JP2006053538A - 反射防止フィルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転及び色相変化等がほとんど発生せず、色ムラ、耐傷性が向上した反射防止フィルム、その製造方法を提供する。
【解決手段】内部ヘイズが３０乃至６０％かつ表面ヘイズ値が１％以下であり、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下の透明支持体上に光拡散性層と低屈折率層を有する反射防止フィルム。スロットダイ１３のウェブＷ進行方向側の先端リップ１７のウェブＷ走行方向におけるランド１８長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイ１３を有し、前記スロットダイ１３を塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップ１７とウェブＷとを、両者の隙間が、前記ウェブＷの進行方向側の先端リップ１７とウェブＷとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いる。
【選択図】図８

Description

この発明は、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン等の画像表示に用いるＣＲＴ、液晶パネル等の高精細画像用ディスプレイに関する。特に、表示品位の向上を図り高精細な描画画像で大画面サイズの液晶表示装置、及びそれに用いる偏光板、反射防止フィルムに関する。

一般に液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。
液晶セルは、一般的な例として、棒状液晶分子、それを封入するための二枚の基板および棒状液晶分子に電圧を加えるための電極からなりたっている。液晶セルは、棒状液晶分子の配向状態の違いにより、透過型については、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Super TwistedNematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）、反射型については、ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。

液晶表示装置の表示品位上の欠点は、視野角と外光の写り込みである。
視野角に関しては、現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置において光学補償フィルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、極めて広視野角の液晶表示装置が実現されている（例えば、特許文献１、２、３）。しかしながら、上記液晶表示装置ではパネルの下方向の階調反転が生じるという問題が残っていた。

又、上記のような液晶表示装置において、主として内部から出射する光が表示装置表面で拡散することなく直進すると、液晶表示装置の画像表面を目視した場合に眩しいために、内部から出射する光をある程度拡散する、或は外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する光拡散性をもつ光学機能フィルムを反射防止フィルムとして表示装置の最表面に配置する。最表面に配置されることから偏光膜の保護フィルムとしての機能を併せ持つものが提案されている。例えば安価、かつ大量生産可能な光拡散性をもつフィルムとしては、透明基材フィルム（以下、透明支持体とも称する。）の表面に二酸化ケイ素（シリカ）等のフィラーを含む樹脂を塗工して形成したもの（特許文献４、５等）、防眩層が透光性樹脂中に、透光性樹脂とは屈折率が所定の範囲で異なる透光性粒子を含み、その透光性微粒子が屈折率の差を有する２種類であるように構成するもの（特許文献６）、防眩層が、透光性樹脂中に透光性樹脂とは屈折率が所定の範囲で異なる粒子とマット粒子の各透光性粒子を含むように構成するもの（特許文献７）、防眩層が樹脂と屈折率差のある粒子を含み表面の凹凸形状のＲａ及びＲｚを規定し、明室での防眩性と面ギラの防止の両立を図ったもの（特許文献８）等が開示されている。
特開平８-５０２０６号公報 特開平７-１９１２１７号公報 欧州特許出願公開第０９１１６５６号明細書 特開平６-１８７０６号公報 特開平１０-２０１０３号公報 特開２０００-１８０６１１号公報 特開２００３-４３２１８号公報 特開２０００-３３８３１０号公報

しかしながら、これら明細書に記載の反射防止フィルムを上記の各液晶表示モードの表示装置に設けても、防眩性や反射防止性に有効性はみられるが、視認角度が変わるとコントラストの低下や画像の色味の変化等が起こる問題や、明室でフィルム表面が白くなる白ボケの問題は解消されなかった。
このように、これら従来の反射防止フィルムは上述のような視野角の問題を完全に解決しうるものではなく、外光の写り込みに優れ、白呆け無く、かつ視野角の問題を解決でき、最表面に配置しても耐傷性に優れた反射防止フィルムが望まれていた。
又、近年、液晶表示装置としての液晶表示モードとして、ＴＮモードとともにＩＰＳモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード等の描画画像の品位向上が強く望まれている。特に、表示画像が大型化された表示装置において、コントラストが大きくて色味の変化の無い高画像品位の実現が望まれている。
また、反射防止フィルム製造時の塗布方式としては、ディップコート法、マイクログラビア法、リバースロールコート法などが主に用いられてきた。ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法、マイクログラビア法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。さらに、マイクログラビア法ではグラビアロールの製作精度や、ブレードとグラビアロールの当たりによるロールやブレードの経時変化により塗布量ムラを発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が比較的困難である。また前計量塗布方式として、ダイコート法により反射防止フィルムを塗布する方法が提案されているが、反射防止層のような薄層塗布では透明支持体の搬送方向と垂直及び並行な向きに発生する膜厚ムラが顕著に発生し、膜厚の安定性を保つことが難しかった。
これら反射防止層の膜厚ムラは、色ムラとして目視で検出されてしまい、品質を損なう大きな問題であり、この安定化が望まれていた。

本発明の目的は、液晶パネルの厚みを厚くすることなく、視野角（特に下方向視野角）が拡大し、そして視角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することのなく、さらに色ムラ、耐傷性が向上した反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法およびこれを用いた偏光板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、コントラストが良好で広い視野角を有し、且つパネルの下方向の階調反転、色相変化および外光の写り込み防止を高度に実現できる液晶表示装置を提供することにある。

本発明の目的は下記の内容により達成された。
（１） 透明支持体上に光拡散性層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、光拡散性層の内部ヘイズが３０乃至６０％かつ表面ヘイズ値が２％以下であり、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
（２） 表面ヘイズ値が１％以下であることを特徴とする上記（１）に記載の反射防止フィルム。
（３） ＪＩＳＫ５６００-７-７：１９９９に基づく耐候性試験前後の反射光の色味変化ΔＥがＬ^*ａ^*ｂ^*色度図上で１５以下であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。
（４） 前記低屈折率層の表面エネルギーが２６ｍＮ／ｍ以下で、且つ動摩擦係数が０．２５以下であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（５） 前記光拡散性層が透光性樹脂と少なくとも２種類以上の透光性微粒子を含み、
該透光性樹脂と該透光性微粒子との屈折率の差が０．０２以上、０．２０以下であり、且つ、前記２種類以上の透光性微粒子が屈折率の差を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６） 前記低屈折率層が含フッ素化合物を含有する屈折率１．３１以上１．４８以下の低屈折率層であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（７） 前記低屈折率層が、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰り返し単位と側鎖にラジカル重合性基を有する繰り返し単位とを含んでなる共重合体からなる硬化皮膜であることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（８） 前記反射防止フィルムが、さらに導電性層を有することを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（９） バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布液を塗布する塗布工程を具備し、
前記塗布工程において、塗布液の塗布は、前記スロットダイのウェブ進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイを有し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブとを、両者の隙間が、前記ウェブの進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて、前記光拡散性層及び前記低屈折率層の少なくともいずれかの塗布液が塗布されることを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
（１０） 前記塗布液の塗布時における粘度が２.０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下であり、ウェブの表面に塗り付けられる塗布液の量が２.０〜５.０［ｍｌ／ｍ²］であることを特徴
とする上記（９）に記載の反射防止フィルムの製造方法
（１１） 前記塗布液を、連続走行するウェブの表面に２５［ｍ／ｍｉｎ］以上の速度で塗設することを特徴とする上記（９）または（１０）に記載の反射防止フィルムの製造方法
（１２） 上記（１）〜（８）のいずれかに記載の反射防止フィルムあるいは上記（９）〜（１１）のいずれかに記載の製造方法により作製した反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルムの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
（１３） 上記（１）〜（８）のいずれかに記載の反射防止フィルムあるいは上記（９）〜（１１）のいずれかに記載の製造方法により作製した反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたことを特徴とする偏光板。

（１４） 少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該基板間に挟持された液晶層と、該液晶層の外側の視認側最表面に配置された偏光板とを有する液晶表示装置であって、前記偏光板が上記（１２）または（１３）に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
（１５） 上記の液晶表示装置が、ＩＰＳ（In-Plane Switching）液晶表示装置、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）液晶表示装置またはＶＡ（Vertically Aligned）液晶表示装置であることを特徴とする上記（１４）に記載の液晶表示装置。
（１６） 表示画像の大きさが２０インチ以上であることを特徴とする上記（１４）または（１５）のいずれかに記載の液晶表示装置。

光拡散性層の内部ヘイズを３０乃至６０％かつ表面ヘイズ値が２％以下で、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下にすることにより、画面が白っぽく
見えたり画像表示のボケを生じたりすることのない画像鮮明性と、視角変化による、コントラスト低下および色相変化等が充分に抑えられた、外光の写り込みや画面のギラツキの無い、反射防止性に優れた、高い画像表示品位を達成することができる。ヘイズ値および反射率の上記範囲への調節については、後記する＜透光性微粒子＞、＜透光性樹脂＞に詳述する。
また、ＪＩＳＫ５６００-７-７：１９９９に基づく耐候性試験前後の反射色見変化ΔＥがＬ^*ａ^*ｂ^*色度図上で１５以下であることにより、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、表示画像の品位が良好となる。
このようなニュートラルな色味の反射光を有し、且つ低反射率を有する反射防止フィルムは、低屈折率層の屈折率と光拡散性層の透光性樹脂の屈折率のバランスを最適化すること、光拡散性層の高屈折率金属酸化物超微粒子が単分散性良好で層中に均質に分散されるようにすること等により達成される。
更には、該保護膜の最表面が表面エネルギー２６ｍＮ／ｍ以下であり、且つ動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。好ましくは、表面エネルギー１５〜２５．８ｍＮ／ｍであり、且つ動摩擦係数が０．０５〜０．１５である。この範囲において、保護フィルムとしての防汚性が良好となる。表面エネルギーの調整は、＜低屈折率層＞に詳述する。

本明細書中に詳記した、反射防止フィルムおよび偏光板により、パネルの厚みを厚くすることなく、視野角（特に下方向視野角）が拡大し、そして視角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することのなく、さらに耐傷性が向上した反射防止フィルムおよび偏光板を提供することができる。
また、本明細書中に詳記した、反射防止フィルムおよび偏光板により、コントラストが良好で広い視野角を有し、且つパネルの下方向の階調反転、色相変化および外光の写り込み防止を高度に実現した液晶表示装置を提供できる。

以下、本発明について、詳細に説明する。なお、本願明細書において、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。

＜反射防止フィルム＞
本発明の反射防止フィルムは光拡散性層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、光拡散性層の内部ヘイズが３０乃至６０％であることを特徴とする。好ましくは、内部ヘイズは４０乃至５０％である。また、表面ヘイズが２％以下であり、好ましくは１％以下である。
ヘイズ値は、ＪＩＳ-Ｋ-７１０５に準じヘイズメーター（例えば、日本電色工業（株）製ＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ、村上色彩技術研究所製ＨＲ-１００等）を用いて測定できる。
更に本発明の反射防止フィルムは、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下である。
平均反射率は３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角-５度の鏡面反射率を分光光度測定装置で測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出する。
５度入射における鏡面反射率は、サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する法線方向-５度で反射した光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度になる。
反射防止フィルムの光学特性をこのような範囲に特定することで、画面が白っぽく見えたり画像表示のボケを生じたりすることのない画像鮮明性と、視野角変化による、コント
ラスト低下および色相変化等が充分に抑えられた、外光の写り込みや画面のギラツキの無い、反射防止性に優れた、高い画像表示品位を達成することができる。
更には、該反射防止フィルムの最表面が表面エネルギー２６ｍＮ／ｍ以下であり、且つ動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。好ましくは、表面エネルギー１５〜２５．８ｍＮ／ｍであり、且つ動摩擦係数が０．０５〜０．１５である。この範囲において、保護フィルムとしての防汚性が良好となる。

本発明の実施態様の例としては、図１に示すように、反射防止フィルムＡ１０は、透明支持体フィルムＡ１２と、透光性樹脂Ａ１４中に例えば第１の透光性微粒子Ａ１６及び第２の透光性微粒子Ａ４６とを含む光拡散性層Ａ１８と、最外層に含フッ素材料を含有する低屈折率層Ａ１９を積層してなることが好ましい。
前記透明支持体フィルムＡ１２は、トリアセチルセルロースフィルム（以下、ＴＡＣとも称する。）等の樹脂フィルムであり、透光性樹脂Ａ１４は、透明支持体フィルムＡ１２へ塗布後に硬化することで形成される。

＜光拡散性層＞
光拡散性層は複数の層からなっていてもよい。ここでは２種類の異なる屈折率を有する透光性微粒子にて説明を行なうが、２種類以上の透光性微粒子を用いてもよい。

＜透光性微粒子＞
２種類の異なる屈折率を有する透光性微粒子は、単分散の有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなりヘイズ価の設計が容易となる。
前記透光性微粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、透光性樹脂との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率１．４９）、アクリル-スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５４）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン-メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率１．６８）等が挙げられる。
無機微粒子としては、シリカビーズ（屈折率１．４４）、アルミナビーズ（屈折率１．６３）等が挙げられる。

２種類の異なる屈折率を有する透光性微粒子と透光性樹脂との屈折率の差は０．０２以上、０．２０以下が好ましい。防眩性の関点から、屈折率差が０．０２未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光拡散効果を得られず、又屈折率差が０．２よりも大きい場合は、光拡散性が高すぎて、フィルム全体が白化してしまう。なお、前記屈折率差は、０．０２以上、０．１１以下がより好ましく、０．０３以上、０．０９以下が最も良い。

前記透光性微粒子において、２種類以上の異なる屈折率を有する透光性微粒子を用い、それら透光性微粒子の混合を行なうことにより、透光性微粒子の屈折率を、それぞれの透光性微粒子の屈折率と比率とに応じた平均値として見なすことができ、透光性微粒子の混合比により細かい屈折率設定が可能となり、１種類の場合よりも充分制御が可能となり、様々な設計が容易となる。

２種類の異なる屈折率を有する透光性微粒子の粒径は１．０μｍ以上５．０μｍ以下が好ましい。１．０μｍ未満の場合、透光性樹脂に添加すべき透光性微粒子の添加量を非常に大きくしないと光拡散効果が得られなくなり、粒径が５．０μｍを超えるときは、光拡散性層の表面形状が粗くなり、ヘイズ値が高くなってしまう。さらに好ましくは、透光性微粒子の直径は２．０μｍ以上、４．０μｍ以下である。

２種類の異なる屈折率を有する透光性微粒子の粒径は、前述のように１〜５μｍのものを適宜選択して用いるとよく、透光性樹脂１００質量部に対して５〜３０質量部含有させるとよい。この場合、第１の透光性微粒子と第２の透光性微粒子の粒径を揃えることにより、第１の透光性微粒子と第２の透光性微粒子の比率を自由に選択して用いることができる。第１の透光性微粒子と第２の透光性微粒子との粒径を揃えるためには粒径が整っている単分散有機微粒子が好ましく用いられる。

上記のような透光性微粒子を添加する場合には、透光性樹脂中で透光性微粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性微粒子の沈降防止に有効であるが、光拡散性層の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して光拡散性層の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。

＜透光性樹脂＞
前記光拡散性層を形成する透光性樹脂としては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が好適に使用される。又、厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに２μｍ〜１０μｍが好ましい。透光性樹脂の屈折率は、好ましくは１．５１〜２．００であり、より好ましくは１．５１〜１．９０であり、更に好ましくは１．５１〜１．８５であり、特に好ましくは１．５１〜１．８０である。なお、透光性樹脂の屈折率は、透光性微粒子を含まずに測定した値である。

電離放射線硬化型樹脂組成物は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する。）などのオリゴマー又はプレポリマー、及び反応性希釈剤を比較的多量に含む電離放射線硬化型樹脂を含有して構成される。
上記反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ-ビニルピロリドンなどの単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどがあげられる。

更に、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α-アミロキシムエステル、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ-ブチルホスフィンなどを混合して使用することができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。

更に、上記光拡散性層を形成するための透光性樹脂として、上記のような電離放射線硬化型樹脂に対して熱可塑性樹脂を含ませてもよい。前記熱可塑性樹脂には、主として、熱
可塑性樹脂例えば、セノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂に添加する熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるもののいずれも使用してもよいが、透明支持体フィルムとして特に前述のようなＴＡＣ等のセルロース系樹脂を用いるときには、電離放射線硬化型樹脂に含ませる熱可塑性樹脂には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び透明性の点で好ましい。
熱硬化型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
熱硬化型樹脂に必要に応じて、架橋剤（エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等）、重合開始剤（アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物等）等の硬化剤、重合促進剤（有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等）等の従来公知の化合物（硬化剤、硬化促進剤）を加えて使用してもよい。具体的には、例えば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」（大成社、１９８１年刊）記載の化合物が挙げられる。これらの硬化剤は用いる熱硬化型樹脂に対して０．０１〜３０質量％を用いることが好ましい。

透光性樹脂は、上記組成物に加えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有することが好ましい。高屈折率モノマーの例としては、ビス（４-メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４-メタクリロキシフェニル-４'-メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。

高屈折率を有する金属酸化物超微粒子は、屈折率が１．７０〜２．８０、一次粒子の平均粒径が３〜１５０ｎｍのもが好ましい。屈折率が１．７０未満の粒子では、皮膜の屈折率を高める効果が小さく、屈折率が２．８０を越える粒子は着色しているため好ましくない。また、一次粒子の平均粒径が１５０ｎｍを越える粒子では光拡散性層を形成したときのヘイズ値が高くなり、光拡散性層の透明性を損なうので好ましくなく、３ｎｍ未満では高い屈折率の保持の点で好ましくない。本発明で、より好ましい金属酸化物超微粒子は屈折率が１．８０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が３〜１００ｎｍの粒子であり、更に好ましくは屈折率が１．８０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が５〜８０ｎｍの粒子である。
好ましい高屈折率金属酸化物超微粒子の具体例は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ，Ｌａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物或は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分をさす。本発明で好ましいのはＴｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物若しくは複合酸化物を主成分とする粒子である。本発明で使用される金属酸化物超微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない。例えば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓなどが挙げられる。
具体例としては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ₂が好ましく用いられる。

本発明の金属酸化物超微粒子は、表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物及び／又は有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施し、金属酸化物超微粒子表面の濡れ性を
調製し有機溶媒中での微粒子化、光拡散性層形成用組成物中での分散性や分散安定性を向上する。粒子表面に物理化学的な吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ₂など）、アルミニウムを含有する無機化合物（Ａｌ₂Ｏ₃，Ａｌ（ＯＨ）₃など）、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ₂，Ｃｏ₂Ｏ₃，Ｃｏ₃Ｏ₄など）、ジルコニウムを含有する無機化合物（ＺｒＯ₂，Ｚｒ（ＯＨ）₄など）、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ₂Ｏ₃など）などが挙げられる。
表面処理に用いる有機化合物の例としては、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤が挙げられる。
例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。

具体的には、該金属酸化物超微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物があげられる。金属酸化物超微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等があげられ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物（例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート等）、ホスホノ基含有化合物（例えばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリアクリレート等）、アルカノールアミン（エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等）が挙げれる。カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開２００２-９９０８号公報同２００１-３１０４２３号公報明細書中の段落番号「００１１」〜「００１５」記載の化合物等が挙げられる。

高屈折率を有するモノマーおよび／または金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

また前記光拡散性層は、界面結合剤として、下記一般式[Ａ]で表される（メタ）アクリロイル基含有オルガノシランを含有することが好ましい。

一般式[Ａ]
（Ｒ¹⁰）α-Ｓｉ（Ｘ）_4-α

式中、Ｒ¹⁰はラジカル重合性基またはカチオン重合性基を含む脂肪族基もしくはアリール基を表し、Ｒ¹⁰は（メタ）アクリロイル基を含む、脂肪族基もしくはアリール基が好ましい。
Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。
αは１〜３の整数を表す。

脂肪族基としては、好ましくは、置換もしくは無置換の炭素数１〜３０脂肪族基、具体的には、炭素数１〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ナノデシル基、エイコサニル基、ヘネイコサニル基、ドコサニル基等）、炭素数２〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルケニル基（例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニ
ル基、オクタデセニル基、エイコセニル基、ドコセニル基、ブタジエニル基、ペンタジエニル基、ヘキサジエニル基、オクタジエニル基等）、炭素数２〜２２の直鎖状若しくは分岐状のアルキニル基（例えば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ヘキシニル基、オクタニル基、デカニル基、ドデカニル基等）、炭素数５〜２２の脂環式炭化水素基（脂環式炭化水素基としては、単環式、多環式、架橋環式の脂肪族環状炭化水素基が挙げられ、その具体例としては、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、シクロへプタジエン、シクロオクタン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、シクロソナン、シクロソネン、シクロデカン、シクロデセン、シクロデカンジエン、シクロデカトリエン、シクロウンデカン、シクロドデカン、ビシクロヘプタン、ビシクロヘキサン、ビシクロヘキセン、トリシクロヘキセン、ノルカラン、ノルピナン、ノルボルナン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、トリシクロヘプタン、トリシクロヘプテン、デカリン、アダマンタン等の環構造炭化水素等）が挙げられる。
より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは１〜８のものである。

アリール基としては好ましくは、置換もしくは無置換の炭素数６〜１４のアリール基、具体的にはフェニル、ナフチル、アントリル等の基が挙げられ、好ましくはフェニル基である。

上記の脂肪族基もしくはアリール基は、（メタ）アクリロイル基以外の他の置換基を有してもよい。特に制限はないが、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アミノ基、アミド基、アルカンスルホニル基、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数２〜１８のアルキニル基、炭素数５〜１０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４のアリール基（アリール環としては、ベンゼン、ナフタレン、ジヒドロナフタレン、インデン、フルオレン、アセナフチレン、アセナフテン、ビフェニレン等）、酸素原子、硫黄原子、窒素原子のいずれかを少なくとも１個含有する単環式若しくは多環式の環構造を有する複素環基（複素環基としては、例えば、フラニル基、テトラヒドロフラニル基、ピラニル基、ピロイル基、クロメニル基、フェノキサチイニル基、インダゾイル基、ピラゾイル基、ピリジイル基、ピラジニル基、ピリミデイニル基、インドイル基、イソインドイル基、キノニイル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基等）等が挙げられる。
前記のアルケニル基、アルキニル基、脂環式炭化水素基、アリール基、複素環基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、前記の脂肪族基もしくはアリール基に導入し得る基として例示したものと同様のものが挙げられる。

Ｘで表される加水分解可能な基としては、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、ＯＲ²基、ＯＣＯＲ²基を表す。但し、Ｒ²は置換もしくは無置換のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）を表す。Ｘは好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。

界面結合剤の添加により本発明の反射防止フィルムの耐擦傷性を向上させることができ好ましい。界面結合剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。

特に、ＫＢＭ-５１０３（Ｍ-１）およびＫＢＭ-５０３（共に信越化学（株）製）等が
好ましい化合物として挙げられる。

更に、前記光拡散性層に界面活性剤を添加することにより、本発明の反射防止フィルムの面状均一性を向上させることができ、好ましい。界面活性剤としては、例えば炭素数６〜１２のパーフルオロアルキル基置換（メタ）アクリレート共重合体もしくは末端にＨＣＦ2-基を有する炭素数６〜１２のフルオロアルキル基置換（メタ）アクリレート共重合体、炭素数６〜１２のパーフルオロビニルエーテル共重合体もしくは末端にＨＣＦ2-基を有する炭素数６〜１２のフルオロアルキルビニルエーテル等が挙げられる。

次に、透明支持体フィルムの面に、光拡散性層を形成する過程について説明する。

本発明において、光拡散性層の塗布溶媒は、水、有機溶媒から適宜選択して用いることができ、沸点が５０℃以上の液体であることが好ましく、沸点が６０℃〜１８０℃の範囲の有機溶媒であることがより好ましい。
分散媒体としては、アルコール類、ケトン類、エステル類アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。具体的には、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等）、ケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル、等）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチルクロロホルム等）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ-メチルピロリドン等）、エーテル（例、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等）、エーテルアルコール（例、１-メトキシ-２-プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等）が挙げられる。単独でも２種以上を混合して使用してもよい。好ましい分散媒体としては、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられる。

光拡散性層は、後述する透明支持体上に本発明の光拡散性層形成用組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法等の公知の薄膜形成方法で塗布し該第１の透光性微粒子及び第２の透光性微粒子による透光性樹脂表面の凹凸形状が充分に形成されるまで放置、乾燥、光及び／又は熱照射することにより作製することができる。好ましくは、光照射による硬化が、迅速硬化することから有利である。更には、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。乾燥は室温付近の低温で送風乾燥してもよく、加熱して乾燥してもよい。加熱する場合の温度は、４０〜１８０℃であり、８０〜１５０℃が好ましい。乾燥時間は０．５〜６０分が好ましい。

光照射の光源は電子線、紫外線光域或いは近赤外線光のものであればいずれでもよい。
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が挙げられ、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が挙げられる。紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３
５０〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０〜１４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
光照射による光ラジカル重合の場合は、空気又は不活性気体中で行なうことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。照射する紫外線の照射強度は、０．１〜１００ｍＷ／ｃｍ²程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３℃以内が好ましく、更には±１．５℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。

このようにすると、第１の透光性微粒子及び第２の透光性微粒子による凹凸が形成された光拡散性層とすることができる。ここでは、そして図１では、凹凸が形成されたものを示したが、凹凸が形成されない光拡散性層であっても良い。

また、光拡散性層の表面に賦型加工或いは鏡面加工を施しても良い。

＜低屈折率層＞
低屈折率層は、反射防止性を付与する目的で、透明支持体上に光拡散性層を設けた側の最外層に設けられる。
低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．３５〜１．４５である。
低屈折率層が後述の含フッ素化合物を含有する場合、屈折率１．３１以上１．４８以下であることが好ましい。
低屈折率層の屈折率は、下記数式（Ｉ）を満すことが好ましい。

数式（Ｉ）
（ｍλ／４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍλ／４）×１．３

式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、４５０〜６５０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
低屈折率層を設置する方法としては、従来公知のいずれの方法でもよいが、蒸着、スパッタ、ＣＶＤおよび塗布による方法が好ましく用いられる。塗布法にはゾル-ゲル法、および下記に示す硬化法があげられる。

本発明の低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適宜適用できる。含フッ素化合物を含有することが好ましい。特に、本発明の低屈折率層には、熱硬化性または電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物を主体とする硬化した含フッ素樹脂が好ましく用いられる。

本発明において、「含フッ素化合物を主体とする」とは、最外層中に含まれる含フッ素化合物が最外層の全質量に対し、５０質量％以上であることを意味し、６０質量％以上含まれることがより好ましい。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは
１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含むことが好ましい。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテル、含フッ素シラン化合物等が挙げられる。具体的には、例えば特開平９-２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１-３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、同２００１-４０２８４号号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］等の記載の化合物等が挙げられる。

含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位、架橋性若しくは重合性の官能基を含む繰り返し構造単位、それ以外の置換基からなる繰り返し構造単位からなる共重合体が好ましい。すなわち、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体が好ましく、さらにその他のモノマーが共重合したポリマーを用いてもよい。
架橋性若しくは重合性の官能基としては従来公知の官能基の何れでも良い。
架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。
ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有する化合物は塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

重合性の官能基としては、ラジカル重合性基、カチオン重合性基が挙げられる。
ラジカル重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、例えば、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。
其の他の繰り返し構造単位としては、溶剤可溶化のために炭化水素系共重合成分が好ましく、５０モル％以下導入したフッ素系ポリマーが好ましい。この際には、シリコーン化合物と組み合わせることが好ましい。

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、上市品のサイラプレーン（チッソ（株）製等）等の反応性シリコーン、特開平１１-２５８４０３号公報に記載のポリシロキサン構造の両末端にシラノール基含有の化合物等が挙げられる。

架橋又は重合性基を有する含フッ素ポリマーの架橋又は重合反応は、最外層を形成するための低屈折率用組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
重合開始剤、増感剤等が、前記光拡散性層用のものと同様のものが挙げられる。

共重合してもよいその他のモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２-エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ-ｔｅｒｔ-ブチルアクリルアミド、Ｎ-シクロヘキシルア
クリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０-２５３８８号および特開平１０-１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーとしては、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体が挙げられる。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。

本発明に用いられる共重合体の好ましい態様として前記一般式１で表される化合物が挙げられる。

一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*‐(CH₂)₂-O-**、 *-(CH₂)₂-NH-**、 *-(CH₂)₄-O-**、 *-(CH₂)₆-O-**、 *-(CH₂)₂-O-(CH₂)₂-O-**、*-CONH-(CH₂)₃-O-**、*-CH₂CH(OH)CH₂-O-**、 *-CH₂CH₂OCONH(CH₂)₃-O-**（*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表わす。

一般式１中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。

一般式１中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ-ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ-ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。

ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の
場合である。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。

本発明に用いられる共重合体の特に好ましい態様として下記一般式２で表される化合物が挙げられる。

一般式２においてＸ、ｘ、ｙは一般式１と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式１におけるＡの例として説明したものが挙げられる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋z２＝１００である。

一般式１又は２で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。
以下に本発明で有用な共重合体の好ましい具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明に好ましく用いられる共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することにより行なうことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。

重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている方法が挙げられる。

上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ-ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニ
トリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１-プロパノール、２-プロパノール、１-ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは２種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。

重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行なうことが好ましい。

反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、１〜１００kg/cm²、特に、１〜３０kg/cm²程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。

得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。

又、低屈折率層として、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８-１４２９５８号公報、同５８-１４７４８３号公報、同５８-１４７４８４号公報等記載の化合物）、特開平９-１５７５８２号公報記載のパーフルオロアルキル基含有シランカップリング剤、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００-１１７９０２号公報、同２００１-４８５９０号公報、同２００２-５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
併用する触媒としては、従来公知の化合物が挙げられ、上記文献中に記載のものが好ましく挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤（ジメチルシリコンなどのシリコン化合物等）、界面活性剤等を含有することができる。特に、無機微粒子、シランカップリング剤、滑り剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤としては光拡散性層の説明で記載したものが好ましい。
無機微粒子としては、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の低屈折率化合物が好ましい。特に好ましいには二酸化珪素（シリカ）である。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは３〜１００ｎｍである。無機微粒子は、より微細に分散されていることが好ましい。
又、有機微粒子としては、例えば、特開平１１-３８２０号公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の化合物等があげられる。
無機或は有機の微粒子の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、あるいは不定形状であることが好ましい。

特に、低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましく、該中空シリカ微粒子は屈折率が１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記数式（II）で表される空隙率ｗ（％）は以下の数式（II）で計算される。

数式（II）
ｗ=｛(４πａ³／３)／（４πｂ³／３）｝×１００

好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１７未満の低屈折率の粒子は好ましくない。
該低屈折率層中の中空のシリカ粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下にあることが好ましい。より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）等にて測定をおこなう。

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができ、好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。

シリカ微粒子は、分散液中あるいは低屈折率層用組成物溶液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング剤による処理が特に好ましい。
上記カップリング剤は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として低屈折率層用組成物溶液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
以上シリカ微粒子について述べたことは、他の無機粒子についても適用してもよい。

又、本発明の低屈折率層は、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することが好ましい。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。

シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロ
アルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-164B、X22-164C、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(以上商品名)やチッソ（株）製、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば-ＣＦ₂ＣＦ₃、-ＣＨ₂（ＣＦ₂）4Ｈ、-ＣＨ₂（ＣＦ₂）₈ＣＦ₃、-ＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）₄Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば-ＣＨ（ＣＦ₃）₂、-ＣＨ₂ＣＦ（ＣＦ₃）₂、-ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＦ₂ＣＦ₃、-ＣＨ（ＣＨ₃）（ＣＦ₂）₅ＣＦ₂Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えば-ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₃、-ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ₄Ｆ₈Ｈ、-ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ₈Ｆ₁₇、-ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はなく、用いられる。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、R-2020、M-2020、R-3833、M-3833(以上商品名)、大日本インキ（株）製、メガファックF-171、F-172、F-179A、ディフェンサMCF-300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックF-150(商品名)、東レダウコーニング（株）製、SH-3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されない。

又、低屈折率層は、ミクロボイドを内包してもよい。具体的には、例えば特開平９-２２２５０２号公報、同９-２８８２０１、同１１-６９０２号公報等に記載の内容が挙げられる。

本発明の低屈折率層は、その表面エネルギーが２６ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。更に好ましくは１８〜２５．８ｍＮ／ｍである。表面エネルギーをこの範囲にすることが防汚性の点で好ましい。
本発明の低屈折率層を、含フッ素化合物を含有する、熱硬化性または電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物を主体とする含フッ素硬化樹脂膜とすることにより発現される。
特に、最外層となる低屈折率層中に含まれる含フッ素化合物が最外層の全質量に対し、５０質量％以上であることで膜表面全体がムラ無く安定した特性を示す。
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液を偏光板保護膜面上に滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出出来る。

又、最表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
又、本発明の低屈折率層表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。より好ましくは０．０３〜０．１５である。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。

低屈折率層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、ＪＩＳ Ｋ６９０２に従うテーバー試験での摩耗量は小さいほど好ましい。

＜反射防止フィルムの他の層＞
さらに、本発明の反射防止フィルムは導電層（帯電防止層）、ハードコート層、プライマー層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
［導電層］
液晶モードがＩＰＳモード、ＶＡモードの表示装置に設ける視認側の偏光板の外側表面エネルギーに対する保護には導電層を設けることが好ましい。
導電層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、導電性高分子の硬化膜を形成する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性層は、基材フイルムに直接又は基材フィルムとの接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、導電層を反射防止フィルムの一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。塗工方法は、特に限定されず、塗工液の特性や塗工量に応じて、例えば、ロールコート、グラビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えばよい。
透明導電層としては、従来公知の導電層を適宜調整して用いることができる。導電層としては、例えば、（株）東レリサーチセンンター調査部門編集「透明導電膜の現状と展望」（（株）東レリサーチセンンター、１９９７年刊行）、豊田 豊監修「透明導電膜の新展開」（（株）シーエムシー、１９９９年刊行）等に記載の内容が挙げられる。

導電層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。導電層の表面抵抗は、１０⁵〜１０¹²Ω／□であることが好ましく、１０⁵〜１０⁹Ω／□であることがさらに好ましく、１０⁵〜１０⁸Ω／□であることが最も好ましい。導電層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。
導電層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、導電層のヘイズが、１０
％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
本発明の導電層は、強度が優れており、具体的な導電層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度（ＪＩＳ-Ｋ-５４００の規定）で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。

（導電層の導電性無機微粒子）
導電性無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ²／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ²／ｇである。

導電性微粒子としては、例えば、上記の「透明導電膜の現状と展望」第３章〜第４章、技術情報協会編集「導電性フィラーの開発と応用」（技術情報協会、１９９７年刊行）等に記載の無機化合物が挙げられる。
例えば、金属の酸化物または窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物または窒化物の例としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが挙げられる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。導電性無機微粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子が挙げられる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）およびＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。

導電層に用いる導電性無機微粒子の一次粒子の平均粒径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、５〜７０ｎｍであることが最も好ましい。形成される導電層中の導電性無機微粒子の平均粒径は、１〜２００ｎｍであり、５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。導電性無機微粒子の平均粒径は、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。

導電性無機微粒子を表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナおよびシリカが挙げられる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
導電性無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。二種類以上の導電性無機微粒子を帯電防止層内で併用してもよい。

導電層中の導電性無機微粒子の割合は、２０〜９０質量％であることが好ましく、２５〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがさらに好ましい。

（導電層のバインダー）
導電層は、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることができる。架橋してい
るポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有することが好ましい。アニオン性基は、導電性無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して、導電層を強化する機能を有する。

ポリマーの主鎖の例としては、ポリオレフィン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が挙げられる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。
これらのポリマーの主鎖は、従来公知のいずれの方法によっても得ることができる。
ポリオレフィン主鎖は、飽和炭化水素からなり、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合（-Ｏ-）によって繰り返し単位が結合しており、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合（-ＮＨ-ＣＯ-ＮＨ-）によって、繰り返し単位が結合しており、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレタン結合（-ＮＨ-ＣＯ-Ｏ-）によって、繰り返し単位が結合しており、例えば、イソシアネート基と、水酸基（Ｎ-メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合（-ＣＯ-Ｏ-）によって、繰り返し単位が結合しており、例えば、カルボキシル基（酸ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ-メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖は、イミノ結合（-ＮＨ-）によって、繰り返し単位が結合しており、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合（-ＮＨ-ＣＯ-）によって、繰り返し単位が結合しており、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）との反応により得られる。メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有し、例えば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒド（例、ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。

アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させてもよい。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。
アニオン性基の例としては、カルボン酸基（カルボキシル）、スルホン酸基（スルホ）およびリン酸基（ホスホノ）などが挙げられ、スルホン酸基およびリン酸基が好ましい。
アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、-ＣＯ-、-Ｏ-、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。

架橋構造は、二以上の主鎖を化学的に結合（好ましくは共有結合）し、三以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、-ＣＯ-、-Ｏ-、-Ｓ-、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。

架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６質量％であることが好ましく、４〜９４質量％であることがさらに好ましく、６〜９２質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、４〜９８質量％であることが好ましく、６〜９６質量％であることがさらに好ましく、８〜９４質量％であることが最も好ましい。

架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位）が含まれていてもよい。
その他の繰り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、好ましい。なお、アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位は、アミノ基または四級アンモニウム基を、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させて得ることができる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１〜６のアルキル基であることがさらに好ましい。四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、-ＣＯ-、-ＮＨ-、-Ｏ-、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．０６〜３２質量％であることが好ましく、０．０８〜３０質量％であることがさらに好ましく、０．１〜２８質量％であることが最も好ましい。

上記バインダーに対して、例えば特開２００３-３９５８６公報に記載の下記の反応性有機珪素化合物（１）〜（３）を併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、電離放射線硬化型樹脂と反応性有機珪素化合物の合計に対して１０〜１００質量％の範囲で使用される。特に下記の（３）の電離放射線硬化性有機珪素化合物を使用する場合には、これだけを樹脂成分として導電層を形成することが可能である。

（１）珪素アルコキシド
Ｒ¹¹pＳｉ（ＯＲ¹²）qで表せる化合物であり、ここでＲ¹¹、Ｒ¹²は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｐ及びｑはそれぞれｐ＋ｑ＝４となる整数である。例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-ｉｓｏ-プロポキシシラン、テトラ-ｎ-プロポキシシラン、テトラ-ｎ-ブトキシシラン、テトラ-ｓｅｃ-ブトキシシラン、テトラ-ｔｅｒｔ-ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ-ｉｓｏ-プロポキシシラン、テトラペンタ-ｎ-プロキシシラン、テトラペンタ-ｎ-ブトキシシラン、テトラペンタ-ｓｅｃ-ブトキシシラン、テトラペンタ-ｔｅｒｔ-ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。

（２）シランカップリング剤
例えば、γ-（２-アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-（２-アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β-（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、Ｎ-β-（Ｎ-ビニルベンジルアミノエチル）-γ-アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β-メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３-（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。

（３）電離放射線硬化性珪素化合物
電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５，０００以下の有機珪素化合物が挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。

その他の化合物としては、３-（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３-（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。

［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理的強度を付与するために、透明支持体の表面に設けることが好ましい。特に、透明支持体と前記光拡散性層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、光拡散性層で例示したと同様のものが挙げられる。

ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２-１４４９１３号公報、同２０００-９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。
又、ハードコート層は、上記した導電性微粒子を含有し、導電性のハードコート層である態様も好ましい。

［透明支持体］
透明支持体の素材としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスが挙げられる。透明樹脂フィルムとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム等が使用できる。又、厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とし、保護フィルムの軽量化からは、膜厚３０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
本発明の透明支持体としては、偏光板の最表面に用いるため、偏光膜の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムを使用する事が好ましい。
以降、透明性が高く、表面が平滑であるという特徴をもつ、本発明の反射防止フィルムの透明支持体フィルムに特に好ましく使用出来る、セルロースアシレートフィルムに関し説明する。

（高透明度、高平滑なセルロースアシレートフィルム）
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことであり、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。
低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロースおよびトリアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。

本発明では、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアシレートを使用することが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ-８１７-９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアシル化度の測定および計算に従う。
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが好ましい。

一般に、セルロースアシレートの２，３，６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。
６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。
各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。
セルロースアシレートフィルムの具体的な内容は、発明協会公開技法、公技番号２００１-１７４５号公報に記載の内容が挙げられる。

前記透明支持体フィルムとしては、複屈折がないセルロースアシレートフィルムが、光拡散性反射防止フィルムを偏光素子と積層して偏光板を作製することが可能（後述）であり、更にその偏光板を用いて表示品位の優れた液晶表示装置を得ることができるので、特に好ましい。

又、光拡散性層を、各種コーティング方法によって塗工する場合の耐熱、耐溶剤性や機械強度等の加工適性の面から、透明支持体フィルムとしては、ＰＥＴが特に望ましい。

［反射防止フィルムの製造］
本発明の反射防止フィルムの各層は、各層形成用組成物を後述の塗布用分散媒に溶解して塗布液として、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）等の塗布方法により形成することができ、ダイコート法で塗布することが好ましく、更には塗布工程において後述するダイコーターを用いて塗布工程を行うことがより好ましい。二層以上を同時に塗布してもよい
。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載の方法を特に制限無く用いて行うことができる。

本発明の反射防止フィルムにおいては、少なくとも光拡散性層と低屈折率層とを積層するので、ゴミ、ほこり等の異物が存在したとき、輝点欠陥が目立ちやすい。本発明における輝点欠陥とは、目視により、塗膜上の反射で見える欠陥のことで、塗布後の反射防止フィルムの裏面を黒塗りする等の操作により目視で検出できる。目視により見える輝点欠陥は、一般的に５０μｍ以上である。
本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥の数が１平方メートル当たり好ましくは２０個以下、より好ましくは１０個以下、さらに好ましくは５個以下、特に好ましくは１個以下である。上記の範囲内であれば、製造時の得率の観点から好ましく、大面積の反射防止フィルムの製造にも問題なく使用することができ、好ましい。

本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するために、ロール状の透明支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布する工程、乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
ロール状の支持体フィルムから、支持体フィルムがクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、支持体フィルムに帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続き支持体フィルム上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液が支持体フィルム上に塗布され、塗布された支持体フィルムは乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有する支持体フィルムは乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有される硬化型樹脂が重合して硬化する。さらに、放射線により硬化した層を有する支持体フィルムは熱硬化部へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有する支持体フィルムは巻き取られてロール状となる。

上記各工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能であるが、生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。
図７に示す本発明において好ましく用いられる製造装置の1実施形態を参照して具体的に説明する。
ここで、図７は本発明において用いられる製造装置の１実施形態を示す概略図である。
図７に示す製造装置は、上記の連続的に送り出す工程を行うためのウェブＷおよびそのロール１並びに複数設けられたガイドローラー（図示せず）と、上記の巻き取る工程を行うための巻き取りロール２と、上記の塗布する工程、乾燥する工程及び塗膜を硬化する工程を行うための、製膜ユニット１００，２００，３００，４００を適宜必要な数だけ設置したものである。本実施形態においては、製膜ユニット１００は、ハードコート層形成用であり、製膜ユニット２００は、導電層形成用であり、製膜ユニット３００は、光拡散性層形成用であり、製膜ユニット４００は、低屈折率層形成用である。
各製膜ユニットは、同様の構造であるので、製膜ユニット１００について説明する。製膜ユニット１００は、上記の塗布液を塗布する工程を行うための塗布部１０１、及び上記の塗布された液を乾燥する工程を行うための乾燥部１０２と、上記の乾燥された塗布液を硬化する工程を行うための硬化装置１０３とからなる。
なお、図７で示される装置は４層を巻き取ることなく連続的に塗布する際の構成の一例だが、層構成に合わせて製膜ユニット数を変化させることはもちろん可能である。
製膜ユニットが３つ設置された装置を用いて、前記ハードコート層を塗設したロール状の支持体フィルムを連続的に送り出し、ハードコート層、光拡散性層、低屈折率層を各製膜ユニットで順次塗設した後に巻き取る事がより好ましく、製膜ユニットが４つ設置された、図７に示す装置を用いて、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出し、ハードコ
ート層、導電層、光拡散性層、低屈折率層を各製膜ユニットで順次塗設した後に巻き取る事が更に好ましい。

上記の塗布方法の中でも、マイクログラビア法が一般的に好ましく用いられる。本発明の光拡散性層や低屈折率層もマイクログラビア法で製造することができる。幅方向の塗布量分布や各種の面状故障に対しても良好な面状が得られ、長手方向の塗布量分布も掻き落しに用いる金属ブレードの素材、形状等の最適化により、満足な性能が得られる。
一方、より高い生産速度の観点では、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。ダイコート法は、生産性と塗布ムラのない面状を高次元で両立できるため、好ましく用いられる。
本発明の反射防止フィルムの製造方法としては、このようなダイコート法を用いた以下の本発明の製造方法が好ましい。
すなわち、バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、先端リップのスロットから塗布液を塗布する塗布工程を有し、該塗布工程は、スロットダイのウェブ進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイを有し、スロットダイを塗布位置にセットしたときに、ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブとを、両者の隙間が、ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下（以下、この数値限定については「オーバーバイト長さ」と称する）大きくなるように設置した塗布装置を用いて、光拡散性層及び低屈折率層の何れか一方、または両方の層を塗布する反射防止フィルムの製造方法が好ましい。
特に、本発明の製造方法において好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に図面を参照して説明する。該ダイコーターは、ウエット塗布量が少ない場合（２０ｍｌ／ｍ²以下）に用いることができ、好ましい。

＜ダイコーターの構成＞
図８は本発明を好適に実施できるスロットダイを用いたコーター（塗布装置）の断面図である。
コーター１０は、バックアップロール１１とスロットダイ１３とからなり、バックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４がビード形状１４ａで吐出されて塗布されることにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する。

スロットダイ１３の内部には、ポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向（ここで、スロットダイ１３の幅方向とは、図８の記載された図面に向かって手前方向又は奥側の方向を指す。）にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている（図示せず）。

スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さになるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブＷ走行方向の接線とのなす角度は、３０°以上９０°以下が好ましい。

スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状
に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの進行方向の上流側（進行方向すなわち図中の矢印方向とは逆側）を上流側リップランド１８ａ、下流側（進行方向側）を下流側リップランド１８ｂと称する。
上流側リップランド１８ａとウェブＷとの隙間は、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間よりも上述の範囲で大きい。また、下流側リップランドランド１８ｂの長さは、上述の範囲である。
図９（Ａ）を参照して上述した数値限定に関する部位について説明すると、ウェブの進行方向側のランド長さは、図９（Ａ）のＩ_LOで示される部分であり、上記オーバーバイト長さは、図９のＬＯで示される部分である。

次に図９を参照して本発明の反射防止フィルムの製造方法の実施に用いられる塗布装置と従来の塗布装置とを比較して説明する。ここで、図９は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。
従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩ_LOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。

上流側リップランド１８ａのランド長さＩ_UPは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩ_LOは上述のように、３０μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、最も好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩ_LOが３０μｍ以上であれば、先端リップのエッジあるいはランドが欠けにくく、塗膜へのスジの発生を抑えることができ好ましい。また、下流側の濡れ線位置の設定がしやすい。さらには、塗布液の下流側における広がりを抑えることができ、好ましい。下流側における塗布液の濡れによる広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながる。一方、下流側リップのランド長さＩ_LOが１００μｍ以下であれば、ビード１４ａを形成することができる。塗布液がビード１４ａを形成することにより、薄層塗布を行うことができる。

さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成１４ａが可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間Ｇ_Lとは、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。

次に、図１０を参照して上記塗布工程全般について説明する。
図１０は、本発明の製造方法を実施する塗布工程のスロットダイ１３及びその周辺を示す斜視図である。スロットダイ１３に対しウェブＷの進行方向側とは反対側（すなわちビード１４ａより上流側）に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間には隙間Ｇ_B 、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間には隙間Ｇ_S が存在する。
減圧チャンバー４０とウェブＷとの関係について図１１及び図１２を参照して説明する。図１１及び図１２は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。
サイドプレート４０ｂとバックプレート４０ａは図１１のようにチャンバー４０本体と一体のものであってもよいし、例えば、図１２のように適宜隙間Ｇ_Bを変えられるようにバックプレート４０ａをチャンバー４０にネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間Ｇ_B 、Ｇ_S と定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間Ｇ_B とは、減圧チャンバー４０を図１０のようにウェブＷ及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブＷまでの隙間を示す。

バックプレート４０ａとウェブＷとの隙間Ｇ_B をスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間Ｇ_L（図９参照）よりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間Ｇ_L が３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間Ｇ_B は１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。

＜材質、精度＞
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さ（図９（Ａ）に示す下流側リップランド長さｌ_LO）は、前述の範囲内とすることが好ましく、また、ｌ_LOのスロットダイ幅方向における変動幅を２０μｍ以内とすることが好ましい。この範囲内であれば、かすかな外乱によってもビードが不安定になることがなく、好ましい。
スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまうため、好ましくない。ステンレス鋼などの場合、下流側リップランド長さｌ_LOを前記の３０〜１００μｍの範囲にしても、先端リップの精度を満足することが困難である。高い加工精度を維持するには、特許第２８１７０５３号明細書に記載されているような超硬材質のものを用いることが好ましい。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下がさらに好ましい。
高精度な塗布の実現には、前記下流側リップランド長さｌ_LOが重要であり、さらに隙間Ｇ_Lのスロットダイ幅方向における変動幅を制御することが望ましい。前記バックアップロール１１と前記先端リップ１７とは、隙間Ｇ_Lのスロットダイ幅方向における変動幅を制御できる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、隙間Ｇ_Lのスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップ１７とバックアップロール１１の真直度とすることである。

輝点欠陥が上述の範囲である輝点欠陥の少ない反射防止フィルムを作成するためには、光拡散性層用塗布物中の高屈折率金属酸化物超微粒子および透光性微粒子の分散を精密に制御すること、および塗布液の精密濾過操作を行えばよい。これと同時に、反射防止層を形成する各層は上記の塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい
。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。

塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行なう方法、特開２００１−３８３０６号公報に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。

また、このような除塵工程を行う前に、支持体フィルム上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後の支持体フィルムの帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。

［塗布用分散媒］
上記塗布液に用いられる塗布用分散媒としては、特に限定されず、単独でも２種以上を混合して使用してもよい。好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類、クロルベンゼン、オルトージクロルベンゼン等の塩化芳香族炭化水素類、モノクロルメタン等のメタン誘導体、モノクロルエタン等のエタン誘導体等を含む塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチルエーテル、1,4-ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、脂肪族または芳香族炭化水素の混合物等が該当する。これら溶媒の中でもケトン類の単独あるいは２種以上の混合により作成される塗布用分散媒が特に好ましい。ダイコート法で塗布する場合には、塗布用分散媒は、各層形成用組成物の固形成分に対し、下記の液物性となるよう、用いることが好ましい。

［塗布液物性］
本発明の製造方法における塗布方式は、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御することが好ましい。液物性を制御することで、塗布可能な上限の速度を上げることができ、好ましい。また、後述するようにウェブの表面に塗り付けられる塗布液の量を制御することでも塗布可能な上限の速度を上げることができ、好ましい。
前記塗布液の塗布時における粘度は２．０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下であるのが好ましく、更に好ましくは１．５［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下、最も好ましくは１．０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下である。塗布液によってはせん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなって、乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。

また、ウェブの表面に塗り付けられる塗布液の量は２．０〜５．０［ｍｌ／ｍ²］であ
ることが好ましい。この範囲内であれば、塗布可能な上限の速度を上げることができ、また、乾燥にかかる負荷の軽減の観点からも好ましい。最適なウェブの表面に塗り付けられる塗布液の量は液処方・工程条件によって決めることが好ましい。
表面張力については、１５〜３６［ｍＮ／ｍ］の範囲にあることが好ましい。この範囲であれば、乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。さらに好ましくは１７［ｍＮ／ｍ］〜３２［ｍＮ／ｍ］の範囲であり、１９［ｍＮ／ｍ］〜２６［ｍＮ／ｍ］の範囲が特に好ましい。この範囲であれば、塗布可能な上限の速度を落とすことがなく好ましい。表面張力はレベリング剤を添加するなどして制御することができる。
また、本発明の製造方法においては、前記塗布液を、連続走行するウェブの表面に２５［ｍ／ｍｉｎ］以上の速度で塗設するのが好ましい。

［濾過］
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１０μｍのフィルターを用いることが好ましく、さらには絶対濾過精度が０．１〜５μｍであるフィルタを用いることが好ましい。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、ろ過圧力は好ましくは１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
ろ過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。

＜反射防止フィルムの性能＞
（光学特性）
本発明の反射防止フィルムは光拡散性層の内部ヘイズ値が３０乃至６０％であり、さらに表面ヘイズが１％以下であることを特徴とする。ヘイズ値は、ＪＩＳ-Ｋ-７１０５に準じヘイズメーター（例えば、日本電色工業（株）製ＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ、村上色彩技術研究所製ＨＲ-１００等）を用いて測定できる。
へイズ（トータルヘイズｈｔ、表面ヘイズｈｓ、内部へイズｈｉ）は、光拡散性層まで塗布したフィルムに対して、ヘイズメーターＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いてトータルヘイズｈｔを測定する。更に、光拡散性層と同じ屈折率となる、光拡散性層塗布液から透光性微粒子のみを除去した液を、該光拡散性層塗布済みフィルムの表面凹凸が無くなるまで平滑に覆うようにオーバーコートしたフィルムに対して測定したヘイズ値をｈｉ、ｈｔからｈｉを差し引いたヘイズをｈｓとする。
本発明の反射防止フィルムは、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値（すなわち平均反射率）が２．５％以下であり、１．５％以下が好ましく、より好ましくは１．４％以下である。
上記の５度入射における鏡面反射率は、サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する法線方向-５度で反射した光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度になる。防眩性機能をもつ反射防止フィルムとして適用する場合には、防眩性付与のために設けた表面凹凸に起因する散乱光の分だけ、法線方向-５度で反射した光の強度は弱くなる。従って、鏡面反射率は防眩性と反射防止性の両方の寄与を反映する測定法といえる。

反射防止フィルムの５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％を越えると、背景の映り込みが気になり、表示装置の表面フィルムに適用したときの視認性が低下する為、好ましくない。

更には反射光の色味がよりニュートラルであることを特徴とする。
反射光の色味は、反射光の380nm〜680nmの反射スペクトルにより求めることができ、Ｌ^*ａ^*ｂ^*色度図上で中心点からの距離ΔEが１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。また、耐候性試験後の色味の変化についても小さいほうが良く、ΔEが１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。特に耐光性試験後の色味の変化が上記の範囲となることが好ましい。
この範囲において、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、例えば液晶表示装置の最表面に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、表示画像の品位が良好と成り、好ましい。

本発明の反射防止フィルムは、これらの光学特性及び膜の機械的特性が耐候性試験後も実質的に問題とならない範囲の変化に抑制されていることが特徴である。特に耐光性試験後に上記特性の変化が抑制されていることが特徴である。
本発明の耐候性試験とは、ＪＩＳＫ５６００-７-７：１９９９に基づく耐候性試験であり、サンシャインウエザーメーター（Ｓ-８０、スガ試験機（株）製）、湿度５０％、処理時間２００時間）による耐候性試験を意味する。
このようなニュートラルな色味の反射光を有し、且つ低反射率を有する反射防止フィルムは、低屈折率層の屈折率と光拡散性層の透光性樹脂の屈折率のバランスを最適化することで得られる。

（導電性）
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置に設ける第一偏光板（最も外側の偏光板）の外側の保護フィルムとして用いる場合などにおいて、上記および後に詳述する液晶モードに関わらず以下のような導電性を有することが好ましい。
透明支持体に対して常温常湿で測定した垂直剥離帯電が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²であることが好ましい。より好ましくは−１００ｐｃ／ｃｍ²〜＋１００ｐｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ²〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ²である。ここで、単位のｐｃ（ピコクーロン）は、１０^-12クーロンである。
さらに好ましくは、常温１０％ＲＨで測定した垂直剥離帯電が−１００ｐｃ／ｃｍ²〜＋１００ｐｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ²〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ²である。

垂直剥離帯電の測定方法は以下の通りである。
測定サンプルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で２時間以上放置しておく。測定装置は測定サンプルを置く台と相手のフイルムを保持して測定サンプルに上から圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドに帯電量を測定するエレクトロメーターがつながっている。測定する反射防止フイルムを台に乗せ、ヘッドにＴＡＣあるいはＰＥＴを装着する。測定部分を除電したのち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させることを繰り返し、１回目の剥離時と５回目の剥離時の帯電の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電とする。

相手フイルムや測定サンプルの種類によってプラスに帯電する場合とマイナスに帯電する場合があるが、問題となるのは絶対値の大きさである。
また、一般的に低湿度の環境下の方が帯電の絶対値は大きくなる。本発明の反射防止フィルムはこの絶対値も小さいため、偏光板の保護フィルムとして好ましい。

本発明の反射防止フィルムは、常温常湿及び常温１０％ＲＨでの垂直剥離帯電の絶対値を上記の範囲にすることにより、防塵性に優れ、好ましい。
垂直剥離帯電の値を上記の範囲とするには、反射防止フィルム表面の各種元素の割合を調節することによって行うことができる。

ＴＮ、ＯＣＢ等の液晶モードの表示装置の視認側の偏光板としては、保護フィルムの表面抵抗値は、１×１０¹¹Ω／□以上とすることが好ましい。垂直剥離帯電の絶対値を小さくすることで防塵性を保持したまま、画像表示品位を低下させない。表面抵抗値の測定方法はＪＩＳに記載されている円電極法である。即ち、電圧印加後、１分後の電流値を読み、表面抵抗値（ＳＲ）を求める。

＜偏光膜の保護フィルム＞
本発明の偏光膜の保護フィルムは、上記の反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルムとして用いることから、光拡散性層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することが好ましい。
本発明における偏光膜の保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め親水化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、光拡散性層、低屈折率層、ハードコート層等）を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例、光拡散性層、低屈折率層、ハードコート層等）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を親水化処理する手法、の２つが考えられるが、（１）は光拡散性層を塗設するべき面まで親水化されるため、支持体と光拡散性層との密着性の確保が困難となるため、（２）の手法が好ましい。

[親水化処理]
透明支持体の表面の親水化処理は、公知の方法で行うことが出来る。例えば、コロナ放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ処理等で該フィルム表面を改質する方法が挙げられる。これらについては、前記の公技番号２００１-１７４５の３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。

［鹸化処理］
これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
（１）浸漬法
アルカリ液の中に反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フイルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ鹸化処理液は、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は、０．１〜３．０モル／Ｌの範囲にあることが好ましい。更に、アルカリ処理液として、フイルムに対する濡れ性が良好な溶媒（例、イソプロピルアルコール、ｎ-ブタノール、メタノール、エタノール等）、界面活性剤、湿潤剤（例えば、ジオール類、グリセリン等）を含有することで、鹸化液の透明支持体に対する濡れ性、鹸化液の経時安定性等が良好となる。好ましいアルカリ液の液温は２５〜７０℃、特に好ましくは３０〜６０℃である。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。

鹸化処理することにより、透明支持体の光拡散性層を有する主面と反対の主面が親水化される。偏光膜の保護フィルムは、通常、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、光拡散性層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に光拡散性
層を有する主面までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる反射防止層の受けるダメージの指標として、反対側の主面の支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは２０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度となる。この範囲で、反射防止フィルムの受けるダメージに実害が無く、且つ偏光膜との接着性を保持でき、好ましい。

（２）アルカリ液塗布法
上述の浸漬法における反射防止フィルムへのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を反射防止フィルムを有する主面と反対側の主面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。アルカリ液及び処理は、特開２００２-８２２２６号公報、国際公開０２／４６８０９号パンフレットに記載の内容が挙げられる。

本発明の偏光板は、偏光膜の保護フイルム（偏光板用保護フイルム）の少なくとも一方に、本発明の反射防止フイルムを有することが好ましい。偏光膜の保護フイルムは、上記のように、光拡散性層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が２０度〜５０度の範囲にあることが好ましい。本発明の反射防止フィルムを偏光膜の保護フイルムとして用いることにより、物理強度、耐候性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となり、好ましい。

＜偏光板＞
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、前述の通り、上記の反射防止フイルムを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアシレートフイルムを用いてもよい。本発明の反射防止フィルムを偏光膜の片側の保護フィルムとして使用し、更に液晶性化合物からなる光学異方性層をこの順で積層した偏光板も好ましい。液晶性化合物からなる光学異方性層は透明支持体上に設けて光学補償フィルム（以下、光学補償シートともいう。）とし、その透明支持体を偏光膜側に用いることが好ましい。反射防止フィルムと偏光膜、偏光膜と光学異方性層支持体の積層に際しては周知の粘着剤、接着剤（例えばポリビニルアルコール系）を用いたり、その前に前述の鹸化処理等を行ってもよい。
偏光膜には、一般に、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。

偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルム（反射防止フィルムを含む。以下同じ）は、通常、水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フィルム中を拡散することで、乾燥される。一般に保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。

偏光板の透湿性は、保護フィルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。
偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は１００乃至１０００ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓである事が好ましく、３００乃至７００ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓである事が更に好ましい。
保護フィルムの厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整する事が出来る。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
保護フィルムの自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することが出来る。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。

保護フィルムの親疎水性は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることが出来る。
上記透湿性を独立に制御することにより、偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。

[液晶化合物からなる光学異方性層]
本発明の偏光板は、偏光膜の反射防止フィルムとは反対側の透明支持体側に液晶化合物からなる光学異方性層を有することが好ましい。光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するように設計することが好ましい。
黒表示における液晶セル中の液晶化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶化合物の配向状態に関しては、IDW'00、FMC7-2、P411〜414に記載されている。

[液晶性化合物]
光学異方性層に用いられる液晶化合物は、棒状液晶でも、ディスコティック液晶でも良く、またそれらが高分子液晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含む。本発明の液晶性化合物として最も好ましいのは、ディスコティック液晶である。

棒状液晶の好ましい例としては、特開２０００-３０４９３２号公報に記載のものがあ
げられる。
本発明のディスコティック液晶の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック液晶は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物質が前記化合物である必要はなく、例えば、低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。上記ディスコティック液晶の好ましい例は特開平８-５０２０６号公報に記載のものが挙げられる。

本発明において光学異方性層は、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向に変化していることが好ましい。

上記ディスコティック構造単位の面の角度（傾斜角）は、一般に、光学異方性層の深さ
方向でかつ光学異方性層の底面からの距離の増加と共に増加または減少している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。更に、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。

上記光学異方性層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方性層は、ディスコティック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相-固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。

例えば、支持体側のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択することにより調整することができる。更に、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整することができる。

上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に１〜５０質量％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて使用される。
更に、好ましい重合性モノマーの例としては、多官能アクリレートが挙げられる。官能基の数は３官能以上が好ましく、４官能以上が更に好ましい。最も好ましいのは６官能モノマーである。６官能モノマーの好ましい例としては、ジペンタエリストリトールヘキサアクリレートが挙げられる。また、これら官能基数の異なる多官能モノマーを混合して使用することも可能である。

上記ポリマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマー例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％（好ましくは０．１〜８質量％、特に０．１〜５質量％）の量にて使用される。本発明では、セルロースアセテートフィルム、その上に設けられた配向膜及び配向膜上に形成されたディスコティック液晶からなり、配向膜が架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜であることが好ましい。

［配向膜］
配向膜は、液晶分子の配向方向を規定する機能を有する為に通常必要であるが、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素として必ずしも必須のものではない。例えば、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。

配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω-トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。

ポリマーの例としては、例えば特開平８-３３８９１３号公報明細書中段落番号［００
２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ-メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が挙げられる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ-メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。

ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
液晶分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定することができる。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例としては、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００-１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２-６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶分
子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができ、好ましい。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００-１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。

配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ-メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２-６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られ、好ましい。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少し、好ましい。

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコート法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にダイコート法、ロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１乃至１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

配向膜は、透明支持体上又は配向膜の下塗り層上に設けてもよい。透明支持体上に直接設ける場合は、前記の表面親水化処理を行うことが好ましい。
又、下塗り層としては、例えば特開平７-３３３４３３号公報記載の下塗り層、或は疎水性基と親水性基との両方を含有するゼラチン等の樹脂層を一層のみ塗布する単層法、第１層として高分子フィルムによく密着する層（以下、下塗第１層と略す）を設け、その上に第２層として配向膜とよく密着するゼラチン等の親水性の樹脂層（以下、下塗第２層と
略す）を塗布する所謂重層法（例えば、特開平１１-２４８９４０号公報記載）の内容が挙げられる。
配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

次に、配向膜を機能させて、配向膜の上に設けられる光学異方性層の液晶分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。配向膜の膜厚は、０．１乃至１０μｍの範囲にあることが好ましい。

＜液晶化合物からなる光学異方性層を塗設する透明支持体＞
該透明支持体は、高透過率なプラスティックフィルムであれば特に制限はないが、偏光板の保護フィルムであるセルロースアセテートを用いることが好ましい。
光学異方性層を塗設する透明支持体は、それ自身が光学的に重要な役割を果たすため、本発明の透明支持体のＲｅレターデーション値を０〜２００ｎｍであり、そして、Ｒthレターデーション値が４０〜４００ｎｍに調節される事が好ましい。
液晶表示装置に二枚の光学的異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は５０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。
液晶表示装置に一枚の光学的異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は１００乃至４００ｎｍであることが好ましい。
なお、セルロースアセテートフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ-ｎｙ）は、０．００乃至０．００２であることが好ましい。また、セルロースアセテートフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２-ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４であることが好ましい。
レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出する。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率である。
（II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２-ｎｚ｝×ｄ
式（II）には、フイルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率である。ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率である。ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率である。ｄは、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。

更には、本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフイルムの吸湿膨張係数を３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。
吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇（歪みによる光漏れ）を防止することができる。
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。作製したポリマーフイルムから幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ0）の雰囲気下にぶら下げる。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｌ
0）を測定する。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ1）にして、長さ（Ｌ1）を測定する。吸湿膨張係数は下式により算出する。

吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ1-Ｌ0）／Ｌ0｝／（Ｒ1-Ｒ0）

ポリマーフィルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、疎水基を有する化合物或は微粒子等を添加することが好ましい。疎水基を有する化合物としては、分子中に脂肪族基や芳香族基のような疎水基を有する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。これらの化合物の添加量は、調整する溶液（ドープ）に対して０．０１乃至１０質量％の範囲にあることが好ましい。又、ポリマーフイルム中の自由体積を小さくすればよく、具体的には、ソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少ない方が自由堆積が小さくなる。セルロースアシレートフイルムに対する残留溶剤量が、０．０１乃至１．００質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。

ポリマーフイルムに添加する上記した添加剤或は種々の目的に応じて添加できる添加剤（例えば、紫外線防止剤、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）及び赤外吸収剤等が挙げられる。）は、固体でもよく油状物でもよい。また、フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。これらの詳細は、前記の公技番号 ２００１-１７４５号技法の１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。これらの添加剤の使用量は、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されないが、ポリマーフィルム全組成物中、０．００１〜２５質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。

＜液晶表示装置＞
以下に、本発明の液晶表示装置について説明する。本発明の液晶表示装置は従来公知の何れも用いることができる。例えば、内田龍雄監修「反射型カラーＬＣＤ総合技術」（（株）シーエムシー、1999年刊）、「フラットパネルディスプレイの新展開」（（株）東レリサーチセンター調査部門、1996年刊）、「液晶関連市場の現状と将来展望（上巻）、（下巻）」（富士キメラ総研（株）、2003年刊）等に記載されているものが挙げられる。
本発明の反射防止フィルムおよび／または偏光板を付設の液晶表示装置としては、ＴＮモード、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＯＣＢモードおよび半透過ＥＣＢモードが好ましい。
また、本発明の反射防止フィルムおよび／または偏光板は、付設する液晶表示装置表示画像の大きさが２０インチ以上であっても、コントラストが良好で広い視野角を有し、かつ色相変化及び外光の移りこみ防止を実現でき、好ましい。

（ＴＮモード）
以下、本発明のＴＮモード液晶表示装置の一実施形態の構成部材について順次説明する。
図２は、本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式図である。

図２に示す液晶表示装置は、液晶セル（TN５〜９）、および液晶セル（TN５〜９）を挟持して配置された上偏光板TN１と下偏光板TN１２とを有する。偏光板は偏光膜および一対の透明保護フィルムによって挟持されているが、図２中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。液晶セルは、上電極基板TN５および下電極基板TN８と、これらに挟持される液晶層TN７から形成される液晶層からなる。上電極基板TN５および下電極基板TN８の液晶層TN７に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（図示せず。）が形成されていて、配向膜上に施されたラビング処理等により、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶層TN７の液晶分子の配向が制御されている。また、
上電極基板TN５および下電極基板TN８の内面には、液晶分子からなる液晶層TN７に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。

液晶層TN７には誘電異方性が正で、屈折率異方性、Δｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、Δε＝＋８．５程度の液晶（例えばメルク社製のＭＬＣ-９１００）を使用
できる。液晶層の配向制御は配向膜とラビングにより制御する。ここでは、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角を、ラビング約３°で作成した例とした。ラビング方向は上下基板と互いに直交する方向に施し、その強さとラビング回数などでチルト角の大きさが制御できる。配向膜はポリイミド膜を塗布後焼成して形成する。液晶層のねじれ角（ツイスト角）の大きさは、上下基板のラビング方向の交差角と液晶材料に添加するカイラル材により決まる。ここではツイスト角が９０°になるようにするためピッチ６０μｍ程度のカイラル材を添加した例とした。なお、ツイスト角は、ノートパソコンやパソコンモニタ、テレビ用の液晶表示装置の場合は９０°近傍（８５から９５°）に、携帯電話などの反射型表示装置として使用する場合は０から７０°に設定する。液晶層の厚さｄは５μｍに設定してある。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るために０．２から０．５μｍの範囲になるように設定する。

また、液晶材料ＬＣは、ネマチック液晶であれば、特に限定されるものではない。誘電率異方性△εは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性△ｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャップばらつきを少なくすることができる。
上偏光板TN１の吸収軸TN２と下偏光板TN１２の吸収軸TN１３は概略直交に積層し、さらに液晶セルの上偏光板TN1の吸収軸TN２と上電極基板TN５のラビング方向（配向制御方向）TN６は平行に、下偏光板TN１２の吸収軸TN１３と下基板TN8のラビング方向（配向制御方向）TN９はそれぞれ平行になるように積層する。上電極基板TN５および下電極基板TN８のそれぞれの配向膜の内側には透明電極（図示せず。）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層TN７の液晶分子は基板面に対して略平行に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態は液晶分子のねじれ構造に沿って伝播し、偏光面が９０°回転して出射する。すなわち、液晶表示装置では非駆動状態において白表示を実現する。これに対し、駆動状態では液晶分子は基板面に概略垂直に配向するため、液晶パネルを通過する光は偏光状態を変化させずに通過する。換言すると、液晶表示装置では駆動状態において理想的黒表示が得られる。

本発明のＴＮモード液晶表示装置は、図２に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、後述する様に、液晶セルと偏光板との間に、別途光学補償フィルム（図２における上光学異方性層TN３、下光学異方性層TN１０。以下、光学補償シートとも称する）を配置することが好ましい。

また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。また、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置するのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。

（ＶＡモード）
次に本発明のＶＡモード液晶表示装置の一実施形態の構成部材について順次説明する。
図３は、本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式図である。
図３に示す液晶表示装置は、液晶セル（VA５〜９）、および液晶セルを挟持して配置された上偏光板VA１と下偏光板VA１４とを有する。偏光板は偏光膜および一対の透明保護フィルムによって挟持されているが、図３中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。ＶＡモードでは上下電極基板間に誘電異方性が負で、Δｎ＝０．０８１３、Δε＝-４．６程度の液晶（例えばメルク社製のＭＬＣ-６６０８）をラビング配向により、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆる基板面に対するチルト角を、約８９°で作成する。液晶層VA７の厚さｄは３．５μｍに設定する。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るために０．２から０．５μｍの範囲に、好ましくは０．２５から０．３５μｍの範囲になるように設定する。

液晶セルの上偏光板VA１の吸収軸VA２と下偏光板VA１４の吸収軸VA１５は概略直交に積層する。上電極基板VA５および下電極基板VA８のそれぞれの配向膜の内側には透明電極（図示せず。）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶分子は、液晶層VA７のように基板面に対して略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。すなわち、液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は電極基板面に略平行に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させる。換言すると、液晶表示装置では、駆動状態において白表示が得られる。

ここでは上下電極基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した例とした。また電極を一方の電極基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用する。またＶＡモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル材の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。

ＶＡモードの特徴は、高速応答であることと、コントラストが高いことである。しかし、コントラストは正面では高いが、斜め方向では劣化する課題がある。黒表示時に液晶分子は基板面に垂直に配向している。正面から観察すると、液晶分子の複屈折はほとんどないため透過率は低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じ、コントラストが低下する。これを解決するには光学補償シート（図３における上光学異方性層VA３、下光学異方性層１VA１０、下光学異方性層２VA１２。）を配置することが好ましい。また白表示時には液晶分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にする。

（ＯＣＢモード）
次に本発明のＯＣＢモード液晶表示装置の一実施形態の構成部材について順次説明する。
図４は、本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式図である。

図４に示す液晶表示装置は、ベンド配向した液晶セル（OCB５〜９）、および液晶セルを挟持して配置された上偏光板OCB１と下偏光板OCB１２、液晶セルの両側に配置された一対の光学異方性層（OCB３、OCB１０）およびバックライト（図示せず。）からなる。偏光板は偏光膜および一対の透明保護フィルムによって挟持されているが、図４中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。
液晶セル（OCB５〜９）の上電極基板OCB５のラビング方向（配向制御方向）OCB６と下電極基板OCB８のラビング方向（配向制御方向）OCB１１は、同一方向（平行）である。光学異方性層OCB３、OCB１０を配向させるためのラビング方向（配向制御方向）OCB４とOCB１１は、対面する液晶セルのラビング方向（配向制御方向）OCB６、OCB９とは平行の関係にある。偏光板OCB１、OCB１２の吸収軸OCB２、OCB１３は、光学異方性層の配向方向OCB４、OCB１１と同一平面では実質的に４５゜の角度になる。そして、二枚の偏光板（OCB１、OCB１２）は、面内吸収軸（OCB２、OCB１３）が互いに直交するよう（クロスニコル）に配置されている。
ベンド配向液晶セルは、上電極基板OCB５と下電極基板OCB８の間に、誘電異方性が正で、Δｎ＝０．０８１３、Δε＝４．６程度の液晶層OCB７をラビング配向（配向制御方向）により、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角を、約８°で作成する。ここでラビング方向（配向制御方向）OCB ６、OCB ９は概略平行で同じ方向とする。これにより液晶層OCB７中の液晶分子の配向はセル断面方向でスプレー配向となる。ここで液晶層にカイラル剤を添加しねじれ成分を付与すると配向が安定する。この時電界無印加状態ではねじれ角が１８０度になる。またラビング方向を直交させて、ねじれ角を９０、あるいは２７０度近傍に設定してもよい。

液晶層の厚さｄは７μｍに設定する。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るために０．６から０．９μｍの範囲になるように設定する。
液晶セルの上電極基板OCB５と下電極基板OCB８は、それぞれ、配向膜（図示せず。）と電極層（図示せず。）を有する。配向膜は液晶層OCB７の液晶分子を配向させる機能を有する。電極層は液晶層OCB７に電圧を印加する機能を有する。
ベンド配向液晶セルの印加電圧が低い時、液晶セルの上電極基板OCB５側の液晶分子と下電極基板OCB８側の液晶分子とは、実質的に逆の向きに（上下対称に）配向する。また、電極基板（OCB５、８）近傍の液晶分子は、ほぼ水平方向に配向し、液晶セル中央部の棒状液晶分子は、ほぼ垂直方向に配向する。印加電圧が高いと、基板の近傍の液晶分子は、ほぼ水平に配向したままである。また、液晶セル中央部の棒状液晶分子は、ほぼ垂直に配向したままである。電圧の増加により配向が変化するのは、基板と液晶セル中央部との中間に位置する液晶分子であり、これらはｏｆｆの状態よりも垂直に配向する。しかし、液晶セルの上電極基板OCB５側の液晶分子と下電極基板OCB８側の液晶分子とが、実質的に逆の向きに（上下対称に）に配向することは、ｏｆｆの状態と同様である。

ＯＣＢ（ベンド配向）モードの液晶表示装置における光学補償の概念は、ベンド配向液晶セル（OCB５〜９）を、ディスコティック液晶分子から形成した光学異方性層（OCB３、１０）と光学異方性を有する透明支持体が協調して、光学的に補償する。光学異方性層（OCB３、１０）のディスコティック液晶分子を配向させるための方向（OCB４、OCB１１）を、液晶セルのラビング方向、すなわち配向制御方向（OCB６、OCB９）とは反平行の関係に設定すると、ベンド配向液晶セルの液晶分子と光学異方性層（OCB３、OCB１０）のディスコティック液晶分子とが対応して、光学的に補償する。そして、ベンド配向液晶セル中央部の実質的に垂直に配向している液晶分子には、透明支持体の光学異方性が対応するように設計する。

（半透過ＥＣＢモード）
次に本発明の半透過ＥＣＢ液晶表示装置の一実施形態の構成部材について順次説明する。
図５は、本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式図である。

図５に示す液晶表示装置は、半透過型平行配向液晶セル（ECB７〜１３）、および液晶セル（ECB７〜１３）を挟持して配置された上偏光板ECB１と下偏光板ECB １８、液晶セル
の両側に配置された光学異方性層（ECB ３、５、１４、１６）およびバックライト（図示せず。）からなる。偏光板は偏光膜および一対の透明保護フィルムによって挟持されているが、図５中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。

液晶表示装置はＣＲＴ（ブラウン管）とは異なり自ら発光しないため、例陰極蛍光灯等からなるバックライトをパネルの背面に設置して照明を行う透過型表示装置として使用されてきた。しかし最近液晶表示装置の小型薄形化が進み、屋外や常時携帯して用いるモバイル用途としても使われるようになった。この時、特に屋外での使用では外光の影響が強くバックライトが有効に機能せず、表示品質が大きく低下する問題があった。そこで液晶セル内面に凹凸構造を有する金属性反射膜を設けた反射モードが提案されている。さらに透過と反射のモードの両立をはかるため、表示装置の１画素の中で反射部と透過部を設けた半透過ＥＣＢが提案されている。

図５は１画素の液晶セルの模式図である。液晶セル（ECB７〜１３）の上電極基板ECB ７のラビング方向（配向制御方向）ECB ８と下電極基板ECB １３のラビング方向（配向制御方向）ECB１２は、反平行に設定してあり、液晶層はツイスト構造を持たない平行配向となっている。
透過部、反射部ともに上電極基板ECB７と下電極基板ECB１３は、それぞれ、配向膜（図示せず。）と電極層（図示せず。）を有する。
配向膜は液晶層ECB９中の液晶分子を配向させる機能を有する。電極層は液晶層ECB９に電圧を印加する機能を有する。電極層は通常透明なインヂウムチンオキサイド（ＩＴＯ）からなるが、反射部（図示せず。）では透明電極上に不透明な層間絶縁膜ECB１１を配置しその上に金属アルミなどからなる反射電極を形成し、コンタクトスルーホールを介して下層の透明電極層と導通をとる。

平行モードでは上下電極基板間に誘電異方性が正で、屈折率異方性、Δｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、Δε＝＋８．５程度の液晶（例えばメルク社製のＭＬＣ-９１００）を使用できる。透過部の液晶層の厚さｄは３．５μｍに設定してある。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るために０．２から０．４μｍの範囲になるように設定する。また反射部は反射電極により見かけ上厚さが２倍になるため、厚さは理想的には透過部の半分、１．７５μｍでよい。しかし層間絶縁膜のプロセス制約などの要因もあり、必ずしもこの関係に設定する必要はない。

半透過ＥＣＢの液晶表示装置における光学補償の概念は、液晶セルと光学異方性層（ECB３、５、１４、１６）による偏光状態で説明できる。
図５の反射部において、電圧無印加状態では液晶層ECB９の液晶分子は電極基板ECB７、１３に対して平行に配向している。この液晶層の厚さｄと屈折率異方性Δｎの積は、光の波長の１／４に、たとえば可視光λ＝５５０ｎｍではレターデーションを１３８ｎｍ近傍に設定する。この値はλ／４板と呼ばれる値であり、直線偏光を円偏光に変換する性質を有する。一方、光学異方性層ECB３、５のレターデーション値も同じように光の波長の１／４に設置する。
液晶セルに電圧が印加されていない状態では、偏光板を通過した直線偏光は光学異方性層ECB３、５のレターデーション値がλ／４板に相当するため、円偏光となる。次に液晶セルを通過すると、同じくレターデーションがλ／４板でかつ、円偏光の向きが逆になるように液晶セルのラビング方向（配向制御方向）ECB８と光学異方性層ECB５の遅相軸方向ECB６を調整すると、再び直線偏光に戻る。さらに反射板により偏光はもどされ、同じ偏光変換を行い直線偏光で偏光状態を変化させることなく上偏光板ECB１を通過し、実質的に明状態の白表示となる。

一方、電圧印加状態では、液晶層ECB９中の液晶分子が基板面に垂直に配向するため液晶セルのレターデーションは０に近くなる。偏光板を通過した光は光学異方性を通過することで円偏光となるが、反射膜で反射することにより円偏光の向きが逆となる。再び光学異方性層を通過すると偏光面が９０°回転した直線偏光となり、偏光板を通過することができず、これにより電圧印加状態では暗状態の黒表示となる。
ここで、光学異方性層のレターデーション値をλ／４に設定するにあたり、高い表示品質を得るために、可視光線領域の全波長で設定する必要がある。そのため光学異方性層ECB３と５を２層用い、その遅相軸方向ECB４と６の交差角ならびに各光学異方性層のレターデーション値、さらに上偏光板ECB１の吸収軸ECB２との交差角を設定することにより、可視光波長領域の概略でλ／４になるように設計することが好ましい。本構成では、好ましい例として光学異方性層ECB３のレターデーション値をλ／２板に、光学異方性層ECB５のレターデーション値をλ／４板になるように設定し、遅相軸ECB４と６の交差角を６０°、上偏光板ECB１の吸収軸ECB２と光学異方性層ECB３の遅相軸ECB４の交差角を１５°、上偏光板ECB１の吸収軸ECB２と液晶セルラビング方向ECB８の交差角を４５°に設定した例とした。
また、透過部は反射部と同じレターデーション値の光学異方性層ECB１４、１６を理想的には配置すればよく、光軸の角なす角度も対称に配置すればよい。もちろん透過部の液晶層の厚さによって、個々の値を調整してもよい。

（ＩＰＳモード）
次に本発明のＩＰＳモード液晶表示装置の一実施形態の構成部材について順次説明する。図６はＩＰＳモード液晶セルを示す模式側断面図である。通常はマトリクス状の電極により複数の画素を有するが、その一画素の一部分を示した。

透明な一対の基板ＩＰＳ５、ＩＰＳ８の内側に線状電極ＩＰＳ１４が形成され、その上に配向制御膜（図示せず。）が形成されている。基板ＩＰＳ５、ＩＰＳ８間に挟持されている棒状の液晶分子ＩＰＳ７は電界無印加時には線状電極ＩＰＳ１４の長手方向に対して若干の角度を持つように配向されている。なおこの場合の液晶の誘電異方性は正を想定している。電界を印加すると電界方向に液晶分子ＩＰＳ７はその向きを変える。偏光板ＩＰＳ１、ＩＰＳ１３を所定角度に配置することで光透過率を変えることが可能となる。偏光板は偏光膜および一対の透明保護フィルムによって挟持されているが、図６中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。なお、基板ＩＰＳ８の表面に対する電界方向のなす角は実際は２０度以下で、実質的に平行であることが望ましい。以下、本発明では２０度以下のものを総称して平行電界と表現する。また、電極ＩＰＳ１４を上下基板に分けて形成しても、一方の基板にのみ形成してもその効果は変わらない。

液晶材料ＬＣとしては、誘電率異方性△εが正のネマチック液晶を用いる。液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満とする。これは、レタデーションΔｎ・ｄは０．２５μｍ超０．３２μｍ未満の時、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない透過率特性が得られる。後述の配向膜と偏光板の組み合わせにより、液晶分子がラビング方向から電界方向に４５°回転したとき最大透過率を得ることができる。尚、液晶層の厚み（ギャップ）はポリマビーズで制御している。もちろんガラスビーズやファイバー、樹脂製の柱状スペーサでも同様のギャップを得ることができる。また液晶材料ＬＣは、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性△εは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性△ｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャップばらつきを少なくすることができる。

以下本発明の実施例について、比較例と対照して説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。

［実施例１］
＜反射防止フィルム（ＨＫ-０１）の作製＞
｛光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）の作製｝
光拡散性層を構成する透光性樹脂は、紫外線硬化型樹脂（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０、屈折率１．５１）を５０質量部とし、硬化開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュアー１８４）を２質量部、第１の透光性微粒子としては、アクリル-スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．５５）を５質量部、第２の透光性微粒子としては、架橋スチレンビーズ（綜研化学（株）製ＳＸＳ-３５０、粒径３．５μｍ、屈折率１．６１）を５．２質量部、シランカップリング剤ＫＢＭ-５１０３（信越化学（株）製）を１０質量部、下記のフッ素系ポリマー（ｆ１）を０．０３質量部、これらをトルエン５０質量部と混合して塗布液として調整したものを、セルロースアシレートフィルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ８０ＵＦ）上に、乾燥膜厚６．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）を作製した。

ＪＩＳ-Ｋ-７１０５に従いヘイズメーターＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて、ＨＫＦ-０１のヘイズ（曇価）を測定したところ、４２％であった。

｛反射防止フィルム（ＨＫ-０１）の作製｝
上記の光拡散性層上に、下記低屈折率層用塗布液（ＬＬ-１）をグラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍの紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４３、膜厚８６ｎｍ）を形成した。このようにして、本発明の反射防止フィルム（ＨＫ-０１）を作製した。

（低屈折率層用塗布液（ＬＬ-１）の調製）
下記構造のフッ素系共重合体（ＦＰ-１）をメチルイソブチルケトンに３０質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ-２２-１６４Ｃ（信越化学（株）製）を固形分に対して３質量％、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液（ＬＬ-１）を調製した。

｛反射防止フィルム（ＨＫ−０１）の評価｝
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。尚、ヘイズについては、光拡散性フィルムを測定した。結果を表１に示した。
（１）平均反射率
分光光度計Ｖ-５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ-４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角-５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
（２）ヘイズ
光拡散性フィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。

（３）表面エネルギー
表面の耐汚染性（指紋付着性）の指標として、光学材料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、前記に記載の方法により測定した。

（４）動摩擦係数測定
表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ-１４動摩擦測定機により５ｍｍφステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用いた。

（５）密着性評価
反射防止フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。反射防止フィルムの光拡散性層を有する側の表面において、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）における密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の４段階評価を行った。
◎：１００升において剥がれが全く認められなかったもの
○：１００升において剥がれが認められたものが２升以内のもの
△：１００升において剥がれが認められたものが１０〜３升のもの
×：１００升において剥がれが認められたものが１０升をこえたもの

（６）スチールウール擦り耐性の評価
前記露光前後の反射防止フィルムにおいて、＃００００のスチールウールに５００ｇ／ｃｍ²の荷重をかけ、６０往復したときの傷の状態を観察して、以下の３段階で評価した。
Ａ：傷が全く付かない。
Ｂ：少し傷が付くが見えにくい。
Ｃ：顕著に傷が付く。

（７）表面抵抗値
全てのサンプルについて表面抵抗値を円電極法で測定し、１×１０¹²Ω／□ 以上であることを確認した。

（８）ゴミ付着防止性（防塵性）
測定フイルムを硝子板に貼り、除電した後、東レ（株）のトレシーを用いて往復１０回擦り、その後微細な発泡スチロールの粉を擬似ゴミとし、フイルム全体にかけた後フイルムを立て、疑似ゴミの落下の様子を観察し、下記の４段階評価を行った。
◎：擬似ゴミがほとんど全て落下する。
○：擬似ゴミが８０％以上落下する。
△：擬似ゴミが５０％以上落下する。
×：擬似ゴミが５０％以上フイルム表面に残存している。

（９）耐候性の評価
サンシャインウエザーメーター（Ｓ-８０、スガ試験機（株）製）、湿度５０％）を用いて、露光時間２００時間の水準の耐候性試験を行った。
（反射率測定、反射光スペクトル）
耐候性試験前後の偏光板について、傾斜角５°の入射光の反射スペクトルを鏡面反射率の測定方法と同様にして測定し、更に波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域における反射率とＣＩＥ色度図反射光の色味を計算することにより、耐候性試験前後の平均反射率変化と色味変化を求め、下記の４段階評価を行った。
（反射光の色味変化ΔＥ）
◎：ΔＥが５以下、
○：ΔＥが５〜１０、
△：ΔＥが１０〜１５、
×：ΔＥが１５以上

＜偏光板保護フィルム（ＨＦ-０１）の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。ＨＫ-０１に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＨＫ-０１の透明支持体フィルム（セルロースアシレート）面が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。

＜光学補償シート（ＷＶ−０１）の作製＞
｛支持体の作製｝
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱撹拌して、セルロースアシレート溶液を調製した。

（セルロースアシレート溶液組成）
酢化度６０．７％（６位置換度０．９０）のセルローストリアセテート
１００質量部
トリフェニルホスフェート ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ３．９質量部
下記構造のＵＶ剤 ＵＶ−１ １．０質量部
下記構造のＵＶ剤 ＵＶ−２ １．０質量部
メチレンクロライド ３００質量部
メタノール ５４質量部
１−ブタノール １１質量部

（レターデーション調整剤溶液）
別のミキシングタンクに、下記の成分を投入し、加熱撹拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。

（レターデーション調整剤溶液組成）
下記のレターデーション調整剤 １６０質量部
メチレンクロライド ８０質量部
メタノール １９０質量部

セルロースアシレート溶液４７７質量部に、レターデーション調整剤溶液５２質量部を添加し、十分に撹拌して、ドープを調製した。セルロースアシレート１００質量部に対するレターデーション調整剤の量は３質量部である。
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、1分乾燥し、剥ぎ取った後、１３０℃の条件でテンターを用いて延伸し残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアシレートフィルムＣＡ-１（厚さ８０μｍ）を製造した。
作成したセルロースアシレートフィルム（ＣＡ-０１）について、レターデーションを測定（測定波長したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは１７５ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは４０ｎｍであった。

｛アルカリ鹸化処理｝
フィルム試料の片面を、以下のアルカリ鹸化処理を行った。
フィルムの上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液（Ｓ-１）をロッドコーターを用いて塗布量１２ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に８秒滞留させた。後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。この時のフイルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。

（アルカリ溶液（Ｓ−１）組成）
水酸化カリウム ５．６質量％
水 ２５．０質量％
イソプロパノール ５８．４質量％
界面活性剤（Ｋ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ） １．０質量％
プロピレングリコール １０．０質量％
消泡剤サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（日信化学工業（株）製） ０．０１０質量％

｛水との接触角｝
（２０℃／６５％ＲＨ）の条件下で、接触角計（協和界面科学(株)製、ＣＡ-Ｘ型接触角計）を用いて測定した水との接触角は、３５度であった。

｛配向膜の形成｝
この親水化表面処理したフィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロッドコーターで２８ｍｌ／ｍ²の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
乾燥後の塗布面のｐＨを測定した所、その値は４．１であった。又、塗布幅方向での中央と左右両端の位置のｐＨ値は４．００〜４．２０の範囲であった。
次に、親水化表面処理したフィルムの長手方向にラビング処理を実施した。

（配向膜塗布液組成）
下記変性ポリビニルアルコール ２０質量部
カルボン酸化合物（Ａ−１） ０．０７質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部

｛光学異方性層の形成｝
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ-１）を＃４のワイヤーバーコーターで塗布し、１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ/ｃｍ照射し、室温まで放冷して光学補償シート（ＷＶ-０１）を作成した。フィルムの光学異方性層の厚さは、１．７μｍであった。

（ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）組成）
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）） ０．９質量部
下記のフッ素化合物（Ｆ） 1．４質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２ イーストマンケミカル） ０．２質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１ イ−ストマンケミカル） ０．０５質量部
イルガキュアー９０７ ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） ０．１質量部
メチルエチルケトン ３０．０質量部

＜光学補償シート付き偏光板＞
｛視認側偏光板 ＳＨＢ-０１の作製｝
液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シート（ＷＶ-０１）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＷＶ-０１の透明支持体フィルムが、上記の偏光板保護フィルム（ＨＦ-０１）の偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板（ＳＨＢ-０１）を作製した。

｛バックライト側偏光板 ＢＨＢ-０１の作製｝
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。市販のトリアセチルセルロースフィルムフジタックＴＤ８０ＵＦ（富士写真フィルム（株）製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、上記の液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シート（ＷＶ-０１）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＷＶ-０１の透明支持体フィルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにしてバックライト側偏光板（ＢＨＢ-０１）を作製した。

＜液晶表示装置＞
｛ベンド配向液晶セルの作製｝
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを６μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。

｛液晶表示装置の作製｝
作製したベンド配向セルを挟むように、偏光板（ＳＨＢ-０１）を、光学補償シートが液晶セル側となるように粘着剤を介して、セルの視認側に貼り付けた。またバックライト側には、光学異方性層側が液晶セル側となるように粘着剤を介してバックライト側偏光板（ＢＨＢ-０１）を貼り付けた。視認側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。

［比較例１-１］
実施例１における液晶表示装置の作製において、ベンド配向セルを挟む偏光板として両方ともに偏光板（ＢＨＢ-０１）を用いた他は、実施例１と同様にして液晶表示装置（即ち、視認側偏光板が本発明の反射防止フィルムを有しないもの）を作製した。ＢＨＢ-０１を視認側偏光板として使用した場合には、ＳＨＢ-Ｒ１と呼ぶ。

［比較例１-２］〜［比較例１-４］
実施例１の反射防止フィルムの光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）において、透光性樹脂と透光性微粒子の配合比を代えて表２のヘイズとなるように調整して、比較例１-２〜１-４の光拡散性フィルム（ＨＫＦ-Ｒ１）〜（ＨＫＦ-Ｒ３）を作製した。これらの各フィルムを実施例１の光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）の代わりに用いた他は実施例１と同様にしてＯＣＢモードの液晶表示装置を作製した。

［実施例１Ａ］〜［実施例１Ｃ］、［比較例１−５］
実施例１の反射防止フィルムの光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）において、透光性樹脂と透光性微粒子の配合比を代えて表３のヘイズとなるように調整して、実施例１Ａ〜１Ｃ及び比較例１−５の光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１Ａ）〜（ＨＫＦ-０１Ｃ）、（ＨＫＦ−Ｒ４）を作製した。これらの各フィルムを実施例１の光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）の代わりに用いた他は実施例１と同様にしてＯＣＢモードの液晶表示装置を作製した。

｛表示装置の性能評価｝
作製した液晶表示装置の描画性能について、下記の内容の特性を評価した。その結果を、表４及び表５に記載する。

（描画画像のムラ評価）
測定機（EZ-Contrast 160D、ELDIM社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）時の描画ムラを目視で観察した。
○：全く発生しない（１０人が評価し、１人も認識できないレベル）
△：弱く発生する（１０人が評価し、１〜５人が認識するレベル）
×：強く発生する（１０人が評価し、６人以上が認識するレベル）

（外光の写り込み評価）
外光の映り込みの評価を蛍光灯を用いて行い、目視にて下記４段階評価を行った。
◎：映り込みの変化はあるが全く気にならない
○：映り込みの変化はあるが殆ど気にならない
△：映り込みの変化は気になるが、許容できる
×：映り込みの変化が気になる

（コントラスト、及び視野角）
液晶表示装置の液晶セルに、白表示電圧２Ｖ、黒表示電圧６Ｖを印加し、測定機（EZ-Contrast 160D、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、コントラスト比及び左右方向（セルのラビング方向と直交方向）の視野角（コントラスト比が１０以上となる角度範囲の広さ、及び階調反転の無い範囲の広さ）を調べた。
◎：全く気にならない
○：変化はあるが殆ど気にならない
△：変化は気になるが、許容できる
×：変化が気になる

（色味変化）
（コントラスト、視野角）の評価方法と同様の装置を用いて、視野角が正面から６０度の範囲内における色調の変化の度合いを目視で観察し、下記の基準で評価した。
◎：全く気にならない
○：変化はあるが殆ど気にならない
△：変化は気になるが、許容できる
×：変化が気になる

（白呆け）
１０００ｌｕｘの明室にて、液晶表示装置を黒表示にして、種々の視角から目視により下記の基準で評価した。
◎：白呆けが全くない
○：白呆けがほとんどない
△：弱い白呆けがある
×：強い白呆けがある

実施例１の表示装置の描画画像は、全面のムラ及び外光の写り込みの無い鮮明画像であり、コントラストが上/下側でより向上し且つ色味の変化が軽減し、視認性が向上した。
本発明の反射防止フィルムを設けていない比較例１-１は、外光の写り込みが激しく、又色味変化が生じた。又、内部ヘイズが小さい比較例１-２と１-３は、外光の写りこみや画面のギラツキが大きくなった。
一方、内部ヘイズが大きくなった比較例１-４は、画面が白っぽくなり描画画像での黒表示の鮮鋭さが低下した。
以上のように、本発明のみが、画像の鮮明性、見る方向が変わってもコントラスト及び画像の色味が変わらない視認性の良好なものであった。

［実施例２および比較例２］
＜反射防止フィルム（ＨＫ-０２）の作製＞
｛導電層の形成｝
フジタックＴＤ８０ＵＬ（富士写真フィルム（株）製）上に、シントロン４４５６-Ｓ７（ＡＴＯを分散したハードコート剤(固形分４５％)：神東塗料(株)製商品名）を塗工、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚み１μｍの導電層を形成した。このフイルムの表面抵抗は１０⁸Ω／□オーダーの導電性であった。
尚、表面抵抗率は、試料を（２５℃/６５％ＲＨ）の条件下に１時間放置した後、同条件下で三菱化学製 抵抗率計MCP-HT260を用いて測定した。
この上に下記のようにしての光拡散性層を設けたフィルム（ＨＫＦ-０２）を作製した。

｛光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０２）の作製｝
光拡散性層を構成する透光性樹脂は、酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ７４０４の無機微粒子および溶剤組成変更品、ＪＳＲ（株）製、屈折率１．６４）を１００部、硬化開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュアー１８４）を６質量部、シランカップリング剤ＫＢＭ-５１０３（信越化学（株）製）を６質量部、前記のフッ素系ポリマー（ｆ１）を０．０４質量部、これらをエアディスパで攪拌しながら混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（３／７質量比）溶液に溶解した後、塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
この溶液に透光性微粒子として、架橋型スチレンビーズ（綜研化学（株）製ＳＸＳ-３００、粒径３μｍ、屈折率１．６１）を４質量部、および架橋型スチレンビーズ（綜研化
学（株）製ＳＸＳ-５００、粒径５μｍ、屈折率１．６１）を ５．３質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（３／７質量比）により固形分３０％になるように調整したものを、上記の導電層を設けたセルロースアシレートフィルム上に、乾燥膜厚４．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０２）を作製した。（ＨＫＦ-０２）のヘイズは３５％、表面へイズは０．７％であった
。
｛反射防止フィルム（ＨＫ-０２）の作製｝
更に実施例１の反射防止フィルム作製と同様にして、低屈折率層用塗布液（ＬＬ-１）を膜厚８５ｎｍとなるように塗布し、反射防止フィルム（ＨＫ-０２）を作製した。

｛反射防止フィルム（ＨＫ-０２）の評価｝
得られたフィルムの特性について、実施例１と同様にして評価し、その結果を表６に記載する。

得られたフィルム（ＨＫ-０２）の光学特性は、前記の反射防止フィルム（ＨＫ-０１）と同等の良好な結果を示した。

＜偏光板保護フィルム（ＨＦ-０２）の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。反射防止フィルム（ＨＫ-０２）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、反射防止フィルム（ＨＫ-０２）の透明支持体フィルム（セルロースアシレート）面が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。

＜光学補償シート（ＷＶ−０２）の作製＞
｛支持体の作製｝
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱撹拌して、セルロースアシレート溶液を調製した。

（セルロースアシレート溶液組成）
酢化度５９．９％（６位置換度０．９０）のセルローストリアセテート
１００質量部
トリフェニルホスフェート ６．８質量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート ０．０８質量部
ＵＶ剤：UV-１ １．０質量部
ＵＶ剤：UV-２ １．０質量部
メチル基変性シリカ（「ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）９７２
（一次粒径１６ｎｍ：日本アエロジル（株）） ０．１５質量部
酢酸メチル ２９０質量部
メタノール ２５質量部
アセトン ２５質量部
エタノール ２５質量部
１−ブタノール ２５質量部

（レターデーション調整剤溶液の調製）
下記のレターデーション調整剤１６質量部、酢酸メチル７４．４質量部、メタノール６．４質量部、アセトン６．４質量部、エタノール６．４質量部及びｉ-ブタノール６．４
質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。

セルロースアシレート溶液４７５質量部にレターデーション調整剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌した後に室温（２５℃）にて３時間放置し、得られた不均一なゲル状溶液を、−７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加温・攪拌して完全に溶解したドープを得た。
次に得られたドープを５０℃にて、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）で濾過し、さらに絶対濾過精度０．００２５ｍｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にてフィルター濾過及び脱泡を行ってドープを調製した。
回転ドラム流延機を用いて流延した。流延方法は実施例１記載のバンド流延と同様の条件で行った。ドラム面上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、残留溶剤量が５０質量％のフィルムを剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、残留溶剤量が４０質量％のフィルムをテンターを用いて流延方向（縦方向）及び横方向の２軸延伸し、残留溶剤量が０．２５質量％のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ-０２）を、厚さ１０５μｍ、長さ１０００ｍ、幅１．３４ｍの巻きロール形態で製造した。
得られたセルロースアシレートフィルム（ＣＡ-０２）の波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）は１００ｎｍ、レターデーション値（Ｒｔｈ）は５０ｎｍであった。

｛鹸化処理｝
セルロースアシレートフィルム（ＣＡ-０２）上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液（Ｓ-２）をロッドコーターを用いて塗布量１２ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に１５秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。この時のフイルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。

（アルカリ溶液（Ｓ−２）組成）
水酸化カリウム ８．５５質量％
水 ２３．２３５質量％
イソプロパノール ５４．２０質量％
界面活性剤（Ｋ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ） １．０質量％
プロピレングリコール １３．０質量％
消泡剤サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（日信化学工業（株）製）
０．０１５質量％

得られたフィルム表面の水との接触角は３７度、表面エネルギー６３ｍＮ/ｍであった
。

｛配向膜の形成｝
この表面処理したフィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロッドーコーターで２８ｍｌ／ｍ²の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
乾燥後の塗布面のｐＨを測定した所、その値は３．９５であった。又、塗布幅方向での中央と左右両端の位置のｐＨ値は３．９０〜４．０５の範囲であった。

（配向膜塗布液組成）
下記変性ポリビニルアルコール ２０質量部
クエン酸 ０．０５質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部

（配向膜面のラビング処理）
次に、環境条件（２５℃／４５％ＲＨ）のもとに、フィルムの長手方向に配向膜面に、市販のラビング布を貼り付けたラビングロールで搬送方向に対し平行にラビング処理を実施した。

｛光学異方性層の形成｝
配向膜上に、下記構造のディスコティック液晶性化合物（ＤＢ）４１．０１質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１-０．２、イーストマンケミカル社製）０．９０質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１-１、イーストマンケミカル社製）０．２３質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１．３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５質量部、下記構造のフッ素系界面活性剤（Ｆ-２）０．４０質量部を、１０２質量部のメチルエチルケトンに溶解した溶液と塗布液とし、これを、＃３．４のワイヤーバーで塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、膜厚２．０μｍの光学異方性層を形成し、光学補償シート（ＷＶ-０２）を作製した。

＜光学補償シート付き偏光板＞
｛視認側偏光板（ＳＨＢ-０２）の作製｝
液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シート（ＷＶ-０２）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＷＶ-０２の透明支持体フィルムが、上記の偏光板保護フィルム（ＨＦ-０２）の偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板（ＳＨＢ-０２）を作製した。

＜液晶表示装置＞
ＩＰＳモードで２０インチの液晶表示装置：Ｗ２０-ｌｃ３０００型（日立製作所（株）製）に設けられている視認側の保護フィルムの代わりに本発明の偏光板（ＳＨＢ-０２）の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、視認側に一枚貼り付けた。

（比較例２）
上記の偏光板（ＳＨＢ-０２）の代わりに下記偏光板（ＢＨＢ-０２）を用いた他は、実施例２と同様にして、液晶表示装置を作製した。

｛偏光板（ＢＨＢ-０２）の作製｝
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。市販のトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製 フジタックＴＤ８０ＵＬ）
に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、上記の液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シート（ＷＶ-０２）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＷＶ-０２の透明支持体フィルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにしてバックライト側偏光板（ＢＨＢ-０２）を作製した。

｛表示装置の性能評価｝
実施例２及び比較例２の表示装置について、実施例１と同様にして描画画像の画像品位を評価した。その結果を表７に記載する。

［実施例３及び比較例３］
（導電性超微粒子分散液（ＥＬ-２）の調製）
ＩＴＯ（錫含有酸化インジウム、比表面積：４０ｍ² ／ｇ、粉体比抵抗：０．１Ω・ｃｍ）２０質量部、下記構造の分散剤６質量部、およびシクロヘキサノン７４質量部を、粒径０．２ｍｍのジルコニアビーズを用いてダイノミルにより分散した後に２００メッシュのナイロン布でビーズを濾別した。得られた分散物の分散粒子の平均径は３０ｎｍで、１００ｎｍ以上の粒子は０％であった。

（導電層用塗布液の調製）
エチルセルソルブ８２質量部、テトラエトキシシラン２２質量部、メチルトリエトキシシラン２０質量部、およびγ-メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン５８質量部を加え、液温を５〜１０℃に保ち、攪拌しながら０．０１規定の塩酸３７質量部を３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間攪拌を行い、シリル化合物の部分加水分解物を得た。つぎに上記の上記の導電性超微粒子分散物２２４質量部を添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌した。この分散物にイルガキュア９０７（商品名）を固形分に対して５質量％、アルミニウムアセチルアセトネート２．６質量部、過塩素酸アンモニウム０．５質量部を加えて十分に攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して導電層用塗布液を調製した。

｛導電層の形成｝
前記のセルロースアシレートフィルム（ＴＤ８０ＵＦ）上に、上記の導電層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、１２０℃で１０分間加熱して塗布層を硬化させ、厚さ２μｍの導電層を形成した。このフイルムの表面抵抗は１０⁸Ω／□オーダーの導電性であった。

｛光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０３）の作製｝
光拡散性層を構成する透光性樹脂は、酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ-７４０４、ＪＳＲ（株）製、屈折率１．６４）を１００質量部、透光性樹脂（日本化薬（株）製、ＤＰＨＡ）を４３質量部、および硬化開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュアー１８４）を５質量部、これらをエアディスパで攪拌しながら混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した後、塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６２であった。
この溶液に透光性微粒子として、シリカビーズ（日本触媒（株）製、ＫＥＰ-１５０、粒径１.５μｍ、屈折率１．４６）を５．２質量部、およびポリメチルメタクリレート系
ビーズ（綜研化学（株）製、ＭＸ３００、粒径３．０μｍ、屈折率１．４９）を２．０質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５３％になるように調整した。
上記の導電層付きフィルム上に、乾燥膜厚４．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、（ＨＫＦ-０３）を作製した。（ＨＫＦ-０３）のヘイズは、４５％であった。

＜反射防止フィルム（ＨＫ-０３）の作製＞
（ＨＫＦ-０３）の上に、実施例１と同様の低屈折率層を、実施例１と同様にして塗設して反射防止フィルム（ＨＫ-０３）を作製した。
得られたフィルムの特性を実施例１と同様に評価した。結果を前記の表６に記載した。
得られたフィルム（ＨＫ-０３）の光学特性は、前記の反射防止フィルム（ＨＫ-０１）と同等の良好な結果を示した。その結果は実施例１と同等で良好であった。

＜偏光板保護フィルム（ＨＦ-０３）の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。反射防止フィルム（ＨＫ-０３）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、反射防止フィルム（ＨＫ-０３）の透明支持体フィルム（セルロースアシレート）面が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。

＜光学補償シート（ＷＶ−０３）の作製＞
｛支持体の作製｝
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱撹拌して、セルロースアシレート溶液を調製した。

（セルロースアシレート溶液組成）
酢化度５９．９％（６位置換度０．９０）のセルローストリアセテート
１００質量部
トリフェニルホスフェート ６．８質量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート ０．０８質量部
ＵＶ剤：UV-1 １．０質量部
ＵＶ剤：UV-２ １．０質量部
メチル基変性シリカ（「ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）９７２
（一次粒径１６ｎｍ：日本アエロジル（株））） ０．１５質量部
酢酸メチル ２９０質量部
メタノール ２５質量部
アセトン ２５質量部
エタノール ２５質量部
１−ブタノール ２５質量部

（レターデーション調整剤溶液の調製）
下記のレターデーション調整剤１７質量部、酢酸メチル７４．４質量部、メタノール６．４質量部、アセトン６．４質量部、エタノール６．４質量部及びｉ-ブタノール６．４質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。

セルロースアシレート溶液４６４質量部にレターデーション調整剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌した後に室温（２５℃）にて３時間放置し、得られた不均一なゲル状溶
液を、-７０℃にて６時間冷却した後、５０℃に加温・攪拌して完全に溶解したドープを得た。
次に得られたドープを実施例１と同様にしてフィルター濾過及び脱泡を行ってドープを調製した。
バンド流延方法により、実施例１記載と同様のして製膜し、残留溶剤量が０．２５質量％のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ-０３）を、厚さ１００μｍ、長さ１０００ｍ、幅１．３４ｍの巻きロール形態で製造した。
得られたセルロースアシレートフィルム（ＣＡ-０３）の波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）は５０ｎｍ、レターデーション値（Ｒｔｈ）は９２ｎｍであった。

｛光学補償シート（ＷＶ-０３）の作製｝
上記の支持体（ＣＡ-０３）上に、実施例２と同様にして光学異方性層を設けて光学補償シート（ＷＶ-０３）を作製した。

＜光学補償シート付き偏光板＞
｛視認側偏光板 ＳＨＢ-０３の作製｝
液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シート（ＷＶ-０３）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、（ＷＶ-０３）の透明支持体フィルムが、上記の偏光板保護フィルム（ＨＦ-０３）の偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板（ＳＨＢ-０３）を作製した。

＜液晶表示装置＞
ＶＡモードで２２インチの液晶表示装置：ＴＨ２２-ＬＨ１０型（松下電器（株）製）に設けられている視認側の偏光板の代わりに本発明の偏光板（ＳＨＢ-０３）の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付けた。

（比較例３）
上記の偏光板（ＳＨＢ-０３）の代わりに偏光板（ＢＨＢ-０２）を用いた他は、実施例３と同様にして、液晶表示装置を作製した。

｛表示装置の性能評価｝
実施例３及び比較例３の表示装置について、実施例１と同様にして描画画像の画像品位を評価した。その結果を表７に記載する。

[実施例４及び比較例４]
＜光学補償シート（ＷＶ−０４）の作製＞
｛支持体の作製｝
酢酸メチル２９０質量部、アセトン２５質量部、メタノール２５質量部、エタノール２５質量部、及びｎ-ブタノール２５質量部を予め混合した溶液に、よく攪拌しつつ酢化度５９．９％（６位置置換度０．９０）のセルローストリアセテート粉体１００質量部、トリフェニルホスフェート６．８質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート４．９質量部、シリカ（粒径２０ｎｍ）０．５質量部を投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解した。
一方、酢酸メチル７０質量部、アセトン６質量部、メタノール６質量部、エタノール６質量部、及びｎ-ブタノール６質量部を予め混合した溶液に、２-ヒドロキシ-４-ベンジルオキシベンゾフェノン１２質量部、及び２，４-ベンジルオキシベンゾフェノン４質量部を投入し加熱して溶解してレターデーション調整剤溶液を調整した。

上記のセルローストリアセテート溶液４７４質量部に、攪拌しながら上記のレターデー
ション調整剤溶液２２質量部を徐々に添加して加えた。その後は実施例１と同様の方法で製膜して、膜厚８０μｍ、長さ１３００ｍ、幅１３４０ｍｍ）のセルローストリアシレートフイルム（ＣＡ-０４）を作製した。
得られたセルロースアシレートフィルム（ＣＡ-０４）の波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）は１０ｎｍ、レターデーション値（Ｒｔｈ）は７８ｎｍであった。

｛光学補償シート（ＷＶ-０４）の作製｝
上記の支持体（ＣＡ-０４）上に、実施例１と同様にして光学異方性層を設けて光学補償シート（ＷＶ-０４）を作製した。

＜光学補償シート付き偏光板＞
｛視認側偏光板 ＳＨＢ-０４の作製｝
上記の偏光板保護フィルム（ＨＦ-０１）の偏光膜上に液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シート（ＷＶ-０４）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、（ＷＶ-０４）の透明支持体フィルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板（ＳＨＢ-０４）を作製した。

＜液晶表示装置＞
ＴＮモードで２０インチの液晶表示装置：ＴＨ-２０ＴＡ３型（松下電器（株）製）に設けられている視認側の偏光板の代わりに本発明の偏光板（ＳＨＢ-０４）の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付けた。又、またバックライト側には、光学異方性層側が液晶セル側となるように粘着剤を介してバックライト側偏光板（ＢＨＢ-０２）を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。

（比較例４）
上記の偏光板（ＳＨＢ-０４）の代わりに偏光板（ＢＨＢ-０２）を用いた他は、実施例４と同様にして、液晶表示装置を作製した。

｛表示装置の性能評価｝
実施例４及び比較例４の表示装置について、実施例１と同様にして描画画像の画像品位を評価した。その結果を表７に記載する。

ＩＰＳモードの表示装置の実施例２は、本発明の偏光板保護フィルムの無い比較例２に比べて、外光写りこみの解消のみならず、コントラストの黒表示時の漏れ光が実用上に問題の無い視認性に改善された。
ＶＡモードの表示装置の実施例３は、本発明の偏光板保護フィルムの無い比較例３に比べて、外光写りこみの解消のみならず、斜め方向からのコントラストが実用上に問題の無い性能に達し、且つ色味変化性が解消されて視認性が向上した。
ＴＮモードの表示装置の実施例４は、本発明の偏光板保護フィルムの無い比較例４に比べて、外光写りこみの解消のみならず、上下のコントラスト、視野角、色味変化性が著しく向上して良好な視認性が得られた。

［実施例５］
＜反射防止フィルム（ＨＫ-０５）の作製＞
実施例１の光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）上に下記低屈折率層塗布液（ＬＬ-５）を塗布し、反射防止フィルムを作成した。

（低屈折率層用塗布液（ＬＬ-５）の調製）
ポリシロキサンおよび水酸基含有熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＳＲ製ＪＮ７２２８Ａ、屈折率１．４２、固形分濃度６％）を１３０部とし、無機フィラーとしてシリカゾルＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（日産化学製ＭＥＫ-ＳＴの粒径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％）を１３質量部、界面結合剤として下記（ゾル液ａ）を６質量部、これらをメチルエチルケトン５０質量部、シクロヘキサノン６質量部と混合した後孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して塗工液として調整した。

（ゾル液ａ）
攪拌機、還流冷却機を備えた反応機、メチルエチルケトン１２０部、３-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学（株）製、ＫＢＭ−５１０３）を１００部、ジイソプロピルアルミニウムアセテート（ホープ製薬製、ケロープ）３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００で、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。またガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

｛反射防止フィルム（ＨＫ-０５）の作製｝
光拡散性フィルム（ＨＫＦ-０１）上に、上記（ＬＬ-５）を乾燥膜厚１００ｎｍになるように塗工、１２０℃にて２分間溶剤乾燥後、紫外線を２４０ｍＪ照射して、反射防止フィルム（ＨＫ-０５）を作成した。
｛反射防止フィルム（ＨＫ-０５）の評価｝
光拡散性フィルムのヘイズは、４２％であった。又、反射防止フィルムの特性を前記の反射防止フィルムと同様に測定した。その結果を下記の表８に記載する。
得られたフィルム（ＨＫ-０５）の光学特性は、前記の反射防止フィルム（ＨＫ-０１）と同等の良好な結果を示した。

（実施例５-１〜５-４）
実施例１〜実施例４において各々用いた光学補償シート付き偏光板において、外側保護膜の反射防止フィルム部分を上記の反射防止フィルム（ＨＫ-０５）に代えた他は、各実施例１〜４のそれぞれと同様にして、表９記載の各液晶表示装置を作製した。

｛表示装置の性能評価｝
表示装置の描画性能を、液晶モードが同じ前記の各実施例と同様にして評価した所、表９に記載のように各対応の実施例と同等の視認性に優れた性能を示した。

［実施例６］
＜反射防止フィルム（ＨＫ-６１）〜（ＨＫ−６５）の作製＞
実施例１の反射防止フィルム（ＨＫ−０１）の作製において、低屈折率層塗布液（ＬＬ−１）を（ＬＬ−６１）に変え、下記ダイコーター（スロットダイ）を用いて２５ｍｍ／ｍｉｎの塗布速度で塗布した。その後９０℃で３０秒間乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４５、膜厚８３ｎｍ）を形
成した。このようにして、反射防止フィルム（ＨＫ−６１）を作製した。
さらに、低屈折率層塗布液（ＬＬ−１）を（ＬＬ−６２）〜（ＬＬ−６５）に変えることで反射防止フィルム（ＨＫ−６２）〜（ＨＫ−６５）をそれぞれ作製した。

｛ダイコーターの構成｝
ダイコーターとしては図８、図９（Ａ）、図１０及び図１１に示す構成のものを用いた。スロットダイ１３は、上流側リップランド長Ｉ_UPが０．５ｍｍ、下流側リップランド長Ｉ_LOが５０μｍで、スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さ（端部１６ａの幅）が１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間Ｇ_L を５０μｍに設定した。また、減圧チャンバーのサイドプレートとウェブとの隙間、及びバックプレートとウェブとの隙間はともに２００μｍとした。

（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６１）の調製）
前記フッ素系共重合体ＦＰ−１をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液１５２．４質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）１．１質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１．８質量部、メチルエチルケトン８１５．９質量部、およびシクロヘキサノン２８．８質量部を添加して攪拌した。孔径０.４５μｍのＰＴＦＥ（ポリテトラエチレンフロライド）製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６１）を調製した。該塗布液の粘度は０．６１［ｍＰａ・ｓｅｃ］、表面張力は２４［ｍＮ／ｍ］であり、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は２．８［ｍｌ／ｍ²］とした。

（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６２）の調製）
前記フッ素系共重合体ＦＰ−１をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液４２６．６質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）３．０質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５．１質量部、メチルエチルケトン５３８．６質量部、およびシクロヘキサノン２６．７質量部を添加して攪拌した。孔径０.４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６２）を調製した。該塗布液の粘度は１．０［ｍＰａ・ｓｅｃ］、表面張力は２４［ｍＮ／ｍ］であり、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は１．５［ｍｌ／ｍ²］とした。

（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６３）の調製）
前記フッ素系共重合体ＦＰ−１をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液２１３．３質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）１．５質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２．５質量部、メチルエチルケトン７５４．３質量部、およびシクロヘキサノン２８．４質量部を添加して攪拌した。孔径０.４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６３）を調製した。該塗布液の粘度は０．７６［ｍＰａ・ｓｅｃ］、表面張力は２４［ｍＮ／ｍ］であり、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は２．０［ｍｌ／ｍ²］とした。

（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６４）の調製）
前記フッ素系共重合体ＦＰ−１をメチルエチルケトンに２３．７質量％の濃度になるように溶解した溶液８５．３質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）０．６質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１．０質量部、メチルエチルケトン８８３．
７質量部、およびシクロヘキサノン２９.３質量部を添加して攪拌した。孔径０.４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６４）を調製した。該塗布液の粘度は０.４９［ｍＰａ・ｓｅｃ］、表面張力は２４［ｍＮ／ｍ］であり、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は５.０［ｍｌ／ｍ²］とした。

（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６５）の調製）
前記フッ素系共重合体ＦＰ−１をメチルエチルケトンに２３.７質量％の濃度になるように溶解した溶液７１．１質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）０.５質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０.８質量部、メチルエチルケトン８９８.１質量部、およびシクロヘキサノン２９.５質量部を添加して攪拌した。孔径０.４５μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６５）を調製した。該塗布液の粘度は０.４６［ｍＰａ・ｓｅｃ］、表面張力は２４［ｍＮ／ｍ］であり、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は６.０［ｍｌ／ｍ²］とした。

｛反射防止フィルム（ＨＫ-６１）〜（ＨＫ-６５）の評価｝
得られた反射防止フィルムについて面状を評価した。また、実施例１と同様にして平均反射率を測定した。
（面状）
全層塗布した後のフィルム１ｍ²の裏面をマジックインキで黒塗りした後、塗布面の濃淡の均一性を目視で評価した。
○：濃淡差が目立たない
×：濃淡差が目立つ

結果を表１０に示す。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量が２ｍｌ／ｍ²以上の（ＨＫ-６１，ＨＫ-６３，ＨＫ-６４）では塗布液の塗り付けはできた（表１０における評価の記載○）が、１．５ｍｌ／ｍ²の（ＨＫ-６２）では全面均一に塗り付けることが出来ず、反射防止フィルムとして使用に耐え得るものを作成することができなかった（表１０における評価の記載×）。また、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量が６ｍｌ／ｍ²の（ＨＫ-６５）は、塗り付けは可能であるが、塗布液の量が多いため乾燥が間に合わず、風に起因する縦スジ状のムラが全面に発生した（表１０における評価の記載×）。
得られた反射防止フィルム（ＨＫ-６１）、（ＨＫ-６３）、（ＨＫ-６４）を実施例1と同様にして表示装置を作成したところ、グラビアコーターで作製した実施例１の表示装置よりも色ムラも少なく、高品位であった。

［実施例７］
下流側リップランド長I_L0を１０μｍ、３０μｍ、７０μｍ、１００μｍ、１２０μｍにした他は反射防止フィルム（ＨＫ-６１）と同様にして反射防止フィルム（ＨＫ-７１）〜（ＨＫ-７５）を作製した。得られた反射防止フィルム（ＨＫ-７１）〜（ＨＫ-７５）について、反射防止フィルム（ＨＫ-６１）と同様に評価した。結果を表１１に示す。下流側リップランド長が３０μｍから１００μｍの範囲で面状故障のない反射防止フィルムが得られた。反射防止フィルム（ＨＫ-７１）ではベース長手方向にスジ状のムラが発生し、反射防止フィルム（ＨＫ-７５）では反射防止フィルム（ＨＫ-６１）と同じスピードでは塗布液１４が図９のビード形状１４ａとならず、塗布することができなかった。塗布速度を半分（１２．５ｍ／ｍｉｎ）に落とすことで塗布は可能となったが、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。反射防止フィルム（ＨＫ-７２）、（ＨＫ-７３）及び（ＨＫ-７４）を実施例1と同様にして表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非
常に高い表示装置が得られた。一方、反射防止フィルム（ＨＫ-７１）及び（ＨＫ-７５）で得られた反射防止フィルムを実施例1と同様の手順で表示装置を作成すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。

［実施例８］
ダイコーターのオーバーバイト長さLOを０μｍ、３０μｍ、７０μｍ、１２０μｍ、１５０μｍとした他は、反射防止フィルム（ＨＫ-６１）と同様に塗布を行い、反射防止フィルム（ＨＫ-８１）〜（ＨＫ-８５）を作成した。得られた反射防止フィルム（ＨＫ-８１）〜（ＨＫ-８５）について、反射防止フィルム（ＨＫ-６１）と同様に評価した。結果を表１２に示す。オーバーバイト長さが３０μｍから１２０μｍまでの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られた。反射防止フィルム（ＨＫ-８１）では塗布は可能であったが、面状を見るとベース幅方向に段状ムラが認められた。また、反射防止フィルム（ＨＫ-８５）では（ＨＫ-６１）と同様のスピードでは塗布液１４が図９のビード形状１４ａの形状とならず、塗布することができなかった。塗布速度を半分（１２．５ｍ／ｍｉｎ）に落とすことで塗布は可能となったが、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。反射防止フィルム（ＨＫ-８２）、（ＨＫ-８３）及び（ＨＫ-８４）では実施例１と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。一方、反射防止フィルム（ＨＫ-８１）及び（ＨＫ-８５）で実施例1と同様の手順で表示装置を作成すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。

［実施例９]
反射防止フィルム（ＨＫ−０１）〜（ＨＫ−０３）および（ＨＫ−０５）と同様の組成で、光拡散性層の塗布方法を実施例６と同様の前記ダイコート法にかえて反射防止フィルムを製造した。得られた反射防止フィルムを実施例１と同様に評価したところ、光拡散性層の内部ヘイズは３５〜４５％の範囲であり、表面ヘイズは０．５〜１．０％の範囲であった。得られた反射防止フィルムの平均反射率は、２．３〜２．５％であった。得られた反射防止フィルムは色ムラが少なく高品位であった。

反射防止フィルムの一実施形態を示す断面図である。 ＴＮモード液晶表示装置の一実施形態の模式図である。 ＶＡモード液晶表示装置の一実施形態の模式図である。 ＯＣＢモード液晶表示装置の一実施形態の模式図である。 半透過ＥＣＢモード液晶表示装置の一実施形態の模式図である。 ＩＰＳモード液晶表示装置の一実施形態の模式図である。 本発明において用いられる塗布装置の１実施形態を示す概略図である。 本発明において好ましく用いられるダイコーターの１実施形態を示す概略断面図である。 （Ａ）図２のダイコーターの拡大図である。（Ｂ）従来のスロットダイを示す概略断面図である。 本発明の製造方法を実施する塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。 図４の減圧チャンバーとウェブとの関係を模式的に示す断面図である。 図４の減圧チャンバーとウェブとの関係を模式的に示す断面図である。

符号の説明

A 10 反射防止フィルム
A 12 透明支持体フィルム
A 14 透光性樹脂
A 16 第１の透光性微粒子
A 46 第２の透光性微粒子
A 18 光拡散性層
A 19 低屈折率層
TN 1 上偏光板
TN 2 上偏光板吸収軸
TN 3 上光学異方性層
TN 4 上光学異方性層配向制御方向
TN 5 液晶セル上電極基板
TN 6 上基板配向制御方向
TN 7 液晶層
TN 8 液晶セル下電極基板
TN 9 下基板配向制御方向
TN 10 下光学異方性層
TN 11 下光学異方性層配向制御方向
TN 12 下偏光板
TN 13 下偏光板吸収軸
VA 1 上偏光板
VA 2 上偏光板吸収軸
VA 3 上光学異方性層
VA 4 上光学異方性層遅相軸方向
VA 5 液晶セル上電極基板
VA 6 上基板配向制御方向
VA 7 液晶層
VA 8 液晶セル下電極基板
VA 9 下基板配向制御方向
VA 10 下光学異方性層１
VA 11 下光学異方性層１遅相軸方向
VA 12 下光学異方性層２
VA 13 下光学異方性層２遅相軸方向
VA 14 下偏光板
VA 15 下偏光板吸収軸
OCB 1 上偏光板
OCB 2 上偏光板吸収軸
OCB 3 上光学異方性層
OCB 4 上光学異方性層配向制御方向
OCB 5 液晶セル上電極基板
OCB 6 上基板配向制御方向
OCB 7 液晶層
OCB 8 液晶セル下電極基板
OCB 9 下基板配向制御方向
OCB 10 下光学異方性層
OCB 11 下光学異方性層配向制御方向
OCB 12 下偏光板
OCB 13 下偏光板吸収軸
ECB 1 上偏光板
ECB 2 上偏光板吸収軸
ECB 3 上光学異方性層１
ECB 4 上光学異方性１層遅相軸方向
ECB 6 上光学異方性層２遅相軸方向
ECB 5 上光学異方性層２
ECB 7 液晶セル上電極基板
ECB 8 上基板配向制御方向
ECB 9 液晶層
ECB 10 反射部電極
ECB 11 層間絶縁膜
ECB 12 下基板配向制御方向
ECB 13 液晶セル下電極基板
ECB 14 下光学異方性層１
ECB 15 下光学異方性層１遅相軸方向
ECB 16 下光学異方性層２
ECB 17 下光学異方性層２遅相軸方向
ECB 18 下偏光板
ECB 19 下偏光板吸収軸
IPS 1 上側偏光板
IPS 5 液晶セル上側基板
IPS 7 液晶分子
IPS 8 液晶セル下側基板
IPS13 下側偏光板
IPS14 線状電極
Ｗ ウェブ
１ 支持体フィルムのロール
２ 巻き取りロール
１００，２００，３００，４００ 製膜ユニット
１０１ 塗布部
１０２ 乾燥部
１０３ 硬化装置
１０ コーター
１１ バックアップロール
１３ スロットダイ
１４ 塗布液
１４ａ ビード形状
１４ｂ 塗膜
１５ ポケット
１６ スロット
１６ａ スロット開口部
１７ 先端リップ
１８ ランド（平坦部）
１８ａ 上流側リップランド
１８ｂ 下流側リップランド
Ｉ_UP 上流側リップランド１８ａのランド長さ
Ｉ_LO 下流側リップランド１８ｂのランド長さ
ＬＯ オーバーバイト長さ
Ｇ_L 先端リップ１７とウェブＷの隙間
３０ スロットダイ
３１ａ 上流側リップランド
３１ｂ 下流側リップランド
３２ ポケット
３３ スロット
４０ 減圧チャンバー
４０ａ バックプレート
４０ｂ サイドプレート
４０ｃ ネジ
Ｇ_B バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間
Ｇ_S サイドプレート４０ｂとウェブＷの間の隙間

Claims (16)

1. 透明支持体上に光拡散性層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、光拡散性層の内部ヘイズが３０乃至６０％かつ表面ヘイズ値が２％以下であり、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
2. 表面ヘイズ値が１％以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. ＪＩＳＫ５６００−７−７：１９９９に基づく耐候性試験前後の反射光の色味変化ΔＥがＬ^*ａ^*ｂ^*色度図上で１５以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
4. 前記低屈折率層の表面エネルギーが２６ｍＮ／ｍ以下で、且つ動摩擦係数が０．２５以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5. 前記光拡散性層が透光性樹脂と少なくとも２種類以上の透光性微粒子を含み、該透光性樹脂と該透光性微粒子との屈折率の差が０．０２以上、０．２０以下であり、且つ、前記２種類以上の透光性微粒子が屈折率の差を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. 前記低屈折率層が含フッ素化合物を含有する屈折率１．３１以上１．４８以下の低屈折率層であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
7. 前記低屈折率層が、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰り返し単位と側鎖にラジカル重合性基を有する繰り返し単位とを含んでなる共重合体からなる硬化皮膜であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8. 前記反射防止フィルムが、さらに導電性層を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
9. バックアップロールによって支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リップのランドを近接させて、前記先端リップのスロットから塗布液を塗布する塗布工程を具備し、
   前記塗布工程において、塗布液の塗布は、前記スロットダイのウェブ進行方向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さが３０μｍ以上１００μｍ以下であるスロットダイを有し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたときに、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェブとを、両者の隙間が、前記ウェブの進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも３０μｍ以上１２０μｍ以下大きくなるように設置した塗布装置を用いて、前記光拡散性層及び前記低屈折率層の少なくともいずれかの塗布液が塗布されることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
10. 前記塗布液の塗布時における粘度が２.０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下であり、ウェブの表面に塗り付けられる塗布液の量が２.０〜５.０［ｍｌ／ｍ²］であることを特徴とする請求項９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
11. 前記塗布液を、連続走行するウェブの表面に２５［ｍ／ｍｉｎ］以上の速度で塗設することを特徴とする請求項９または１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
12. 請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムあるいは請求項９〜１１のいずれか
    に記載の製造方法により作製した反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルムの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。
13. 請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムあるいは請求項９〜１１のいずれかに記載の製造方法により作製した反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いたことを特徴とする偏光板。
14. 少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該基板間に挟持された液晶層と、該液晶層の外側の視認側最表面に配置された偏光板とを有する液晶表示装置であって、前記偏光板が請求項１２または１３に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
15. 上記の液晶表示装置が、ＩＰＳ（In-Plane Switching）液晶表示装置、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）液晶表示装置またはＶＡ（Vertically Aligned）液晶表示装置であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
16. 表示画像の大きさが２０インチ以上であることを特徴とする請求項１４または１５のいずれかに記載の液晶表示装置。

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