CN114730023A - 带防眩层的基材和图像显示装置以及带防眩层的基材的制造方法 - Google Patents

带防眩层的基材和图像显示装置以及带防眩层的基材的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明的带防眩层的基材具有：基材；以及防眩层，直接形成在所述基材上或借助其他层形成在所述基材上，在所述防眩层的表面具有凹凸结构，所述防眩层由防眩性覆膜形成用组合物的固化物形成，所述防眩性覆膜形成用组合物含有具有含氟有机基团的聚硅氧烷。

Description

带防眩层的基材和图像显示装置以及带防眩层的基材的制造 方法
技术领域
本发明涉及一种防眩性(防眩功能)优异，并且不发生眩目(闪亮(sparkling))，赋予良好的视觉辨认性的带防眩层的基材和具备该基材的图像显示装置以及带防眩层的基材的制造方法。
背景技术
当室内照明(荧光灯等)、太阳光等外部光映入电视、个人计算机、智能手机等各种设备所具备的图像显示装置(液晶显示器、有机EL显示器、等离子体显示器等)的显示面时，有时图像的视觉辨认性因反射像而降低。
作为抑制外部光的映入的方法，存在对图像显示装置的显示面实施防眩处理(anti-glare处理)的方法。作为防眩处理的方法，提出了：利用氟酸等药剂对玻璃等透明基材的表面进行蚀刻的处理(参照专利文献1)；以及，在表面形成具有凹凸的有机系的防眩层的处理(参照专利文献2)等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第5839134号公报
专利文献2：国际公开2018/070426号公报
发明内容
发明所要解决的问题
但是，在利用药剂对玻璃基板表面进行蚀刻的处理中，药剂的危险性成为问题，在表面形成有机系的防眩层的处理中，对玻璃基板的涂布性、在膜上进一步形成功能性层时的涂布性、密合性会产生问题。
此外，随着最近的图像显示装置的高精细化，当将防眩层配置于显示面侧时，也存在如下问题：在表面出现随机的光的强弱的眩目现象容易发生。
根据以上的方面，本发明的目的在于，提供一种防眩性(防眩功能)优异，并且不发生眩目，赋予良好的视觉辨认性的带防眩层的基材和具备该基材的图像显示装置。其目的还在于，提供一种形成功能性层时的涂布性和密合性优异的带防眩层的基材和具备该基材的图像显示装置以及带防眩层的基材的制造方法。
用于解决问题的方案
发明人等发现通过下述构成能实现上述问题，从而完成了本发明。
本发明为如下内容。
1.一种带防眩层的基材，其特征在于，具有：基材；以及防眩层，直接形成在所述基材上或借助其他层形成在所述基材上，在所述防眩层的表面具有凹凸结构，所述防眩层由防眩性覆膜形成用组合物的固化物形成，所述防眩性覆膜形成用组合物含有具有含氟有机基团的聚硅氧烷，所述防眩层的凸部表面覆盖率为5％～70％。
2.根据1所述的带防眩层的基材，其中，所述凹凸结构的凸部的高度为50nm～2000nm。
3.根据1或2所述的带防眩层的基材，其中，所述防眩层的雾度为0.3％～40％。
4.根据1～3中任一项所述的带防眩层的基材，其中，所述防眩层的折射率为1.3～1.49的范围。
5.根据1～4中任一项所述的带防眩层的基材，其特征在于，所述防眩层形成在高折射率层上，该高折射率层的折射率高于所述防眩层的折射率。
6.根据5所述的带防眩层的基材，其中，所述高折射率层的折射率为1.5～2.1的范围。
7.根据1～6中任一项所述的带防眩层的基材，其特征在于，所述带防眩层的基材还具备：功能性层，形成在所述防眩层上。
8.一种图像显示装置，其特征在于，具备1～7中任一项所述的带防眩层的基材。
9.一种带防眩层的基材的制造方法，其包括：将含有具有含氟有机基团的聚硅氧烷的防眩性覆膜形成用涂布液涂布于基材上，从而形成防眩层的工序。
发明效果
根据本发明，能提供一种防眩性(防眩功能)优异，并且不发生眩目(闪亮)，赋予良好的视觉辨认性的带防眩层的基材和具备该基材的图像显示装置。还能提供一种形成功能性层时的涂布性和密合性优异的带防眩层的基材和具备该基材的图像显示装置以及带防眩层的基材的制造方法。
具体实施方式
以下，对本发明进一步详细地进行说明。
＜防眩性覆膜层形成用组合物＞
在本发明中使用的防眩性形成用组合物至少具备具有含氟有机基团的聚硅氧烷(以下，也称为成分(A))，还具备溶解该聚硅氧烷的溶剂。
＜成分(A)＞
成分(A)为在侧链具有被氟原子取代的有机基团的聚硅氧烷。这样的被氟原子取代的有机基团为脂肪族基团、芳香族基团的氢原子的一部分或全部被氟原子取代的有机基团。就上述被氟原子取代的有机基团而言，其中，优选为氢原子的一部分或全部被氟原子取代的烷基、氢原子的一部分或全部被氟原子取代的含醚键的烷基、氢原子的一部分或全部被氟原子取代的含苯基的有机基团等。上述被氟原子取代的有机基团所具有的氟原子的数量也没有特别限定。上述被氟原子取代的有机基团的优选的碳原子数为1～20，更优选为3～15，特别优选为3～8。若列举出它们的具体例子，则可列举出：三氟丙基、十三氟辛基、十七氟癸基、五氟苯基丙基。
这些之中，从容易得到透明性高的覆膜的观点考虑，优选为具有全氟烷基的有机基团，进一步优选为下述式(F)所示的有机基团。
CF3(CF2)kCH2CH2－* (F)
(式中，k为整数0～12。*表示键合位置。)
作为上述式(F)所示的有机基团的具体例子，可列举出：三氟丙基、十三氟辛基、十七氟癸基。
在本发明中，也可以并用多种具有如上所述的侧链的聚硅氧烷。
得到上述的在侧链具有被氟原子取代的有机基团的聚硅氧烷的方法没有特别限定。通常，将上述的在侧链具有有机基团的烷氧基硅烷化合物缩聚而得到。
其中，优选为将含有式(1)所示的烷氧基硅烷化合物的烷氧基硅烷成分缩聚而得到的聚硅氧烷。
R11Si(OR12)3 (1)
在此，式(1)的R11表示上述的被氟原子取代的有机基团，该有机基团所具有的氟原子的数量没有特别限定。
此外，式(1)的R12表示碳原子数1～5的烃基，优选为碳原子数1～5的饱和烃基，更优选为甲基、乙基、丙基或丁基。
这样的式(1)所示的烷氧基硅烷之中，优选的是R11为全氟烷基的烷氧基硅烷，更优选的是R11为上述式(F)所示的有机基团的烷氧基硅烷。
作为具有式(F)所示的有机基团的烷氧基硅烷的具体例子，可列举出：三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷等。
特别是，从容易得到透明性高的覆膜的观点考虑，优选的是k为整数2～12的情况。
在本发明中，只要使用式(1)所示的烷氧基硅烷中的至少一种即可，根据需要也可以使用多种。
此外，上述在侧链具有被氟原子取代的有机基团的聚硅氧烷也可以为将下述烷氧基硅烷成分缩聚而得到的聚硅氧烷，所述烷氧基硅烷成分包含上述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物以外的烷氧基硅烷化合物(以下，也称为其他烷氧基硅烷化合物)。作为其他烷氧基硅烷化合物的具体例子，可列举出选自由下述式(2)所示的烷氧基硅烷化合物和下述式(3)所示的烷氧基硅烷化合物构成的组中的至少一种，但并不限定于此。
Si(OR2)4 (2)
R31 nSi(OR32)4－n (3)
(式中，R31表示未被氟原子取代的有机基团或氢原子，R32表示碳原子数1～5的烃基，n为整数1～3。)
式(2)的R2表示烃基，碳原子数越少则反应性越高，因此优选为碳原子数1～5的饱和烃基，更优选为甲基、乙基、丙基或丁基。
作为这样的四烷氧基硅烷的具体例子，可列举出：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等，能作为市售品容易获取。
式(3)的R32分别独立地表示碳原子数1～5的烃基。R32可以相同也可以分别不同。
式(3)中的R31优选为碳原子数1～20的有机基团，更优选为碳原子数1～15的有机基团。R31可以相同，也可以分别不同。作为上述未被氟原子取代的有机基团的例子，可列举出：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、硬脂基(十八烷基)等碳原子数1～18的烷基；乙烯基等2～18的烯基；环己基等环烷基；3－(甲基)丙烯酰氧基丙基(γ－(甲基)丙烯酰氧基丙基)等含(甲基)丙烯酰氧基的烷基；3－羟基丙基等含羟基的烷基；γ－脲基(3－脲基)丙基的含脲基的烷基；γ－氨基(3－氨基)丙基、2－氨基乙基氨基甲基、3－(N－苯乙烯基甲基－2－氨基乙基氨基)丙基等含氨基的烷基；γ－环氧丙氧基(3－缩水甘油基氧基)丙基、2－(3，4－环氧环己基)乙基等含环氧基的烷基；γ－巯基(3－巯基)丙基的含巯基的烷基；3－异氰酸酯基丙基等含异氰酸酯基的烷基；苯基等芳基等。
这些之中，更优选为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、庚基、辛基、十二烷基、十六烷基、十八烷基、苯基、乙烯基、γ－氨基丙基、γ－环氧丙氧基丙基、γ－甲基丙烯酰氧基丙基。
作为这样的式(3)所示的烷氧基硅烷的具体例子，可列举出：甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三甲氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三乙氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3－异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3－异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、3－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－氨基丙基三乙氧基硅烷、γ－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ－环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ－巯基丙基三甲氧基硅烷、γ－巯基丙基三乙氧基硅烷、3－丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3－丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ－甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ－甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ－脲基丙基三甲氧基硅烷、γ－脲基丙基三乙氧基硅烷等三烷氧基硅烷以及二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷等二烷氧基硅烷，但并不限定于此。
从容易得到覆膜的观点考虑，相对于用于得到成分(A)的烷氧基硅烷化合物的合计100摩尔％，式(1)所示的烷氧基硅烷化合物的合计使用量优选为3摩尔％以上，更优选为5摩尔％以上。此外，从抑制凝胶、异物的生成的观点考虑，优选为40摩尔％以下，更优选为30摩尔％以下。
相对于用于得到成分(A)的全部烷氧基硅烷化合物的合计100摩尔％，其他烷氧基硅烷化合物的使用量的上限优选为97摩尔％以下，更优选为95摩尔％以下。下限优选为60摩尔％以上，更优选为70摩尔％以上。
(聚硅氧烷的合成)
将在本发明中使用的聚硅氧烷缩合的方法没有特别限定，例如，可列举出将烷氧基硅烷在醇、二醇等溶剂中水解/缩合的方法。此时，水解/缩合反应也可以为部分水解和完全水解中的任意种。在完全水解的情况下，理论上，加入烷氧基硅烷中的全部烷氧基的0.5倍摩尔的水即可，通常加入超过0.5倍摩尔的量的水。
在本发明中，在上述反应中使用的水的量可以根据期望来适当选择，但通常为烷氧基硅烷中的全部烷氧基的0.1～7倍摩尔，优选为0.1～5倍摩尔。
此外，通常，以促进水解/缩合反应为目的，也可以将盐酸、硫酸、硝酸、乙酸、甲酸、草酸、马来酸等酸；氨、甲基胺、乙基胺、乙醇胺、三乙基胺等碱；盐酸、硫酸、或硝酸等的金属盐用作催化剂。在该情况下，在反应中使用的催化剂的量优选为烷氧基硅烷中的全部烷氧基的0.001～0.1倍摩尔左右，更优选为0.01～0.06倍摩尔。而且，也通常通过对烷氧基硅烷所溶解的溶液进行加热来促进水解/缩合反应。此时，加热温度和加热时间可以根据期望来适当选择，优选的是，将反应体系设为50℃～180℃，以不引起液体的蒸发、挥发的方式，在密闭容器中或在回流下进行几十分钟至几十小时。例如，可列举出在50℃下加热/搅拌24小时，在回流下加热/搅拌2～10小时等方法。
此外，作为其他方法，例如，可列举出对烷氧基硅烷、溶剂以及草酸的混合物进行加热的方法。具体而言，预先向醇中加入草酸而制成草酸的醇溶液后，将该溶液与烷氧基硅烷混合、加热的方法。此时，相对于烷氧基硅烷所具有的全部烷氧基的1摩尔，草酸的量通常设为0.2～2摩尔，优选为0.5～2摩尔。该方法下的加热在液温50℃～180℃下进行，优选的是，以不引起液体的蒸发、挥发等的方式，例如，在密闭容器中或回流下进行几十分钟～几十小时。
在上述的各方法中，在使用多种烷氧基硅烷的情况下，可以将多种烷氧基硅烷预先混合而使用，也可以依次加入多种烷氧基硅烷。
在通过上述的方法将烷氧基硅烷缩聚时，将装入的烷氧基硅烷的硅原子的合计量换算为SiO2的浓度(以下，称为SiO2换算浓度)通常设为20质量％以下，优选为15质量％以下。通过在这样的浓度范围内选择任意的浓度，能抑制凝胶的生成，得到均质的聚硅氧烷的溶液。
在将烷氧基硅烷缩聚时使用的溶剂只要溶解所述烷氧基硅烷化合物就没有特别限定。通常，通过烷氧基硅烷的缩聚反应而生成醇，因此使用醇类、与醇类相溶性良好的有机溶剂。
作为在上述的缩聚时使用的溶剂的具体例子，可列举出：甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇等醇；乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚等二醇醚等。在本发明中，也可以混合多种上述的有机溶剂来使用。
＜防眩性覆膜形成用组合物＞
制备作为本发明的防眩性覆膜形成用组合物的涂布液(以下，也简称为涂布液或防眩性覆膜形成用涂布液)的方法没有特别限定。作为一个例子，也可以像上述得到的聚硅氧烷溶液中添加下述的溶剂组(A)、溶剂组(B)以及根据需要添加其他溶剂组。此外，根据需要，也可以使用将上述聚硅氧烷溶液浓缩或置换为其他溶剂后进行制备的方法。
＜溶剂组(A)＞
本发明的防眩性覆膜形成用涂布液所含有的溶剂组(A)为选自沸点小于160℃的二醇醚及其衍生物或酮类中的至少一种。具体而言，可列举出：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚等二醇醚类及其衍生物；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮等酮类，其中，从涂布稳定性的观点考虑，优选为乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲基异丁基酮。
相对于将成分(A)所具有的硅原子的合计量换算为SiO2的质量的1质量份，溶剂组(A)在防眩性覆膜形成用涂布液中的含量为0.1～300质量份，优选为0.3～100质量份，特别优选为0.8～50质量份。
＜溶剂组(B)＞
本发明的防眩性覆膜形成用涂布液所含有的溶剂组(B)为选自沸点120℃以下的醇类中的至少一种。具体而言，可列举出：甲醇、乙醇、1－丙醇、2－丙醇、1－丁醇、2－丁醇、2－甲基－1－丙醇、2－甲基－2－丙醇，其中，从组合物的储存稳定性的观点考虑，优选甲醇、乙醇、2－丙醇、2－丁醇、2－甲基－1－丙醇。
相对于将成分(A)所具有的硅原子的合计量换算为SiO2的质量的1质量份，溶剂组(B)在防眩性覆膜形成用涂布液中的含量为0.5～500质量份，优选为1～200质量份，特别优选为2～150质量份。
＜其他溶剂＞
在本发明的防眩性覆膜形成用涂布液中，从涂布液的稳定性等观点考虑，也可以根据需要包含溶剂组(A)和(B)以外的溶剂(以下，也称为其他溶剂)。
作为其他溶剂的例子，可列举出：己醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇、十一烷醇、十二烷醇、二丙酮醇等醇类；乙二醇、二乙二醇、二丙二醇、2－甲基－2，4－戊二醇、丙二醇、丁二醇、戊二醇、己二醇、庚二醇等二醇类；乙二醇单丁醚、乙二醇二丁醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、丙二醇二丙醚、丙二醇二丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚等二醇醚类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯等酯类；N－甲基－2－吡咯烷酮、N，N－二甲基甲酰胺、N，N－二甲基乙酰胺、γ－丁内酯、二甲基亚砜、四甲基脲、六甲基磷三酰胺、间甲酚、四氢呋喃等。其中，从获取性和组合物的储存稳定性的观点考虑，优选使用乙二醇、二乙二醇、2－甲基－2，4－戊二醇、丙二醇、丁二醇、乙二醇单丁醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚、N－甲基－2－吡咯烷酮、N，N－二甲基甲酰胺、四氢呋喃。
将对防眩性覆膜形成用涂布液中的成分(A)所具有的硅原子的合计量换算为SiO2的浓度(SiO2换算浓度)优选为0.2～10质量％，更优选为0.5～8质量％。
＜其他成分＞
在本发明中，也可以包含成分(A)、溶剂组(A)以及(B)以外的其他成分，例如，无机微粒、金属氧烷低聚物、金属氧烷聚合物、流平剂、表面活性剂等成分。
作为无机微粒，优选为二氧化硅微粒、氧化铝微粒、二氧化钛微粒、氟化镁微粒等微粒，特别优选为这些无机微粒的胶体溶液。该胶体溶液可以是将无机微粒粉分散于分散介质而成的胶体溶液，也可以为市售品的胶体溶液。
在本发明中，通过含有无机微粒，能赋予所形成的固化覆膜的表面形状、其他功能。作为无机微粒，其平均粒径优选为0.001～0.2μm，进一步优选为0.001～0.1μm。在无机微粒的平均粒径超过0.2μm的情况下，有时使用待制备的涂布液所形成的固化覆膜的透明性会降低。
作为无机微粒的分散介质，可列举出水和有机溶剂。作为胶体溶液，从覆膜形成用涂布液的稳定性的观点考虑，优选的是将pH或pKa调整为1～10。更优选调整为2～7。
作为在胶体溶液的分散介质中使用的有机溶剂，可列举出：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、戊二醇、2－甲基－2、4－戊二醇、二乙二醇、二丙二醇、乙二醇单丙醚等醇类；甲基乙基酮、甲基异丁基酮等酮类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N－甲基吡咯烷酮等酰胺类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ－丁内酯等酯类；四氢呋喃、1、4－二噁烷等醚类。这些之中，优选为醇类和酮类。这些有机溶剂可以单独或混合两种以上而用作分散介质。
作为金属氧烷低聚物或金属氧烷聚合物，使用硅、钛、锆、铝、钽、锑、铋、锡、铟、锌等的单独或复合氧化物前体。作为金属氧烷低聚物或金属氧烷聚合物，可以为市售品，也可以为由金属烷氧化物(Metal alkoxide)、硝酸盐、盐酸盐、羧酸盐等单体通过水解等常规方法得到的物质。
＜防眩层以及防眩层的形成＞
本发明的防眩层可以通过将上述的防眩性覆膜形成用涂布液涂布于基材，进行热固化而得到。即，防眩层由防眩性覆膜形成用涂布液所含有的具有含氟有机基团的聚硅氧烷的固化物形成。
在此，防眩层在表面具有凹凸结构。凹凸结构是凸部的高度为50nm～2000nm的微细凹凸结构。防眩层整体的厚度为50nm～3000nm，该防眩层的表面侧成为微细凹凸结构。即，在均匀且平坦的覆膜上形成有微细凹凸结构，因此也可以表现为凸部间歇地形成在平坦的覆膜上。需要说明的是，在该情况下，未形成凸部的部分为凹部。作为微细凹凸结构的凸部的占有比例的凸部表面覆盖率为5％～70％，优选为10％～60％。
具体而言，上述凸部表面覆盖率可以通过以下的方法测定。即，使用白色光干涉型光学显微镜(ContourGT，BRUKER社制)对表面形状进行测定，进一步进行形状解析。在下述这样的适当的条件下进行表面形状测定：利用VSI测定方式且使用高密度CCD摄像机，变焦透镜倍率为0.55倍，对物透镜倍率为50倍，测定区域为230μm×170μm，光源为白色光源，就光量和阈值(Threshhold)而言，噪声极力不进入测定中。而且，作为形状解析，在TermsRemoval(CylinderandTilt)中进行了滤色处理后，将图像处理为256色阶的灰度(greyscale)。上述凸部表面覆盖率的测定在膜面的任意部位进行，将所述处理图像分割为1900份，求出该区域的明度，以明度高的区域为凸部，以明度低且均匀化的区域为平坦部，将凸部/平坦部×100计算出的值作为该膜表面的凸部表面覆盖率。测定时的环境为23℃和30RH％下。
就上述防眩层而言，从抑制眩目且得到视觉辨认性高的图像显示装置的观点考虑，作为雾度，优选为0.3％～40％，更优选为0.5％～30％。需要说明的是，在本说明书和权利要求书中，雾度可以依据JIS K7163，使用雾度仪(SUGA试验机(株)社制，雾度仪HZ－V3)来测定。
平坦覆膜部和微细凹凸结构可以通过一次涂布形成，但也可以在形成了平坦覆盖部后，形成微细凹凸结构。此外，也可以将形成平坦覆盖部的防眩性覆膜形成用涂布液与形成微细凹凸结构的防眩性覆膜形成用涂布液设为相同涂布液，也可以将两者的涂布液设为不同的涂布液。例如，可以设为：两者的固体成分的组成相同，但形成微细凹凸结构的涂布液的固体成分浓度比形成平坦覆盖部的涂布液的固体成分浓度高，也可以将两者的固体成分的组成设为不同。而且，也可以设为两者的固体成分的组成相同，但两者的溶剂组成不同，但并不限定于此。
就微细凹凸结构而言，例如，可以在将防眩性覆膜形成用涂布液涂布后、固化前对表面吹风，由此在表面形成微细凹凸，也可以在形成了平坦覆膜部后，对浓度略高的涂布液进行喷涂而部分地形成凸部，也可以在喷涂时调整防眩性覆膜形成用涂布液的流量和后述的气体流量，由此形成微细凸凹，但并不限定于此。
从抑制反射光的观点考虑，防眩层的折射率例如选自1.3～1.49的范围。
用于形成防眩层的防眩性覆膜形成用涂布液的涂布例如也可以应用于浸渍涂布法、流涂(flow coat)法、旋涂法、柔性印刷法、喷墨涂布法、棒涂布法、凹版辊涂法、辊涂法、刮刀涂布法、空气刮刀涂布(air doctor coat)法、气刀涂布法、钢丝刮刀涂布(wiredoctor coat)法、逆向涂布法、传递辊涂法、微型凹版涂布法、吻合涂布(kiss coat)法、铸涂法、狭缝式涂布法(slot orifice coat)法、压延涂布法、模涂法等公知或周知的方法，但本发明的防眩性覆膜形成用涂布液的特征在于，对于喷涂法特别适合。
作为基材，可列举出：塑料、玻璃、陶瓷等公知或周知的基材。作为塑料，可列举出：聚碳酸酯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚醚砜、聚芳酯、聚氨酯、聚砜、聚醚、聚醚酮、三甲基戊烯、聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二醇酯、(甲基)丙烯腈、三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、乙酸酯丁酸酯纤维素等的板和膜等。
通过喷涂法得到的如上所述的均匀的膜厚可以通过药液量、喷嘴/工作台距离(喷嘴与工作台的距离)、涂布速度、气体流量或气体压力等来调整。
药液量为确定膜厚的参数，膜厚通过增加药液量而变厚，膜厚通过减少药液量而变薄。在喷涂中，药液量例如为0.5～20mL(毫升)/min，优选为0.8～12mL/min。
气体流量为形成微细的液滴的参数，作为使用的气体的例子，可列举出N2、干燥空气，并不特别限定于此。在喷涂中，气体流量例如为3～70L(升)/min，优选为6～60L/min。在气体压力的情况下为30～700kPa，优选为50～650kPa。
作为从形成微细凸凹的观点考虑优选的气体的流量，优选的是，一边使气体相对于防眩性覆膜形成用涂布液的流量，在大气气氛中以150～140000倍，优选以500～75000倍的流量进行通气而将防眩性覆膜形成用涂布液的液滴细微化，一边涂布于基材表面。
喷嘴/工作台距离为与膜厚、涂布性以及在表面上的凸部覆盖量相关的参数。例如，膜厚通过距离接近而变厚，膜厚通过距离远离而变薄。优选的喷嘴/工作台距离例如为30～200mm，更优选为50～150mm。
涂布速度为与膜厚和在表面上的凸部覆盖量相关的参数，例如，膜厚因速度变快而变薄，膜厚因速度变慢而变厚。在喷涂中，涂布速度例如为50～2000mm/sec，优选为100～1500mm/sec。
形成在基材上的覆膜的厚度可以通过涂布时的如上所述的参数来调节，也能通过涂布液的SiO2换算浓度来容易地调节。
通过加热形成在基材上的涂膜而得到覆膜。在考虑到基材等的耐热性的情况下，烧成温度优选为80℃～300℃的范围，更优选设为100℃～250℃的范围内。
也可以在本发明的防眩层的下层设置折射率比防眩层高的高折射率层。在该情况下，通过适当调整防眩层和高折射率层的折射率，使由防眩层表面反射的反射光与由高折射率层的表面反射的反射光以相反相位进行干涉，由此能进一步附加减少反射光的效果。
在此，高折射率层只要是折射率比防眩层高的层就没有特别限定，但考虑到与防眩层的密合性，优选设为含有金属烷氧化物和烷氧基硅烷的涂布液的固化物，例如，可以使用国际公开WO2012－057165号公报中公开的覆膜。
在上述公报中公开的高折射率层例如可列举出：将含有一种或两种以上的下述式(A)的金属烷氧化物、式(B)的烷氧基硅烷或它们的缩合物的涂布液进行涂布而固化的膜。
M1(OR1)n (A)
(式中，M1表示硅(Si)、钛(Ti)、钽(Ta)、锆(Zr)、硼(B)、铝(Al)、镁(Mg)、锡(Sn)以及锌(Zn)等金属，R1表示碳原子数1至5的烷基，n表示M1的价数。)
(R102)nSi(OR103)4－n (B)
(式中，R102表示烷基、烯基、环烷基、芳基、或包含下述基团的含杂原子的基团：在所述烷基、烯基、环烷基以及芳基的碳－碳间具有杂原子的基团。其中，上述烷基、烯基、环烷基、芳基以及含杂原子的基团所具有的一部分或全部的氢原子也可以被取代基取代，上述烷基、烯基的一部分也可以具有环烷基、芳基。R103表示碳原子数1～5的烷基，n表示整数1或2。)
作为上述具有杂原子的基团，例如，可列举出具有选自由氧原子、氮原子以及硫原子构成的组中的至少一种杂原子的基团等，可列举出：－O－、－NR－(R表示氢原子或碳原子数1～6的烷基)、－CO－、－S－、－CO－以及将它们组合而成的基团等。
作为上述取代基，例如可列举出：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤素原子、氰基、硝基、羟基、氨基、脲基、异氰酸酯基、巯基等。
作为式(A)所示的金属烷氧化物的代表性例子，在M1为钛的情况下，可列举出：四甲氧基钛、四乙氧基钛、四异丙氧基钛、四正丙氧基钛、四正丁氧基钛、四异丁氧基钛、四叔丁氧基钛、四戊氧基钛等烷氧基钛。
在M1为硅的情况下，可列举出：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等烷氧基硅烷。
作为式(B)中的R102的具体例子，可列举出：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、硬脂基等碳原子数1～18的烷基；乙烯基等烯基；环己基等环烷基；3－(甲基)丙烯酰氧基丙基等含(甲基)丙烯酰氧基的烷基；3－氯丙基、三氟丙基、十三氟辛基、十七氟癸基等含卤素原子的烷基；3－羟丙基等含羟基的烷基；γ－脲基(3－脲基)丙基的含脲基的烷基；γ－氨基(3－氨基)丙基、2－氨基乙基氨基甲基、3－(N－苯乙烯基甲基－2－氨基乙基氨基)丙基等含氨基的烷基；γ－环氧丙氧基(3－缩水甘油基氧基)丙基、2－(3、4－环氧环己基)乙基等含环氧基的烷基；γ－巯基(3－巯基)丙基的含巯基的烷基；3－异氰酸酯基丙基等含异氰酸酯基的烷基；苯基等芳基。
作为式(B)的具体的例子，可列举出三烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷等烷氧基硅烷等。
作为三烷氧基硅烷的具体例子，可列举出：甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三甲氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三乙氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、2－氨基乙基氨基甲基三甲氧基硅烷、γ－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－(2－氨基乙基氨基丙基)三甲氧基硅烷、3－(2－氨基乙基氨基丙基)三乙氧基硅烷、γ－氨基丙基三乙氧基硅烷、γ－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ－环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、2－(3，4－环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、苯乙烯基乙基三乙氧基硅烷、3－(N－苯乙烯基甲基－2－氨基乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、γ－巯基丙基三甲氧基硅烷、γ－巯基丙基三乙氧基硅烷、γ－甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ－甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ－脲基丙基三甲氧基硅烷、γ－脲基丙基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷、3－异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷。
作为二烷氧基硅烷的具体例子，可列举出二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷。
作为上述缩合物的具体例子，可列举出：甲基硅酸酯(Silicate)51、甲基硅酸酯53、乙基硅酸酯40、乙基硅酸酯48(商品名，COLCOAT社制)、MKC硅酸酯(商品名，三菱化学社制)、Toray/Dow Corning社制的硅树脂、Momentive Performance Materials Japan合同会社制的硅树脂、信越化学工业社制的硅树脂、Dow Corning/Asia社制的含羟基的聚二甲基硅氧烷、Toray/Dow Corning社制的硅低聚物等硅低聚物；四正丁氧化钛、四聚体(关东化学社制)等钛低聚物等。
高折射率层的折射率为比防眩层高的折射率，优选设为以由防眩层的表面反射的反射光与由作为防眩层与高折射率层的界面的高折射率层的表面反射的反射光成为相反相位的折射率，例如，选自1.5～2.1的范围，更优选选自1.5～1.8的范围。
上述高折射率层也可以通过调整固化温度来调整折射率。在该情况下，在下述方面优选：越提高固化温度，越提高高折射率层的折射率。从考虑到基材等的耐热性的观点考虑，烧成温度优选为100℃～300℃的范围，更优选设为150℃～250℃的范围内。
上述高折射率层也可以在固化后进一步对涂膜照射紫外线(UV)，来调整所得到的高折射率层的折射率。在高折射率层中，用于得到所期望的折射率的紫外线照射例如可以使用高压汞灯来进行。并且，在使用高压汞灯的情况下，优选的是以365nm换算计为全光照射1000mJ/cm2以上的照射量，更优选为2000mJ/cm2～10000mJ/cm2的照射量。此外，作为UV光源没有特别指定，也可以使用其他UV光源。在使用其他光源的情况下，只要照射与使用了上述高压汞灯的情况相同量的累积光量即可。
接着，也可以在防眩层的表面形成由特定的涂布剂得到的功能性层。在本发明中，防眩层由上述的涂布液形成，因此在防眩层上形成功能性层的涂布液的涂布性、与功能性层的密合性变得良好。
在本发明中，设于防眩层上的功能性层没有特别限定。作为具体的例子，可列举出由防污剂、涂料、粘接剂、防反射剂、疏水剂、亲水剂、疏油剂、亲油剂、硬涂层剂、防滑剂等得到的功能性层。
防眩层、功能性层的厚度均优选为5～1000nm，更优选为10～400nm。
本发明的覆膜形成用涂布液的涂布性优异，能形成透射率高的覆膜。此外，喷涂的情况下的着液效率也优异。因此，能优选用于电视、计算机、车载导航、便携式电话等的显示器等领域。
实施例
以下列举出实施例，对本发明进一步详细地进行说明，但并不限定于此。
以下使用的简称如下所述。
TEOS：四乙氧基硅烷。
F13：十三氟辛基三甲氧基硅烷。
UPS：γ－脲基丙基三乙氧基硅烷。
TTE：四乙氧基钛。
AN：硝酸铝九水合物。
MeOH：甲醇。
EtOH：乙醇。
IPA：异丙醇。
PGME：丙二醇单甲醚。
BCS：丁基溶纤剂。
PB：丙二醇单丁醚。
PG：丙二醇。
HG：2－甲基－2，4－戊二醇。
NMP：N－甲基－2－吡咯烷酮。
＜合成例1＞
向具备有回流管的200mL四口烧瓶中加入TEOS(31.6g)、F13(6.2g)、以及MeOH(30.3g)并搅拌，向其中加入MeOH(15.1g)、水(15.0g)以及草酸(0.8g)，在10℃的冰浴中搅拌30分钟。然后，在65℃下搅拌2小时，然后，加入UPS(0.5g)和MeOH(0.5g)，进一步在65℃下反应2小时。然后，放冷至室温，得到了溶液K1。
＜合成例2＞
向200mL容量的烧瓶中加入AN(2.9g)、水(2.6g)以及EtOH(50.6g)并搅拌，得到了AN溶液。向该AN溶液中加入TEOS(21.2g)，在室温下搅拌30分钟。然后，加入TTE(10.0g)和EtOH(12.7g)，进一步在室温下搅拌30分钟，得到了溶液K2。
＜合成例3＞
向200mL容量的烧瓶中加入AN(2.8g)、水(2.6g)以及EtOH(51.2g)并搅拌，得到了AN溶液。向该AN溶液中加入TEOS(17.7g)，在室温下搅拌30分钟。然后，加入TTE(12.9g)和EtOH(12.8g)，进一步在室温下搅拌30分钟，得到了溶液K3。
＜合成例4＞
向200mL容量的烧瓶中加入AN(2.7g)、水(2.5g)以及EtOH(51.8g)并搅拌，得到了AN溶液。向该AN溶液中加入TEOS(14.3g)，在室温下搅拌30分钟。然后，加入TTE(15.7g)和EtOH(13.0g)，进一步在室温下搅拌30分钟，得到了溶液K4。
＜合成例5＞
向具备有回流管的200mL四口烧瓶中加入TEOS(33.0g)和MeOH(32.5g)并搅拌，向其中加入MeOH(13.8g)、水(15.0g)以及草酸(0.9g)，在10℃的冰浴中搅拌30分钟。然后，在60℃下搅拌2小时，然后，加入UPS(2.4g)和MeOH(2.4g)，进一步在60℃下反应30分钟。然后，放冷至室温，得到了溶液K5。
＜制备例1＞
向K1、K5溶液(60g)中加入PGME(20g)和EtOH(20g)，分别得到了溶液KL1－1、KM2－1。
＜制备例2＞
向K1溶液(12g)中加入PG(5g)、NMP(20g)以及MeOH(63g)，得到了溶液KL1－2。
＜制备例3＞
向K2～K4溶液(18g)中加入EtOH(2.5g)、IPA(42g)、BCS(9.4g)、PB(9.4g)以及HG(18.7g)，分别得到了溶液KL2～KL4。
＜制备例4＞
向K1溶液(40g)中加入PGME(20g)和EtOH(40g)，得到了溶液KM1。
＜制备例5＞
向K5溶液(15g)中加入MeOH(1.8g)、EtOH(18.5g)、PGME(18.5g)、PB(27.7g)以及HG(18.5g)，得到了溶液KM2－2。
[喷涂条件]
喷涂以下述所示的装置、条件进行。
装置名：(株)apeiros社制喷涂机API－240－3D。
＜涂布条件I－1＞
喷嘴型号：LPVN45，喷嘴高度：100mm，Y轴间距：2mm，空气压力：550kPa，药液流量1.0mL/min，喷嘴速度：900mm/sec。
＜涂布条件I－2＞
由涂布条件I－1变更为Y轴间距：3mm，其他条件相同。
＜涂布条件I－3＞
由涂布条件I－1变为Y轴间距：5mm，其他条件相同。
＜涂布条件I－4＞
由涂布条件I－1变更为Y轴间距：1.4mm，其他条件相同。
＜涂布条件II－1＞
喷嘴型号：LPVN12，喷嘴高度：100mm，Y轴间距：7mm，空气压力：560kPa，药液流量4.9mL/min，喷嘴速度：500mm/sec。
＜涂布条件II－2＞
由涂布条件II－1变更为喷嘴速度：550mm/sec，其他条件相同。
＜涂布条件III＞
喷嘴型号：LPVN45，喷嘴高度：100mm，Y轴间距：7mm，空气压力：470kPa，药液流量4.9mL/min，喷嘴速度：170mm/sec。
＜涂布条件IV＞
喷嘴型号：LPVN45，喷嘴高度：100mm，Y轴间距：7mm，空气压力：365kPa，药液流量4.9mL/min，喷嘴速度：500mm/sec。
＜涂布条件V＞
喷嘴型号：LPVN45，喷嘴高度：50mm，Y轴间距：3mm，空气压力：550kPa，药液流量1.0mL/min，喷嘴速度：700mm/sec。
[烧成条件]
＜烧成条件A＞
在加热板上在温度70℃下干燥5分钟，在热风循环式烘箱中在160℃下烧成30分钟。
＜烧成条件B＞
在热风循环式烘箱中在温度130℃下干燥3分钟，UV照射3000mJ/cm2(365nm换算，高压汞灯)，在热风循环式烘箱中在160℃下烧成30分钟。
＜烧成条件C＞
在加热板上在温度40℃下干燥5分钟，在热风循环式烘箱中在160℃下烧成30分钟。
＜各种评价条件＞
[雾度]
基板使用钠钙玻璃，利用喷涂以与实施例和比较例相同的涂布条件制膜。对所得到的带有覆膜的基板利用SUGA试验机(株)社制雾度仪HZ－V3测定出雾度。
[表面观察]
基板使用钠钙玻璃，利用BRUKER JAPAN(株)社制三维白色干涉显微镜Contour GT对制作出的带有覆膜的基板进行了观察。
[凸部表面覆盖率]
根据利用表面观察获取到的图像，根据图像解析的明亮度成分计算出任意的测定部位内的凸部和平坦部的面积比率，计算出凸部表面覆盖率。凸部表面覆盖率以与上述说明的凸部表面覆盖率的计算方法相同的方法计算出。
[反射率]
＜正反射、反射色＞
基板使用钠钙玻璃，对制作出的带有覆膜的基板利用(株)岛津制作所社制紫外可见近红外分光光度仪UV－3600，测定光的入射角5°下的波长380nm至800nm的范围的反射率，根据所得到的分光反射率曲线，依据JIS R 3106，求出平均视觉反射率(正反射)和反射色a*、b*。
＜SCI、SCE＞
基板使用钠钙玻璃，对制作出的带有覆膜的基板利用KONICA MINOLTA(株)制分光测色仪CM－3700A，测定出光的入射角8°下的波长360nm至740nm的范围下的反射率，依照JIS Z 8722，求出SCI、SCE的平均视觉反射率。需要说明的是，SCI(Specular ComponentInclude：包含镜面正反射光)为将正反射光考虑在内的测定，SCE(Specular ComponentExclude：排除镜面正反射光)为未将正反射光考虑在内的测定。
[闪亮(sparkling)]
在像素密度350ppi的液晶显示器中，将黄绿色在前表面，且使亮度最大地进行显示，在该画面上直接放置带有覆膜的基板，将发生闪亮的情况评价为×，将能确认到一些闪亮的情况评价为△，将未发生闪亮的情况评价为〇。
[折射率]
基板使用硅基板(100)，利用旋涂以烧成后的膜厚成为100nm的方式将溶液KL2～4制膜，在上述烧成条件B下烧成，使用所得到的带有覆膜的基板，利用椭偏仪(Ellipsometer)(槽尻光学工业所社制，DVA－FLVW)测定出波长633nm下的折射率。
＜实施例1＞
基板使用钠钙玻璃，对上述制备例2中得到的溶液KL1－2在涂布条件III进行了喷涂后，在烧成条件A下进行烧成，形成了下层。在所得到的基板上对上述制备例1中得到的溶液KL1－1以涂布条件I－1进行了喷涂后，在烧成条件C下进行烧成，得到了带有覆膜的基板。
使用所得到的带有覆膜的基板进行了各种评价。将评价结果示于表1－2。
＜实施例2～3、比较例1～4＞
将使用的溶液和各条件变更为如下述表1－1所示，除此以外，与实施例1同样地进行，得到了带有覆膜的基板。需要说明的是，在比较例2和比较例4中，以下层的形成为限而制成带有覆膜的基板。
使用所得到的带有覆膜的基板进行了各种评价。将评价结果示于表1－2。
[表1-1]
Figure BDA0003640275840000211
[表1-2]
Figure BDA0003640275840000221
如表1－2所示的那样，在实施例1～3中，将正反射和SCI值抑制得低，并且也未发生闪亮。而且，相对于比较例2，产生作为反射率中的光散射成分的SCE，因此能体现出防眩功能，由此得到如下启示：能构建出赋予了防反射功能的防眩性功能膜。
在比较例1中，SCI值非常大，还发生了闪亮。
比较例3为使用了无氟烷基成分的溶液的情况，无法得到凸部表面覆盖率低的形状，SCI值会变高。此外，关于比较例4，无防眩性，但反射色小。但是，SCI、正反射均会变高。
＜实施例4～6、比较例5～7＞
将使用的溶液和各条件变更为如下述表2－1所示，除此以外，与实施例1同样地进行，得到了带有覆膜的基板。
使用所得到的带有覆膜的基板进行了各种评价。将评价结果示于表2－2。
[表2-1]
Figure BDA0003640275840000222
[表2-2]
Figure BDA0003640275840000231
如表2－2所示的那样，在实施例4～6中，能将SCI值抑制得低，并且也未发生闪亮。而且，分别与比较例5～7进行比较，反射色的值的绝对值能降低，并且产生SCE，因此能体现出防眩功能，由此得到如下启示：能形成带有防反射功能的防眩性覆膜。
产业上的可利用性
通过使用本发明的眩性覆膜形成用涂布液和使用了该涂布液的覆膜构成物，能提供一种能形成在玻璃基板上，防反射性和防眩性(防眩功能)这两者优异的层叠体。由此，能对电视、个人计算机、智能手机等各种设备所具备的图像显示装置(液晶显示器、有机EL显示器、等离子体显示器等)的显示品质等级的提高做出贡献。

Claims (17)

1.一种带防眩层的基材，其特征在于，具有：
基材；以及
防眩层，直接形成在所述基材上或借助其他层形成在所述基材上，在所述防眩层的表面具有凹凸结构，
所述防眩层由防眩性覆膜形成用组合物的固化物形成，所述防眩性覆膜形成用组合物含有具有含氟有机基团的聚硅氧烷，所述防眩层的凸部表面覆盖率为5％～70％。
2.根据权利要求1所述的带防眩层的基材，其中，
所述具有含氟有机基团的聚硅氧烷含有下述式(F)所示的有机基团，
CF3(CF2)kCH2CH2－* (F)
式中，k为整数0～12，*表示键合位置。
3.根据权利要求1或2所述的带防眩层的基材，其中，
所述聚硅氧烷是将含有下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物的烷氧基硅烷成分缩聚而得到的，
R11Si(OR12)3 (1)
R11表示被氟原子取代的所述有机基团，R12表示碳原子数1～5的烃基。
4.根据权利要求3所述的带防眩层的基材，其中，
所述聚硅氧烷进一步是将下述烷氧基硅烷成分缩聚而得到的，该烷氧基硅烷成分含有选自由下述式(2)所示的烷氧基硅烷化合物和下述式(3)所示的烷氧基硅烷化合物构成的组中的至少一种，
Si(OR2)4 (2)
R31 nSi(OR32)4－n (3)
式中，R2表示烃基；R31表示未被氟原子取代的有机基团或氢原子，R32表示碳原子数1～5的烃基，n为整数1～3。
5.根据权利要求4所述的带防眩层的基材，其中，
所述未被氟原子取代的有机基团选自：碳原子数1～18的烷基、碳原子数2～18的烯基、环烷基、含(甲基)丙烯酰氧基的烷基、含羟基的烷基、含脲基的烷基、含氨基的烷基、含环氧基的烷基、含巯基的烷基、含异氰酸酯基的烷基或芳基。
6.根据权利要求4或5所述的带防眩层的基材，其中，
所述式(2)所示的烷氧基硅烷化合物为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷或四丁氧基硅烷。
7.根据权利要求4～6中任一项所述的带防眩层的基材，其中，
所述式(3)所示的烷氧基硅烷化合物为甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三甲氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三乙氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3－异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3－异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、3－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－氨基丙基三乙氧基硅烷、γ－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ－环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ－巯基丙基三甲氧基硅烷、γ－巯基丙基三乙氧基硅烷、3－丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3－丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ－甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ－甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ－脲基丙基三甲氧基硅烷或γ－脲基丙基三乙氧基硅烷。
8.根据权利要求1～7所述的带防眩层的基材，其中，
所述防眩性覆膜形成用组合物含有选自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯以及甲基异丁基酮中的至少一种。
9.根据权利要求1～8所述的带防眩层的基材，其中，
所述防眩性覆膜形成用组合物含有选自甲醇、乙醇、2－丙醇、2－丁醇以及2－甲基－1－丙醇中的至少一种。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的带防眩层的基材，其中，
所述凹凸结构的凸部的高度为50nm～2000nm。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的带防眩层的基材，其中，
所述防眩层的雾度为0.3％～40％。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的带防眩层的基材，其中，
所述防眩层的折射率为1.3～1.49的范围。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的带防眩层的基材，其特征在于，
所述防眩层形成在高折射率层上，该高折射率层的折射率高于所述防眩层的折射率。
14.根据权利要求13所述的带防眩层的基材，其中，
所述高折射率层的折射率为1.5～2.1的范围。
15.根据权利要求1～14中任一项所述的带防眩层的基材，其特征在于，
所述带防眩层的基材还具备：功能性层，形成在所述防眩层上。
16.一种图像显示装置，其特征在于，
具备权利要求1～15中任一项所述的带防眩层的基材。
17.一种带防眩层的基材的制造方法，其包括：
将含有具有含氟有机基团的聚硅氧烷的防眩性覆膜形成用涂布液涂布于基材上，从而形成防眩层的工序。
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