JP5458575B2 - 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 - Google Patents
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Description
かくして、本発明の目的は、水接触角が高い基材上でも比較的低い温度において充分に硬化し、高光透過性(高透明性)、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法、さらに、該低屈折率被膜形成用塗布液から得られる被膜、及び該被膜を使用する反射防止材を提供することにある。
本発明において、上記塗布液から形成される被膜が何故に上記の優れた特性を有するかのメカニズムについては必ずしも明らかではないが、本発明の塗布液に含有されるポリシロキサン(A)が、含フッ素有機基を有しない場合には、低い屈折率を有する被膜が得られない。また、炭素数が9〜20の長鎖アミン化合物(B)は、比較的低い温度で硬化し、高硬度の耐擦傷性に優れた被膜を与える。しかし、アミン化合物(B)の炭素数が9より小さい場合には、90度を超えるような水接触角が高い表面のフィルム基材上で充分な耐擦傷性が得られない場合があり、また、炭素数が20を超える場合には、90度を超えるような水接触角が高い表面のフィルム基材上で充分な成膜性が得られない場合があり、いずれも本発明の目的を達成できない場合が生じる。
(1)含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン(A)と、炭素数が9〜20の長鎖アミン化合物(B)とを含有し、それらが有機溶媒(C)に溶解されてなることを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。
(2)ポリシロキサン(A)が、その全ケイ素原子に対し、含フッ素有機基が結合したケイ素原子を5〜40モル%を有する上記(1)に記載の塗布液。
(3)長鎖アミン化合物(B)が、直鎖状の脂肪族一級アミン若しくは二級アミン、又は脂環構造を有する脂肪族アミンである上記(1)又は(2)に記載の塗布液。
(4)有機溶媒(C)が、炭素数が1〜6のアルコール及び炭素数が3〜10のグリコールエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種からなる上記(1)〜(3)のいずれかに記載の塗布液。
(5)ポリシロキサン(A)がその有するケイ素原子の合計量を二酸化ケイ素に換算して0.1〜15質量%含有され、長鎖アミン化合物(B)がポリシロキサン(A)のケイ素原子の合計量の1モルに対して0.01〜0.2モル含有される上記(1)〜(4)のいずれかに記載の塗布液。
(6)さらに、式(1)で表されるケイ素化合物(D)が含有される上記(1)〜(5)のいずれかに記載の塗布液。
(7)上記(1)〜(6)のいずれかに記載の塗布液を硬化して得られる低屈折率被膜。
(8)上記(7)に記載の低屈折率被膜が、より高い屈折率を有する基材の表面上に形成された反射防止材。
(9)含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するアルコキシシランを5〜40モル%含むアルコキシシランの濃度が、該アルコキシシランの全ケイ素原子を二酸化ケイ素に換算して有機溶媒中4〜15質量%である溶液を、上記アルコキシシランの全アルコキシド基の1モルに対して0.2〜2モルの蓚酸の存在下に縮重合してポリシロキサン(A)の溶液を得る工程と、得られたポリシロキサン(A)の溶液に対し、炭素数が9〜20の長鎖アミン化合物(B)と有機溶媒(C)の混合溶液を混合する工程と、を含むことを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液の製造方法。
<ポリシロキサン(A)>
本発明の低屈折率被膜形成用塗布液(以下、単に、被膜形成用塗布液、又は塗布液とも言う。)に含有される含フッ素有機基が結合したケイ素原子を主骨格中に有するポリシロキサン(A)(以下、単に、ポリシロキサン(A)とも言う。)は、主骨格中のケイ素原子に結合し、フッ素原子で置換された有機基(本発明では、含フッ素有機基という。)を有するポリシロキサン、換言すると、フッ素原子で置換された有機側鎖がケイ素原子に結合した部位を有するポリシロキサンである。
上記の含フッ素有機基としては、一部又は全部がフッ素で置換された有機基、通常は、一部の水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基や一部の水素原子がフッ素原子で置換されたエーテル結合を含むアルキル基などであることが多い。含フッ素有機基が有するフッ素原子の数は特に限定されない。
含フッ素有機基の中でも、パーフルオロアルキル基を末端に有し、かつ該基に炭化水素アルキレン基が結合した好ましくは炭素数が3〜15の基は、透明性の高い被膜を得易いので好適である。その好ましい具体例として、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタデカフルオロデシル基等が挙げられる。ポリシロキサン(A)は、上記の如き含フッ素有機基を1種有していてもよいし、複数種有していてもよい。
上記の理由を総合すると、含フッ素有機基を結合したケイ素原子は、ポリシロキサン(A)の全ケイ素原子中の10〜25モル%であるのが特に好ましい。
また、含フッ素有機基を持つアルコキシシランと縮重合されるテトラアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。テトラアルコキシシランは一種単独で使用してもよいし、複数種を併用することもできる。
その他のアルコキシシランは一種単独で使用してもよいし、複数種を併用することもできる。
上記の理由を総合すると、含フッ素有機基を持つアルコキシシランは、全アルコキシシランの10〜25モル%であるのが特に好ましい。
蓚酸の存在量は、使用するアルコキシシランが有する全アルコキシ基の1モルに対し、好ましくは0.2〜2モルとされる。上記加熱は、液温が好ましくは0〜180℃で行うことができ、また、液の蒸発、揮散などが起こらないように、好ましくは、還流管を備え付けた容器中の還流下で数十分から十数時間行われる。
アルコキシシランを縮重合する際には、有機溶媒中におけるアルコキシシランの全ケイ素原子を酸化物に換算した濃度(以下、SiO2換算濃度という。)が、好ましくは20質量%以下、特に好ましくは4〜15質量%の範囲で加熱されることが好適である。このような濃度範囲を選択することにより、ゲルの生成を抑え、均質なポリシロキサン(A)の溶液を得ることができる。
他の溶媒で置換する場合、その溶媒(以下、置換溶媒ともいう。)は重縮合に用いたと同じ溶媒でもよいし、別の溶媒でもよい。この溶媒は、ポリシロキサン(A)が均一に溶解する限りにおいて特に限定されず、一種でも複数種でも任意に選択して用いることができる。
本発明の塗布液に含有される、炭素数が9〜20の長鎖アミン化合物(B)(以下、長鎖アミン化合物(B)とも言う。)は、炭素数が9〜20のモノアミン化合物である。長鎖アミン化合物(B)は、脂肪族アミンが好ましく、脂環構造を有していてもよい。長鎖アミン化合物(B)の炭素数が9以上の場合、90度を超えるような水の接触角が高い表面のフィルム基材上でも充分な成膜性が得られ易い。炭素数は10以上が好ましい。他方、炭素数が20を超える場合には、水の接触角が高い表面のフィルム基材上で充分な塗布性が得られ難い場合が生ずる。なかでも、炭素数は18以下が好ましい。
長鎖アミン化合物(B)は、一級アミン、二級アミン又は三級アミンのいずれでもよい。それぞれの具体例を以下に挙げるが、これに限定されるものではない。
また、直鎖状の脂肪族アミンは、急激なゲル化を引き起こすことなく、被膜の硬化を促進する効果が高いので好ましい。更に、直鎖状のアルキルアミンは、水の接触角が高い基材上で充分な成膜性が得られ易い。
なお、不飽和アルキル基、又は芳香族を含むアルキル基を有するアミン化合物でも、急激なゲル化を引き起こすことなく、被膜の硬化を促進する結果が得られるが、その場合被膜の屈折率が高くなるため、反射防止機能が低下する傾向にある。
本発明の塗布液の主溶媒である有機溶媒(C)は、含フッ素有機基がケイ素原子に結合されたポリシロキサン(A)、炭素数が9〜20の長鎖アミン化合物(B)、及び、必要に応じて含有される下記するケイ素化合物(D)、及びその他の成分を溶解する限りいずれのものも使用できる。
有機溶媒(C)の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどの脂肪族アルコール類;シクロペンチルアルココール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール;ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコールなどのグリコール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのグリコールエーテル;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、乳酸エチルエステルなどのエステル類などが挙げられる。これらの単独、又は複数の有機溶媒が併用される。
なかでも、炭素数が好ましくは1〜6、より好ましくは1〜4のアルコール及び炭素数が好ましくは3〜10、より好ましくは3〜7のグリコールエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種からなるものの使用が好ましい。
本発明の低屈折率被膜形成用塗布液には、さらに、下記の式(1)で表されるケイ素化合物(D)が含有されるのが好ましい。これにより、被膜の耐擦傷性をさらに高めることができる。
ケイ素化合物(D)は、式(1)で表される化合物の複数種が混合したものでもよい。その場合、nが2以上の整数であることが好ましく、より好ましくは4以上の整数である。
上記原料のテトラアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどが挙げられ、市販品として容易に入手可能である。
また、アルコキシシランが溶解した溶液を加熱することで、更に、重縮合を促進させることも一般的である。その際、加熱温度及び加熱時間は所望により適宜選択でき、例えば、室温〜100℃で0.5〜48時間加熱・撹拌したり、還流下で0.5〜48時間加熱・撹拌するなどの方法が挙げられる。
このような有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノールなどのアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテルなどが挙げられる。上記の有機溶媒は複数種混合して用いてもよい。
なお、ケイ素化合物(D)としては、市販品を用いることもできる。例えば、いずれもコルコート社製である、メチルシリケート51、メチルシリケート53A、エチルシリケート40、エチルシリケート48、SS−C1等が挙げられる。
本発明の低屈折率被膜形成用塗布液には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、ポリシロキサン(A)、アミン化合物(B)、有機溶媒(C)及びケイ素化合物(D)以外のその他の成分、例えば、無機微粒子、レベリング剤、界面活性剤、更に水などの媒体が含有されていてもよい。
無機微粒子としては、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、フッ化マグネシウム微粒子などの微粒子が好ましく、コロイド溶液のものが特に好ましい。このコロイド溶液は、無機微粒子粉を分散媒に分散したものでもよいし、市販品のコロイド溶液であってもよい。
無機微粒子の分散媒としては、水又は有機溶剤を挙げることができる。コロイド溶液としては、塗布液の安定性の観点から、pH又はpKaが好ましくは2〜10、特には3〜7であるのが好ましい。
なかでも、アルコール類又はケトン類が好ましい。これら有機溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して分散媒として使用することができる。
また、上記レベリング剤及び界面活性剤などは、公知のものを用いることができ、特に市販品は入手が容易なので好ましい。
本発明の被膜形成用塗布液は、ポリシロキサン(A)、長鎖アミン化合物(B)、及び必要に応じてケイ素化合物(D)やその他成分を含有し、それらが有機溶媒(C)に溶解した溶液である。本発明においては、前記の塗布液が得られる限りにおいてその調製方法は限定されない。例えば、上記の各成分を使用する有機溶媒(C)中に順次、添加し混合してもよい。この場合、各成分の添加順序は特に限定されない。また、各成分をそれぞれ使用する有機溶媒(C)中に溶解した溶液を混合してもよい。特に、長鎖アミン化合物(B)と有機溶媒(C)との混合溶液に対し、ポリシロキサン(A)の溶液を混合する場合は、析出物の発生を抑制できるので好ましい。
上記で用いる酸としては。塩酸、硝酸、硫酸、リン酸などの無機酸;蟻酸、酢酸、リンゴ酸等のモノカルボン酸類;蓚酸、クエン酸、プロピオン酸、コハク酸等の多価カルボン酸等の有機酸が挙げられる。これらのうち、溶液状態の酸はそのまま用いることができるが、重合溶媒で希釈して用いるのが好ましい。それ以外の酸は、重合溶媒に適当な濃度で溶解して用いることが好ましい。
また、ケイ素化合物(D)が含有される場合、ケイ素化合物(D)は、ポリシロキサン(A)の有するケイ素原子1モルに対し、好ましくは0.03〜0.55モル、より好ましくは0.05〜0.45モル含有されるのが好適である。
上記の塗布液は、必要に応じて、有機溶媒を添加してSiO2固形分換算濃度を上記範囲になるように調製されるが、これに用いられる有機溶媒は、ポリシロキサン(A)を製造する際のアルコキシシランの重縮合に用いる有機溶媒や、ポリシロキサン(A)の溶液の濃縮や、希釈又は他の有機溶媒に置換する際に用いる有機溶媒を用いることができる。有機溶媒は、一種でも複数種でも任意に選択して用いることができる。
[1]ポリシロキサン(A)と長鎖アミン化合物(B)とを含有し、それらが有機溶媒(C)に溶解した塗布液。
[2]ポリシロキサン(A)と長鎖アミン化合物(B)とケイ素化合物(D)とを含有し、それらが有機溶媒(C)に溶解した塗布液。
[3]上記[1]又は[2]に無機微粒子を含有させた塗布液。
[4]上記[1]又は[2]又は[3]にレベリング剤や界面活性剤を含有させた塗布液。
本発明の低屈折率被膜形成用塗布液は、基材に塗布し、熱硬化することで所望の被膜を得ることができる。塗布方法は、公知又は周知の方法を採用できる。例えば、ディップ法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法などの方法を採用できる。
基材としては、プラスチック、ガラス、セラミックスなどからなる基材が挙げられる。プラスチックとしては、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、ポリトリメチルペンテン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ(メタ)アクリロニトリル、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロースなどのシートやフィルムなどが挙げられる。
基材の表面上に形成する被膜の厚さは、塗膜の厚みによっても調節することができるが、塗布液のSiO2換算濃度を調節することによっても容易に調節することができる。
熱硬化に要する時間は、所望の被膜特性に応じて適宜選択することができるが、通常、1時間〜7日間である。低い硬化温度を選択する場合は、硬化時間を長くすることで充分な耐擦傷性を有する被膜が得られ易い。
また、本発明の撥水性被膜形成用塗布液は、150℃を超える硬化温度であっても耐擦傷性に優れた被膜を得ることができる。その際、基材の耐熱温度に合わせて、硬化温度と硬化時間を調整することが好ましい。
本発明の塗布液から形成される被膜は、上記のように屈折率が例えば1.4以下という低屈折率を有しているため、特に、反射防止材としての用途に好適に用いることができる。
本発明の被膜を反射防止材に使用する場合、本発明の被膜より高い屈折率を有する基材上に本発明の被膜を形成することで容易に光反射防止能を付与することができる。すなわち、本発明の被膜よりも高い屈折率を有するプラスチックフィルムやガラスのような基材の表面に本発明の被膜を形成することにより反射防止フィルムや反射防止ガラス等の反射防止基材とすることができる。
本発明の被膜は、基材表面に単一の被膜として形成しても有効であるが、高屈折率を有する単数又は複数の下層を形成する被膜の上に本発明の被膜を形成した積層構造を有する反射防止体としても有効である。
更に、本発明の被膜は、それ自体の水の接触角が90度以上であるので、撥水性を有し、また、指紋や油性インキが拭き取りやすいという防汚性の点で充分な実用性を有しており、温度20〜150℃という比較的低温での硬化処理においても充分に硬化できるため、反射防止基材の製造工程においても非常に有利である。
本発明の被膜は、上記の利点をも有するので、特に、液晶、プラズマなどの表示装置やディスプレイモニター等の反射防止フィルムに有用である。
本実施例における略語はそれぞれ以下のとおりである。
TEOS:テトラエトキシシラン
FS−13:トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン
CS−8:オクチルトリエトキシシラン
MEA:モノエタノールアミン
HA:ヘキシルアミン
LA:ラウリルアミン
SA:ステアリルアミン
IPA:イソプロパノール
cHexOH:シクロヘキサノール
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
[残存アルコキシシランモノマー測定法]
ポリシロキサン(A)の溶液中の残存アルコキシシランモノマーをガスクロマトグラフィー(以下、GCと言う。)で測定した。
GC測定は、島津製作所社製 Shimadzu GC−14Bを用い、下記の条件で測定した。
カラム:キャピラリーカラム CBP1−W25−100(長さ25mm、直径0.53mm、肉厚1μm)
カラム温度:開始温度50℃から15℃/分で昇温して到達温度290℃(3分)とした。
サンプル注入量:1μL、インジェクション温度:240℃、検出器温度:290℃、キャリヤーガス:窒素(流量30mL/分)、検出方法:FID法。
還流管を備えつけた4つ口反応フラスコにメタノール57.26gを投入し、攪拌下に蓚酸18.01gを少量づつ添加して、蓚酸のメタノール溶液を調製した。次いでこの溶液を加熱し、還流下にTEOS(17.71g)とFS−13(7.02g)の混合物を滴下した。滴下後、5時間還流し、室温まで放冷してポリシロキサン(A)の溶液(PF)を調製した。このポリシロキサン(A)の溶液(PF)をGCで測定したところ、アルコキシシランモノマーは検出されなかった。
還流管を備えつけた4つ口反応フラスコにエタノール47.36gと蓚酸0.18gと純水10.80gを投入し、攪拌下にTEOS41.66gを添加して、混合溶液を調製した。次いでこの溶液を加熱して3時間還流し、その後室温まで放冷してポリシロキサンの溶液(PS)を調製した。このポリシロキサンの溶液(PS)をGCで測定したところ、アルコキシシランモノマーは検出されなかった。
還流管を備えつけた4つ口反応フラスコにメタノール60.13gを投入し、攪拌下に蓚酸18.01gを少量づつ添加して、蓚酸のメタノール溶液を調製した。次いでこの溶液を加熱し、還流下にTEOS(17.71g)とCS−8(4.15g)の混合物を滴下した。滴下後、5時間還流し、室温まで放冷してポリシロキサン(A)の溶液(PC)を調製した。このポリシロキサン(A)の溶液(PC)をGCで測定したところ、アルコキシシランモノマーは検出されなかった。
表2に示す組成で、上記合成例で得られたポリシロキサンの溶液、アミン化合物及び有機溶媒を混合して被膜形成用塗布液(Q1〜Q4)を調製した。
また、比較例においては、表2に示す組成で、塗布液(T1〜T6)を調製した。
これらQ1〜Q4及びT1〜T6或いはそれらを用いた塗膜について、下記に示す評価を行った。
被膜形成用塗布液を温度25℃で1ヶ月間静置した後に、孔径0.45μm、内径18mm、長さ22mmのポリテトラフルオロエチレンフィルター(倉敷紡績社製クロマトディスク13N)で100cc濾過し、濾過できたものを○、目詰まりが生じたものを×とした。この結果を表3に示す。
被膜形成用塗布液(Q1〜Q4及びT1〜T6)を、ハードコート付きトリアセチルセルロース(以下、HC−TACと言う。)フィルム(フィルム厚80μm、ハードコート表面の水接触角が83度、波長550nmにおける反射率が4.5%)にバーコーター(No.6)を用いて塗布し、塗膜を形成した。温度23℃で30秒間放置した後、クリーンオーブン中、100℃で5分間乾燥させ、次いで温度90℃で15時間硬化させた。得られた硬化被膜について、水接触角、油性ペン拭き取り性、指紋拭き取り性、密着性、反射率及び耐擦傷性を評価した。
これらの評価方法は下記の通りであり、評価結果は表3及び表4に示す。
協和界面科学社製の自動接触角計CA−Z型を使用して、純水3マイクロリットルを滴下したときの接触角を測定した。
また、実施例で使用したHC−TACフィルムのハードコート表面の水接触角もこの方法で測定した。
硬化被膜表面に、ぺんてる社製油性ペンを用いて施されたインクを、旭化成社製ベンコットM−3を用いて拭き取り、その取り易さを目視で判定した。インクが完全に拭き取れたものを○、それ以外を×とした。
硬化被膜表面に指紋を付着させ、旭化成社製ベンコットM−3を用いて拭き取り、その取り易さを目視で判定した。指紋が完全に拭き取れたものを○、それ以外を×とした。
基材上の硬化被膜に1mm間隔で碁盤の目状に100点カットし、セロテープ(ニチバン社登録商標 24mm幅)を硬化被膜と強く貼り付けた後、セロテープを急激に剥がして硬化被膜の剥離の有無を目視により確認した。剥離がないものを○、剥離があるものを×とした。
島津製作所社製の分光光度計UV3100PCを使用して、波長550nmの光を入射角5度で硬化被膜に入射させて、反射率を測定した。
硬化被膜を、日本スチールウール社製スチールウール#0000を用いて、400g/cm2で10往復擦り、硬化被膜表面の傷の付き方を目視で判定した。
判定基準は以下のとおり。
A:傷無し〜5本、B:傷6〜10本、C:傷11〜20本、D:傷21〜30本、E:傷31本以上
溝尻光学社製のエリプソメターDVA−36Lを使用して、波長633nmの光における屈折率を測定した。
そして、塗布液(Q1〜Q4)の保存安定性も良好であり、温度23℃で6ヶ月間保存後も安定であった。
更に、実施例1〜4では、1.400以下の低い屈折率と、低い反射率という特性が示された。
一方、長鎖アミン化合物(B)を有しない場合、あるいは炭素数が8以下アミン化合物の場合の塗布液(T1〜5)を用いた比較例1〜5は、90℃の硬化温度では、耐擦傷性がD以下という不十分なものであった。
また、弗素原子で置換されていない有機基を持つポリシロキサンを用いた塗布液(T6)では、水接触角が90度以下となり、防汚特性も低く、高い反射率という不十分なものであった。
なお、2006年10月12日に出願された日本特許出願2006−279219号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (9)
- 含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン(A)と、炭素数が9〜20の長鎖アミン化合物(B)とを含有し、それらが有機溶媒(C)に溶解されてなることを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。
- ポリシロキサン(A)が、その全ケイ素原子に対し、含フッ素有機基が結合したケイ素原子を5〜40モル%を有する請求項1に記載の塗布液。
- 長鎖アミン化合物(B)が、直鎖状の脂肪族一級アミン若しくは二級アミン、又は脂環構造を有する脂肪族アミンである請求項1又は2に記載の塗布液。
- 有機溶媒(C)が、炭素数が1〜6のアルコール及び炭素数が3〜10のグリコールエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種からなる請求項1〜3のいずれかに記載の塗布液。
- ポリシロキサン(A)がその有するケイ素原子の合計量を二酸化ケイ素に換算して0.1〜15質量%含有され、長鎖アミン化合物(B)がポリシロキサン(A)のケイ素原子の合計量の1モルに対して0.01〜0.2モル含有される請求項1〜4のいずれかに記載の塗布液。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の塗布液を加熱硬化して得られる低屈折率被膜。
- 請求項7に記載の低屈折率被膜が、より高い屈折率を有する基材の表面上に形成された反射防止材。
- 含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するアルコキシシランを5〜40モル%含むアルコキシシランの濃度が、該アルコキシシランの全ケイ素原子を二酸化ケイ素に換算して有機溶媒中4〜15質量%である溶液を、上記アルコキシシランの全アルコキシド基の1モルに対して0.2〜2モルの蓚酸の存在下に縮重合してポリシロキサン(A)の溶液を得る工程と、得られたポリシロキサン(A)の溶液に対し、炭素数が9〜20の長鎖アミン化合物(B)と有機溶媒(C)の混合溶液を混合する工程と、を含むことを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008538757A JP5458575B2 (ja) | 2006-10-12 | 2007-10-11 | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006279219 | 2006-10-12 | ||
JP2006279219 | 2006-10-12 | ||
PCT/JP2007/069882 WO2008044742A1 (fr) | 2006-10-12 | 2007-10-11 | Solution de revêtement pour former un film de revêtement de faible réfraction, procédé de production de celle-ci, et matériau anti-réflexion |
JP2008538757A JP5458575B2 (ja) | 2006-10-12 | 2007-10-11 | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008044742A1 JPWO2008044742A1 (ja) | 2010-02-18 |
JP5458575B2 true JP5458575B2 (ja) | 2014-04-02 |
Family
ID=39282932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008538757A Active JP5458575B2 (ja) | 2006-10-12 | 2007-10-11 | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5458575B2 (ja) |
KR (1) | KR101457234B1 (ja) |
CN (1) | CN101522839B (ja) |
TW (1) | TWI437057B (ja) |
WO (1) | WO2008044742A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5382310B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2014-01-08 | 日産化学工業株式会社 | 被膜形成用塗布液、その製造方法、その被膜、及び反射防止材 |
KR101419078B1 (ko) * | 2006-11-14 | 2014-07-11 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 저굴절률 피막 형성용 도포액, 그 제조 방법 및 반사 방지재 |
CN101679805B (zh) * | 2007-05-18 | 2013-02-27 | 日产化学工业株式会社 | 低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料 |
MY157487A (en) | 2008-10-17 | 2016-06-15 | Hitachi Chemical Co Ltd | Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member |
JP5251437B2 (ja) * | 2008-11-07 | 2013-07-31 | 信越化学工業株式会社 | 親水性・帯電防止性付与コート剤組成物及びそれを塗工した物品 |
US10316146B2 (en) * | 2015-01-30 | 2019-06-11 | Toray Industries, Inc. | Resin composition, solid imaging element obtained using same, and process for producing same |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO2007102514A1 (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-13 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 被膜形成用塗布液、その製造方法、その被膜、及び反射防止材 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW376408B (en) | 1995-12-01 | 1999-12-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | Coating film having water repellency and low refractive index |
JP4136046B2 (ja) * | 1998-02-03 | 2008-08-20 | ダイキン工業株式会社 | 塗料用組成物 |
JP4017093B2 (ja) | 1999-09-28 | 2007-12-05 | 株式会社前川製作所 | 容器内の連続体試料の体積測定用装置 |
-
2007
- 2007-10-11 WO PCT/JP2007/069882 patent/WO2008044742A1/ja active Application Filing
- 2007-10-11 JP JP2008538757A patent/JP5458575B2/ja active Active
- 2007-10-11 KR KR1020097006704A patent/KR101457234B1/ko active IP Right Grant
- 2007-10-11 CN CN200780038139.3A patent/CN101522839B/zh active Active
- 2007-10-12 TW TW096138271A patent/TWI437057B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09208898A (ja) * | 1995-12-01 | 1997-08-12 | Nissan Chem Ind Ltd | 低屈折率及び撥水性を有する被膜 |
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WO2007102514A1 (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-13 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 被膜形成用塗布液、その製造方法、その被膜、及び反射防止材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2008044742A1 (ja) | 2010-02-18 |
WO2008044742A1 (fr) | 2008-04-17 |
TW200835757A (en) | 2008-09-01 |
KR20090064415A (ko) | 2009-06-18 |
CN101522839A (zh) | 2009-09-02 |
CN101522839B (zh) | 2014-01-15 |
TWI437057B (zh) | 2014-05-11 |
KR101457234B1 (ko) | 2014-10-31 |
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A621 | Written request for application examination |
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