JP2002055205A - 反射防止フィルムおよび画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】反射率が低く、防汚性、表面のゴミ付着防止性
のすぐれた反射防止フィルム、およびそれを用いた偏光
板、画像表示装置を提供すること。 【解決手段】透明支持体上に、少なくとも１層の低屈折
率層を有し、かつ４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射
率が２．５％以下である反射防止フィルムで、該反射防
止フィルムの表面層に含フッ素ポリマーが含有され、か
つ該表面層のＸ線光電子分光法によるＦ1s／Ｃ1sピーク
強度比が０．２〜５．０、Ｓｉ2p／Ｆ1sピーク強度比
が、０．０５〜２．０であり、該表面の動摩擦係数が
０．２５以下である反射防止フィルム、さらにはこのフ
ィルムを用いた偏光板、画像表示装置が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防汚性、帯電防止
性の改良された反射防止膜、及びそれを用いた画像表示
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは一般に、陰極管表示
装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率
を低減するディスプレイの最表面に配置される 反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄膜を積層させ
た多層膜によるものや、透明支持体の屈折率よりも低い
屈折率を有する層（低屈折率層）を塗布することにより
反射率を下げた低反射フィルム等が一般によく知られて
いる。

【０００３】透明支持体上に透明支持体の屈折率よりも
低い屈折率を有する層（低屈折率層）を有する反射防止
フィルムにおいて、反射率を低減するためには低屈折率
層を十分に低屈折率化する必要が生じる。例えばトリア
セチルセルロースを支持体とし、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートのＵＶ硬化被膜をハードコート層
とする反射防止フィルムで４５０ｎｍから６５０ｎｍに
おける平均反射率を２．５％以下にするためには屈折率
を１．４５以下にしなければならない。屈折率１．４５
以下の素材として、無機物ではシリカ、フッ化マグネシ
ウムやフッ化カルシウム、有機物ではフッ素含率の大き
い含フッ素有機化合物等が用いられる。このような低屈
折率層は、通常、反射防止フィルムの最外層に設けられ
る。そのため、このような反射防止フィルムを画像表示
装置の表面に設けた場合、表面での汚れ付着や、汚れの
拭き取りにくさが問題となる。この時、低屈折率層が含
フッ素有機化合物の場合、その表面の撥水性・撥油性に
より、防汚性が付与できる。また、シリカ等の無機化合
物が表面に有る場合、低屈折率層上に防汚層として、含
フッ素化合物が設けられる。

【０００４】低屈折率層として、含フッ素有機化合物を
用いたり、防汚層として含フッ素化合物を用いたりし
て、最表面層に含フッ素化合物を有する場合、ＣＦx基
が、負のはく離帯電を起こしやすいために、反射防止フ
ィルムの取り扱い・加工時にゴミが付着しやすい、この
反射防止フィルムを画像表示装置の表面に設けた場合、
ほこりが着きやすいといった問題が生じる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、反射
率が低く、防汚性、帯電防止性のすぐれた反射防止フィ
ルムを提供することにある。本発明の他の目的は、上記
特性に優れた反射防止フイルムを用いた偏光板、及び画
像表示装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記構
成の反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置が提
供されて、本発明の上記目的が達成される。 １．透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有
し、かつ４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が２．
５％以下である反射防止フィルムにおいて、該反射防止
フィルムの表面層に含フッ素ポリマーが含有されてお
り、かつ該表面のＸ線光電子分光法によるＦ１ｓ／Ｃ１
ｓピーク強度比が０．２〜５．０であり、Ｓｉ２ｐ／Ｆ
１ｓピーク強度比が０．０５〜２．０であり、該表面の
動摩擦係数が０．２５以下であることを特徴とする反射
防止フィルム。 ２．反射防止フィルムの表面層に、含フッ素ポリマーお
よびポリオルガノシロキサンが含有されていることを特
徴とする上記１に記載の反射防止フィルム。 ３．ポリオルガノシロキサンの平均分子量が５００以上
であることを特徴とする上記２記載の反射防止フィル
ム。 ４．含フッ素ポリマーとポリオルガノシロキサンが、化
学的に結合していることを特徴とする上記２または３に
記載の反射防止フィルム。 ５．反射防止フィルム表面のポリエチレンテレフタレー
トに対する垂直剥離帯電量が、±２００ｐＣ（ピコクー
ロン）／ｃｍ²以内であることを特徴とする上記１〜４
のいずれかに記載の反射防止フィルム。 ６．反射防止フィルム表面の表面抵抗が１×１０¹²Ω／
ｓｑ以下であることを特徴とする上記１〜５のいずれか
にに記載の反射防止フィルム。 ７．低屈折率層と透明支持体の間に、該透明支持体の屈
折率より０．０５以上高い屈折率を有する高屈折率層を
有することを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の
反射防止フィルム。 ８．低屈折率層と透明支持体の間に防眩層を有し、ヘイ
ズ値が５から２０％であることを特徴とする上記１〜７
のいずれかに記載の反射防止フィルム。 ９．上記１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルム
を、偏光板の偏光層の２枚の保護フィルムのうちの少な
くとも一方に用いたことを特徴とする偏光板。 １０．上記１〜８のいずれかにに記載の反射防止フィル
ムを有することを特徴とする画像表示装置。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。図１は、反射防止膜
の主な層構成を示す断面模式図である。図１の（ａ）に
示す態様は、透明支持体１、低屈折率層２の順序の層構
成を有する。透明支持体１と低屈折率層２は、以下の関
係を満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率＜透
明支持体の屈折率図１の（ｂ）に示す態様は、透明支持
体１、ハードコート層３、低屈折率層２の順序の層構成
を有する。透明支持体１と低屈折率層２は、以下の関係
を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率

【０００８】図１の（ｃ）に示す態様は、透明支持体
１、ハードコート層３、高屈折率層４、低屈折率層２の
順序の層構成を有する。透明支持体１、高屈折率層４お
よび低屈折率層２は、以下の関係を満足する屈折率を有
する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜高屈折率層
の屈折率 図１の（ｃ）のように、高屈折率層４と低屈折率層２と
を有する反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公
報に記載されているように、高屈折率層が下記式（Ｉ）
を、低屈折率層が下記式（II）をそれぞれ満足すること
が好ましい。 （ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３ ……式（Ｉ） 式（Ｉ）中、ｍは正の整数（一般に１、２または３）で
あり、ｎ₁は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は
高屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。 （ｎλ／４）×０．７＜ｎ₂ｄ₂＜（ｎλ／４）×１．３ ……式（II） 式（II）中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、ｎ₂は
低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₂は低屈折率層
の膜厚（ｎｍ）である。式（Ｉ）、（II）において、λ
は波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲に
おいて数式（Ｉ）を満たすｍ（正の整数）が存在するこ
とを意味している。上記数式（II）を満たすとは、上記
波長の範囲において数式（II）を満たすｎ（正の奇数、
一般に１）が存在することを意味している。

【０００９】図１の（ｄ）に示す態様は、防汚層を付与
する場合の構成の１例を示したものである。透明支持体
１、ハードコート層３、高屈折率層４、低屈折率層２、
防汚層５の順序の層構成を有する。高屈折率層４および
低屈折率層２は、それぞれ上記式（Ｉ）、（II）を満た
す屈折率、膜厚にすることが好ましい。また、防汚層４
の膜厚は、下層の屈折率、膜厚設定による反射防止性能
に影響しない膜厚に設定することが好ましく、一般的に
は２０ｎｍ以下が好ましい。図１の（ｄ）に示した構成
は、１つの例であり、この例の他にも、図１の（ａ）、
（ｂ）の低屈折率層を、低屈折率層＋防汚層に置き換え
る構成をとることができる。

【００１０】また、本発明においてはハードコート層に
凹凸を付与して防眩性反射防止フィルムとすることも好
ましい。この場合、このハードコート層を高屈折率化す
ることが特に好ましい。この基本的な構成を図面を引用
しながら説明する。図１（ｅ）に示す態様は本発明の防
眩性反射防止フィルムの一例であり、透明支持体１、ハ
ードコート層３、そして低屈折率層２の順序の層構成を
有する。６は粒子である。ハードコート層の粒子以外の
部分の素材の屈折率は、１．４５〜２．３０であること
が好ましく、１．５７〜２．１０であることがより好ま
しく、低屈折率層の屈折率は１．３８〜１．４９である
ことが好ましい。ハードコート層３は複数の層から成っ
てもよい 図１（ｅ）に示されるような反射防止膜では、低屈折率
層が下記式（III）を満足することが好ましい。 （ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３ ……（III） 式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ₁は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。λは波長であり、５００〜５５０ｎｍ
の範囲の値である。

【００１１】本発明のハードコート層の屈折率は１つの
値で記述されず、ハードコート層を形成する素材中に粒
子が分散している屈折率不均一層であることも好まし
い。ハードコート層を形成する素材の屈折率は１．５７
〜２．００であることが好ましい。高屈折率素材が二以
上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとチタン、ア
ルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、及びアンチモンの
うちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からな
る粒径１００ｎｍ以下の微粒子とからなる場合、微粒子
の粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じ
ず、光学的には均一な物質として振舞うことが、特開平
８−１１０４０１等に記載されている。

【００１２】以下、各層について説明する。 ［透明支持体］透明支持体としては、プラスチックフィ
ルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを
形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、
トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース）、ポ
リアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト）、ポリスチレン、ポリオレフィン、アートン、ゼオ
ネックスなどが挙げられる。このうちトリアセチルセル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、アートン、ゼオネックスが好ましく、特に
トリアセチルセルロースが好ましい。本発明の反射防止
フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を
設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明
支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光
層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロー
スが用いられるため、本発明の防眩性反射防止フィルム
をそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では
好ましい。透明支持体の光透過率は８０％以上であるこ
とが好ましく、８６％以上であることがさらに好まし
い。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが
好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４〜１．７であることが好
ましい。透明支持体には、機能性付与のため、下塗り
層、帯電防止層、マット層、滑り層等を設けることも好
ましい。

【００１３】［ハードコート層・防眩性付与層］本発明
の反射防止フィルムでは、ハードコート層を、必要に応
じて、フィルム強度向上の目的で透明支持体と低屈折率
層の間に塗設してもよい。また、本発明のハードコート
層の屈折率は、上層もしくは支持体の屈折率に応じて、
調整することができる。この屈折率は、１．４５〜１．
９０の範囲が好ましい。ハードコート層に用いる化合物
は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有す
るポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖
として有するポリマーであることがさらに好ましい。バ
インダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和
炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不
飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架
橋しているバインダーポリマーを得るためには、二個以
上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いること
が好ましい。また、ハードコート層を高屈折率にする場
合には、このモノマーの構造中に芳香族環、フッ素以外
のハロゲン原子、硫黄、リン、窒素の原子から選ばれた
少なくとも１つを含むことも好ましい。

【００１４】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シ
クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニ
ルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベ
ンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチル
エステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニ
ルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。高屈折率モノマーの例には、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリ
マーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合
成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を
有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重
合反応により硬化させる必要がある。

【００１５】上記の多官能モノマーの重合反応の内、光
重合開始剤を用いることは特に好ましい。光重合開始剤
の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒ
ラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエス
テル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチ
オキサントン類が含まれる。光重合開始剤に加えて、光
増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、ｎ−ブチル
アミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィ
ン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンが含まれ
る。光重合開始剤は、多官能モノマー１００重量部に対
して、０．１〜１５重量部の範囲で使用することが好ま
しく、１〜１０重量部の範囲で使用することがさらに好
ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾
燥後、紫外線照射により実施することが好ましい。

【００１６】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応に
より、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよ
い。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキ
シ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、
カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロ
ール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホ
ン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミ
ン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、
テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架
橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブ
ロックイソシアナート基のように、分解反応の結果とし
て架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明に
おいて架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分
解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架
橋基を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる
必要がある。

【００１７】更にハードコート層には、屈折率の調節や
膜の硬化強度を高めるための無機の微粒子を添加しても
良い。無機の微粒子としては平均粒子サイズが０．５μ
ｍ以下のものが好ましく、０．２μｍ以下のものが特に
好ましい。無機微粒子としては二酸化ケイ素粒子、二酸
化チタン粒子、二酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニ
ウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリ
ウム粒子、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子
があげられ、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸
化アルミニウム粒子が特に好ましい。これらの微粒子
は、塗布液中での安定性、膜強度の強化のために、表面
処理されていることも好ましい。また、ハードコート層
の屈折率を高めることも好ましい。このためには、チタ
ン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、
錫、及びアンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種
の金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましく
は５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。微
粒子の例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ
₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げら
れる。また、ハードコート層に導電性を持たせることも
好ましい。このためには、導電性無機微粒子を添加する
ことが好ましい。導電性無機微粒子は、酸化錫、酸化イ
ンジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが含まれる。酸化
錫および酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子
は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、
さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子
を構成する成分の中で最も含有量（重量％）が多い成分
を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓ
ｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈ
ｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉ
ｎ、Ｖおよびハロゲン原子が含まれる。酸化錫および酸
化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、
Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子を添加することが好
ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）およびＳｎを
含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。Ａ
ＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０重量％であることが好
ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０重量％であ
ることが好ましい。無機微粒子の添加量は、ハードコー
ト層の全重量の１０〜９０重量％であることが好まし
く、２０〜８０重量％であると更に好ましく、３０〜６
０重量％が特に好ましい。また、ハードコート層の厚さ
は１〜１５μｍあることが好ましい。

【００１８】また、本発明においては、防眩性の付与の
ために、上記のハードコート層にマット粒子を分散させ
ることもできる。また、ハードコート層を高屈折率に
し、マット剤を分散させ、ハードコート層と高屈折率層
を兼ねた防眩層とすることもできる。また、このマット
剤添加によりハードコート層の干渉による反射率悪化、
色むら防止も可能となる。このようなマット剤として
は、樹脂または無機化合物の粒子が用いられ、例えば、
シリカ粒子やＴｉＯ₂粒子、架橋アクリル粒子、架橋ス
チレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂
粒子などが好ましく用いられる。平均粒径は１．０〜１
０．０μｍが好ましく、１．５〜７．０μｍがより好ま
しい。また、粒子の形状としては、真球、不定形のいず
れも使用できる。異なる２種以上の粒子を併用して用い
てもよい。また、ハードコート層の膜厚の２分の１より
も大きい粒径の粒子が、該粒子全体の４０〜１００％を
占めることが好ましい。粒度分布はコールターカウンタ
ー法や遠心沈降法等により測定できるが、分布は粒子数
分布に換算して考える。この場合ハードコート層膜厚は
２〜１０μｍが好ましく、３〜６μｍがより好ましい。
また、本発明のマット剤粒子中から、平均粒径から大き
く外れる粗大粒子を除くことが好ましい。この粗大粒子
の存在が、輝点欠陥の原因となる場合もある。粗大粒子
の除去方法としては、マット剤の風力分級、もしくはマ
ット剤分散液、塗布液のろ過等の手段がある。

【００１９】［低屈折率層、防汚層］本発明において、
該反射防止フィルムの表面層には、含フッ素ポリマーが
含まれる。そのためには、低屈折率層に含フッ素ポリマ
ーを含むか、もしくは、低屈折率層上に、含フッ素ポリ
マーを含むオーバーコート層を付与することが好まし
い。このうち、低屈折率層に含フッ素ポリマーを含むこ
とが、塗工する層数が減少するため、特に好ましい。表
面層に含フッ素ポリマーを含むことは、低屈折率層の低
屈折率化、防汚性付与のために必要であるが、表面層の
フッ素含率が上がることにより、剥離帯電により、表面
が負に帯電しやすく、反射防止フィルム表面にほこりが
つき易くなる。この表面の帯電性を抑える方法を検討し
た結果、剥離帯電により表面が正に帯電し易いポリオル
ガノシロキサン化合物を添加し、特定の表面組成、表面
滑り性にすることで帯電性、ほこりの付着性を抑えられ
た。

【００２０】本発明の反射防止フィルムの最表面層（低
屈折率層あるいは防汚層）の表面組成は、特定のフッ素
含率（Ｆ含率）及びケイ素含率（Ｓｉ含率）である。こ
の表面のＦ含率及びＳｉ含率は、Ｘ線光電子分光法（Ｘ
ＰＳ）により測定できる。本発明における、ＸＰＳの
Ｆ、Ｓｉ、Ｃの値は測定時のおのおののピークの面積
を、各元素の表面の存在量に換算した値である。Ｘ線光
電子分光法による表面の元素組成の測定には、励起用Ｘ
線源としてＭｇ−Ｋα線を用い、真空度は５×１０^-5Ｐ
ａ以下で光電子の検出は試料面に対して垂直の方向で行
なう。Ｃ１ｓ電子の検出には結合エネルギーが３００ｅ
ｖから２７０ｅｖの範囲をスキャンスピード０．２ｅｖ
／秒以下で測定し、Ｆ１ｓ電子の検出には結合エネルギ
ーが７００ｅｖから６８０ｅｖの範囲をスキャンスピー
ド０．２ｅｖ／秒以下で測定する。Ｓｉ２ｐ電子の検出
には、結合エネルギーが１１０ｅＶから、９４ｅＶの範
囲をスキャンスピード０．２ｅｖ／秒以下で測定する。
この際に、励起用Ｘ線の照射でＦ１ｓ電子の信号は急激
に減衰するため、Ｘ線の照射からＦ１ｓピークの測定終
了までの所要時間が５０秒を越えないようにする必要が
ある。ピーク強度は、ベースラインからピークの最大値
までの面積を測定することにより求められる。この方法
で求めたＦ１ｓ／Ｃ１ｓのピーク強度比は、試料表面近
傍のフッ素と炭素の組成比、Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓのピーク
強度比は、試料表面近傍のフッ素とケイ素の組成比を表
すものである。

【００２１】本発明の反射防止フィルムは、表面のＦ１
ｓ／Ｃ１ｓピーク強度比が０．２〜５．０である。Ｆ１
ｓ／Ｃ１ｓピーク強度比が大きすぎると、表面が負に帯
電しやすく、反射防止フィルム表面にほこりがつき易
い。Ｆ１ｓ／Ｃ１ｓピーク強度比が低すぎると、表面に
ついた汚れの拭き取り性が悪化する、低屈折率層の屈折
率が上昇する等の問題が生じる。Ｆ１ｓ／Ｃ１ｓピーク
強度比は、より好ましくは０．２〜２．０、さらに好ま
しくは０．３〜１．５の範囲である。また、Ｓｉ２ｐ／
Ｆ１ｓピーク強度比は、０．０５〜２．０である。ここ
で示されるケイ素は、後述する動摩擦係数とあわせて、
表面にポリオルガノシロキサンが存在することを示す指
標となる。Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓが０．０５未満となると表
面が負に帯電しやすくなる。また、Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓが
２．０を越えると、低屈折率層の屈折率増加、表面の防
汚性が悪化する。Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ値は、０．０８〜
１．５がより好ましく、０．１〜１．０の範囲が特に好
ましい。また、本発明の反射防止フィルムの表面の動摩
擦係数は、０．２５以下である。この動摩擦係数は、表
面にポリオルガノシロキサンが存在することを示す指標
となる。動摩擦係数が０．２５以下であることにより、
表面の帯電性、ほこり非付着性が良好となる。また、指
紋付着汚れのふきとり性も、滑り易い方が良好である。
より好ましい動摩擦係数は０．２０以下であり、特に好
ましくは０．１８以下である。

【００２２】本発明の反射防止膜表面の帯電しやすさ
は、垂直剥離帯電試験により、測定できる。測定サンプ
ルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で２時間以上放置
しておく。測定装置は、測定サンプルを置く台と相手の
フィルムを保持して、測定サンプルに上から圧着と剥離
を繰り返すヘッドからなり、このヘッドに帯電量を測定
するエレクトロメーターがつながっている。測定する反
射防止フィルムを台に乗せ、ヘッドにポリエチレンテレ
フタレートを装着する。測定部分を除電したのち、ヘッ
ドを測定サンプルに圧着させ剥離させることを繰り返
し、１回目の剥離時と５回目の剥離時の帯電の値を読
み、１回目と５回目の剥離帯電値が±１００ｐＣ／ｃｍ
² である場合に、５回目の帯電の値を垂直剥離帯電と
する。

【００２３】本発明の反射防止フィルムは、ポリエチレ
ンテレフタレートに対して常温常湿（２３〜２６℃、５
０〜７０％ＲＨ）で測定した垂直剥離帯電が±２００ｐ
Ｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²以内であることが好まし
い。より好ましくは±１５０ｐＣ／ｃｍ²以内であり、
さらに好ましくは±１００ｐＣ／ｃｍ²以内である。垂
直剥離帯電値は、相手フィルムや測定サンプルの種類に
よってプラスに帯電する場合と、マイナスに帯電する場
合があるが、問題となるのは絶対値の大きさである。ま
た、一般的に低湿下の方が帯電の絶対値は大きくなる。
本発明では、この値が小さいことが望ましい。また、本
発明において、発生した電荷の除去のために、反射防止
層を付与したフイルムの表面抵抗値を下げることも好ま
しい。好ましい表面抵抗値は、１０¹²Ω／ｓｑ以下であ
り、より好ましくは１０¹⁰Ω／ｓｑ以下であり、さらに
好ましくは、１０⁸Ω／ｓｑである。表面抵抗は、四探
針法により測定することができる。表面抵抗値を下げる
ためには、本発明のハードコート層、高屈折率層等に導
電性を持たせる方法や、低屈折率層に帯電防止剤を添加
する方法、あるいはこれらの層以外に帯電防止層を設け
る方法が挙げられる。

【００２４】本発明において、低屈折率層の形成方法と
しては、ＳｉＯ₂等の無機の低屈折率化合物を蒸着、ス
パッタリング等により付与する方法、あるいは熱または
電離放射線により架橋する含フッ素化合物、粒子とバイ
ンダーを用い、粒子間あるいは粒子内部に空隙を有する
層、ゾルゲル法による低屈折率層等を塗工により付与す
る方法が挙げられる。このうち、塗工による形成法が、
連続、大量生産性がよく、好ましい。また、低屈折率層
に含フッ素ポリマーが含まれない場合は、オーバーコー
ト層として含フッ素化合物重合体を含む層を付与するこ
とで対応することができる。低屈折率層の屈折率は、低
ければ反射防止性能が良化するため好ましいが、低屈折
率層の強度付与の観点では困難となる。このバランスを
考えると、低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．５０で
あることが好ましく、１．３５〜１．４９であることが
さらに好ましい。

【００２５】低屈折率層、もしくはオーバーコート層に
用いられる含フッ素ポリマーとしては、含フッ素ビニル
ポリマー、含フッ素ポリエーテル、含フッ素ポリシロキ
サン等、含フッ素モノマーを構成単位とした重合体／共
重合体の他、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物
（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テト
ラデシル）トリエトキシシラン）等の重合体等が挙げら
れる。これらの重合体は、塗布以前に重合したものでも
良いし、塗布後塗膜中で重合したものでも良い。含フッ
素ポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノ
マーの重合反応により合成することが好ましい。含フッ
素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィ
ン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２
−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アク
リル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導
体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ
−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素
化ビニルエーテル類、パーフルオロポリエーテルおよび
その誘導体等である。これらの中から１種を重合して、
あるいは複数のモノマーを任意の比率で組み合わせて共
重合により目的のポリマーを得ることができる。

【００２６】また、上記含フッ素モノマーと、フッ素原
子を含有しないモノマーとの共重合体を含フッ素ポリマ
ーとして用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特
に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピ
レン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、
アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキ
シル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレ
ングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体
（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−
メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニル
エーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類
（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキ
シルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリ
ロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

【００２７】含フッ素ポリマー中に、熱または放射線架
橋性構造を導入することは、特に好ましい。架橋性基付
与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレート
や、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオ
キシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエ
ーテル等のように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有
するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシ
ル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマ
ー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）ア
クリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
ト、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエ
ーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等）が挙げ
られる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応
する基ともう１つ以上の反応性基をもつ化合物を加える
ことにより、架橋構造を導入できることが特開平１０−
２５３８８公報および特開平１０−１４７７３９公報に
記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メ
タクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジ
ン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジ
ン、カルボキシル、メチロールおよび活性メチレン基等
が上げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応す
る架橋基、もしくはエチレン性不飽和基と熱ラジカル発
生剤、もしくはエポキシ基と熱酸発生剤等の組み合わせ
により、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エ
チレン性不飽和基と光ラジカル発生剤もしくは、エポキ
シ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光（好ましく
は紫外線、電子ビーム等）の照射により架橋する場合、
電離放射線硬化型である。フッ素ポリマーとしては、市
販されている素材を使用することもできる。市販されて
いるフッ素ポリマーの例としては、サイトップ（旭硝
子）、テフロンＡＦ（デュポン）、ポリフッ化ビニリデ
ン、ルミフロン（旭硝子）、オプスター（ＪＳＲ）、等
があげられる。

【００２８】本発明においては、上記の含フッ素ポリマ
ーの他に、ポリオルガノシロキサン化合物が含まれるこ
とが好ましい。本発明のポリオルガノシロキサン化合物
は、滑り性、表面濃縮性が必要なため、重合体として添
加することが好ましい。このポリオルガノシロキサン化
合物は、表面濃縮性、正の表面帯電性、滑り性、撥水性
等をもつ。このため、フッ素ポリマーと共存させると、
一緒に表面に濃縮し、フッ素による表面の負の帯電性を
相殺し、帯電性を改良する、滑り性改良により、表面強
度を向上させる、汚れを拭き取りやすくする等の効果が
ある。このようなポリオルガノシロキサンとしては、例
えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサ
ン等のポリアルキルシロキサン、ポリジフェニルシロキ
サン、ポリメチルフェニルシロキサン等のポリアリール
シロキサンのほかに、特公昭５３−２９２号、特公昭５
５−４９２９４号、特開昭６０−１４０３４１号等の各
公報に記載されているような、炭素数５以上のアルキル
基を持つオルガノポリシロキサン、側鎖にポリオキシア
ルキレン基を有するアルキルポリシロキサン、側鎖にア
ルコキシ、ヒドロキシ、水素、カルボキシル、アミノ、
メルカプト基を有するようなオルガノポリシロキサン等
の変性ポリシロキサンを用いることもできるし、シロキ
サンユニットを有するブロックコポリマーや、特開昭６
０−１９１２４０号に記載されているようなシロキサン
ユニットを側鎖に持つグラフトコポリマーを用いること
もできる。これらの化合物の合成法及び化合物について
は、独国特許第１，９３８，９５９号、米国特許第２，
６９４，６３７号、米国特許第３，０４２，５２２号、
特公昭５１−３３６００号、特公昭５２−２２０４０
号、特開昭５９−３１５４３号、特開昭６０−５４０１
５号、特開昭６２−２０３１５２号、特開昭６２−２６
９１３９号、特開昭６２−２６９１３９号、特開平２−
３０１７５０号、特開平２−１１５８３６号、特公平３
−２２８５号、特開平６−１０２６１５号等に詳しい記
載がある。好ましい具体例としては、ＫＦ−９６（信越
化学社製）、ＳＦ１０２３、ＳＦ１０５４、ＳＦ１０７
９（General Electric社製）、ＤＣ１９０、ＤＣ２０
０、ＤＣ５１０、ＤＣ１２４８（Dow Corning社製）、
ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３
２２、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３７０（BYK Chemie社
製）、Ｌ−４５、ＦＺ−３７０４、ＦＺ−３７１１、Ｆ
Ｚ−３７２２、ＦＺ−３７２０、Ｌ−９０００（日本ユ
ニカー）などが挙げられる。このようなポリオルガノシ
ロキサン化合物のうち、ポリアルキルシロキサン構造を
含有するものが特に好ましく、ポリジメチルシロキサン
構造を有するものが、もっとも好ましい。

【００２９】上記のポリオルガノシロキサンが、十分な
滑り性、帯電防止性を有し、フッ素化合物による撥油
性、低屈折率性を悪化させないためには、数平均分子量
（ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値）が５００〜１０
万の範囲にあることが好ましい。より好ましくは数平均
分子量８００〜５万、特に好ましくは１０００〜３万で
ある。上記のポリオルガノシロキサン化合物が、含フッ
素ポリマーと化学的に結合していることは、ポリオルガ
ノシロキサンの転写による、経時での性能の悪化、転写
面の性能への悪影響を抑えるために、特に好ましい。こ
れは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニル
エーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサ
ンと前述したフッ素ポリマーを構成するモノマー／共重
合モノマーとの共重合、末端にラジカル発生基を持つポ
リオルガノシロキサンによる前記モノマーの重合、官能
基を持つポリオルガノシロキサンと、含フッ素共重合体
との反応等によって得られる。フッ素素材による低屈折
率層あるいはオーバーコート層は、水に対する接触角が
９０〜１２０度であることが好ましい。

【００３０】上記のフッ素素材による低屈折率層中に無
機微粒子を用いることは、強度改良の点で好ましい。無
機微粒子としては非晶質のものが好ましく用いられ、金
属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からな
ることが好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原
子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍ
ｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍ
ｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍ
ｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさらに好ましい。二種類の金
属を含む無機化合物を用いても良い。特に好ましい無機
化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。無機
微粒子の平均粒径は０．００１〜０．２μｍであること
が好ましく、０．００５〜０．０５μｍであることがよ
り好ましい。微粒子の粒径はなるべく均一（単分散）で
あることが好ましい。無機微粒子の添加量は、低屈折率
層の全重量の５〜９０重量％であることが好ましく、１
０〜７０重量％であると更に好ましく、１０〜５０重量
％が特に好ましい。無機微粒子は表面処理を施して用い
ることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処
理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリ
ング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリン
グ剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、オル
ガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。該
無機微粒子がシリカの場合はシランカップリング処理が
特に有効である。

【００３１】低屈折率層として、無機もしくは有機の微
粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミクロボイドと
して形成した層を用いることも好ましい。粒子間のミク
ロボイドは、微粒子を少なくとも２個以上積み重ねるこ
とにより形成することができる。なお、粒径が等しい
（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填すると、２６
体積％の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。
粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填すると、４８体
積％の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。実
際の低屈折率層では、微粒子の粒径の分布や粒子内ミク
ロボイドが存在するため、空隙率は上記の理論値からか
なり変動する。空隙率を増加させると、低屈折率層の屈
折率が低下する。微粒子を積み重ねてミクロボイドを形
成と、微粒子の粒径を調整することで、粒子間ミクロボ
イドの大きさも適度の（光を散乱せず、低屈折率層の強
度に問題が生じない）値に容易に調節できる。さらに、
微粒子の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイド
の大きさも均一である光学的に均一な低屈折率層を得る
ことができる。これにより、低屈折率層は微視的にはミ
クロボイド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨視
的には均一な膜にすることができる。粒子間ミクロボイ
ドは、微粒子およびポリマーによって低屈折率層内で閉
じていることが好ましい。閉じている空隙には、低屈折
率層表面に開かれた開口と比較して、低屈折率層表面で
の光の散乱が少ないとの利点もある。

【００３２】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の
屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構
成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマ
ーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は１よりも大
きな値であるのに対して、空気の屈折率は１．００であ
る。そのため、ミクロボイドを形成することによって、
屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。微
粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｍｍであることが好
ましく、１〜１００ｎｍであることがより好ましく、３
〜７０ｎｍであることがさらに好ましく、５〜４０ｎｍ
の範囲であることが最も好ましい。微粒子の粒径は、な
るべく均一（単分散）であることが好ましい。

【００３３】無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫
化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属
酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好
ましく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが
最も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉ
ｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａ
ｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂお
よびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさら
に好ましい。また、無機微粒子は、非晶質であることが
好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよ
い。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわ
ちシリカである。

【００３４】無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成
することができる。シリカの分子を架橋させると体積が
縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する
（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−
１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記
載）または析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁（198
8）記載）により、分散物として直接合成することがで
きる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に
粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機
微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。
ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成
のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好
ましい。分散媒としては、水、アルコール（例、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール）およびケ
トン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン）が好ましい。

【００３５】有機微粒子は、モノマーの重合反応（例え
ば乳化重合法）により合成されるポリマー微粒子である
ことが好ましい。この有機微粒子も非晶質であることが
好ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むこ
とが好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、３５
〜８０重量％であることが好ましく、４５〜７５重量％
であることがさらに好ましい。また、有機微粒子内に、
例えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮
小させることによりミクロボイドを形成させることも好
ましい。粒子を形成するポリマーを架橋させるために
は、ポリマーを合成するためのモノマーの２０モル％以
上を多官能モノマーとすることが好ましい。多官能モノ
マーの割合は、３０〜８０モル％であることがさらに好
ましく、３５〜５０モル％であることが最も好ましい。
上記有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、
含フッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を
含むモノマーの例として、フルオロオレフィン類（例、
フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフ
ルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフル
オロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、ア
クリル酸またはメタクリル酸のフッ素化アルキルエステ
ル類およびフッ素化ビニルエーテル類が含まれる。フッ
素原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマー
とのコポリマーを用いてもよい。フッ素原子を含まない
モノマーの例には、オレフィン類（例、エチレン、プロ
ピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、
アクリル酸エステル類（例、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタク
リル酸エステル類（例、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸ブチル）、スチレン類（例、
スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン）、ビ
ニルエーテル類（例、メチルビニルエーテル）、ビニル
エステル類（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル）、
アクリルアミド類（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド）、メタクリル
アミド類およびアクリルニトリル類が含まれる。多官能
モノマーの例には、ジエン類（例、ブタジエン、ペンタ
ジエン）、多価アルコールとアクリル酸とのエステル
（例、エチレングリコールジアクリレート、１，４−シ
クロヘキサンジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート）、多価アルコールとメタクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジメタクリレー
ト、１，２，４−シクロヘキサンテトラメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート）、ジ
ビニル化合物（例、ジビニルシクロヘキサン、１，４−
ジビニルベンゼン）、ジビニルスルホン、ビスアクリル
アミド類（例、メチレンビスアクリルアミド）およびビ
スメタクリルアミド類が含まれる。

【００３６】ボイドを含有する低屈折率層に対しては、
５〜５０重量％の量のポリマーを含むことが好ましい。
ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の
構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空
隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるよ
うに調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の１
０〜３０重量％であることがより好ましい。ポリマーと
微粒子をを接着させることは、低屈折率層の強度付与の
ために好ましい。その方法としては、（１）微粒子の表
面処理剤にポリマーを結合させる方法、（２）微粒子を
コアとして、その周囲にポリマーシェルを形成する方
法、（３）微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使
用する方法、等が好ましく挙げられる。（１）の表面処
理剤に結合させるポリマーは、（２）のシェルポリマー
または（３）のバインダーポリマーであることが好まし
い。（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前
に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ま
しい。（３）のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノ
マーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後
に、重合反応により形成することが好ましい。（１）〜
（３）を二種類または三種類組み合わせて、実施するこ
とが好ましく、（１）と（３）の二種類の組み合わせ、
または（１）〜（３）の三種類の組み合わせで実施する
ことが特に好ましい。上記の方法については、特開平１
０−１１０１７３等に詳しく記載されている。

【００３７】また、低屈折率層の素材として、オルガノ
シラン等有機金属化合物の加水分解部分縮合物（いわゆ
るゾルゲル膜）も好ましい。このうちオルガノシシラン
の加水分解部分縮合物が屈折率が低くかつ膜強度も強く
好ましく、より好ましくは光硬化性のオルガノシランの
加水分解部分縮合物である。オルガノシランの具体例と
しては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ＣＦ
₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂
ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエト
キシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチル
ジメトキシシランなどが挙げられるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。また異なる２種以上のオル
ガノシランを混合して用いることも普通に行われ、硬
さ、脆性、の調節、および官能基導入の目的で適宜調節
されることが好ましい。

【００３８】オルガノシランの加水分解縮合反応は無溶
媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒としては有
機溶媒が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノ
ール、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサンなどを挙げることができる。加水分解縮
合反応は触媒存在下で行われることが好ましい。触媒と
しては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、シュウ酸、
酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸な
どの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ア
ンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジ
ンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウ
ム、テトラブトキシジルコニウム、などの金属アルコキ
シド類、前記金属アルコキシド類と、アセト酢酸エチ
ル、アセチルアセトンなどのとの金属キレート化合物
類、などが挙げられる。加水分解縮合反応はアルコキシ
基１モルに対して０．３〜２．０モル、好ましくは０．
５〜１．０モルの水を添加し、上記溶媒および触媒の存
在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われ
る。触媒の添加量はアルコキシ基に対して０．０１〜１
０モル％、好ましくは０．１〜５モル％である。反応条
件はオルガノシランの反応性により適宜調節されること
が好ましい。

【００３９】オルガノシランの加水分解物および／また
はその部分縮合物、いわゆるゾルゲル成分（以後このよ
うに称する）を光硬化性とする場合は、ゾルゲル成分中
に光によって反応促進剤を発生する化合物を含有してい
ることが好ましく、具体的には光酸発生剤あるいは光塩
基発生剤が好ましく、いずれもゾルゲル成分の縮合反応
を促進することができる。具体的には、光酸発生剤とし
ては、ベンゾイントシレート、トリ（ニトロベンジル）
ホスフェート、ジアリールヨードニウム塩、トリアリー
ルスルホニウム塩などが挙げられ、光塩基発生剤として
は、ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、ジ
（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメートな
どを挙げることができる。このうち光酸発生剤がより好
ましく、具体的にはトリアリールスルホニウム塩、ジア
リールヨードニウム塩、が好ましい。これらの化合物と
併用して増感色素も好ましく用いることができる。本発
明の光によって反応促進剤を発生する化合物の添加量と
しては、低屈折率層塗布液全固形分に対して０．１〜１
５％が好ましく、より好ましくは０．５〜５％である。
本発明のゾルゲル成分による低屈折率層には、防汚性お
よび滑り性付与の目的で、前述の含フッ素ポリマーも好
ましく併用される。含フッ素ポリマーのうち含フッ素ビ
ニルモノマーを重合して得られるポリマーが好ましく、
さらにゾルゲル成分と共有結合可能な官能基を有するこ
とが、ゾルゲル成分との相溶性および膜強度の観点で好
ましい。

【００４０】［高屈折率層および中屈折率層］本発明に
おいては、反射率の低減のために、透明支持体若しくは
ハードコート層を付与した透明支持体と低屈折率層との
間に、高屈折率層を設けることも好ましい。また、透明
支持体と高屈折率層との間に、２つの屈折率の中間の屈
折率の中屈折率層を設けることは、反射率の低減のため
に、より好ましい。高屈折率層の屈折率は透明支持体よ
りも０．０５以上高いことが好ましい。具体的には１．
５５〜２．３０であることが好ましく、１．５７〜２．
２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率
は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間
の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、
１．５５〜１．８０であることが好ましい。高屈折率層
および中屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００ｎｍである
ことが好ましく、１０ｎｍ〜１０ｎｍであることがさら
に好ましく、３０ｎｍ〜１ｎｍであることが最も好まし
い。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、５％以下
であることが好ましく、３％以下であることがさらに好
ましく、１％以下であることが最も好ましい。高屈折率
層および中屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で
Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさ
らに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

【００４１】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。

【００４２】被膜形成能を有する有機金属化合物から、
高屈折率層または中屈折率層を形成してもよい。有機金
属化合物は、適当な媒体に分散できるか、あるいは液状
であることが好ましい。有機金属化合物の例には、金属
アルコレート（例、チタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−Ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキ
シド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−
ｓｅｃ-ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ
−Ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ア
ンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、
ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−
Ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキ
シド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−sec-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシド）、キレート化合物（例、ジ−イソ
プロポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−
ブトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−エ
トキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ビスアセ
チルアセトンジルコニウム、アルミニウムアセチルアセ
トネート、アルミニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチル
アセトアセテート、アルミニウムジ−Ｉ−プロポキシド
モノメチルアセトアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジ
ルコニウムモノエチルアセトアセテート）、有機酸塩
（例、炭酸ジルコニールアンモニウム）およびジルコニ
ウムを主成分とする活性無機ポリマーが含まれる。

【００４３】屈折率の高い無機微粒子をモノマーと開始
剤、被膜形成能のある有機金属化合物、または高屈折モ
ノマーを用いたポリマー中に分散してもよい。以上の高
屈折率層および中屈折率層の形成法中で、無機微粒子と
ポリマーとを含むことが特に好ましい。

【００４４】高屈折率層および中屈折率層に用いる無機
微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好
ましく、１．９０〜２．８０であることがさらに好まし
い。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１〜１５０
ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであること
がさらに好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ま
しい。塗布層中の無機微粒子の重量平均径は、１〜２０
０ｎｍであるることが好ましく、５〜１５０ｎｍである
ことがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさ
らに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好まし
い。無機微粒子の平均粒径は、光散乱法や電子顕微鏡写
真により測定できる。無機微粒子の比表面積は、１０〜
４００ｍ²／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²
／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ²／
ｇであることが最も好ましい。

【００４５】無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物
から形成することが好ましい。金属の酸化物または硫化
物の例には、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナ
ターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化
錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよ
び硫化亜鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化
インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金
属の酸化物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素
を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分
の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他
の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆ
ｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａ
ｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳが含まれる。また、高屈折
率層の無機微粒子として導電性の微粒子を用い、帯電防
止層とすることも好ましい。導電性無機微粒子は、金属
の酸化物または窒化物から形成することが好ましい。

【００４６】金属の酸化物または窒化物の例には、酸化
錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが含ま
れる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。無
機微粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成
分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分と
は、粒子を構成する成分の中で最も含有量（重量％）が
多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃ
ｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎ
ｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子が含まれる。酸化錫お
よび酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、
Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子を添加する
ことが好ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）およ
びＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ま
しい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０重量％である
ことが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０重
量％であることが好ましい。無機微粒子を表面処理して
もよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用
いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、
アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウムおよび酸化鉄が含
まれる。アルミナおよびシリカが好ましい。表面処理に
用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノール
アミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチ
タネートカップリング剤が含まれる。シランカップリン
グ剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わ
せて実施してもよい。以上を組み合わせて処理されてい
ても構わない。無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、
立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ま
しい。二種類以上の無機微粒子を高屈折率層および中屈
折率層内で併用してもよい。

【００４７】高屈折率層および中屈折率層中の無機微粒
子の割合は、５〜６５体積％である。無機微粒子の割合
は、１０〜６０体積％であることが好ましく、２０〜５
５体積％であることがさらに好ましい。上記の無機微粒
子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形
成に使用する。高屈折率層および中屈折率層の無機微粒
子の分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いる
ことが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール
（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エ
チル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素
（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水
素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭
素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシ
レン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル
（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロ
フラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２
−プロパノール）が含まれる。トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンおよびブタノールが特に好ましい。無機微粒子
は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例に
は、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミ
ル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミ
ル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サン
ドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好
ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分
散処理に用いる分散基の例には、ボールミル、三本ロー
ルミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。

【００４８】高屈折率層、及び中屈折率層は架橋してい
るポリマーをバインダーとして用いることも好ましい。
架橋しているポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン
（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウ
レタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよび
メラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエ
ーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレ
フィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、
ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。また、架橋してい
るポリマーに、アニオン性基を有することは、更に好ま
しい。アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋して
いる構造を有する。アニオン性基は、無機微粒子の分散
状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに
皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。

【００４９】アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結
合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させ
る。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖
に結合させることが好ましい。アニオン性基の例には、
カルボン酸基（カルボキシル）、スルホン酸基（スル
ホ）およびリン酸基（ホスホノ）が含まれる。スルホン
酸基およびリン酸基が好ましい。アニオン性基は、塩の
状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチ
オンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。ま
た、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、
−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およ
びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であること
が好ましい。ポリマーは、アニオン性基を有する繰り返
し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコ
ポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオ
ン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６重量％
であることが好ましく、４〜９４重量％であることがさ
らに好ましく、６〜９２重量％であることが最も好まし
い。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有してい
てもよい。

【００５０】ポリマーには、その他の繰り返し単位（ア
ニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位）が含まれて
いてもよい。その他の繰り返し単位としては、アミノ基
または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位および
ベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基
または四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、
無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。ベンゼ
ン環は、高屈折率層の屈折率を高くする機能を有する。
なお、アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環
は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋構
造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果
が得られる。アミノ基または四級アンモニウム基を有す
る繰り返し単位では、アミノ基または四級アンモニウム
基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連
結基を介して主鎖に結合させる。アミノ基または四級ア
ンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結
合させることが好ましい。アミノ基または四級アンモニ
ウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アン
モニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または
四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級
アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒
素原子に結合する基は、アルキル基であることが好まし
く、炭素原子数が１〜１２のアルキル基であることが好
ましく、炭素原子数が１〜６のアルキル基であることが
さらに好ましい。四級アンモニウム基の対イオンは、ハ
ライドイオンであることが好ましい。アミノ基または四
級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基
は、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリ
ーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価
の基であることが好ましい。ポリマーが、アミノ基また
は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場
合、その割合は、０．０６〜３２重量％であることが好
ましく、０．０８〜３０重量％であることがさらに好ま
しく、０．１〜２８重量％であることが最も好ましい。

【００５１】架橋しているポリマーは、高屈折率層、及
び中屈折率層の塗布液（前述した無機微粒子の分散液）
にモノマーとして添加し、層の塗布と同時または塗布後
に、重合反応によって形成することが好ましい。アニオ
ン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子の分
散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマーの
無機微粒子に対する使用量は、１〜５０重量％の範囲で
あることが好ましく、５〜４０重量％の範囲であること
が好ましく、１０〜３０重量％であることが最も好まし
い。また、アミノ基または四級アンモニウム基を有する
モノマーは、塗布液中で分散助剤として機能する。アミ
ノ基または四級アンモニウム基を有するモノマーのアニ
オン性基を有するモノマーに対する使用量は、３〜３３
重量％であることが好ましい。層の塗布と同時または塗
布後に、重合反応によってポリマーを形成すれば、層の
塗布前にこれらのモノマーを有効に機能させることがで
きる。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの
例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエス
テル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
エタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘ
キサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリ
レート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベン
ゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼ
ン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエス
テル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルス
ルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミド等が上げられる。アニオン性基を有するモノマ
ー、およびアミノ基または四級アンモニウム基を有する
モノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用
いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとして
は、KAYAMARPM-21 、PM-2（日本化薬（株）製）、Antox
MS-60、MS-2N、MS-NH4（日本乳化剤（株）製）、アロ
ニックス M-5000、M-6000、M-8000シリーズ（東亞合成
化学工業（株）製）、ビスコート#2000シリーズ（大阪
有機化学工業（株）製）、ニューフロンティアGX-8289
（第一工業製薬（株）製）、NKエステル CB-1、A-SA
（新中村化学工業（株）製）、AR-100、MR-100、MR-200
（第八化学工業（株）製）などがあげられる。また、好
ましく用いられる市販のアミノ基または四級アンモニウ
ム基を有するモノマーとしてはＤＭＡＡ（大阪有機化学
工業（株）製）、ＤＭＡＥＡ、ＤＭＡＰＡＡ（興人
（株）製）、ブレンマーＱＡ（日本油脂（株）製）、ニ
ューフロンティアＣ−１６１５（第一工業製薬（株）
製）などがあげられる。

【００５２】ポリマーの重合反応は、光重合反応または
熱重合反応を用いることができる。特に光重合反応が好
ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが
好ましい。例えば、前述した熱重合開始剤、及び光重合
開始剤が挙げられる。

【００５３】市販の重合開始剤を使用してもよい。重合
開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開
始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の０．２
〜１０重量％の範囲であることが好ましい。塗布液（モ
ノマーを含む無機微粒子の分散液）を加熱して、モノマ
ー（またはオリゴマー）の重合を促進してもよい。ま
た、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成されたポ
リマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。

【００５４】［反射防止膜］反射防止膜の各層またはそ
の塗布液には、前述した成分（無機微粒子、ポリマー、
分散媒体、重合開始剤、重合促進剤）以外に、重合禁止
剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収
剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤を
添加してもよい。反射防止膜の各層は、ディップコート
法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラ
ーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法
やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９
４号明細書）により、塗布により形成することができ
る。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方
法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１
８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の
各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３
頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。

【００５５】本発明における反射防止フィルムの反射率
は、２．５％以下であることが好ましい。ここで、反射
率としては、波長４５０ｎｍから６５０ｎｍにおける鏡
面での平均反射率で定義している。反射率としては、平
均反射率で１．８％以下がより好ましく、１．５％以下
がさらに好ましく、１．０％以下が特に好ましく、平均
反射率０．８％以下の無反射（ＡＲ）と呼ばれるフィル
ムが最も好ましい。また、本発明において、反射防止膜
が防眩性を有することも好ましい。本発明のように、低
屈折率層の付与により、反射防止性を付与する場合に
は、ヘイズ値を比較的低く保ち、フィルムを透過する画
像の鮮明性を悪化させないようにすることが好ましい。
ヘイズ値としては５．０〜２０．０％が好ましく、より
好ましくは５．０〜１５．０％である。本発明の、反射
防止フィルムに、表面処理をすることもできる。このよ
うな表面処理としては、薬品処理、機械的処理、コロナ
放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー
放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処
理、オゾン酸化処理などが用いられる。表面処理は支持
体のみの時に実施しても良いし、反射防止層の各層の塗
工後に実施しても良い。特に、本発明の反射防止フィル
ムを偏光板に貼り付けるためには、反射防止フィルムを
親水化処理することが好ましい。そのために特に好まし
いのはアルカリ処理である。ここで行われる「アルカリ
処理」は、本発明の防眩性反射防止フィルムが支持体と
してトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を用い、かつＬ
ＣＤ用途で用いられる場合、通常「けん化処理」として
知られており、ＴＡＣと偏光基体との接着性を持たせる
ことができる。

【００５６】アルカリ処理の方法としては、アルカリ水
溶液に浸す方法であれば特に限定されない。アルカリ処
理条件は反射防止層の表面形状が大きく変化しない範囲
で適宜調整される。アルカリ水溶液としては、水酸化ナ
トリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水
溶液などが使用可能であり、水酸化ナトリウム水溶液が
好ましい。アルカリ水溶液の濃度は０．１〜２５％が好
ましく、０．５〜１５％がより好ましい。アルカリ処理
温度は１０〜８０℃、好ましくは２０〜６０℃である。
アルカリ処理時間は５秒〜５分、好ましくは３０秒〜３
分である。アルカリ処理後のフィルムは酸性水で中和し
た後、十分に水洗いを行うことが好ましい。水洗処理後
のフィルムは十分に乾燥したあとに次の工程に用いられ
る。

【００５７】反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。Ｃ
ＲＴ、ＰＤＰ、ＥＬＤ等では透明支持体を有する反射防
止フィルムは、粘着剤を介して透明支持体側を画像表示
装置の画像表示面に直接、もしくは他の機能性フィルム
等を介して接着することが好ましい。また、ＬＣＤの場
合は反射防止フィルムの透明支持体側を粘着剤層を介し
て、偏光板の保護膜、もしくは偏光板に直接接着する
か、反射防止膜の透明支持体側を直接偏光板に接着し、
反射防止面を画像表示面の最外層に設ける様に配置する
ことが好ましい。これらの内、偏光層の２枚の保護フィ
ルムのうち少なくとも１枚を本発明の反射防止フィルム
を用いることが最も好ましい。本発明の反射防止フィル
ムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が
防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすること
ができる。また、本発明の偏光板において反射防止フィ
ルムが保護フィルムを兼ねることで、製造コストを低減
できる。

【００５８】

【実施例】本発明を詳細に説明するために、以下に実施
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない

【００５９】＜反射防止フィルムサンプル１〜４−Ｃ＞ （ハードコート層用塗布液Ａの調製）ＪＳＲ社製ハード
コート素材デソライトＺ７５０３のＭＥＫ溶液（固形分
濃度７２％、シリカ含量３８％）６２５ｇを、３７５ｇ
のメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０
重量％の混合溶媒に溶解した。混合物を撹拌した後、孔
径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して
ハードコート層の塗布液を調製した。

【００６０】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４２で、ポリジメチルシロキサン成分を共重合成分
として含む熱架橋性含フッ素ポリマー（オプスターＪＮ
−７２２８、固形分濃度６重量％、ＪＳＲ（株）製）２
１０ｇにシリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２
０ｎｍ、固形分濃度３０重量％、日産化学製）１５．２
ｇおよびメチルエチルケトン１７４ｇを添加、攪拌の
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００６１】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）下記（化
１−Ａから１−Ｅ）に示した構造を持つフッ素含有ポリ
マーを合成した。

【００６２】

【化１】

【００６３】このフッ素ポリマーの分子量は数平均分子
量で２．５万、重量平均分子量で４万であった。このポ
リマーをメチルイソブチルケトンに溶解して、４．０重
量％溶液を調整し、低屈折率層用塗布液Ｂ−１〜Ｂ−５
を調製した。また、化１−Ａの溶液に対し、分子量の異
なるポリジメチルシロキサンＫＦ−９６（信越化学
(株）社製）の分子量、添加量を変えて添加した塗布液
Ｂ−６〜Ｂ−１０を調製した。ＫＦ−９６の添加量は、
表２に示した表面物性になるように調整した。

【００６４】（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）含フッ素
シリカゾル（日産化学工業（株）社製ＬＲ２０１（全固
形分濃度；４％、溶媒；エタノール／ブチルセロソルブ
＝５０／５０、日産化学工業（株）社製））を低屈折率
層用塗布液Ｃ−１として調整した。また、上記Ｃ−１液
に、日本ユニカー製両末端シラノール変性シリコーンオ
イルＬ−９０００（１００）（分子量２５００）、もし
くはポリジメチルシロキサンＫＦ−９６を添加した塗布
液Ｃ−２、Ｃ−３を作製した。

【００６５】（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）市販のフ
ッ素ポリマーサイトップＣＴＸ−８０９Ａ（旭硝子
（株）製、重量平均分子量約２０万）をバートレルＸＦ
（デュポン（株）製）に溶解して、＃３ワイヤーバー
で、約１００ｎｍになるように希釈し、低屈折率層用塗
布液Ｄ−１を作成した。得られた溶液に、ポリジメチル
シロキサンＫＦ−９６（信越化学(株）、10cp）を量を
変えて添加した液Ｄ−２、Ｄ−３を調製した。

【００６６】（反射防止膜の作成）８０μｍの厚さのト
リアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、
富士写真フイルム（株）製、ｎ＝１．４９）に、上記の
ハードコート層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布
し、９０℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布層を硬化
させ、厚さ４μｍのハードコート層（ｎ＝１．５０）を
形成した。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａ、Ｂ−
１〜１０、Ｃ−１〜３、Ｄ−１〜３をバーコーターを用
いて塗布し、 Ａ，Ｂ−１〜１０、Ｄ−１〜３について
は、１２０℃で１０分乾燥・硬化させることにより表２
に示した低屈折率層を形成した。また、Ｃ−１〜３に関
しては１００℃で１分感乾燥後、１２０℃で６時間熱キ
ュアーし、厚さ０．１μｍ、屈折率１．３８の表面層を
形成した。本発明のサンプル内容は、表１に示す。

【００６７】

【表１】

【００６８】（反射防止フィルムの評価）得られたフィ
ルムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。 （２） 各層の屈折率 各層の屈折率は反射率の測定結果より、屈折率をフィッ
ティングにより計算して求めた。 （３） ＸＰＳ測定 Ｆ1s／Ｃ1s、Ｓｉ2p／Ｆ1s（表中では、Ｆ／Ｃ、Ｓｉ／
Ｆと略）の値は、島津製作所製、ＥＳＣＡ−７５０（解
析ソフトＥＳＰＡＣ１００Ｓ）により、フッ素原子、炭
素原子、ケイ素原子の測定を行い、各元素のピークの面
積比の値を用いた。 （４）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数を評価した。動摩擦
係数は、試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。 （５）垂直剥離帯電量測定 垂直剥離帯電試験は、本文中に記載の方法にて実施し
た。相手フィルムとしてはポリエチレンテレフタレート
を用い、２５℃５５％ＲＨの条件で測定した。測定値は
５回目の剥離時の帯電の値を読んだ。 （６） ゴミ付着性 測定フィルムをガラス板にはり、除電した後、東レのト
レシーを用いて往復１０回擦る。ここに微細な発泡スチ
ロールの粉を擬似ゴミとし、フィルム全体にかけた後に
フィルムを立て、以下のように評価した。 ◎：擬似ゴミがほとんど全て落下する ○：擬似ゴミが８０％以上落下する △：擬似ゴミが５０％以上落下する ×：擬似ゴミが５０％以上フィルム表面に残存する。 このゴミ付着性の試験は、サンプル調製直後と、サンプ
ル塗布後にロールで、反射防止層塗布面とその反対の面
が接触した状態で２週間経時させたサンプルで実施し
た。 （７）指紋付着性評価 サンプル表面に指紋を付着させてから、それをベンコッ
トン（旭化成（株）製）で拭き取ったときの状態を観察
して、以下のように指紋付着性を評価した。 ◎：簡単に指紋が拭き取れる 〇：普通にふいて指紋が拭き取れる △：しっかり擦れば指紋が拭き取れる ×：指紋が拭き取れずに残る

【００６９】（８）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。 （９）防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 ◎：蛍光灯の輪郭が全くわからない 〇：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる △：蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ×：蛍光灯がほとんどぼけない （１０）ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 〇：ほとんどギラツキが見られない △：わずかにギラツキがある ×：目で識別できるサイズのギラツキがある 表２、表３に反射防止フィルムサンプルの評価結果を示
す。

【００７０】

【表２】

【００７１】

【表３】

【００７２】表２、表３に示される結果から、以下のこ
とが明らかである。本発明のＦ1s／Ｃ1sが０．２〜５．
０、Ｓｉ2p／Ｆ1sが０．０５〜２．０、動摩擦係数０．
２５以下のサンプルでは、サンプル調製直後のゴミ付着
性が少なく、防汚性も良く、良好な性能を示す。それに
対して上記の値が本発明の範囲から外れるサンプル２−
Ａ、２−Ｊ、３−Ａ、４−Ａは、サンプル調製直後及び
２週間経過後のいずれもゴミ付着性が悪い。また、ポリ
オルガノシロキサンの分子量が５００以上のサンプル
（２−Ｇ，Ｈ、Ｉ他）は、経時でのゴミ付着性悪化が少
なく、さらに、ポリオルガノシロキサンが、フッ素ポリ
マーと化学的に結合している１、２−Ｂ〜Ｅ、３−Ｂ
は、経時でのゴミ付きの悪化がほとんどない。

【００７３】＜反射防止フィルムサンプル５−Ａ〜６−
Ｄ＞ （二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン（一次粒子
重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７０）３０重量
部、アニオン性ジアクリレートモノマー（ＰＭ２１、日
本化薬（株）製）４．５重量部、カチオン性メタクリレ
ートモノマー（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）０．３重量
部およびメチルエチルケトン６５．２重量部を、サンド
グラインダーにより分散し、二酸化チタン分散物を調製
した。

【００７４】（ＡＴＯ分散物の調製）ＡＴＯ（アンチモ
ン含有酸化錫、比表面積：９５ｍ²／ｇ、粉体比抵抗：
２Ω・ｃｍ）３０重量部、下記のアニオン性ジアクリレ
ートモノマー（ＰＭ２１、日本化薬（株）製）４．５重
量部、およびシクロヘキサノン６５．５重量部を、サン
ドグラインダーミルにより分散し、ＡＴＯ分散物を調製
した。 （高屈折率層用塗布液Ａの調製）シクロヘキサノン１５
１．９ｇおよびメチルエチルケトン３７．０ｇに、光重
合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．１４ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日
本化薬（株）製）０．０４ｇを溶解した。さらに、上記
の二酸化チタン分散物６．１ｇおよびジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）２．４ｇを加え、室温で３０分間攪拌した後、孔径
０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、
高屈折率層用塗布液Ａを調製した。この塗布液を塗布、
乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率
は１．７０であった。

【００７５】（高屈折率層用塗布液Ｂの調製）シクロヘ
キサノン１１５２．８ｇおよびメチルエチルケトン３
７．２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ
ガイギー社製）０．０６ｇおよび光増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解し
た。さらに、上記の二酸化チタン分散物１３．１３ｇと
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．７６ｇを加え、室
温で３０分間攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピ
レン製フィルターでろ過して、高屈折率層用塗布液Ｂを
調製した。この塗布液を塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈
折率を測定したところ、屈折率は１．９５であった。

【００７６】（高屈折率層用塗布液Ｃの調製）シクロヘ
キサノン１５１．９ｇおよびメチルエチルケトン３７．
０ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイ
ギー社製）０．０７ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解した。さ
らに、上記のＡＴＯ分散物１２．５ｇと、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）１．２ｇを加え、室温で３０分間攪拌した
後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、高屈折率層用塗布液Ｃを調製した。この塗布液
を塗布、乾燥し紫外線硬化後の屈折率を測定したとこ
ろ、屈折率は１．７０であった。

【００７７】（防眩性ハードコート層用塗布液Ａの調
製）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタク
リロイルチオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友
精化（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケ
トン／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒
に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）５．０ｇおよび光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０
ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．６０であった。さらにこの溶液に平均粒径３
μｍの不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−５２
６、水澤化学工業（株）製）１０ｇを添加して、高速デ
ィスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、
孔径1０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して
ハードコート層の塗布液を調製した。

【００７８】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｂの調
製）シクロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケト
ン６１．３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しなが
ら平均粒径２０ｎｍの二酸化ジルコニウム粒子分散物含
有ハードコート塗布液（ＫＺ−７９９１、ＪＳＲ（株）
製）２１７．０ｇ、を添加した。この溶液にジペンタエ
リスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を添加して、屈折率１．６５に調整した。さ
らにこの溶液に風力分級により５μｍ以上の粗大粒子を
除いた平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品
名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇを添加し
て、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分
散した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルターで
ろ過してハードコート層の塗布液を調製した。

【００７９】（防眩性ハードコート層用塗布液Ｃの調
製）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）２５０ｇをメチルエチルケト
ン／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒４
３９ｇに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イ
ルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液
を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗
膜の屈折率は１．５３であった。さらにこの溶液に風力
分級により５μｍ以上の粗大粒子を除いた平均粒径２．
０μｍの架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００
Ｈ、綜研化学（株）製）１０ｇを添加して、高速ディス
パにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径
３μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハード
コート層の塗布液を調製した。

【００８０】（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）平均粒径
１５ｎｍのシリカ微粒子のメタノール分散液（メタノー
ルシリカゾル、日産化学（株）製）２００ｇにシランカ
ップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越シリコーン（株）
製）３ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温で５時間
撹拌した後、３日間室温で放置して、シランカップリン
グ処理したシリカ微粒子の分散物を調製した。分散物３
５．０４ｇに、イソプロピルアルコール５８．３５ｇお
よびジアセトンアルコール３９．３４ｇを加えた。ま
た、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）１．０２ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）０．５１ｇを７７２．８５ｇの
イソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、さら
に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）２５．６ｇを加えて溶解し
た。得られた溶液６７．２３ｇを、上記分散液、イソプ
ロピルアルコールおよびジアセトンアルコールの混合液
に添加した。混合物を２０分間室温で撹拌し、孔径０．
４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈
折率層用塗布液Ｅを調製した。この塗布液を塗布、乾燥
し紫外線硬化後の屈折率を測定したところ、屈折率は
１．４０であった。

【００８１】（オーバーコート層用塗布液Ａの調製）ポ
リジメチルシロキサン成分を共重合成分として含む熱架
橋性含フッ素ポリマー（オプスターＪＮ−７２２８、固
形分濃度６重量％、ＪＳＲ（株）製）の低分子量成分を
減量したサンプルを作製した。このフッ素ポリマーの分
子量は数平均分子量で５万、重量平均分子量で７万であ
った。このポリマーをメチルイソブチルケトンに添加、
攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで
ろ過して、１．０重量％のオーバーコート層用塗布液Ａ
を調製した。

【００８２】（オーバーコート層用塗布液Ｂの調製）Ｋ
Ｐ−８０１Ｍ（信越化学（株）製）３０ｇを５７０ｇの
フロリナートＦＣ−７７（３Ｍ製）に添加、攪拌の後、
孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、
オーバーコート層用塗布液Ｂを調製した。

【００８３】（反射防止膜の作成） （サンプル５−Ａ〜Ｅの調製）８０μｍの厚さのトリア
セチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士
写真フイルム（株）製、屈折率約１．４９）に、実施例
１と同様にハードコート層用塗布液Ａをバーコーターを
用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、厚さ４μｍのハードコート層（ｎ＝
１．５０）を形成した。その上に、１層目の高屈折率層
として、上記高屈折率層用塗布液ＡもしくはＣをバーコ
ーターを用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．７
０）を形成した。また、高屈折率層用塗布液Ｃを塗布、
硬化後の塗膜の表面抵抗は、５×１０¹⁰Ω／ｓｑであっ
た。さらに、下記表４に示したように、２層目の高屈折
率層として、上記高屈折率層用塗布液Ｂをバーコーター
を用いて塗布し、６０℃で乾燥の後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．９５）を形
成した。その上に、下記表４に示したようにサンプル５
−Ａ〜５−Ｃについては、上記低屈折率層用塗布液Ａを
バーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さら
に１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの
低屈折率層を形成した。また、５−Ｅ、５−Ｆについて
は、表４に示したように、低屈折率層用塗布液Ｅをバー
コーターを用いて塗布し、 ６０℃で乾燥の後、紫外線
を照射して塗布層を硬化し、約８５ｎｍの低屈折率層を
形成した。その後に上記オーバーコート用塗布液Ａ、Ｂ
をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、１
２０℃で１０分乾燥・硬化させることにより約１５ｎｍ
のオーバーコート層を形成した。

【００８４】（サンプル６−Ａ〜Ｆの調製）８０μｍの
厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ
８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製、屈折率約１．４
９）に、実施例１と同様にハードコート層用塗布液Ａを
バーコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ４μｍのハードコ
ート層（ｎ＝１．５０）を形成した。このハードコート
層上に表４に示したように、下記の防眩性ハードコート
用塗布液を塗布した。防眩性ハードコート層用塗布液Ａ
については、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で
乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００
ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍの防眩性ハード
コート層を形成した。防眩性ハードコート層用塗布液Ｂ
は、バーコーターを用いて塗布し、上記ハードコート層
と同条件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ約１．５μｍ
のハードコート層を形成した。防眩性ハードコート層用
塗布液Ｃは、バーコーターを用いて塗布し、上記ハード
コート層と同条件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ約
１．５μｍのハードコート層を形成した。その上に、表
４に示したように低屈折率層用塗布液をバーコーターを
用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１
０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形
成した。表５、表６に反射防止フィルムサンプルの評価
結果を示す。

【００８５】

【表４】

【００８６】

【表５】

【００８７】

【表６】

【００８８】表５、表６の結果から以下のことが明らか
である。本発明のＦ1s／Ｃ1sが０．２〜５．０、Ｓｉ2p
／Ｆ1sが０．０５〜２．０、動摩擦係数０．２５以下の
サンプルでは、サンプル調製直後のゴミ付着性が少な
く、防汚性も良く、良好な性能を示す。それに対して上
記の値が本発明の範囲から外れる５−Ｅは、サンプル調
製直後のゴミ付着性が悪い。また、帯電防止層を設けた
サンプル５−Ｃは、特にすぐれたゴミ付着性を示す。ま
た、表４において、高屈折率層を設けた５−Ａ〜Ｄ、防
眩層を設けた６−Ａ〜Ｄののサンプルは、高屈折率層、
防眩層を設けたことにより、前出のサンプル１にくら
べ、反射率がさがり、外光の映り込みが少なく、良好な
性能を示した。

【００８９】次に、実施例５−Ｂ、Ｃ、６−Ｃのフィル
ムをけん化処理し、偏光板の片側の保護フィルムとして
用い、反射防止偏光板を作成した。この反射防止偏光板
表面のＦ1s／Ｃ1sは０．６０、Ｓｉ2p／Ｆ1sは０．２
５、動摩擦係数は０．１１であり、ゴミ付着性が少な
く、防汚性も良く、良好な性能を示す。この偏光板を用
いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作成
したところ、ゴミ付着が少なく、防汚性が良好で、外光
の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、
反射像が目立たず優れた視認性を有していた。

【００９０】

【発明の効果】以上のように本発明の反射防止フィルム
は、反射率が低く、ゴミ付着が少なく防汚性が良好で、
帯電防止性に優れる。また、本発明の反射防止フィルム
を用いた画像表示装置は、ゴミ付着が少なく、防汚性が
良好で、外光の映り込みがないため、優れたコントラス
トが得られ、反射像が目立たず優れた視認性を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止膜の層構成を示す断面模式図である。

【符号の説明】

１ 透明支持体 ２ 低屈折率層 ３ ハードコート層 ４ 高屈折率層 ５ 防汚層 ６ 粒子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BB23 BB63 2K009 AA05 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC26 CC42 DD02 4F100 AA20 AA20H AA21 AA21H AA28 AA28H AA29 AA29H AA33 AJ06 AK17B AK25 AK42A AK52B AK57 AR00B AR00C AR00D AS00E AT00A BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10E CA23 GB41 JA07B JG04 JG10 JK20B JL06 JL06E JN01A JN06 JN18B JN18C JN30B JN30C JN30D YY00 YY00B

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に少なくとも１層の低屈折
   率層を有し、かつ４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射
   率が２．５％以下である反射防止フィルムにおいて、 該反射防止フィルムの表面層に含フッ素ポリマーが含有
   されており、かつ該表面のＸ線光電子分光法によるＦ１
   ｓ／Ｃ１ｓピーク強度比が０．２〜５．０であり、Ｓｉ
   ２ｐ／Ｆ１ｓピーク強度比が０．０５〜２．０であり、
   該表面の動摩擦係数が０．２５以下であることを特徴と
   する反射防止フィルム。
2. 【請求項２】 反射防止フィルムの表面層に、含フッ素
   ポリマーおよびポリオルガノシロキサンが含有されてい
   ることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィル
   ム。
3. 【請求項３】 ポリオルガノシロキサンの平均分子量が
   ５００以上であることを特徴とする請求項２記載の反射
   防止フィルム。
4. 【請求項４】 含フッ素ポリマーとポリオルガノシロキ
   サンが、化学的に結合していることを特徴とする請求項
   ２または３に記載の反射防止フィルム。
5. 【請求項５】 反射防止フィルム表面のポリエチレンテ
   レフタレートに対する垂直剥離帯電量が、±２００ｐＣ
   （ピコクーロン）／ｃｍ²以内であることを特徴とする
   請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. 【請求項６】 反射防止フィルム表面の表面抵抗が１×
   １０¹²Ω／ｓｑ以下であることを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれかにに記載の反射防止フィルム。
7. 【請求項７】 低屈折率層と透明支持体の間に、該透明
   支持体の屈折率より０．０５以上高い屈折率を有する高
   屈折率層を有することを特徴とする請求項１〜６のいず
   れかに記載の反射防止フィルム。
8. 【請求項８】 低屈折率層と透明支持体の間に防眩層を
   有し、ヘイズ値が５から２０％であることを特徴とする
   請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
9. 【請求項９】 請求項１〜８のいずれかに記載の反射防
   止フィルムを、偏光板の偏光層の２枚の保護フィルムの
   うちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光
   板。
10. 【請求項１０】請求項１〜８のいずれかに記載の反射防
    止フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。