JP2007133384A - 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 - Google Patents
防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】防眩性が高く、画像品位が高く、大量生産性に適し、表面硬度が高く、耐擦傷性に優れた防眩フィルムを提供すること。更には、該光学フィルムを具備した偏光板および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材2上に、少なくとも1種の透光性樹脂と少なくとも1種の光拡散性粒子5を含有する防眩層3を有する光学フィルム1であって、該光拡散性粒子5の平均粒子径が4〜15μmであり、該防眩層3の平均膜厚が8〜40μmであり、且つ防眩層3の設けられた側の表面ヘイズが3〜20%であることを特徴とする防眩フィルム1。
【選択図】図1
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材2上に、少なくとも1種の透光性樹脂と少なくとも1種の光拡散性粒子5を含有する防眩層3を有する光学フィルム1であって、該光拡散性粒子5の平均粒子径が4〜15μmであり、該防眩層3の平均膜厚が8〜40μmであり、且つ防眩層3の設けられた側の表面ヘイズが3〜20%であることを特徴とする防眩フィルム1。
【選択図】図1
Description
本発明は、防眩フィルム、偏光板、画像表示装置に関し、更に詳細には後述するような
強度な耐擦傷性を有する防眩フィルムと、該防眩フィルムを表面保護フィルムとして用い
た偏光板、該防眩フィルム偏光板を用いた画像表示装置に関する。
強度な耐擦傷性を有する防眩フィルムと、該防眩フィルムを表面保護フィルムとして用い
た偏光板、該防眩フィルム偏光板を用いた画像表示装置に関する。
反射防止フィルムは一般に、CRT、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装
置において、外光の反射による像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に
配置される。反射防止フィルムは、通常、フィルムの表面に低屈折率層を形成することで
、表面の反射率を低減し、表面への像の映り込みを低減する。
また、防眩フィルムは、散乱を利用して、映りこんだ画像をぼやけさせる効果を持つ防眩
層を有するフィルムである。
更に、表面の映り込みを低減するためには、表面に凹凸を形成し、その凹凸での表面散
乱を利用して、表面へ映りこんだ画像をぼやけさせることを利用した防眩性反射防止フィ
ルムがある。また、反射防止フィルムには表面散乱性以外に内部散乱性を有するフィルム
がある。特に映り込みを低減するために、防眩性の強い反射防止フィルムを用いる場合、
近年表示装置の高精細化に伴い、防眩性フィルムの表面凹凸による微小な輝度ムラ(ギラ
ツキと呼称する)が問題となり、その改良手段として、表面散乱に加えて高い内部散乱性
を有する防眩性フィルムに関する技術が開示されている(特許文献1〜5)。
ミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装
置において、外光の反射による像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に
配置される。反射防止フィルムは、通常、フィルムの表面に低屈折率層を形成することで
、表面の反射率を低減し、表面への像の映り込みを低減する。
また、防眩フィルムは、散乱を利用して、映りこんだ画像をぼやけさせる効果を持つ防眩
層を有するフィルムである。
更に、表面の映り込みを低減するためには、表面に凹凸を形成し、その凹凸での表面散
乱を利用して、表面へ映りこんだ画像をぼやけさせることを利用した防眩性反射防止フィ
ルムがある。また、反射防止フィルムには表面散乱性以外に内部散乱性を有するフィルム
がある。特に映り込みを低減するために、防眩性の強い反射防止フィルムを用いる場合、
近年表示装置の高精細化に伴い、防眩性フィルムの表面凹凸による微小な輝度ムラ(ギラ
ツキと呼称する)が問題となり、その改良手段として、表面散乱に加えて高い内部散乱性
を有する防眩性フィルムに関する技術が開示されている(特許文献1〜5)。
外光の反射によるコントラスト低下や、像の映り込みを防止するために、表面突起によ
る表面散乱を利用した防眩技術は、一方で、このような表面散乱により、白くぼやける(
白ボケ)、黒が締まらないといった画像品位低下の問題を抱き合わせることになり、防眩
反射防止フィルムを使用する上では、解決しなければならない課題であった。
る表面散乱を利用した防眩技術は、一方で、このような表面散乱により、白くぼやける(
白ボケ)、黒が締まらないといった画像品位低下の問題を抱き合わせることになり、防眩
反射防止フィルムを使用する上では、解決しなければならない課題であった。
一方、近年、液晶テレビ等の低価格化に伴い、反射防止フィルムを搭載した画像表示装
置が急激に普及し、一般庶民に身近なものになってきている。これに伴い、これらの画像
表示装置が搭載された反射防止フィルムは、様々な環境に晒されてきており、物理強度に
関する要求も高まって来ている。物理強度に関する最も深刻な問題は画像表示装置表面に
傷が付けられる機会が増えてきていることである。例えば、誤って、鉛筆など先の尖った
ものでつつかれて傷がついてしまう機会、幼児によるいたずらに起因する傷がついてしま
う機会が増えてきている。液晶表示装置の表示面は従来剛性が低く、鉛筆など先の尖った
もので液晶表示画面がつつかれた場合傷痕が残るとの指摘が出始めてきている。
置が急激に普及し、一般庶民に身近なものになってきている。これに伴い、これらの画像
表示装置が搭載された反射防止フィルムは、様々な環境に晒されてきており、物理強度に
関する要求も高まって来ている。物理強度に関する最も深刻な問題は画像表示装置表面に
傷が付けられる機会が増えてきていることである。例えば、誤って、鉛筆など先の尖った
ものでつつかれて傷がついてしまう機会、幼児によるいたずらに起因する傷がついてしま
う機会が増えてきている。液晶表示装置の表示面は従来剛性が低く、鉛筆など先の尖った
もので液晶表示画面がつつかれた場合傷痕が残るとの指摘が出始めてきている。
特許文献6には特定の弾性率と通常より厚い膜厚を有するハードコート層を基材フィル
ムに積層することで高表面硬度を有するハードコートフィルムを作成する方法、また、こ
のようなハードコートフィルムを基材とした高表面硬度を有する反射防止フィルムを作成
する方法、高表面硬度を有する反射防止フィルムを貼合した耐擦傷性に優れた画像表示装
置を作成する方法が開示されている。
ムに積層することで高表面硬度を有するハードコートフィルムを作成する方法、また、こ
のようなハードコートフィルムを基材とした高表面硬度を有する反射防止フィルムを作成
する方法、高表面硬度を有する反射防止フィルムを貼合した耐擦傷性に優れた画像表示装
置を作成する方法が開示されている。
しかしながら、このようなフィルムにおいては、防眩性を有し高表面硬度を有する防眩
フィルムへの応用方法は具体的に開示されていなかった。また、このようなフィルムを防
眩フィルムに応用するには、高表面硬度を得るためには厚膜の防眩層を形成しなければな
らないが、通常の防眩層の組成を維持したまま膜厚を厚くすると、内部ヘイズが上昇し、
コントラストの低下が顕著となる問題がある。また、膜厚を厚くすることにより生産性が
低く、高価になるという問題がある。
フィルムへの応用方法は具体的に開示されていなかった。また、このようなフィルムを防
眩フィルムに応用するには、高表面硬度を得るためには厚膜の防眩層を形成しなければな
らないが、通常の防眩層の組成を維持したまま膜厚を厚くすると、内部ヘイズが上昇し、
コントラストの低下が顕著となる問題がある。また、膜厚を厚くすることにより生産性が
低く、高価になるという問題がある。
近年、液晶テレビ等、防眩性反射防止フィルムを搭載した画像表示装置の普及に伴い、
より低価格で視認性が良好であり、画像品位が高く、高い表面硬度を有し、特に前記のよ
うな押し込みによる傷付きに対して充分な耐性を有する液晶表示装置が市場で要求されて
きている。
より低価格で視認性が良好であり、画像品位が高く、高い表面硬度を有し、特に前記のよ
うな押し込みによる傷付きに対して充分な耐性を有する液晶表示装置が市場で要求されて
きている。
以上をまとめると、防眩性が高く、視認性が良好であり、画像品位が高く、表面硬度が
高く、かつ耐擦傷性に優れた防眩性フィルムは提案されていないのが現状である。
高く、かつ耐擦傷性に優れた防眩性フィルムは提案されていないのが現状である。
従って、本発明の目的は、防眩性が高く、画像品位が高く、大量生産性に適し、表面硬
度が高く、耐擦傷性に優れた防眩フィルムを提供することである。更には、該光学フィル
ムを具備した偏光板および画像表示装置を提供することである。
度が高く、耐擦傷性に優れた防眩フィルムを提供することである。更には、該光学フィル
ムを具備した偏光板および画像表示装置を提供することである。
本発明者は、鋭意検討の結果、特定の粒径の光拡散性粒子を含有した光拡散層を特定の
膜厚で基材に積層することで、防眩性に優れ、視認性が良好で、画像品位が高く、表面硬
度が高く、耐擦傷性に優れた防眩性反射防止フィルムを作成できることを見出し、本発明
の完成に至った。
膜厚で基材に積層することで、防眩性に優れ、視認性が良好で、画像品位が高く、表面硬
度が高く、耐擦傷性に優れた防眩性反射防止フィルムを作成できることを見出し、本発明
の完成に至った。
すなわち、本発明者は、以下の各構成により、上記目的を達成したものである。
(1) 透明プラスチックフィルム基材上に、少なくとも1種の透光性樹脂と少なくとも
1種の光拡散性粒子とを含有する防眩層を有する光学フィルムであって、該光拡散性粒子
の平均粒子径が4〜15μmであり、該防眩層の平均膜厚が8〜40μmであり、且つ防
眩層の設けられた側の表面ヘイズが3〜20%であることを特徴とする防眩フィルム。
(2) 荷重4.9Nの鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とする(1)に記載の防眩
フィルム。
(3) 内部ヘイズが55%以下であることを特徴とする(1)〜(2)の何れかに記載
の防眩フィルム。
(4) 前記光拡散性粒子が樹脂粒子であることを特徴とする(1)〜(3)の何れかに
記載の防眩フィルム。
(5) 前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が3〜30質量%で
あることを特徴とする(1)〜(4)の何れかに記載の防眩フィルム。
(6) 前記防眩層が、前記光拡散性微粒子、前記防眩層全固形分に対して5〜20質量
%の高分子増粘剤、および活性エネルギー線硬化性化合物を含有する組成物より形成され
ていることを特徴とする(1)〜(5)の何れかに記載の防眩フィルム。
(7) 前記防眩層の上に屈折率が前記透明プラスチックフィルム基材より低い低屈折率
層を含有することを特徴とする(1)〜(6)の何れかに記載の防眩フィルム。
(8) (1)〜(7)の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの少な
くとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
(9) (1)〜(7)の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの一方
に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたこと
を特徴とする偏光板。
(10) (1)〜(7)の何れかに記載の防眩フィルム、及び(8)〜(9)の何れか
に記載の偏光板のうち少なくとも一つが画像表示面に配置されていることを特徴とする画
像表示装置。
(11) 前記画像表示装置が、TN、STN、IPS、VA及びOCBの何れかのモー
ドの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする(10)に記載
の画像表示装置。
(1) 透明プラスチックフィルム基材上に、少なくとも1種の透光性樹脂と少なくとも
1種の光拡散性粒子とを含有する防眩層を有する光学フィルムであって、該光拡散性粒子
の平均粒子径が4〜15μmであり、該防眩層の平均膜厚が8〜40μmであり、且つ防
眩層の設けられた側の表面ヘイズが3〜20%であることを特徴とする防眩フィルム。
(2) 荷重4.9Nの鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とする(1)に記載の防眩
フィルム。
(3) 内部ヘイズが55%以下であることを特徴とする(1)〜(2)の何れかに記載
の防眩フィルム。
(4) 前記光拡散性粒子が樹脂粒子であることを特徴とする(1)〜(3)の何れかに
記載の防眩フィルム。
(5) 前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が3〜30質量%で
あることを特徴とする(1)〜(4)の何れかに記載の防眩フィルム。
(6) 前記防眩層が、前記光拡散性微粒子、前記防眩層全固形分に対して5〜20質量
%の高分子増粘剤、および活性エネルギー線硬化性化合物を含有する組成物より形成され
ていることを特徴とする(1)〜(5)の何れかに記載の防眩フィルム。
(7) 前記防眩層の上に屈折率が前記透明プラスチックフィルム基材より低い低屈折率
層を含有することを特徴とする(1)〜(6)の何れかに記載の防眩フィルム。
(8) (1)〜(7)の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの少な
くとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
(9) (1)〜(7)の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの一方
に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたこと
を特徴とする偏光板。
(10) (1)〜(7)の何れかに記載の防眩フィルム、及び(8)〜(9)の何れか
に記載の偏光板のうち少なくとも一つが画像表示面に配置されていることを特徴とする画
像表示装置。
(11) 前記画像表示装置が、TN、STN、IPS、VA及びOCBの何れかのモー
ドの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする(10)に記載
の画像表示装置。
さらには、以下の通りである。
1.透明プラスチックフィルム基材上に、少なくとも1種の透光性樹脂と少なくとも1
種の光拡散性粒子を含有する防眩層を有する光学フィルムであって、該光拡散性粒子の平
均粒子径が4〜15μmであり、該防眩層の平均膜厚が8〜40μmであり、且つ防眩層
の設けられた側の表面ヘイズが3〜20%であることを特徴とする防眩フィルム。
2.前記光拡散性粒子の平均粒径が5〜12μmであることを特徴とする前記1に記載
の防眩フィルム。
3.前記光拡性粒子の平均粒径が6〜10μmであることを特徴とする前記1〜2の何
れかに記載の防眩フィルム。
4.前記防眩層の平均膜厚が12〜35μmであることを特徴とする前記1〜3の何れ
かに記載の防眩フィルム。
5.前記防眩層の平均膜厚が15〜30μmであることを特徴とする前記1〜3の何れ
かに記載の防眩フィルム。
1.透明プラスチックフィルム基材上に、少なくとも1種の透光性樹脂と少なくとも1
種の光拡散性粒子を含有する防眩層を有する光学フィルムであって、該光拡散性粒子の平
均粒子径が4〜15μmであり、該防眩層の平均膜厚が8〜40μmであり、且つ防眩層
の設けられた側の表面ヘイズが3〜20%であることを特徴とする防眩フィルム。
2.前記光拡散性粒子の平均粒径が5〜12μmであることを特徴とする前記1に記載
の防眩フィルム。
3.前記光拡性粒子の平均粒径が6〜10μmであることを特徴とする前記1〜2の何
れかに記載の防眩フィルム。
4.前記防眩層の平均膜厚が12〜35μmであることを特徴とする前記1〜3の何れ
かに記載の防眩フィルム。
5.前記防眩層の平均膜厚が15〜30μmであることを特徴とする前記1〜3の何れ
かに記載の防眩フィルム。
6.荷重4.9Nの鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とする前記1〜5の何れかに
記載の防眩フィルム。
7.荷重4.9Nの鉛筆硬度が5H以上であることを特徴とする前記1〜5の何れかに
記載の防眩フィルム。
記載の防眩フィルム。
7.荷重4.9Nの鉛筆硬度が5H以上であることを特徴とする前記1〜5の何れかに
記載の防眩フィルム。
8.前記表面ヘイズが3〜15%であることを特徴とする前記1〜7の何れかに記載の
防眩フィルム。
9.前記表面ヘイズが3〜10%であることを特徴とする前記1〜7の何れかに記載の
防眩フィルム。
10.前記表面ヘイズが3〜8%であることを特徴とする前記1〜7の何れかに記載の
防眩フィルム。
11.内部ヘイズが5〜55%であることを特徴とする前記1〜10の何れかに記載の
防眩フィルム。
12.内部ヘイズが20〜45%であることを特徴とする前記1〜10の何れかに記載
の防眩フィルム。
13.内部ヘイズが25〜40%であることを特徴とする前記1〜10の何れかに記載
の防眩フィルム。
防眩フィルム。
9.前記表面ヘイズが3〜10%であることを特徴とする前記1〜7の何れかに記載の
防眩フィルム。
10.前記表面ヘイズが3〜8%であることを特徴とする前記1〜7の何れかに記載の
防眩フィルム。
11.内部ヘイズが5〜55%であることを特徴とする前記1〜10の何れかに記載の
防眩フィルム。
12.内部ヘイズが20〜45%であることを特徴とする前記1〜10の何れかに記載
の防眩フィルム。
13.内部ヘイズが25〜40%であることを特徴とする前記1〜10の何れかに記載
の防眩フィルム。
14.前記光拡散粒子が樹脂粒子であることを特徴とする前記1〜13の何れかに記載
の防眩性フィルム。
15.前記光拡散粒子が、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)
粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子の少なくとも1種であることを特徴とする前
記1〜14の何れかに記載の防眩フィルム。
16.前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が3〜30質量%で
あることを特徴とする前記1〜15の何れかに記載の防眩フィルム。
17.前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が4〜25質量%で
あることを特徴とする前記1〜15の何れかに記載の防眩フィルム。
18.前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が5〜15質量%で
あることを特徴とする前記1〜15の何れかに記載の防眩フィルム。
19.前記防眩層が、前記光拡散性微粒子、前記防眩層全固形分に対して5〜20質量
%の高分子増粘剤、および活性エネルギー線硬化性化合物を含有する組成物より形成され
ていることを特徴とする1〜18の何れかに記載の防眩フィルム。
20.前記防眩層が、前記防眩層を形成する塗布組成物中に下記一般式[A]で表され
るオルガノシラン、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部
分縮合物、の中から選ばれる少なくとも一種を含有する硬化性組成物を塗布、硬化して形
成される硬化膜であることを特徴とする前記1〜19の何れかに記載の防眩性フィルム。
一般式[A] R10 mSi(X)4−m
(一般式[A]中で、R10は、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表
す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
の防眩性フィルム。
15.前記光拡散粒子が、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)
粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子の少なくとも1種であることを特徴とする前
記1〜14の何れかに記載の防眩フィルム。
16.前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が3〜30質量%で
あることを特徴とする前記1〜15の何れかに記載の防眩フィルム。
17.前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が4〜25質量%で
あることを特徴とする前記1〜15の何れかに記載の防眩フィルム。
18.前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が5〜15質量%で
あることを特徴とする前記1〜15の何れかに記載の防眩フィルム。
19.前記防眩層が、前記光拡散性微粒子、前記防眩層全固形分に対して5〜20質量
%の高分子増粘剤、および活性エネルギー線硬化性化合物を含有する組成物より形成され
ていることを特徴とする1〜18の何れかに記載の防眩フィルム。
20.前記防眩層が、前記防眩層を形成する塗布組成物中に下記一般式[A]で表され
るオルガノシラン、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部
分縮合物、の中から選ばれる少なくとも一種を含有する硬化性組成物を塗布、硬化して形
成される硬化膜であることを特徴とする前記1〜19の何れかに記載の防眩性フィルム。
一般式[A] R10 mSi(X)4−m
(一般式[A]中で、R10は、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表
す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
21.前記透光性樹脂が架橋構造を有することを特徴とする前記1〜20の何れかに記
載の防眩フィルム。
22.前記透光性樹脂が活性エネルギー線硬化樹脂であることを特徴とする前記1〜2
1の何れかに記載の防眩フィルム。
23.前記透光性樹脂が二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合
体であることを特徴とする前記1〜22の何れかに記載の防眩フィルム。
24.前記透光性樹脂がカチオン重合性基を有するモノマーの(共)重合体であること
を特徴とする前記1〜23の何れかに記載の防眩フィルム。
載の防眩フィルム。
22.前記透光性樹脂が活性エネルギー線硬化樹脂であることを特徴とする前記1〜2
1の何れかに記載の防眩フィルム。
23.前記透光性樹脂が二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合
体であることを特徴とする前記1〜22の何れかに記載の防眩フィルム。
24.前記透光性樹脂がカチオン重合性基を有するモノマーの(共)重合体であること
を特徴とする前記1〜23の何れかに記載の防眩フィルム。
25.前記防眩層を塗設した側の水の接触角が90度以上であることを特徴とする前期
1〜24の何れかに記載の防眩フィルム。
26.前記防眩層を塗設した側の水の接触角が95度以上であることを特徴とする前期
1〜24の何れかに記載の防眩フィルム。
27.前記防眩層を塗設した側の水の接触角が100度以上であることを特徴とする前
期1〜24の何れかに記載の防眩フィルム。
1〜24の何れかに記載の防眩フィルム。
26.前記防眩層を塗設した側の水の接触角が95度以上であることを特徴とする前期
1〜24の何れかに記載の防眩フィルム。
27.前記防眩層を塗設した側の水の接触角が100度以上であることを特徴とする前
期1〜24の何れかに記載の防眩フィルム。
28.上記1〜27の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの少なく
とも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
29.上記1〜27の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの一方に
、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたことを
特徴とする偏光板。
30.上記1〜27の何れかに記載の防眩フィルム、及び上記28〜29の何れかに記
載の偏光板のうち少なくとも一つが画像表示面に配置されていることを特徴とする、画像
表示装置。
31.画像表示装置が、TN、STN、IPS、VA及びOCBの何れかのモードの透
過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする上記30に記載の画像
表示装置。
とも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
29.上記1〜27の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの一方に
、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたことを
特徴とする偏光板。
30.上記1〜27の何れかに記載の防眩フィルム、及び上記28〜29の何れかに記
載の偏光板のうち少なくとも一つが画像表示面に配置されていることを特徴とする、画像
表示装置。
31.画像表示装置が、TN、STN、IPS、VA及びOCBの何れかのモードの透
過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする上記30に記載の画像
表示装置。
本発明により、防眩性が高く、表面硬度が高く、かつ耐擦傷性に優れた防眩性フィルム
、例えば防眩性反射防止フィルムを提供することができる。更に上記の防眩性反射防止フ
ィルムを高い生産性で提供することができる。
、例えば防眩性反射防止フィルムを提供することができる。更に上記の防眩性反射防止フ
ィルムを高い生産性で提供することができる。
また、本発明の防眩性フィルム、例えば防眩性反射防止フィルムを表面保護フィルムと
して用いた偏光板は、防眩性が高く、画像品位、耐擦傷性、防汚性に優れ、安価で大量に
提供することができる。
して用いた偏光板は、防眩性が高く、画像品位、耐擦傷性、防汚性に優れ、安価で大量に
提供することができる。
更に本発明の画像表示装置は、上記防眩性反射防止フィルム又は偏光板を備えており、
防眩性が高く、画像品位、耐擦傷性、防汚性にも優れる。
防眩性が高く、画像品位、耐擦傷性、防汚性にも優れる。
以下、本発明の光学フィルムの作成方法等について説明する。
なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数
値2)」という記載は、「数値1以上〜数値2以下」の意味を表す。
なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数
値2)」という記載は、「数値1以上〜数値2以下」の意味を表す。
本発明は、透明プラスチックフィルム基材上に、透光性樹脂と特定の粒子サイズの光拡
散性粒子を含有する防眩層を特定の膜厚で基材に積層したことを特徴とする防眩性フィル
ムに関する。
尚、本発明において、透明支持体は透明プラスチックフィルム基材と同義である。また
、 透光性粒子は、光拡散性粒子と同義である。
散性粒子を含有する防眩層を特定の膜厚で基材に積層したことを特徴とする防眩性フィル
ムに関する。
尚、本発明において、透明支持体は透明プラスチックフィルム基材と同義である。また
、 透光性粒子は、光拡散性粒子と同義である。
本発明の防眩フィルムとしては、例えば、防眩性反射防止フィルムが挙げられる。本明
細書では、主に防眩性反射防止フィルムを例として、本発明の防眩フィルムの好ましい態
様を説明する。
防眩性反射防止フィルムを例として、本発明の防眩フィルムの好適な一実施形態の基本
的な構成を、図面を参照しながら説明する。
ここで、図1は、本発明に係る防眩性反射防止フィルムの好ましい1実施形態を模式的
に示す断面図である。図1は表面に凹凸が形成されているが、本発明の用件を満たせば、
表面に凹凸を有さない形態も好ましく用いられる。
図1に示す好ましい実施形態の防眩性反射防止フィルム1は、透明支持体2と、透明支
持体2上に形成された防眩層3と、防眩層3上に形成された低屈折率層4とからなる。防
眩層3の上に低屈折率層4を光の波長の1/4前後の膜厚で形成することにより、薄膜干
渉の原理により表面反射を低減することができる。
細書では、主に防眩性反射防止フィルムを例として、本発明の防眩フィルムの好ましい態
様を説明する。
防眩性反射防止フィルムを例として、本発明の防眩フィルムの好適な一実施形態の基本
的な構成を、図面を参照しながら説明する。
ここで、図1は、本発明に係る防眩性反射防止フィルムの好ましい1実施形態を模式的
に示す断面図である。図1は表面に凹凸が形成されているが、本発明の用件を満たせば、
表面に凹凸を有さない形態も好ましく用いられる。
図1に示す好ましい実施形態の防眩性反射防止フィルム1は、透明支持体2と、透明支
持体2上に形成された防眩層3と、防眩層3上に形成された低屈折率層4とからなる。防
眩層3の上に低屈折率層4を光の波長の1/4前後の膜厚で形成することにより、薄膜干
渉の原理により表面反射を低減することができる。
防眩層3は、一般に、表面凹凸形状に起因する表面散乱性と、内部散乱性を有する層で
あり、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性粒子5とを含む。防眩層3は、防眩
性とハードコート性を兼ね備えたものであることが好ましい。本実施形態においては、防
眩層が1層形成されたものを例示しているが、複数層、例えば2層〜4層で構成されてい
てもよい。
あり、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性粒子5とを含む。防眩層3は、防眩
性とハードコート性を兼ね備えたものであることが好ましい。本実施形態においては、防
眩層が1層形成されたものを例示しているが、複数層、例えば2層〜4層で構成されてい
てもよい。
また、帯電防止のために、防眩層3と透明支持体2との間または防眩層3と低屈折率層
4との間に透明導電性層を有することが望ましく、防眩層3と透明支持体2との間に透明
導電性層を有することが特に望ましい。また、防眩層3と透明支持体2の間に透明導電性
層を有し、かつ、防眩層内に通電性粒子を有するのは帯電防止に特に効果的である。また
、防眩層3と透明支持体2との間には、透明導電性層以外に、防湿層等の機能層を設けて
もよい。
4との間に透明導電性層を有することが望ましく、防眩層3と透明支持体2との間に透明
導電性層を有することが特に望ましい。また、防眩層3と透明支持体2の間に透明導電性
層を有し、かつ、防眩層内に通電性粒子を有するのは帯電防止に特に効果的である。また
、防眩層3と透明支持体2との間には、透明導電性層以外に、防湿層等の機能層を設けて
もよい。
また、低屈折率層4のない構成は鏡面反射率が高くなるが、製造コストを大幅に抑える
ことができ、この構成も好ましい態様の一つである。
ことができ、この構成も好ましい態様の一つである。
本発明に係る防眩性反射防止フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすこ
とが好ましい。
防眩層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
また、明室下での白ボケの低減、コントラスト向上面で特に優れた防眩性反射防止フィ
ルムを提供することを目的とする場合、表面散乱を利用した映り込み防止効果を抑えるこ
とが有効であり、したがって、積分反射率の低減による映り込み低減を十分に行うことが
好ましい。そのためには防眩層の屈折率(na)と低屈折率層の屈折率(nb)の差na
−nbは0.07以上が好ましい。0.07以上0.35以下が好ましく、0.10以上
0.35以下であることがより好ましく、0.17以上0.30以下であることがさらに
好ましい。両者の屈折率差が小さ過ぎると反射率を十分に下げることができず、表面への
反射像の映り込みを十分に防止することができない。一方、屈折率差が大きすぎると、膜
の強度が弱くなる、色味が強くなるなどの弊害が生じる。特定の屈折率差を得るためには
、防眩層の屈折率を高くする、低屈折率層の屈折率を低くするという2通りの方法があり
、いずれの方法を取ることもできるが、後述のように防眩層の屈折率は1.50〜1.5
4の範囲にすることがより好ましく、したがって、屈折率差をより大きくするためには、
低屈折率層の屈折率を低くすることが好ましい。同じ屈折率差でも、低屈折率層の屈折率
がより低いほうが色味低減の観点からも好ましい。
とが好ましい。
防眩層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
また、明室下での白ボケの低減、コントラスト向上面で特に優れた防眩性反射防止フィ
ルムを提供することを目的とする場合、表面散乱を利用した映り込み防止効果を抑えるこ
とが有効であり、したがって、積分反射率の低減による映り込み低減を十分に行うことが
好ましい。そのためには防眩層の屈折率(na)と低屈折率層の屈折率(nb)の差na
−nbは0.07以上が好ましい。0.07以上0.35以下が好ましく、0.10以上
0.35以下であることがより好ましく、0.17以上0.30以下であることがさらに
好ましい。両者の屈折率差が小さ過ぎると反射率を十分に下げることができず、表面への
反射像の映り込みを十分に防止することができない。一方、屈折率差が大きすぎると、膜
の強度が弱くなる、色味が強くなるなどの弊害が生じる。特定の屈折率差を得るためには
、防眩層の屈折率を高くする、低屈折率層の屈折率を低くするという2通りの方法があり
、いずれの方法を取ることもできるが、後述のように防眩層の屈折率は1.50〜1.5
4の範囲にすることがより好ましく、したがって、屈折率差をより大きくするためには、
低屈折率層の屈折率を低くすることが好ましい。同じ屈折率差でも、低屈折率層の屈折率
がより低いほうが色味低減の観点からも好ましい。
防眩層の屈折率(na)は1.50以上であることが好ましく、1.50以上1.70
以下がより好ましく、1.50以上1.65以下がさらに好ましい。防眩層の屈折率を特
定の値以上に高くすることで、低屈折率層との屈折率差を高くすることができ、反射率低
減が可能となるが、屈折率を高くしすぎると、透光性粒子と透光性樹脂との屈折率差が大
きくなりすぎ、内部ヘイズ値が大きくなりすぎるため、好ましくない。また、使用できる
素材が限定され、高コストになるため、好ましくない。したがって、1.50〜1.54
が特に望ましい。なお、本発明において防眩層の屈折率は透光性粒子を除いた固形分を含
む塗膜の屈折率から求めた値である。
以下がより好ましく、1.50以上1.65以下がさらに好ましい。防眩層の屈折率を特
定の値以上に高くすることで、低屈折率層との屈折率差を高くすることができ、反射率低
減が可能となるが、屈折率を高くしすぎると、透光性粒子と透光性樹脂との屈折率差が大
きくなりすぎ、内部ヘイズ値が大きくなりすぎるため、好ましくない。また、使用できる
素材が限定され、高コストになるため、好ましくない。したがって、1.50〜1.54
が特に望ましい。なお、本発明において防眩層の屈折率は透光性粒子を除いた固形分を含
む塗膜の屈折率から求めた値である。
また、本発明の防眩フィルムの防眩層の設けられた側の表面散乱に起因するヘイズ(以
後、表面ヘイズと呼称する)は、3〜20%であることが必要であり、3〜15%である
ことが好ましく、3〜10%であることがより好ましく、4〜8%であることが特に好ま
しい。この範囲で制御することにより、防眩性良好であり、白ボケが目立ち難い。
後、表面ヘイズと呼称する)は、3〜20%であることが必要であり、3〜15%である
ことが好ましく、3〜10%であることがより好ましく、4〜8%であることが特に好ま
しい。この範囲で制御することにより、防眩性良好であり、白ボケが目立ち難い。
また、本発明の防眩フィルムは、内部散乱に起因するヘイズ(以後、内部ヘイズと呼称
する)が5%〜55%であることが好ましく、20%〜45%であることがより好ましく
、25%〜40%であることが特に好ましい。
内部ヘイズは低い程、正面コントラストの低下を起こしにくいが、斜め方向のコントラ
ストの改善効果が低い。内部散乱が55%を超えると、コントラストの悪化や画像ボケが
起こる場合がある。
する)が5%〜55%であることが好ましく、20%〜45%であることがより好ましく
、25%〜40%であることが特に好ましい。
内部ヘイズは低い程、正面コントラストの低下を起こしにくいが、斜め方向のコントラ
ストの改善効果が低い。内部散乱が55%を超えると、コントラストの悪化や画像ボケが
起こる場合がある。
また、本発明の防眩フィルムの積分反射率が3.5%以下であることが好ましい。白ボ
ケを低減するために、表面凹凸による散乱を抑えるため、映り込み防止のために反射率を
低減することが好ましい。したがって、積分反射率はより2.5%以下が好ましく、2.
0%以下が更に好ましい。特に好ましくは1.5%以下である。鏡面反射率は3.0%以
下が好ましく、2.0%以下が好ましく、1.7%以下が更に好ましい。特に好ましくは
1.4%以下である。透過率は90%以上とするのが、外光の反射を抑制でき、表面への
像の映り込みを低減し、視認性が向上するため、好ましい。
JIS K7105に準じた像鮮明性が光学くし幅0.5mmで測定したときに30%
〜99.9%であるのが、充分な白ボケ防止が得られるため好ましい。更に好ましくは4
5%〜99.9%であり、より好ましくは65〜99.9%である。
また、C光源下でのCIE1976L*a*b*色空間における反射光の色味がa*値−2
〜2、b*値−3〜3、380nm〜780nmの範囲内での反射率の最小値と最大値の
比0.5〜0.99とするのが、反射光の色味がニュートラルとなるので、好ましい。ま
たC光源下での透過光のb*値を0〜3とすると、表示装置に適用した際の白表示の黄色
味が低減され、好ましい。
ケを低減するために、表面凹凸による散乱を抑えるため、映り込み防止のために反射率を
低減することが好ましい。したがって、積分反射率はより2.5%以下が好ましく、2.
0%以下が更に好ましい。特に好ましくは1.5%以下である。鏡面反射率は3.0%以
下が好ましく、2.0%以下が好ましく、1.7%以下が更に好ましい。特に好ましくは
1.4%以下である。透過率は90%以上とするのが、外光の反射を抑制でき、表面への
像の映り込みを低減し、視認性が向上するため、好ましい。
JIS K7105に準じた像鮮明性が光学くし幅0.5mmで測定したときに30%
〜99.9%であるのが、充分な白ボケ防止が得られるため好ましい。更に好ましくは4
5%〜99.9%であり、より好ましくは65〜99.9%である。
また、C光源下でのCIE1976L*a*b*色空間における反射光の色味がa*値−2
〜2、b*値−3〜3、380nm〜780nmの範囲内での反射率の最小値と最大値の
比0.5〜0.99とするのが、反射光の色味がニュートラルとなるので、好ましい。ま
たC光源下での透過光のb*値を0〜3とすると、表示装置に適用した際の白表示の黄色
味が低減され、好ましい。
さらに、本発明の防眩フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さRaが0
.01〜0.15μm、10点平均粗さRzがRaの10倍以下となるように設計するの
が、表面凹凸による白ボケを低減するために好ましい。Raはより好ましくは0.01〜
0.12μmである。映り込み防止効果を重視する場合には0.05μm以上であること
が好ましいが、表面の白ぼけを押さえることを重視する場合には0.01〜0.08の範囲
にすることが望ましい。一般的な製法では0.01μm以下にすることは困難であり、0
.15μmを超えるとギラツキ、白ボケ等の問題が発生する場合がある。
.01〜0.15μm、10点平均粗さRzがRaの10倍以下となるように設計するの
が、表面凹凸による白ボケを低減するために好ましい。Raはより好ましくは0.01〜
0.12μmである。映り込み防止効果を重視する場合には0.05μm以上であること
が好ましいが、表面の白ぼけを押さえることを重視する場合には0.01〜0.08の範囲
にすることが望ましい。一般的な製法では0.01μm以下にすることは困難であり、0
.15μmを超えるとギラツキ、白ボケ等の問題が発生する場合がある。
次に、本発明の防眩フィルムの防眩層について以下に説明する。
[防眩層]
防眩層は、通常、表面凹凸形状に起因する表面散乱性と、内部散乱性と、好ましくはフ
ィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成され
る。従って、好ましくはハードコート性を付与することのできる透光性樹脂、内部散乱性
を付与するための透光性微粒子を含有する。
[防眩層]
防眩層は、通常、表面凹凸形状に起因する表面散乱性と、内部散乱性と、好ましくはフ
ィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成され
る。従って、好ましくはハードコート性を付与することのできる透光性樹脂、内部散乱性
を付与するための透光性微粒子を含有する。
(光拡散粒子)
本発明においては、前述のように、光拡散性粒子を、透光性粒子とも呼ぶ。
透光性粒子の平均粒径は4〜15μmが必要であり、好ましくは5〜12μmであり、
より好ましくは6〜10μmである。光の散乱角度分布が広角にまで広がらず、ディスプ
レイの文字ボケを引き起こしにくい点で、平均粒径は5μm以上が好ましい。一方、防眩
層の膜厚を厚くする必要がなく、カールが小さく、素材コストが抑えられる等の点で、1
5μm以下が好ましい。
透光性粒子の具体例としては、例えばポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(
(メタ)アクリレート)粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ(ア
クリル−スチレン)粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が
好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート
)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中か
ら選ばれた各透光性微粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより
、内部ヘイズ、表面ヘイズを所望の範囲にすることができ、透光性樹脂と透光性微粒子、
塗布組成物の溶媒の組み合わせ、添加量等を調整することで、中心線平均粗さを所望の範
囲にすることができる。
本発明においては、前述のように、光拡散性粒子を、透光性粒子とも呼ぶ。
透光性粒子の平均粒径は4〜15μmが必要であり、好ましくは5〜12μmであり、
より好ましくは6〜10μmである。光の散乱角度分布が広角にまで広がらず、ディスプ
レイの文字ボケを引き起こしにくい点で、平均粒径は5μm以上が好ましい。一方、防眩
層の膜厚を厚くする必要がなく、カールが小さく、素材コストが抑えられる等の点で、1
5μm以下が好ましい。
透光性粒子の具体例としては、例えばポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(
(メタ)アクリレート)粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ(ア
クリル−スチレン)粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が
好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート
)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中か
ら選ばれた各透光性微粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより
、内部ヘイズ、表面ヘイズを所望の範囲にすることができ、透光性樹脂と透光性微粒子、
塗布組成物の溶媒の組み合わせ、添加量等を調整することで、中心線平均粗さを所望の範
囲にすることができる。
具体的には、後述する防眩層に好ましく用いられる3官能以上の(メタ)アクリレート
モノマーを主成分とした透光性樹脂(硬化後の屈折率が1.50〜1.54)を用いた場
合には、アクリル含率20〜100質量%である架橋ポリ(メタ)アクリレート重合体か
らなる透光性微粒子を組み合わせることが好ましく、特に前記透光性樹脂と架橋ポリ(ア
クリル−スチレン)共重合体からなる透光性微粒子(屈折率が1.48〜1.58)との
組み合わせが好ましい。
ここで、「3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂」と
は、透光性樹脂中に3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーからなる繰り返し単位が
、50〜100重量%含まれていることを意味する。3官能以上の(メタ)アクリレート
モノマーからなる繰り返し単位の含有量は好ましくは60〜100重量%である。
モノマーを主成分とした透光性樹脂(硬化後の屈折率が1.50〜1.54)を用いた場
合には、アクリル含率20〜100質量%である架橋ポリ(メタ)アクリレート重合体か
らなる透光性微粒子を組み合わせることが好ましく、特に前記透光性樹脂と架橋ポリ(ア
クリル−スチレン)共重合体からなる透光性微粒子(屈折率が1.48〜1.58)との
組み合わせが好ましい。
ここで、「3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂」と
は、透光性樹脂中に3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーからなる繰り返し単位が
、50〜100重量%含まれていることを意味する。3官能以上の(メタ)アクリレート
モノマーからなる繰り返し単位の含有量は好ましくは60〜100重量%である。
また、粒子径の異なる2種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。
前記透光性微粒子は、形成された防眩層中に、防眩層全固形分中に3〜30質量%含有
されるように配合されることが好ましい。より好ましくは4〜25質量%である。さらに
好ましくは5〜15質量%である。内部散乱性が十分である点で、3質量%以上が好まし
く、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題を抑制できる点で、30質量%以下が好ま
しい。
また、透光性微粒子の密度は、好ましくは0.8〜3.2g/m2、より好ましくは0
.9〜2.8g/m2である。
されるように配合されることが好ましい。より好ましくは4〜25質量%である。さらに
好ましくは5〜15質量%である。内部散乱性が十分である点で、3質量%以上が好まし
く、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題を抑制できる点で、30質量%以下が好ま
しい。
また、透光性微粒子の密度は、好ましくは0.8〜3.2g/m2、より好ましくは0
.9〜2.8g/m2である。
透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率は、上述の範囲であることが好ましい。また、透
光性樹脂と透光性微粒子との屈折率の差(透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率)
は、絶対値として好ましくは0.008〜0.15であり、より好ましくは0.01〜0
.10である。特に好ましくは0.008〜0.05の範囲の透光性粒子を全透光性粒子
の30%以上用いることである。以上のような範囲にすることで、画像のボケ、表面の白
濁、コントラストなど良好な性能を得ることが可能である。
透光性微粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を
変化させた溶媒中に透光性微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の
溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
また、透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや
分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。透光性樹脂が硬化性の場合に
は硬化後の屈折率を指す。
光性樹脂と透光性微粒子との屈折率の差(透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率)
は、絶対値として好ましくは0.008〜0.15であり、より好ましくは0.01〜0
.10である。特に好ましくは0.008〜0.05の範囲の透光性粒子を全透光性粒子
の30%以上用いることである。以上のような範囲にすることで、画像のボケ、表面の白
濁、コントラストなど良好な性能を得ることが可能である。
透光性微粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を
変化させた溶媒中に透光性微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の
溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
また、透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや
分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。透光性樹脂が硬化性の場合に
は硬化後の屈折率を指す。
防眩層の平均膜厚は、8〜40μmが必要であり、12〜35μmがより好ましく、1
8〜30μmが特に好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が
悪化して加工適性が低下する、コストアップする、ムラが発生し易いなどの問題が発生す
る場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。
8〜30μmが特に好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が
悪化して加工適性が低下する、コストアップする、ムラが発生し易いなどの問題が発生す
る場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。
(透光性樹脂)
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポ
リマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーで
あることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好まし
い。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モ
ノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバ
インダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重
合体が好ましい。
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポ
リマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーで
あることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好まし
い。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モ
ノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバ
インダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重
合体が好ましい。
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)
アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−
シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ
)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド
変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、1,4−ジビニ
ルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニル
シクロヘキサノン〕、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、
メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは2
種以上併用してもよい。
アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−
シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ
)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド
変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、1,4−ジビニ
ルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニル
シクロヘキサノン〕、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、
メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは2
種以上併用してもよい。
バインダーポリマーを高屈折率にするには、モノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以
外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原
子を含む高屈折率モノマーや、フルオレン骨格を分子内に有するモノマー等を選択するこ
ともできる。
高屈折率モノマーの具体例としては、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート類
、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェ
ニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等
が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。
外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原
子を含む高屈折率モノマーや、フルオレン骨格を分子内に有するモノマー等を選択するこ
ともできる。
高屈折率モノマーの具体例としては、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート類
、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェ
ニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等
が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。
これらのモノマーの重合は、例えば光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在
下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、前記防眩層は、例えば上述のエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用
の活性エネルギー線硬化性化合物、透光性微粒子および必要に応じて、光ラジカル開始剤
あるいは熱ラジカル開始剤、後述するような高分子増粘剤、無機フィラー等を含有する組
成物、例えば塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線等の活性エネルギ
ー線または熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。
下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、前記防眩層は、例えば上述のエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用
の活性エネルギー線硬化性化合物、透光性微粒子および必要に応じて、光ラジカル開始剤
あるいは熱ラジカル開始剤、後述するような高分子増粘剤、無機フィラー等を含有する組
成物、例えば塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線等の活性エネルギ
ー線または熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。
光ラジカル(重合)開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノ
ン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ
化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フル
オロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、
2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメ
チルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−
メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、
ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテ
ルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフ
ェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキシドが含まれる。
最新UV硬化技術(p.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1
991年発行)にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル(重合)開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられ
る。
光ラジカル(重合)開始剤は、硬化性化合物100質量部に対して、0.1〜15質量
部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光ラジカル(重合)開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例とし
て、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケ
トンおよびチオキサントンを挙げることができる。
ン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ
化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フル
オロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、
2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメ
チルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−
メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、
ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテ
ルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフ
ェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキシドが含まれる。
最新UV硬化技術(p.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1
991年発行)にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル(重合)開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられ
る。
光ラジカル(重合)開始剤は、硬化性化合物100質量部に対して、0.1〜15質量
部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光ラジカル(重合)開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例とし
て、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケ
トンおよびチオキサントンを挙げることができる。
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等
を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸
化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒ
ドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリ
ウム等、アゾ化合物として2−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、2−アゾ−ビス−プロ
ピオニトリル、2−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジア
ゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸
化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒ
ドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリ
ウム等、アゾ化合物として2−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、2−アゾ−ビス−プロ
ピオニトリル、2−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジア
ゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋
性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能
基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン
基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および
活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、
メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのよ
うな金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい
。すなわち、架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応
性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋
構造を形成することができる。
性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能
基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン
基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および
活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、
メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのよ
うな金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい
。すなわち、架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応
性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋
構造を形成することができる。
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が
好ましい。多官能エポシキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在
下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。このうち生産性の観点から紫
外線によってカチオンを発生させる光酸発生剤の使用が好ましい。
好ましい。多官能エポシキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在
下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。このうち生産性の観点から紫
外線によってカチオンを発生させる光酸発生剤の使用が好ましい。
紫外線によってカチオンを発生させる光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム
塩やジアリールヨードニウム塩などのイオン性の硬化性樹脂やスルホン酸のニトロベンジ
ルエステルなど、非イオン性の硬化性樹脂が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会
編、“イメージング用有機材料”ぶんしん出版社刊(1997)などに記載されている硬
化性樹脂等種々の公知の光酸発生剤が使用できる。本発明では光拡散層を厚膜で形成する
場合、トリアリールスルホニウム塩を用いると黄着色が問題となることがあり、着色を抑
制するためにジアリールヨードニウム塩を用いることが好ましい。このことに関しては、
本発明者等が特開2003−268141号公報に詳しく記載してある。対イオンとして
はPF6 -、SbF6 -、AsF6 -、(C6F5)4B-などが好ましい。また、トリアリールス
ルホニウム塩とジアリールヨードニウム塩を組み合わせて用いることも好ましい態様であ
る。
塩やジアリールヨードニウム塩などのイオン性の硬化性樹脂やスルホン酸のニトロベンジ
ルエステルなど、非イオン性の硬化性樹脂が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会
編、“イメージング用有機材料”ぶんしん出版社刊(1997)などに記載されている硬
化性樹脂等種々の公知の光酸発生剤が使用できる。本発明では光拡散層を厚膜で形成する
場合、トリアリールスルホニウム塩を用いると黄着色が問題となることがあり、着色を抑
制するためにジアリールヨードニウム塩を用いることが好ましい。このことに関しては、
本発明者等が特開2003−268141号公報に詳しく記載してある。対イオンとして
はPF6 -、SbF6 -、AsF6 -、(C6F5)4B-などが好ましい。また、トリアリールス
ルホニウム塩とジアリールヨードニウム塩を組み合わせて用いることも好ましい態様であ
る。
ヨードニウム塩型の光酸発生剤としては、例えば“イメージング用有機材料”(ぶんし
ん出版、有機エレクトロニクス材料研究会、1997年)や、特開平11−322900
号等に記載されている。本発明に用いるものとして好ましくは下記一般式(1')で表わ
されるものである。
一般式(1')
(Ar1)m−I+−(Ar2)nX-
一般式(1')中、Ar1、Ar2は、それぞれ芳香族炭化水素基または芳香族ヘテロ環
基を表し、Ar1とAr2が結合して環を形成してもよい。芳香族炭化水素基としてはフェ
ニル、1−ナフチル、2−ナフチル等が挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては2−チエ
ニル、3−チエニル、2−フリル、3−フリル、2−ピロリル、3−ピロリル、2−チア
ゾリル等が挙げられる。Ar1、Ar2として好ましくは芳香族炭化水素基であり、更に好
ましくはフェニル基である。これらは更に置換基を有していても良く、置換基としては特
に限定されないが、アミノ基のように塩基性を有するものは発生した酸を中和するために
好ましくない。置換基の具体例としてはアルキル基(メチル、エチル、イソプロピル、t
−ブチル、t−アミル、2−エチルヘキシル、ドデシル等)、シクロアルキル(シクロヘ
キシル、シクロペンチル等)、アリール基(フェニル、2−ナフチル等)、アルケニル基
(ビニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、
シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、ハロゲン(フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等)、アルコキシカルボニル基(エトキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、アシルオキシ基(
アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、カルバモイル基、アシルアミノ基、シアノ基、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基、ヘテロ環基(2−チエニル、3−チエニル、2−フリル、
2−ピロリル、オキシラニル、オキセタニル等)等が挙げられ、これらは更に置換されて
いてもよい。
ん出版、有機エレクトロニクス材料研究会、1997年)や、特開平11−322900
号等に記載されている。本発明に用いるものとして好ましくは下記一般式(1')で表わ
されるものである。
一般式(1')
(Ar1)m−I+−(Ar2)nX-
一般式(1')中、Ar1、Ar2は、それぞれ芳香族炭化水素基または芳香族ヘテロ環
基を表し、Ar1とAr2が結合して環を形成してもよい。芳香族炭化水素基としてはフェ
ニル、1−ナフチル、2−ナフチル等が挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては2−チエ
ニル、3−チエニル、2−フリル、3−フリル、2−ピロリル、3−ピロリル、2−チア
ゾリル等が挙げられる。Ar1、Ar2として好ましくは芳香族炭化水素基であり、更に好
ましくはフェニル基である。これらは更に置換基を有していても良く、置換基としては特
に限定されないが、アミノ基のように塩基性を有するものは発生した酸を中和するために
好ましくない。置換基の具体例としてはアルキル基(メチル、エチル、イソプロピル、t
−ブチル、t−アミル、2−エチルヘキシル、ドデシル等)、シクロアルキル(シクロヘ
キシル、シクロペンチル等)、アリール基(フェニル、2−ナフチル等)、アルケニル基
(ビニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、
シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、ハロゲン(フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等)、アルコキシカルボニル基(エトキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、アシルオキシ基(
アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、カルバモイル基、アシルアミノ基、シアノ基、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基、ヘテロ環基(2−チエニル、3−チエニル、2−フリル、
2−ピロリル、オキシラニル、オキセタニル等)等が挙げられ、これらは更に置換されて
いてもよい。
m、nは、各々1または2を表し、好ましくは1である。また、Ar1またはAr2が複
数存在する場合、m、nは同じであっても異なっていてもよい。X-はヨードニウム塩の
対アニオンであり、強酸の共役塩基であることが好ましい。X-としてはPF6 -、BF4 -
、ClO4 -、AsF6 -、SbF6 -、CF3SO3 -、CH3−C6H4−SO3 -、(C6F5)4
B-、Cl-、Br- 等が挙げられ、これらのうちで好ましくはPF6 -、BF4 -、CF3S
O3 -であり、特に好ましくはPF6 - である。
ヨードニウム塩型の光酸発生剤の具体例として、特開2003−268141号公報[
0078]〜[0081]に記載されている(1)〜(28)の化合物を挙げることがで
きるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
数存在する場合、m、nは同じであっても異なっていてもよい。X-はヨードニウム塩の
対アニオンであり、強酸の共役塩基であることが好ましい。X-としてはPF6 -、BF4 -
、ClO4 -、AsF6 -、SbF6 -、CF3SO3 -、CH3−C6H4−SO3 -、(C6F5)4
B-、Cl-、Br- 等が挙げられ、これらのうちで好ましくはPF6 -、BF4 -、CF3S
O3 -であり、特に好ましくはPF6 - である。
ヨードニウム塩型の光酸発生剤の具体例として、特開2003−268141号公報[
0078]〜[0081]に記載されている(1)〜(28)の化合物を挙げることがで
きるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(増粘剤)
本発明の防眩フィルムには、フィルム形成用組成物例えば、塗布液の粘度を調整するた
めに増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、
添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして好ましくは0.05〜50cP
であり、さらに好ましくは0.10〜20cPであり、最も好ましくは0.10〜10c
Pである。
増粘剤としては、例えば、高分子増粘剤が好ましく用いられる。
このような高分子増粘剤を用いることにより、塗布液中の光拡散性粒子の沈降を防止で
きる上、硬化時の硬化収縮やカールを抑制することも同時にできるため、好ましい。
高分子増粘剤の含有量は防眩層中の全固形分に対して3〜30質量%であることが好ま
しく、5〜20質量%であることがより好ましく、8〜15質量%であることがさらに好
ましい。この範囲にすることで、増粘効果、硬化収縮効果および硬度を両立できる。
本発明の防眩フィルムには、フィルム形成用組成物例えば、塗布液の粘度を調整するた
めに増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、
添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして好ましくは0.05〜50cP
であり、さらに好ましくは0.10〜20cPであり、最も好ましくは0.10〜10c
Pである。
増粘剤としては、例えば、高分子増粘剤が好ましく用いられる。
このような高分子増粘剤を用いることにより、塗布液中の光拡散性粒子の沈降を防止で
きる上、硬化時の硬化収縮やカールを抑制することも同時にできるため、好ましい。
高分子増粘剤の含有量は防眩層中の全固形分に対して3〜30質量%であることが好ま
しく、5〜20質量%であることがより好ましく、8〜15質量%であることがさらに好
ましい。この範囲にすることで、増粘効果、硬化収縮効果および硬度を両立できる。
このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトンジオール
ポリ−ε−カプロラクトントリオール
ポリビニルアセテート
ポリ(エチレンアジペート)
ポリ(1,4−ブチレンアジペート)
ポリ(1,4−ブチレングルタレート)
ポリ(1,4−ブチレンスクシネート)
ポリ(1,4−ブチレンテレフタレート)
ポリ(エチレンテレフタレート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレングルタレート)
ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)
ポリ(ネオペンチルグリコールセバケート)
ポリ(1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(1,3−プロピレングルタレート)
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトンジオール
ポリ−ε−カプロラクトントリオール
ポリビニルアセテート
ポリ(エチレンアジペート)
ポリ(1,4−ブチレンアジペート)
ポリ(1,4−ブチレングルタレート)
ポリ(1,4−ブチレンスクシネート)
ポリ(1,4−ブチレンテレフタレート)
ポリ(エチレンテレフタレート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレングルタレート)
ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)
ポリ(ネオペンチルグリコールセバケート)
ポリ(1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(1,3−プロピレングルタレート)
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
この他にも特開平8−325491号記載のスメクタイト、フッ素四珪素雲母、ベント
ナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ソーダ、特開平10−21913
6エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピ
ー性付与剤を使用することが出来る。
ナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ソーダ、特開平10−21913
6エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピ
ー性付与剤を使用することが出来る。
(無機フィラー)
防眩層には、層の屈折率を調整して内部散乱に起因するヘイズ値を調整するため、また
、低屈折率層との屈折率差を調整し、反射率、色味を好ましい範囲にするために、前記の
透光性微粒子に加えて、無機フィラーを含有してもよい。無機フィラーは、ケイ素、チタ
ン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれ
る少なくとも1種の金属の酸化物からなることが好ましい。また、平均粒径は、0.2μ
m以下であることが好ましく、より好ましくは0.1μm以下、さらに好ましくは0.0
6μm以下である。このような無機フィラーは、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布
組成物の密度を高くできるため、透光性微粒子の沈降速度を遅くする効果もある。なお、
このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バイ
ンダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
防眩層には、層の屈折率を調整して内部散乱に起因するヘイズ値を調整するため、また
、低屈折率層との屈折率差を調整し、反射率、色味を好ましい範囲にするために、前記の
透光性微粒子に加えて、無機フィラーを含有してもよい。無機フィラーは、ケイ素、チタ
ン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれ
る少なくとも1種の金属の酸化物からなることが好ましい。また、平均粒径は、0.2μ
m以下であることが好ましく、より好ましくは0.1μm以下、さらに好ましくは0.0
6μm以下である。このような無機フィラーは、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布
組成物の密度を高くできるため、透光性微粒子の沈降速度を遅くする効果もある。なお、
このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バイ
ンダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
防眩層に用いられる無機フィラーは、表面をシランカップリング処理又はチタンカップ
リング処理されることも好ましく、この場合はフィラー表面にバインダー種と反応できる
官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
無機フィラーを添加する場合の添加量は、防眩層の全質量の10〜90%であることが
好ましく、より好ましくは20〜80%であり、特に好ましくは30〜75%である。
リング処理されることも好ましく、この場合はフィラー表面にバインダー種と反応できる
官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
無機フィラーを添加する場合の添加量は、防眩層の全質量の10〜90%であることが
好ましく、より好ましくは20〜80%であり、特に好ましくは30〜75%である。
(オルガノシラン化合物)
防眩層にオルガノシラン化合物を用いることができる。オルガノシラン化合物の添加量
は、含有層(添加層)の全固形分の0.001〜50質量%が好ましく、0.01〜20
質量%がより好ましく、0.05〜10質量%が更に好ましく、0.1〜5質量%が特に
好ましい。
防眩層に用いるオルガノシラン化合物としては、後述の低屈折率層用オルガノシラン化
合物と同様のものを使用することができる。
防眩層にオルガノシラン化合物を用いることができる。オルガノシラン化合物の添加量
は、含有層(添加層)の全固形分の0.001〜50質量%が好ましく、0.01〜20
質量%がより好ましく、0.05〜10質量%が更に好ましく、0.1〜5質量%が特に
好ましい。
防眩層に用いるオルガノシラン化合物としては、後述の低屈折率層用オルガノシラン化
合物と同様のものを使用することができる。
本発明では防眩層を形成する硬化樹脂と同種の重合性基を有するオルガノシラン化合物
の使用が好ましく、厚膜で形成される本発明の防眩層の硬化収縮やカールを抑制するため
に重合性基当たりの分子量が150以上であることが好ましい。
の使用が好ましく、厚膜で形成される本発明の防眩層の硬化収縮やカールを抑制するため
に重合性基当たりの分子量が150以上であることが好ましい。
(防眩層用界面活性剤)
防眩層には、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ
素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の組成物、
例えば塗布組成物中に含有することが好ましい。面状均一性を高めることにより、高速塗
布することが可能となり、生産性を高めることができる。特にフッ素系の界面活性剤は、
より少ない添加量において、防眩フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を
改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
防眩層には、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ
素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の組成物、
例えば塗布組成物中に含有することが好ましい。面状均一性を高めることにより、高速塗
布することが可能となり、生産性を高めることができる。特にフッ素系の界面活性剤は、
より少ない添加量において、防眩フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を
改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体(「フッ
素系ポリマー」と略記することもある)が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記(i)
のモノマーに相当する繰り返し単位からなる樹脂、下記(i)のモノマーに相当する繰り
返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、又はこれらに共重合可能なビニル系モ
ノマー(例えば、下記(i)のモノマーが好ましい)との共重合体が有用である。
素系ポリマー」と略記することもある)が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記(i)
のモノマーに相当する繰り返し単位からなる樹脂、下記(i)のモノマーに相当する繰り
返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、又はこれらに共重合可能なビニル系モ
ノマー(例えば、下記(i)のモノマーが好ましい)との共重合体が有用である。
一般式イにおいてR11は水素原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子ま
たは−N(R12)−を表す。R12は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的に
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル
基である。Xは酸素原子が好ましい。mは1以上6以下の整数、nは2〜4の整数を表す
。
たは−N(R12)−を表す。R12は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的に
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル
基である。Xは酸素原子が好ましい。mは1以上6以下の整数、nは2〜4の整数を表す
。
一般式ロにおいて、R13は水素原子またはメチル基を表し、Yは酸素原子、イオウ原子
または−N(R15)−を表し、R15は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的
にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチ
ル基である。Yは酸素原子、−N(H)−、および−N(CH3)−が好ましい。
R14は置換基を有しても良い炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル
基を表す。R14のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリー
ルカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげら
れるがこの限りではない。炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基と
しては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、
トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、
テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
または−N(R15)−を表し、R15は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的
にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチ
ル基である。Yは酸素原子、−N(H)−、および−N(CH3)−が好ましい。
R14は置換基を有しても良い炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル
基を表す。R14のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリー
ルカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげら
れるがこの限りではない。炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基と
しては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、
トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、
テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
フッ素系ポリマー中に用いられる一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの
量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて10モル%以上であることが好ましく、
より好ましくは15〜70モル%であり、さらに好ましくは20〜60モル%の範囲であ
る。
また、フッ素系ポリマー中に用いられる一般式ロで示されるモノマーの量は、該フッ素
系ポリマーの各単量体に基づいて1モル%以上であることが好ましく、より好ましくは5
〜70モル%であり、さらに好ましくは10〜60モル%の範囲である。
量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて10モル%以上であることが好ましく、
より好ましくは15〜70モル%であり、さらに好ましくは20〜60モル%の範囲であ
る。
また、フッ素系ポリマー中に用いられる一般式ロで示されるモノマーの量は、該フッ素
系ポリマーの各単量体に基づいて1モル%以上であることが好ましく、より好ましくは5
〜70モル%であり、さらに好ましくは10〜60モル%の範囲である。
一般式イで表されるモノマーからなるフッ素系ポリマーを使用することにより、防眩層
表面にF原子を含有する官能基が偏析することにより防眩層の表面エネルギーが低下し、
防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が生じる
ことがある。これは低屈折率層を形成するために用いられる硬化性組成物の濡れ性が悪化
するために低屈折率層に目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。
このような問題を解決するためには、フッ素系ポリマーの構造と添加量を調整することに
より、防眩層の表面エネルギーを好ましくは20mN・m-1〜50mN・m-1に、より好
ましくは30mN・m-1〜40mN・m-1に制御することが効果的であることを見出した
。前記のような表面エネルギーを実現するためには、X線光電子分光法で測定したフッ素
原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるF/Cが0.1〜1.5であること
が必要である。
表面にF原子を含有する官能基が偏析することにより防眩層の表面エネルギーが低下し、
防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が生じる
ことがある。これは低屈折率層を形成するために用いられる硬化性組成物の濡れ性が悪化
するために低屈折率層に目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。
このような問題を解決するためには、フッ素系ポリマーの構造と添加量を調整することに
より、防眩層の表面エネルギーを好ましくは20mN・m-1〜50mN・m-1に、より好
ましくは30mN・m-1〜40mN・m-1に制御することが効果的であることを見出した
。前記のような表面エネルギーを実現するためには、X線光電子分光法で測定したフッ素
原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるF/Cが0.1〜1.5であること
が必要である。
或いは、上層を塗布する時には上層を形成する溶媒に抽出されるようなフッ素系ポリマ
ーを選択することで、下層表面(=界面)に偏在することがなくなり上層と下層の密着性
を持たせることで、高速塗布においても面状の均一性を保ち、かつ耐擦傷性の強い防眩性
反射防止フィルムを提供できる表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層
塗布前の防眩層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することがで
きる。そのような素材の例としては、下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノ
マーに相当する繰り返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重
合可能なビニル系モノマー(例えば、下記(iv)のモノマーが好ましい)との共重合体が
挙げられる。
ーを選択することで、下層表面(=界面)に偏在することがなくなり上層と下層の密着性
を持たせることで、高速塗布においても面状の均一性を保ち、かつ耐擦傷性の強い防眩性
反射防止フィルムを提供できる表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層
塗布前の防眩層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することがで
きる。そのような素材の例としては、下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノ
マーに相当する繰り返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重
合可能なビニル系モノマー(例えば、下記(iv)のモノマーが好ましい)との共重合体が
挙げられる。
一般式ハにおいてR21は水素原子またはハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子
、メチル基がより好ましい。X2は酸素原子、イオウ原子または−N(R22)−を表し、
酸素原子または−N(R22)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。mは1以上6以
下の整数(1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。)、nは1以上18以
下の整数(4〜12がより好ましく、6〜8が更に好ましい。)を表す。R22は水素原子
または置換基を有しても良い炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1
〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。X2は酸素
原子が好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが2種類
以上構成成分として含まれていても良い。
、メチル基がより好ましい。X2は酸素原子、イオウ原子または−N(R22)−を表し、
酸素原子または−N(R22)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。mは1以上6以
下の整数(1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。)、nは1以上18以
下の整数(4〜12がより好ましく、6〜8が更に好ましい。)を表す。R22は水素原子
または置換基を有しても良い炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1
〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。X2は酸素
原子が好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが2種類
以上構成成分として含まれていても良い。
一般式ニにおいて、R23は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、
メチル基がより好ましい。Y2は酸素原子、イオウ原子または−N(R25)−を表し、酸
素原子または−N(R25)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R25は水素原子
または炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がよ
り好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
R24は置換基を有しても良い炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ポ
リ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基(例え
ば、フェニル基またはナフチル基)を表す。炭素数1〜12の直鎖、分岐、または環状の
アルキル基、または総炭素数6〜18の芳香族がより好ましく、炭素数1〜8の直鎖、分
岐、または環状のアルキル基が更に好ましい。
メチル基がより好ましい。Y2は酸素原子、イオウ原子または−N(R25)−を表し、酸
素原子または−N(R25)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R25は水素原子
または炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がよ
り好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
R24は置換基を有しても良い炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ポ
リ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基(例え
ば、フェニル基またはナフチル基)を表す。炭素数1〜12の直鎖、分岐、または環状の
アルキル基、または総炭素数6〜18の芳香族がより好ましく、炭素数1〜8の直鎖、分
岐、または環状のアルキル基が更に好ましい。
フッ素系ポリマー中に用いられる一般式ハで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの
量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて10モル%以上であることが好ましく、
より好ましくは50〜100モル%であり、さらに好ましくは60〜100モル%の範囲
である。
また、フッ素系ポリマー中に用いられる一般式ニで示されるモノマーの量は、該フッ素
系ポリマーの各単量体に基づいて0モル%以上であることが好ましく、より好ましくは0
〜50モル%であり、さらに好ましくは0〜40モル%の範囲である。
量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて10モル%以上であることが好ましく、
より好ましくは50〜100モル%であり、さらに好ましくは60〜100モル%の範囲
である。
また、フッ素系ポリマー中に用いられる一般式ニで示されるモノマーの量は、該フッ素
系ポリマーの各単量体に基づいて0モル%以上であることが好ましく、より好ましくは0
〜50モル%であり、さらに好ましくは0〜40モル%の範囲である。
フッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく
、5,000〜80,000がより好ましい。
更に、フッ素系ポリマーの好ましい添加量は、防眩層形成用組成物として例えば塗布液
を用いる場合、塗布液に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.00
5〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。フッ素系
ポリマーの添加量が0.001質量%未満では効果が不十分であり、また5質量%より多
くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能(例えば反射率、
耐擦傷性)に悪影響を及ぼすことがある。
、5,000〜80,000がより好ましい。
更に、フッ素系ポリマーの好ましい添加量は、防眩層形成用組成物として例えば塗布液
を用いる場合、塗布液に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.00
5〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。フッ素系
ポリマーの添加量が0.001質量%未満では効果が不十分であり、また5質量%より多
くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能(例えば反射率、
耐擦傷性)に悪影響を及ぼすことがある。
また防眩層上に低屈折率層をオーバーコートする時点で表面エネルギーの低下を防げば
、反射防止性能の悪化が防げる。このため、例えば防眩層塗布時にはフッ素系ポリマーを
用いて塗布液の表面張力を下げて面状均一性を高め、高速塗布による高生産性を維持し、
防眩層塗布後にコロナ処理、UV処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理といった表面処理手
法を用いて、表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の防眩層の
表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。表面処理手
法として、特に好ましいのはコロナ処理である。
、反射防止性能の悪化が防げる。このため、例えば防眩層塗布時にはフッ素系ポリマーを
用いて塗布液の表面張力を下げて面状均一性を高め、高速塗布による高生産性を維持し、
防眩層塗布後にコロナ処理、UV処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理といった表面処理手
法を用いて、表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の防眩層の
表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。表面処理手
法として、特に好ましいのはコロナ処理である。
(防汚性の付与)
防汚性の観点からハードコート層(光拡散層)表面の水に対する接触角を90度以上と
することが好ましく、95度以上とすることがより好ましく、100度以上とすることが
特に好ましい。従来、光拡散層表面の水に対する接触角を上記範囲とするために、防眩層
を形成するための硬化性組成物に、フッ素およびケイ素原子の何れかの原子を有する化合
物、即ちシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤を含有させることができる。
防汚性の観点からハードコート層(光拡散層)表面の水に対する接触角を90度以上と
することが好ましく、95度以上とすることがより好ましく、100度以上とすることが
特に好ましい。従来、光拡散層表面の水に対する接触角を上記範囲とするために、防眩層
を形成するための硬化性組成物に、フッ素およびケイ素原子の何れかの原子を有する化合
物、即ちシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤を含有させることができる。
(溶媒)
防眩層は、直接透明支持体上にウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物
に用いる溶媒は重要な要因となる。溶媒は、上記透光性樹脂等の各種溶質を充分に溶解す
ること、上記透光性粒子を溶解しないこと、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生
しにくいこと、支持体を溶解しないこと(平面性悪化、白化等の故障防止に必要)、逆に
最低限の程度には支持体を膨潤させること(密着性に必要)、等の要件を満たしているこ
とが好ましい。
溶媒としては、少なくとも、透明支持体の膨潤性の低く、透明支持体を溶解しない溶媒
を主溶媒として含有することが好ましい。主溶媒の具体例としては、支持体にトリアセチ
ルセルロースを用いる場合には、各種ケトン(メチルエチルケトン、アセトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、各種セロソルブ(エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、その他として、各種アルコー
ル類(プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロ
ピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール等)、トルエンなどが好ましく用いら
れる。
防眩層は、直接透明支持体上にウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物
に用いる溶媒は重要な要因となる。溶媒は、上記透光性樹脂等の各種溶質を充分に溶解す
ること、上記透光性粒子を溶解しないこと、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生
しにくいこと、支持体を溶解しないこと(平面性悪化、白化等の故障防止に必要)、逆に
最低限の程度には支持体を膨潤させること(密着性に必要)、等の要件を満たしているこ
とが好ましい。
溶媒としては、少なくとも、透明支持体の膨潤性の低く、透明支持体を溶解しない溶媒
を主溶媒として含有することが好ましい。主溶媒の具体例としては、支持体にトリアセチ
ルセルロースを用いる場合には、各種ケトン(メチルエチルケトン、アセトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、各種セロソルブ(エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、その他として、各種アルコー
ル類(プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロ
ピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール等)、トルエンなどが好ましく用いら
れる。
また、上記の中から選択した、透明支持体の膨潤性の低い主溶媒に対して、膨潤性の高
い少量溶媒を添加することにより、他の性能、面状を悪化させることなく、透明支持体と
の密着性を向上させることができる。具体的には、主溶媒として、メチルイソブチルケト
ン、トルエンを用い、少量溶媒として、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピ
ルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール等を用いることができ、特に好ましくは
、主溶媒として、メチルイソブチルケトン、トルエンを用い、少量溶媒として、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、を用いることである。また、溶媒の親水性制御のために
、プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピル
アルコール、1−ブタノール、2−ブタノール等を添加して用いることもでき、特にプロ
ピレングリコール、エチレングリコールが好ましく用いることができる。
主溶媒と少量溶媒の混合比は、重量比で99:1〜50:50が好ましく、95:5〜
60:40がより好ましい。塗布後の乾燥工程における面質のバラツキが小さくなる点で
、50:50以下が好ましい。
い少量溶媒を添加することにより、他の性能、面状を悪化させることなく、透明支持体と
の密着性を向上させることができる。具体的には、主溶媒として、メチルイソブチルケト
ン、トルエンを用い、少量溶媒として、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピ
ルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール等を用いることができ、特に好ましくは
、主溶媒として、メチルイソブチルケトン、トルエンを用い、少量溶媒として、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、を用いることである。また、溶媒の親水性制御のために
、プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピル
アルコール、1−ブタノール、2−ブタノール等を添加して用いることもでき、特にプロ
ピレングリコール、エチレングリコールが好ましく用いることができる。
主溶媒と少量溶媒の混合比は、重量比で99:1〜50:50が好ましく、95:5〜
60:40がより好ましい。塗布後の乾燥工程における面質のバラツキが小さくなる点で
、50:50以下が好ましい。
また、上記の中から選択した主溶媒に対して、水酸基を有する少量溶媒を添加すること
により、表面凹凸が調整でき、好ましい。水酸基を有する少量溶媒は、塗布組成物の乾燥
工程において主溶媒よりも後まで残留することで表面凹凸性を大きくすることができるた
め、20〜30℃の範囲内のある温度における蒸気圧が前記主溶媒に対して低いことが好
ましい。例えば、主溶媒をメチルイソブチルケトン(21.7℃における蒸気圧:16.
5mmHg)に対して水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール(20.0℃
における蒸気圧:0.08mmHg)の組み合わせが好ましい一例として挙げられる。主
溶媒と水酸基を有する少量溶媒の混合比は、重量比で100:0〜50:50が好ましく
、100:0〜80:20がより好ましい。塗布液の安定性や、塗布後の乾燥工程におけ
る面質のバラツキが小さくなる点で、50:50以下が好ましい。特に、本発明のように
、表面凹凸起因の表面散乱を抑制するためには、100:0〜97:3であるとより好ま
しい。
により、表面凹凸が調整でき、好ましい。水酸基を有する少量溶媒は、塗布組成物の乾燥
工程において主溶媒よりも後まで残留することで表面凹凸性を大きくすることができるた
め、20〜30℃の範囲内のある温度における蒸気圧が前記主溶媒に対して低いことが好
ましい。例えば、主溶媒をメチルイソブチルケトン(21.7℃における蒸気圧:16.
5mmHg)に対して水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール(20.0℃
における蒸気圧:0.08mmHg)の組み合わせが好ましい一例として挙げられる。主
溶媒と水酸基を有する少量溶媒の混合比は、重量比で100:0〜50:50が好ましく
、100:0〜80:20がより好ましい。塗布液の安定性や、塗布後の乾燥工程におけ
る面質のバラツキが小さくなる点で、50:50以下が好ましい。特に、本発明のように
、表面凹凸起因の表面散乱を抑制するためには、100:0〜97:3であるとより好ま
しい。
次に、低屈折率層について以下に説明する。
[低屈折率層]
本発明に係る防眩性反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.
55であることが好ましく、好ましくは1.35〜1.45の範囲である。膜の機械強度
の点で屈折率は1.30以上が好ましく、反射防止性能の点で1.55以下が好ましい。
さらに、低屈折率層は下記数式(I)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式(I)
(mλ/4)×0.7<n1×d1<(mλ/4)×1.3
式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折
率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値であ
る。
なお、前記数式(I)を満たすとは、前記波長の範囲において数式(I)を満たすm(
正の奇数、通常1である)が存在することを意味している。
[低屈折率層]
本発明に係る防眩性反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.
55であることが好ましく、好ましくは1.35〜1.45の範囲である。膜の機械強度
の点で屈折率は1.30以上が好ましく、反射防止性能の点で1.55以下が好ましい。
さらに、低屈折率層は下記数式(I)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式(I)
(mλ/4)×0.7<n1×d1<(mλ/4)×1.3
式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折
率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値であ
る。
なお、前記数式(I)を満たすとは、前記波長の範囲において数式(I)を満たすm(
正の奇数、通常1である)が存在することを意味している。
低屈折率層は、例えば含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬
化して形成される硬化膜である。ここで、「含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成
物」とは、低屈折率層を形成したときに含フッ素ポリマーがバインダーポリマーとして機
能しうる程度の量で含まれていることを意味し、含フッ素ポリマーの含有量の好ましい範
囲は後述の通りである。
また、低屈折率層には、含フッ素ポリマーのほかに、無機微粒子及びオルガノシラン化
合物の少なくともいずれかを含有するのが好ましい。低屈折率層を形成する素材について
以下に説明する。
化して形成される硬化膜である。ここで、「含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成
物」とは、低屈折率層を形成したときに含フッ素ポリマーがバインダーポリマーとして機
能しうる程度の量で含まれていることを意味し、含フッ素ポリマーの含有量の好ましい範
囲は後述の通りである。
また、低屈折率層には、含フッ素ポリマーのほかに、無機微粒子及びオルガノシラン化
合物の少なくともいずれかを含有するのが好ましい。低屈折率層を形成する素材について
以下に説明する。
(低屈折率層用含フッ素ポリマー)
含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が0.03〜0.20、
水に対する接触角が90〜120°、純水の滑落角が70°以下であり、熱または電離放
射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬
化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が
低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、500gf以下
が好ましく、300gf以下がより好ましく、100gf以下が最も好ましい。また、微
小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、0.3GP
a以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。
含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が0.03〜0.20、
水に対する接触角が90〜120°、純水の滑落角が70°以下であり、熱または電離放
射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬
化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が
低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、500gf以下
が好ましく、300gf以下がより好ましく、100gf以下が最も好ましい。また、微
小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、0.3GP
a以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で
含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好まし
い。このような含フッ素ポリマーとしては、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン
化合物〔例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエト
キシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位と
を構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭
素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有し
ないのが好ましい。
含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好まし
い。このような含フッ素ポリマーとしては、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン
化合物〔例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエト
キシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位と
を構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭
素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有し
ないのが好ましい。
前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフ
ルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオク
チルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導
体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、
完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオ
レフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサ
フルオロプロピレンである。
ルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオク
チルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導
体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、
完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオ
レフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサ
フルオロプロピレンである。
前記架橋反応性単位としては、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエ
ーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得
られる構成単位;カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマ
ー〔例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロ
キシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単
位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位
(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)
が挙げられる。
ーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得
られる構成単位;カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマ
ー〔例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロ
キシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単
位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位
(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)
が挙げられる。
また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜
の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合
単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレ
フィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アク
リル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸2−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導
体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエ
ーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテ
ル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アク
リルアミド類〔N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド
等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合
単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレ
フィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アク
リル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸2−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導
体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエ
ーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテ
ル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アク
リルアミド類〔N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド
等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
前記含フッ素ポリマーに対しては特開平10−25388号および特開平10−147
739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビ
ニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基〔(メタ)ア
クリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕
を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めて
いることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%を占めていることである。
ニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基〔(メタ)ア
クリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕
を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めて
いることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%を占めていることである。
低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式1で表される共重合体が挙
げられる。
げられる。
一般式1中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結
基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していて
もよく、環構造を有していてもよく、O、N及びSから選ばれるヘテロ原子を有していて
も良い。
好ましい例としては、*−(CH2)2−O−**, *−(CH2)2−NH−**, *−(C
H2)4−O−**, *−(CH2)6−O−**, *−(CH2)2−O−(CH2)2−O−**,
*−CONH−(CH2)3−O−**, *−CH2CH(OH)CH2−O−**, *−CH2C
H2OCONH(CH2)3−O−**(* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ
)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表わす。
基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していて
もよく、環構造を有していてもよく、O、N及びSから選ばれるヘテロ原子を有していて
も良い。
好ましい例としては、*−(CH2)2−O−**, *−(CH2)2−NH−**, *−(C
H2)4−O−**, *−(CH2)6−O−**, *−(CH2)2−O−(CH2)2−O−**,
*−CONH−(CH2)3−O−**, *−CH2CH(OH)CH2−O−**, *−CH2C
H2OCONH(CH2)3−O−**(* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ
)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表わす。
一般式1中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好まし
くは水素原子である。
くは水素原子である。
一般式1中、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフル
オロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着
性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・
防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニ
ルモノマーによって構成されていても良い。
オロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着
性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・
防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニ
ルモノマーによって構成されていても良い。
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニ
ルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、
アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビ
ニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート
、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ
)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)
アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロト
ン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることが
できるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好
ましくはビニルエーテル誘導体である。
ルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、
アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビ
ニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート
、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ
)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)
アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロト
ン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることが
できるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好
ましくはビニルエーテル誘導体である。
x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表わし、30≦x≦60、5≦y≦70、
0≦z≦65が好ましく、更に好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦
20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場
合である。ただし、x+y+z=100である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式2が挙げられる。
0≦z≦65が好ましく、更に好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦
20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場
合である。ただし、x+y+z=100である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式2が挙げられる。
一般式2においてXは一般式1と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
nは2≦n≦10の整数を表わし、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であ
ることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数の
組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式1におけるAの例として説
明したものが当てはまる。
x、y、z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のmol%を表し、x及びyは、それ
ぞれ30≦x≦60、5≦y≦70を満たすのが好ましく、更に好ましくは、35≦x≦
55、30≦y≦60の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55の
場合である。z1及びz2については、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たすのが好
ましく、更に好ましくは0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z
1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。ただし、x+y+z1+z2=10
0である。
nは2≦n≦10の整数を表わし、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であ
ることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数の
組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式1におけるAの例として説
明したものが当てはまる。
x、y、z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のmol%を表し、x及びyは、それ
ぞれ30≦x≦60、5≦y≦70を満たすのが好ましく、更に好ましくは、35≦x≦
55、30≦y≦60の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55の
場合である。z1及びz2については、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たすのが好
ましく、更に好ましくは0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z
1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。ただし、x+y+z1+z2=10
0である。
一般式1又は2で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒド
ロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法によ
り(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶
媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式1又は2で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開2004−45
462号公報の[0035]〜[0047]に記載されたものを挙げることができ、該公
報に記載の方法により合成することができる。
ロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法によ
り(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶
媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式1又は2で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開2004−45
462号公報の[0035]〜[0047]に記載されたものを挙げることができ、該公
報に記載の方法により合成することができる。
(低屈折率層用無機微粒子)
無機微粒子の配合量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5
mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少な
すぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ
、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするの
が好ましい。
無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例
えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、
コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上100%以下が好ましく、よ
り好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち
、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上100n
m以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40n
m以上60nm以下である。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎる
と低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する
場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモル
ファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも
構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定することができる。
無機微粒子の配合量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5
mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少な
すぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ
、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするの
が好ましい。
無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例
えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、
コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上100%以下が好ましく、よ
り好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち
、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上100n
m以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40n
m以上60nm以下である。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎる
と低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する
場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモル
ファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも
構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定することができる。
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造で
あるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は1.17〜1.40、より好ましくは1
.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子
全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を
表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下
記数式(II)で表される空隙率xは、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜
60%、最も好ましくは30〜60%である。
(数式II)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
あるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は1.17〜1.40、より好ましくは1
.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子
全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を
表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下
記数式(II)で表される空隙率xは、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜
60%、最も好ましくは30〜60%である。
(数式II)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外
殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率1
.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定することがで
きる。
殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率1
.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定することがで
きる。
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満である無機微粒子(以下「小サイズ無
機微粒子」と称す)の少なくとも1種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子(以下
「大サイズ無機微粒子」と称す)と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、
大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20n
m以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下
が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で
好ましい。
機微粒子」と称す)の少なくとも1種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子(以下
「大サイズ無機微粒子」と称す)と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、
大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20n
m以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下
が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で
好ましい。
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバイ
ンダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のよ
うな物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされてい
ても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アル
コキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用
いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前に
あらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として
添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽
減のために好ましい。
ンダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のよ
うな物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされてい
ても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アル
コキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用
いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前に
あらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として
添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽
減のために好ましい。
(低屈折率層用オルガノシラン化合物及びその誘導体)
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、及び
該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物の中から選ばれる少なくとも一種を含有させ
ることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
以下では、オルガノシランの加水分解物、またはその部分縮合物を含有する反応溶液を
「ゾル成分」とも称する。
このオルガノシラン化合物、またはそのゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、
加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する
。また、前記含フッ素ポリマーを有する場合は、活性光線の照射により3次元構造を有す
るバインダーが形成される。
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、及び
該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物の中から選ばれる少なくとも一種を含有させ
ることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
以下では、オルガノシランの加水分解物、またはその部分縮合物を含有する反応溶液を
「ゾル成分」とも称する。
このオルガノシラン化合物、またはそのゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、
加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する
。また、前記含フッ素ポリマーを有する場合は、活性光線の照射により3次元構造を有す
るバインダーが形成される。
オルガノシラン化合物は、下記一般式[A]で表されるものが好ましい。
一般式[A]
(R10)m−Si(X)4-m
前記一般式[A]において、R10は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無
置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数
1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜6のものである。
アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Xは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のア
ルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子
(例えばCl、Br、I等)、及びR2COO(R2は水素原子または炭素数1〜5のアル
キル基が好ましい。例えばCH3COO、C2H5COO等が挙げられる)で表される基が
挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基
である。
mは1〜3の整数を表し、好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
一般式[A]
(R10)m−Si(X)4-m
前記一般式[A]において、R10は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無
置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数
1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜6のものである。
アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Xは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のア
ルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子
(例えばCl、Br、I等)、及びR2COO(R2は水素原子または炭素数1〜5のアル
キル基が好ましい。例えばCH3COO、C2H5COO等が挙げられる)で表される基が
挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基
である。
mは1〜3の整数を表し、好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
R10あるいはXが複数存在するとき、複数のR10あるいはXはそれぞれ同じであっても
異なっていても良い。
R10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素
等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチ
ル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、
芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エト
キシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキ
ルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニ
ル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ
、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイ
ル
基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチ
ル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミ
ノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換され
ていても良い。
異なっていても良い。
R10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素
等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチ
ル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、
芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エト
キシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキ
ルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニ
ル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ
、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイ
ル
基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチ
ル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミ
ノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換され
ていても良い。
R10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であ
ることが好ましい。
前記一般式[A]で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式[B]で表さ
れるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
ることが好ましい。
前記一般式[A]で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式[B]で表さ
れるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
前記一般式[B]において、R1は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基とし
ては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチ
ル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好
ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更
に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは単結合もしくは *−COO−**, *−CONH−**又は *−O−**を表し、単結合
、 *−COO−**および *−CONH−**が好ましく、単結合および *−COO−**が更
に好ましく、 *−COO−**が特に好ましい。* は=C(R1)−に結合する位置を、**
はLに結合する位置を表す。
ボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基とし
ては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチ
ル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好
ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更
に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは単結合もしくは *−COO−**, *−CONH−**又は *−O−**を表し、単結合
、 *−COO−**および *−CONH−**が好ましく、単結合および *−COO−**が更
に好ましく、 *−COO−**が特に好ましい。* は=C(R1)−に結合する位置を、**
はLに結合する位置を表す。
前記一般式[B]において、Lは2価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置
換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテ
ル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基
を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレ
ン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好まし
く、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連
結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルある
いはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基
、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、
これら置換基は更に置換されていても良い。
換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテ
ル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基
を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレ
ン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好まし
く、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連
結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルある
いはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基
、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、
これら置換基は更に置換されていても良い。
前記一般式[B]において、nは0または1を表す。nとして好ましくは0である。X
が複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
R10は一般式[A]と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリー
ル基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Xは一般式[A]と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ま
しく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基
、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
が複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
R10は一般式[A]と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリー
ル基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Xは一般式[A]と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ま
しく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基
、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
一般式[A]、一般式[B]の化合物は2種類以上を併用しても良い。一般式[A]、
一般式[B]で表される化合物の具体例を示すが、以下に限定されるものではない。
一般式[B]で表される化合物の具体例を示すが、以下に限定されるものではない。
これらのうち、(M−1)、(M−2)、および(M−5)が特に好ましい。
そして、ゾル成分として使用する場合には、前記オルガノシラン化合物の加水分解物ま
たはその加水分解物の部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で
処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ
酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機
塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコ
キシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げ
られる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用い
るのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数(
pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解
離定数が3.0以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.
5以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、
具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ
酸が特に好ましい。
たはその加水分解物の部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で
処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ
酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機
塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコ
キシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げ
られる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用い
るのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数(
pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解
離定数が3.0以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.
5以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、
具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ
酸が特に好ましい。
金属キレート化合物としては、一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル
基を示す)で表されるアルコールとR4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10の
アルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を
示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金
属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種
以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物
は、一般式Zr(OR3)p1(R4COCHCOR5)p2、Ti(OR3)q1(R4COCH
COR5)q2、およびAl(OR3)r1(R4COCHCOR5)r2で表される化合物群から
選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮
合物の縮合反応を促進する作用をなす。
前記金属キレート化合物中のR3およびR4は、同一または異なってもよく炭素数1〜1
0のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基
、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R
5は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基
、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ
基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、前記金属キレート化合物中
のp1、p2、q1、q2、r1、およびr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2
=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。
基を示す)で表されるアルコールとR4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10の
アルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を
示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金
属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種
以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物
は、一般式Zr(OR3)p1(R4COCHCOR5)p2、Ti(OR3)q1(R4COCH
COR5)q2、およびAl(OR3)r1(R4COCHCOR5)r2で表される化合物群から
選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮
合物の縮合反応を促進する作用をなす。
前記金属キレート化合物中のR3およびR4は、同一または異なってもよく炭素数1〜1
0のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基
、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R
5は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基
、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ
基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、前記金属キレート化合物中
のp1、p2、q1、q2、r1、およびr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2
=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセ
テートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、
n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピ
ルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニ
ウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート
化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポ
キシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセ
トン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセ
テートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポ
キシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセ
トナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(ア
セチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトア
セテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセト
アセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、
ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテー
ト)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上
混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を
使用することもできる。
テートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、
n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピ
ルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニ
ウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート
化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポ
キシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセ
トン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセ
テートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポ
キシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセ
トナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(ア
セチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトア
セテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセト
アセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、
ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテー
ト)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上
混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を
使用することもできる。
また、低屈折率層用組成物には、更にβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエス
テル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
テル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
β−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物としては、一般式R4CO
CH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物が好
ましく、これらは低屈折率層用組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで
、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1
〜10のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタ
ニウムおよび/またはアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これら
の金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物の
縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなす
ものと考えられる。β−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を構成す
るR4およびR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4およびR5と同様である。
CH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物が好
ましく、これらは低屈折率層用組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで
、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1
〜10のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタ
ニウムおよび/またはアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これら
の金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物の
縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなす
ものと考えられる。β−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を構成す
るR4およびR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4およびR5と同様である。
このβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、ア
セチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、ア
セト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト
酢酸−t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘ
プタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘ
キサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセ
チルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合
物および/またはβ−ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用
することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル
化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜
20モル用いられる。得られる組成物の保存安定性の点で、2モル以上が好ましい。
セチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、ア
セト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト
酢酸−t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘ
プタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘ
キサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセ
チルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合
物および/またはβ−ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用
することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル
化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜
20モル用いられる。得られる組成物の保存安定性の点で、2モル以上が好ましい。
前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の0.1〜50質量%が
好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物(防眩層用、低屈折率層用等の形成用組成物
、例えば塗布液)に直接添加してもよいが、オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存
在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物を調製し、
得られた反応溶液(ゾル液)を用いて前記硬化性組成物を調整するのが好ましく、本発明
においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物および金属
キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および/またはβ
−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも1層の形成
用組成物、例えば塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物(防眩層用、低屈折率層用等の形成用組成物
、例えば塗布液)に直接添加してもよいが、オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存
在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物を調製し、
得られた反応溶液(ゾル液)を用いて前記硬化性組成物を調整するのが好ましく、本発明
においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物またはその部分縮合物および金属
キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および/またはβ
−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも1層の形成
用組成物、例えば塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は
、5〜100質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、8〜35質量%が更に
好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく
、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好まし
くない。
、5〜100質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、8〜35質量%が更に
好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく
、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好まし
くない。
(ゾルゲル素材)
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾル
ゲル素材としては、金属アルコレート(シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等
のアルコレート)、オルガノアルコキシ金属化合物、およびその加水分解物を用いること
ができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシランおよびその加水分解物が
好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エ
チルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシ
ラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられ
る。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラ
ン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシ
ラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキ
ジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルト
リアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロ
アルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデ
シル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)
を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率
化および撥水・撥油性付与の点で好ましい。
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾル
ゲル素材としては、金属アルコレート(シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等
のアルコレート)、オルガノアルコキシ金属化合物、およびその加水分解物を用いること
ができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシランおよびその加水分解物が
好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エ
チルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシ
ラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられ
る。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラ
ン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシ
ラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキ
ジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルト
リアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロ
アルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデ
シル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)
を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率
化および撥水・撥油性付与の点で好ましい。
(低屈折率層用組成物に含まれるその他の物質)
低屈折率層用組成物には、好ましくは、前述の含フッ素ポリマー、無機微粒子、及びオ
ルガノシラン化合物の他に、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤、カチオ
ン重合開始剤を添加することができる。この際、添加剤等の固形分の濃度は、用途に応じ
て適宜選択されるが一般的には0.01〜60質量%程度であり、好ましくは0.5〜5
0質量%、特に好ましくは1%〜20質量%程度である。
低屈折率層用組成物には、好ましくは、前述の含フッ素ポリマー、無機微粒子、及びオ
ルガノシラン化合物の他に、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤、カチオ
ン重合開始剤を添加することができる。この際、添加剤等の固形分の濃度は、用途に応じ
て適宜選択されるが一般的には0.01〜60質量%程度であり、好ましくは0.5〜5
0質量%、特に好ましくは1%〜20質量%程度である。
低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能(メタ)アクリレ
ート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩
基酸またはその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合に
は低屈折率層皮膜の全固形分に対して30質量%以下の範囲とすることが好ましく、20
質量%以下の範囲とすることがより好ましく、10質量%以下の範囲とすることが特に好
ましい。
ート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩
基酸またはその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合に
は低屈折率層皮膜の全固形分に対して30質量%以下の範囲とすることが好ましく、20
質量%以下の範囲とすることがより好ましく、10質量%以下の範囲とすることが特に好
ましい。
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコー
ン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。こ
れらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添
加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合
であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。
ン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。こ
れらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添
加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合
であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。
シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位
として複数個含む化合物鎖の末端および/または側鎖に置換基を有するものが挙げられる
。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ
以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あ
ることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビ
ニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロ
アルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げら
れる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であるこ
とが特に好ましく、3000〜30000であることが最も好ましい。シリコーン系化合
物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好まし
く、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%で
あることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学(株)製、
X−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、
X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821(以上商品名)やチッ
ソ(株)製、FM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM
6621、FM−1121やGelest製DMS−U22、RMS−033、RMS−
083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS1
21、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221(以上商品名)などが
挙げられるがこれらに限定されるものではない。
として複数個含む化合物鎖の末端および/または側鎖に置換基を有するものが挙げられる
。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ
以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あ
ることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビ
ニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロ
アルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げら
れる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であるこ
とが特に好ましく、3000〜30000であることが最も好ましい。シリコーン系化合
物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好まし
く、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%で
あることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学(株)製、
X−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、
X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821(以上商品名)やチッ
ソ(株)製、FM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM
6621、FM−1121やGelest製DMS−U22、RMS−033、RMS−
083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS1
21、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221(以上商品名)などが
挙げられるがこれらに限定されるものではない。
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロ
アルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直
鎖(例えば−CF2CF3,−CH2(CF2)4H,−CH2(CF2)8CF3,−CH2CH
2(CF2)4H等)であっても、分岐構造(例えば−CH(CF3)2,−CH2CF(CF3
)2,−CH(CH3)CF2CF3,−CH(CH3)(CF2)5CF2H等)であっても、
脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パ
ーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、
エーテル結合を有していても良い(例えば−CH2OCH2CF2CF3,−CH2CH2OC
H2C4F8H,−CH2CH2OCH2CH2C8F17,−CH2CH2OCF2CF2OCF2C
F2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
アルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直
鎖(例えば−CF2CF3,−CH2(CF2)4H,−CH2(CF2)8CF3,−CH2CH
2(CF2)4H等)であっても、分岐構造(例えば−CH(CF3)2,−CH2CF(CF3
)2,−CH(CH3)CF2CF3,−CH(CH3)(CF2)5CF2H等)であっても、
脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パ
ーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、
エーテル結合を有していても良い(例えば−CH2OCH2CF2CF3,−CH2CH2OC
H2C4F8H,−CH2CH2OCH2CH2C8F17,−CH2CH2OCF2CF2OCF2C
F2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換
基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個
あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、
ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオ
キシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ
素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特
に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上
であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%
であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業(株
)製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本
インキ(株)製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサM
CF−300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個
あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、
ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオ
キシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ
素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特
に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上
であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%
であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業(株
)製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本
インキ(株)製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサM
CF−300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいは
ポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもでき
る。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構
造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には
低n層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好まし
くは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質
量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF
−150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH−3748(商品名)などが挙げら
れるが、これらに限定されるわけではない。
ポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもでき
る。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構
造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には
低n層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好まし
くは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質
量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF
−150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH−3748(商品名)などが挙げら
れるが、これらに限定されるわけではない。
また、低屈折率層用組成物には、上述した無機微粒子以外の無機フィラーを本発明の所
望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーとしては、前
述のものを用いることができる。
望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーとしては、前
述のものを用いることができる。
(低屈折率層用の溶剤)
低屈折率層を形成するための組成物、例えば塗布組成物に用いられる溶剤としては、各
成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易
いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれ
る各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が100℃
以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量含有
することが好ましい。
低屈折率層を形成するための組成物、例えば塗布組成物に用いられる溶剤としては、各
成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易
いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれ
る各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が100℃
以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量含有
することが好ましい。
沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン
(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水
素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76
.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)
などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテ
ル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃
)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチ
ル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1
℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノ
ール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1
−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プ
ロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などが
ある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケト
ン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。
(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水
素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76
.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)
などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテ
ル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃
)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチ
ル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1
℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノ
ール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1
−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プ
ロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などが
ある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケト
ン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。
沸点が100℃以上の溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(
110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロ
ロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142
.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチ
ル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃
)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(16
6℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン
、2−メチル−4−ペンタノンである。
110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロ
ロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142
.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチ
ル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃
)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(16
6℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン
、2−メチル−4−ペンタノンである。
[透明導電性層]
本発明の防眩フィルムには、帯電防止の目的で透明導電性層を設けることがフィルム表
面での静電気防止の点で好ましい。透明導電性層は、ディスプレイ側からの表面抵抗値を
下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合に有効である。透明導
電性層を形成する方法としては、例えば、通電性粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工
液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリング
して導電性薄膜を形成する方法等の公知の方法を挙げることができる。塗工する場合、そ
の方法は特に限定されず、塗工液の特性や塗工量に応じて、例えば、ロールコート、グラ
ビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えば
よい。
透明導電性層は、透明支持体又は防眩層上に直接又はこれらとの接着を強固にするプラ
イマー層を介して形成することができる。
本発明の防眩フィルムには、帯電防止の目的で透明導電性層を設けることがフィルム表
面での静電気防止の点で好ましい。透明導電性層は、ディスプレイ側からの表面抵抗値を
下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合に有効である。透明導
電性層を形成する方法としては、例えば、通電性粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工
液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリング
して導電性薄膜を形成する方法等の公知の方法を挙げることができる。塗工する場合、そ
の方法は特に限定されず、塗工液の特性や塗工量に応じて、例えば、ロールコート、グラ
ビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えば
よい。
透明導電性層は、透明支持体又は防眩層上に直接又はこれらとの接着を強固にするプラ
イマー層を介して形成することができる。
透明導電性層の厚さは、0.01〜10μmが好ましく、0.03〜7μmであること
がより好ましく、0.05〜5μmであることがさらに好ましい。最表層から近い層で使
用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。透明導電性
層の表面抵抗は、105〜1012Ω/sqであることが好ましく、105〜109Ω/
sqであることがさらに好ましく、105〜108Ω/sqであることが最も好ましい。
帯透明導電性層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。
がより好ましく、0.05〜5μmであることがさらに好ましい。最表層から近い層で使
用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。透明導電性
層の表面抵抗は、105〜1012Ω/sqであることが好ましく、105〜109Ω/
sqであることがさらに好ましく、105〜108Ω/sqであることが最も好ましい。
帯透明導電性層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。
透明導電性層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、透明導電性層のヘ
イズが、10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以
下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。波長550nmの
光の透過率が、50%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく
、65%以上であることがさらに好ましく、70%以上であることが最も好ましい。
透明導電性層は、強度が優れていることが好ましく、具体的な帯電防止層の強度は、1k
g荷重の鉛筆硬度(JIS−K−5400の規定)で、H以上であることが好ましく、2
H以上であることがより好ましく、3H以上であることがさらに好ましく、4H以上であ
ることが最も好ましい。
イズが、10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以
下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。波長550nmの
光の透過率が、50%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく
、65%以上であることがさらに好ましく、70%以上であることが最も好ましい。
透明導電性層は、強度が優れていることが好ましく、具体的な帯電防止層の強度は、1k
g荷重の鉛筆硬度(JIS−K−5400の規定)で、H以上であることが好ましく、2
H以上であることがより好ましく、3H以上であることがさらに好ましく、4H以上であ
ることが最も好ましい。
(通電性粒子)
透明導電性層に用いる通電性粒子の一次粒子の平均粒子径は、1〜150nmであるこ
とが好ましく、5〜100nmであることがさらに好ましく、5〜70nmであることが
最も好ましい。形成される透明導電性層中の通電性粒子の平均粒子径は、1〜200nm
であり、5〜150nmであることが好ましく、10〜100nmであることがさらに好
ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。通電性粒子の平均粒子径は、粒子の
質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
通電性粒子の比表面積は、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200
m2/gであることがさらに好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。
透明導電性層に用いる通電性粒子の一次粒子の平均粒子径は、1〜150nmであるこ
とが好ましく、5〜100nmであることがさらに好ましく、5〜70nmであることが
最も好ましい。形成される透明導電性層中の通電性粒子の平均粒子径は、1〜200nm
であり、5〜150nmであることが好ましく、10〜100nmであることがさらに好
ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。通電性粒子の平均粒子径は、粒子の
質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
通電性粒子の比表面積は、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200
m2/gであることがさらに好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。
通電性粒子は、金属の酸化物または窒化物からなる無機微粒子であることが好ましい。
金属の酸化物または窒化物の例としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化
チタンが挙げられる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。
通電性粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含
むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成
分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、P
b、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S、B、Nb、In、Vお
よびハロゲン原子が挙げられる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、
Sb、P、B、Nb、In、Vおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Sbを含
有する酸化錫(ATO)およびSnを含有する酸化インジウム(ITO)が特に好ましい
。ATO中のSbの割合は、3〜20質量%であることが好ましい。ITO中のSnの割
合は、5〜20質量%であることが好ましい。
金属の酸化物または窒化物の例としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化
チタンが挙げられる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。
通電性粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含
むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成
分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、P
b、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S、B、Nb、In、Vお
よびハロゲン原子が挙げられる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、
Sb、P、B、Nb、In、Vおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Sbを含
有する酸化錫(ATO)およびSnを含有する酸化インジウム(ITO)が特に好ましい
。ATO中のSbの割合は、3〜20質量%であることが好ましい。ITO中のSnの割
合は、5〜20質量%であることが好ましい。
通電性粒子は表面処理されていてもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を
用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナおよびシ
リカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポ
リオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネート
カップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処
理を組み合わせて実施してもよい。
通電性粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であるこ
とが好ましい。
用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナおよびシ
リカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポ
リオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネート
カップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処
理を組み合わせて実施してもよい。
通電性粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であるこ
とが好ましい。
透明導電性層中の導電性無機微粒子の割合は、20〜90質量%であることが好ましく
、25〜85質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがさらに好まし
い。
二種類以上の通電性粒子を透明導電性層内で併用してもよい。
、25〜85質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがさらに好まし
い。
二種類以上の通電性粒子を透明導電性層内で併用してもよい。
通電性粒子は、分散物の状態で透明導電性層に使用することができる。通電性粒子の分
散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例としては
、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベン
ジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、
ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホ
ルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(
例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル
(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(
例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。この中でも、トルエン、キシレン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが
特に好ましい。通電性粒子は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例としては
、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブル
ミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが挙げられ、サンドグラインダー
ミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。
予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよ
びエクストルーダーが挙げられる。
散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例としては
、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベン
ジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、
ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホ
ルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(
例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル
(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(
例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。この中でも、トルエン、キシレン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが
特に好ましい。通電性粒子は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例としては
、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブル
ミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが挙げられ、サンドグラインダー
ミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。
予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよ
びエクストルーダーが挙げられる。
(透明導電性層のバインダー)
透明導電性層は、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることができる。架橋
しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有
するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。ア
ニオン性基は、通電性粒子の分散状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに
皮膜形成能を付与して、透明導電性層を強化する機能を有する。
透明導電性層は、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることができる。架橋
しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有
するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。ア
ニオン性基は、通電性粒子の分散状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに
皮膜形成能を付与して、透明導電性層を強化する機能を有する。
ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン(飽和炭化水素)、ポリエーテル、ポリウレ
ア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれ
る。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレ
フィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好まし
い。
ア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれ
る。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレ
フィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好まし
い。
ポリオレフィン主鎖は、飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽
和重合性基の付加重合反応により得られる。
ポリエーテル主鎖は、エーテル結合(−O−)によって繰り返し単位が結合している。
ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。
ポリウレア主鎖は、ウレア結合(−NH−CO−NH−)によって、繰り返し単位が結
合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応に
より得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレタン結合(−NH−CO−O−)によって、繰
り返し単位が結合している。
ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基(N−メチロール基を含む
)との縮重合反応により得られる。
和重合性基の付加重合反応により得られる。
ポリエーテル主鎖は、エーテル結合(−O−)によって繰り返し単位が結合している。
ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。
ポリウレア主鎖は、ウレア結合(−NH−CO−NH−)によって、繰り返し単位が結
合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応に
より得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレタン結合(−NH−CO−O−)によって、繰
り返し単位が結合している。
ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基(N−メチロール基を含む
)との縮重合反応により得られる。
ポリエステル主鎖は、エステル結合(−CO−O−)によって、繰り返し単位が結合し
ている。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基(酸ハライド基を含む)と水酸基
(N−メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。
ポリアミン主鎖は、イミノ結合(−NH−)によって、繰り返し単位が結合している。
ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。
ポリアミド主鎖は、アミド結合(−NH−CO−)によって、繰り返し単位が結合して
いる。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基(酸ハライド基を
含む)との反応により得られる。
メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基(例、メラミン)とアルデヒド(例、ホル
ムアルデヒド)との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが
架橋構造を有する。
ている。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基(酸ハライド基を含む)と水酸基
(N−メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。
ポリアミン主鎖は、イミノ結合(−NH−)によって、繰り返し単位が結合している。
ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。
ポリアミド主鎖は、アミド結合(−NH−CO−)によって、繰り返し単位が結合して
いる。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基(酸ハライド基を
含む)との反応により得られる。
メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基(例、メラミン)とアルデヒド(例、ホル
ムアルデヒド)との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが
架橋構造を有する。
アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に
結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ま
しい。
アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)
およびリン酸基(ホスホノ)などが挙げられ、スルホン酸基およびリン酸基が好ましい。
アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、ア
ルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離してい
てもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン
基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好まし
い。
結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ま
しい。
アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)
およびリン酸基(ホスホノ)などが挙げられ、スルホン酸基およびリン酸基が好ましい。
アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、ア
ルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離してい
てもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン
基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好まし
い。
架橋構造は、二以上の主鎖を化学的に結合(好ましくは共有結合)する。架橋構造は、
三以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−CO−、−O−、−S−、
窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる二
価以上の基からなることが好ましい。
三以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−CO−、−O−、−S−、
窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる二
価以上の基からなることが好ましい。
架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と
、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマ
ー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好まし
く、4〜94質量%であることがさらに好ましく、6〜92質量%であることが最も好ま
しい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋
構造を有する繰り返し単位の割合は、4〜98質量%であることが好ましく、6〜96質
量%であることがさらに好ましく、8〜94質量%であることが最も好ましい。
、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマ
ー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好まし
く、4〜94質量%であることがさらに好ましく、6〜92質量%であることが最も好ま
しい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋
構造を有する繰り返し単位の割合は、4〜98質量%であることが好ましく、6〜96質
量%であることがさらに好ましく、8〜94質量%であることが最も好ましい。
架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構
造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造も
ない繰り返し単位)が含まれていてもよい。
その他の繰り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し
単位およびベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウ
ム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、
アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位
あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。
造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造も
ない繰り返し単位)が含まれていてもよい。
その他の繰り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し
単位およびベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウ
ム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、
アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位
あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミノ基または四級ア
ンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結
合させる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結
合させることが好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモ
ニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさ
らに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合
する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素原子数が1〜12のアルキル基である
ことが好ましく、炭素原子数が1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。
ンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結
合させる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結
合させることが好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモ
ニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさ
らに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合
する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素原子数が1〜12のアルキル基である
ことが好ましく、炭素原子数が1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。
四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基ま
たは四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、
−O−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基
であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基または
四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.06〜32質量
%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることがさらに好ましく、0.1〜
28質量%であることが最も好ましい。
たは四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、
−O−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基
であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基または
四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.06〜32質量
%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることがさらに好ましく、0.1〜
28質量%であることが最も好ましい。
上記バインダーに対して、例えば特開2003−39586号公報に記載の以下の反応
性有機珪素化合物と併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、電離放射線硬化型
樹脂と反応性有機珪素化合物の合計に対して10〜100重量%の範囲で使用されること
が好ましい。特に下記の(3)の電離放射線硬化性有機珪素化合物を使用する場合には、
これだけを樹脂成分として導電層を形成することが可能である。
性有機珪素化合物と併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、電離放射線硬化型
樹脂と反応性有機珪素化合物の合計に対して10〜100重量%の範囲で使用されること
が好ましい。特に下記の(3)の電離放射線硬化性有機珪素化合物を使用する場合には、
これだけを樹脂成分として導電層を形成することが可能である。
(1)珪素アルコキシド
RmSi(OR’)nで表される化合物であり、ここでR、R’は炭素数1〜10のアル
キル基を表し、m及びnはそれぞれm+n=4となる整数である。例えば、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プ
ロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テト
ラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−
プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシ
ラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン
、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメ
チルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリ
メトキシシラン等が挙げられる。
RmSi(OR’)nで表される化合物であり、ここでR、R’は炭素数1〜10のアル
キル基を表し、m及びnはそれぞれm+n=4となる整数である。例えば、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プ
ロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テト
ラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−
プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシ
ラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン
、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメ
チルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリ
メトキシシラン等が挙げられる。
(2)シランカップリング剤
例えば、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−ア
ミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)
−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、アミノシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキ
サメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメ
チル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロ
ロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
例えば、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−ア
ミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)
−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、アミノシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキ
サメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメ
チル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロ
ロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
(3)電離放射線硬化性珪素化合物
電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量
5,000以下の有機珪素化合物が挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片
末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシ
ロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニ
ル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量
5,000以下の有機珪素化合物が挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片
末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシ
ロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニ
ル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
その他の化合物としては、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3
−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラ
ン化合物等が挙げられる。
−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラ
ン化合物等が挙げられる。
帯電防止機能をより発現するためには、特開2003−39586号公報に示されるよ
うに、本発明の防眩層中に通電性粒子を分散し、異方性導電膜としての機能を有させるこ
とも好ましい。
うに、本発明の防眩層中に通電性粒子を分散し、異方性導電膜としての機能を有させるこ
とも好ましい。
[透明支持体]
本発明の防眩フィルムの透明支持体としては、透明プラスチックフィルム基材を用いる
。透明プラスチックフィルム基材を形成するポリマーとしては、セルロースアシレート(
例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネ
ート、セルロースアセテートブチレート、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD
80U,TD80ULなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン
、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオ
ネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ノルボルネン系樹脂、非晶質ポリオレフィンが好ま
しく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
本発明の防眩フィルムの透明支持体としては、透明プラスチックフィルム基材を用いる
。透明プラスチックフィルム基材を形成するポリマーとしては、セルロースアシレート(
例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネ
ート、セルロースアセテートブチレート、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD
80U,TD80ULなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン
、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオ
ネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ノルボルネン系樹脂、非晶質ポリオレフィンが好ま
しく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
セルロースアシレートは、単層または複数の層からなる。単層のセルロースアシレート
は、特開平7−11055号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等によ
り作成され、後者の複数の層からなるセルロースアシレートは、公開特許公報の特開昭6
1−94725号、特公昭62−43846号等で開示されている、いわゆる共流延法に
より作製される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン等、
アルコール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、エステル類(蟻酸メチル、酢
酸メチル等)、エーテル類(ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等)等の溶剤
にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進
剤等の各種の添加剤を加えた溶液(ドープと称する)を、水平式のエンドレスの金属ベル
トまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段(ダイと称する)により
流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロース
エステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付
与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて
溶剤を除去することからなる方法である。
は、特開平7−11055号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等によ
り作成され、後者の複数の層からなるセルロースアシレートは、公開特許公報の特開昭6
1−94725号、特公昭62−43846号等で開示されている、いわゆる共流延法に
より作製される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン等、
アルコール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、エステル類(蟻酸メチル、酢
酸メチル等)、エーテル類(ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等)等の溶剤
にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進
剤等の各種の添加剤を加えた溶液(ドープと称する)を、水平式のエンドレスの金属ベル
トまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段(ダイと称する)により
流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロース
エステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付
与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて
溶剤を除去することからなる方法である。
前記のような、セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタン
が代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロ
ゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶
剤中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好ましくは2質量%未満)であること
を意味する。
が代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロ
ゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶
剤中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好ましくは2質量%未満)であること
を意味する。
前記のような種々のセルロースアシレートフィルム(トリアセチルセルロースなどから
なるフィルム)およびその製造法については発明協会公開技報公技番号2001−174
5号(2001年3月15日発行)に記載されている。
なるフィルム)およびその製造法については発明協会公開技報公技番号2001−174
5号(2001年3月15日発行)に記載されている。
セルロースアシレートフィルムの厚みとしては40μm〜120μmが好ましい。ハン
ドリング適性、塗布適性等を考慮すると80μm前後が好ましいが、近年の表示装置の薄
手化の傾向から、偏光板の薄手化のニーズが大きく、偏光板薄手化の観点では40μm〜
60μm前後が好ましい。このような薄手のセルロースアシレートフィルムを本発明の防
眩フィルムの透明支持体として用いる場合には、セルロースアシレートフィルムに直接塗
布する層の溶媒、膜厚、架橋収縮率等を最適化することにより前記のハンドリング、塗布
適性等の問題を回避することが好ましい。
ドリング適性、塗布適性等を考慮すると80μm前後が好ましいが、近年の表示装置の薄
手化の傾向から、偏光板の薄手化のニーズが大きく、偏光板薄手化の観点では40μm〜
60μm前後が好ましい。このような薄手のセルロースアシレートフィルムを本発明の防
眩フィルムの透明支持体として用いる場合には、セルロースアシレートフィルムに直接塗
布する層の溶媒、膜厚、架橋収縮率等を最適化することにより前記のハンドリング、塗布
適性等の問題を回避することが好ましい。
[他の層について]
[その他の層]
透明支持体と本発明の防眩層の間に設けても良い他の層として、防湿層、密着改良層、
虹ムラ(干渉ムラ)防止層等が挙げられる。これらの層は、公知の方法にて形成すること
ができる。
[その他の層]
透明支持体と本発明の防眩層の間に設けても良い他の層として、防湿層、密着改良層、
虹ムラ(干渉ムラ)防止層等が挙げられる。これらの層は、公知の方法にて形成すること
ができる。
[防眩フィルムの製造方法]
本発明の防眩フィルム、例えば防眩性反射防止フィルムは以下の方法で形成することが
できるが、この方法に制限されない。
また、防眩層及び低屈折層を設ける場合を例として説明するが、低屈折層を設けない態
様を採用してもよい。
本発明の防眩フィルム、例えば防眩性反射防止フィルムは以下の方法で形成することが
できるが、この方法に制限されない。
また、防眩層及び低屈折層を設ける場合を例として説明するが、低屈折層を設けない態
様を採用してもよい。
(塗布液の調製)
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液を調製する。その際、溶剤の揮発量
を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水
率は5%以下が好ましく、2%以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタ
ンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最
小化すること等で達成される。また、塗布中或いはその前後に塗布液中の含水率を低減す
る手段を設けてもよい。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液を調製する。その際、溶剤の揮発量
を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水
率は5%以下が好ましく、2%以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタ
ンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最
小化すること等で達成される。また、塗布中或いはその前後に塗布液中の含水率を低減す
る手段を設けてもよい。
防眩層を形成する塗布液中には、直接その上に形成される低屈折率層の乾燥膜厚(50
nm〜120nm程度)に相当する大きさの異物を概ね全て(90%以上を指す)除去で
きるろ過をすることが好ましい。防眩性を付与する為の透光性微粒子が低屈折率層の膜厚
と同等以上であるため、前記ろ過は、透光性微粒子以外の全ての素材を添加した中間液に
対して行うことが好ましい。また、前記のような粒径の小さな異物を除去可能なフィルタ
ーが入手できない場合には、少なくとも直接その上に形成される層のウエット膜厚(8〜
40μm程度)に相当する異物を概ね全て除去できるろ過をすることが好ましい。このよ
うな手段により、直接その上に形成される層の点欠陥を減少することができる。
nm〜120nm程度)に相当する大きさの異物を概ね全て(90%以上を指す)除去で
きるろ過をすることが好ましい。防眩性を付与する為の透光性微粒子が低屈折率層の膜厚
と同等以上であるため、前記ろ過は、透光性微粒子以外の全ての素材を添加した中間液に
対して行うことが好ましい。また、前記のような粒径の小さな異物を除去可能なフィルタ
ーが入手できない場合には、少なくとも直接その上に形成される層のウエット膜厚(8〜
40μm程度)に相当する異物を概ね全て除去できるろ過をすることが好ましい。このよ
うな手段により、直接その上に形成される層の点欠陥を減少することができる。
(塗布)
次に、防眩層、および必要に応じて低屈折率層を形成するための塗布液をエクストルー
ジョン法(ダイコート法)、マイクログラビア法等の塗布方法により透明支持体上に塗布
し、加熱・乾燥する。その後、活性エネルギー線、例えば光照射および/または加熱して
、防眩層ないし低屈折率層を形成するための硬化性化合物を硬化する。これにより防眩層
、低屈折率層が形成される。
次に、防眩層、および必要に応じて低屈折率層を形成するための塗布液をエクストルー
ジョン法(ダイコート法)、マイクログラビア法等の塗布方法により透明支持体上に塗布
し、加熱・乾燥する。その後、活性エネルギー線、例えば光照射および/または加熱して
、防眩層ないし低屈折率層を形成するための硬化性化合物を硬化する。これにより防眩層
、低屈折率層が形成される。
(乾燥)
防眩層および低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、
溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温
度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的
高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発
が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光
ラジカル発生剤のなかには120℃の温風中で数分以内にその数10%前後が揮発してし
まうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で
揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有
される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
防眩層および低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、
溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温
度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的
高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発
が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光
ラジカル発生剤のなかには120℃の温風中で数分以内にその数10%前後が揮発してし
まうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で
揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有
される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の
固形分濃度が1〜50%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、
乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルム
の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差を0℃〜20℃の
範囲内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
固形分濃度が1〜50%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、
乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルム
の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差を0℃〜20℃の
範囲内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
表面凹凸を乾燥条件である程度制御することも可能である。塗布後早く乾燥風を当てる
ことで、表面凹凸の形成を抑制できることから、好ましい表面凹凸範囲に制御することも
可能である。
ことで、表面凹凸の形成を抑制できることから、好ましい表面凹凸範囲に制御することも
可能である。
(硬化)
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで活性エネルギー線、例えば電離放射線および/また
は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線
硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm2〜1000mJ/cm2の照射量の
紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は
中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜10
0%の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃
度を低下する必要がある際には、酸素濃度0.01%〜5%が好ましく、幅方向の分布は
酸素濃度で2%以下が好ましい。
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで活性エネルギー線、例えば電離放射線および/また
は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線
硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm2〜1000mJ/cm2の照射量の
紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は
中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜10
0%の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃
度を低下する必要がある際には、酸素濃度0.01%〜5%が好ましく、幅方向の分布は
酸素濃度で2%以下が好ましい。
また、防眩層の硬化率(100−残存官能基含率)が100%未満のある値となった場
合、その上に低屈折率層を設けて電離放射線および/または熱により低屈折率層を硬化し
た際に下層の防眩層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、防眩層と低屈折
率層との間の密着性が改良され、好ましい。
合、その上に低屈折率層を設けて電離放射線および/または熱により低屈折率層を硬化し
た際に下層の防眩層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、防眩層と低屈折
率層との間の密着性が改良され、好ましい。
以上のようにして製造された防眩フィルム、例えば防眩性反射防止フィルムは、これを
用いて偏光板を作成することにより液晶表示装置に用いることができる。この場合、片面
に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の防眩フィルムは、偏
光板における偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いるこ
とが好ましい。
本発明の防眩フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減でき
る。また、本発明の防眩フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防
止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
用いて偏光板を作成することにより液晶表示装置に用いることができる。この場合、片面
に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の防眩フィルムは、偏
光板における偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いるこ
とが好ましい。
本発明の防眩フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減でき
る。また、本発明の防眩フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防
止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
防眩フィルムを2枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成
する際には、前記の防眩フィルムを、防眩構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面
、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を
改良することが好ましい。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接
着層との接着性を改良するのに有効である。防眩フィルムの親水化処理としては、下記の
鹸化処理を行うことが好ましい。
する際には、前記の防眩フィルムを、防眩構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面
、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を
改良することが好ましい。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接
着層との接着性を改良するのに有効である。防眩フィルムの親水化処理としては、下記の
鹸化処理を行うことが好ましい。
(鹸化処理)
(1)アルカリ液に浸漬する方法
アルカリ液の中に防眩フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと
反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コ
ストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。
好ましい濃度は0.5〜3mol/Lであり、特に好ましくは1〜2mol/Lである。
好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、防
眩フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十
分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
(1)アルカリ液に浸漬する方法
アルカリ液の中に防眩フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと
反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コ
ストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。
好ましい濃度は0.5〜3mol/Lであり、特に好ましくは1〜2mol/Lである。
好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、防
眩フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十
分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対す
る接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、上記のような浸漬
法では同時に防眩層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受
ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダ
メージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に
透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10度〜50度、より好まし
くは30度〜50度、さらに好ましくは40度〜50度となる。偏光膜との接着性の点で
、50度以下が好ましい。一方、反射防止膜の受けるダメージが小さく、物理強度を損な
わない点で、10度以上が好ましい。
る接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、上記のような浸漬
法では同時に防眩層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受
ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダ
メージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に
透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10度〜50度、より好まし
くは30度〜50度、さらに好ましくは40度〜50度となる。偏光膜との接着性の点で
、50度以下が好ましい。一方、反射防止膜の受けるダメージが小さく、物理強度を損な
わない点で、10度以上が好ましい。
(2)アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ
液を防眩層や反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥する
アルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対
してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベル
ト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、
別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸
漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面に
はアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル
膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法で
は設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用するこ
とが可能である。
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ
液を防眩層や反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥する
アルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対
してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベル
ト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、
別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸
漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面に
はアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル
膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法で
は設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用するこ
とが可能である。
前記(1)、(2)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して
各層を形成後に行うことができるため、前述の防眩フィルム製造工程の後に加えて一連の
操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工
程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板
を作成することができる。
各層を形成後に行うことができるため、前述の防眩フィルム製造工程の後に加えて一連の
操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工
程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板
を作成することができる。
(3)防眩層や反射防止層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記(2)と同様に、防眩層および/または低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不
足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルム
を貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセ
チルセルロース面だけを親水化し、その後ラミネートフィルムを剥離することができる。
この方法でも、防眩層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要な
だけの親水化処理を透明支持体、例えばトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成
した面とは反対の面だけに施すことができる。前記(2)の方法と比較して、ラミネート
フィルムが廃棄物として発生する反面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利
点がある。
前記(2)と同様に、防眩層および/または低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不
足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルム
を貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセ
チルセルロース面だけを親水化し、その後ラミネートフィルムを剥離することができる。
この方法でも、防眩層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要な
だけの親水化処理を透明支持体、例えばトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成
した面とは反対の面だけに施すことができる。前記(2)の方法と比較して、ラミネート
フィルムが廃棄物として発生する反面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利
点がある。
(4)防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
防眩層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性
不足である場合には、防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然
る後に防眩層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低
屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との
層間密着性が向上する利点がある。
防眩層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性
不足である場合には、防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然
る後に防眩層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低
屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との
層間密着性が向上する利点がある。
(5)予め鹸化済の透明支持体、例えばトリアセチルセルロースフィルムに防眩層や反射
防止層を形成する方法
透明支持体、例えばトリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなど
して鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して防眩層、低屈折率層を形成して
もよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、防眩層または他の層と鹸化により親水
化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場
合には、鹸化後、防眩層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処
理をすることで親水化面を除去してから防眩層または他の層を形成することで対処できる
。また、防眩層または他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
防止層を形成する方法
透明支持体、例えばトリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなど
して鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して防眩層、低屈折率層を形成して
もよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、防眩層または他の層と鹸化により親水
化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場
合には、鹸化後、防眩層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処
理をすることで親水化面を除去してから防眩層または他の層を形成することで対処できる
。また、防眩層または他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
以下に、本発明の防眩フィルムを用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置につ
いて説明する。
[偏光板]
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム(偏光板用保護フィルム)の少なく
とも一方として、本発明の防眩フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、前記のよう
に、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼
り合わせる側の表面の水に対する接触角が10度〜50度の範囲にあることが好ましい。
本発明の防眩フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐
光性に優れた光散乱機能、あるいは反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコス
ト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の防眩フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性の
ある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製すること
により、さらに、液晶表示装置の明室での視認性やコントラストを改良し、上下左右の視
野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
いて説明する。
[偏光板]
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム(偏光板用保護フィルム)の少なく
とも一方として、本発明の防眩フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、前記のよう
に、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼
り合わせる側の表面の水に対する接触角が10度〜50度の範囲にあることが好ましい。
本発明の防眩フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐
光性に優れた光散乱機能、あるいは反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコス
ト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の防眩フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性の
ある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製すること
により、さらに、液晶表示装置の明室での視認性やコントラストを改良し、上下左右の視
野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
(光学補償フィルム)
偏光板に光学補償フィルムを用いることにより、液晶表示画面の視野角特性を改良する
ことができ、偏光子を挟んで本発明の防眩フィルムの反対側に光学補償フィルムを好まし
く用いることができる。光学補償フォルムは偏光板の片側の保護フィルムの上に粘着剤で
貼付してもよいし、片側の保護フィルムとして用いてもよい。偏光板の厚みの観点からは
、片側の保護フィルムとして本発明の防眩フィルムを用い、偏光子を挟んで反対側の保護
フィルムとして光学補償フィルム用いることが特に望ましい。光学補償フィルムは、光学
異方性のある物質をフィルム自体に含有させたり、フィルムを延伸したりすること、ある
いはその両方を行うことで、フィルム自体が特定の光学異方性を有してもよいし、フィル
ム上に光学異方性層(位相差層)を設けてもよい。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるとい
う点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有
するフィルムが望ましく、具体的には富士写真フイルム製のワイドビューフィルム(WV
−A、WV−SA)があるが、これに限られない。
また、液晶ディスプレイのコントラストの良化、色味を改良するために、光学的異方性
(Re、Rth)が小さく実質的に光学的等方性であり、さらには光学的異方性(Re、
Rth)の波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムを用いることも好ましいし、
反射型ディスプレイの場合は1枚または複数枚のフィルムからなるλ/4板の機能を有す
るフィルムを用いるのも好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側
の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好
ましい。
偏光板に光学補償フィルムを用いることにより、液晶表示画面の視野角特性を改良する
ことができ、偏光子を挟んで本発明の防眩フィルムの反対側に光学補償フィルムを好まし
く用いることができる。光学補償フォルムは偏光板の片側の保護フィルムの上に粘着剤で
貼付してもよいし、片側の保護フィルムとして用いてもよい。偏光板の厚みの観点からは
、片側の保護フィルムとして本発明の防眩フィルムを用い、偏光子を挟んで反対側の保護
フィルムとして光学補償フィルム用いることが特に望ましい。光学補償フィルムは、光学
異方性のある物質をフィルム自体に含有させたり、フィルムを延伸したりすること、ある
いはその両方を行うことで、フィルム自体が特定の光学異方性を有してもよいし、フィル
ム上に光学異方性層(位相差層)を設けてもよい。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるとい
う点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有
するフィルムが望ましく、具体的には富士写真フイルム製のワイドビューフィルム(WV
−A、WV−SA)があるが、これに限られない。
また、液晶ディスプレイのコントラストの良化、色味を改良するために、光学的異方性
(Re、Rth)が小さく実質的に光学的等方性であり、さらには光学的異方性(Re、
Rth)の波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムを用いることも好ましいし、
反射型ディスプレイの場合は1枚または複数枚のフィルムからなるλ/4板の機能を有す
るフィルムを用いるのも好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側
の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好
ましい。
(偏光膜)
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長
尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行で
も垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を
付与して延伸する際、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィル
ム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程
の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70
゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる
延伸方法によって製造することができる。特に、吸収軸が長手方向に対して45°傾斜さ
せたものが偏光板の生産性の観点から好ましく用いられる。
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落00
20〜0030に詳しい記載がある。
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長
尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行で
も垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を
付与して延伸する際、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィル
ム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程
の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70
゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる
延伸方法によって製造することができる。特に、吸収軸が長手方向に対して45°傾斜さ
せたものが偏光板の生産性の観点から好ましく用いられる。
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落00
20〜0030に詳しい記載がある。
[画像表示装置]
本発明の防眩フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(P
DP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)
、電界放出ディスプレイ(FED)、表面電界ディスプレイ(SED)のような画像表示
装置に適用することができる。本発明の防眩フィルムは透明支持体を有しているので、透
明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
本発明の防眩フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(P
DP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)
、電界放出ディスプレイ(FED)、表面電界ディスプレイ(SED)のような画像表示
装置に適用することができる。本発明の防眩フィルムは透明支持体を有しているので、透
明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
本発明の防眩フィルムを、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いて偏光板を作成
し、液晶表示装置の表面に用いることが特に好ましい。この場合、ツイステットネマチッ
ク(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(
VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベン
ドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好まし
く用いることができる。特に、大型液晶テレビ等の用途として、VA、IPS、OCB等
で好ましく用いることができ、中小型の表示装置用途であれば、TN、STN等にも好ま
しく用いることができる。液晶テレビ等の用途としては、表示画面の対角が13インチ以
上であり、特に好ましくは20インチ以上である。本発明の防眩フィルムは表面ヘイズ値
、粗さなどが好ましい範囲にあるため、実質上でギラツキの問題が無く、精細度に関して
は制限無くもちいることが可能であるが、XGA以下(縦横比3:4の表示装置において
1024×768以下)に特に好ましく用いることができる。
し、液晶表示装置の表面に用いることが特に好ましい。この場合、ツイステットネマチッ
ク(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(
VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベン
ドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好まし
く用いることができる。特に、大型液晶テレビ等の用途として、VA、IPS、OCB等
で好ましく用いることができ、中小型の表示装置用途であれば、TN、STN等にも好ま
しく用いることができる。液晶テレビ等の用途としては、表示画面の対角が13インチ以
上であり、特に好ましくは20インチ以上である。本発明の防眩フィルムは表面ヘイズ値
、粗さなどが好ましい範囲にあるため、実質上でギラツキの問題が無く、精細度に関して
は制限無くもちいることが可能であるが、XGA以下(縦横比3:4の表示装置において
1024×768以下)に特に好ましく用いることができる。
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配
向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2
−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチド
メイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech
. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電
圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモー
ド(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記
載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98
で発表)が含まれる。
向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2
−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチド
メイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech
. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電
圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモー
ド(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記
載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98
で発表)が含まれる。
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の
方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり
、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液
晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液
晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically
Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応
答速度が速いとの利点がある。
方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり
、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液
晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液
晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically
Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応
答速度が速いとの利点がある。
ECBモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向して
おり、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載があ
る。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001
)などに記載されている。
おり、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載があ
る。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001
)などに記載されている。
本発明を詳細に説明するために、以下の実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。なお、特別に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準で
ある。
限定されるものではない。なお、特別に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準で
ある。
[ゾル液の調製]
(ゾル液a−1の調製)
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、アクリロキシ
オキシプロピルトリメトキシシラン187g(0.80mol)、メチルトリメトキシシ
ラン27.2g(0.20mol)、メタノール320g(10mol)とKF0.06
g(0.001mol)を仕込み、攪拌下室温で水15.1g(0.86mol)をゆっ
くり滴下した。滴下終了後室温で3時間攪拌した後、メタノール還溜下2時間加熱攪拌し
た。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液a−1を120g得た
。このようにして得た物質をGPC測定した結果、質量平均分子量は1500であり、オ
リゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は30%であった
。
また1H−NMRの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構
造であった。
(ゾル液a−1の調製)
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、アクリロキシ
オキシプロピルトリメトキシシラン187g(0.80mol)、メチルトリメトキシシ
ラン27.2g(0.20mol)、メタノール320g(10mol)とKF0.06
g(0.001mol)を仕込み、攪拌下室温で水15.1g(0.86mol)をゆっ
くり滴下した。滴下終了後室温で3時間攪拌した後、メタノール還溜下2時間加熱攪拌し
た。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液a−1を120g得た
。このようにして得た物質をGPC測定した結果、質量平均分子量は1500であり、オ
リゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は30%であった
。
また1H−NMRの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構
造であった。
更に、29Si−NMR測定による縮合率αは0.56であった。この分析結果から、
本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシ
ランは5%以下の残存率であった。
本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシ
ランは5%以下の残存率であった。
(ゾル液a−2の調製)
アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランをグリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン“KBM−403”{信越化学工業(株)製}に変更する以外はゾル液a−1の調
製と同様の操作でゾル液a−2を得た。
アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランをグリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン“KBM−403”{信越化学工業(株)製}に変更する以外はゾル液a−1の調
製と同様の操作でゾル液a−2を得た。
(ゾル液a−3の調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキ
シプロピルトリメトキシシラン(KBM5103、信越化学工業(株)製)100部、ジ
イソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交
換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液a−3を得
た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が10
00〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、
原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキ
シプロピルトリメトキシシラン(KBM5103、信越化学工業(株)製)100部、ジ
イソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交
換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液a−3を得
た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が10
00〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、
原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
[防眩層用塗布液の調製]
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−1)の組成
────────────────────────────────────
PETA 570.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 6.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 44.0部
トルエン 117.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−1)の組成
────────────────────────────────────
PETA 570.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 6.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 44.0部
トルエン 117.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−2)の組成
────────────────────────────────────
PETA 563.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 9.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 67.0部
トルエン 100.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−2)の組成
────────────────────────────────────
PETA 563.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 9.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 67.0部
トルエン 100.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−3)の組成
────────────────────────────────────
PETA 540.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 17.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%)133.0部
トルエン 47.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−3)の組成
────────────────────────────────────
PETA 540.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 17.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%)133.0部
トルエン 47.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−4)の組成
────────────────────────────────────
PETA 561.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 9.0部
5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 70.0部
トルエン 109.0部
シクロヘキサノン 97.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−4)の組成
────────────────────────────────────
PETA 561.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 9.0部
5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 70.0部
トルエン 109.0部
シクロヘキサノン 97.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−5)の組成
────────────────────────────────────
PETA 550.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 13.0部
5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 105.0部
トルエン 69.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−5)の組成
────────────────────────────────────
PETA 550.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 13.0部
5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 105.0部
トルエン 69.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−6)の組成
────────────────────────────────────
PETA 555.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 11.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 88.0部
トルエン 83.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−6)の組成
────────────────────────────────────
PETA 555.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 11.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 88.0部
トルエン 83.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−7)の組成
────────────────────────────────────
PETA 548.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−7)の組成
────────────────────────────────────
PETA 548.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−8)の組成
────────────────────────────────────
HP−7200L 528.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
ロードシル2074 40.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X22−169AS」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−8)の組成
────────────────────────────────────
HP−7200L 528.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
ロードシル2074 40.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X22−169AS」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−9)の組成
────────────────────────────────────
PETA 540.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 17.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 133.0部
トルエン 47.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−9)の組成
────────────────────────────────────
PETA 540.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 17.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 133.0部
トルエン 47.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−10)の組成
────────────────────────────────────
PETA 535.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
10μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 41.0部
10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 124.0部
トルエン 36.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−10)の組成
────────────────────────────────────
PETA 535.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
10μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 41.0部
10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 124.0部
トルエン 36.0部
シクロヘキサノン 98.0部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−11)の組成
────────────────────────────────────
PETA 470.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 6.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 44.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 117.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−11)の組成
────────────────────────────────────
PETA 470.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 6.0部
3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 44.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 117.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−12)の組成
────────────────────────────────────
PETA 461.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 9.0部
5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 70.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 97.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−12)の組成
────────────────────────────────────
PETA 461.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 9.0部
5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 70.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 97.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−13)の組成
────────────────────────────────────
PETA 448.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−13)の組成
────────────────────────────────────
PETA 448.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−14)の組成
────────────────────────────────────
HP−7200L 420.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
ロードシル2074 40.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
ゾル液a−2 100.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−14)の組成
────────────────────────────────────
HP−7200L 420.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
ロードシル2074 40.0部
8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 14.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 109.0部
ゾル液a−2 100.0部
トルエン 66.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−15)の組成
────────────────────────────────────
PETA 423.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 206.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 8.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−15)の組成
────────────────────────────────────
PETA 423.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 206.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 8.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−16)の組成
────────────────────────────────────
PETA 411.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 247.0部
ゾル液a−1 100.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−16)の組成
────────────────────────────────────
PETA 411.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 247.0部
ゾル液a−1 100.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−17)の組成
────────────────────────────────────
PETA 435.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
10μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 41.0部
10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 124.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 36.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−17)の組成
────────────────────────────────────
PETA 435.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
10μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%) 41.0部
10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 124.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 36.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−18)の組成
────────────────────────────────────
PETA 423.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 207.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 7.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
防眩層用塗布液(HCL−18)の組成
────────────────────────────────────
PETA 423.0部
ポリメタクリル酸メチル溶液(20%) 300.0部
イルガキュア184 20.0部
10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%) 207.0部
ゾル液a−1 100.0部
トルエン 7.0部
シクロヘキサノン 98.0部
FP−132 0.75部
────────────────────────────────────
[低屈折率層用塗布液の調製]
────────────────────────────────────
低屈折率層用塗布液(LNL−1)の組成
────────────────────────────────────
JTA−113 730.0部
中空シリカ液074 195.0部
ゾル液a−3 17.0部
メチルエチルケトン 475.0部
シクロヘキサノン 53.0部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
低屈折率層用塗布液(LNL−1)の組成
────────────────────────────────────
JTA−113 730.0部
中空シリカ液074 195.0部
ゾル液a−3 17.0部
メチルエチルケトン 475.0部
シクロヘキサノン 53.0部
────────────────────────────────────
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートの混合物[KAYARAD PET−30:日本化薬(株)製]
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物[KAYARAD DPHA:日本化薬(株)製]
・HP−7200L:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂[大日本インキ化学工業(株
)製]
・ポリメタクリル酸メチル溶液(20%):分子量12万のポリメタクリル酸メチル(ア
ルドリッチ社製)の20%トルエン溶液
・イルガキュア184:重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・ロードシル2074:光カチオン重合開始剤[ローディア社製]
・PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートの混合物[KAYARAD PET−30:日本化薬(株)製]
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物[KAYARAD DPHA:日本化薬(株)製]
・HP−7200L:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂[大日本インキ化学工業(株
)製]
・ポリメタクリル酸メチル溶液(20%):分子量12万のポリメタクリル酸メチル(ア
ルドリッチ社製)の20%トルエン溶液
・イルガキュア184:重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・ロードシル2074:光カチオン重合開始剤[ローディア社製]
・3.5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):SX−350H[平均粒
径3.5μm架橋ポリスチレン粒子、屈折率1.60、綜研化学(株)製]の30wt%
トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):SX−500H[平均粒径5
.0μm架橋ポリスチレン粒子、屈折率1.60、綜研化学(株)製]の30wt%トル
エン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・7μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350Hと同様の組
成を有し、平均粒径7.0μm、屈折率1.60の架橋ポリスチレン粒子]の30%トル
エン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350Hと同様の組
成を有し、平均粒径8.0μm、屈折率1.60の架橋ポリスチレン粒子]の30%トル
エン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・10μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350Hと同様の
組成を有し、平均粒径10.0μm、屈折率1.60の架橋ポリスチレン粒子]の30%
トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):SX−350HL
[平均粒径3.5μm、屈折率1.55、綜研化学(株)製]の30%トルエン分散液、
ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HLと
同様の組成を有し、平均粒径5.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン粒子
]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・7μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HLと
同様の組成を有し、平均粒径7.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン粒子
]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HLと
同様の組成を有し、平均粒径8.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン粒子
]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HL
と同様の組成を有し、平均粒径10.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン
粒子]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後
使用
径3.5μm架橋ポリスチレン粒子、屈折率1.60、綜研化学(株)製]の30wt%
トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・5μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):SX−500H[平均粒径5
.0μm架橋ポリスチレン粒子、屈折率1.60、綜研化学(株)製]の30wt%トル
エン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・7μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350Hと同様の組
成を有し、平均粒径7.0μm、屈折率1.60の架橋ポリスチレン粒子]の30%トル
エン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・8μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350Hと同様の組
成を有し、平均粒径8.0μm、屈折率1.60の架橋ポリスチレン粒子]の30%トル
エン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・10μm架橋ポリスチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350Hと同様の
組成を有し、平均粒径10.0μm、屈折率1.60の架橋ポリスチレン粒子]の30%
トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・3.5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):SX−350HL
[平均粒径3.5μm、屈折率1.55、綜研化学(株)製]の30%トルエン分散液、
ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・5μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HLと
同様の組成を有し、平均粒径5.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン粒子
]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・7μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HLと
同様の組成を有し、平均粒径7.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン粒子
]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・8μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HLと
同様の組成を有し、平均粒径8.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン粒子
]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用
・10μm架橋アクリル−スチレン粒子トルエン分散液(30%):[SX−350HL
と同様の組成を有し、平均粒径10.0μm、屈折率1.55の架橋アクリル−スチレン
粒子]の30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後
使用
・X22−164C:両末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン(信越化学工業(株
)製)
・X22−169AS:両末端エポキシシクロヘキシル変性ポリジメチルシロキサン(信
越化学工業(株)製)
)製)
・X22−169AS:両末端エポキシシクロヘキシル変性ポリジメチルシロキサン(信
越化学工業(株)製)
FP−132:フッ素系表面改質剤
・JTA−113:ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含
フッ素ポリマー[固形分濃度6%、JSR(株)製]
・中空シリカ液:中空シリカゾル[CS−60 IPA、屈折率1.31、平均粒径60
nm、シェル厚み10nm、固形分濃度18.2%、触媒化成工業(株)製]をKBM−
5103表面修飾したもの表面修飾率対シリカ30質量%
フッ素ポリマー[固形分濃度6%、JSR(株)製]
・中空シリカ液:中空シリカゾル[CS−60 IPA、屈折率1.31、平均粒径60
nm、シェル厚み10nm、固形分濃度18.2%、触媒化成工業(株)製]をKBM−
5103表面修飾したもの表面修飾率対シリカ30質量%
<防眩フィルムの作成>
(1)防眩層の塗設
支持体(基材)として厚さ80μm、幅1340mm、長さ2600mのトリアセチル
セルロースフィルム“TD80U”{富士写真フイルム(株)製}をロール形態で巻き出
して、直接、各々表3に記載の防眩層用塗布液を、スロットダイを用いたダイコート法で
、搬送速度30m/分の条件で塗布し、表2に示した表面ヘイズになるように乾燥風量を
調整しながら、60℃で150秒乾燥の後、更に窒素パージ下で160W/cmの空冷メ
タルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2
、照射量250mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、防眩層を形成し、巻
き取った、但し、HCL−8とHCL−18を塗布した試料については紫外線照射後に、
130℃で8分間加熱してから巻き取った。
(1)防眩層の塗設
支持体(基材)として厚さ80μm、幅1340mm、長さ2600mのトリアセチル
セルロースフィルム“TD80U”{富士写真フイルム(株)製}をロール形態で巻き出
して、直接、各々表3に記載の防眩層用塗布液を、スロットダイを用いたダイコート法で
、搬送速度30m/分の条件で塗布し、表2に示した表面ヘイズになるように乾燥風量を
調整しながら、60℃で150秒乾燥の後、更に窒素パージ下で160W/cmの空冷メ
タルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2
、照射量250mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、防眩層を形成し、巻
き取った、但し、HCL−8とHCL−18を塗布した試料については紫外線照射後に、
130℃で8分間加熱してから巻き取った。
(2)低屈折率層の塗設
HCL−11〜18により形成した防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルム
を再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を、スロットダイを用いたダイコート法で、
搬送速度30m/分の条件で塗布し、120℃で75秒乾燥の後、更に10分乾燥させて
から窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(
株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量250mJ/cm2の紫外線を照射
し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取った。
なお、HCL−1〜10により形成した防眩層には低屈折層を塗設しなかった。
HCL−11〜18により形成した防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルム
を再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を、スロットダイを用いたダイコート法で、
搬送速度30m/分の条件で塗布し、120℃で75秒乾燥の後、更に10分乾燥させて
から窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(
株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量250mJ/cm2の紫外線を照射
し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取った。
なお、HCL−1〜10により形成した防眩層には低屈折層を塗設しなかった。
[防眩フィルムの鹸化処理]
防眩フィルム試料の作製後、これら防眩フィルム試料について次のような処理を行った
。
1.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.01m
ol/Lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した防眩フィルムをこの水酸
化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗
い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を
十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
防眩フィルム試料の作製後、これら防眩フィルム試料について次のような処理を行った
。
1.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.01m
ol/Lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した防眩フィルムをこの水酸
化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗
い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を
十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
[防眩フィルムの評価]
(1)平均反射率
分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、
入射角5°における各防眩フィルム試料の分光反射率を測定した。結果には450〜65
0nmの平均反射率を用いた。
(1)平均反射率
分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、
入射角5°における各防眩フィルム試料の分光反射率を測定した。結果には450〜65
0nmの平均反射率を用いた。
(2)スチールウール(SW)耐傷性評価
防眩フィルム試料について、ラビングテスターを用い、以下の条件でこすりテストを行
った。
評価環境条件:25℃、60%RH。
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウー
ル{日本スチールウール(株)製、「グレードNo.0000」}を巻いて、動かないよ
うバンド固定した。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:1.96N/cm2
。
先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
防眩フィルム試料について、ラビングテスターを用い、以下の条件でこすりテストを行
った。
評価環境条件:25℃、60%RH。
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウー
ル{日本スチールウール(株)製、「グレードNo.0000」}を巻いて、動かないよ
うバンド固定した。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:1.96N/cm2
。
先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の
傷を、以下の基準で評価した。
○:傷が見えない。
○△:弱い傷が見える。
△:中程度の傷が見える。
△×〜×:一目見ただけで分かる傷がある。
傷を、以下の基準で評価した。
○:傷が見えない。
○△:弱い傷が見える。
△:中程度の傷が見える。
△×〜×:一目見ただけで分かる傷がある。
(3)鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。防眩フィル
ムを温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規定する
2H〜5Hの試験用鉛筆を用いて、4.9Nの荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、
OKとなる最も高い硬度を評価値とした。
n=5の評価において傷なし〜傷1つ :OK
n=5の評価において傷が3つ以上 :NG
耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。防眩フィル
ムを温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規定する
2H〜5Hの試験用鉛筆を用いて、4.9Nの荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、
OKとなる最も高い硬度を評価値とした。
n=5の評価において傷なし〜傷1つ :OK
n=5の評価において傷が3つ以上 :NG
(4)マジック拭き取り性
防眩フィルム試料をガラス面上に粘着剤で固定し、25℃60RH%の条件下で黒マジ
ック「マッキー極細(商品名:ゼブラ(株)製)」のペン先(細)にて直径5mmの円形
を3周書き込み、5秒後に10枚重ねに折り束ねたベンコット(商品名、旭化成(株)製
)でベンコットの束がへこむ程度の荷重で20往復拭き取る。マジック痕が拭き取りで消
えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数を
求めた。上記テストを4回繰り返し、平均して下記4段階で評価した。
○:10回以上拭き取り可能。マジック痕がやや取れにくい。
△:数回〜10回未満拭き取れる。
×:1回だけ拭き取れる
××:1回も拭き取れない。
防眩フィルム試料をガラス面上に粘着剤で固定し、25℃60RH%の条件下で黒マジ
ック「マッキー極細(商品名:ゼブラ(株)製)」のペン先(細)にて直径5mmの円形
を3周書き込み、5秒後に10枚重ねに折り束ねたベンコット(商品名、旭化成(株)製
)でベンコットの束がへこむ程度の荷重で20往復拭き取る。マジック痕が拭き取りで消
えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数を
求めた。上記テストを4回繰り返し、平均して下記4段階で評価した。
○:10回以上拭き取り可能。マジック痕がやや取れにくい。
△:数回〜10回未満拭き取れる。
×:1回だけ拭き取れる
××:1回も拭き取れない。
(5)接触角
接触角計[“CA−X”型接触角計、協和界面科学(株)製]を用い、乾燥状態(20
℃/65%RH)で、液体として純水を使用して直径1.0mmの液滴を針先に作り、こ
れをフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する
点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接
触角とする。
接触角計[“CA−X”型接触角計、協和界面科学(株)製]を用い、乾燥状態(20
℃/65%RH)で、液体として純水を使用して直径1.0mmの液滴を針先に作り、こ
れをフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する
点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接
触角とする。
(6)ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ(H)、内部ヘイズ(Hi)、表面ヘ
イズ(Hs)を測定した。
1.JIS−K7136に準じて得られたフィルムの全ヘイズ(H)を測定する。
2.得られたフィルムの光拡散層の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚
さ1mmのガラス板(ミクロスライドガラス品番S 9111、MATSUNAMI製)
を2枚用いて表裏より挟んで、2枚のガラス板と得られたフィルムを完全に光学的に密着
し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリ
コーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを内部ヘイズ(Hi)として算出した。
3.上記1で測定した全ヘイズ(H)から上記2で算出した内部ヘイズ(Hi)を引いた
値をフィルムの表面ヘイズ(Hs)として算出した。
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ(H)、内部ヘイズ(Hi)、表面ヘ
イズ(Hs)を測定した。
1.JIS−K7136に準じて得られたフィルムの全ヘイズ(H)を測定する。
2.得られたフィルムの光拡散層の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚
さ1mmのガラス板(ミクロスライドガラス品番S 9111、MATSUNAMI製)
を2枚用いて表裏より挟んで、2枚のガラス板と得られたフィルムを完全に光学的に密着
し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリ
コーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを内部ヘイズ(Hi)として算出した。
3.上記1で測定した全ヘイズ(H)から上記2で算出した内部ヘイズ(Hi)を引いた
値をフィルムの表面ヘイズ(Hs)として算出した。
(7)白ボケ
作製した防眩フィルムを23インチ液晶TV上に配置し、前面を黒表示とし、暗室にて
ルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m2)を上方60度角度から映し、正面
から目視した際の面全体の白光り状態(白ボケ)を以下の基準に従って評価を行った。
◎:白ボケが気にならなく、好ましい。
○:白ボケが僅か分かるが、比較的好ましい。
△:白ボケが若干気になる。
×:白ボケが目立ち、好ましくない。
作製した防眩フィルムを23インチ液晶TV上に配置し、前面を黒表示とし、暗室にて
ルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m2)を上方60度角度から映し、正面
から目視した際の面全体の白光り状態(白ボケ)を以下の基準に従って評価を行った。
◎:白ボケが気にならなく、好ましい。
○:白ボケが僅か分かるが、比較的好ましい。
△:白ボケが若干気になる。
×:白ボケが目立ち、好ましくない。
表2に示される結果より、以下のことが明らかである。
光拡散性粒子の平均粒子径を3.5μm、膜厚6μm(比較例1−1)を出発処方とし
て、膜厚を12μmに上げると(比較例1−3)鉛筆硬度は4Hに改善できるが、内部ヘ
イズが60%に上昇してしまう。これに対して光拡散性粒子の含有量を下げて内部ヘイズ
を調整することができるが、白ボケが悪化し許容範囲外となる。(比較例1−2)
光拡散性粒子の平均粒子径を5μm以上にし、粒子含有量を3%以上とすることで、鉛
筆硬度、内部ヘイズ、白ボケが良好な防汚性防眩フィルムが得られる。(実施例1−1〜
1−8)
同様に防眩層の上に低屈折率層を積層した光拡散性粒子の平均粒径が5〜15μm、防
眩層の膜厚を8〜40μmとすることで、鉛筆硬度、内部ヘイズ、白ボケが良好で、反射
率の低い、防眩性反射防止フィルムが得られる。(実施例1−11〜1−17)
光拡散性粒子の平均粒子径を3.5μm、膜厚6μm(比較例1−1)を出発処方とし
て、膜厚を12μmに上げると(比較例1−3)鉛筆硬度は4Hに改善できるが、内部ヘ
イズが60%に上昇してしまう。これに対して光拡散性粒子の含有量を下げて内部ヘイズ
を調整することができるが、白ボケが悪化し許容範囲外となる。(比較例1−2)
光拡散性粒子の平均粒子径を5μm以上にし、粒子含有量を3%以上とすることで、鉛
筆硬度、内部ヘイズ、白ボケが良好な防汚性防眩フィルムが得られる。(実施例1−1〜
1−8)
同様に防眩層の上に低屈折率層を積層した光拡散性粒子の平均粒径が5〜15μm、防
眩層の膜厚を8〜40μmとすることで、鉛筆硬度、内部ヘイズ、白ボケが良好で、反射
率の低い、防眩性反射防止フィルムが得られる。(実施例1−11〜1−17)
<偏光板の作製>
実施例2−1〜2−15
次に、実施例の本発明の防眩フィルム試料101〜115をそれぞれ、1.5mol/
L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した、80μmの厚さの
トリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)を
ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護
して作製した偏光板と貼り合わせて防眩フィルム付き偏光板をそれぞれ作製した。この偏
光板を用いて防眩層または低屈折率層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ
、外光の映り込みが少なく、反射像が目立たず、優れた視認性を有していた。
実施例2−1〜2−15
次に、実施例の本発明の防眩フィルム試料101〜115をそれぞれ、1.5mol/
L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した、80μmの厚さの
トリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)を
ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護
して作製した偏光板と貼り合わせて防眩フィルム付き偏光板をそれぞれ作製した。この偏
光板を用いて防眩層または低屈折率層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ
、外光の映り込みが少なく、反射像が目立たず、優れた視認性を有していた。
実施例3
濃度1.5mol/Lで、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬した後、中和、水洗
した80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士写
真フイルム(株)製}と、実施例1−13の防眩性反射防止フィルム試料111とを、ポ
リビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光膜の両面に接着、保護し
て偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、低屈折率層側が最表面となるよ
うに透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置{偏光選択層を有する
偏光分離フィルムである住友3M(株)製“D−BEF”をバックライトと液晶セルとの
間に有する}の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表
示品位の非常に高く、防汚性にすぐれた表示装置が得られた。
濃度1.5mol/Lで、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬した後、中和、水洗
した80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士写
真フイルム(株)製}と、実施例1−13の防眩性反射防止フィルム試料111とを、ポ
リビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光膜の両面に接着、保護し
て偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、低屈折率層側が最表面となるよ
うに透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置{偏光選択層を有する
偏光分離フィルムである住友3M(株)製“D−BEF”をバックライトと液晶セルとの
間に有する}の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表
示品位の非常に高く、防汚性にすぐれた表示装置が得られた。
<液晶表示装置>
実施例4
実施例2−1〜2−15の本発明試料を貼りつけた透過型TN液晶セルの視認側の偏光
板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィ
ルムとして、視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムSA 12B」{富士写真フイ
ルム(株)製}を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ上下左右の視野角が
非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
実施例4
実施例2−1〜2−15の本発明試料を貼りつけた透過型TN液晶セルの視認側の偏光
板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィ
ルムとして、視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムSA 12B」{富士写真フイ
ルム(株)製}を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ上下左右の視野角が
非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
1 フィルム(防眩性反射防止フィルム)
2 透明支持体
3 防眩層
4 低屈折率層
5 透光性微粒子
2 透明支持体
3 防眩層
4 低屈折率層
5 透光性微粒子
Claims (11)
- 透明プラスチックフィルム基材上に、少なくとも1種の透光性樹脂と少なくとも1種の
光拡散性粒子とを含有する防眩層を有する光学フィルムであって、該光拡散性粒子の平均
粒子径が4〜15μmであり、該防眩層の平均膜厚が8〜40μmであり、且つ防眩層の
設けられた側の表面ヘイズが3〜20%であることを特徴とする防眩フィルム。 - 荷重4.9Nの鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とする請求項1に記載の防眩フィ
ルム。 - 内部ヘイズが55%以下であることを特徴とする請求項1〜2の何れかに記載の防眩フ
ィルム。 - 前記光拡散性粒子が樹脂粒子であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の防
眩フィルム。 - 前記防眩層中の全固形分に対する前記光拡散性粒子の含有量が3〜30質量%であるこ
とを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の防眩フィルム。 - 前記防眩層が、前記光拡散性微粒子、前記防眩層全固形分に対して5〜20質量%の高
分子増粘剤、および活性エネルギー線硬化性化合物を含有する組成物より形成されている
ことを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の防眩フィルム。 - 前記防眩層の上に屈折率が前記透明プラスチックフィルム基材より低い低屈折率層を含
有することを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の防眩フィルム。 - 請求項1〜7の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの少なくとも一
方に用いたことを特徴とする偏光板。 - 請求項1〜7の何れかに記載の防眩フィルムを、偏光膜の保護フィルムの一方に、光学
異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたことを特徴と
する偏光板。 - 請求項1〜7の何れかに記載の防眩フィルム、及び請求項8〜9の何れかに記載の偏光
板のうち少なくとも一つが画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。 - 前記画像表示装置が、TN、STN、IPS、VA及びOCBの何れかのモードの透過
型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする請求項10に記載の画像
表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006276194A JP2007133384A (ja) | 2005-10-13 | 2006-10-10 | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005299130 | 2005-10-13 | ||
| JP2006276194A JP2007133384A (ja) | 2005-10-13 | 2006-10-10 | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007133384A true JP2007133384A (ja) | 2007-05-31 |
Family
ID=38155048
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006276194A Pending JP2007133384A (ja) | 2005-10-13 | 2006-10-10 | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007133384A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009107634A1 (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 住友化学株式会社 | 防眩性偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2009229701A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Toppan Printing Co Ltd | 光学フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
| JP2010032916A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Fujifilm Corp | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
| WO2010035761A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | 凸版印刷株式会社 | 防眩フィルム、防眩性偏光板及びその製造方法並びに透過型液晶ディスプレイ |
| JP2011232546A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 光学積層体、偏光板および表示装置 |
| JP2011232683A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 光学積層体、偏光板および表示装置 |
| WO2013002353A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | 日東電工株式会社 | 防眩性フィルム、偏光板、画像表示装置および防眩性フィルムの製造方法 |
| JP5505309B2 (ja) * | 2008-11-11 | 2014-05-28 | 大日本印刷株式会社 | 光学シート |
| KR101604514B1 (ko) | 2010-03-18 | 2016-03-17 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 방현성 필름, 방현성 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치 |
| KR101751543B1 (ko) * | 2009-02-10 | 2017-07-11 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 편광판, 및 그것을 이용한 액정 패널 및 액정 표시 장치 |
| KR20170091756A (ko) * | 2009-04-15 | 2017-08-09 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광 구조체 및 이를 포함하는 디스플레이 시스템 |
| KR101807910B1 (ko) * | 2014-08-29 | 2017-12-11 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 이의 제조방법. |
| CN111435181A (zh) * | 2019-05-24 | 2020-07-21 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种调光片及其制备方法 |
-
2006
- 2006-10-10 JP JP2006276194A patent/JP2007133384A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009107634A1 (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 住友化学株式会社 | 防眩性偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2009229701A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Toppan Printing Co Ltd | 光学フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
| JP2010032916A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Fujifilm Corp | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
| US8705174B2 (en) | 2008-07-30 | 2014-04-22 | Fujifilm Corporation | Antiglare film, polarizing plate, and image display device |
| JP5434923B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2014-03-05 | 凸版印刷株式会社 | 防眩フィルム、防眩性偏光板及びその製造方法並びに透過型液晶ディスプレイ |
| WO2010035761A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | 凸版印刷株式会社 | 防眩フィルム、防眩性偏光板及びその製造方法並びに透過型液晶ディスプレイ |
| US8345202B2 (en) | 2008-09-25 | 2013-01-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | Antiglare film, manufacturing method thereof, and transmissive liquid crystal display |
| JP5505309B2 (ja) * | 2008-11-11 | 2014-05-28 | 大日本印刷株式会社 | 光学シート |
| KR101751543B1 (ko) * | 2009-02-10 | 2017-07-11 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 편광판, 및 그것을 이용한 액정 패널 및 액정 표시 장치 |
| KR20170091756A (ko) * | 2009-04-15 | 2017-08-09 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광 구조체 및 이를 포함하는 디스플레이 시스템 |
| KR102064821B1 (ko) | 2009-04-15 | 2020-01-13 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광 구조체 및 이를 포함하는 디스플레이 시스템 |
| KR101604514B1 (ko) | 2010-03-18 | 2016-03-17 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 방현성 필름, 방현성 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치 |
| JP2011232546A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 光学積層体、偏光板および表示装置 |
| JP2011232683A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 光学積層体、偏光板および表示装置 |
| WO2013002353A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | 日東電工株式会社 | 防眩性フィルム、偏光板、画像表示装置および防眩性フィルムの製造方法 |
| KR101807910B1 (ko) * | 2014-08-29 | 2017-12-11 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 이의 제조방법. |
| CN111435181A (zh) * | 2019-05-24 | 2020-07-21 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种调光片及其制备方法 |
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