５〜１０ｃＰである。

このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトン ジオール
ポリ−ε−カプロラクトン トリオール
ポリビニルアセテート
ポリ（エチレン アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン グルタレート）
ポリ（１，４−ブチレン スクシネート）
ポリ（１，４−ブチレン テレフタレート）
ポリ（エチレンテレフタレート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレン グルタレート）
ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）
ポリ（ネオペンチルグリコール セバケート）
ポリ（１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（１，３−プロピレン グルタレート）
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
ポリスチレン
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート

この他にも特開平８−３２５４９１号記載のスメクタイト、マイカ、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイトなどの層状化合物及びポリアクリル酸ソーダ、特開平１０−２１９１３６号記載のエチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。チキソトロピー性付与剤としては、０．３μｍ以下の粒径の層状化合物を有機化処理したものが特に好ましい。０．１μｍ以下の粒径のものが更に好ましい。層状化合物の粒径は、長軸の長さで考えることができる。通常、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部程度とするのが好適である。

本発明の光散乱層は、直接透明支持体上にウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物に用いる溶媒は重要な要因となる。要件としては、上記透光性樹脂等の各種溶質を充分に溶解すること、上記透光性粒子を溶解しないこと、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生しにくいことが挙げられる。また、支持体を溶解しないこと（平面性悪化、白化等の故障防止に必要）、逆に最低限の程度には支持体を膨潤させること（密着性に必要）、等も好ましい特性である。溶剤は１種でもよいが、２種以上の溶剤を用いて、支持体の膨潤性、素材の溶解性、乾燥特性、粒子の凝集性などを調整することが特に好ましい。

溶媒の具体例として、各種ケトン（メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、各種セロソルブ（エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）が好ましく用いられる。その他として、各種アルコール類（プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール等）、トルエンなどが好ましく用いられる。

支持体にトリアセチルセルロースを用いる場合には、具体例として、主溶媒として各種ケトン（メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、各種セロソルブ（エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、トルエンが好ましく用いられる。また、上記の中から選択した主溶媒に対して、水酸基を有する少量溶媒を添加することにより、防眩性が調整でき、特に好ましい。水酸基を有する少量溶媒は、塗布組成物の乾燥工程において主溶媒よりも後まで残留することで防眩性を強くすることができるため、２０〜３０℃の範囲内における任意の温度において、前記主溶媒に対して、前記少量溶媒の蒸気圧が低いことが好ましい。例えば、主溶媒をメチルイソブチルケトン（２１．７℃における蒸気圧：１６．５ｍｍＨｇ）に対して水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール（２０．０℃における蒸気圧：０．０８ｍｍＨｇ）の組み合わせが好ましい一例として挙げられる。主溶媒と水酸基を有する少量溶媒の混合比は、前者：後者として質量比で９９：１〜５０：５０が好ましく、９５：５〜７０：３０がより好ましい。上記範囲内において、塗布液の安定性が良好となる。３種類以上の溶媒を用いる場合は、最も量の多い溶媒の量：他の溶媒の合計を上記の範囲にすることが好ましい。

また、上記溶剤の中から選択した、透明支持体の膨潤性の低い主溶媒に対して、膨潤性の高い少量溶媒を添加することにより、他の性能、面状を悪化させることなく、透明支持体との密着性を向上させることができる。具体的には、主溶媒として、メチルイソブチルケトン、トルエンを用い、少量溶媒として、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール等を用いることができ、特に好ましくは、主溶媒として、メチルイソブチルケトン、トルエンを用い、少量溶媒として、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、を用いることである。また、溶媒の親水性制御のために、プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール等を添加して用いることもでき、特にプロピレングリコール、エチレングリコールが好ましく用いることができる。

主溶媒と少量溶媒の混合比は、重量比で９９：１〜５０：５０が好ましく、９５：５〜６０：４０がより好ましい。この範囲内において、塗布後の乾燥工程における面質のバラツキが防止される。３種類以上の溶媒を用いる場合は、最も量の多い溶媒の量：他の溶媒の合計を上記の範囲にすることが好ましい。

〔低屈折率層〕
本発明で用いられる低屈折率層は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性および／または光硬化性を有する組成物を塗布して形成されることが好ましい。

低屈折率層は、例えば含フッ素化合物を主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
低屈折率層を形成する際に使用される硬化性組成物は、（Ａ）含フッ素化合物、（Ｂ）無機微粒子、および（Ｃ）オルガノシラン化合物のうちの少なくとも２種を含有してなるのが好ましく、３種全てを含有することが特に好ましい。含フッ素化合物としては、屈折率の低い含フッ素モノマー、オリゴマー、ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。含フッ素モノマー、オリゴマー、ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材としては、熱または電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数０．０３〜０．３０であり、水に対する接触角８５〜１２０°となる素材が好ましい。
低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。

（低屈折率層用含フッ素ポリマー）
前記含フッ素ポリマーは、熱または電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。

また、本発明の光散乱フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、５００ｇｆ（４．９Ｎ）以下が好ましく、３００ｇｆ（２．９Ｎ）以下がより好ましく、１００ｇｆ（０．９８Ｎ）以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好ましく、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。

前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

前記架橋反応性単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位；カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー〔例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アクリル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アクリルアミド類〔Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

前記含フッ素ポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類とのランダム共重合体であり、特に単独で架橋反応性基〔（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕を有していることが好ましい。
前記架橋反応性基を有する重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。

本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式Ｌ−１で表される共重合体が挙げられる。
一般式Ｌ−１

一般式Ｌ−１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ及びＳから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−**， *−（ＣＨ₂）₂−ＮＨ−**， *−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−**， *−（ＣＨ₂）₆−Ｏ−**， *−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−**，*−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−**， *−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−**， *−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃−Ｏ−**（* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表わす。

一般式Ｌ−１中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。

一般式Ｌ−１中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。

Ａの好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。

ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５が好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。本発明における一般式Ｌ−１は、一般式Ｌ−２であることが好ましい。
一般式Ｌ−２

一般式Ｌ−２において、Ｘは一般式１と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表わし、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式Ｌ−１におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｘ、ｙ、ｚ１およびｚ２は、それぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、ｘ及びｙは、それぞれ３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０を満たすのが好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５の場合である。ｚ１及びｚ２については、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たすのが好ましく、更に好ましくは０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。

一般式Ｌ−１又はＬ−２で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式Ｌ−１又はＬ−２で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開２００４−４５４６２号公報の段落番号［００３５］〜［００４７］に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成できる。

（低屈折率層用無機微粒子）
無機微粒子の配合量は、１ｍｇ／ｍ²〜１００ｍｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ²〜８０ｍｇ／ｍ²、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ²〜６０ｍｇ／ｍ²である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例えば、フッ化マグネシウムや酸化珪素（シリカ）の微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの例えば１０％以上１００％以下、３０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。

本発明の効果である、映り込みと明室コントラストを両立するためには、前記のこの屈折率範囲に制御する必要があり、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０が好ましく、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３２である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記数式（II）で表される空隙率ｘは
（数式II）： ｘ＝（４πａ³／３）／（４πｂ³／３）×１００
であり、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定できる。

本発明の効果である、映り込みと明室コントラストを両立するためには、中空の無機微粒子の含有量を制御して低屈折率層の屈折率を前述の範囲にするのが好ましい。無機微粒子の量は、低屈折率層の全固形分中の２０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜５５質量％であることがより好ましく、３５〜５０質量％であることが特に好ましい。中空の無機微粒子の量が多すぎると膜が弱くなり、少なすぎると屈折率が十分低下できない。

平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下「小サイズ無機微粒子」と称す）の少なくとも１種は、前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子（以下「大サイズ無機微粒子」と称す）と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、８ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。

無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。

（低屈折率層用オルガノシラン化合物）
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）、の中から選ばれる少なくとも一種を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
これらの成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、含フッ素化合物として、好ましくは前記含フッ素ポリマーを有するので、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式（１）で表されるものが好ましい。
一般式（１）：（Ｒ¹⁰）_m−Ｓｉ（Ｘ）_4-m

前記一般式（１）において、Ｒ¹⁰は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数1〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ²ＣＯＯ（Ｒ²は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ₃ＣＯＯ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。

Ｒ¹⁰あるいはＸが複数存在するとき、複数のＲ¹⁰あるいはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ¹⁰に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

Ｒ¹⁰が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。前記一般式（１）で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式（２）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。一般式（２）

前記一般式（２）において、Ｒ¹は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは *−ＣＯＯ−**， *−ＣＯＮＨ−**又は *−Ｏ−**を表し、単結合、 *−ＣＯＯ−**および *−ＣＯＮＨ−**が好ましく、単結合および *−ＣＯＯ−**が更に好ましく、 *−ＣＯＯ−**が特に好ましい。* は＝Ｃ（Ｒ¹）−に結合する位置を、**はＬに結合する位置を表す。

Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

ｎは０または１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ¹⁰は一般式（１）と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｘは一般式（１）と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

前記一般式（１）、一般式（２）の化合物は２種類以上を併用しても良い。以下に一般式（１）、一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

上記Ｍ−１乃至１０で表される化合物の内、Ｍ−１、Ｍ−２、及びＭ−５が好ましい。

前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造される。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値（２５℃）)が４．５以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。

金属キレート化合物としては、一般式Ｒ³ＯＨ（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ⁴ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ⁵（式中、Ｒ⁴は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ³）_p1（Ｒ⁴ＣＯＣＨＣＯＲ⁵）_p2、Ｔｉ（ＯＲ³）_q1（Ｒ⁴ＣＯＣＨＣＯＲ⁵）_q2、およびＡｌ（ＯＲ³）_r1（Ｒ⁴ＣＯＣＨＣＯＲ⁵）_r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。

金属キレート化合物中のＲ³およびＲ⁴は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ⁵は、前記と同様に炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。

上記金属キレート化合物の具体例のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することができる。

本発明では、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。

本発明で使用されるのは、一般式Ｒ⁴ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ⁵で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、Ｒ⁴は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよび／またはアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を構成するＲ⁴およびＲ⁵は、前記金属キレート化合物を構成するＲ⁴およびＲ⁵と同様である。

このβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。上記範囲内において、良好な保存安定性が得られる。

前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物（光散乱層用、低屈折率層用等の塗布液）に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物を調製し、得られた反応溶液（ゾル液）を用いて前記硬化性組成物を調整するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を添加した液を光散乱層もしくは低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
本発明においては、前記光散乱層および前記低屈折率層の両方が、前記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることが好ましい。

低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。

前記硬化性組成物には、上述した無機微粒子以外の無機フィラーを本発明の所望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーとしては、光散乱層用で記載した無機微粒子が好ましく、特にインジウムや錫、アンチモンのような導電性を付与できるものを屈折率に大きく影響しない範囲内で添加するのが好ましい。

（ゾルゲル素材）
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガノアルコキシ金属化合物、およびその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシランおよびその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化および撥水・撥油性付与の点で好ましく、前述の（Ａ）含フッ素化合物として含有させることも好ましい。

［低屈折率層に含有するその他の物質］
前記硬化性組成物は、前述の（Ａ）含フッ素化合物、（Ｂ）無機微粒子及び（Ｃ）オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。

低屈折率層と直接接する下層との界面密着性及び低屈折率層の硬度向上等の観点から、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤を低屈折率層に少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して４０質量％以下の範囲とすることが好ましく、３０質量％以下の範囲とすることがより好ましく、２０質量％以下の範囲とすることが特に好ましい。

また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を低屈折率層に適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。

シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ₂ＣＦ₃，−ＣＨ₂（ＣＦ₂）₄Ｈ，−ＣＨ₂（ＣＦ₂）₈ＣＦ₃，−ＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）₄Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば−ＣＨ（ＣＦ₃）₂，−ＣＨ₂ＣＦ（ＣＦ₃）₂，−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＦ₂ＣＦ₃，−ＣＨ（ＣＨ₃）（ＣＦ₂）₅ＣＦ₂Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えば−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₃，−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ₄Ｆ₈Ｈ，−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ₈Ｆ₁₇，−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂Ｈ等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。

フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３(以上商品名)、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で適宜添加することのできる、前述のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物は、その分子構造を低屈折率層用の硬化性組成物中の（Ａ）含フッ素化合物の分子構造中に含むことも好ましい。つまり、前述の含フッ素ポリマーや含フッ素ゾルゲルの分子構造中にブロックまたはグラフとの形態で含有するのが望ましい。

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を低屈折率層に適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低ｎ層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０(商品名)、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。できる。この無機微粒子としては、前述のものを用いることができる

［低屈折率層用の溶剤］
本発明の低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とすることが好ましく、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが更に好ましい。

沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル （９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。

沸点が１００℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。例えば、２−ブタノンとシクロヘキサノンを併用する場合、その混合比（質量比）は９９：１〜５０：５０が好ましく、９９：１〜８０：２０がより好ましく、９９：１〜９０：１０がさらに好ましく、９９：１〜９５：５が特に好ましい。

［透明導電性層］
本発明の光散乱フィルムは、帯電防止の目的で透明導電性層を設けることがフィルム表面での静電気防止の点で好ましい。透明導電性層は、ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合に有効である。透明導電性層を形成する方法としては、例えば、通電性粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の公知の方法を挙げることができる。塗工する場合、その方法は特に限定されず、塗工液の特性や塗工量に応じて、例えば、ロールコート、グラビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えばよい。透明導電性層は、透明支持体又は光散乱層上に直接又はこれらとの接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。

透明導電性層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。透明導電性層の表面抵抗は、１０^５〜１０^１２Ω／ｓｑであることが好ましく、１０^５〜１０^９Ω／ｓｑであることがさらに好ましく、１０^５〜１０^８Ω／ｓｑであることが最も好ましい。帯透明導電性層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。

透明導電性層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、透明導電性層のヘイズが、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
透明導電性層は、強度が優れていることが好ましく、具体的な帯電防止層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度（ＪＩＳ−Ｋ−５４００の規定）で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。

（通電性粒子）
透明導電性層に用いる通電性粒子の一次粒子の平均粒子径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、５〜７０ｎｍであることが最も好ましい。形成される透明導電性層中の通電性粒子の平均粒子径は、１〜２００ｎｍであり、５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。通電性粒子の平均粒子径は、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
通電性粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ^２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ^２／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ^２／ｇであることが最も好ましい。

通電性粒子は、金属の酸化物または窒化物からなる無機微粒子であることが好ましい。金属の酸化物または窒化物の例としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが挙げられる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。
通電性粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子が挙げられる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）およびＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。

通電性粒子は表面処理されていてもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナおよびシリカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
通電性粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。

透明導電性層中の導電性無機微粒子の割合は、２０〜９０質量％であることが好ましく、２５〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがさらに好ましい。二種類以上の通電性粒子を透明導電性層内で併用してもよい。

通電性粒子は、分散物の状態で透明導電性層に使用することができる。通電性粒子の分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。この中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特に好ましい。通電性粒子は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが挙げられ、サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが挙げられる。

通電性粒子は、光散乱層内に添加することもできる。

（透明導電性層のバインダー）
透明導電性層は、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることができる。架橋しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。アニオン性基は、通電性粒子の分散状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して、透明導電性層を強化する機能を有する。

ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。

ポリオレフィン主鎖は、飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。
ポリエーテル主鎖は、エーテル結合（−Ｏ−）によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。
ポリウレア主鎖は、ウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合している。
ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。

ポリエステル主鎖は、エステル結合（−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基（酸ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。
ポリアミン主鎖は、イミノ結合（−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。
ポリアミド主鎖は、アミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）との反応により得られる。
メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒド（例、ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有する。

アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。
アニオン性基の例としては、カルボン酸基（カルボキシル）、スルホン酸基（スルホ）およびリン酸基（ホスホノ）などが挙げられ、スルホン酸基およびリン酸基が好ましい。
アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。

架橋構造は、二以上の主鎖を化学的に結合（好ましくは共有結合）する。架橋構造は、三以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。

架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６質量％であることが好ましく、４〜９４質量％であることがさらに好ましく、６〜９２質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、４〜９８質量％であることが好ましく、６〜９６質量％であることがさらに好ましく、８〜９４質量％であることが最も好ましい。

架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位）が含まれていてもよい。
その他の繰り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。

アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミノ基または四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１〜６のアルキル基であることがさらに好ましい。

四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．０６〜３２質量％であることが好ましく、０．０８〜３０質量％であることがさらに好ましく、０．１〜２８質量％であることが最も好ましい。

上記バインダーに対して、例えば特開２００３−３９５８６号公報に記載の以下の反応性有機珪素化合物と併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、電離放射線硬化型樹脂と反応性有機珪素化合物の合計に対して１０〜１００重量％の範囲で使用される。特に下記の（３）の電離放射線硬化性有機珪素化合物を使用する場合には、これだけを樹脂成分として導電層を形成することが可能である。

（１）珪素アルコキシド
ＲmＳｉ（ＯＲ’）nで表される化合物であり、ここでＲ、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ及びｎはそれぞれｍ＋ｎ＝４となる整数である。例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。

（２）シランカップリング剤
例えば、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。

（３）電離放射線硬化性珪素化合物
電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５，０００以下の有機珪素化合物が挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。

その他の化合物としては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。

帯電防止機能をより発現するためには、特開２００３−３９５８６号公報に示されるように、本発明の光散乱層中に通電性粒子を分散し、異方性導電膜としての機能を有させることも好ましい。

［透明支持体］
本発明の光散乱フィルムの透明支持体は、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースアシレート（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、代表的には富士フイルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＬなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ノルボルネン系樹脂、非晶質ポリオレフィンが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。

セルロースアシレートは、単層または複数の層からなる。単層のセルロースアシレートは、特開平７−１１０５５号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるセルロースアシレートは、公開特許公報の特開昭６１−９４７２５号、特公昭６２−４３８４６号等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。

前記セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。

前記セルロースアシレートフィルム（トリアセチルセルロースなどからなるフィルム）およびその製造法については発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行）に記載されている。

支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。ハンドリング適性、塗布適性等を考慮すると８０μｍ前後が好ましいが、表示装置の薄手化の傾向から、偏光板の薄手化のニーズが大きく、偏光板薄手化の観点では４０μｍ〜６０μｍ前後が好ましい。このような薄手のセルロースアシレートフィルムを本発明の光散乱フィルムの透明支持体として用いる場合には、セルロースアシレートフィルムに直接塗布する層の溶媒、膜厚、架橋収縮率等を最適化することにより前記のハンドリング、塗布適性等の問題を回避することが好ましい。
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。
支持体の長さは任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜１００００ｍのものが用いられ、３００〜５０００ｍであることが好ましく、５００〜３０００ｍであることがさらに好ましい。

[他の層について]
透明支持体と本発明の光散乱層の間に設けても良い他の層として、他の光散乱層（光散乱層だけで硬度が不足する場合）、防湿層、密着改良層、虹ムラ（干渉ムラ）防止層等が挙げられる。これらの層は、公知の方法にて形成することができる。

本発明の光散乱フィルムは、以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。

［塗布液の調製］
各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。１％以下が特に好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。

光散乱層を形成する塗布液中には、直接その上に形成される低屈折率層の乾燥膜厚（５０ｎｍ〜１２０ｎｍ程度）に相当する異物を概ね全て（９０％以上を指す）除去できるろ過をすることが好ましい。光拡散性を付与する為の透光性粒子が低屈折率層の膜厚と同等以上であるため、前記ろ過は、透光性粒子以外の全ての素材を添加した中間液に対して行うことが好ましい。また、前記のような粒径の小さな異物を除去可能なフィルターが入手できない場合には、少なくとも直接その上に形成される層のウエット膜厚（１〜１０μｍ程度）に相当する異物を概ね全て除去できるろ過をすることが好ましい。このような手段により、直接その上に形成される層の点欠陥を減少することができる。

［塗布］
次に、光散乱層、および必要に応じて低屈折率層またはその他の層を形成するための塗布液を透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。その後、光照射および／または加熱して各層を形成するためのモノマーや硬化性樹脂を硬化する。これにより各層が形成される。

本発明のフィルムの各層を塗布する方法は特に制限されないが、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましく、高い生産性で供給するために、ダイコート法が好ましく用いられる。特に、本発明の光散乱層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｃｃ／ｍ²以下）で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。

（ダイコーターの構成）
図３は本発明で用いるスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する。

スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図３に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。

スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。

スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。

図４は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明で用いるスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩ_LOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。

上流側リップランド１８ａのランド長さＩ_UPは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩ_LOは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩ_LOが３０μｍよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来知られている。一方、下流側リップのランド長さＩ_LOが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。

さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間Ｇ_Lとは下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。

図５は、本発明での塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブＷの進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間Ｇ_B、Ｇ_Sが存在する。図６及び図７は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図６のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図７のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間Ｇ_B、Ｇ_Sと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間Ｇ_Bとは、減圧チャンバー４０を図４のようにウェブＷ及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブＷまでの隙間を示す。

バックプレート４０ａとウェブＷとの隙間Ｇ_B をスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間Ｇ_L よりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間Ｇ_Lが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間Ｇ_Bは１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。

（材質、精度）
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを３０〜１００μｍの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、WCと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。WC結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下がさらに好ましい。
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。

（塗布速度）
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明で好ましく用いられる塗布方式は高速塗布時における膜厚の安定性が高い。さらに、本発明の塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。本発明の光散乱フィルムの様な低塗布量の塗布液に対して、本発明の塗布方式は高速で膜厚安定性良く塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。本発明の製造方法を用いることで２５ｍ／分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。

（ウエット塗布量）
光散乱層を形成する際には、基材フィルム上に直接又は他の層を介してウエット塗布膜厚として３〜５０μｍ、例えば３〜４０μｍの範囲で前記塗液を塗布するのが好ましく、乾燥ムラ防止の観点からさらに１０〜３５μｍの範囲がより好ましい。１５〜３２μｍの範囲が更に好ましい。また、低屈折率層を形成する際には、光散乱層上に直接、或いは他の層を介してウエット塗布膜厚として１〜１０μｍの範囲で塗布組成物を塗布するのが好ましく、２〜７μｍの範囲で塗布されるのがより好ましく、２〜５μｍの範囲で塗布されるのが特に好ましい。

［乾燥］
光散乱層および低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。

各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が１〜５０％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルムの塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。

［硬化］
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線および／または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ²〜１０００ｍＪ／ｃｍ²の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度は５体積％以下が好ましく、０．０１体積％〜５体積％が特に好ましい。特に低屈折率層の酸素濃度は０．１体積％以下が好ましく、０．０５体積％以下が特に好ましく、０．０２体積％以下が特に好ましい。幅方向の分布は酸素濃度で２体積％以下が好ましい。

光散乱層の硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に本発明の低屈折率層を設けて電離放射線および／または熱により低屈折率層を硬化した際に下層の光散乱層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、光散乱層と低屈折率層との間の密着性が改良され、好ましい。

本発明の光散乱フィルムを偏光膜の両側の保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、前記の光散乱フィルムを、光散乱層構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。光散乱フィルムや更に反射防止層を備えた反射防止フィルムの親水化処理としては、下記の鹸化処理を行うことが好ましい。

［鹸化処理］
（１）アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に光散乱フィルムや反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、光散乱フィルムや反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。

鹸化処理することにより、透明支持体の光散乱層や反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。 偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、光散乱層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に光散乱層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度、さらに好ましくは４０度〜５０度となる。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、１０度未満では、該ダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない好ましくない。

（２）アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を光散乱層や低屈折率層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。

前記（１）、（２）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の光散乱フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。

（３）光散乱層や反射防止層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（２）と同様に、光散乱層および／または低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、光散乱層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（２）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。

（４）光散乱層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
光散乱層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、光散乱層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に光散乱層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には光散乱層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。

（５）予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに光散乱層や反射防止層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して光散乱層、低屈折率層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、光散乱層または他の層と鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、光散乱層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから光散乱層または他の層を形成することで対処できる。また、光散乱層または他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。

本発明の光散乱フィルム（好ましくは、光散乱フィルム、又は反射防止フィルム）を用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方として、本発明の光散乱フィルム（好ましくは、反射防止フィルム）を有する。偏光板用保護フィルムは、前記のように、光散乱層や反射防止層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が１０度〜５０度の範囲にあることが好ましい。例えば、本発明の光散乱フィルムの片面に粘着層を設けてディスプレイの最表面に配置できる。本発明の光散乱フィルムは、偏光板における偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。

本発明の光散乱フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた光散乱機能、あるいは反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。また、本発明の光散乱フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室での視認性やコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。

本発明の光散乱フィルム又は該光散乱フィルムを用いた偏光板を、画像表示装置の表示部の最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等に優れた画像表示装置が得られる。

［光学補償フィルム］
本発明の偏光板に、光学補償フィルム（光学異方性フィルム）を設けることにより、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムは、偏光子を挟んで本発明の光散乱フィルムの反対側に好ましく用いることができる。光学補償フォルムは、偏光板の保護フィルムのうち、本発明のフィルムを用いたのとは反対側の保護フィルムの上に粘着剤で貼付してもよいし、反対側の保護フィルムとして用いてもよい。偏光板の厚みの観点からは、片側の保護フィルムとして本発明のフィルムを用い、偏光子を挟んで反対側の保護フィルムとして光学補償フィルム用いることが特に望ましい。光学補償フィルムは、光学異方性のある物質をフィルム自体に含有させたり、フィルムを延伸したりすること、あるいはその両方を行うことで、フィルム自体が特定の光学異方性を有してもよいし、フィルム上に光学異方性層（位相差層）を設けてもよい。

光学補償層としては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有し、該ディスコティック化合物の円盤面は、保護フィルム面に対して傾いており、該ディスコティック化合物の円盤面と保護フィルム面とのなす角度が保護フィルム面からの距離に伴って変化している（光学異方性層の深さ方向において変化している）ことを特徴とする光学補償層が好ましい。
該角度は該ディスコティック化合物からなる光学異方性層の保護フィルム面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
また、液晶ディスプレイのコントラストの良化、色味を改良するために、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく実質的に光学的等方性であり、さらには光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムを用いることも好ましいし、反射型ディスプレイの場合は１枚または複数枚のフィルムからなるλ／４板の機能を有するフィルムを用いるのも好ましい。
光学補償層を偏光膜の保護フィルムとして用いる場合偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。

［偏光膜］
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落番号００２０〜００３０に詳しい記載がある。

［画像表示装置］
本発明の光散乱フィルム及び該フィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（ＳＥＤ）等の画像表示装置に適用することができる。例えば、本発明のフィルム（偏光板）は、透明支持体を有しているため、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。

例えば、本発明のフィルムを液晶表示装置における偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）、ＥＣＢ等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特に、大型液晶テレビ等の用途として、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＢ等で好ましく用いることができる。大型液晶テレビ等の用途としては、表示画面の対角が２０インチ以上であることが好ましく用いることができる。

ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は応答速度が速いとの利点がある。

ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

［実施例１］
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）

内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３Ｍｐａ（５．４ｋｇ／ｃｍ²）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ²）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。

（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

（光散乱層用塗布液Ａの調製）
ＰＥＴ−３０ ４０．０ｇ
ＤＰＨＡ ６．０ｇ
イルガキュア１８４ １．７ｇ
ＭＸ−６００（３０％） ２１．５ｇ
ＳＰ−１３ ０．０６ｇ
ＫＢＭ−５１０３ ６．０ｇ
ＭＩＢＫ １８．０ｇ
ＭＥＫ ６．０ｇ

（光散乱層用塗布液Ｂの調製）
ＰＥＴ−３０ ３７．０ｇ
ＤＰＨＡ ５．０ｇ
イルガキュア１８４ １．７ｇ
ＭＸ−６００（３０％） ３３．５ｇ
ＳＰ−１３ ０．０６ｇ
ＫＢＭ−５１０３ ６．０ｇ
ＭＩＢＫ １８．０ｇ
ＭＥＫ ６．０ｇ

（光散乱層用塗布液Ｃの調製）
ＰＥＴ−３０ ４５．０ｇ
ＤＰＨＡ ５．０ｇ
イルガキュア１８４ ２．０ｇ
ＳＸ−３５０（３０％） １．７ｇ
架橋アクリルースチレン粒子（３０％） １３．３ｇ
ＳＰ−１３ ０．０６ｇ
ＫＢＭ−５１０３ １０．０ｇ
トルエン ３０．５ｇ
シクロヘキサノン ８．０ｇ

（ハードコート層用塗布液Ｄの調製）
ＰＥＴ−３０ ４９．５ｇ
ＤＰＨＡ ５．０ｇ
イルガキュア１８４ ３．０ｇ
ＳＰ−１３ ０．０６ｇ
ＫＢＭ−５１０３ １０．０ｇ
トルエン ３６．０ｇ
シクロヘキサノン １３．０ｇ

（光散乱層用塗布液Ｅの調製）
ＰＥＴ−３０ ４８．５ｇ
イルガキュア１２７ ２．５ｇ
ＭＸ−５００（３０％） ４２．７ｇ
ＳＰ−１３ ０．０８ｇ
ＭＩＢＫ １．６ｇ
ＭＥＫ ５３．８ｇ

（光散乱層用塗布液Ｆの調製）
ＰＥＴ−３０ ５３．３ｇ
イルガキュア１８４ ２．０ｇ
ＭＸ−５００（３０％） ２６．６ｇ
サイリシア４４５（３０％） １．５ｇ
ＳＰ−１３ ０．０８ｇ
ＭＩＢＫ ２８．５ｇ
ＭＥＫ ５．６ｇ

（光散乱層用塗布液Ｇの調製）
ＰＥＴ−３０ ４８．５ｇ
イルガキュア１８４ ２．５ｇ
ＭＸ−５００（３０％） ４２．７ｇ
ＭＥＫ−ＳＴ ５３．８ｇ
ＳＰ−１３ ０．０８ｇ
ＭＩＢＫ １．６ｇ

（ハードコート層用塗布液Ｈの調製）
ＰＥＴ−３０ ４５．９ｇ
サイリシア４４５（３０％） １．５ｇ
イルガキュア１８４ １．５ｇ
ＳＰ−１３ ０．５ｇ
ＭＩＢＫ ３０．０ｇ
ＭＥＫ １０．０ｇ

光散乱層用塗布液Ａ〜Ｃ、Ｅ〜Ｇおよびハードコート層用塗布液Ｄ、Ｈは、上記組成をそれぞれ攪拌後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、光散乱層用およびハードコート用塗布液を調製した。光散乱層用塗布液Ａ〜Ｃ、Ｅ，Ｆ及びハードコート層用塗布液Ｄ、Ｈにより形成される層の屈折率は１．５２であった。光散乱層用塗布液Ｇにより形成される層の屈折率は１．５０５であった。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＰＥＴ−３０：
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
ＤＰＨＡ：
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物［屈折率１．５２、日本化薬（株）製］
ＫＢＭ−５１０３：
シランカップリング剤［信越化学工業（株）製］
イルガキュア１８４：
重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
イルガキュア１２７：
重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
ＭＸ−６００：
平均粒径６μｍＰＭＭＡ粒子［屈折率１．４９、綜研化学（株）製、３０％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
ＭＸ−５００：
平均粒径５μｍＰＭＭＡ粒子［屈折率１．４９、綜研化学（株）製、３０％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
ＳＸ−３５０：
平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子［屈折率１．６１、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
架橋アクリル−スチレン粒子：
平均粒径３．５μｍ［屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
サイシリア４４５：
平均粒径６．２μｍシリカ粒子［屈折率１．４５、富士シリシア化学（株）製、３０％ＭＥＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
ＭＥＫ−ＳＴ：
コロイダルシリカ分散物［平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製］
ＳＰ−１３
本明細書記載のフッ素系ポリマー

（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ１１３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、コロイダルシリカ分散液ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（商品名、平均粒径４５ｎｍ、屈折率１．４５、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、前記ゾル液ａ０．６ｇ、およびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ａを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５０であった。

（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
（分散液Ａ）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００ｇに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０ｇ、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５ｇ加え混合した後に、イオン交換水を９ｇ加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８ｇを添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ１．５％であった。

（塗布液Ｂ）
オプスターＪＴＡ１１３（熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％）：ＪＳＲ(株)製）７８３．３質量部（固形分として４７．０質量部）に対して、分散液Ａを１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、コロイダルシリカ分散物（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）３０．０質量部（固形分として９．０質量部）、前記ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９１になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Ｂを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３９０であった。

（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）
オプスターＪＮ７２２８（熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％）：ＪＳＲ(株)製）７８３．３質量部（固形分として４７．０質量部）に対して、分散液Ａを２４０質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として４８．０質量部）、前記ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Ｃを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３６５であった。

（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）
低屈折率層用塗布液ＣのオプスターＪＮ７２２８の固形分４７質量部の変わりに、前記パーフルオロオレフィン共重合体（１）４３質量部、反応性シリコーンＸ−２２−１６４Ｂ（商品名；信越化学工業社製）２質量部、ゾル液ａ ７．３質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２質量部を用いた以外は低屈折率層塗布液Ｃと同じに低屈折率層塗布液Ｄを調整した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３７０であった。

（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）
低屈折率層用塗布液Ｄ中の分散液Ａを２４０質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として４８．０質量部）、ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）の変わりに、分散液Ａを３２０質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として６４．０質量部）、前記ゾル液ａ２２．９質量部（固形分として６．７質量部）を用いた以外は低屈折率層塗布液Ｄと同じに低屈折率層塗布液Ｅを調整した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３２０であった。

［実施例１］
（１）光散乱層の塗設
透明支持体として、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ：屈折率＝１．４９、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、下記の装置構成および塗布条件で示されるダイコート法によって光散乱層用塗布液Ａを塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で（酸素濃度を０.０５体積％）、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍの防眩性を有する光散乱層を形成し、巻き取った。

基本条件：スロットダイ１３は、上流側リップランド長Ｉ_UPが０．５ｍｍ、下流側リップランド長Ｉ_LOが５０μｍで，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間Ｇ_Lを５０μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷとの隙間Ｇ_S、及びバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間Ｇ_Bはともに２００μｍとした。それぞれの塗布液の液物性に合わせて、光散乱層：光散乱層用塗布液Ａ、Ｃ、Ｅ，Ｆ，Ｇ、ハードコート層用塗布液Ｄの場合：塗布速度＝２０ｍ／分、ウエット塗布量＝１７．５ｍｌ／ｍ²で、光散乱層用塗布液Ｂの場合：塗布速度＝４０ｍ／分、ウエット塗布量＝２１．０ｍｌ／ｍ²で、ハードコート層用塗布液Ｈの場合：塗布速度＝３０ｍ／分、ウエット塗布量＝１３．８ｍｌ／ｍ²で、低屈折率層：塗布速度＝４０ｍ／分、ウエット塗布量＝５．０ｍｌ／ｍ²で塗布を行った。なお、塗布幅：１３００ｍｍ、有効幅：１２８０ｍｍとした。

（２）低屈折率層の塗設
上記光散乱層用塗布液Ａを塗布して光散乱層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Ａを上記の基本条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で（酸素濃度を０.０５体積％）、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ９５ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。
（３）光散乱フィルムの鹸化処理
前記低屈折率層の製膜後、前記試料について、以下の処理を行った。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光散乱フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。このようにして、鹸化処理済みの光散乱フィルムを作製した。これを試料１−１とする。

表１、２，３および４に示すように光散乱層用塗布液及び/又はハードコート層用塗布液、低屈折率層用塗布液および各層の膜厚を以外は実施例１−１と同様にして光散乱層用塗布液及び/又はハードコート層、低屈折率層の塗設、硬化し、鹸化処理した。ハードコート層用塗布液の硬化条件は試料１−１の光散乱層用塗布液Ａと同じとした。また、低屈折率層用塗布液Ｅのみ、塗布後の乾燥を１２０℃×９０秒、紫外線を照射量９００ｍＪ／ｃｍ²に変更した以外は実施例１−９の低屈折率層用塗布液Ｃ同様にして光散乱フィルムを作製した。

（光散乱フィルムの評価）
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表５，６に示す。

（１）鏡面反射率、ａ^＊、ｂ^＊
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均の鏡面反射率（Ｒｓ）を算出した。さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間のａ^＊値、ｂ^＊値を算出し、反射光の色味を評価した。

（２）積分反射率
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、出射角−５°に標準白色板を装着した状態で、入射光５°におけるあらゆる出射角での反射率の積分値（積分反射率）を測定し、積分分光反射率を測定した。４５０〜６５０ｎｍの平均の積分反射率を算出した。

（３）散乱係数Ａ
（１）反射強度測定
図８の（ａ）に示したように、約５ｍｍφの白色平行光を光散乱フィルム試料試料Ａの表面に入射角５°で入射し、入射光方向Ｅとフィルムの法線方向Ｄを含む面内Ｃで受光部Ｇの角度を０．１°刻みで連続的に変化させ、反射光強度の角度依存性を測定した。測定装置は（株）村上色彩技術研究所製自動変角光度計「ＧＰ−５型」を用いた。図８（ｂ）は測定方法の立体図を示す。

反射率算出を行う際、試料のない状態で入射光を直接測定したときの光源光量Ｉ０を１００％強度とした。それぞれの反射角度における反射強度をＩ（θ）とすると、反射率Ｒ（θ）はＩ（θ）／Ｉ０として計算できる。更に相対反射率Ｒｒｅｌ（θ）は正反射となる反射角度（５°）における反射率Ｒ（５）に対するそれぞれの反射角度における反射率の比として計算し、即ちＲｒｅｌ＝Ｒ（θ）／Ｒ（５）となる。反射角度θに対する相対反射率の変化率｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜は０．１°刻みで測定されるデータの各点の両側１０点平均値からその傾きａの絶対値として算出し、｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜の最大値である｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより（式１）で散乱係数Ａを算出した。データのノイズを除去するための処理として１０点平均値を用いた。なお、θは０〜４５°まで測定した。
図９に｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘの算出を模式的に示す。横軸はフィルム法線に対する受光部の角度θ（単位：度）であり、縦軸はピーク強度で規格化した相対反射率Ｒｒｅｌ（θ）である。接線Ｈは、相対反射率の角度依存性グラフにおける各点の接線の１つを示す。接線の傾きが｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜、その最大値が｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘとなる。以上より求めた｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜より（式１）で散乱係数Ａを算出した。
（式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）

（４）反射係数Ｂ
反射係数は鏡面反射率Ｒｓおよび散乱係数Ｂより（式２）で算出した。
（式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９

（５）ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ（Ｈ）、内部ヘイズ（Ｈｉ）、表面ヘイズ（Ｈｓ）を測定した。
１．ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。
２．得られたフィルムの低屈折率層側の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。
３．上記１で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記２で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出した。
なお、本発明でいうヘイズ値とは、前記方法によって得られた全ヘイズ（Ｈ）を意味する。

（６）中心線平均粗さ、Ｒａ
ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準じて中心線平均粗さＲａを測定した。

（７）平均山谷距離Ｓｍ
ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準じて粗さ曲線が中心線と交差する交点から求めた山谷-周期の間隔の平均値Ｓｍを測定した。なお、表中での表記“―”は、測定不能を表す。

（８）平均傾斜角度
本発明の光散乱フィルムは表面に微細凹凸構造を有する。本発明において、平均傾斜角度は以下の方法で決定される。すなわち、面積が０．５乃至２平方マイクロメートルである三角形の頂点を透明フィルム基材面に仮定し、その点から鉛直上向きに伸ばした３つの垂線がフィルム表面と交わる３点によって形成される三角形の面の法線が、支持体から鉛直上向きに伸ばした垂線となす角を表面の傾斜角度とし、基材上で２５００００平方マイクロメートル（０．２５平方ミリメートル）以上の面積を該三角形に分割して測定した時の全測定点の平均値を平均傾斜角度として算出する。

傾斜角度を測定する方法をさらに詳細に述べる。図１１（ａ）のように面積が０．５乃至２平方マイクロメートルとなるようなメッシュにフィルムを分割する。図１１（ｃ）は分割したメッシュのうちの３点を抽出した図である。この支持体上の３点から鉛直上向きに垂線を伸ばし、その３点が表面と交わった点をＡ、Ｂ、Ｃとする。三角形ＡＢＣ面の法線ＤＤ’が、支持体から鉛直上向きに伸ばした垂線ＯＯ’と為す角度θを傾斜角度とする。図１１（ｂ）は点Ｏ’ＤＤ’を含む平面Ｐで切ったときのフィルムの断面図である。線分ＥＦは三角形ＡＢＣと平面Ｐとの交線である。測定面積は支持体上で２５００００平方マイクロメートル（０．２５平方ミリメートル）以上が好ましく、この面を支持体上で三角形に分割して測定し、傾斜角度を求める。測定する装置はいくつかあるが、一例を述べる。装置はマイクロマップ社（米国）製ＳＸＭ５２０−ＡＳ１５０型を用いた場合を説明する。例えば対物レンズが１０倍の時、傾斜角度の測定単位は０．８平方マイクロメートルであり、測定範囲は５０００００平方マイクロメートル（０．５平方ミリメートル）である。対物レンズの倍率を大きくすれば、それに合わせて測定単位と測定範囲は小さくなる。測定データはＭＡＴ−ＬＡＢ等のソフトを用いて解析し、傾斜角度分布を算出することができ、そのデータをもとに平均傾斜角度を算出することができる。

（９）映り込み
横３００ｍｍ×縦３００ｍｍ×厚み０．７ｍｍのガラスの両側に互いの吸収軸が９０度になるように偏光板を粘着剤で貼り付け、片側の偏光板の上に本発明の光散乱フィルムを、タックフィルム側に粘着剤を付けて、貼り付けた。明室で本発明の光散乱フィルムを垂直に立て、５ｍ離れた位置より本発明の光散乱フィルムの表面に顔を映し込み、映り込みのレベルを以下の基準で評価した。
輪郭が全くわからない ：Ａ
輪郭がほぼ判らない ：Ｂ
輪郭が判るが気にならない ：Ｃ
輪郭が気になる ：Ｄ

（１０）白茶け感
映り込み評価で使用した硝子板を用いたサンプルの光散乱フィルムの表面にルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ^２）を―６０度の角度から映し、４５度の方向から観察した際の光散乱フィルム表面の白茶け感を以下の基準で評価した。
全く白茶けていない ：Ａ
ほとんど白茶けていない ：Ｂ
白茶けているが気にならない：Ｃ
白茶けが気になる ：Ｄ
（１１）透光性粒子の凝集状態
光学顕微鏡の透過観察モードで倍率４００倍の写真を撮影し、透光性粒子の凝集状態を以下の基準で評価した。なお、表中での表記“―”は粒子が存在しないため観察不可能を表す。
凝集部が複数存在し、凝集部で粒子の重なりがある：Ａ
粒子の重なりがあるが、凝集部が存在しない：Ｂ
粒子の重なりがない：Ｃ

また、実施例１−９の低屈折率層用塗布液Ｃを低屈折率層用塗布液Ｄに置き換え、塗布後の乾燥を１２０℃×９０秒、紫外線を照射量９００ｍＪ／ｃｍ²に変更した以外は同様にして光散乱フィルムを作製したところ、同等の光学性能のまま耐擦傷性を向上することができた。

前述の結果より、本発明の光散乱フィルムは映り込みが低減され、かつ、白茶け感の少ない、優れた性能を示した。

［実施例２］
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製、以下、ＴＡＣフィルムという）と、実施例１で作製した光散乱フィルム（試料１−１〜２４、２６〜３３鹸化処理済み）を、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光膜の両面に接着、保護して偏光板を作製した。なお実施例１で作製した光散乱フィルムの透明支持体面を、偏光膜と接着させた。これらを、それぞれ試料２−１〜２４、２６〜３３とした。
また、上記の鹸化処理済みのトリアセチルセルロースフィルムを両面の保護フィルムに用いて偏光板を作製し、試料２−２５とした。

［実施例３］

（偏光板の評価）
Ｐａｎａｓｏｎｉｃ製３２インチ液晶テレビＴＨ３２ＬＸ５００（ＩＰＳ方式 暗室コントラスト比７５０）の視認側の偏光板の一部を剥がして実施例２で作成の偏光板（試料２−１〜３３）に貼り換えた。これらの表示装置を、それぞれ試料３−１〜３３とした。得られた表示装置について、以下の項目の評価を行った。結果を表７、８に示す。

（１）映り込み
得られた液晶テレビを明室に置き、５ｍ離れた位置より本発明の光散乱フィルムの表面に顔を映し込み、映り込みのレベルを以下の基準で評価した。
輪郭が全くわからない ：Ａ
輪郭がほぼ判らない ：Ｂ
輪郭が判るが気にならない ：Ｃ
輪郭が気になる ：Ｄ

（２）明室コントラスト（Ａ条件）
液晶テレビ表面の照度が２５０ｌｘの明室環境下に液晶テレビを置き、ディスプレイの垂直方向から５度の角度から、正反射の位置に０．０１２５ｃｄの黒い物体を置いた状態で、黒表示時の輝度（黒輝度）と白表示時の輝度（白輝度）を測定し、白輝度の黒輝度に対する比として、明室コントラストを算出した。輝度の測定には放射輝度計（トプコン社製ＢＭ−５）を用いた。

（３）明室コントラスト（Ｂ条件：強調参考データ）
放射輝度計の正反射の位置に４６．２５ｃｄの白い物体を置き、明室コントラストが非常にわるくなる強調条件にした以外は（Ａ条件）と同じ方法で黒輝度と白輝度を測定し、明室コントラストを算出した。

（４）ギラツキ
表中に記載の精細度と画像サイズを有するＬＣＤパネルで緑色のベタ表示をした状態で、Ｂ、Ｇ、Ｒ各画素の部分的な拡大／縮小が不均一に目視される状態（ギラツキ）の程度を以下の基準で目視評価した。
ギラツキが気にならない ：Ａ
ギラツキが若干気になる ：Ｂ
ギラツキが気になる ：Ｃ

表７、表８に示された結果より、以下のことが明らかである。
本発明の光散乱フィルムは、映り込みの問題がなく、実用条件である明室コントラスト（Ａ条件）でコントラスト２００以上の優れた値を示し、映り込みと明室コントラストを高いレベルで両立できる。また、ギラツキの改善とを両立することができる。また、明室コントラスト（Ａ条件）が２００以上の試料の中で、より劣悪な条件（強調条件）であるＢ条件の結果より、実施例３−８．３−９．３−１４、３−１５、３−１７．３−１８.３−３０．３−３１．３−３２、３−３３が明室コントラストに優れていることが判り、特に、実施例３−９．３−１５、３−１８.３−３０．３−３３が優れており、その中でも特に、実施例３−９．３−１５．３−３３が優れていることが判った。

［実施例４］
透明支持体として易接着層付きＰＥＴ（東洋紡製コスモシャインＡ４１００、膜厚１８８μｍ）を用いた以外は試料１−７〜９、１３〜１５と同じ方法で試料４−７〜９、１３〜１５を作製した。前面板なしの４２インチプラズマディスプレイ（パイオニア製ダイレクトカラーフィルター方式ＰＤＵ−４２Ｈ６Ａ１）の表面フィルムを剥がし、代りに低屈折率層が外側になるように試料４−７〜９、１３〜１５を粘着剤で貼り付けたところ、映り込み、明室コントラスト、色付きの点で良好な特性を示した。

［実施例５］
試料２−７〜９、１３〜１５の低屈折率層と反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板（試料５−７〜９、１３〜１５）を作製した。有機ＥＬディスプレイの表面に低屈折率層が外側になるように試料５−７〜９、１３〜１５を粘着剤で貼り付けたところ、映り込み、明室コントラスト、色付きの点で良好な特性を示した。

［実施例６］
反射型液晶ディスプレイおよび半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるように試料５−７〜９、１３〜１５を用いたところ、映り込み、明室コントラスト、色付きの点で良好な特性を示した。

［実施例７］
実施例４で用いたラズマディスプレイの表面のガラス上に、低屈折率層が外側になるように試料５−７〜９、１３〜１５を粘着剤で貼り付けたところ、白輝度は低下したものの、コントラストは著しく向上し、映り込み、明室コントラスト、色付きの点で良好な特性を示した。

本発明の光散乱フィルムの好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。 本発明の光散乱フィルムのもう一つの好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。 本発明で用いるスロットダイを用いたコーターの断面図である。 （Ａ）は本発明で用いるスロットダイの断面形状を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイの断面形状を示す図である。 本発明での塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。 近接している減圧チャンバーとウェブＷを示す断面図である（バックプレート４０ａはチャンバー４０本体と一体）。 近接している減圧チャンバーとウェブＷを示す断面図である（バックプレート４０ａがチャンバー４０にネジ４０ｃ留め）。 散乱係数Ａ算出時における反射光強度の角度依存性の測定法の一例を示す図である。 受光部の角度θに対する相対反射率ｄＲｒｅｌ（θ）を示すグラフの一例と｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘの算出の模式図である。 反射係数Ｂの散乱係数Ａおよび５°鏡面反射率Ｒｓとの関係を示す図である。 平均傾斜角測定法を示す図である（図１１：上から（ａ）図、（ｂ）図、（ｃ）図）。

符号の説明

１ 光散乱フィルム
２ 透明支持体
３ 光散乱層
４ 低屈折率層
５ 透光性粒子
６ オーバーコート層
１０ コーター
１１ バックアップロール
Ｗ ウェブ
１３ スロットダイ
１４ 塗布液
１４ａ ビード
１４ｂ 塗膜
１５ ポケット
１６ スロット
１６ａ スロット開口部
１７ 先端リップ
１８ ランド
１８ａ 上流側リップランド
１８ｂ 下流側リップランド
Ｉ_UP 上流側リップランド１８ａのランド長さ
Ｉ_LO 下流側リップランド１８ｂのランド長さ
ＬＯ オーバーバイト長さ（下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差）
Ｇ_L 先端リップ１７とウェブＷの隙間（下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間）
３０ 従来のスロットダイ
３１ａ 上流側リップランド
３１ｂ 下流側リップランド
３２ ポケット
３３ スロット
４０ 減圧チャンバー
４０ａ バックプレート
４０ｂ サイドプレート
４０ｃ ネジ
Ｇ_B バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間
Ｇ_S サイドプレート４０ｂとウェブＷの間の隙間
図８−Ａ：光散乱フィルムＡ
図８−Ｂ：光散乱フィルムＡの表面
図８−Ｃ：光散乱フィルムの法線方向Ｄと光の入射方向Ｅを含む面
図８−Ｄ：光散乱フィルムの法線方向
図８−Ｅ：光の入射方向
図８−Ｆ：光源
図８−Ｇ：検出器受光部
図８−Ｈ：傾斜角度

Claims (22)

1. 透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する光散乱フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射角５°で入射し、フィルム法線と入射方向を含む面内で測定した受光部の角度θに対する反射率をＲ（θ）とし、Ｒ（θ）を正反射の反射率で規格化した値をＲｒｅｌ（θ）とし、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより算出される値を散乱係数Ａ（式１）としたとき、散乱係数Ａと５°鏡面反射率Ｒｓより算出される反射係数Ｂ（式２）が２．０〜５．０である光散乱フィルム。
   （式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）
   （式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９
2. 前記反射係数Ｂが、３．５〜４．５である請求項１に記載の光散乱フィルム。
3. 前記散乱係数Ａが、１．０〜３．０である請求項１又は２に記載の光散乱フィルム。
4. 前記５°鏡面反射率Ｒｓが、０．１〜２．０％である請求項１〜３のいずれかに記載の光散乱フィルム。
5. 前記光散乱フィルムの積分反射率が、０．２〜２．０％である請求項１〜４のいずれかに記載の光散乱フィルム。
6. 前記積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓとの差が、０．１〜１．０％である請求項５に記載の光散乱フィルム。
7. 透明支持体上に少なくとも光散乱層を有する光散乱フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射角５°で入射し、フィルム法線と入射方向を含む面内で測定した受光部の角度θに対する反射率をＲ（θ）とし、Ｒ（θ）を正反射の反射率で規格化した値をＲｒｅｌ（θ）とし、角度θに対する変化量の最大値｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘより算出される値を散乱係数Ａ（式１）としたとき、散乱係数Ａと５°鏡面反射率Ｒｓより算出される反射係数Ｂ（式２）が２．０〜５．０であり、且つ、前記５°鏡面反射率Ｒｓが０．１〜２．０％であり、前記光散乱フィルムの積分反射率が０．２〜２．０％であり、前記積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓとの差が０．１〜１．０％である光散乱フィルム。
   （式１）散乱係数Ａ＝１／（１０×｜ｄＲｒｅｌ（θ）／ｄθ｜ｍａｘ）
   （式２）反射係数Ｂ＝２．２×ｌｏｇ１０（Ｒｓ）−７．５×ｌｏｇ１０（Ａ）＋５．９
8. 波長３８０〜７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５°入射光に対する正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間のａ^＊ｂ^＊値が、それぞれ−７≦ａ^＊≦７、−１０≦ｂ^＊≦１０である請求項１〜７のいずれかに記載の光散乱フィルム。
9. 前記光散乱層が透光性粒子を含有し、透光性粒子の平均粒子径に対する光散乱層の平均膜厚み比率が１．５〜２．５である請求項１〜８のいずれかに記載の光散乱フィルム。
10. 前記光散乱層が透光性粒子を含有し、三次元の立体構造を有する透光性粒子の凝集部が複数存在し、表面凹凸形状を有する請求項１〜９のいずれかに記載の光散乱フィルム。
11. 前記光散乱層が少なくとも２層であり、透光性粒子が下層に存在する請求項１〜１０のいずれかに記載の光散乱フィルム。
12. 中心線平均粗さＲａが、０．０５〜０．１５μｍである請求項１〜１１のいずれかに記載の光散乱フィルム。
13. 平均山谷距離Ｓｍが、５０〜１５０μｍである請求項１〜１２のいずれかに記載の光散乱フィルム。
14. 表面の凹凸の平均傾斜角が、０．２〜２．０度である請求項１〜１３のいずれかに記載の光散乱フィルム。
15. 前記光散乱層上に、直接または他の層を介して透明支持体より低屈折率である低屈折率層を有する請求項１〜１４のいずれかに記載の光散乱フィルム。
16. 前記低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４０である請求項１５に記載の光散乱フィルム。
17. 前記低屈折率層が、含フッ素化合物、及び屈折率１．４０以下の無機微粒子を含有する硬化性組成物を硬化してなる層であり、かつ該無機微粒子の量が全固形分濃度の３０〜５５質量％である請求項１５又は１６に記載の光散乱フィルム。
18. 前記５°鏡面反射率Ｒｓが０．１〜１．５％、前記積分反射率と５°鏡面反射率Ｒｓの差が０．２５〜１．０％、前記積分反射率が０．２〜２．０％、前記低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４０である請求項１５〜１７のいずれかに記載の光散乱フィルム。
19. 中心線平均粗さＲａが０．０５〜０．１５μｍ、平均山谷距離Ｓｍが５０〜１５０μｍ、表面の凹凸の平均傾斜角が０．２〜２．０度である請求項１８に記載の光散乱フィルム。
20. 透明支持体の上に光散乱層と低屈折率層とをこの順に有し、光散乱層は透光性粒子を含有し、透光性粒子の平均粒子径に対する光散乱層の平均膜厚み比率が１．５〜２．５である請求項１〜１９のいずれかに記載の光散乱フィルム。
21. 一対の保護フィルムの間に偏光膜を有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、請求項１〜２０のいずれかに記載の光散乱フィルムである偏光板。
22. 請求項１〜２０のいずれかに記載の光散乱フィルム又は請求項２１に記載の偏光板を有する画像表示装置。